JP2008233270A - Method for manufacturing liquid crystal film, and rubbing system used therefor - Google Patents

Method for manufacturing liquid crystal film, and rubbing system used therefor Download PDF

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稔和 清原
Motonori Nasu
元紀 那須
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孝文 宮原
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Abstract

<P>PROBLEM TO BE SOLVED: To provide a method for manufacturing a liquid crystal film capable of sufficiently preventing the adverse influence on the liquid crystal film due to dust during rubbing treatment without degrading production efficiency and to provide a rubbing system used in the manufacturing of the liquid crystal film. <P>SOLUTION: The method includes a rubbing step of subjecting the surface of an alignment substrate film 20 to a rubbing treatment, and a liquid crystal layer forming step of obtaining a liquid crystal layer 23 on the alignment substrate film 20 by applying a liquid crystal polymer on the alignment substrate film 20 subjected to the rubbing treatment. The rubbing step includes a dust ejection step of bringing a pressing member 5 into contact with a rubbing cloth 2 of a rubbing roll 1 having the rubbing cloth 2 on a surface side to eject the dust sticking to the rubbing cloth 2 from the rubbing cloth 2 and a dust sucking step of sucking the ejected dust. <P>COPYRIGHT: (C)2009,JPO&INPIT

Description

本発明は、液晶フィルムの製造方法、及び液晶フィルムの製造に使用されるラビング装置に関する。   The present invention relates to a liquid crystal film manufacturing method and a rubbing apparatus used for manufacturing a liquid crystal film.

液晶ディスプレイ(LiquidCrystalDisplay; LCD)には、視野角の改良や色補償のために液晶フィルムが利用されている。この液晶フィルムにおいては、光学的異方性を持たせるために液晶分子を所定の方向に配向させることが必要である。その方法として一般に、液晶層の下地層となる配向基板フィルムの表面を、ラビング布が巻かれたラビングロールを軽く接触させて一定方向(ラビング方向)に沿って擦るラビング処理が採用されている。このラビング処理によって、後工程で液晶ポリマーを含む溶液を配向基板フィルム上に塗布し、乾燥、熱処理を行って液晶層を形成すると、液晶層内の液晶分子をラビング方向に配向させることが可能となる。   Liquid crystal displays (Liquid Crystal Display; LCD) use liquid crystal films to improve viewing angle and color compensation. In this liquid crystal film, it is necessary to align liquid crystal molecules in a predetermined direction in order to have optical anisotropy. In general, a rubbing process is employed in which the surface of the alignment substrate film, which is an underlayer of the liquid crystal layer, is rubbed along a certain direction (rubbing direction) by lightly contacting a rubbing roll wound with a rubbing cloth. By this rubbing treatment, a liquid crystal polymer solution is applied on the alignment substrate film in the subsequent step, dried and heat-treated to form a liquid crystal layer, and the liquid crystal molecules in the liquid crystal layer can be aligned in the rubbing direction. Become.

しかし、このラビング処理は物理的な処理であることから、配向基板フィルムからの剥離物が微小な粉塵となってラビング布に付着し、ラビングロールの回転に伴ってその粉塵が放出され、配向基板フィルムに付着してしまうという問題がある。このようなことが起きると、後工程で配向基板フィルム表面に形成する液晶層中の液晶分子が不均一に配向したり、配向しない部分が発生したりする場合がある。   However, since this rubbing process is a physical process, the peeled material from the alignment substrate film becomes fine dust and adheres to the rubbing cloth, and the dust is released as the rubbing roll rotates, and the alignment substrate There is a problem that it adheres to the film. When this happens, liquid crystal molecules in the liquid crystal layer formed on the surface of the alignment substrate film in the subsequent step may be unevenly aligned or may be unaligned.

このような粉塵発生の問題点を解消するためには、一定時間ラビング処理を行った後、ラビングロールをラビング装置から取り外し、除塵する方法が考えられる。しかし、液晶フィルムは一般的に数百メートルの長さの長尺状に製造されるため、ラビング処理も長時間行う必要があり、一定時間ごとにラビングロールを取り外して洗浄するのでは、非常に手間がかかってしまい、生産効率が低下する。   In order to solve such a problem of dust generation, a method of removing dust by removing a rubbing roll from a rubbing apparatus after performing a rubbing process for a certain period of time can be considered. However, since the liquid crystal film is generally manufactured in a long shape with a length of several hundred meters, it is necessary to perform the rubbing process for a long time, and it is very difficult to remove the rubbing roll and wash it at regular intervals. It takes time and production efficiency decreases.

そこで、ラビング処理を行いながらラビングロールを除塵する技術が、下記の特許文献1に開示されている。このラビング装置においては、ラビングロールに近接して除塵器が設けられており、ラビング処理中に、上記除塵器によって、超音波振動する圧縮空気をラビングロールに吹き付けるとともに、放出される粉塵を吸引することにより、除塵を行っている。
特開平9−166784号公報
Therefore, a technique for removing dust from a rubbing roll while performing a rubbing process is disclosed in Patent Document 1 below. In this rubbing apparatus, a dust remover is provided in the vicinity of the rubbing roll, and during the rubbing process, compressed dust that is ultrasonically vibrated is blown onto the rubbing roll and sucked dust is sucked by the dust remover. Therefore, dust is removed.
JP-A-9-166784

しかしながら、上記特許文献1に記載の技術を用いてラビング処理を行う場合、以下に示す課題が生じていた。   However, when the rubbing process is performed using the technique described in Patent Document 1, the following problems have occurred.

即ち、上記除塵器は、それ単独で、圧縮空気の吹付けと、粉塵の吸引を行う。このため、圧縮空気の吹付けによってラビングロールから分離された粉塵が、圧縮空気の吹付けによって再度ラビングロール表面に付着していた。つまり、圧縮空気が、ラビングロールから分離された粉塵を吸引する上での妨げとなっていた。その結果、ラビングロールの回転に伴って粉塵が配向基板フィルム表面に付着するという課題が生じていた。   That is, the dust remover alone blows compressed air and sucks dust. For this reason, the dust separated from the rubbing roll by the blowing of compressed air adhered to the surface of the rubbing roll again by the blowing of compressed air. That is, the compressed air is an obstacle to sucking the dust separated from the rubbing roll. As a result, the subject that dust adhered to the orientation substrate film surface arose with rotation of a rubbing roll.

従って、本発明の目的は、生産効率を低下させずにラビング処理時の粉塵による液晶フィルムへの悪影響を十分に防止できる液晶フィルムの製造方法、及び、液晶フィルムの製造に使用されるラビング装置を提供することにある。   Accordingly, an object of the present invention is to provide a liquid crystal film manufacturing method capable of sufficiently preventing adverse effects on the liquid crystal film due to dust during rubbing without reducing the production efficiency, and a rubbing apparatus used for manufacturing the liquid crystal film. It is to provide.

本発明に係る液晶フィルムの製造方法は、配向基板フィルムの表面に対してラビング処理を行うラビング工程と、ラビング処理が行われた配向基板フィルムに液晶ポリマーを塗布して配向基板フィルム上に液晶層を得る液晶層形成工程とを含み、ラビング工程が、ラビング布を表面側に有するラビングロールのラビング布に押圧部材を接触させて、ラビング布に付着した粉塵をラビング布から放出させる粉塵放出工程と、放出された粉塵を吸引する粉塵吸引工程とを含むことを特徴とする。   The method for producing a liquid crystal film according to the present invention includes a rubbing process for performing a rubbing treatment on the surface of the alignment substrate film, a liquid crystal layer applied on the alignment substrate film by applying a liquid crystal polymer to the alignment substrate film subjected to the rubbing treatment. A rubbing step, wherein the rubbing step causes the pressing member to contact the rubbing cloth of the rubbing roll having the rubbing cloth on the surface side, and dust adhering to the rubbing cloth is discharged from the rubbing cloth; And a dust suction step for sucking the released dust.

本発明によれば、ラビング処理時にラビング布に付着した粉塵は、ラビング布と接触する押圧部材による押圧によってラビング布から放出され、続いて吸引される。このとき、圧縮空気を吹き付ける場合と異なり、押圧部材は、ラビング布から放出させた粉塵を吸引する上で妨げとならない。したがって、ラビング布から放出された粉塵を容易に吸引することが可能となり、ひいては、粉塵による液晶フィルムへの悪影響を防止することができる。また、このように、本発明によれば、除塵が容易に行われるため、ラビングロールを交換することなく長期にわたって液晶フィルムの製造を行うことができる。このため、生産効率の低下を十分に防止できる。   According to the present invention, dust adhering to the rubbing cloth during the rubbing process is released from the rubbing cloth by the pressing by the pressing member that comes into contact with the rubbing cloth, and then sucked. At this time, unlike the case where the compressed air is blown, the pressing member does not hinder the suction of the dust released from the rubbing cloth. Therefore, the dust discharged from the rubbing cloth can be easily sucked, and as a result, the adverse effect of the dust on the liquid crystal film can be prevented. In addition, according to the present invention, since dust removal is easily performed, a liquid crystal film can be produced over a long period of time without replacing the rubbing roll. For this reason, a reduction in production efficiency can be sufficiently prevented.

本発明に係る液晶フィルムの製造方法においては、ラビング布に接触する押圧部材の押圧力を、ラビングロールの回転に伴って変動させることが好ましい。これにより、ラビング布からの粉塵の放出が効率よく行われ、ラビング布の除塵が有効に行われる。   In the method for producing a liquid crystal film according to the present invention, it is preferable to vary the pressing force of the pressing member that contacts the rubbing cloth with the rotation of the rubbing roll. Thereby, the dust is efficiently discharged from the rubbing cloth, and the rubbing cloth is effectively removed.

また、押圧部材を、振動子により振動させることによって押圧力を変動させることが好ましい。これにより、押圧部材の押圧力を強制的に変動させることができるため、ラビング布の除塵がより十分に行われる。また押圧部材の押圧力を確実に変動させることができるため、ラビングロールの回転速度が低い場合であっても、押圧力が確実に変動する。このため、ラビング布の除塵が確実に行われる。   In addition, it is preferable to vary the pressing force by vibrating the pressing member with a vibrator. Thereby, since the pressing force of the pressing member can be forcibly changed, dust removal of the rubbing cloth is more sufficiently performed. In addition, since the pressing force of the pressing member can be changed with certainty, the pressing force is reliably changed even when the rotation speed of the rubbing roll is low. For this reason, dust removal of a rubbing cloth is performed reliably.

また、押圧部材をラビングロールの回転軸と平行な方向を軸として回転可能に支持しながらラビング布に接触させて押圧させることが好ましい。この場合、ラビングロールを回転させると、押圧部材が、ラビングロールの回転軸と平行な方向を軸として自然に振動する。このとき、ラビング布に対する押圧部材の押圧力が自然に変動することとなる。このため、押圧部材の押圧力を変動させるための動力が不要となり、ランニングコストを低下させることが可能となることに加え、ラビング布から粉塵の放出が効率よく行われるため、ラビング布の除塵が有効に行われる。   Moreover, it is preferable that the pressing member is pressed by being brought into contact with the rubbing cloth while being rotatably supported around a direction parallel to the rotation axis of the rubbing roll. In this case, when the rubbing roll is rotated, the pressing member naturally vibrates around the direction parallel to the rotation axis of the rubbing roll. At this time, the pressing force of the pressing member against the rubbing cloth naturally fluctuates. This eliminates the need for power to fluctuate the pressing force of the pressing member, lowers the running cost, and efficiently discharges dust from the rubbing cloth. Done effectively.

また、押圧部材において、押圧部材とラビング布との接触部分を網目状とすることが好ましい。これにより、押圧力が十分変動するため、ラビングロールの回転速度が低い場合であっても、ラビング布の除塵が有効に行われる。   Moreover, in the pressing member, it is preferable that the contact portion between the pressing member and the rubbing cloth has a mesh shape. As a result, the pressing force fluctuates sufficiently, so that the rubbing cloth is effectively removed even when the rotation speed of the rubbing roll is low.

また、本発明に係るラビング装置は、ラビング布を表面側に有するラビングロールと、ラビング布に接触して押圧する押圧部材と、押圧部材によってラビング布から放出された粉塵を吸引する吸引装置とを備えることを特徴とする。   The rubbing apparatus according to the present invention includes a rubbing roll having a rubbing cloth on the surface side, a pressing member that contacts and presses the rubbing cloth, and a suction device that sucks dust discharged from the rubbing cloth by the pressing member. It is characterized by providing.

本発明のラビング装置によれば、当該ラビング装置におけるラビングロールのラビング布を配向基板フィルムの表面に接触させ、ラビング処理を行うと、ラビング布に付着した粉塵は、ラビング布に接触された押圧部材による押圧によってラビング布から放出され、続いて吸引装置により吸引される。このとき、押圧部材は、ラビング布から放出された粉塵を吸引する上で妨げとならない。したがって、ラビング布から放出された粉塵を吸引装置によって容易に吸引することが可能となり、ひいては、粉塵による液晶フィルムへの悪影響を防止することができる。また、このように、本発明によれば、粉塵が容易に行われるため、ラビングロールを長期にわたって交換せずに済む。このため、本発明のラビング装置は、液晶フィルムの生産効率の低下を十分に防止する上で有用である。   According to the rubbing apparatus of the present invention, when the rubbing cloth of the rubbing roll in the rubbing apparatus is brought into contact with the surface of the alignment substrate film and the rubbing treatment is performed, the dust adhered to the rubbing cloth is pressed against the rubbing cloth. It is released from the rubbing cloth by the pressing by and subsequently sucked by the suction device. At this time, the pressing member does not hinder the suction of the dust released from the rubbing cloth. Therefore, the dust discharged from the rubbing cloth can be easily sucked by the suction device, and consequently the adverse effect of the dust on the liquid crystal film can be prevented. In addition, as described above, according to the present invention, since dust is easily formed, it is not necessary to replace the rubbing roll over a long period of time. For this reason, the rubbing apparatus of the present invention is useful in sufficiently preventing a decrease in production efficiency of the liquid crystal film.

本発明によれば、生産効率を低下させずにラビング処理時の粉塵による液晶フィルムへの悪影響を防止できる液晶フィルムの製造方法、及び、液晶フィルムの製造に使用されるラビング装置が提供される。   ADVANTAGE OF THE INVENTION According to this invention, the manufacturing method of the liquid crystal film which can prevent the bad influence to the liquid crystal film by the dust at the time of a rubbing process without reducing production efficiency, and the rubbing apparatus used for manufacture of a liquid crystal film are provided.

以下に、本発明の実施形態について、添付図面を参照しながら詳細に説明する。なお、各図面において、同一の要素は、同一の符号を用いて表す。また、図面中の構成要素内及び構成要素間の寸法比率は、図示のものに限られない。   Hereinafter, embodiments of the present invention will be described in detail with reference to the accompanying drawings. In the drawings, the same elements are denoted by the same reference numerals. Moreover, the dimensional ratio in the component in a drawing and between components is not restricted to what is illustrated.

[第1実施形態]   [First embodiment]

まず本発明に係る液晶フィルムの製造方法の第1実施形態について図1を参照して詳細に説明する。図1の(a)〜(f)は、本実施形態に係る液晶フィルムの製造方法の一連の工程図である。   First, a first embodiment of a method for producing a liquid crystal film according to the present invention will be described in detail with reference to FIG. (A)-(f) of Drawing 1 is a series of process drawings of the manufacturing method of the liquid crystal film concerning this embodiment.

はじめに、本実施形態に係る液晶フィルムの製造方法で得られる液晶フィルム30について説明する。   First, the liquid crystal film 30 obtained by the liquid crystal film manufacturing method according to the present embodiment will be described.

図1(f)に示すように、液晶フィルム30は、透明基板フィルム26の上に、接着剤層24、液晶層23、オーバーコート層28及び保護フィルム29を順次積層するようにして構成されている。   As shown in FIG. 1 (f), the liquid crystal film 30 is configured such that an adhesive layer 24, a liquid crystal layer 23, an overcoat layer 28 and a protective film 29 are sequentially laminated on a transparent substrate film 26. Yes.

液晶フィルム30は以下のようにして製造される。   The liquid crystal film 30 is manufactured as follows.

即ち、図1の(a)〜(f)に示すように、液晶フィルム30は、主として、ラビング装置10によって配向基板フィルム20の表面にラビング処理を施すラビング工程(図1(a)参照)、ラビング処理した配向基板フィルム20の表面に液晶ポリマーの溶液22を塗布する塗布工程(図1(b)参照)、液晶ポリマーの溶液22を乾燥させる乾燥工程(図1(c)参照)、乾燥後の液晶ポリマーの溶液22を加熱して液晶相を発現させ、液晶層23を得る熱処理工程(図1(d)参照)、液晶層23と透明基板フィルム26とを接着剤層24を介して貼り合わせた後、配向基板フィルム20を液晶層23から剥がし、液晶層23を配向基板フィルム20から透明基板フィルム26に転写する転写工程(図1(e)参照)及び、液晶層23の透明基板フィルム26側とは反対側の面に、オーバーコート層28及び保護フィルム29を貼り合わせ、液晶フィルム30を得る保護層形成工程(図1(f)参照)を経ることによって得られる。   That is, as shown in FIGS. 1A to 1F, the liquid crystal film 30 is mainly rubbed (see FIG. 1A) for rubbing the surface of the alignment substrate film 20 by the rubbing apparatus 10. A coating process (see FIG. 1 (b)) for applying a liquid crystal polymer solution 22 to the surface of the rubbed alignment substrate film 20, a drying process (see FIG. 1 (c)) for drying the liquid crystal polymer solution 22, and after drying The liquid crystal polymer solution 22 is heated to develop a liquid crystal phase to obtain a liquid crystal layer 23 (see FIG. 1 (d)), and the liquid crystal layer 23 and the transparent substrate film 26 are bonded via the adhesive layer 24. After the alignment, the alignment substrate film 20 is peeled off from the liquid crystal layer 23, the transfer step (see FIG. 1 (e)) for transferring the liquid crystal layer 23 from the alignment substrate film 20 to the transparent substrate film 26, and the transparent substrate film of the liquid crystal layer 23 2 The side on the opposite side, bonded to the overcoat layer 28 and the protective film 29 is obtained by going through the protective layer forming step of obtaining a liquid crystal film 30 (see FIG. 1 (f)).

以下、各工程について詳細に説明する。   Hereinafter, each step will be described in detail.

(ラビング工程)   (Rubbing process)

まずラビング工程について説明する。ラビング工程は、上述したように、ラビング装置10によって配向基板フィルム20の表面にラビング処理を施す工程である。   First, the rubbing process will be described. As described above, the rubbing process is a process in which the rubbing apparatus 10 performs a rubbing process on the surface of the alignment substrate film 20.

ここで、配向基板フィルム20は、その表面をラビング処理することによって、その表面上に液晶層23を形成した際に液晶層23内の液晶分子の配向方向を、配向基板フィルム20の面内に配向させることが可能なものであれば特に限定されない。このような配向基板フィルム20の材質としては、例えば、ポリイミド、エポキシ樹脂、フェノール樹脂などの熱硬化性樹脂、ナイロンなどのポリアミド、ポリエーテルイミド、ポリエーテルケトン、ポリエーテルエーテルケトン(PEEK)、ポリケトン、ポリエーテルスルフォン、ポリフェニレンサルファイド、ポリフェニレンオキサイド、ポリエチレンテレフタレート、ポリエチレンナフタレート、ポリブチレンテレフタレートなどのポリエステル、ポリアセタール、ポリカーボネート、ポリ(メタ)アクリレート、トリアセチルセルロースなどのセルロース系樹脂及びポリビニルアルコールなどの熱可塑性樹脂などが挙げられるが、特に、ポリエチレンテレフタレート、ポリフェニレンサルファイド、PEEK、ポリビニルアルコールなどの熱可塑性樹脂は、後工程における液晶相を発現させるための加熱によってラビング処理の効果が消滅又は減少する恐れがなく、好ましい。   Here, the alignment substrate film 20 is subjected to rubbing treatment on the surface thereof, so that when the liquid crystal layer 23 is formed on the surface, the alignment direction of the liquid crystal molecules in the liquid crystal layer 23 is in the plane of the alignment substrate film 20. There is no particular limitation as long as it can be oriented. Examples of the material of the alignment substrate film 20 include thermosetting resins such as polyimide, epoxy resin, and phenol resin, polyamide such as nylon, polyether imide, polyether ketone, polyether ether ketone (PEEK), and polyketone. , Polyethersulfone, Polyphenylene sulfide, Polyphenylene oxide, Polyethylene terephthalate, Polyethylene terephthalate, Polyethylene naphthalate, Polybutylene terephthalate and other polyesters, Polyacetal, Polycarbonate, Poly (meth) acrylate, Cellulose resins such as triacetyl cellulose, Thermoplastics such as polyvinyl alcohol Resins etc. are mentioned, but in particular polyethylene terephthalate, polyphenylene sulfide, PEEK, polyvinyl alcohol Thermoplastic resins, such as, there is no possibility that disappear or decrease the effect of the rubbing treatment by heating to a liquid crystal phase to be developed in a subsequent step, preferred.

次に、ラビング装置10について図2を参照して詳細に説明する。図2は、配向基板フィルムに対してラビング処理するラビング装置を示す斜視図、図3は、図2のIII-III線に沿った断面図である。   Next, the rubbing apparatus 10 will be described in detail with reference to FIG. 2 is a perspective view showing a rubbing apparatus for rubbing the oriented substrate film, and FIG. 3 is a cross-sectional view taken along the line III-III in FIG.

図2及び図3に示すように、ラビング装置10は、例えば円柱状をなすロール本体1a及びロール本体1aの外周面に沿って巻かれるラビング布2を有するラビングロール1と、ラビング布2に接触するように設けられ且つラビング布2を押圧する押圧部材5と、ラビング布2から放出される粉塵を吸引する吸引装置6とを備えている。ここで、ロール本体1aは、その中心軸を回転軸として、モータ等の駆動機構(図示せず)によって回転可能となっている。押圧部材5は、板状部材であり、その板状部材を貫通する軸を回転軸5aとして、回転可能に支持され、この回転軸5aは、ラビングロール1の回転軸と平行となるように配置される。また、吸引装置6は、ロール本体1aの周方向に沿って押圧部材5と隣接する位置に、且つラビングロール1と離間する位置に設けられている。   As shown in FIGS. 2 and 3, the rubbing device 10 contacts the rubbing cloth 2 with the rubbing roll 1 having, for example, a cylindrical roll body 1 a and a rubbing cloth 2 wound along the outer peripheral surface of the roll body 1 a. And a pressing member 5 that presses the rubbing cloth 2 and a suction device 6 that sucks dust discharged from the rubbing cloth 2. Here, the roll body 1a can be rotated by a drive mechanism (not shown) such as a motor with the central axis as a rotation axis. The pressing member 5 is a plate-like member, and is rotatably supported with a shaft penetrating the plate-like member as a rotation shaft 5a. The rotation shaft 5a is arranged to be parallel to the rotation shaft of the rubbing roll 1. Is done. The suction device 6 is provided at a position adjacent to the pressing member 5 along the circumferential direction of the roll main body 1 a and at a position separated from the rubbing roll 1.

上記ラビング装置10を用いて配向基板フィルム20のラビング処理を行う場合、ラビング装置10は、例えば、ラビングロール1の回転軸が配向基板フィルム20の搬送方向と直交するように、且つラビングロール1のラビング布2の所定位置が回転に伴って押圧部材5および吸引装置6を順次通過するように配置する。このとき、押圧部材5は、ラビング布2に接触させる。   When the rubbing treatment of the alignment substrate film 20 is performed using the rubbing device 10, the rubbing device 10 is configured so that, for example, the rotation axis of the rubbing roll 1 is orthogonal to the conveyance direction of the alignment substrate film 20 and the rubbing roll 1 It arrange | positions so that the predetermined position of the rubbing cloth 2 may pass the press member 5 and the suction device 6 sequentially with rotation. At this time, the pressing member 5 is brought into contact with the rubbing cloth 2.

そして、搬送装置(図示せず)によって、配向基板フィルム20をガイドロール25上で図2の矢印A方向に一定速度で搬送させた状態で、ラビングロール1を回転させる。このときのラビングロール1の回転方向は、ラビングロール1と配向基板フィルム20とが接触する位置で、配向基板フィルム20の搬送方向と同一の方向とする。   Then, the rubbing roll 1 is rotated in a state where the oriented substrate film 20 is conveyed on the guide roll 25 in the direction of arrow A in FIG. 2 at a constant speed by a conveying device (not shown). The rotating direction of the rubbing roll 1 at this time is the same as the conveying direction of the oriented substrate film 20 at a position where the rubbing roll 1 and the oriented substrate film 20 are in contact with each other.

これにより、配向基板フィルム20の表面は、ラビング布2によって配向基板フィルム20の搬送方向と同一方向に擦られる。   Thereby, the surface of the oriented substrate film 20 is rubbed in the same direction as the transport direction of the oriented substrate film 20 by the rubbing cloth 2.

この処理により、後の工程で配向基板フィルム20の表面に液晶層23を形成した際に、液晶層23の液晶分子の長手方向を、配向基板フィルム20の面に平行な面内であって、ラビング処理を行った方向に向かせることができる。   By this treatment, when the liquid crystal layer 23 is formed on the surface of the alignment substrate film 20 in a later step, the longitudinal direction of the liquid crystal molecules of the liquid crystal layer 23 is in a plane parallel to the surface of the alignment substrate film 20, The direction can be directed to the rubbing process.

また、上述のようにラビング装置10を用いて配向基板フィルム20のラビング処理を行うと、ラビング処理時の粉塵による液晶フィルムへの悪影響を十分に防止することができる。即ち、ラビング処理に際しては、配向基板フィルム20からの剥離物やラビング布2からの剥離物が微小な粉塵となってラビング布2に付着するが、本実施形態のラビング装置10を用いてラビング処理を行うと、ラビング布2に付着した粉塵は、ラビング布2と接触する押圧部材5による押圧によってラビング布2から放出される。   Moreover, if the alignment substrate film 20 is rubbed using the rubbing apparatus 10 as described above, it is possible to sufficiently prevent adverse effects on the liquid crystal film due to dust during the rubbing treatment. That is, in the rubbing process, the peeled material from the alignment substrate film 20 and the peeled material from the rubbing cloth 2 become fine dust and adhere to the rubbing cloth 2, but the rubbing process is performed using the rubbing apparatus 10 of the present embodiment. When dust is applied, the dust adhering to the rubbing cloth 2 is released from the rubbing cloth 2 by pressing by the pressing member 5 in contact with the rubbing cloth 2.

そして、ラビング布2から放出された粉塵は、吸引装置6によって吸引される。ここで、押圧部材5は、圧縮空気を吹き付けてラビング布2の除塵を行う場合と異なり、ラビング布2から放出される粉塵を吸引する上で妨げとなることはない。したがって、ラビング布2から放出された粉塵を容易に吸引することが可能となり、ひいては、粉塵による液晶フィルムへの悪影響を防止することができる。   The dust discharged from the rubbing cloth 2 is sucked by the suction device 6. Here, unlike the case where dust is removed from the rubbing cloth 2 by blowing compressed air, the pressing member 5 does not hinder the suction of dust released from the rubbing cloth 2. Therefore, the dust discharged from the rubbing cloth 2 can be easily sucked, and as a result, the adverse effect of the dust on the liquid crystal film can be prevented.

また、ラビング装置10を用いてラビング処理を行うと、ラビング布2の除塵が容易に行われるため、ラビングロール1を交換することなく長期にわたって液晶フィルムの製造を行うことができる。このため、生産効率の低下を十分に防止できる。   Moreover, when the rubbing process is performed using the rubbing apparatus 10, the rubbing cloth 2 is easily removed, so that the liquid crystal film can be manufactured over a long period of time without replacing the rubbing roll 1. For this reason, a reduction in production efficiency can be sufficiently prevented.

さらに、ラビング装置10では、押圧部材5がラビングロール1の回転軸と平行な方向を回転軸5aとして回転可能に支持されている。このため、ラビングロール1を回転させると、押圧部材5が、ラビングロール1の回転軸と平行な方向を軸として自然に振動する。これにより、ラビング布2に接触する押圧部材5の押圧力がラビングロール1の回転に伴って変動する。このため、ラビング布2からの粉塵の放出が効率よく行われ、ラビング布2の除塵が有効に行われる。また、押圧部材5の押圧力を変動させるための動力を用いていないため、ランニングコストを低下させることが可能となる。   Further, in the rubbing device 10, the pressing member 5 is rotatably supported with a direction parallel to the rotation axis of the rubbing roll 1 as a rotation axis 5 a. For this reason, when the rubbing roll 1 is rotated, the pressing member 5 naturally vibrates around the direction parallel to the rotation axis of the rubbing roll 1. Thereby, the pressing force of the pressing member 5 that contacts the rubbing cloth 2 varies with the rotation of the rubbing roll 1. For this reason, the discharge | release of the dust from the rubbing cloth 2 is performed efficiently, and dust removal of the rubbing cloth 2 is performed effectively. Moreover, since the power for changing the pressing force of the pressing member 5 is not used, the running cost can be reduced.

上記のように押圧力を変動させる際は、押圧部材5がラビング布2から離れないようにすると、除塵が確実に行われ、好ましい。これは、ラビングロール1の回転数、押圧部材5の重さ、ラビング布2の表面粗さ等を調整することにより達成される。   When the pressing force is varied as described above, it is preferable that the pressing member 5 is not separated from the rubbing cloth 2 because dust removal is reliably performed. This is achieved by adjusting the number of rotations of the rubbing roll 1, the weight of the pressing member 5, the surface roughness of the rubbing cloth 2, and the like.

次に、ラビング装置10の各構成要素について説明する。   Next, each component of the rubbing apparatus 10 will be described.

ロール本体1aについて説明する。ロール本体1aの延び方向に沿った長さは、配向基板フィルム20の幅に対応して適宜選択される。ロール本体1aの幅は、配向基板フィルム20の幅と同じか、あるいは、それよりも大きいことが好ましい。また、ロール本体1aの材質は特に制限されないが、長時間のラビング処理に耐えられる機械的強度を有するものが好ましく、このような材質としては、例えば、アルミ、ステンレス等の金属が挙げられる。   The roll body 1a will be described. The length along the extending direction of the roll body 1 a is appropriately selected according to the width of the oriented substrate film 20. The width of the roll body 1a is preferably the same as or larger than the width of the oriented substrate film 20. The material of the roll body 1a is not particularly limited, but preferably has a mechanical strength that can withstand a long rubbing treatment. Examples of such a material include metals such as aluminum and stainless steel.

ラビング布2は、配向基板フィルム20の表面を擦るためのものであり、ラビング布2の材質は、例えば、ナイロンやアラミド繊維等のポリアミド繊維、アクリル繊維、ポリエステル、レーヨン、綿又はこれらの混紡品とすることができる。   The rubbing cloth 2 is for rubbing the surface of the oriented substrate film 20, and the material of the rubbing cloth 2 is, for example, polyamide fiber such as nylon or aramid fiber, acrylic fiber, polyester, rayon, cotton, or a blended product thereof. It can be.

押圧部材5は、十分に除塵を行う観点からは、ロール本体1aの延び方向の全長に沿ってラビング布2と接触していることが好ましい。この接触の際の押圧力は、押圧部材5の重さ、形状、回転軸の位置及びラビングロール1との相対位置に依存して変化する値であり、これらの条件を適宜決定することにより、所望の押圧力とすることができる。また、押圧部材5のうちラビング布2と接触する面は、平坦であってもよいし、凹凸を有していてもよい。但し、当該面が凹凸を有する方が、除塵効果がより向上する。   From the viewpoint of sufficiently removing dust, the pressing member 5 is preferably in contact with the rubbing cloth 2 along the entire length in the extending direction of the roll body 1a. The pressing force at the time of contact is a value that changes depending on the weight, shape, rotational shaft position, and relative position with the rubbing roll 1 of the pressing member 5, and by appropriately determining these conditions, A desired pressing force can be obtained. Moreover, the surface which contacts the rubbing cloth 2 among the pressing members 5 may be flat or may have irregularities. However, the dust removal effect is further improved when the surface has irregularities.

押圧部材5のうちロール本体1aの延び方向に平行な方向の長さは、特に限定されないが、ロール本体1aの延び方向に沿った長さと同じか、それよりも大きいことが好ましい。この場合、押圧部材5が、ラビング布2の全体に接触し且つラビング布2を押圧することになるため、押圧部材5のうちロール本体1aの延び方向に平行な方向の長さが、ロール本体1aの延び方向に沿った長さより短い場合に比べて、除塵効果がより向上し、液晶層23中の液晶分子の配向に対する悪影響をより十分に防止できる。押圧部材5の材質は、特に制限されないが、例えば、アルミ、ステンレス等の金属、合成樹脂、木材等とすることができる。   The length of the pressing member 5 in the direction parallel to the extending direction of the roll main body 1a is not particularly limited, but is preferably the same as or longer than the length along the extending direction of the roll main body 1a. In this case, since the pressing member 5 contacts the entire rubbing cloth 2 and presses the rubbing cloth 2, the length of the pressing member 5 in the direction parallel to the extending direction of the roll body 1a is the roll body. Compared to the case where the length is shorter than the length along the extending direction 1a, the dust removing effect is further improved, and the adverse effect on the alignment of the liquid crystal molecules in the liquid crystal layer 23 can be more sufficiently prevented. Although the material in particular of the pressing member 5 is not restrict | limited, For example, metals, such as aluminum and stainless steel, a synthetic resin, a timber, etc. can be used.

吸引装置6は、ラビング布2から放出される粉塵を吸引可能な装置であれば特に限定されないが、例えば複数の吸引口9a、複数の吸引口9aに連通する中空部、及び中空部に連通しポンプ等の排気装置(図示せず)を接続するための接続口7aを有する吸引ヘッドと、吸引ヘッドの接続口7aに接続される排気装置とで構成される。ここで、吸引ヘッドは、例えば、凹部7b及び凹部7bに連通する接続口7aを有する吸引部材7と、複数の吸引口9aを有し吸引部材7の凹部7bを覆うように設けられるカバー部材9とで構成される。この場合、吸引ヘッドは、カバー部材9をラビングロール1側に向け、吸引部材7をラビングロール1と反対側に向けるようにして配置される。吸引部材7の凹部7bをカバー部材9で覆うことによって凹部7bは中空部となる。ここで、中空部は、排気装置により負圧にされるため、粉塵はカバー部材9に吸引口9aから吸引ヘッドの中空部に吸引された後、排気装置によって接続口7aを通って吸引ヘッドの外部に排出される。このため、粉塵が配向基板フィルム20に再付着するのを防ぐことができる。   The suction device 6 is not particularly limited as long as it is a device capable of sucking dust discharged from the rubbing cloth 2, but for example, a plurality of suction ports 9a, a hollow portion communicating with the plurality of suction ports 9a, and a communication with the hollow portion It comprises a suction head having a connection port 7a for connecting an exhaust device (not shown) such as a pump, and an exhaust device connected to the connection port 7a of the suction head. Here, the suction head includes, for example, a recess 7b and a suction member 7 having a connection port 7a communicating with the recess 7b, and a cover member 9 having a plurality of suction ports 9a and covering the recess 7b of the suction member 7. It consists of. In this case, the suction head is arranged so that the cover member 9 faces the rubbing roll 1 and the suction member 7 faces the rubbing roll 1. By covering the concave portion 7b of the suction member 7 with the cover member 9, the concave portion 7b becomes a hollow portion. Here, since the hollow portion is made negative pressure by the exhaust device, the dust is sucked by the cover member 9 from the suction port 9a to the hollow portion of the suction head, and then passes through the connection port 7a by the exhaust device. It is discharged outside. For this reason, dust can be prevented from reattaching to the alignment substrate film 20.

吸引部材7のうちロール本体1aの延び方向に平行な方向の長さは、ラビング布2の延び方向に沿った長さ(ラビング布2のロール本体1aの回転軸と平行な方向に沿った長さ)よりも長いことが好ましく、例えば、ラビング布2の長さに対して、1.01〜2倍とすることができる。   The length of the suction member 7 in the direction parallel to the extending direction of the roll body 1a is the length along the extending direction of the rubbing cloth 2 (the length along the direction parallel to the rotation axis of the roll body 1a of the rubbing cloth 2). It is preferable that the length of the rubbing cloth 2 is 1.01 to 2 times the length of the rubbing cloth 2.

吸引部材7の材質は、特に制限されないが、例えば、アルミ、ステンレス等の金属、合成樹脂、木材等とすることができる。   The material of the suction member 7 is not particularly limited, and can be, for example, a metal such as aluminum or stainless steel, a synthetic resin, or wood.

カバー部材9は、例えば、複数の吸引口9aが形成された板状部材で構成され、吸引部材7のラビングロール1と対向する面に接着剤等によって貼り付けられている。カバー部材9は、例えばパンチングプレートによって構成することができる。吸引口9aの形状は図2及び図3に示すような円形状の他、楕円形状、四角形状や細長いスリット状等であってもよい。   The cover member 9 is constituted by, for example, a plate-like member in which a plurality of suction ports 9a are formed, and is attached to the surface of the suction member 7 facing the rubbing roll 1 with an adhesive or the like. The cover member 9 can be constituted by, for example, a punching plate. The shape of the suction port 9a may be an elliptical shape, a quadrangular shape, an elongated slit shape, or the like in addition to the circular shape as shown in FIGS.

カバー部材9の材質は、特に制限されないが、例えば、アルミ、ステンレス等の金属、合成樹脂、木材等とすることができる。   The material of the cover member 9 is not particularly limited, and can be, for example, a metal such as aluminum or stainless steel, a synthetic resin, or wood.

(塗布工程)   (Coating process)

次に、ラビング工程後に行われる塗布工程について説明する。塗布工程は、図1(b)に示すように、上記ラビング工程においてラビング処理された配向基板フィルム20上に、液晶ポリマーの溶液22を塗布する工程である。   Next, the coating process performed after the rubbing process will be described. As shown in FIG. 1B, the coating step is a step of coating a liquid crystal polymer solution 22 on the alignment substrate film 20 that has been rubbed in the rubbing step.

液晶ポリマーの溶液22は、ネマティック液晶、スメクティック液晶、コレステリック液晶、ディスコティック液晶等のサーモトロピック液晶のポリマーを、適当な溶剤に溶解した溶液である。この液晶ポリマーは、具体的には例えば、カルボン酸基、アルコール基、フェノール基、アミノ基、チオール基などを有する化合物を縮合させて成る縮合系液晶ポリマー、アクリロイル基、メタクリロイル基、ビニル基、アリル基など二重結合を有する液晶性化合物などを原料として得られる液晶性ビニルポリマー、アルコキシシラン基を有する液晶化合物などから合成される液晶性ポリシロキサン、エポキシ基を有する液晶性化合物などから合成される液晶性エポキシ樹脂、又は上記液晶ポリマーの混合物を用いることができる。これらの各種液晶ポリマーの中でも、得られる液晶フィルムの光学特性などの点から縮合系液晶ポリマーが最も好ましい。   The liquid crystal polymer solution 22 is a solution obtained by dissolving a polymer of a thermotropic liquid crystal such as a nematic liquid crystal, a smectic liquid crystal, a cholesteric liquid crystal, or a discotic liquid crystal in an appropriate solvent. Specifically, this liquid crystal polymer is, for example, a condensed liquid crystal polymer obtained by condensing a compound having a carboxylic acid group, an alcohol group, a phenol group, an amino group, a thiol group, an acryloyl group, a methacryloyl group, a vinyl group, an allyl group. Synthesized from a liquid crystalline vinyl polymer obtained from a liquid crystalline compound having a double bond such as a group, a liquid crystalline polysiloxane synthesized from a liquid crystalline compound having an alkoxysilane group, a liquid crystalline compound having an epoxy group, etc. A liquid crystal epoxy resin or a mixture of the above liquid crystal polymers can be used. Among these various liquid crystal polymers, condensed liquid crystal polymers are most preferable from the viewpoint of the optical characteristics of the liquid crystal film obtained.

液晶ポリマーの溶液22の溶剤としては、上記液晶ポリマーを溶解可能なものであれば特に限定されないが、例えば、一般的にアセトン、メチルエチルケトン、イソホロン、シクロヘキサノンなどのケトン類、ブトキシエチルアルコール、ヘキシルオキシエチルアルコール、メトキシ−2−プロパノール、ベンジルオキシエタノールなどのエーテルアルコール類、エチレングリコールジメチルエーテル、ジエチレングリコールジメチルエーテルなどのグリコールエーテル類、酢酸エチル、乳酸エチル、γ−ブチロラクトンなどのエステル類、フェノール、クロロフェノールなどのフェノール類、N,N−ジメチルホルムアミド、N,N−ジメチルアセトアミド、N−メチルピロリドンなどのアミド類、クロロホルム、テトラクロロエタン、ジクロロベンゼンなどのハロゲン系などやこれらの混合系が好ましく用いられる。また、配向基板フィルム20上に均一な塗膜を形成するために、界面活性剤、消泡剤、レベリング剤などを溶液に添加してもよい。   The solvent of the liquid crystal polymer solution 22 is not particularly limited as long as it can dissolve the above liquid crystal polymer. For example, ketones such as acetone, methyl ethyl ketone, isophorone, cyclohexanone, butoxyethyl alcohol, hexyloxyethyl are generally used. Alcohols, ether alcohols such as methoxy-2-propanol and benzyloxyethanol, glycol ethers such as ethylene glycol dimethyl ether and diethylene glycol dimethyl ether, esters such as ethyl acetate, ethyl lactate and γ-butyrolactone, phenols such as phenol and chlorophenol Amides such as N, N-dimethylformamide, N, N-dimethylacetamide, N-methylpyrrolidone, chloroform, tetrachloroethane, di Halogen-like or a mixture of these systems, such as chlorobenzene is preferably used. Moreover, in order to form a uniform coating film on the oriented substrate film 20, a surfactant, an antifoaming agent, a leveling agent, and the like may be added to the solution.

この塗布工程では、上述の液晶ポリマーの溶液22を、ロールコータ等の塗布機を用いて、配向基板フィルム20のラビング処理を行った表面に対して通常、配向基板フィルム20の長手方向に連続的に膜厚が均一になるように塗布する。塗布された液晶ポリマーの溶液22の膜厚は、例えば、5〜50μmとすることができる。   In this coating step, the above-described liquid crystal polymer solution 22 is usually continuous in the longitudinal direction of the alignment substrate film 20 with respect to the surface on which the alignment substrate film 20 has been rubbed using a coating machine such as a roll coater. It is applied so that the film thickness is uniform. The film thickness of the applied liquid crystal polymer solution 22 may be, for example, 5 to 50 μm.

(乾燥工程)   (Drying process)

上記塗布工程の後に行われる乾燥工程は、図1(c)に示すように、配向基板フィルム20を加熱し、その表面に塗布された液晶ポリマーの溶液22の溶剤を気化させる工程である。具体的には、配向基板フィルム20上の液晶ポリマー溶液22を、例えば、相互に隣接する複数の乾燥炉に順次通しながら搬送し、各乾燥炉に、液晶ポリマー溶液22を乾燥させるためのガスを導入して、配向基板フィルム20の長手方向に沿って液晶ポリマー溶液22を連続的に乾燥させる。このとき、各乾燥炉ごとに異なる乾燥条件を設定すると好ましい。この場合、液晶ポリマーの溶液22を均一に乾燥させることが可能となる。   The drying process performed after the said application | coating process is a process of heating the orientation board | substrate film 20 and vaporizing the solvent of the liquid crystal polymer solution 22 apply | coated to the surface, as shown in FIG.1 (c). Specifically, for example, the liquid crystal polymer solution 22 on the alignment substrate film 20 is conveyed while sequentially passing through a plurality of drying ovens adjacent to each other, and a gas for drying the liquid crystal polymer solution 22 is supplied to each drying oven. Then, the liquid crystal polymer solution 22 is continuously dried along the longitudinal direction of the alignment substrate film 20. At this time, it is preferable to set different drying conditions for each drying furnace. In this case, the liquid crystal polymer solution 22 can be uniformly dried.

(熱処理工程)   (Heat treatment process)

上記乾燥工程の後は、熱処理工程を行う。熱処理工程は、図1(d)に示すように、乾燥後の液晶ポリマーの溶液22を加熱して液晶相を発現させた後に冷却し、液晶分子が所定の方向に配向した液晶層23を得る工程である。具体的には、配向基板フィルム20を熱処理炉の中を通して搬送し、液晶ポリマーの溶液22の温度が、液晶ポリマーが固体から液晶へ転移する温度(以下、「液晶転移温度」という)以上になるようにした後に冷却する。このとき、冷却は、熱処理炉から排出することにより行えばよい。   After the drying step, a heat treatment step is performed. In the heat treatment step, as shown in FIG. 1D, the liquid crystal polymer solution 22 after drying is heated to develop a liquid crystal phase and then cooled to obtain a liquid crystal layer 23 in which liquid crystal molecules are aligned in a predetermined direction. It is a process. Specifically, the alignment substrate film 20 is conveyed through a heat treatment furnace, and the temperature of the liquid crystal polymer solution 22 becomes equal to or higher than the temperature at which the liquid crystal polymer transitions from solid to liquid crystal (hereinafter referred to as “liquid crystal transition temperature”). Cool after doing so. At this time, cooling may be performed by discharging from the heat treatment furnace.

液晶転移温度以上に加熱された液晶ポリマーは固相から液晶相に相転移して流動性を有する。そのため、液晶ポリマーは、ラビング処理方向に向けて容易に配向する。   A liquid crystal polymer heated to a temperature higher than the liquid crystal transition temperature undergoes phase transition from a solid phase to a liquid crystal phase and has fluidity. Therefore, the liquid crystal polymer is easily aligned in the rubbing treatment direction.

その後、配向基板フィルム20を液晶転移温度以下に冷却すると、液晶ポリマーはガラス状態となって流動性を失い、液晶分子は液晶相での配向状態で固定化される。このようにして、液晶分子が所定の方向に配向した液晶層23が得られる。   Thereafter, when the alignment substrate film 20 is cooled below the liquid crystal transition temperature, the liquid crystal polymer becomes a glass state and loses fluidity, and the liquid crystal molecules are fixed in the alignment state in the liquid crystal phase. In this way, a liquid crystal layer 23 in which liquid crystal molecules are aligned in a predetermined direction is obtained.

(転写工程)   (Transfer process)

上記熱処理工程の後は、転写工程を行う。転写工程は、図1(e)に示すように、液晶層23と等方性透明基板フィルム26とを接着剤層24を介して貼り合わせた後に、配向基板フィルム20を液晶層23から剥がすことにより、液晶層23を配向基板フィルム20から等方性透明基板フィルム26に転写する工程である。   After the heat treatment step, a transfer step is performed. In the transfer step, as shown in FIG. 1 (e), after the liquid crystal layer 23 and the isotropic transparent substrate film 26 are bonded together via the adhesive layer 24, the alignment substrate film 20 is peeled off from the liquid crystal layer 23. In this step, the liquid crystal layer 23 is transferred from the alignment substrate film 20 to the isotropic transparent substrate film 26.

等方性透明基板フィルム26は、光学特性が等方的であり可視光に対して透明な材料で構成されたフィルムであり、最終的な液晶フィルムを支持する機能を有する。この材質は、上記の条件を満たし、適度な平面性を有するものであれば特に制限されないが、例えば、TAC(トリアセチルセルロース)、PET(ポリエチレンテレフタレート)などの他、ポリメチルメタクリレート、ポリスチレン、ポリカーボネート、ポリエーテルスルホン、ポリフェニレンサルファイド、ポリアリレート、アモルファスポリエチレンなども用いることができる。また、光学的に異方性を有していても、目的とする液晶フィルムの機能に対して問題を与えないものであれば使用することができる。このような例としては、延伸ポリエチレンテレフタレートフィルムやポリシクロオレフィン、ポリカーボネートなどの位相差フィルムがあげられる。   The isotropic transparent substrate film 26 is a film made of a material having isotropic optical characteristics and transparent to visible light, and has a function of supporting the final liquid crystal film. This material is not particularly limited as long as it satisfies the above conditions and has an appropriate flatness. For example, in addition to TAC (triacetyl cellulose), PET (polyethylene terephthalate), etc., polymethyl methacrylate, polystyrene, polycarbonate , Polyethersulfone, polyphenylene sulfide, polyarylate, amorphous polyethylene and the like can also be used. Moreover, even if it has optical anisotropy, it can be used as long as it does not give a problem to the function of the target liquid crystal film. Examples of such films include retardation films such as stretched polyethylene terephthalate films, polycycloolefins, and polycarbonates.

接着剤層24としては、可視光に対する吸収率が十分に小さく、光学的等方性を有しているものが好ましく、例えば、アクリル系、エポキシ系、エチレン−酢ビ共重合体系、ゴム系、ウレタン系、およびこれらの混合系などを用いることができる。また接着剤層24は、熱硬化型、光硬化型、電子線硬化型などのいずれの型の接着剤でも問題なく使用することができる。   The adhesive layer 24 preferably has a sufficiently low absorption rate for visible light and has optical isotropy, for example, an acrylic type, an epoxy type, an ethylene-vinyl acetate copolymer system, a rubber type, Urethane-based and mixed systems thereof can be used. Further, the adhesive layer 24 can be used without any problem with any type of adhesive such as thermosetting, photo-curing, and electron beam curing.

配向基板フィルム20と液晶層23の剥離の方法は、例えば、ロールなどを用いて機械的に剥離する方法、これらの構成材料に対する貧溶媒に浸漬したのち機械的に剥離する方法、貧溶媒中で超音波をあてて剥離する方法、配向基板フィルム20と液晶層23との熱膨張係数の差を利用して温度変化を与えて剥離する方法、配向基板フィルム20自体を溶解除去する方法などを採用することができる。剥離性は、配向基板フィルム20と液晶層23の密着性によって異なるため、適宜選択される。   The method of peeling the alignment substrate film 20 and the liquid crystal layer 23 is, for example, a method of mechanically peeling using a roll or the like, a method of mechanically peeling after being immersed in a poor solvent for these constituent materials, A method of peeling by applying ultrasonic waves, a method of peeling by applying a temperature change using a difference in thermal expansion coefficient between the alignment substrate film 20 and the liquid crystal layer 23, a method of dissolving and removing the alignment substrate film 20 itself, etc. are adopted. can do. The peelability varies depending on the adhesion between the alignment substrate film 20 and the liquid crystal layer 23, and thus is appropriately selected.

上述のように、液晶層23を配向基板フィルム20から等方性透明基板フィルム26に転写する工程を採用することにより、配向基板フィルム20の材料選択の自由度が増加するという利点がある。即ち、配向基板フィルム20は、液晶分子を配向させうる機能を有すること、及び熱処理工程における耐熱性を有すること等の条件を具備することが必要である。本実施形態のように液晶層23の転写工程を採用すると、配向基板フィルム20に必要な条件が少なくなるため、液晶分子を所望の態様で配向させるためにより適した材料の選択が可能となる。   As described above, by adopting the step of transferring the liquid crystal layer 23 from the alignment substrate film 20 to the isotropic transparent substrate film 26, there is an advantage that the degree of freedom in selecting the material of the alignment substrate film 20 is increased. That is, the alignment substrate film 20 needs to have conditions such as having a function of aligning liquid crystal molecules and heat resistance in the heat treatment step. When the transfer process of the liquid crystal layer 23 is employed as in the present embodiment, the necessary conditions for the alignment substrate film 20 are reduced, and thus a more suitable material can be selected for aligning the liquid crystal molecules in a desired manner.

(保護層形成工程)   (Protective layer forming step)

上記転写工程の後は、保護層形成工程を行う。保護層形成工程は、図1(f)に示すように、液晶層23の等方性透明基板フィルム26側とは反対側の面に、オーバーコート層28及び保護フィルム29を貼り合わせる工程である。   After the transfer step, a protective layer forming step is performed. The protective layer forming step is a step of bonding the overcoat layer 28 and the protective film 29 to the surface of the liquid crystal layer 23 opposite to the isotropic transparent substrate film 26 side, as shown in FIG. .

オーバーコート層28は、液晶層23を保護するための層であり、可視光に対する吸収率が十分に小さく、光学的に等方性のものが好ましく、保護フィルム29との付着性等を考慮すると前述の接着剤層24と同様の材質とすることができる。   The overcoat layer 28 is a layer for protecting the liquid crystal layer 23, and is preferably sufficiently optically isotropic with respect to visible light, considering the adhesion to the protective film 29 and the like. The same material as the adhesive layer 24 described above can be used.

保護フィルム29は、オーバーコート層28をさらに保護するためのフィルムであり、オーバーコート層28の表面に直接貼られていてもよいし、接着剤を介して貼られていてもよい。この場合の接着剤として、接着剤層24と同様の材質からなり、光硬化型や電子線硬化型の接着剤を用いた場合には、該接着剤をオーバーコート層28の表面に塗布後、未硬化の接着剤層上に保護フィルム29を貼ってから接着剤層を硬化させることにより、オーバーコート層28と保護フィルム29とを貼り合せることができる。   The protective film 29 is a film for further protecting the overcoat layer 28, and may be attached directly to the surface of the overcoat layer 28 or may be attached via an adhesive. As an adhesive in this case, it is made of the same material as the adhesive layer 24, and when a photo-curing or electron beam-curing adhesive is used, the adhesive is applied to the surface of the overcoat layer 28, The overcoat layer 28 and the protective film 29 can be bonded together by applying the protective film 29 on the uncured adhesive layer and then curing the adhesive layer.

保護フィルム29に使用される材質は、製品検査等のために可視光領域で透明なものが好ましく、例えば、PET、ポリメチルメタクリレート、ポリスチレン、ポリカーボネート、ポリエーテルスルホン、ポリアリレート、ポリシクロオレフィン、ポリエチレン、エチレン−ビニルモノマー共重合体、ポリプロピレンのようなポリオレフィン、トリアセチルセルロースなどをあげることができる。これらの材質等からなる保護フィルム29の厚さは、得られる液晶フィルム30の後加工に適用される工程に合わせて適宜選択することができるが、通常は1〜500μm、好ましくは10〜100μmである。   The material used for the protective film 29 is preferably transparent in the visible light region for product inspection, for example, PET, polymethyl methacrylate, polystyrene, polycarbonate, polyethersulfone, polyarylate, polycycloolefin, polyethylene. , Ethylene-vinyl monomer copolymer, polyolefin such as polypropylene, triacetyl cellulose and the like. The thickness of the protective film 29 made of these materials and the like can be appropriately selected according to the process applied to the post-processing of the liquid crystal film 30 to be obtained, but is usually 1 to 500 μm, preferably 10 to 100 μm. is there.

以上の工程を経ることにより、液晶フィルム30が得られる。こうして液晶フィルム30の製造が完了する。   The liquid crystal film 30 is obtained through the above steps. Thus, the production of the liquid crystal film 30 is completed.

[第2実施形態]   [Second Embodiment]

図4は、本発明の第2実施形態に用いるラビング装置を示す断面図であり、このラビング装置を用いて配向基板フィルムにラビングしている状態を示している。本実施形態のラビング装置10aは、押圧部材5を強制的に振動させるための振動子8をさらに備える点で第1実施形態に係るラビング装置10と相違する。   FIG. 4 is a cross-sectional view showing a rubbing apparatus used in the second embodiment of the present invention, and shows a state in which the alignment substrate film is rubbed using this rubbing apparatus. The rubbing apparatus 10a of this embodiment is different from the rubbing apparatus 10 according to the first embodiment in that it further includes a vibrator 8 for forcibly vibrating the pressing member 5.

振動子8は、ラビング布2に接触する押圧部材5の押圧力を変化させるように、図4の矢印B方向に振動する。このように押圧部材5の押圧力を強制的に変動させる構成にすると、ラビングロール1の回転速度が低い場合であっても押圧力が確実に変動する。このため、ラビング布2の除塵が確実に行われる。   The vibrator 8 vibrates in the direction of arrow B in FIG. 4 so as to change the pressing force of the pressing member 5 that contacts the rubbing cloth 2. When the pressing force of the pressing member 5 is forcibly changed in this way, the pressing force surely changes even when the rotational speed of the rubbing roll 1 is low. For this reason, dust removal of the rubbing cloth 2 is performed reliably.

振動子8は押圧部材5を強制的に振動させるものであればいかなる種類のものであってもよい。振動子8による振動の振幅は、押圧部材5がラビング布2から離れない範囲の値とする。振動子8の振動数は、特に制限されないが、例えば、1〜60Hzとすることができる。   The vibrator 8 may be of any kind as long as it forces the pressing member 5 to vibrate. The amplitude of the vibration by the vibrator 8 is set to a value within a range in which the pressing member 5 is not separated from the rubbing cloth 2. The frequency of the vibrator 8 is not particularly limited, but may be 1 to 60 Hz, for example.

[第3実施形態]   [Third embodiment]

図5は、本発明の第3実施形態に用いるラビング装置を示す断面図であり、このラビング装置を用いて配向基板フィルムにラビングしている状態を示している。本実施形態のラビング装置10bは、押圧部材50が、ロール本体1aの延び方向に沿った開口を有する本体部と、本体部の開口に嵌め込まれる網目状部材50bとを有し、この網目状部材50bがラビング布2と接触している点で、第1実施形態に係るラビング装置10と異なる。   FIG. 5 is a cross-sectional view showing a rubbing apparatus used in the third embodiment of the present invention, and shows a state in which the alignment substrate film is rubbed with the rubbing apparatus. In the rubbing device 10b of the present embodiment, the pressing member 50 has a main body portion having an opening along the extending direction of the roll main body 1a, and a mesh member 50b fitted into the opening of the main body portion. It differs from the rubbing apparatus 10 according to the first embodiment in that 50b is in contact with the rubbing cloth 2.

網目状部材50bは、例えば金属等で構成され、本体部から、ラビング布2側に向かって突出するように設けられている。押圧部材50は、ラビングロール1の回転に伴って自然に且つ容易に振動する。したがって、ラビングロール1の回転速度が低い場合であっても、ラビング布2の除塵が有効に行われる。網目状部材50bは、ラビング布2のうちロール本体1aの延び方向に沿った全長に亘って確実にラビング布2と接触していることが好ましい。この場合、ラビング布2全体にわたって粉塵を放出させることができるため、粉塵が配向基板フィルム20に再付着することを十分に防止できる。   The mesh member 50b is made of, for example, metal, and is provided so as to protrude from the main body portion toward the rubbing cloth 2 side. The pressing member 50 naturally and easily vibrates with the rotation of the rubbing roll 1. Therefore, even when the rotational speed of the rubbing roll 1 is low, dust removal of the rubbing cloth 2 is effectively performed. It is preferable that the mesh member 50b is in contact with the rubbing cloth 2 reliably over the entire length of the rubbing cloth 2 along the extending direction of the roll body 1a. In this case, since dust can be discharged over the entire rubbing cloth 2, it is possible to sufficiently prevent the dust from reattaching to the alignment substrate film 20.

本発明は上記実施形態に限定されるものではない。   The present invention is not limited to the above embodiment.

例えば、液晶ポリマーの溶液22は、上記実施形態のように液晶のポリマーを溶剤に溶解させた溶液には限られず、液晶ポリマー自体を融解して液状にしたものを使用することもできる。かかる場合、上述の乾燥工程は省略される。   For example, the liquid crystal polymer solution 22 is not limited to a solution in which a liquid crystal polymer is dissolved in a solvent as in the above-described embodiment, and a liquid crystal polymer melted into a liquid can also be used. In such a case, the drying process described above is omitted.

また、液晶層23の液晶分子の配向の固定化は、上記実施形態のように液晶転移温度が高いサーモトロピック液晶の相転移を利用する方法に限られず、配向後に光架橋や熱架橋によって配向を固定化してもよい。かかる場合、液晶転移温度が低い液晶ポリマーを使用することが可能である。この場合、上述の熱処理工程に代えて、光架橋や熱架橋を行う工程が行われる。   Further, the fixing of the alignment of the liquid crystal molecules in the liquid crystal layer 23 is not limited to the method using the phase transition of the thermotropic liquid crystal having a high liquid crystal transition temperature as in the above embodiment, and the alignment is performed by photocrosslinking or thermal crosslinking after the alignment. It may be fixed. In such a case, it is possible to use a liquid crystal polymer having a low liquid crystal transition temperature. In this case, instead of the above-described heat treatment step, a step of performing photocrosslinking or thermal crosslinking is performed.

また、配向基板フィルム20が光学的に等方的であり可視光に対して透明な材料であれば、配向基板フィルム20を最終的な液晶フィルムの支持フィルムとすることもできる。即ち、上述の転写工程を省略し、配向基板フィルム20上に、液晶層23、オーバーコート層28、保護フィルム29をこの順に積層して液晶フィルムとすることも可能である。   Further, if the alignment substrate film 20 is a material that is optically isotropic and transparent to visible light, the alignment substrate film 20 can be used as a final support film for a liquid crystal film. That is, the above-described transfer process can be omitted, and the liquid crystal layer 23, the overcoat layer 28, and the protective film 29 can be laminated in this order on the alignment substrate film 20 to form a liquid crystal film.

さらに、液晶フィルム30は、液晶層23の液晶分子を特定の配向状態に固定し、その配向状態から生じる光学異方性を利用したフィルムであれば特に制限はされず、例えば、視野角改良フィルムや色補償フィルムとして利用されるものがあげられる。   Further, the liquid crystal film 30 is not particularly limited as long as it is a film that fixes the liquid crystal molecules of the liquid crystal layer 23 in a specific alignment state and uses optical anisotropy generated from the alignment state. And those used as color compensation films.

また、上記実施形態では、ラビングロール1の延び方向と配向基板フィルム20の搬送方向とが直交しているが、これらが直交する場合に限られず、鋭角又は鈍角で交差していてもよい。   Moreover, in the said embodiment, although the extending direction of the rubbing roll 1 and the conveyance direction of the orientation board | substrate film 20 are orthogonal, it is not restricted to these, and you may cross | intersect with an acute angle or an obtuse angle.

さらに、上記第2実施形態では、押圧部材5がロール本体1aの回転軸に平行な回転軸5aの周りに回転可能に支持されているが、押圧部材5は、振動子8に対し、振動子8の振動方向に往復移動するように取り付けられていてもよい。   Furthermore, in the said 2nd Embodiment, although the pressing member 5 is supported so that rotation around the rotating shaft 5a parallel to the rotating shaft of the roll main body 1a is possible, the pressing member 5 is a vibrator | oscillator with respect to the vibrator | oscillator 8. 8 may be attached so as to reciprocate in the vibration direction.

本発明に係る液晶フィルムの製造方法の第1実施形態の一連の製造工程を示す工程図である。It is process drawing which shows a series of manufacturing processes of 1st Embodiment of the manufacturing method of the liquid crystal film which concerns on this invention. 本発明に係る液晶フィルムの製造方法の第1実施形態で用いるラビング装置を示す斜視図である。It is a perspective view which shows the rubbing apparatus used with 1st Embodiment of the manufacturing method of the liquid crystal film which concerns on this invention. 図2のIII−III線に沿った断面図である。It is sectional drawing along the III-III line of FIG. 本発明に係る液晶フィルムの製造方法の第2実施形態で用いるラビング装置を示す断面図である。It is sectional drawing which shows the rubbing apparatus used with 2nd Embodiment of the manufacturing method of the liquid crystal film which concerns on this invention. 本発明に係る液晶フィルムの製造方法の第3実施形態で用いるラビング装置を示す断面図である。It is sectional drawing which shows the rubbing apparatus used with 3rd Embodiment of the manufacturing method of the liquid crystal film which concerns on this invention.

符号の説明Explanation of symbols

1…ラビングロール、2…ラビング布、5、50…押圧部材、6…吸引装置、9…パンチングプレート、10、10a、10b…ラビング装置、20…配向基板フィルム、22…液晶ポリマーの溶液、30…液晶フィルム。   DESCRIPTION OF SYMBOLS 1 ... Rubbing roll, 2 ... Rubbing cloth, 5, 50 ... Pressing member, 6 ... Suction device, 9 ... Punching plate, 10, 10a, 10b ... Rubbing device, 20 ... Oriented substrate film, 22 ... Liquid crystal polymer solution, 30 ... liquid crystal film.

Claims (9)

配向基板フィルムの表面に対してラビング処理を行うラビング工程と、
ラビング処理が行われた前記配向基板フィルムに液晶ポリマーを塗布して前記配向基板フィルム上に液晶層を得る液晶層形成工程とを含み、
前記ラビング工程が、
ラビング布を表面側に有するラビングロールの前記ラビング布に押圧部材を接触させて、前記ラビング布に付着した粉塵を前記ラビング布から放出させる粉塵放出工程と、
放出された粉塵を吸引する粉塵吸引工程とを含むこと、
を特徴とする液晶フィルムの製造方法。
A rubbing step of performing a rubbing treatment on the surface of the oriented substrate film;
A liquid crystal layer forming step of applying a liquid crystal polymer to the alignment substrate film subjected to rubbing treatment to obtain a liquid crystal layer on the alignment substrate film,
The rubbing step includes
A dust releasing step of bringing a pressing member into contact with the rubbing cloth of a rubbing roll having a rubbing cloth on the surface side, and discharging dust adhering to the rubbing cloth from the rubbing cloth;
Including a dust suction step for sucking the released dust,
A method for producing a liquid crystal film.
前記ラビング布に接触する押圧部材の押圧力を、前記ラビングロールの回転に伴って変動させることを特徴とする請求項1に記載の液晶フィルムの製造方法。   The method for producing a liquid crystal film according to claim 1, wherein the pressing force of the pressing member in contact with the rubbing cloth is varied with the rotation of the rubbing roll. 前記押圧部材を、振動子により振動させることによって押圧力を変動させることを特徴とする請求項1に記載の液晶フィルムの製造方法。   The method for manufacturing a liquid crystal film according to claim 1, wherein the pressing force is varied by vibrating the pressing member with a vibrator. 前記押圧部材を前記ラビングロールの回転軸と平行な方向を軸として回転可能に支持しながら前記ラビング布に接触させて押圧させることを特徴とする請求項1〜3のいずれか一項に記載の液晶フィルムの製造方法。   The press member is brought into contact with the rubbing cloth and pressed while being rotatably supported around a direction parallel to the rotation axis of the rubbing roll. A method for producing a liquid crystal film. 前記押圧部材において、前記押圧部材と前記ラビング布との接触部分を網目状とすることを特徴とする請求項1に記載の液晶フィルムの製造方法。   The method for producing a liquid crystal film according to claim 1, wherein in the pressing member, a contact portion between the pressing member and the rubbing cloth is formed in a mesh shape. ラビング布を表面側に有するラビングロールと、
前記ラビング布に接触して押圧する押圧部材と、
前記押圧部材によって前記ラビング布から放出された粉塵を吸引する吸引装置と、
を備えることを特徴とするラビング装置。
A rubbing roll having a rubbing cloth on the surface side;
A pressing member that contacts and presses the rubbing cloth;
A suction device for sucking dust released from the rubbing cloth by the pressing member;
A rubbing apparatus comprising:
前記押圧部材による前記押圧力を変動させる振動子をさらに備えることを特徴とする請求項6に記載のラビング装置。   The rubbing apparatus according to claim 6, further comprising a vibrator that varies the pressing force of the pressing member. 前記押圧部材は、前記ラビングロールの回転軸と平行な方向を軸として回転可能に支持されていることを特徴とする請求項6又は7に記載のラビング装置。   The rubbing apparatus according to claim 6 or 7, wherein the pressing member is rotatably supported with a direction parallel to a rotation axis of the rubbing roll as an axis. 前記押圧部材は、少なくとも前記ラビング布との接触する位置に網目状部を有することを特徴とする請求項6〜8のいずれか一項に記載のラビング装置。   The rubbing apparatus according to any one of claims 6 to 8, wherein the pressing member has a mesh portion at least at a position where the pressing member comes into contact with the rubbing cloth.
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