JP2008255450A - 表面処理方法及び表面処理装置 - Google Patents
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Abstract
【解決手段】電子ビームを被処理物の表面に照射して被処理物Wの表面に凹凸を形成する表面処理装置1において、被処理物Wの表面に電子ビームを照射する処理対象領域、処理対象領域において電子ビームを照射する照射点及び被処理物の表面の形状情報並びに電子ビームのビーム電流または収束電流の設定値を記憶する記憶手段19と、記憶手段19に記憶されている処理対象領域、照射点及び形状情報並びに設定値に基づいて照射点を無作為に選択して電子ビーム照射するように制御する制御装置9とを備えるものとする。
【選択図】図1
Description
上記被処理物の表面処理を行う処理対象領域と、上記処理対象領域内に上記電子ビームを照射する照射点の位置とを制御して、上記照射点に上記電子ビームを照射するものである。
上記被処理物の表面に上記電子ビームを照射する処理対象領域、上記処理対象領域において上記電子ビームを照射する照射点及び上記被処理物の表面の形状情報並びに上記電子ビームのビーム電流及び収束電流の設定値を記憶する記憶手段と、
上記記憶手段に記憶されている上記処理対象領域、照射点及び形状情報並びに設定値に基づいて上記照射点を無作為に選択して上記電子ビーム照射するように制御する制御装置と、
を備えるものである。
上記被処理物の表面処理を行う処理対象領域と、上記処理対象領域内に上記電子ビームを照射する照射点の位置とを制御して、上記照射点に上記電子ビームを照射するものであるので、マスク形成及びマスク除去の工程が不要にできるという効果がある。
上記被処理物の表面に上記電子ビームを照射する処理対象領域及び上記処理対象領域において上記電子ビームを照射する照射点並びに上記電子ビームのビーム電流または収束電流の設定値を記憶する記憶手段と、
上記記憶手段に記憶されている上記処理対象領域及び照射点並びに設定値に基づいて上記照射点を無作為に選択して上記電子ビーム照射するように制御する制御装置と、
を備えるものであるので、マスク形成及びマスク除去の工程が不要にできるという効果がある。
図1は、この発明に係る表面処理装置の実施の形態1の構成図である。この実施の形態1の電子ビーム表面処理装置1は、鋼等の鉄系金属、あるいはアルミニウム合金等の非鉄金属からなる被処理物Wの表面処理を行うものである。表面処理装置1は、真空チャンバ2内に電子ビーム照射手段3とXYテーブル4とが配置されている。また、真空チャンバ2内の外部には、真空排気装置5、ビーム収束装置6、ビーム偏向装置7、電源装置8及び制御装置9が設けられている。
上記実施の形態1では、処理対象領域内の粗さ分布を均一とした。この実施の形態2では、被処理物Wの処理対象領域内で任意の粗さ分布を形成させるために、被処理物情報メモリ19に記憶させる処理対象領域を規定する領域情報の電子ビームを照射する記憶点、ビーム電流、収束電流及びドットピッチの値を下記表1に示すように設定する。
Ib=AY+B…(式1)
Ib:ビーム電流
AおよびB:定数
Y:電子ビーム照射位置におけるY座標
If=CY+D…(式2)
If:収束電流
CおよびD:定数
但しY座標が最大値で、IfがジャストフォーカスになるようにC及びDを設定する。
Ib=f1(X、Y)…(式3)
f1(X、Y):X、Y座標を変数とするビーム電流の関数
If=f2(X、Y)…(式4)
f2(X、Y):X、Y座標を変数とする収束電流の関数
13 収束レンズ、14 偏向レンズ、15 ビーム収束手段、16 ビーム偏向手段、30 電子ビーム、31 記憶点、32 加工点、40 加工穴、41 ***部、
W 被処理物。
Claims (6)
- 電子ビームを被処理物の表面に照射して上記被処理物の表面に凹凸を形成する表面処理方法において、
上記被処理物の表面処理を行う処理対象領域と、上記処理対象領域内に上記電子ビームを照射する照射点の位置とを制御して、上記照射点に上記電子ビームを照射することを特徴とする表面処理方法。 - 上記照射点が縦横に並び、上記縦横に並ぶ照射点の順番に従わず、無作為に上記照射点を選択して上記電子ビームを照射することを特徴とする請求項1記載の表面処理方法。
- 上記被処理物の処理対象領域内において、上記凹凸の大きさを変えて密度分布を不均一にすることを特徴とする請求項1記載の表面処理方法。
- 上記照射点における電子ビームのビーム電流量を変えることを特徴とする請求項1記載の表面処理方法。
- 上記照射点における電子ビームの照射を、ジャストフォーカス、デフォーカスまたはジャストフォーカスとデフォーカスとの組み合わせとすることを特徴とする請求項1記載の表面処理方法。
- 電子ビームを被処理物の表面に照射して上記被処理物の表面に凹凸を形成する表面処理装置において、
上記被処理物の表面に上記電子ビームを照射する処理対象領域、上記処理対象領域において上記電子ビームを照射する照射点及び上記被処理物の表面の形状情報並びに上記電子ビームのビーム電流及び収束電流の設定値を記憶する記憶手段と、
上記記憶手段に記憶されている上記処理対象領域、照射点及び形状情報並びに設定値に基づいて上記照射点を無作為に選択して上記電子ビーム照射するように制御する制御装置と、
を備えることを特徴とする表面処理装置。
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JP2013111612A (ja) * | 2011-11-29 | 2013-06-10 | Mitsubishi Electric Corp | 電子ビーム合金化加工方法 |
JP2013154356A (ja) * | 2012-01-27 | 2013-08-15 | Mitsubishi Electric Corp | 電子ビームによる梨地加工方法 |
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JP2001047109A (ja) * | 1999-07-30 | 2001-02-20 | Nisshin Steel Co Ltd | ダル加工された冷間圧延用ワークロールおよびその製造方法 |
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JP2006172774A (ja) * | 2004-12-14 | 2006-06-29 | Ricoh Co Ltd | 電子線描画装置 |
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