JP2008268412A - Liquid crystal device, manufacturing method of liquid crystal device, and electronic apparatus - Google Patents

Liquid crystal device, manufacturing method of liquid crystal device, and electronic apparatus Download PDF

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俊裕 大竹
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Abstract

<P>PROBLEM TO BE SOLVED: To provide a liquid crystal device which reduces a step of a formation area of a retardation layer and has superior display quality. <P>SOLUTION: The liquid crystal device 1 according to the present invention has: a pair of substrates 10 and 20; a liquid crystal layer 50 sandwiched between the pair of substrates; a plurality of sub-pixel areas constituting the display area; a reflective display area R and a transmissive display area T provided in each sub-pixel area; a recessed portion H provided in a reflected display area R of the one substrate 20 between the pair of substrates; and the retardation layer 21 provided on the recessed portion H. <P>COPYRIGHT: (C)2009,JPO&INPIT

Description

本発明は、液晶パネルの内側に位相差層を備えた半透過反射型の液晶装置、液晶装置の製造方法並びに電子機器に関するものである。   The present invention relates to a transflective liquid crystal device having a retardation layer inside a liquid crystal panel, a method for manufacturing the liquid crystal device, and an electronic apparatus.

半透過反射型の液晶装置として、液晶パネルの内面側に位相差層を備えた位相差層内蔵型の液晶装置が知られている。位相差層は反射表示領域に対して選択的に設けられており、適切な反射表示及び透過表示が実現されるようになっている。この種の液晶装置では、液晶パネルの外側にλ/4位相差板等を設ける必要がないので、液晶装置の薄型化や低コスト化に寄与することができる(例えば、特許文献1参照)。
特開2007−047732号公報
As a transflective liquid crystal device, a liquid crystal device with a retardation layer provided with a retardation layer on the inner surface side of a liquid crystal panel is known. The retardation layer is selectively provided with respect to the reflective display region, so that appropriate reflective display and transmissive display are realized. In this type of liquid crystal device, it is not necessary to provide a λ / 4 retardation plate or the like outside the liquid crystal panel, which can contribute to a reduction in thickness and cost of the liquid crystal device (see, for example, Patent Document 1).
JP 2007-047732 A

しかしながら、液晶パネルの内面側に位相差層を設けた場合、位相差層の膜厚を考慮したセル厚の設計が必要となる。例えば、反射表示領域に位相差層を設置する場合、位相差層の分だけ層間絶縁膜を薄くするか、フォトスペーサの高さを高くしなければならない。この場合、プロセスの大きな変更が必要となり、表示品質を低下させるリスクも大きくなる。   However, when the retardation layer is provided on the inner surface side of the liquid crystal panel, it is necessary to design the cell thickness in consideration of the thickness of the retardation layer. For example, when a retardation layer is provided in the reflective display region, the interlayer insulating film must be made thinner by the amount of the retardation layer or the height of the photo spacer must be increased. In this case, a large process change is required, and the risk of lowering the display quality also increases.

一方、位相差層を液晶パネルの外面側に設置する方法も考えられる。この場合、位相差層の膜厚を考慮したセル厚の設計が不要になり、表示品質を低下させるリスクも小さくなる。しかしながら、位相差層を液晶パネルの外面側に設けた場合、位相差層の膜厚だけ反射表示領域に段差が形成されるため、偏光板を貼り付けるときに基板と偏光板との間に気泡が混入し、表示品質が損なわれる場合がある。   On the other hand, a method of installing the retardation layer on the outer surface side of the liquid crystal panel is also conceivable. In this case, it becomes unnecessary to design the cell thickness in consideration of the thickness of the retardation layer, and the risk of lowering the display quality is also reduced. However, when the retardation layer is provided on the outer surface side of the liquid crystal panel, a step is formed in the reflective display region by the thickness of the retardation layer. In some cases, display quality may be impaired.

本発明はこのような事情に鑑みてなされたものであって、位相差層の形成領域の段差を低減し、表示品質に優れた液晶装置及びその製造方法並びに電子機器を提供することを目的とする。   The present invention has been made in view of such circumstances, and an object of the present invention is to provide a liquid crystal device excellent in display quality, a manufacturing method thereof, and an electronic device by reducing a step in a formation region of a retardation layer. To do.

上記の課題を解決するため、本発明の液晶装置は、一対の基板と、前記一対の基板間に挟持された液晶層と、前記一対の基板のうちの一方の基板上に設けられた位相差層と、を備え、前記一方の基板の前記位相差層の形成領域に凹部が設けられ、前記凹部に前記位相差層が設置されていることを特徴とする。この構成によれば、位相差層の形成領域の段差が防止されるため、サブ画素全体にわたって基板の表面を平坦化することができる。このため、位相差層を基板の内面側(液晶層側)に形成した場合には、位相差層の膜厚を考慮したセル厚の設計が不要になり、表示品質の低下が防止される。また、基板表面に大きな段差が形成されないので、基板表面に形成された電極等に断線が発生しにくくなり、信頼性に優れた液晶装置が提供できる。また、位相差層を基板の外面側(液晶層とは反対側)に形成した場合には、偏光板を貼り付ける際の気泡の混入が防止されるため、表示品質に優れた液晶装置が提供できる。   In order to solve the above problems, a liquid crystal device of the present invention includes a pair of substrates, a liquid crystal layer sandwiched between the pair of substrates, and a phase difference provided on one of the pair of substrates. A recess is provided in a region where the retardation layer of the one substrate is formed, and the retardation layer is provided in the recess. According to this configuration, the step of the retardation layer formation region is prevented, and the surface of the substrate can be planarized over the entire subpixel. For this reason, when the retardation layer is formed on the inner surface side (liquid crystal layer side) of the substrate, it becomes unnecessary to design the cell thickness in consideration of the thickness of the retardation layer, and the display quality is prevented from being deteriorated. In addition, since a large step is not formed on the substrate surface, disconnection hardly occurs in an electrode or the like formed on the substrate surface, and a liquid crystal device having excellent reliability can be provided. In addition, when the retardation layer is formed on the outer surface side of the substrate (on the opposite side to the liquid crystal layer), bubbles are prevented from being mixed when the polarizing plate is attached, so that a liquid crystal device with excellent display quality is provided. it can.

ここで、「凹部」は位相差層を収容するための穴又は溝であり、位相差層がサブ画素毎に形成される場合には凹部もサブ画素毎に(ドット状に)形成され、位相差層が複数のサブ画素に跨ってストライプ状に形成される場合には凹部も複数のサブ画素に跨ってストライプ状(溝状)に形成される。凹部の深さは位相差層の厚みと略同一であることが望ましいが、異なっていても良い。製造誤差等によって同一とすることができない場合があり、また若干異なっていても位相差層の形成領域の段差の影響を低減できるからである。位相差層の形成領域に段差が残る場合には、平坦化樹脂層等で残りの段差をさらに平坦化することが望ましい。   Here, the “concave portion” is a hole or groove for accommodating the retardation layer. When the retardation layer is formed for each sub-pixel, the concave portion is also formed for each sub-pixel (in a dot shape). When the phase difference layer is formed in a stripe shape across a plurality of sub-pixels, the recess is also formed in a stripe shape (groove shape) across the plurality of sub-pixels. The depth of the recess is preferably substantially the same as the thickness of the retardation layer, but may be different. This is because they may not be the same due to manufacturing errors or the like, and even if they are slightly different, the effect of the step in the retardation layer formation region can be reduced. In the case where a step remains in the phase difference layer formation region, it is desirable to further planarize the remaining step with a planarizing resin layer or the like.

本発明においては、前記凹部の深さは前記位相差層の厚みと略同一であることが望ましい。この構成によれば、位相差層の形成領域の段差を略なくすことができる。このため、位相差層を液晶パネルの内面側に形成した場合には、位相差層の膜厚を考慮したセル厚の設計が不要になり、表示品質の低下が防止できる。位相差層を液晶パネルの外面側に形成した場合には、偏光板を貼着する際の段差が低減できるため、基板と偏光板との間の気泡の混入を防止でき、表示品質の高い液晶装置が提供できる。   In the present invention, it is desirable that the depth of the recess is substantially the same as the thickness of the retardation layer. According to this configuration, the step in the retardation layer forming region can be substantially eliminated. For this reason, when the retardation layer is formed on the inner surface side of the liquid crystal panel, it is not necessary to design the cell thickness in consideration of the thickness of the retardation layer, and the display quality can be prevented from deteriorating. When the retardation layer is formed on the outer surface side of the liquid crystal panel, the level difference when sticking the polarizing plate can be reduced, so that bubbles can be prevented from being mixed between the substrate and the polarizing plate, and the liquid crystal with high display quality can be obtained. A device can be provided.

本発明においては、前記位相差層を覆ってカラーフィルタ層が設けられ、前記位相差層の厚みが前記凹部の深さと異なり、前記位相差層の形成領域の段差が前記カラーフィルタ層によって平坦化されていることが望ましい。この構成によれば、位相差層の形成領域の段差が凹部によって十分に平坦化できない場合でもカラーフィルタ層によって残りの段差を十分に解消することができる。   In the present invention, a color filter layer is provided so as to cover the retardation layer, the thickness of the retardation layer is different from the depth of the concave portion, and a step in the formation region of the retardation layer is flattened by the color filter layer. It is desirable that According to this configuration, even when the step of the retardation layer forming region cannot be sufficiently flattened by the concave portion, the remaining step can be sufficiently eliminated by the color filter layer.

本発明においては、前記位相差層の厚みが前記凹部の深さよりも大きく、前記凹部から突出した部分の前記位相差層を覆ってカラーフィルタ層が設けられ、前記位相差層と重なる部分の前記カラーフィルタ層の厚みが前記位相差層と重ならない部分の前記カラーフィルタ層の厚みよりも薄くなっていることが望ましい。この構成によれば、カラーフィルタ層を反射表示領域と透過表示領域とで色濃度の異なる2種類の領域に区画することができる。すなわち、透過表示領域の平面領域に対応して第1の色材領域が設けられ、反射表示領域の平面領域に対応して第2の色材領域が設けられており、第1の色材領域の色濃度が、第2の色材領域の色濃度より大きいものとされている構成を採用できる。このような構成とすることで、カラーフィルタ層を表示光が1回のみ透過する透過表示領域と、2回透過する反射表示領域との間で表示光の色味が異なるのを防止でき、反射表示と透過表示の見映えを揃えて表示品質を向上させることができる。   In the present invention, the thickness of the retardation layer is greater than the depth of the recess, a color filter layer is provided to cover the retardation layer in a portion protruding from the recess, and the portion of the portion overlapping the retardation layer is provided. It is desirable that the thickness of the color filter layer is thinner than the thickness of the color filter layer in a portion that does not overlap with the retardation layer. According to this configuration, the color filter layer can be partitioned into two types of regions having different color densities in the reflective display region and the transmissive display region. That is, the first color material region is provided corresponding to the planar region of the transmissive display region, and the second color material region is provided corresponding to the planar region of the reflective display region. It is possible to adopt a configuration in which the color density is higher than the color density of the second color material region. By adopting such a configuration, it is possible to prevent the color of the display light from being different between the transmissive display region where the display light is transmitted only once through the color filter layer and the reflective display region where the display light is transmitted twice. Display quality can be improved by aligning the appearance of display and transparent display.

本発明においては、前記位相差層と重なる部分の前記カラーフィルタ層の厚みが前記位相差層と重ならない部分の前記カラーフィルタ層の厚みの約1/2となっていることが望ましい。この構成によれば、透過表示領域と反射表示領域とで表示の色味を略同一とすることができる。ここで、「約1/2」とは、完全に1/2である場合のほか、1/2から若干ずれた範囲も含む趣旨である。製造誤差等によって完全に1/2とすることができない場合があり、また若干異なっていたとしても色味の相違が小さい場合には人間の視覚によって認識されない場合もあるからである。また、「カラーフィルタ層の厚み」とは、反射表示領域及び透過表示領域においてカラーフィルタ層の厚みが略一定になっている部分の厚みをいい、反射表示領域と透過表示領域との境界部においてカラーフィルタ層の厚みが大きく変動している部分は含まない。   In the present invention, it is preferable that the thickness of the color filter layer in a portion overlapping with the retardation layer is about ½ of the thickness of the color filter layer in a portion not overlapping with the retardation layer. According to this configuration, the display colors can be made substantially the same in the transmissive display area and the reflective display area. Here, “about ½” means not only completely ½ but also a range slightly deviated from ½. This is because it may not be able to be completely halved due to a manufacturing error or the like, and even if it is slightly different, if the difference in color is small, it may not be recognized by human vision. The “color filter layer thickness” refers to the thickness of the portion of the reflective display area and the transmissive display area where the thickness of the color filter layer is substantially constant, and at the boundary between the reflective display area and the transmissive display area. The portion where the thickness of the color filter layer varies greatly is not included.

本発明においては、前記位相差層は前記一方の基板の前記液晶層側の面に設けられていることが望ましい。この構成によれば、位相差層を液晶パネルの外面側(前記一方の基板の前記液晶層とは反対側の面)に設ける場合に比べて視差の小さい液晶装置を提供することができる。この場合、位相差層の膜厚を考慮したセル厚の設計が必要となるが、本発明では位相差層の形成領域の段差が凹部によって低減されているため、そのような不具合は殆ど生じない。特に、位相差層の厚みと凹部の深さとが略同一である場合には、位相差層の形成領域の段差がなくなるため、プロセスの変更が不要になり、表示品質を低下させるリスクも小さくなる。   In the present invention, it is desirable that the retardation layer is provided on the surface of the one substrate on the liquid crystal layer side. According to this configuration, it is possible to provide a liquid crystal device having a small parallax compared to the case where the retardation layer is provided on the outer surface side of the liquid crystal panel (the surface on the opposite side of the one substrate from the liquid crystal layer). In this case, it is necessary to design the cell thickness in consideration of the thickness of the retardation layer. However, in the present invention, the level difference in the formation region of the retardation layer is reduced by the concave portion, so that such a defect hardly occurs. . In particular, when the thickness of the retardation layer and the depth of the recess are substantially the same, there is no step in the formation region of the retardation layer, so no process change is required, and the risk of lowering display quality is reduced. .

本発明においては、前記位相差層は前記一方の基板の前記液晶層とは反対側の面に設けられ、前記位相差層が設けられた部分の前記一方の基板の厚みが0.1mm以上0.2mm以下であることが望ましい。この構成によれば、位相差層が基板の外面側に設けられているので、位相差層の膜厚を考慮したセル厚の設計が不要となる。この場合、視差による表示品質の低下が懸念されるが、基板の厚みが0.1mm以上0.2mm以下とされているため、そのような問題は殆ど生じない。ここで、「位相差層が設けられた部分の前記一方の基板の厚みが0.1mm以上0.2mm以下である」とは、前記一方の基板の全体を0.1mm以上0.2mm以下の厚みとする場合のほか、表示領域のみ又は位相差層が形成される部分のみを選択的に薄くして0.1mm以上0.2mm以下の厚みとする場合も含む趣旨である。大型の液晶装置の場合、基板全体を薄くすると基板の機械的強度が低下するため、基板の特定領域のみを選択的に薄くすることによって機械的強度を高めることができる。小型の液晶装置の場合、そのような問題は生じないので、基板全体を薄くすることも可能である。   In the present invention, the retardation layer is provided on the surface of the one substrate opposite to the liquid crystal layer, and the thickness of the one substrate in the portion where the retardation layer is provided is 0.1 mm or more and 0. It is desirable that it is 2 mm or less. According to this configuration, since the retardation layer is provided on the outer surface side of the substrate, it is not necessary to design the cell thickness in consideration of the thickness of the retardation layer. In this case, although there is a concern about a decrease in display quality due to parallax, since the thickness of the substrate is 0.1 mm or more and 0.2 mm or less, such a problem hardly occurs. Here, “the thickness of the one substrate at the portion where the retardation layer is provided is 0.1 mm or more and 0.2 mm or less” means that the entire one substrate is 0.1 mm or more and 0.2 mm or less. In addition to the thickness, it is intended to include the case where only the display region or only the portion where the retardation layer is formed is selectively thinned to a thickness of 0.1 mm to 0.2 mm. In the case of a large liquid crystal device, when the entire substrate is thinned, the mechanical strength of the substrate is lowered. Therefore, the mechanical strength can be increased by selectively thinning only a specific region of the substrate. In the case of a small liquid crystal device, such a problem does not occur, so that the entire substrate can be made thin.

本発明においては、前記一方の基板の前記液晶層とは反対側の面に前記位相差層を覆う偏光板が設けられていることが望ましい。この構成によれば、位相差層が偏光板によって保護されるため、大気中の水分や機械的衝撃等によって位相差層が劣化することを防止できる。また、基板は視差の影響をなくすために薄く形成されるが、偏光板を貼り付けた場合には、基板の機械的強度が補強されるため、信頼性に優れた液晶装置が提供できる。   In the present invention, it is desirable that a polarizing plate that covers the retardation layer is provided on a surface of the one substrate opposite to the liquid crystal layer. According to this configuration, since the retardation layer is protected by the polarizing plate, it is possible to prevent the retardation layer from being deteriorated by moisture in the atmosphere, mechanical impact, or the like. The substrate is formed thin in order to eliminate the influence of parallax. However, when a polarizing plate is attached, the mechanical strength of the substrate is reinforced, so that a liquid crystal device with excellent reliability can be provided.

本発明の液晶装置は、一対の基板と、前記一対の基板間に挟持された液晶層と、前記一対の基板のうちの一方の基板上に設けられた位相差層と、前記一方の基板上において前記位相差層の周囲を覆う平坦化樹脂層と、を備えたことを特徴とする。この構成によれば、位相差層の形成領域の段差が平坦化樹脂層によって平坦化されるため、サブ画素全体にわたって基板の表面を平坦化することができる。このため、位相差層を基板の内面側(液晶層側)に形成した場合には、位相差層の膜厚を考慮したセル厚の設計が不要になり、表示品質の低下が防止される。また、基板表面に大きな段差が形成されないので、基板表面に形成された電極等に断線が発生しにくくなり、信頼性に優れた液晶装置が提供できる。また、位相差層を基板の外面側(液晶層とは反対側)に形成した場合には、偏光板を貼り付ける際の気泡の混入が防止されるため、表示品質に優れた液晶装置が提供できる。   The liquid crystal device of the present invention includes a pair of substrates, a liquid crystal layer sandwiched between the pair of substrates, a retardation layer provided on one of the pair of substrates, and the one substrate And a planarizing resin layer covering the periphery of the retardation layer. According to this configuration, since the step in the retardation layer formation region is flattened by the flattening resin layer, the surface of the substrate can be flattened over the entire subpixel. For this reason, when the retardation layer is formed on the inner surface side (liquid crystal layer side) of the substrate, it becomes unnecessary to design the cell thickness in consideration of the thickness of the retardation layer, and the display quality is prevented from being deteriorated. In addition, since a large step is not formed on the substrate surface, disconnection hardly occurs in an electrode or the like formed on the substrate surface, and a liquid crystal device having excellent reliability can be provided. In addition, when the retardation layer is formed on the outer surface side of the substrate (on the opposite side to the liquid crystal layer), bubbles are prevented from being mixed when the polarizing plate is attached, so that a liquid crystal device with excellent display quality is provided. it can.

ここで、「位相差層の周囲を覆う平坦化樹脂層」とは、平坦化樹脂層が位相差層に隣接して形成されていることを意味し、平坦化樹脂層が位相差層の周囲に隙間なく配置される場合のほか、平坦化樹脂層が位相差層と若干隙間をあけて配置される場合や、逆に平坦化樹脂層が位相差層の外周部に若干乗り上げるように配置される場合を含む趣旨である。ここで、平坦化樹脂層の厚みは位相差層の厚みと略同一であることが望ましいが、異なっていても良い。製造誤差等によって同一とすることができない場合があり、また若干異なっていても位相差層の形成領域の段差の影響を低減できるからである。   Here, “a planarizing resin layer covering the periphery of the retardation layer” means that the planarizing resin layer is formed adjacent to the retardation layer, and the planarizing resin layer is surrounded by the retardation layer. If the flattening resin layer is placed with a slight gap from the retardation layer, or the flattening resin layer is placed slightly over the outer periphery of the retardation layer. This includes the case where Here, the thickness of the planarizing resin layer is preferably substantially the same as the thickness of the retardation layer, but may be different. This is because they may not be the same due to manufacturing errors or the like, and even if they are slightly different, the effect of the step in the retardation layer formation region can be reduced.

本発明においては、前記平坦化樹脂層の厚みと前記位相差層の厚みとが略同一であることが望ましい。この構成によれば、位相差層の形成領域の段差を略なくすことができる。このため、位相差層を液晶パネルの内面側に形成した場合には、位相差層の膜厚を考慮したセル厚の設計が不要になり、表示品質の低下が防止できる。位相差層を液晶パネルの外面側に形成した場合には、偏光板を貼着する際の段差が低減できるため、基板と偏光板との間の気泡の混入を防止でき、表示品質の高い液晶装置が提供できる。   In the present invention, it is desirable that the thickness of the planarizing resin layer and the thickness of the retardation layer are substantially the same. According to this configuration, the step in the retardation layer forming region can be substantially eliminated. For this reason, when the retardation layer is formed on the inner surface side of the liquid crystal panel, it is not necessary to design the cell thickness in consideration of the thickness of the retardation layer, and the display quality can be prevented from deteriorating. When the retardation layer is formed on the outer surface side of the liquid crystal panel, the level difference when sticking the polarizing plate can be reduced, so that bubbles can be prevented from being mixed between the substrate and the polarizing plate, and the liquid crystal with high display quality can be obtained. A device can be provided.

本発明においては、前記位相差層及び前記平坦化樹脂層を覆ってカラーフィルタ層が設けられ、前記位相差層の厚みが前記平坦化樹脂層の厚みと異なり、前記位相差層と前記平坦化樹脂層との境界部の段差が前記カラーフィルタ層によって平坦化されていることが望ましい。この構成によれば、位相差層の形成領域の段差が平坦化樹脂層によって十分に平坦化できない場合でもカラーフィルタ層によって残りの段差を十分に解消することができる。   In the present invention, a color filter layer is provided so as to cover the retardation layer and the planarizing resin layer, and the thickness of the retardation layer is different from the thickness of the planarizing resin layer. It is desirable that the step at the boundary with the resin layer is flattened by the color filter layer. According to this configuration, even when the step in the retardation layer formation region cannot be sufficiently flattened by the flattening resin layer, the remaining step can be sufficiently eliminated by the color filter layer.

本発明においては、前記位相差層の厚みが前記平坦化樹脂層の厚みよりも大きく、前記平坦化樹脂層から突出した部分の前記位相差層を覆ってカラーフィルタ層が設けられ、前記位相差層と重なる部分の前記カラーフィルタ層の厚みが前記位相差層と重ならない部分の前記カラーフィルタ層の厚みよりも薄くなっていることが望ましい。この構成によれば、カラーフィルタ層を反射表示領域と透過表示領域とで色濃度の異なる2種類の領域に区画することができる。すなわち、透過表示領域の平面領域に対応して第1の色材領域が設けられ、反射表示領域の平面領域に対応して第2の色材領域が設けられており、第1の色材領域の色濃度が、第2の色材領域の色濃度より大きいものとされている構成を採用できる。このような構成とすることで、カラーフィルタ層を表示光が1回のみ透過する透過表示領域と、2回透過する反射表示領域との間で表示光の色味が異なるのを防止でき、反射表示と透過表示の見映えを揃えて表示品質を向上させることができる。   In the present invention, a thickness of the retardation layer is larger than a thickness of the planarizing resin layer, a color filter layer is provided to cover the retardation layer in a portion protruding from the planarizing resin layer, and the retardation It is desirable that the thickness of the color filter layer in the portion overlapping with the layer is thinner than the thickness of the color filter layer in the portion not overlapping with the retardation layer. According to this configuration, the color filter layer can be partitioned into two types of regions having different color densities in the reflective display region and the transmissive display region. That is, the first color material region is provided corresponding to the planar region of the transmissive display region, and the second color material region is provided corresponding to the planar region of the reflective display region. It is possible to adopt a configuration in which the color density is higher than the color density of the second color material region. By adopting such a configuration, it is possible to prevent the color of the display light from being different between the transmissive display region where the display light is transmitted only once through the color filter layer and the reflective display region where the display light is transmitted twice. Display quality can be improved by aligning the appearance of display and transparent display.

本発明においては、前記位相差層と重なる部分の前記カラーフィルタ層の厚みが前記位相差層と重ならない部分の前記カラーフィルタ層の厚みの約1/2となっていることが望ましい。この構成によれば、透過表示領域と反射表示領域とで表示の色味を略同一とすることができる。ここで、「約1/2」とは、完全に1/2である場合のほか、1/2から若干ずれた範囲も含む趣旨である。製造誤差等によって完全に1/2とすることができない場合があり、また若干異なっていたとしても色味の相違が小さい場合には人間の視覚によって認識されない場合もあるからである。また、「カラーフィルタ層の厚み」とは、反射表示領域及び透過表示領域においてカラーフィルタ層の厚みが略一定になっている部分の厚みをいい、反射表示領域と透過表示領域との境界部においてカラーフィルタ層の厚みが大きく変動している部分は含まない。   In the present invention, it is preferable that the thickness of the color filter layer in a portion overlapping with the retardation layer is about ½ of the thickness of the color filter layer in a portion not overlapping with the retardation layer. According to this configuration, the display colors can be made substantially the same in the transmissive display area and the reflective display area. Here, “about ½” means not only completely ½ but also a range slightly deviated from ½. This is because it may not be able to be completely halved due to a manufacturing error or the like, and even if it is slightly different, if the difference in color is small, it may not be recognized by human vision. The “color filter layer thickness” refers to the thickness of the portion of the reflective display area and the transmissive display area where the thickness of the color filter layer is substantially constant, and at the boundary between the reflective display area and the transmissive display area. The portion where the thickness of the color filter layer varies greatly is not included.

本発明においては、前記位相差層は前記一方の基板の前記液晶層側の面に設けられていることが望ましい。この構成によれば、位相差層を液晶パネルの外面側(前記一方の基板の前記液晶層とは反対側の面)に設ける場合に比べて視差の小さい液晶装置を提供することができる。この場合、位相差層の膜厚を考慮したセル厚の設計が必要となるが、本発明では位相差層の形成領域の段差が平坦化樹脂層によって低減されているため、そのような不具合は殆ど生じない。特に、位相差層の厚みと平坦化樹脂層の厚みとが略同一である場合には、位相差層の形成領域の段差がなくなるため、プロセスの変更が不要になり、表示品質を低下させるリスクも小さくなる。   In the present invention, it is desirable that the retardation layer is provided on the surface of the one substrate on the liquid crystal layer side. According to this configuration, it is possible to provide a liquid crystal device having a small parallax compared to the case where the retardation layer is provided on the outer surface side of the liquid crystal panel (the surface on the opposite side of the one substrate from the liquid crystal layer). In this case, it is necessary to design the cell thickness in consideration of the thickness of the retardation layer.However, in the present invention, the level difference in the formation region of the retardation layer is reduced by the flattening resin layer, so such a problem is It hardly occurs. In particular, when the thickness of the retardation layer and the thickness of the flattening resin layer are substantially the same, there is no step in the formation region of the retardation layer, making it unnecessary to change the process and reducing the display quality. Becomes smaller.

本発明においては、前記位相差層は前記一方の基板の前記液晶層とは反対側の面に設けられ、前記位相差層が設けられた部分の前記一方の基板の厚みが0.1mm以上0.2mm以下であることが望ましい。この構成によれば、位相差層の膜厚を考慮したセル厚の設計が不要となるため、歩留まりの高い液晶装置が提供できる。この場合、視差による表示品質の低下が懸念されるが、基板の厚みが0.1mm以上0.2mm以下とされているため、そのような問題は殆ど生じない。ここで、「位相差層が設けられた部分の前記一方の基板の厚みが0.1mm以上0.2mm以下である」とは、前記一方の基板の全体を0.1mm以上0.2mm以下の厚みとする場合のほか、表示領域のみ又は位相差層が形成される部分のみを選択的に薄くして0.1mm以上0.2mm以下の厚みとする場合も含む趣旨である。大型の液晶装置の場合、基板全体を薄くすると機械的強度が低下するため、基板の特定領域のみを選択的に薄くすることによって機械的強度を高めることができる。小型の液晶装置の場合、そのような問題は生じないので、基板全体を薄くすることも可能である。   In the present invention, the retardation layer is provided on the surface of the one substrate opposite to the liquid crystal layer, and the thickness of the one substrate in the portion where the retardation layer is provided is 0.1 mm or more and 0. It is desirable that it is 2 mm or less. According to this configuration, it becomes unnecessary to design the cell thickness in consideration of the thickness of the retardation layer, so that a liquid crystal device with a high yield can be provided. In this case, although there is a concern about a decrease in display quality due to parallax, since the thickness of the substrate is 0.1 mm or more and 0.2 mm or less, such a problem hardly occurs. Here, “the thickness of the one substrate at the portion where the retardation layer is provided is 0.1 mm or more and 0.2 mm or less” means that the entire one substrate is 0.1 mm or more and 0.2 mm or less. In addition to the thickness, it is intended to include the case where only the display region or only the portion where the retardation layer is formed is selectively thinned to a thickness of 0.1 mm to 0.2 mm. In the case of a large-sized liquid crystal device, the mechanical strength decreases when the entire substrate is thinned. Therefore, the mechanical strength can be increased by selectively thinning only a specific region of the substrate. In the case of a small liquid crystal device, such a problem does not occur, so that the entire substrate can be made thin.

本発明においては、前記一方の基板の前記液晶層とは反対側の面に前記位相差層を覆う偏光板が設けられていることが望ましい。この構成によれば、位相差層が偏光板によって保護されるため、大気中の水分や機械的衝撃等によって位相差層が劣化することを防止できる。また、基板は視差の影響をなくすために薄く形成されるが、偏光板を貼り付けた場合には、基板の機械的強度が補強されるため、信頼性に優れた液晶装置が提供できる。   In the present invention, it is desirable that a polarizing plate that covers the retardation layer is provided on a surface of the one substrate opposite to the liquid crystal layer. According to this configuration, since the retardation layer is protected by the polarizing plate, it is possible to prevent the retardation layer from being deteriorated by moisture in the atmosphere, mechanical impact, or the like. The substrate is formed thin in order to eliminate the influence of parallax. However, when a polarizing plate is attached, the mechanical strength of the substrate is reinforced, so that a liquid crystal device with excellent reliability can be provided.

本発明の液晶装置は、一対の基板と、前記一対の基板間に挟持された液晶層と、前記一対の基板のうちの一方の基板上に設けられた位相差層と、前記位相差層を覆う平坦化樹脂層と、を備えたことを特徴とする。この構成によれば、位相差層の形成領域の段差が平坦化樹脂層によって平坦化されるため、サブ画素全体にわたって基板の表面を平坦化することができる。このため、位相差層を基板の内面側(液晶層側)に形成した場合には、位相差層の膜厚を考慮したセル厚の設計が不要になり、表示品質の低下が防止される。また、基板表面に大きな段差が形成されないので、基板表面に形成された電極等に断線が発生しにくくなり、信頼性に優れた液晶装置が提供できる。また、位相差層を基板の外面側(液晶層とは反対側)に形成した場合には、偏光板を貼り付ける際の気泡の混入が防止されるため、表示品質に優れた液晶装置が提供できる。   The liquid crystal device of the present invention includes a pair of substrates, a liquid crystal layer sandwiched between the pair of substrates, a retardation layer provided on one of the pair of substrates, and the retardation layer. And a planarizing resin layer for covering. According to this configuration, since the step in the retardation layer formation region is flattened by the flattening resin layer, the surface of the substrate can be flattened over the entire subpixel. For this reason, when the retardation layer is formed on the inner surface side (liquid crystal layer side) of the substrate, it becomes unnecessary to design the cell thickness in consideration of the thickness of the retardation layer, and the display quality is prevented from being deteriorated. In addition, since a large step is not formed on the substrate surface, disconnection hardly occurs in an electrode or the like formed on the substrate surface, and a liquid crystal device having excellent reliability can be provided. In addition, when the retardation layer is formed on the outer surface side of the substrate (on the opposite side to the liquid crystal layer), bubbles are prevented from being mixed when the polarizing plate is attached, so that a liquid crystal device with excellent display quality is provided. it can.

本発明の液晶装置の製造方法は、一対の基板間に液晶層が挟持されてなる液晶装置の製造方法であって、前記一対の基板のうちの一方の基板上に液晶材料を塗布する工程と、前記液晶材料の一部を硬化し残りを有機溶剤で除去することにより、前記一方の基板の所定の領域に前記液晶材料からなる位相差層を形成する工程と、前記一方の基板上に感光性樹脂を塗布し前記感光性樹脂を露光処理及び現像処理することにより、前記位相差層の周囲に前記感光性樹脂からなる平坦化樹脂層を形成する工程と、を備えたことを特徴とする。この方法によれば、位相差層の形成領域の段差が平坦化樹脂層によって平坦化されるため、サブ画素全体にわたって基板の表面を平坦化することができる。このため、位相差層を基板の内面側(液晶層側)に形成した場合には、位相差層の膜厚を考慮したセル厚の設計が不要になり、表示品質の低下が防止される。また、基板表面に大きな段差が形成されないので、基板表面に形成された電極等に断線が発生しにくくなり、信頼性に優れた液晶装置が提供できる。また、位相差層を基板の外面側(液晶層とは反対側)に形成した場合には、偏光板を貼り付ける際の気泡の混入が防止されるため、表示品質に優れた液晶装置が提供できる。また、位相差層を形成してから平坦化樹脂層を形成するので、平坦化樹脂層が位相差層の有機溶媒によって劣化することがなく、さらに位相差層は平坦化樹脂層の現像液であるアルカリ現像液等には溶解しないので、平坦化樹脂層を現像する際に位相差層が劣化することもない。したがって、信頼性に優れた液晶装置が提供できる。さらに、位相差層は平坦化樹脂層の存在しない平坦な基板上でパターニングされるため、位相差層の平坦性が良好なものとなり、光学特性に優れた液晶装置が提供できる。   A method for manufacturing a liquid crystal device according to the present invention is a method for manufacturing a liquid crystal device in which a liquid crystal layer is sandwiched between a pair of substrates, the step of applying a liquid crystal material on one of the pair of substrates, and A step of curing a part of the liquid crystal material and removing the remainder with an organic solvent to form a retardation layer made of the liquid crystal material in a predetermined region of the one substrate, and a photosensitive layer on the one substrate. Forming a planarizing resin layer made of the photosensitive resin around the retardation layer by applying a photosensitive resin and exposing and developing the photosensitive resin. . According to this method, the step in the phase difference layer formation region is flattened by the flattening resin layer, so that the surface of the substrate can be flattened over the entire subpixel. For this reason, when the retardation layer is formed on the inner surface side (liquid crystal layer side) of the substrate, it becomes unnecessary to design the cell thickness in consideration of the thickness of the retardation layer, and the display quality is prevented from being deteriorated. In addition, since a large step is not formed on the substrate surface, disconnection hardly occurs in an electrode or the like formed on the substrate surface, and a liquid crystal device having excellent reliability can be provided. In addition, when the retardation layer is formed on the outer surface side of the substrate (on the opposite side to the liquid crystal layer), bubbles are prevented from being mixed when the polarizing plate is attached, so that a liquid crystal device with excellent display quality is provided. it can. Further, since the planarizing resin layer is formed after the retardation layer is formed, the planarizing resin layer is not deteriorated by the organic solvent of the retardation layer, and the retardation layer is a developer for the planarizing resin layer. Since it does not dissolve in a certain alkali developer or the like, the retardation layer does not deteriorate when the flattening resin layer is developed. Therefore, a liquid crystal device with excellent reliability can be provided. Further, since the retardation layer is patterned on a flat substrate without the planarizing resin layer, the flatness of the retardation layer becomes good, and a liquid crystal device having excellent optical characteristics can be provided.

本発明の電子機器は、上述した本発明の液晶装置を備えたことを特徴とする。この構成によれば、表示品質が高く、信頼性に優れた電子機器が提供できる。   An electronic apparatus according to the present invention includes the above-described liquid crystal device according to the present invention. According to this configuration, an electronic apparatus with high display quality and excellent reliability can be provided.

以下、図面を参照して本発明の実施の形態について説明する。かかる実施の形態は本発明の一態様を示すものであり、この発明を限定するものではない。下記の実施形態において、各構成部材の諸形状や組み合わせ等は一例であって、本発明の主旨から逸脱しない範囲において設計要求等に基づき種々変更可能である。また、以下の図面においては、各構成をわかりやすくするために、実際の構造と各構造における縮尺や数等が異なっている。   Embodiments of the present invention will be described below with reference to the drawings. Such an embodiment shows one aspect of the present invention and does not limit the present invention. In the following embodiments, various shapes, combinations, and the like of the constituent members are examples, and various modifications can be made based on design requirements and the like without departing from the gist of the present invention. Moreover, in the following drawings, in order to make each structure easy to understand, an actual structure and a scale, a number, and the like in each structure are different.

[第1の実施の形態]
図1は、本発明の第1実施形態の液晶装置1の概略構成図である。液晶装置1は、互いに対向する第1基板10及び第2基板20と、第1基板10と第2基板20との間に挟持された液晶層50とを備えている。第1基板10の液晶層50とは反対側には第1偏光板14が設けられ、第2基板20の液晶層50とは反対側には第2偏光板24が設けられている。第1基板10の背面側(第1偏光板14の液晶層50とは反対側)には、光源33、導光板31及び反射板32を備えたバックライト(照明装置)30が設けられている。
[First Embodiment]
FIG. 1 is a schematic configuration diagram of a liquid crystal device 1 according to the first embodiment of the present invention. The liquid crystal device 1 includes a first substrate 10 and a second substrate 20 facing each other, and a liquid crystal layer 50 sandwiched between the first substrate 10 and the second substrate 20. A first polarizing plate 14 is provided on the side of the first substrate 10 opposite to the liquid crystal layer 50, and a second polarizing plate 24 is provided on the side of the second substrate 20 opposite to the liquid crystal layer 50. On the back side of the first substrate 10 (on the side opposite to the liquid crystal layer 50 of the first polarizing plate 14), a backlight (illuminating device) 30 including a light source 33, a light guide plate 31, and a reflection plate 32 is provided. .

第1基板10は、ガラス、石英又はプラスチック等の透光性の基板本体10Aを基体としてなる。図では省略してあるが、基板本体10Aには、必要に応じて画素スイッチング素子である薄膜トランジスタや、走査線及びデータ線等の各種配線が形成されている。基板本体10Aの液晶層50側には、アクリル樹脂等の透明有機絶縁膜からなる層間絶縁膜11が設けられている。層間絶縁膜11は透過表示領域Tを除く領域に設けられている。層間絶縁膜11は、透過表示領域Tの液晶層50の層厚の約1/2の厚みを有しており、透過表示領域Tと反射表示領域Rの液晶層厚を異ならせる液晶層厚調整層として機能する。   The first substrate 10 has a translucent substrate body 10A such as glass, quartz, or plastic as a base. Although not shown in the drawing, the substrate body 10A is provided with thin film transistors as pixel switching elements and various wirings such as scanning lines and data lines as necessary. An interlayer insulating film 11 made of a transparent organic insulating film such as an acrylic resin is provided on the liquid crystal layer 50 side of the substrate body 10A. The interlayer insulating film 11 is provided in a region excluding the transmissive display region T. The interlayer insulating film 11 has a thickness that is approximately ½ of the thickness of the liquid crystal layer 50 in the transmissive display region T, and the liquid crystal layer thickness adjustment that makes the transmissive display region T and the reflective display region R different in liquid crystal layer thickness. Acts as a layer.

層間絶縁膜11上には反射膜12が設けられている。反射膜12は、アルミニウムや銀等の光反射性の金属膜や、屈折率の異なる誘電体膜(SiOとTiO等)を積層した誘電体積層膜(誘電体ミラー)からなるものである。反射膜12としては、表面に凹凸を形成して光散乱性を付与したものを用いることが好ましい。かかる構成とすることで反射表示における視認性を向上させることができる。本実施形態の場合、層間絶縁膜11の表面の一部(少なくとも反射表示領域Rを内包する領域と平面的に重なる領域)に凹凸形状が形成されており、層間絶縁膜11上に形成された反射膜12の表面には層間絶縁膜11の表面に倣う凹凸形状が形成されている。 A reflective film 12 is provided on the interlayer insulating film 11. The reflective film 12 is made of a light reflective metal film such as aluminum or silver, or a dielectric laminated film (dielectric mirror) in which dielectric films (SiO 2 and TiO 2 etc.) having different refractive indexes are laminated. . As the reflective film 12, it is preferable to use a film provided with irregularities on the surface to impart light scattering properties. With this configuration, the visibility in reflective display can be improved. In the case of the present embodiment, a concavo-convex shape is formed on a part of the surface of the interlayer insulating film 11 (a region overlapping at least the region including the reflective display region R in a plane), and is formed on the interlayer insulating film 11. The surface of the reflective film 12 has an uneven shape that follows the surface of the interlayer insulating film 11.

基板本体10A、層間絶縁膜11及び反射膜12を覆って画素電極13が設けられている。画素電極13は、ITO(インジウム錫酸化物)等の透光性導電膜からなる。画素電極13が形成された領域はサブ画素であり、サブ画素のうち反射膜12と平面的に重なる領域は反射表示領域Rであり、反射膜12と平面的に重ならない領域は透過表示領域Tである。第1基板10上には複数のサブ画素がマトリクス状に配列されており、これら複数のサブ画素によって全体としての表示領域が形成されている。第1基板10の液晶層50側の最表面には、基板本体10A及び画素電極13を覆って図示略の配向膜が設けられている。   A pixel electrode 13 is provided so as to cover the substrate body 10 </ b> A, the interlayer insulating film 11, and the reflective film 12. The pixel electrode 13 is made of a translucent conductive film such as ITO (indium tin oxide). The region where the pixel electrode 13 is formed is a sub-pixel, the region of the sub-pixel that overlaps the reflective film 12 in plan is the reflective display region R, and the region that does not overlap the reflective film 12 in plan is the transmissive display region T. It is. A plurality of sub-pixels are arranged in a matrix on the first substrate 10, and a display area as a whole is formed by the plurality of sub-pixels. An alignment film (not shown) is provided on the outermost surface of the first substrate 10 on the liquid crystal layer 50 side so as to cover the substrate body 10A and the pixel electrode 13.

第2基板20は、ガラス、石英又はプラスチック等の透光性の基板本体20Aを基体としてなる。基板本体20Aの液晶層50側には、反射表示領域Rに対応して位相差層21が設けられている。位相差層21は、その光学軸方向に平行な振動方向を有する光に対して略1/2波長(λ/2)の位相差を付与するものであり、基板本体20Aの内面側(液晶層側)に設けられたいわゆる内面位相差層である。位相差層21は、高分子液晶(コレステリック液晶等)の溶液や重合性液晶モノマー(或いは重合性液晶オリゴマー)の溶液を配向膜上に塗布し、乾燥固化させる際に所定方向に配向させる方法により形成することができる。   The second substrate 20 has a translucent substrate body 20A such as glass, quartz, or plastic as a base. On the liquid crystal layer 50 side of the substrate body 20A, a retardation layer 21 is provided corresponding to the reflective display region R. The phase difference layer 21 gives a phase difference of approximately ½ wavelength (λ / 2) to light having a vibration direction parallel to the optical axis direction, and the inner surface side (liquid crystal layer) of the substrate body 20A. A so-called inner surface retardation layer provided on the side). The retardation layer 21 is formed by applying a solution of a polymer liquid crystal (cholesteric liquid crystal or the like) or a solution of a polymerizable liquid crystal monomer (or a polymerizable liquid crystal oligomer) on the alignment film and aligning it in a predetermined direction when dried and solidified. Can be formed.

基板本体20Aの位相差層21が形成される部分(反射表示領域R)には凹部Hが設けられている。凹部Hはフッ酸溶液等を用いて基板本体20Aの表面を部分的にエッチングすることにより形成することができる。凹部Hは位相差層21の形成領域に対応して形成される。位相差層21がサブ画素毎に形成される場合には凹部Hもサブ画素毎に(ドット状に)形成され、位相差層21が複数のサブ画素に跨ってストライプ状に形成される場合には凹部Hも複数のサブ画素に跨ってストライプ状(溝状)に形成される。位相差層21は凹部Hが形成された領域に選択的に形成されており、凹部Hによって位相差層21の形成領域の段差が見かけ上小さくなっている。本実施形態の場合、凹部Hの深さは位相差層21の厚みと略同一であり、位相差層21の表面と基板本体20Aの表面とは略面一となっている。   A concave portion H is provided in a portion (reflection display region R) where the retardation layer 21 of the substrate body 20A is formed. The recess H can be formed by partially etching the surface of the substrate body 20A using a hydrofluoric acid solution or the like. The recess H is formed corresponding to the formation region of the retardation layer 21. When the retardation layer 21 is formed for each sub-pixel, the concave portion H is also formed for each sub-pixel (in a dot shape), and when the retardation layer 21 is formed in a stripe shape across a plurality of sub-pixels. The recess H is also formed in a stripe shape (groove shape) across a plurality of sub-pixels. The retardation layer 21 is selectively formed in the region where the recess H is formed, and the step in the formation region of the retardation layer 21 is apparently reduced by the recess H. In the present embodiment, the depth of the recess H is substantially the same as the thickness of the retardation layer 21, and the surface of the retardation layer 21 and the surface of the substrate body 20A are substantially flush.

基板本体20A及び位相差層21を覆ってカラーフィルタ層22が設けられている。カラーフィルタ層22は、サブ画素毎に異なる色光を透過する複数の色材層を備えている。カラーフィルタ層22は、第1基板10に形成することもできる。カラーフィルタ層22の液晶層50側には対向電極23が設けられている。対向電極23は、ITO等の透光性導電膜からなる。対向電極23は表示領域の全面に形成されており、各サブ画素に共通の共通電極となっている。第2基板20の液晶層50の最表面には、対向電極23を覆って図示略の配向膜が設けられている。   A color filter layer 22 is provided so as to cover the substrate body 20 </ b> A and the retardation layer 21. The color filter layer 22 includes a plurality of color material layers that transmit different color light for each sub-pixel. The color filter layer 22 can also be formed on the first substrate 10. A counter electrode 23 is provided on the liquid crystal layer 50 side of the color filter layer 22. The counter electrode 23 is made of a translucent conductive film such as ITO. The counter electrode 23 is formed on the entire surface of the display area and is a common electrode common to the sub-pixels. An alignment film (not shown) is provided on the outermost surface of the liquid crystal layer 50 of the second substrate 20 so as to cover the counter electrode 23.

本実施形態の液晶装置1によれば、位相差層21の形成領域に凹部Hが形成されているため、反射表示領域Rと透過表示領域Tとを含むサブ画素領域全体を略平坦な面とすることができる。このため、位相差層21の膜厚を考慮したセル厚の設計が不要になり、表示品質の低下が防止される。また、基板表面に大きな段差が形成されないので、対向電極23に断線が発生しにくくなり、信頼性に優れた液晶装置が提供できる。   According to the liquid crystal device 1 of the present embodiment, since the concave portion H is formed in the formation region of the retardation layer 21, the entire sub-pixel region including the reflective display region R and the transmissive display region T is substantially flat. can do. This eliminates the need for designing the cell thickness in consideration of the thickness of the retardation layer 21 and prevents display quality from being deteriorated. In addition, since a large step is not formed on the substrate surface, disconnection hardly occurs in the counter electrode 23, and a liquid crystal device having excellent reliability can be provided.

本実施形態の場合、凹部Hの深さは位相差層211の厚みと略同一であることが望ましいが、異なっていても良い。製造誤差等によって同一とすることができない場合があり、また若干異なっていても位相差層21の形成領域の段差の影響を低減できるからである。凹部Hの深さが位相差層211の厚みと異なる場合には、平坦化樹脂層によって位相差層21の形成領域の段差をさらに平坦化することが望ましい。本実施形態の場合、位相差層21を覆ってカラーフィルタ層22が設けられているため、位相差層21の形成領域に段差が形成されていても、カラーフィルタ層22によってその段差が平坦化されるようになっている。   In the present embodiment, the depth of the recess H is preferably substantially the same as the thickness of the retardation layer 211, but may be different. This is because they may not be the same due to manufacturing errors or the like, and even if they are slightly different, the influence of the step in the formation region of the retardation layer 21 can be reduced. When the depth of the recess H is different from the thickness of the retardation layer 211, it is desirable to further planarize the step in the formation region of the retardation layer 21 with the planarizing resin layer. In the present embodiment, since the color filter layer 22 is provided so as to cover the retardation layer 21, even if a step is formed in the formation region of the retardation layer 21, the step is flattened by the color filter layer 22. It has come to be.

なお、平坦化樹脂層を形成する場合には、必ずしも凹部Hを形成する必要はない。しかしながら、位相差21の厚みは設計によっては数μm程度の厚みになる場合があり、平坦化樹脂層によっても十分に平坦化することができないため、このような場合には、凹部Hによって位相差層21の形成領域の段差を小さくし、残りの段差を平坦化樹脂層で平坦化することで、十分に平坦な基板を形成することができる。例えば、凹部Hによって位相差層21の形成領域の段差を1μm以下とした場合には、平坦化樹脂層によって残りの段差を十分に平坦化することが可能である。   In addition, when forming the planarization resin layer, it is not necessary to form the recessed part H. However, the thickness of the phase difference 21 may be about several μm depending on the design, and even the flattening resin layer cannot be sufficiently flattened. A sufficiently flat substrate can be formed by reducing the step in the formation region of the layer 21 and planarizing the remaining step with a planarizing resin layer. For example, when the step in the formation region of the retardation layer 21 is 1 μm or less due to the recess H, the remaining step can be sufficiently flattened by the flattening resin layer.

[第2の実施の形態]
図2は、本発明の第2実施形態の液晶装置2の概略構成図である。液晶装置2の基本構成は第1実施形態の液晶装置1と同じであり、異なるのは、位相差層21の厚みが凹部Hの深さと異なる厚みに形成されている点である。したがって、第1実施形態の液晶装置1と共通の構成要素については同じ符号を付し、詳細な説明は省略する。
[Second Embodiment]
FIG. 2 is a schematic configuration diagram of the liquid crystal device 2 according to the second embodiment of the present invention. The basic configuration of the liquid crystal device 2 is the same as that of the liquid crystal device 1 of the first embodiment, and the difference is that the thickness of the retardation layer 21 is different from the depth of the recess H. Accordingly, the same components as those of the liquid crystal device 1 of the first embodiment are denoted by the same reference numerals, and detailed description thereof is omitted.

位相差層21の厚みは凹部Hの深さよりも大きく形成されている。位相差層21は基板本体20Aの表面からカラーフィルタ層22側に突出しており、位相差層21の形成領域に段差が形成されている。カラーフィルタ層22は基板本体20A及び位相差層21を覆って形成されており、カラーフィルタ層22によって上記段差が平坦化されている。カラーフィル層22は、位相差層21と重なる部分(反射表示領域R)の厚みW1が位相差層21と重ならない部分(透過表示領域T)の厚みW2よりも薄くなっており、サブ画素内で色度の異なる2種類の色材領域に区画されている。具体的には、透過表示領域Tの平面領域に対応して第1の色材領域が設けられ、反射表示領域Rの平面領域に対応して第2の色材領域が設けられており、第1の色材領域の色度が第2の色材領域の色度よりも大きくなっている。本実施形態の場合、第2の色材領域の厚みW1は第1の色材領域の厚みW2の約1/2となっている。なお、「カラーフィルタ層の厚み」とは、反射表示領域R及び透過表示領域Tにおいてカラーフィルタ層22の厚みが略一定になっている部分の厚みをいい、反射表示領域Rと透過表示領域Tとの境界部においてカラーフィルタ層の厚みが大きく変動している部分は含まない。   The thickness of the retardation layer 21 is formed larger than the depth of the recess H. The retardation layer 21 protrudes from the surface of the substrate body 20 </ b> A toward the color filter layer 22, and a step is formed in the formation region of the retardation layer 21. The color filter layer 22 is formed so as to cover the substrate body 20 </ b> A and the retardation layer 21, and the step is flattened by the color filter layer 22. In the color fill layer 22, the thickness W1 of the portion that overlaps the retardation layer 21 (reflection display region R) is thinner than the thickness W2 of the portion that does not overlap the retardation layer 21 (transmission display region T). And divided into two types of color material regions having different chromaticities. Specifically, a first color material region is provided corresponding to the planar region of the transmissive display region T, and a second color material region is provided corresponding to the planar region of the reflective display region R. The chromaticity of one color material region is larger than the chromaticity of the second color material region. In the present embodiment, the thickness W1 of the second color material region is about ½ of the thickness W2 of the first color material region. The “thickness of the color filter layer” refers to the thickness of the portion where the thickness of the color filter layer 22 is substantially constant in the reflective display region R and the transmissive display region T, and the reflective display region R and the transmissive display region T. The portion where the thickness of the color filter layer greatly fluctuates is not included in the boundary portion between.

本実施形態の液晶装置2によれば、凹部Hから突出した部分の位相差層21による段差がカラーフィルタ層22によって平坦化されているため、反射表示領域Rと透過表示領域Tとを含むサブ画素領域全体を略平坦な面とすることができる。このため、位相差層21の膜厚を考慮したセル厚の設計が不要になり、表示品質の低下が防止される。また、基板表面に大きな段差が形成されないので、対向電極23に断線が発生しにくくなり、信頼性に優れた液晶装置が提供できる。また、反射表示領域Rのカラーフィルタ層22の厚みW1が透過表示領域Tのカラーフィルタ層22の厚みW2よりも薄くなっているため、カラーフィルタを表示光が1回のみ透過する透過表示領域Tと、2回透過する反射表示領域Rとの間で表示光の色度が異なるのを防止でき、反射表示と透過表示の見映えを揃えて表示品質を向上させることができる。   According to the liquid crystal device 2 of the present embodiment, the step due to the phase difference layer 21 in the portion protruding from the recess H is flattened by the color filter layer 22, and thus the sub display including the reflective display region R and the transmissive display region T. The entire pixel region can be a substantially flat surface. This eliminates the need for designing the cell thickness in consideration of the thickness of the retardation layer 21 and prevents display quality from being deteriorated. In addition, since a large step is not formed on the substrate surface, disconnection hardly occurs in the counter electrode 23, and a liquid crystal device having excellent reliability can be provided. Further, since the thickness W1 of the color filter layer 22 in the reflective display region R is thinner than the thickness W2 of the color filter layer 22 in the transmissive display region T, the transmissive display region T in which the display light is transmitted only once through the color filter. In addition, it is possible to prevent the chromaticity of the display light from being different between the reflective display region R that is transmitted twice, and to improve the display quality by aligning the appearance of the reflective display and the transmissive display.

[第3の実施の形態]
図3は、本発明の第3実施形態の液晶装置3の概略構成図である。液晶装置3の基本構成は第1実施形態の液晶装置1と同じである。異なるのは、位相差層21が基板本体20Aの外面側(液晶層50とは反対側)に設けられている点である。したがって、第1実施形態の液晶装置1と共通の構成要素については同じ符号を付し、詳細な説明は省略する。
[Third Embodiment]
FIG. 3 is a schematic configuration diagram of the liquid crystal device 3 according to the third embodiment of the present invention. The basic configuration of the liquid crystal device 3 is the same as that of the liquid crystal device 1 of the first embodiment. The difference is that the retardation layer 21 is provided on the outer surface side (the side opposite to the liquid crystal layer 50) of the substrate body 20A. Accordingly, the same components as those of the liquid crystal device 1 of the first embodiment are denoted by the same reference numerals, and detailed description thereof is omitted.

基板本体20Aの外面側(液晶層50とは反対側)には凹部Hが設けられている。凹部Hはフッ酸溶液等を用いて基板本体20Aの表面を部分的にエッチングすることにより形成することができる。凹部Hは位相差層21の形成領域に対応して形成される。位相差層21がサブ画素毎に形成される場合には凹部Hもサブ画素毎に(ドット状に)形成され、位相差層21が複数のサブ画素に跨ってストライプ状に形成される場合には凹部Hも複数のサブ画素に跨ってストライプ状(溝状)に形成される。位相差層21は凹部Hが形成された領域に選択的に形成されており、凹部Hによって位相差層21の形成領域の段差が見かけ上小さくなっている。本実施形態の場合、凹部Hの深さは位相差層21の厚みと略同一であり、位相差層21の表面と基板本体20Aの表面とは略面一となっている。凹部Hの深さは位相差層21の厚みと同一であることが望ましいが、異なっていても良い。凹部Hの深さと位相差層21の厚みとが異なっている場合には、基板本体20A及び位相差層21を覆って平坦化樹脂層等を形成し、位相差層21の形成領域の段差を解消することが望ましい。   A concave portion H is provided on the outer surface side (the side opposite to the liquid crystal layer 50) of the substrate body 20A. The recess H can be formed by partially etching the surface of the substrate body 20A using a hydrofluoric acid solution or the like. The recess H is formed corresponding to the formation region of the retardation layer 21. When the retardation layer 21 is formed for each sub-pixel, the concave portion H is also formed for each sub-pixel (in a dot shape), and when the retardation layer 21 is formed in a stripe shape across a plurality of sub-pixels. The recess H is also formed in a stripe shape (groove shape) across a plurality of sub-pixels. The retardation layer 21 is selectively formed in the region where the recess H is formed, and the step in the formation region of the retardation layer 21 is apparently reduced by the recess H. In the present embodiment, the depth of the recess H is substantially the same as the thickness of the retardation layer 21, and the surface of the retardation layer 21 and the surface of the substrate body 20A are substantially flush. The depth of the recess H is preferably the same as the thickness of the retardation layer 21, but may be different. When the depth of the recess H and the thickness of the retardation layer 21 are different, a planarizing resin layer or the like is formed so as to cover the substrate body 20A and the retardation layer 21, and a step in the formation region of the retardation layer 21 is formed. It is desirable to eliminate it.

基板本体20A及び位相差層21を覆って第2偏光板24が設けられている。第2偏光板24は位相差層21の全面を覆っており、位相差層21の保護膜として機能する。本実施形態の場合、基板本体20Aは、視差による表示品質の低下を防止するために薄い基板が用いられている。例えば、基板本体20Aの位相差層21が設けられた部分(反射表示領域R)の厚みW3は0.1mm以上0.2mm以下である。第2偏光板24は、基板本体20Aの機械的強度を補強する補強部材としても機能する。   A second polarizing plate 24 is provided so as to cover the substrate body 20 </ b> A and the retardation layer 21. The second polarizing plate 24 covers the entire surface of the retardation layer 21 and functions as a protective film for the retardation layer 21. In the case of the present embodiment, a thin substrate is used as the substrate body 20A in order to prevent deterioration in display quality due to parallax. For example, the thickness W3 of the portion (reflection display region R) where the retardation layer 21 of the substrate body 20A is provided is 0.1 mm or more and 0.2 mm or less. The second polarizing plate 24 also functions as a reinforcing member that reinforces the mechanical strength of the substrate body 20A.

なお、基板本体20Aとしては、予め薄い基板を購入しても良く、厚みが0.5mm程度の基板を購入した後、エッチング又は研磨によって全体の厚みを薄くしたものを用いても良い。基板をエッチング等する場合には、基板全体を薄くしても良いが、表示領域のみ又は位相差層21が形成される部分のみを選択的に薄くして、表示領域の外周部を厚くする(エッチングしない)ことも可能である。この場合、基板本体20Aの外周部の機械的強度が補強されるので、信頼性の高い液晶装置が提供できる。   As the substrate body 20A, a thin substrate may be purchased in advance, or a substrate whose thickness is reduced by etching or polishing after purchasing a substrate having a thickness of about 0.5 mm may be used. When the substrate is etched or the like, the entire substrate may be thinned, but only the display region or only the portion where the retardation layer 21 is formed is selectively thinned to thicken the outer periphery of the display region ( It is also possible not to etch). In this case, since the mechanical strength of the outer peripheral portion of the substrate body 20A is reinforced, a highly reliable liquid crystal device can be provided.

本実施形態の液晶装置3によれば、位相差層21が基板本体20Aの外面側に設けられているので、位相差層21の膜厚を考慮したセル厚の設計が不要となる。この場合、視差による表示品質の低下が懸念されるが、基板本体20Aの厚みが0.1mm以上0.2mm以下とされているため、そのような問題は殆ど生じない。   According to the liquid crystal device 3 of the present embodiment, since the retardation layer 21 is provided on the outer surface side of the substrate body 20A, it is not necessary to design a cell thickness in consideration of the thickness of the retardation layer 21. In this case, although there is a concern about the deterioration of display quality due to parallax, since the thickness of the substrate body 20A is set to 0.1 mm or more and 0.2 mm or less, such a problem hardly occurs.

[第4の実施の形態]
図4は、本発明の第4実施形態の液晶装置4の概略構成図である。液晶装置4の基本構成は第1実施形態の液晶装置1と同じである。異なるのは、基板本体20Aに凹部を設けずに、位相差層21の周囲に平坦化樹脂層25を設けた点である。したがって、第1実施形態の液晶装置1と共通の構成要素については同じ符号を付し、詳細な説明は省略する。
[Fourth Embodiment]
FIG. 4 is a schematic configuration diagram of a liquid crystal device 4 according to the fourth embodiment of the present invention. The basic configuration of the liquid crystal device 4 is the same as that of the liquid crystal device 1 of the first embodiment. The difference is that the planarizing resin layer 25 is provided around the retardation layer 21 without providing a recess in the substrate body 20A. Accordingly, the same components as those of the liquid crystal device 1 of the first embodiment are denoted by the same reference numerals, and detailed description thereof is omitted.

平坦化樹脂層25は位相差層21に隣接して設けられている。平坦化樹脂層25には、位相差層21の形成領域に対応する開口部25Hが設けられている。位相差層21がサブ画素毎に形成される場合には開口部25Hもサブ画素毎に(ドット状に)形成され、位相差層21が複数のサブ画素に跨ってストライプ状に形成される場合には開口部25Hも複数のサブ画素に跨ってストライプ状(溝状)に形成される。位相差層21は平坦化樹脂層25の開口部25Hに選択的に形成されており、平坦化樹脂層25によって位相差層21の形成領域の段差が見かけ上小さくなっている。本実施形態の場合、平坦化樹脂層25の厚みは位相差層21の厚みと略同一であり、位相差層21の表面と平坦化樹脂層25の表面とは略面一となっている。平坦化樹脂層25の厚みは位相差層21の厚みと同一であることが望ましいが、異なっていても良い。平坦化樹脂層25の厚みと位相差層21の厚みとが異なっている場合には、平坦化樹脂層25及び位相差層21を覆って第2の平坦化樹脂層等を形成し、位相差層21の形成領域の段差を解消することが望ましい。本実施形態の場合、平坦化樹脂層25及び位相差層21を覆ってカラーフィルタ層22が設けられており、位相差層21と平坦化樹脂層25との間に段差が形成されていても、カラーフィルタ層22によってその段差が平坦化されるようになっている。   The planarizing resin layer 25 is provided adjacent to the retardation layer 21. The planarizing resin layer 25 is provided with an opening 25 </ b> H corresponding to the formation region of the retardation layer 21. When the retardation layer 21 is formed for each sub-pixel, the opening 25H is also formed for each sub-pixel (in a dot shape), and the retardation layer 21 is formed in a stripe shape across a plurality of sub-pixels. The opening 25H is also formed in a stripe shape (groove shape) across a plurality of sub-pixels. The retardation layer 21 is selectively formed in the opening 25H of the planarization resin layer 25, and the planarization resin layer 25 apparently reduces the level difference in the formation region of the retardation layer 21. In the present embodiment, the thickness of the planarizing resin layer 25 is substantially the same as the thickness of the retardation layer 21, and the surface of the retardation layer 21 and the surface of the planarizing resin layer 25 are substantially flush. The thickness of the planarizing resin layer 25 is desirably the same as the thickness of the retardation layer 21, but may be different. When the thickness of the flattening resin layer 25 and the thickness of the retardation layer 21 are different, a second flattening resin layer or the like is formed so as to cover the flattening resin layer 25 and the retardation layer 21. It is desirable to eliminate the step in the region where the layer 21 is formed. In the case of this embodiment, the color filter layer 22 is provided so as to cover the planarizing resin layer 25 and the retardation layer 21, and a step is formed between the retardation layer 21 and the planarizing resin layer 25. The step is flattened by the color filter layer 22.

位相差層21及び平坦化樹脂層25は、例えば次の方法により形成される。まず、基板本体20A上に配向膜が形成され、その表面に重合性液晶材料である液晶モノマー又は液晶オリゴマーが塗布される。そして、反射表示領域Rの重合性液晶材料を硬化しそれ以外の重合性液晶材料をシンナー等の有機溶剤で除去することにより、反射表示領域Rに重合性液晶材料からなる位相差層21が形成される。続いて、基板本体20Aの全面にアクリル樹脂等の感光性樹脂が塗布され、該感光性樹脂を露光処理及び現像処理することにより、位相差層21の周囲に感光性樹脂からなる平坦化樹脂層25が形成される。平坦化樹脂層25は位相差層21の周囲に隙間なく形成されることが望ましいが、平坦化樹脂層25と位相差層21との間に若干隙間が形成されても良く、逆に平坦化樹脂層25が位相差層21の外周部に若干乗り上げるように形成されても良い。また、平坦化樹脂層25を形成した後、位相差層21を形成しても良い。   The retardation layer 21 and the planarizing resin layer 25 are formed by the following method, for example. First, an alignment film is formed on the substrate body 20A, and a liquid crystal monomer or a liquid crystal oligomer that is a polymerizable liquid crystal material is applied to the surface of the alignment film. Then, the polymerizable liquid crystal material in the reflective display region R is cured and the other polymerizable liquid crystal material is removed with an organic solvent such as thinner to form the retardation layer 21 made of the polymerizable liquid crystal material in the reflective display region R. Is done. Subsequently, a photosensitive resin such as an acrylic resin is applied to the entire surface of the substrate main body 20A, and the photosensitive resin is subjected to an exposure process and a development process, whereby a planarizing resin layer made of a photosensitive resin is formed around the retardation layer 21. 25 is formed. The planarizing resin layer 25 is desirably formed around the retardation layer 21 without a gap, but a slight gap may be formed between the planarizing resin layer 25 and the retardation layer 21. The resin layer 25 may be formed so as to run slightly on the outer peripheral portion of the retardation layer 21. Further, the retardation layer 21 may be formed after the planarization resin layer 25 is formed.

本実施形態の液晶装置4によれば、位相差層21の形成領域の段差が平坦化樹脂層25によって平坦化されるため、反射表示領域Rと透過表示領域Tとを含むサブ画素領域全体を略平坦な面とすることができる。このため、位相差層21の膜厚を考慮したセル厚の設計が不要になり、表示品質の低下が防止される。また、基板表面に大きな段差が形成されないので、対向電極21に断線が発生しにくくなり、信頼性に優れた液晶装置が提供できる。また、位相差層21を形成してから平坦化樹脂層25を形成するので、平坦化樹脂層25が位相差層21の有機溶媒によって劣化することがなく、さらに位相差層21は平坦化樹脂層25の現像液であるアルカリ現像液等には溶解しないので、平坦化樹脂層25を現像する際に位相差層21が劣化することもない。したがって、信頼性に優れた液晶装置が提供できる。さらに、位相差層21は平坦化樹脂層25の存在しない平坦な基板上でパターニングされるため、位相差層21の平坦性が良好なものとなり、光学特性に優れた液晶装置が提供できる。   According to the liquid crystal device 4 of the present embodiment, the step in the formation region of the retardation layer 21 is flattened by the flattening resin layer 25, so that the entire subpixel region including the reflective display region R and the transmissive display region T It can be a substantially flat surface. This eliminates the need for designing the cell thickness in consideration of the thickness of the retardation layer 21 and prevents display quality from being deteriorated. In addition, since a large step is not formed on the substrate surface, disconnection is unlikely to occur in the counter electrode 21, and a liquid crystal device with excellent reliability can be provided. Further, since the planarizing resin layer 25 is formed after the retardation layer 21 is formed, the planarizing resin layer 25 is not deteriorated by the organic solvent of the retardation layer 21, and the retardation layer 21 is further planarized. Since the layer 25 is not dissolved in an alkali developer or the like, the retardation layer 21 is not deteriorated when the planarizing resin layer 25 is developed. Therefore, a liquid crystal device with excellent reliability can be provided. Further, since the retardation layer 21 is patterned on a flat substrate without the planarizing resin layer 25, the retardation layer 21 has good flatness, and a liquid crystal device having excellent optical characteristics can be provided.

[第5の実施の形態]
図5は、本発明の第5実施形態の液晶装置5の概略構成図である。液晶装置5の基本構成は第4実施形態の液晶装置4と同じである。異なるのは、位相差層21の厚みが平坦化樹脂層25の厚みと異なる点である。したがって、第4実施形態の液晶装置4と共通の構成要素については同じ符号を付し、詳細な説明は省略する。
[Fifth Embodiment]
FIG. 5 is a schematic configuration diagram of a liquid crystal device 5 according to the fifth embodiment of the present invention. The basic configuration of the liquid crystal device 5 is the same as the liquid crystal device 4 of the fourth embodiment. The difference is that the thickness of the retardation layer 21 is different from the thickness of the planarizing resin layer 25. Accordingly, the same components as those of the liquid crystal device 4 of the fourth embodiment are denoted by the same reference numerals, and detailed description thereof is omitted.

位相差層21の厚みは平坦化樹脂層25の厚みよりも大きく形成されている。位相差層21は平坦化樹脂層25の表面からカラーフィルタ層22側に突出しており、位相差層21の形成領域に段差が形成されている。カラーフィルタ層22は平坦化樹脂層25及び位相差層21を覆って形成されており、カラーフィルタ層22によって上記段差が平坦化されている。カラーフィル層22は、位相差層21と重なる部分(反射表示領域R)の厚みW4が位相差層21と重ならない部分(透過表示領域T)の厚みW5よりも薄くなっており、サブ画素内で色度の異なる2種類の色材領域に区画されている。具体的には、透過表示領域Tの平面領域に対応して第1の色材領域が設けられ、反射表示領域Rの平面領域に対応して第2の色材領域が設けられており、第1の色材領域の色度が第2の色材領域の色度よりも大きくなっている。本実施形態の場合、第2の色材領域の厚みW4は第1の色材領域の厚みW5の約1/2となっている。なお、「カラーフィルタ層の厚み」とは、反射表示領域R及び透過表示領域Tにおいてカラーフィルタ層22の厚みが略一定になっている部分の厚みをいい、反射表示領域Rと透過表示領域Tとの境界部においてカラーフィルタ層の厚みが大きく変動している部分は含まない。   The thickness of the retardation layer 21 is formed larger than the thickness of the planarizing resin layer 25. The retardation layer 21 protrudes from the surface of the planarizing resin layer 25 toward the color filter layer 22, and a step is formed in the formation region of the retardation layer 21. The color filter layer 22 is formed so as to cover the planarizing resin layer 25 and the retardation layer 21, and the step is planarized by the color filter layer 22. In the color fill layer 22, the thickness W4 of the portion overlapping the retardation layer 21 (reflection display region R) is thinner than the thickness W5 of the portion not overlapping with the retardation layer 21 (transmission display region T). And divided into two types of color material regions having different chromaticities. Specifically, a first color material region is provided corresponding to the planar region of the transmissive display region T, and a second color material region is provided corresponding to the planar region of the reflective display region R. The chromaticity of one color material region is larger than the chromaticity of the second color material region. In the case of this embodiment, the thickness W4 of the second color material region is about ½ of the thickness W5 of the first color material region. The “thickness of the color filter layer” refers to the thickness of the portion where the thickness of the color filter layer 22 is substantially constant in the reflective display region R and the transmissive display region T, and the reflective display region R and the transmissive display region T. The portion where the thickness of the color filter layer greatly fluctuates is not included in the boundary portion between.

本実施形態の液晶装置2によれば、平坦化樹脂層25から突出した部分の位相差層21による段差がカラーフィルタ層22によって平坦化されているため、反射表示領域Rと透過表示領域Tとを含むサブ画素領域全体を略平坦な面とすることができる。このため、位相差層21の膜厚を考慮したセル厚の設計が不要になり、表示品質の低下が防止される。また、基板表面に大きな段差が形成されないので、対向電極23に断線が発生しにくくなり、信頼性に優れた液晶装置が提供できる。また、反射表示領域Rのカラーフィルタ層22の厚みW4が透過表示領域Tのカラーフィルタ層22の厚みW5よりも薄くなっているため、カラーフィルタを表示光が1回のみ透過する透過表示領域Tと、2回透過する反射表示領域Rとの間で表示光の色度が異なるのを防止でき、反射表示と透過表示の見映えを揃えて表示品質を向上させることができる。   According to the liquid crystal device 2 of the present embodiment, the step due to the retardation layer 21 in the portion protruding from the planarization resin layer 25 is planarized by the color filter layer 22, and thus the reflective display region R and the transmissive display region T The entire sub-pixel region including can be made a substantially flat surface. This eliminates the need for designing the cell thickness in consideration of the thickness of the retardation layer 21 and prevents display quality from being deteriorated. In addition, since a large step is not formed on the substrate surface, disconnection hardly occurs in the counter electrode 23, and a liquid crystal device having excellent reliability can be provided. Further, since the thickness W4 of the color filter layer 22 in the reflective display region R is thinner than the thickness W5 of the color filter layer 22 in the transmissive display region T, the transmissive display region T in which the display light is transmitted only once through the color filter. In addition, it is possible to prevent the chromaticity of the display light from being different between the reflective display region R that is transmitted twice, and to improve the display quality by aligning the appearance of the reflective display and the transmissive display.

[第6の実施の形態]
図6は、本発明の第6実施形態の液晶装置6の概略構成図である。液晶装置6の基本構成は第4実施形態の液晶装置4と同じである。異なるのは、平坦化樹脂層26が位相差層21を覆って基板本体20Aの表面を平坦化している点である。したがって、第4実施形態の液晶装置4と共通の構成要素については同じ符号を付し、詳細な説明は省略する。
[Sixth Embodiment]
FIG. 6 is a schematic configuration diagram of a liquid crystal device 6 according to the sixth embodiment of the present invention. The basic configuration of the liquid crystal device 6 is the same as the liquid crystal device 4 of the fourth embodiment. The difference is that the planarizing resin layer 26 covers the retardation layer 21 and planarizes the surface of the substrate body 20A. Accordingly, the same components as those of the liquid crystal device 4 of the fourth embodiment are denoted by the same reference numerals, and detailed description thereof is omitted.

平坦化樹脂層26は位相差層21を覆って表示領域全面に設けられている。本実施形態の場合、平坦化樹脂層26の表面は表示領域全体で略平坦な面となっているが、平坦化樹脂層26の表面は完全に平坦である必要はなく、少なくとも位相差層21の形成領域の段差が低減される程度の平坦性を有していれば良い。位相差層21の形成領域において若干の段差が残る場合には、平坦化樹脂層26を覆って第2の平坦化樹脂層等を形成し、位相差層21の形成領域の段差を解消することが望ましい。本実施形態の場合、平坦化樹脂層26を覆ってカラーフィルタ層22が設けられており、位相差層21の形成領域に段差が形成されていても、カラーフィルタ層22によってその段差が平坦化されるようになっている。   The planarizing resin layer 26 is provided on the entire display area so as to cover the retardation layer 21. In the present embodiment, the surface of the flattening resin layer 26 is a substantially flat surface over the entire display area, but the surface of the flattening resin layer 26 does not have to be completely flat, and at least the retardation layer 21. It suffices to have flatness enough to reduce the level difference in the formation region. When a slight level difference remains in the formation region of the retardation layer 21, a second planarization resin layer or the like is formed so as to cover the planarization resin layer 26 to eliminate the level difference in the formation region of the retardation layer 21. Is desirable. In the present embodiment, the color filter layer 22 is provided so as to cover the flattening resin layer 26, and even if a step is formed in the formation region of the retardation layer 21, the step is flattened by the color filter layer 22. It has come to be.

本実施形態の液晶装置6によれば、位相差層21の形成領域の段差が平坦化樹脂層26によって平坦化されるため、反射表示領域Rと透過表示領域Tとを含むサブ画素領域全体を略平坦な面とすることができる。このため、位相差層21の膜厚を考慮したセル厚の設計が不要になり、表示品質の低下が防止される。また、基板表面に大きな段差が形成されないので、対向電極21に断線が発生しにくくなり、信頼性に優れた液晶装置が提供できる。   According to the liquid crystal device 6 of the present embodiment, the step in the formation region of the retardation layer 21 is flattened by the flattening resin layer 26, so that the entire sub-pixel region including the reflective display region R and the transmissive display region T It can be a substantially flat surface. This eliminates the need for designing the cell thickness in consideration of the thickness of the retardation layer 21 and prevents display quality from being deteriorated. In addition, since a large step is not formed on the substrate surface, disconnection is unlikely to occur in the counter electrode 21, and a liquid crystal device with excellent reliability can be provided.

[第7の実施の形態]
図7は、本発明の第7実施形態の液晶装置7の概略構成図である。液晶装置7の基本構成は第6実施形態の液晶装置6と同じである。異なるのは、平坦化樹脂層26を省略し、その機能をカラーフィルタ層22が担っている点である。したがって、第6実施形態の液晶装置6と共通の構成要素については同じ符号を付し、詳細な説明は省略する。
[Seventh Embodiment]
FIG. 7 is a schematic configuration diagram of a liquid crystal device 7 according to a seventh embodiment of the present invention. The basic configuration of the liquid crystal device 7 is the same as the liquid crystal device 6 of the sixth embodiment. The difference is that the planarizing resin layer 26 is omitted and the color filter layer 22 has the function. Accordingly, the same components as those of the liquid crystal device 6 of the sixth embodiment are denoted by the same reference numerals, and detailed description thereof is omitted.

カラーフィルタ層22は位相差層21を覆って位相差層21の形成領域の段差を平坦化している。本実施形態の場合、カラーフィルタ層22の表面は表示領域全体で略平坦な面となっているが、カラーフィルタ層22の表面は完全に平坦である必要はなく、少なくとも位相差層21の形成領域の段差が低減される程度の平坦性を有していれば良い。位相差層21の形成領域において若干の段差が残る場合には、カラーフィルタ層22を覆って第2の平坦化樹脂層等を形成し、位相差層21の形成領域の段差を解消することが望ましい。第2の平坦化樹脂層としてはオーバーコート層等が挙げられる。   The color filter layer 22 covers the retardation layer 21 and flattens the step in the formation region of the retardation layer 21. In the present embodiment, the surface of the color filter layer 22 is a substantially flat surface over the entire display region, but the surface of the color filter layer 22 does not have to be completely flat, and at least the phase difference layer 21 is formed. What is necessary is just to have flatness to such an extent that the level | step difference of an area | region is reduced. When a slight step remains in the formation region of the retardation layer 21, the second planarizing resin layer or the like is formed so as to cover the color filter layer 22, and the step in the formation region of the retardation layer 21 can be eliminated. desirable. An example of the second planarizing resin layer is an overcoat layer.

カラーフィル層22は、位相差層21と重なる部分(反射表示領域R)の厚みW6が位相差層21と重ならない部分(透過表示領域T)の厚みW7よりも薄くなっており、サブ画素内で色度の異なる2種類の色材領域に区画されている。具体的には、透過表示領域Tの平面領域に対応して第1の色材領域が設けられ、反射表示領域Rの平面領域に対応して第2の色材領域が設けられており、第1の色材領域の色度が第2の色材領域の色度よりも大きくなっている。第2の色材領域の厚みW6は第1の色材領域の厚みW7の約1/2となっていることが望ましいが、1/2とは若干異なっていても良い。   In the color fill layer 22, the thickness W6 of the portion that overlaps the retardation layer 21 (reflection display region R) is thinner than the thickness W7 of the portion that does not overlap the retardation layer 21 (transmission display region T). And divided into two types of color material regions having different chromaticities. Specifically, a first color material region is provided corresponding to the planar region of the transmissive display region T, and a second color material region is provided corresponding to the planar region of the reflective display region R. The chromaticity of one color material region is larger than the chromaticity of the second color material region. The thickness W6 of the second color material region is preferably about ½ of the thickness W7 of the first color material region, but may be slightly different from ½.

本実施形態の液晶装置7によれば、カラーフィルタ層22が平坦化樹脂層の機能を兼ねているため、その分製造コストが低減できる。また、反射表示領域Rのカラーフィルタ層22の厚みW6が透過表示領域Tのカラーフィルタ層22の厚みW7よりも小さいため、カラーフィルタを表示光が1回のみ透過する透過表示領域Tと、2回透過する反射表示領域Rとの間で表示光の色度が異なるのを防止でき、反射表示と透過表示の見映えを揃えて表示品質を向上させることができる。   According to the liquid crystal device 7 of the present embodiment, since the color filter layer 22 also functions as a planarizing resin layer, the manufacturing cost can be reduced accordingly. Further, since the thickness W6 of the color filter layer 22 in the reflective display region R is smaller than the thickness W7 of the color filter layer 22 in the transmissive display region T, the transmissive display region T in which the display light is transmitted only once through the color filter, and 2 It is possible to prevent the chromaticity of the display light from being different from the reflective display region R that is transmitted twice, and to improve the display quality by aligning the appearance of the reflective display and the transmissive display.

[第8の実施の形態]
図8は、本発明の第8実施形態の液晶装置8の概略構成図である。液晶装置8の基本構成は第4実施形態の液晶装置4と同じである。異なるのは、位相差層21及び平坦化樹脂層25が基板本体20Aの外面側(液晶層50とは反対側)に設けられている点である。したがって、第4実施形態の液晶装置4と共通の構成要素については同じ符号を付し、詳細な説明は省略する。
[Eighth Embodiment]
FIG. 8 is a schematic configuration diagram of a liquid crystal device 8 according to an eighth embodiment of the present invention. The basic configuration of the liquid crystal device 8 is the same as the liquid crystal device 4 of the fourth embodiment. The difference is that the retardation layer 21 and the planarizing resin layer 25 are provided on the outer surface side (the side opposite to the liquid crystal layer 50) of the substrate body 20A. Accordingly, the same components as those of the liquid crystal device 4 of the fourth embodiment are denoted by the same reference numerals, and detailed description thereof is omitted.

基板本体20Aの外面側(液晶層50とは反対側)には位相差層21及び平坦化樹脂層25が設けられている。平坦化樹脂層25には、位相差層21の形成領域に対応する開口部25Hが設けられている。位相差層21がサブ画素毎に形成される場合には開口部25Hもサブ画素毎に(ドット状に)形成され、位相差層21が複数のサブ画素に跨ってストライプ状に形成される場合には開口部25Hも複数のサブ画素に跨ってストライプ状(溝状)に形成される。位相差層21は平坦化樹脂層25の開口部25Hに選択的に形成されており、平坦化樹脂層25によって位相差層21の形成領域の段差が見かけ上小さくなっている。本実施形態の場合、平坦化樹脂層25の厚みは位相差層21の厚みと略同一であり、位相差層21の表面と平坦化樹脂層25の表面とは略面一となっている。平坦化樹脂層25の厚みは位相差層21の厚みと同一であることが望ましいが、異なっていても良い。平坦化樹脂層25の厚みと位相差層21の厚みとが異なっている場合には、平坦化樹脂層25及び位相差層21を覆って第2の平坦化樹脂層等を形成し、位相差層21の形成領域の段差を解消することが望ましい。   A retardation layer 21 and a planarizing resin layer 25 are provided on the outer surface side (the side opposite to the liquid crystal layer 50) of the substrate body 20A. The planarizing resin layer 25 is provided with an opening 25 </ b> H corresponding to the formation region of the retardation layer 21. When the retardation layer 21 is formed for each sub-pixel, the opening 25H is also formed for each sub-pixel (in a dot shape), and the retardation layer 21 is formed in a stripe shape across a plurality of sub-pixels. The opening 25H is also formed in a stripe shape (groove shape) across a plurality of sub-pixels. The retardation layer 21 is selectively formed in the opening 25H of the planarization resin layer 25, and the planarization resin layer 25 apparently reduces the level difference in the formation region of the retardation layer 21. In the present embodiment, the thickness of the planarizing resin layer 25 is substantially the same as the thickness of the retardation layer 21, and the surface of the retardation layer 21 and the surface of the planarizing resin layer 25 are substantially flush. The thickness of the planarizing resin layer 25 is desirably the same as the thickness of the retardation layer 21, but may be different. When the thickness of the flattening resin layer 25 and the thickness of the retardation layer 21 are different, a second flattening resin layer or the like is formed so as to cover the flattening resin layer 25 and the retardation layer 21. It is desirable to eliminate the step in the region where the layer 21 is formed.

位相差層21及び平坦化樹脂層25を覆って第2偏光板24が設けられている。第2偏光板24は位相差層21の全面を覆っており、位相差層21の保護膜として機能する。本実施形態の場合、基板本体20Aは、視差による表示品質の低下を防止するために薄い基板が用いられている。例えば、基板本体20Aの位相差層21が設けられた部分(反射表示領域R)の厚みW8は0.1mm以上0.2mm以下である。第2偏光板24は、基板本体20Aの機械的強度を補強する補強部材としても機能する。   A second polarizing plate 24 is provided so as to cover the retardation layer 21 and the planarizing resin layer 25. The second polarizing plate 24 covers the entire surface of the retardation layer 21 and functions as a protective film for the retardation layer 21. In the case of the present embodiment, a thin substrate is used as the substrate body 20A in order to prevent deterioration in display quality due to parallax. For example, the thickness W8 of the portion (reflection display region R) where the retardation layer 21 of the substrate body 20A is provided is not less than 0.1 mm and not more than 0.2 mm. The second polarizing plate 24 also functions as a reinforcing member that reinforces the mechanical strength of the substrate body 20A.

なお、基板本体20Aとしては、予め薄い基板を購入しても良く、厚みが0.5mm程度の基板を購入した後、エッチング又は研磨によって全体の厚みを薄くしたものを用いても良い。基板をエッチング等する場合には、基板全体を薄くしても良いが、表示領域のみ又は位相差層21が形成される部分のみを選択的に薄くして、表示領域の外周部を厚くする(エッチングしない)ことも可能である。この場合、基板本体20Aの外周部の機械的強度が補強されるので、信頼性の高い液晶装置が提供できる。   As the substrate body 20A, a thin substrate may be purchased in advance, or a substrate whose thickness is reduced by etching or polishing after purchasing a substrate having a thickness of about 0.5 mm may be used. When the substrate is etched or the like, the entire substrate may be thinned, but only the display region or only the portion where the retardation layer 21 is formed is selectively thinned to thicken the outer periphery of the display region ( It is also possible not to etch). In this case, since the mechanical strength of the outer peripheral portion of the substrate body 20A is reinforced, a highly reliable liquid crystal device can be provided.

本実施形態の液晶装置8によれば、位相差層21が基板本体20Aの外面側に設けられているので、位相差層21の膜厚を考慮したセル厚の設計が不要となる。この場合、視差による表示品質の低下が懸念されるが、基板本体20Aの厚みが0.1mm以上0.2mm以下とされているため、そのような問題は殆ど生じない。   According to the liquid crystal device 8 of the present embodiment, since the retardation layer 21 is provided on the outer surface side of the substrate body 20A, it is not necessary to design a cell thickness in consideration of the thickness of the retardation layer 21. In this case, although there is a concern about the deterioration of display quality due to parallax, since the thickness of the substrate body 20A is set to 0.1 mm or more and 0.2 mm or less, such a problem hardly occurs.

[電子機器]
図9は、本発明の液晶装置を備えた電子機器の一実施形態である携帯電話1300の概略構成図である。携帯電話1300は、上記実施形態の液晶装置を小サイズの表示部1301として備え、複数の操作ボタン1302、受話口1303、及び送話口1304を備えて構成されている。これにより、表示品質に優れた携帯電話1300が提供される。
[Electronics]
FIG. 9 is a schematic configuration diagram of a mobile phone 1300 which is an embodiment of an electronic apparatus including the liquid crystal device of the present invention. A cellular phone 1300 includes the liquid crystal device according to the above-described embodiment as a small-sized display unit 1301 and includes a plurality of operation buttons 1302, an earpiece 1303, and a mouthpiece 1304. Thereby, the mobile phone 1300 with excellent display quality is provided.

なお、本発明の液晶装置は、携帯電話に限らず、電子ブック、パーソナルコンピュータ、ディジタルスチルカメラ、液晶テレビ、ビューファインダ型あるいはモニタ直視型のビデオテープレコーダ、カーナビゲーション装置、ページャ、電子手帳、電卓、ワードプロセッサ、ワークステーション、テレビ電話、POS端末、タッチパネルを備えた機器等々の画像表示手段として好適に用いることができ、いずれの電子機器においても、高品質な表示が可能になっている。   The liquid crystal device of the present invention is not limited to a mobile phone, but is an electronic book, a personal computer, a digital still camera, a liquid crystal television, a viewfinder type or a monitor direct view type video tape recorder, a car navigation device, a pager, an electronic notebook, a calculator. It can be suitably used as image display means for devices such as word processors, workstations, videophones, POS terminals, touch panels, etc., and any electronic device can display high quality.

第1実施形態の液晶装置の概略構成図である。It is a schematic block diagram of the liquid crystal device of 1st Embodiment. 第2実施形態の液晶装置の概略構成図である。It is a schematic block diagram of the liquid crystal device of 2nd Embodiment. 第3実施形態の液晶装置の概略構成図である。It is a schematic block diagram of the liquid crystal device of 3rd Embodiment. 第4実施形態の液晶装置の概略構成図である。It is a schematic block diagram of the liquid crystal device of 4th Embodiment. 第5実施形態の液晶装置の概略構成図である。It is a schematic block diagram of the liquid crystal device of 5th Embodiment. 第6実施形態の液晶装置の概略構成図である。It is a schematic block diagram of the liquid crystal device of 6th Embodiment. 第7実施形態の液晶装置の概略構成図である。It is a schematic block diagram of the liquid crystal device of 7th Embodiment. 第8実施形態の液晶装置の概略構成図である。It is a schematic block diagram of the liquid crystal device of 8th Embodiment. 電子機器の一実施形態である携帯電話の概略構成図である。It is a schematic block diagram of the mobile telephone which is one Embodiment of an electronic device.

符号の説明Explanation of symbols

1〜8…液晶装置、10…第1基板、20…第2基板、21…位相差層、22…カラーフィルタ層、24…偏光板、25,26…平坦化樹脂層、50…液晶層、1300…携帯電話(電子機器)、H…凹部、R…反射表示領域、T…透過表示領域 DESCRIPTION OF SYMBOLS 1-8 ... Liquid crystal device, 10 ... 1st board | substrate, 20 ... 2nd board | substrate, 21 ... Retardation layer, 22 ... Color filter layer, 24 ... Polarizing plate, 25, 26 ... Flattening resin layer, 50 ... Liquid crystal layer, 1300: Cellular phone (electronic device), H: recessed portion, R: reflective display area, T: transmissive display area

Claims (19)

一対の基板と、
前記一対の基板間に挟持された液晶層と、
前記一対の基板のうちの一方の基板上に設けられた位相差層と、を備え、
前記一方の基板の前記位相差層の形成領域に凹部が設けられ、
前記凹部に前記位相差層が設置されていることを特徴とする液晶装置。
A pair of substrates;
A liquid crystal layer sandwiched between the pair of substrates;
A retardation layer provided on one of the pair of substrates, and
A concave portion is provided in the formation region of the retardation layer of the one substrate,
The liquid crystal device, wherein the retardation layer is disposed in the recess.
前記凹部の深さは前記位相差層の厚みと略同一であることを特徴とする請求項1に記載の液晶装置。   The liquid crystal device according to claim 1, wherein a depth of the concave portion is substantially the same as a thickness of the retardation layer. 前記位相差層を覆ってカラーフィルタ層が設けられ、
前記位相差層の厚みが前記凹部の深さと異なり、
前記位相差層の形成領域の段差が前記カラーフィルタ層によって平坦化されていることを特徴とする請求項1に記載の液晶装置。
A color filter layer is provided to cover the retardation layer,
The thickness of the retardation layer is different from the depth of the recess,
The liquid crystal device according to claim 1, wherein a step in a formation region of the retardation layer is flattened by the color filter layer.
前記位相差層の厚みが前記凹部の深さよりも大きく、
前記凹部から突出した部分の前記位相差層を覆ってカラーフィルタ層が設けられ、
前記位相差層と重なる部分の前記カラーフィルタ層の厚みが前記位相差層と重ならない部分の前記カラーフィルタ層の厚みよりも薄くなっていることを特徴とする請求項1に記載の液晶装置。
The thickness of the retardation layer is larger than the depth of the recess,
A color filter layer is provided to cover the retardation layer of the portion protruding from the recess,
2. The liquid crystal device according to claim 1, wherein a thickness of the color filter layer in a portion overlapping with the retardation layer is thinner than a thickness of the color filter layer in a portion not overlapping with the retardation layer.
前記位相差層と重なる部分の前記カラーフィルタ層の厚みが前記位相差層と重ならない部分の前記カラーフィルタ層の厚みの約1/2となっていることを特徴とする請求項4に記載の液晶装置。   The thickness of the color filter layer in a portion overlapping with the retardation layer is approximately ½ of the thickness of the color filter layer in a portion not overlapping with the retardation layer. Liquid crystal device. 前記位相差層は前記一方の基板の前記液晶層側の面に設けられていることを特徴とする請求項1〜5のいずれか1項に記載の液晶装置。   The liquid crystal device according to claim 1, wherein the retardation layer is provided on a surface of the one substrate on the liquid crystal layer side. 前記位相差層は前記一方の基板の前記液晶層とは反対側の面に設けられ、
前記位相差層が設けられた部分の前記一方の基板の厚みが0.1mm以上0.2mm以下であることを特徴とする請求項1又は2に記載の液晶装置。
The retardation layer is provided on a surface of the one substrate opposite to the liquid crystal layer,
3. The liquid crystal device according to claim 1, wherein a thickness of the one substrate in a portion where the retardation layer is provided is 0.1 mm or more and 0.2 mm or less.
前記一方の基板の前記液晶層とは反対側の面に前記位相差層を覆う偏光板が設けられていることを特徴とする請求項7に記載の液晶装置。   The liquid crystal device according to claim 7, wherein a polarizing plate that covers the retardation layer is provided on a surface of the one substrate opposite to the liquid crystal layer. 一対の基板と、
前記一対の基板間に挟持された液晶層と、
前記一対の基板のうちの一方の基板上に設けられた位相差層と、
前記一方の基板上において前記位相差層の周囲を覆う平坦化樹脂層と、を備えたことを特徴とする液晶装置。
A pair of substrates;
A liquid crystal layer sandwiched between the pair of substrates;
A retardation layer provided on one of the pair of substrates;
A liquid crystal device comprising: a planarizing resin layer that covers the periphery of the retardation layer on the one substrate.
前記平坦化樹脂層の厚みと前記位相差層の厚みとが略同一であることを特徴とする請求項9に記載の液晶装置。   The liquid crystal device according to claim 9, wherein a thickness of the planarizing resin layer and a thickness of the retardation layer are substantially the same. 前記位相差層及び前記平坦化樹脂層を覆ってカラーフィルタ層が設けられ、
前記位相差層の厚みが前記平坦化樹脂層の厚みと異なり、
前記位相差層と前記平坦化樹脂層との境界部の段差が前記カラーフィルタ層によって平坦化されていることを特徴とする請求項9に記載の液晶装置。
A color filter layer is provided to cover the retardation layer and the planarizing resin layer,
The thickness of the retardation layer is different from the thickness of the planarizing resin layer,
The liquid crystal device according to claim 9, wherein a step at a boundary portion between the retardation layer and the planarizing resin layer is planarized by the color filter layer.
前記位相差層の厚みが前記平坦化樹脂層の厚みよりも大きく、
前記平坦化樹脂層から突出した部分の前記位相差層を覆ってカラーフィルタ層が設けられ、
前記位相差層と重なる部分の前記カラーフィルタ層の厚みが前記位相差層と重ならない部分の前記カラーフィルタ層の厚みよりも薄くなっていることを特徴とする請求項9に記載の液晶装置。
The thickness of the retardation layer is larger than the thickness of the planarizing resin layer,
A color filter layer is provided to cover the retardation layer in a portion protruding from the planarizing resin layer,
10. The liquid crystal device according to claim 9, wherein a thickness of the color filter layer in a portion overlapping with the retardation layer is thinner than a thickness of the color filter layer in a portion not overlapping with the retardation layer.
前記位相差層と重なる部分の前記カラーフィルタ層の厚みが前記位相差層と重ならない部分の前記カラーフィルタ層の厚みの約1/2となっていることを特徴とする請求項12に記載の液晶装置。   The thickness of the color filter layer in a portion overlapping with the retardation layer is about ½ of the thickness of the color filter layer in a portion not overlapping with the retardation layer. Liquid crystal device. 前記位相差層は前記一方の基板の前記液晶層側の面に設けられていることを特徴とする請求項9〜13のいずれか1項に記載の液晶装置。   The liquid crystal device according to claim 9, wherein the retardation layer is provided on a surface of the one substrate on the liquid crystal layer side. 前記位相差層は前記一方の基板の前記液晶層とは反対側の面に設けられ、
前記位相差層が設けられた部分の前記一方の基板の厚みが0.1mm以上0.2mm以下であることを特徴とする請求項9又は10に記載の液晶装置。
The retardation layer is provided on a surface of the one substrate opposite to the liquid crystal layer,
11. The liquid crystal device according to claim 9, wherein a thickness of the one substrate in a portion where the retardation layer is provided is 0.1 mm or more and 0.2 mm or less.
前記一方の基板の前記液晶層とは反対側の面に前記位相差層を覆う偏光板が設けられていることを特徴とする請求項15に記載の液晶装置。   The liquid crystal device according to claim 15, wherein a polarizing plate that covers the retardation layer is provided on a surface of the one substrate opposite to the liquid crystal layer. 一対の基板と、
前記一対の基板間に挟持された液晶層と、
前記一対の基板のうちの一方の基板上に設けられた位相差層と、
前記位相差層を覆う平坦化樹脂層と、を備えたことを特徴とする液晶装置。
A pair of substrates;
A liquid crystal layer sandwiched between the pair of substrates;
A retardation layer provided on one of the pair of substrates;
A liquid crystal device comprising: a planarizing resin layer that covers the retardation layer.
一対の基板間に液晶層が挟持されてなる液晶装置の製造方法であって、
前記一対の基板のうちの一方の基板上に液晶材料を塗布する工程と、
前記液晶材料の一部を硬化し残りを有機溶剤で除去することにより、前記一方の基板の所定の領域に前記液晶材料からなる位相差層を形成する工程と、
前記一方の基板上に感光性樹脂を塗布し前記感光性樹脂を露光処理及び現像処理することにより、前記位相差層の周囲に前記感光性樹脂からなる平坦化樹脂層を形成する工程と、を備えたことを特徴とする液晶装置の製造方法。
A method of manufacturing a liquid crystal device in which a liquid crystal layer is sandwiched between a pair of substrates,
Applying a liquid crystal material on one of the pair of substrates;
Forming a retardation layer made of the liquid crystal material in a predetermined region of the one substrate by curing a part of the liquid crystal material and removing the remainder with an organic solvent;
Forming a planarizing resin layer made of the photosensitive resin around the retardation layer by applying a photosensitive resin on the one substrate and exposing and developing the photosensitive resin; A method of manufacturing a liquid crystal device, comprising:
請求項1〜17のいずれか1項に記載の液晶装置を備えたことを特徴とする電子機器。   An electronic apparatus comprising the liquid crystal device according to claim 1.
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