JP2008216666A - Optical film and optical filter - Google Patents

Abstract

<P>PROBLEM TO BE SOLVED: To provide an optical film excellent in both translucency and antiglare performance and an optical filter equipped with the optical film. <P>SOLUTION: The optical film 1 has a transparent base material 2, an electroconductive layer 3 provided on a surface of the transparent base material 2 and an antiglare layer 4 provided so as to cover a surface of the electroconductive layer 3 and the surface of the transparent base material 2. In the optical film 1, the antiglare layer 4 contains a binder component and resin particles dispersed in the binder component and there is almost no refractive index difference between the binder component and the resin particle (for example 0.03 or less). In addition in the optical film 1, a low refractive index layer 5 is provided on a surface of the antiglare layer 4 and further a near IR ray absorbing layer 6, an adhesive layer 7 and a releasing film 8 are provided in this order on a rear surface of the transparent base material 2. <P>COPYRIGHT: (C)2008,JPO&INPIT

Description

本発明は、プラズマディスプレイパネル（ＰＤＰ）、ブラウン管（ＣＲＴ）ディスプレイ、液晶ディスプレイ、有機ＥＬ（電界発光）ディスプレイ、表面電界型ディスプレイ（ＳＥＤ）を含む電界放出型ディスプレイ（ＦＥＤ）等の各種ディスプレイ用の光学フィルムと、この光学フィルムを備えた光学フィルタに関する。   The present invention is used for various displays such as a plasma display panel (PDP), a cathode ray tube (CRT) display, a liquid crystal display, an organic EL (electroluminescent) display, and a field emission display (FED) including a surface electric field display (SED). The present invention relates to an optical film and an optical filter provided with the optical film.

従来、プラズマディスプレイパネル（ＰＤＰ）、ブラウン管（ＣＲＴ）ディスプレイ、液晶ディスプレイ、有機ＥＬ（電界発光）ディスプレイ、表面電界型ディスプレイ（ＳＥＤ）を含む電界放出型ディスプレイ（ＦＥＤ）等の各種ディスプレイにおいて、外部からの光がディスプレイ表面で反射して視認性が悪くなることを防止するために、ディスプレイ表面に防眩層を設けることが行われている。   Conventionally, in various displays such as a plasma display panel (PDP), a cathode ray tube (CRT) display, a liquid crystal display, an organic EL (electroluminescent) display, a field emission display (FED) including a surface electric field display (SED), etc. In order to prevent the light from being reflected on the display surface and resulting in poor visibility, an antiglare layer is provided on the display surface.

また、ＰＤＰの発光部における高周波パルス放電によって発生した電磁波のために、周辺の赤外線リモコン等に誤作動が生じることを防止する等のために、ディスプレイの表面に電磁波シールド用の導電層を設けることも行われている。   In addition, a conductive layer for electromagnetic wave shielding is provided on the surface of the display in order to prevent malfunction of peripheral infrared remote controllers due to electromagnetic waves generated by high frequency pulse discharge in the light emitting part of the PDP. Has also been done.

例えば、特開２００２−３７４０９４号の図４には、透明基板の上に格子状の防眩層が設けられ、この防眩層の上に格子状の導電層が設けられてなる電磁波シールド性光透過窓材が記載されている。同号の第００２３段落には、防眩層の材質として、ウレタンやアクリル樹脂等の樹脂に、無機顔料や有機顔料を分散させた加工顔料等が挙げられている。   For example, in FIG. 4 of JP-A-2002-374094, an electromagnetic wave shielding light in which a lattice-shaped antiglare layer is provided on a transparent substrate and a lattice-like conductive layer is provided on the antiglare layer. A transmissive window material is described. In paragraph 0023 of the same issue, as a material of the antiglare layer, a processed pigment in which an inorganic pigment or an organic pigment is dispersed in a resin such as urethane or acrylic resin is cited.

また、特開２００６−２５２８８６号の図１には、フィルムの表面に、メッシュ状の第１防眩層、金属層及び第２防眩層がこの順に設けられた電磁波シールド性光透過窓材が記載されている。同号の図３には、フィルムの表面に、メッシュ状の第１防眩層及び金属層がこの順に設けられ、さらにこれらの表面の全面に第２防眩層が設けられた電磁波シールド性光透過窓材が記載されている。
特開２００２−３７４０９４号 特開２００６−２５２８８６号 Further, in FIG. 1 of JP-A-2006-252886, there is an electromagnetic wave shielding light transmitting window material in which a mesh-like first antiglare layer, a metal layer and a second antiglare layer are provided in this order on the surface of the film. Are listed. In FIG. 3 of the same issue, a mesh-shaped first antiglare layer and a metal layer are provided in this order on the surface of the film, and the second antiglare layer is further provided on the entire surface of these films. A transmissive window material is described.
JP 2002-374094 A JP 2006-252886 A

上記特許文献１の図４や特許文献２の図１の電磁波シールド性光透過窓材のように、防眩層がメッシュ状である場合、反射像は写り難くなるが、透過像がクリアーではないという問題がある。   When the antiglare layer is mesh-like, as in the electromagnetic wave shielding light transmitting window material of FIG. 4 of Patent Document 1 or FIG. There is a problem.

本発明は、１枚の基材で電磁波シールド性及び防眩性を備えた光学フィルム及びこの光学フィルムを備えた光学フィルタを提供することを目的とする。また、本発明は、一態様として、周囲にアース電極部を有する光学フィルムおよび光学フィルタを提供することを目的とする。   An object of this invention is to provide the optical filter provided with the electromagnetic wave shielding property and anti-glare property with one base material, and the optical filter provided with this optical film. Moreover, an object of this invention is to provide the optical film and optical filter which have an earth electrode part in the circumference | surroundings as one aspect | mode.

本発明（請求項１）の光学フィルムは、透明基材と、該透明基材の表面に設けられた導電層と、該導電層の表面に設けられた防眩層とを有する光学フィルムにおいて、該防眩層は、バインダー成分と、該バインダー成分中に分散された樹脂粒子とを含有しており、該バインダー成分と該樹脂粒子の屈折率の差がほとんどないことを特徴とする。   The optical film of the present invention (Invention 1) is an optical film having a transparent substrate, a conductive layer provided on the surface of the transparent substrate, and an antiglare layer provided on the surface of the conductive layer. The antiglare layer contains a binder component and resin particles dispersed in the binder component, and there is almost no difference in refractive index between the binder component and the resin particles.

請求項２の光学フィルムは、請求項１において、前記バインダー成分は光硬化性であることを特徴とする。   The optical film of claim 2 is characterized in that, in claim 1, the binder component is photocurable.

請求項３の光学フィルムは、請求項１又は２において、前記樹脂粒子は粒径１〜１０μｍであることを特徴とする。   An optical film according to a third aspect is the optical film according to the first or second aspect, wherein the resin particles have a particle diameter of 1 to 10 μm.

請求項４の光学フィルムは、請求項１ないし３のいずれか１項において、前記樹脂粒子は架橋アクリル樹脂ビーズ、架橋スチレン樹脂ビーズ及び架橋アクリル−スチレン樹脂ビーズよりなる群より選ばれる少なくとも１種であることを特徴とする。   The optical film according to claim 4 is the optical film according to any one of claims 1 to 3, wherein the resin particles are at least one selected from the group consisting of crosslinked acrylic resin beads, crosslinked styrene resin beads, and crosslinked acrylic-styrene resin beads. It is characterized by being.

請求項５の光学フィルムは、請求項１ないし４のいずれか１項において、さらに近赤外線吸収層が設けられていることを特徴とする。   The optical film according to claim 5 is characterized in that a near-infrared absorbing layer is further provided in any one of claims 1 to 4.

請求項６の光学フィルムは、請求項１ないし５のいずれか１項において、前記防眩層の表面に、該防眩層よりも屈折率の低い低屈折層が設けられていることを特徴とする。   The optical film of claim 6 is characterized in that, in any one of claims 1 to 5, a low refractive layer having a refractive index lower than that of the antiglare layer is provided on the surface of the antiglare layer. To do.

請求項７の光学フィルムは、請求項１ないし６のいずれか１項において、前記導電層の前記表面の周縁部又は周縁近傍部の少なくとも一部の領域が露出しており、この露出部が電極部となっていることを特徴とする。   An optical film according to a seventh aspect is the optical film according to any one of the first to sixth aspects, wherein at least a part of a peripheral edge portion or a peripheral vicinity portion of the surface of the conductive layer is exposed, and the exposed portion is an electrode. It is characterized by being part.

請求項８の光学フィルムは、請求項１ないし７のいずれか１項において、前記導電層の側面が露出しており、この露出部が電極部となっていることを特徴とする。   An optical film according to an eighth aspect is characterized in that, in any one of the first to seventh aspects, the side surface of the conductive layer is exposed, and the exposed portion serves as an electrode portion.

本発明（請求項９）の光学フィルタは、請求項１ないし８のいずれか１項に記載の光学フィルムがガラスに貼合されていることを特徴とする。   The optical filter of the present invention (invention 9) is characterized in that the optical film according to any one of claims 1 to 8 is bonded to glass.

本発明の光学フィルム及び光学フィルタであれば、防眩層がバインダー成分と樹脂粒子とを含有しており、該バインダー成分と該樹脂粒子の屈折率の差がほとんどないため、透過性と防眩性の両方に優れたものになる。   In the optical film and optical filter of the present invention, the antiglare layer contains a binder component and resin particles, and there is almost no difference in refractive index between the binder component and the resin particles, so that the transparency and antiglare are the same. It will be excellent in both sex.

即ち、防眩層は通常、樹脂粒子の一部が防眩層の表面に露出することにより、表面が凹凸形状になっており、この凹凸形状の表面で反射光が散乱することにより、防眩性が得られる。本発明ではさらに、バインダー成分と樹脂粒子の屈折率差がほとんどないため、この表面の凹凸形状による効果の分だけ透過光も散乱させることになり、透過性に優れたものとなる。これに対し、バインダー成分と樹脂粒子の屈折率差が大きい場合、反射光の散乱効果は同等であるものの、バインダー成分と樹脂粒子の界面での光の屈折散乱が多く起こるため、透過性に劣る。   That is, the antiglare layer usually has an uneven surface when a part of the resin particles are exposed on the surface of the antiglare layer, and the reflected light is scattered on the uneven surface, thereby preventing the antiglare layer. Sex is obtained. Further, in the present invention, since there is almost no difference in the refractive index between the binder component and the resin particles, the transmitted light is scattered by the effect of the uneven shape on the surface, and the transparency is excellent. On the other hand, when the refractive index difference between the binder component and the resin particles is large, the scattering effect of the reflected light is the same, but the light is scattered and scattered at the interface between the binder component and the resin particles, resulting in poor transparency. .

請求項２の光学フィルムによると、防眩層のバインダー成分が光硬化性であるため、該バインダー成分に光を照射することにより、バインダー成分を容易に硬化させることができる。   According to the optical film of the second aspect, since the binder component of the antiglare layer is photocurable, the binder component can be easily cured by irradiating the binder component with light.

請求項３の光学フィルムによると、樹脂粒子は粒径１〜１０μｍであるため、透過性及び防眩性がより優れたものになる。これに対し、樹脂粒子の粒径が小さすぎると、良好な表面凹凸形状が得られず、防眩効果を十分に得ることができない。また、樹脂粒子の粒径が大きすぎると、表面形状が荒くなりすぎ、外観が不良なものとなる。
According to the optical film of the third aspect, since the resin particles have a particle diameter of 1 to 10 μm, the transparency and the antiglare property are further improved. On the other hand, if the particle size of the resin particles is too small, a good surface irregularity shape cannot be obtained, and a sufficient antiglare effect cannot be obtained. On the other hand, if the particle size of the resin particles is too large, the surface shape becomes too rough and the appearance is poor.

請求項４の光学フィルムでは、樹脂粒子が架橋アクリル樹脂ビーズ、架橋スチレン樹脂ビーズ及び架橋アクリル−スチレン樹脂ビーズよりなる群より選ばれる少なくとも１種である。このように架橋することにより、塗料化した場合に溶剤への溶解又はクラックの発生が防止される。また、無機物粒子や金属粒子等と比較して、バインダー成分との屈折率が近いため、透過性に優れる。さらに、共重合組成による屈折率の調整も容易である。   In the optical film of claim 4, the resin particles are at least one selected from the group consisting of crosslinked acrylic resin beads, crosslinked styrene resin beads and crosslinked acrylic-styrene resin beads. By crosslinking in this manner, dissolution in a solvent or generation of cracks is prevented when a paint is formed. Moreover, since the refractive index with a binder component is near compared with an inorganic particle, a metal particle, etc., it is excellent in permeability. Further, the refractive index can be easily adjusted by the copolymer composition.

請求項５の光学フィルムによると、近赤外線吸収層が設けられているため、この光学フィルムをディスプレイの前面に設けた場合、ディスプレイから発生する近赤外線によって周辺機器のリモコン等に誤作動が発生することが防止される。   According to the optical film of claim 5, since the near-infrared absorbing layer is provided, when this optical film is provided on the front surface of the display, a malfunction occurs in the remote control of the peripheral device or the like due to the near-infrared light generated from the display. It is prevented.

請求項６の光学フィルムによると、防眩層の上に低屈折層が設けられているため、光学フィルムの光の干渉作用で光の反射を防止して高視野角とすることができる。   According to the optical film of the sixth aspect, since the low refractive layer is provided on the antiglare layer, reflection of light can be prevented by a light interference action of the optical film, and a high viewing angle can be obtained.

請求項７の光学フィルムによると、導電層の前記表面の周縁部又は周縁近傍部の少なくとも一部の領域が露出しており、この露出部が電極部となっているため、アースを容易にとることができる。   According to the optical film of claim 7, at least a part of the peripheral portion of the surface of the conductive layer or the vicinity of the peripheral portion is exposed, and the exposed portion serves as an electrode portion. be able to.

請求項８の光学フィルムによっても、導電層の側面が露出しており、この露出部が電極部となっているため、アースを容易にとることができる。   Also according to the optical film of the eighth aspect, since the side surface of the conductive layer is exposed and the exposed portion serves as an electrode portion, the ground can be easily taken.

以下、図面を参照して本発明の実施の形態について詳細に説明する。図１は実施の形態に係る光学フィルム１の断面図である。   Hereinafter, embodiments of the present invention will be described in detail with reference to the drawings. FIG. 1 is a cross-sectional view of an optical film 1 according to an embodiment.

図１の光学フィルム１は、透明基材２と、該透明基材２の表面に設けられたパターン形状の導電層３と、該導電層３の表面及び該透明基材２の表面の全面を覆うように設けられた防眩層４と、該防眩層４の表面に設けられた低屈折層５と、該透明基材２の裏面に設けられた近赤外線吸収層６を有する。また、この光学フィルム１は、この近赤外線吸収層６の裏面に設けられた粘着層７と、この粘着層７の裏面に設けられた離型フィルム８を有している。   The optical film 1 in FIG. 1 includes a transparent substrate 2, a patterned conductive layer 3 provided on the surface of the transparent substrate 2, the surface of the conductive layer 3, and the entire surface of the transparent substrate 2. It has an antiglare layer 4 provided so as to cover, a low refractive layer 5 provided on the surface of the antiglare layer 4, and a near infrared absorption layer 6 provided on the back surface of the transparent substrate 2. The optical film 1 has an adhesive layer 7 provided on the back surface of the near-infrared absorbing layer 6 and a release film 8 provided on the back surface of the adhesive layer 7.

この光学フィルム１を製造するには、透明基材２上にパターン形状の導電層３を形成する。次いで、この導電層３及び透明基材２の表面を覆うように防眩層４を形成し、さらに該防眩層４の表面に低屈折層５を形成する。また、透明基材２の裏面に近赤外線吸収層６を形成し、該近赤外線吸収層６の裏面に、粘着層７及び離型フィルム８をこの順に貼着する。   In order to produce this optical film 1, a patterned conductive layer 3 is formed on a transparent substrate 2. Next, the antiglare layer 4 is formed so as to cover the surfaces of the conductive layer 3 and the transparent substrate 2, and the low refractive layer 5 is formed on the surface of the antiglare layer 4. Moreover, the near-infrared absorption layer 6 is formed in the back surface of the transparent base material 2, and the adhesion layer 7 and the release film 8 are stuck on the back surface of this near-infrared absorption layer 6 in this order.

次に、上記の各材料の好適例について説明する。   Next, suitable examples of each of the above materials will be described.

＜透明基材＞
透明基材２としては、透明（「可視光に対して透明」を意味する。）なプラスチックフィルム等が用いられる。この透明なプラスチックフィルムの例としては、ポリエステル｛例、ポリエチレンテレフタレート（ＰＥＴ）、ポリブチレンテレフタレート｝、ポリメチルメタクリレート（ＰＭＭＡ）、アクリル樹脂、ポリカーボネート（ＰＣ）、ポリスチレン、トリアセテート樹脂、ポリビニルアルコール、ポリ塩化ビニル、ポリ塩化ビニリデン、ポリエチレン、エチレン−酢酸ビニル共重合体、ポリビニルブチラール、金属イオン架橋エチレン−メタクリル酸共重合体、ポリウレタン、セロファン等を挙げることができる。これらの中でも、加工時の負荷（熱、溶剤、折り曲げ等）に対する耐性が高く、透明性が特に高い等の点で、ポリエチレンテレフタレート（ＰＥＴ）、ポリカーボネート（ＰＣ）、ポリメチルメタクリレート（ＰＭＭＡ）等が好ましい。特に、ＰＥＴが、加工性に優れているので好ましい。さらに、ＰＥＴ等のポリエステルは、紫外線を吸収する添加剤が加えられ、紫外線をカットするものが好ましい。 <Transparent substrate>
As the transparent substrate 2, a transparent plastic film (meaning “transparent to visible light”) or the like is used. Examples of this transparent plastic film include polyester {eg, polyethylene terephthalate (PET), polybutylene terephthalate}, polymethyl methacrylate (PMMA), acrylic resin, polycarbonate (PC), polystyrene, triacetate resin, polyvinyl alcohol, polychlorinated. Examples thereof include vinyl, polyvinylidene chloride, polyethylene, ethylene-vinyl acetate copolymer, polyvinyl butyral, metal ion crosslinked ethylene-methacrylic acid copolymer, polyurethane, cellophane and the like. Among these, polyethylene terephthalate (PET), polycarbonate (PC), polymethyl methacrylate (PMMA), etc. are highly resistant to loads during processing (heat, solvent, bending, etc.) and particularly highly transparent. preferable. In particular, PET is preferable because it has excellent processability. Furthermore, polyesters such as PET are preferably those which are added with an additive that absorbs ultraviolet rays and cut ultraviolet rays.

透明基材２の厚さとしては、光学フィルム１の用途等によっても異なるが、一般に１μｍ〜１０ｍｍ、１μｍ〜５ｍｍ、特に２５〜２５０μｍが好ましい。   The thickness of the transparent substrate 2 varies depending on the use of the optical film 1 and the like, but is generally 1 μm to 10 mm, 1 μm to 5 mm, and particularly preferably 25 to 250 μm.

＜導電層＞
導電層３は、得られる光学フィルム１の表面抵抗値が、一般に１０Ω／□以下、好ましくは０．００１〜５Ω／□の範囲、特に０．００５〜５Ω／□のとなるように設定される。 <Conductive layer>
The conductive layer 3 is set so that the surface resistance value of the obtained optical film 1 is generally 10Ω / □ or less, preferably 0.001 to 5Ω / □, particularly 0.005 to 5Ω / □. .

図１の光学フィルム１においては、導電層３はパターン形状となっている。このパターン形状には特に制限はなく、格子状（メッシュ状）の他、金属箔に円形、六角形、三角形又は楕円形の孔が形成されたパンチングメタル状であってもよい。また、孔は規則的に並んだものに限らず、ランダムパターンとしても良い。この導電層３の投影面における開口部分の面積割合は、２０〜９５％であることが好ましい。   In the optical film 1 of FIG. 1, the conductive layer 3 has a pattern shape. The pattern shape is not particularly limited, and may be a punching metal shape in which circular, hexagonal, triangular, or elliptical holes are formed in the metal foil in addition to a lattice shape (mesh shape). Further, the holes are not limited to those regularly arranged, and may be a random pattern. The area ratio of the opening portion on the projection surface of the conductive layer 3 is preferably 20 to 95%.

メッシュ状の導電層３としては、金属繊維及び金属被覆有機繊維の金属を網状にしたもの、透明基材２上の銅箔等の層を網状にエッチング加工し、開口部を設けたもの、透明基材２に導電性インクをメッシュ状に印刷したもの、等を挙げることができる。   As the mesh-like conductive layer 3, a metal fiber and metal-coated organic fiber metal made into a mesh, a layer of copper foil or the like on the transparent substrate 2 etched into a mesh and provided with an opening, transparent Examples thereof include those obtained by printing conductive ink on the base material 2 in a mesh shape.

メッシュ状の導電層３の場合、メッシュとしては、金属を格子状に形成したものなら特に制限されない。この導電層３は、線径１〜５０μｍ、開口率４０〜９５％、高さ０．０１〜１５μｍのものが好ましい。より好ましくは、線径１０〜４０μｍ、開口率５０〜９５％、高さ０．１〜１５μｍである。メッシュ状の導電層３において、線径が５０μｍを超えると電磁波シールド性が向上するが、開口率が低下し両立させることができない。１μｍ未満では、電磁波シールド性を十分に得ることができないと共に、製造が困難である。また開口率が９５％を超えるとメッシュとしての形状を維持することが困難であり、４０％未満では光透過性が低下し、ディスプレイからの光量も低下する。   In the case of the mesh-shaped conductive layer 3, the mesh is not particularly limited as long as the metal is formed in a lattice shape. The conductive layer 3 preferably has a wire diameter of 1 to 50 μm, an aperture ratio of 40 to 95%, and a height of 0.01 to 15 μm. More preferably, the wire diameter is 10 to 40 μm, the aperture ratio is 50 to 95%, and the height is 0.1 to 15 μm. When the wire diameter exceeds 50 μm in the mesh-shaped conductive layer 3, the electromagnetic shielding properties are improved, but the aperture ratio is lowered and cannot be made compatible. If the thickness is less than 1 μm, sufficient electromagnetic shielding properties cannot be obtained, and manufacture is difficult. Further, when the aperture ratio exceeds 95%, it is difficult to maintain the shape as a mesh. When the aperture ratio is less than 40%, the light transmittance is reduced, and the amount of light from the display is also reduced.

なお、メッシュ状の導電層３の開口率とは、当該メッシュの投影面積における開口部分が占める面積割合を言う。   Note that the aperture ratio of the mesh-like conductive layer 3 refers to the area ratio occupied by the aperture in the projected area of the mesh.

メッシュ状の導電層３を構成する格子状の金属としては、銅、ステンレス、アルミニウム、ニッケル、チタン、タングステン、錫、鉛、鉄、銀、炭素或いはこれらの合金、好ましくは銅、ステンレス、ニッケルが用いられる。   Examples of the grid-like metal constituting the mesh-like conductive layer 3 include copper, stainless steel, aluminum, nickel, titanium, tungsten, tin, lead, iron, silver, carbon, or alloys thereof, preferably copper, stainless steel, and nickel. Used.

金属箔等の導電性の箔をパターンエッチングしたもの場合、金属箔の金属としては、銅、ステンレス、アルミニウム、ニッケル、鉄、真鍮、或いはこれらの合金、好ましくは銅、ステンレス、アルミニウムが用いられる。   When a conductive foil such as a metal foil is subjected to pattern etching, copper, stainless steel, aluminum, nickel, iron, brass, or an alloy thereof, preferably copper, stainless steel, or aluminum is used as the metal of the metal foil.

金属箔の厚さは、薄過ぎると取扱い性やパターンエッチングの作業性等の面で好ましくなく、厚過ぎると得られるフィルムの厚さに影響を及ぼし、エッチング工程の所要時間が長くなることから、１〜１５μｍ程度とするのが好ましい。   If the thickness of the metal foil is too thin, it is not preferable in terms of handleability and workability of pattern etching, and if it is too thick, it affects the thickness of the film obtained, and the time required for the etching process becomes long. The thickness is preferably about 1 to 15 μm.

上記の他に、メッシュ状の導電層３として、フィルム面に、溶剤に対して可溶な材料によってドットを形成し、フィルム面に溶剤に対して不溶な導電材料からなる導電材料層を形成し、フィルム面を溶剤と接触させてドット及びドット上の導電材料層を除去することによって得られるメッシュ状導電層３を用いても良い。   In addition to the above, as the mesh-like conductive layer 3, dots are formed on the film surface by a material soluble in a solvent, and a conductive material layer made of a conductive material insoluble in a solvent is formed on the film surface. Alternatively, the mesh-like conductive layer 3 obtained by contacting the film surface with a solvent and removing the dots and the conductive material layer on the dots may be used.

上記導電層上に、さらに金属メッキ層を設けたものを、導電層３としてもよい。これにより、導電性を向上させることができる（特に、上記溶剤に対して可溶な材料によってドットを形成する方法の場合）。金属メッキ層は、公知の電解メッキ法、無電解メッキ法により形成することができる。メッキに使用される金属としては、一般に銅、銅合金、ニッケル、アルミ、銀、金、亜鉛又はスズ等を使用することが可能であり、好ましくは銅、銅合金、銀、又はニッケルであり、特に経済性、導電性の点から、銅又は銅合金を使用することが好ましい。   The conductive layer 3 may be formed by further providing a metal plating layer on the conductive layer. Thereby, electroconductivity can be improved (especially in the case of the method of forming a dot with the material soluble with respect to the said solvent). The metal plating layer can be formed by a known electrolytic plating method or electroless plating method. As the metal used for plating, generally, copper, copper alloy, nickel, aluminum, silver, gold, zinc or tin can be used, preferably copper, copper alloy, silver or nickel, In particular, it is preferable to use copper or a copper alloy from the viewpoint of economy and conductivity.

また、導電層３に防眩処理を行ってもよい。この防眩化処理としては、例えば導電層の表面に黒化処理を行う。黒色処理としては、導電層の酸化処理、クロム合金等の黒色メッキ、黒又は暗色系のインクの塗布等を行うことができる。   Further, the anti-glare treatment may be performed on the conductive layer 3. As the antiglare treatment, for example, a blackening treatment is performed on the surface of the conductive layer. As the black treatment, oxidation treatment of the conductive layer, black plating of a chromium alloy, application of black or dark ink, or the like can be performed.

＜防眩層＞
防眩層４としては、バインダー成分と、該バインダー成分中に分散された樹脂粒子とを含有するものが用いられる。この防眩層４は、一般に樹脂粒子をバインダー成分に分散させた原料を、透明基材２に塗布し、乾燥ないし硬化させることにより形成される。 <Anti-glare layer>
As the anti-glare layer 4, a layer containing a binder component and resin particles dispersed in the binder component is used. The antiglare layer 4 is generally formed by applying a raw material in which resin particles are dispersed in a binder component to the transparent substrate 2 and drying or curing.

このバインダー成分及び樹脂粒子としては、屈折率の差がほとんどないもの、例えば屈折率の差が０．０３以下、特に０．０２以下のものが用いられる。屈折率の差が０．０３以下である場合、表面形状効果により、防眩性が十分に得られると共に、透過性の劣化が小さい。これに対し、屈折率の差が０．０３よりも大きい場合、バインダー成分と樹脂粒子との界面での屈折散乱により、透過性が悪化してしまう。   As the binder component and the resin particles, those having almost no difference in refractive index, for example, those having a refractive index difference of 0.03 or less, particularly 0.02 or less are used. When the difference in refractive index is 0.03 or less, the anti-glare property is sufficiently obtained due to the surface shape effect, and the deterioration of the transparency is small. On the other hand, when the difference in refractive index is larger than 0.03, the transparency deteriorates due to refractive scattering at the interface between the binder component and the resin particles.

防眩層４の層厚は、一般に０．０１〜２０μｍの範囲である。   The layer thickness of the antiglare layer 4 is generally in the range of 0.01 to 20 μm.

バインダー成分としては、アクリル樹脂層、エポキシ樹脂層、ウレタン樹脂層、シリコン樹脂層等の合成樹脂等が挙げられる。合成樹脂としては、熱硬化性樹脂及び紫外線硬化性樹脂が好ましく、特に紫外線硬化性樹脂が好ましい。紫外線硬化性樹脂は、短時間で硬化させることができ、生産性に優れ、またレーザにより除去し易い点からも好ましい。   Examples of the binder component include synthetic resins such as an acrylic resin layer, an epoxy resin layer, a urethane resin layer, and a silicon resin layer. As the synthetic resin, a thermosetting resin and an ultraviolet curable resin are preferable, and an ultraviolet curable resin is particularly preferable. The ultraviolet curable resin is preferable because it can be cured in a short time, has excellent productivity, and is easily removed by a laser.

熱硬化性樹脂としては、フェノール樹脂、レゾルシノール樹脂、尿素樹脂、メラミン樹脂、エポキシ樹脂、アクリル樹脂、ウレタン樹脂、フラン樹脂、シリコン樹脂などを挙げることができる。   Examples of the thermosetting resin include phenol resin, resorcinol resin, urea resin, melamine resin, epoxy resin, acrylic resin, urethane resin, furan resin, and silicon resin.

紫外線硬化性樹脂（モノマー、オリゴマー）としては、例えば、２−ヒドロキシエチル（メタ）アクリレート、２−ヒドロキシプロピル（メタ）アクリレート、４−ヒドロキシブチル（メタ）アクリレート、２−エチルヘキシルポリエトキシ（メタ）アクリレート、ベンジル（メタ）アクリレート、イソボルニル（メタ）アクリレート、フェニルオキシエチル（メタ）アクリレート、トリシクロデカンモノ（メタ）アクリレート、ジシクロペンテニルオキシエチル（メタ）アクリレート、テトラヒドロフルフリル（メタ）アクリレート、アクリロイルモルホリン、Ｎ−ビニルカプロラクタム、２−ヒドロキシ−３−フェニルオキシプロピル（メタ）アクリレート、ｏ−フェニルフェニルオキシエチル（メタ）アクリレート、ネオペンチルグリコールジ（メタ）アクリレート、ネオペンチルグリコールジプロポキシジ（メタ）アクリレート、ヒドロキシピバリン酸ネオペンチルグリコールジ（メタ）アクリレート、トリシクロデカンジメチロールジ（メタ）アクリレート、１，６−ヘキサンジオールジ（メタ）アクリレート、ノナンジオールジ（メタ）アクリレート、トリメチロールプロパントリ（メタ）アクリレート、ペンタエリスリトールトリ（メタ）アクリレート、ペンタエリスリトールテトラ（メタ）アクリレート、トリス〔（メタ）アクリロキシエチル〕イソシアヌレート、ジトリメチロールプロパンテトラ（メタ）アクリレート等の（メタ）アクリレートモノマー類；ポリオール化合物（例えば、エチレングリコール、プロピレングリコール、ネオペンチルグリコール、１，６−ヘキサンジオール、３−メチル−１，５−ペンタンジオール、１，９−ノナンジオール、２−エチル−２−ブチル−１，３−プロパンジオール、トリメチロールプロパン、ジエチレングリコール、ジプロピレングリコール、ポリプロピレングリコール、１，４−ジメチロールシクロヘキサン、ビスフェノールＡポリエトキシジオール、ポリテトラメチレングリコール等のポリオール類、前記ポリオール類とコハク酸、マレイン酸、イタコン酸、アジピン酸、水添ダイマー酸、フタル酸、イソフタル酸、テレフタル酸等の多塩基酸又はこれらの酸無水物類との反応物であるポリエステルポリオール類、前記ポリオール類とε−カプロラクトンとの反応物であるポリカプロラクトンポリオール類、前記ポリオール類と前記、多塩基酸又はこれらの酸無水物類のε−カプロラクトンとの反応物、ポリカーボネートポリオール、ポリマーポリオール等）と有機ポリイソシアネート（例えば、トリレンジイソシアネート、イソホロンジイソシアネート、キシリレンジイソシアネート、ジフェニルメタン−４，４′−ジイソシアネート、ジシクロペンタニルジイソシアネート、ヘキサメチレンジイソシアネート、２，４，４′−トリメチルヘキサメチレンジイソシアネート、２，２′−４−トリメチルヘキサメチレンジイソシアネート等）と水酸基含有（メタ）アクリレート（例えば、２−ヒドロキシエチル（メタ）アクリレート、２−ヒドロキシプロピル（メタ）アクリレート、４−ヒドロキシブチル（メタ）アクリレート、２−ヒドロキシ−３−フェニルオキシプロピル（メタ）アクリレート、シクロヘキサン−１，４−ジメチロールモノ（メタ）アクリレート、ペンタエリスリトールトリ（メタ）アクリレート、ペンタエリスリトールペンタ（メタ）アクリレート、ジペンタエリスリトールヘキサ（メタ）アクリレート、グリセリンジ（メタ）アクリレート等）の反応物であるポリウレタン（メタ）アクリレート、ビスフェノールＡ型エポキシ樹脂、ビスフェノールＦ型エポキシ樹脂等のビスフェノール型エポキシ樹脂と（メタ）アクリル酸の反応物であるビスフェノール型エポキシ（メタ）アクリレート等の（メタ）アクリレートオリゴマー類等を挙げることができる。これら化合物は１種又は２種以上、混合して使用することができる。これらの紫外線硬化性樹脂を、熱重合開始剤とともに用いて熱硬化性樹脂として使用してもよい。   Examples of the ultraviolet curable resin (monomer, oligomer) include 2-hydroxyethyl (meth) acrylate, 2-hydroxypropyl (meth) acrylate, 4-hydroxybutyl (meth) acrylate, and 2-ethylhexyl polyethoxy (meth) acrylate. , Benzyl (meth) acrylate, isobornyl (meth) acrylate, phenyloxyethyl (meth) acrylate, tricyclodecane mono (meth) acrylate, dicyclopentenyloxyethyl (meth) acrylate, tetrahydrofurfuryl (meth) acrylate, acryloylmorpholine , N-vinylcaprolactam, 2-hydroxy-3-phenyloxypropyl (meth) acrylate, o-phenylphenyloxyethyl (meth) acrylate, neopentylglyce Di (meth) acrylate, neopentyl glycol dipropoxy di (meth) acrylate, neopentyl glycol di (meth) acrylate hydroxypivalate, tricyclodecane dimethylol di (meth) acrylate, 1,6-hexanediol di (meth) Acrylate, nonanediol di (meth) acrylate, trimethylolpropane tri (meth) acrylate, pentaerythritol tri (meth) acrylate, pentaerythritol tetra (meth) acrylate, tris [(meth) acryloxyethyl] isocyanurate, ditrimethylolpropane (Meth) acrylate monomers such as tetra (meth) acrylate; polyol compounds (for example, ethylene glycol, propylene glycol, neopentyl glycol, , 6-hexanediol, 3-methyl-1,5-pentanediol, 1,9-nonanediol, 2-ethyl-2-butyl-1,3-propanediol, trimethylolpropane, diethylene glycol, dipropylene glycol, polypropylene Polyols such as glycol, 1,4-dimethylolcyclohexane, bisphenol A polyethoxydiol, polytetramethylene glycol, the polyols and succinic acid, maleic acid, itaconic acid, adipic acid, hydrogenated dimer acid, phthalic acid, isophthalic acid Polyester polyols which are reaction products of polybasic acids such as acid and terephthalic acid or acid anhydrides thereof, polycaprolactone polyols which are reaction products of the polyols and ε-caprolactone, the polyols and the above, Polybasic acid or this Reaction products of these acid anhydrides with ε-caprolactone, polycarbonate polyols, polymer polyols, etc.) and organic polyisocyanates (for example, tolylene diisocyanate, isophorone diisocyanate, xylylene diisocyanate, diphenylmethane-4,4′-diisocyanate, diisocyanate) Cyclopentanyl diisocyanate, hexamethylene diisocyanate, 2,4,4′-trimethylhexamethylene diisocyanate, 2,2′-4-trimethylhexamethylene diisocyanate, etc.) and a hydroxyl group-containing (meth) acrylate (for example, 2-hydroxyethyl (meta ) Acrylate, 2-hydroxypropyl (meth) acrylate, 4-hydroxybutyl (meth) acrylate, 2-hydroxy-3-phenyloxypropyl (meth) acrylic Rate, cyclohexane-1,4-dimethylol mono (meth) acrylate, pentaerythritol tri (meth) acrylate, pentaerythritol penta (meth) acrylate, dipentaerythritol hexa (meth) acrylate, glycerin di (meth) acrylate, etc.) (Meth) such as bisphenol type epoxy (meth) acrylate, which is a reaction product of bisphenol type epoxy resin such as polyurethane (meth) acrylate, bisphenol A type epoxy resin, bisphenol F type epoxy resin and (meth) acrylic acid, which are reactants Examples include acrylate oligomers. These compounds can be used alone or in combination. These ultraviolet curable resins may be used as a thermosetting resin together with a thermal polymerization initiator.

上記の紫外線硬化性樹脂（モノマー、オリゴマー）の内、ペンタエリスリトールトリ（メタ）アクリレート、ペンタエリスリトールペンタ（メタ）アクリレート、ジペンタエリスリトールヘキサ（メタ）アクリレート等の硬質の多官能モノマーを主に使用することが好ましい。   Of the above UV curable resins (monomers and oligomers), hard polyfunctional monomers such as pentaerythritol tri (meth) acrylate, pentaerythritol penta (meth) acrylate and dipentaerythritol hexa (meth) acrylate are mainly used. It is preferable.

紫外線硬化性樹脂の光重合開始剤として、紫外線硬化性樹脂の性質に適した任意の化合物を使用することができる。例えば、２−ヒドロキシ−２−メチル−１−フェニルプロパン−１−オン、１−ヒドロキシシクロヘキシルフェニルケトン、２−メチル−１−（４−（メチルチオ）フェニル）−２−モルホリノプロパン−１などのアセトフェノン系、ベンジルジメチルケタールなどのベンゾイン系、ベンゾフェノン、４−フェニルベンゾフェノン、ヒドロキシベンゾフェノンなどのベンゾフェノン系、イソプロピルチオキサントン、２−４−ジエチルチオキサントンなどのチオキサントン系、その他特殊なものとしては、メチルフェニルグリオキシレートなどが使用できる。特に好ましくは、２−ヒドロキシ−２−メチル−１−フェニルプロパン−１−オン、１−ヒドロキシシクロヘキシルフェニルケトン、２−メチル−１−（４−（メチルチオ）フェニル）−２−モルホリノプロパン−１、ベンゾフェノン等が挙げられる。これら光重合開始剤は、必要に応じて、４−ジメチルアミノ安息香酸のごとき安息香酸系叉は、第３級アミン系などの公知慣用の光重合促進剤の１種または２種以上を任意の割合で混合して使用することができる。また、光重合開始剤のみの１種または２種以上の混合で使用することができる。特に１−ヒドロキシシクロヘキシルフェニルケトン(チバ・スペシャリティケミカルズ社製、イルガキュア１８４
）が好ましい。 Any compound suitable for the properties of the ultraviolet curable resin can be used as the photopolymerization initiator for the ultraviolet curable resin. For example, acetophenone such as 2-hydroxy-2-methyl-1-phenylpropan-1-one, 1-hydroxycyclohexyl phenyl ketone, 2-methyl-1- (4- (methylthio) phenyl) -2-morpholinopropane-1 Benzoin series such as benzyldimethyl ketal, benzophenone, 4-phenylbenzophenone, benzophenone series such as hydroxybenzophenone, thioxanthone series such as isopropylthioxanthone, 2-4-diethylthioxanthone, and other special ones include methylphenyl glyoxylate Etc. can be used. Particularly preferably, 2-hydroxy-2-methyl-1-phenylpropan-1-one, 1-hydroxycyclohexyl phenyl ketone, 2-methyl-1- (4- (methylthio) phenyl) -2-morpholinopropane-1, Examples include benzophenone. These photopolymerization initiators may be optionally selected from one or more known photopolymerization accelerators such as benzoic acid-based or tertiary amine-based compounds such as 4-dimethylaminobenzoic acid. It can be used by mixing at a ratio. Moreover, it can be used by 1 type, or 2 or more types of mixture of only a photoinitiator. 1-hydroxycyclohexyl phenyl ketone (Irgacure 184, manufactured by Ciba Specialty Chemicals)
) Is preferred.

光重合開始剤の量は、バインダー成分に対して一般に０．１〜１０質量％、好ましくは０．１〜５質量％である。   Generally the quantity of a photoinitiator is 0.1-10 mass% with respect to a binder component, Preferably it is 0.1-5 mass%.

樹脂粒子としては、架橋アクリル樹脂ビーズ、架橋スチレン樹脂ビーズ、架橋アクリル−スチレン共重合樹脂ビーズ、シリカビーズ等が用いられる。   As the resin particles, crosslinked acrylic resin beads, crosslinked styrene resin beads, crosslinked acrylic-styrene copolymer resin beads, silica beads and the like are used.

樹脂粒子は、平均粒径が１〜１０μｍであることが好ましい。平均粒径が１μｍ以上であると、防眩層４の表面に微細な凹凸が形成され、この凹凸によって光が拡散されるため、防眩効果に優れる。平均粒径が１０μｍ以下であると、外観的な視認性に優れる。   The resin particles preferably have an average particle size of 1 to 10 μm. When the average particle size is 1 μm or more, fine irregularities are formed on the surface of the antiglare layer 4, and light is diffused by the irregularities, so that the antiglare effect is excellent. When the average particle size is 10 μm or less, the visual visibility is excellent.

さらに、防眩層４の原料として、導電性粒子などの帯電防止剤、紫外線吸収剤、赤外線吸収剤、老化防止剤、塗料加工助剤、着色剤等を少量含んでいても良い。特に、紫外線吸収剤（例、ベンゾトリアゾール系紫外線吸収剤又はベンゾフェノン系紫外線吸収剤）を含むことが好ましく、これによりフィルタの黄変等の防止が効率的に行うことができる。その量は、バインダー成分に対して一般に０．１〜１０質量％、好ましくは０．１〜５質量％である。   Further, the raw material for the antiglare layer 4 may contain a small amount of an antistatic agent such as conductive particles, an ultraviolet absorber, an infrared absorber, an anti-aging agent, a paint processing aid, a colorant and the like. In particular, it is preferable to contain an ultraviolet absorber (for example, a benzotriazole-based ultraviolet absorber or a benzophenone-based ultraviolet absorber), whereby yellowing of the filter can be efficiently prevented. The amount is generally from 0.1 to 10% by weight, preferably from 0.1 to 5% by weight, based on the binder component.

防眩層４は、透明基材２より屈折率が低いことが好ましく、上記紫外線硬化性樹脂を用いることにより一般に透明基材２より低い屈折率を得られやすい。従って、透明基材２としては、ＰＥＴ等の高い屈折率の材料を用いることが好ましい。このため、防眩層４は、屈折率を、１．６０以下にすることが好ましい。   The antiglare layer 4 preferably has a refractive index lower than that of the transparent substrate 2, and a refractive index lower than that of the transparent substrate 2 is generally easily obtained by using the ultraviolet curable resin. Therefore, it is preferable to use a material having a high refractive index such as PET as the transparent substrate 2. Therefore, the antiglare layer 4 preferably has a refractive index of 1.60 or less.

＜低屈折層＞
低屈折層５としては、微粒子をポリマー中に分散させた層などが用いられる。 <Low refractive layer>
As the low refractive layer 5, a layer in which fine particles are dispersed in a polymer or the like is used.

この微粒子としては、シリカ、フッ素樹脂等の微粒子、特に中空シリカが好適に用いられる。中空シリカとしては、平均粒径１０〜１００ｎｍ、好ましくは１０〜５０ｎｍ、比重０．５〜１．０、好ましくは０．８〜０．９のものが好ましい。   As the fine particles, fine particles such as silica and fluororesin, particularly hollow silica are preferably used. As the hollow silica, those having an average particle diameter of 10 to 100 nm, preferably 10 to 50 nm, and a specific gravity of 0.5 to 1.0, preferably 0.8 to 0.9 are preferable.

この微粒子の含有量は１０〜４０質量％、特に１０〜３０質量％であることが好ましい。   The content of the fine particles is preferably 10 to 40% by mass, particularly preferably 10 to 30% by mass.

このポリマーとしては、紫外線硬化性樹脂が好適に用いられる。   As this polymer, an ultraviolet curable resin is preferably used.

この低屈折層５の屈折率は、１．３５〜１．５１であることが好ましい。この屈折率が１．５１超であると、光学フィルム１の反射防止特性が低下する。この低屈折層５の膜厚は、一般に１０〜５００ｎｍの範囲、好ましくは２０〜２００ｎｍである。   The refractive index of the low refractive layer 5 is preferably 1.35 to 1.51. When the refractive index is more than 1.51, the antireflection characteristic of the optical film 1 is deteriorated. The film thickness of the low refractive layer 5 is generally in the range of 10 to 500 nm, preferably 20 to 200 nm.

＜近赤外線吸収層＞
近赤外線吸収層６は、一般に、透明基材２の裏面に色素等を含む層を形成することにより得られる。近赤外線吸収層６は、例えば上記色素及びバインダ樹脂等を含む紫外線硬化性又は電子線硬化性の樹脂、或いは熱硬化性樹脂を含む塗工液を塗工、必要により乾燥、そして硬化させることにより得られる。或いは上記色素及びバインダ樹脂等を含む塗工液を塗工、そして単に乾燥させることによっても得られる。フィルムとして使用する場合は、一般に近赤外線カットフィルムであり、例えば色素等を含有するフィルムである。色素としては、一般に８００〜１２００ｎｍの波長に吸収極大を有するもので、例としては、フタロシアニン系色素、金属錯体系色素、ニッケルジチオレン錯体系色素、シアニン系色素、スクアリリウム系色素、ポリメチン系色素、アゾメチン系色素、アゾ系色素、ポリアゾ系色素、ジイモニウム系色素、アミニウム系色素、アントラキノン系色素、を挙げること
ができ、特にシアニン系色素又、フタロシアニン系色素、ジイモニウム系色素が好ましい。これらの色素は、単独又は組み合わせて使用することができる。バインダ樹脂の例としては、アクリル樹脂等の熱可塑性樹脂を挙げることができる。 <Near infrared absorbing layer>
The near-infrared absorbing layer 6 is generally obtained by forming a layer containing a pigment or the like on the back surface of the transparent substrate 2. The near-infrared absorbing layer 6 is formed by, for example, applying a coating liquid containing an ultraviolet curable or electron beam curable resin containing the above-described pigment and binder resin, or a thermosetting resin, and drying and curing as necessary. can get. Alternatively, it can also be obtained by applying a coating solution containing the above-mentioned pigment and binder resin and simply drying it. When used as a film, it is generally a near-infrared cut film, such as a film containing a pigment or the like. The dye generally has an absorption maximum at a wavelength of 800 to 1200 nm. Examples include phthalocyanine dyes, metal complex dyes, nickel dithiolene complex dyes, cyanine dyes, squarylium dyes, polymethine dyes, Examples thereof include azomethine dyes, azo dyes, polyazo dyes, diimonium dyes, aminium dyes, and anthraquinone dyes, and cyanine dyes, phthalocyanine dyes, and diimonium dyes are particularly preferable. These dyes can be used alone or in combination. Examples of the binder resin include thermoplastic resins such as acrylic resins.

本発明では、近赤外線吸収層６に、ネオン発光の吸収機能を付与することにより色調の調節機能を持たせても良い。このために、ネオン発光の吸収層を設けても良いが、近赤外線吸収層６にネオン発光の選択吸収色素を含有させても良い。   In the present invention, the near-infrared absorbing layer 6 may be provided with a function of adjusting the color tone by providing a function of absorbing neon light emission. For this purpose, a neon-emission absorption layer may be provided, but the near-infrared absorption layer 6 may contain a neon-emission selective absorption dye.

ネオン発光の選択吸収色素としては、シアニン系色素、スクアリリウム系色素、アントラキノン系色素、フタロシアニン系色素、ポリメチン系色素、ポリアゾ系色素、アズレニウム系色素、ジフェニルメタン系色素、トリフェニルメタン系色素を挙げることができる。このような選択吸収色素は、５８５ｎｍ付近のネオン発光の選択吸収性とそれ以外の可視光波長において吸収が小さいことが必要であるため、吸収極大波長が５７５〜５９５ｎｍであり、吸収スペクトル半値幅が４０ｎｍ以下であるものが好ましい。   Examples of selective absorption dyes for neon emission include cyanine dyes, squarylium dyes, anthraquinone dyes, phthalocyanine dyes, polymethine dyes, polyazo dyes, azurenium dyes, diphenylmethane dyes, and triphenylmethane dyes. it can. Such a selective absorption dye is required to have a selective absorption of neon emission near 585 nm and a small absorption at other visible light wavelengths, so that the absorption maximum wavelength is 575 to 595 nm and the absorption spectrum half width is What is 40 nm or less is preferable.

また、近赤外線やネオン発光の吸収色素を複数種組み合わせる場合、色素の溶解性に問題がある場合、混合による色素間の反応ある場合、耐熱性、耐湿性等の低下が認められる場合には、すべての近赤外線吸収色素を同一の層に含有させる必要はなく、別の層に含有させても良い。   Also, when combining multiple types of near-infrared or neon luminescent absorbing dyes, if there is a problem with the solubility of the dye, if there is a reaction between the dyes due to mixing, if there is a decline in heat resistance, moisture resistance, etc. All the near-infrared absorbing dyes need not be contained in the same layer, and may be contained in another layer.

また、光学特性に大きな影響を与えない限り、さらに着色用の色素、紫外線吸収剤、酸化防止剤等を加えても良い。   Further, as long as the optical properties are not greatly affected, coloring pigments, ultraviolet absorbers, antioxidants and the like may be further added.

本発明の光学フィルムの近赤外線吸収特性としては、８５０〜１０００ｎｍの透過率を、２０％以下、さらに１５％とするのが好ましい。また選択吸収性としては、５８５ｎｍの透過率が５０％以下であることが好ましい。特に前者の場合には、周辺機器のリモコン等の誤作動が指摘されている波長領域の透過度を減少させる効果があり、後者の場合は、５７５〜５９５ｎｍにピークを持つオレンジ色が色再現性を悪化させる原因であることから、このオレンジ色の波長を吸収させる効果があり、これにより真赤性を高めて色の再現性を向上させたものである。   As a near-infrared absorption characteristic of the optical film of the present invention, the transmittance of 850 to 1000 nm is preferably 20% or less, more preferably 15%. Moreover, as selective absorptivity, it is preferable that the transmittance | permeability of 585 nm is 50% or less. Especially in the former case, there is an effect of reducing the transmittance in a wavelength region where malfunction of a remote controller of a peripheral device is pointed out. In the latter case, an orange color having a peak at 575 to 595 nm is color reproducibility. This has the effect of absorbing the orange wavelength, thereby improving the redness and improving the color reproducibility.

近赤外線吸収層６の層厚は、０．５〜５０μｍが一般的である。   The layer thickness of the near-infrared absorbing layer 6 is generally 0.5 to 50 μm.

＜粘着層＞
粘着層７は、本発明の光学フィルム１をガラス又はディスプレイに接着するための層であり、接着機能を有するものであればどのような樹脂でも使用することができる。例えば、エチレン−酢酸ビニル共重合体、エチレン−アクリル酸メチル共重合体、アクリル樹脂（例、エチレン−（メタ）アクリル酸共重合体、エチレン−（メタ）アクリル酸エチル共重合体、エチレン−（メタ）アクリル酸メチル共重合体、金属イオン架橋エチレン−（メタ）アクリル酸共重合体）、部分鹸化エチレン−酢酸ビニル共重合体、カルボキシル化エチレン−酢酸ビニル共重合体、エチレン−（メタ）アクリル−無水マレイン酸共重合体、エチレン−酢酸ビニル−（メタ）アクリレート共重合体等のエチレン系共重合体を挙げることができる（なお、「（メタ）アクリル」は「アクリル又はメタクリル」を示す。）。その他、ポリビニルブチラール（ＰＶＢ）樹脂、エポキシ樹脂、フェノール樹脂、シリコン樹脂、ポリエステル樹脂、ウレタン樹脂、ゴム系粘着剤、ＳＥＢＳ及びＳＢＳ等の熱可塑性エラストマー等も用いることができるが、良好な接着性が得られやすいのはアクリル樹脂系粘着剤、エポキシ樹脂である。 <Adhesive layer>
The adhesive layer 7 is a layer for adhering the optical film 1 of the present invention to glass or a display, and any resin can be used as long as it has an adhesive function. For example, ethylene-vinyl acetate copolymer, ethylene-methyl acrylate copolymer, acrylic resin (eg, ethylene- (meth) acrylic acid copolymer, ethylene- (meth) ethyl acrylate copolymer, ethylene- ( (Meth) methyl acrylate copolymer, metal ion cross-linked ethylene- (meth) acrylic acid copolymer), partially saponified ethylene-vinyl acetate copolymer, carboxylated ethylene-vinyl acetate copolymer, ethylene- (meth) acrylic -Ethylene-based copolymers such as maleic anhydride copolymer and ethylene-vinyl acetate- (meth) acrylate copolymer can be mentioned ("(meth) acryl" means "acryl or methacryl"). ). In addition, polyvinyl butyral (PVB) resin, epoxy resin, phenol resin, silicon resin, polyester resin, urethane resin, rubber adhesive, thermoplastic elastomer such as SEBS and SBS can be used, but good adhesion Acrylic resin adhesives and epoxy resins are easily obtained.

粘着層７の層厚は、一般に５〜５００μｍ、特に１０〜１００μｍの範囲が好ましい。光学フィルム１は、一般に上記粘着層７をディスプレイのガラス板に圧着ないし加熱圧着することにより装備することができる。   The layer thickness of the pressure-sensitive adhesive layer 7 is generally preferably 5 to 500 μm, particularly preferably 10 to 100 μm. In general, the optical film 1 can be equipped by pressure-bonding or thermocompression-bonding the adhesive layer 7 to a glass plate of a display.

なお、粘着層７には、その他、紫外線吸収剤、赤外線吸収剤、老化防止剤、塗料加工助剤、着色剤等を少量含んでいてもよく、また、場合によってはカーボンブラック、疎水性シリカ、炭酸カルシウム等の充填剤を少量含んでも良い。   In addition, the adhesive layer 7 may contain a small amount of other UV absorbers, infrared absorbers, anti-aging agents, paint processing aids, colorants, etc., and in some cases, carbon black, hydrophobic silica, A small amount of a filler such as calcium carbonate may be included.

＜離型フィルム＞
離型フィルム８としては、シリコーン樹脂を表面に塗布したポリエステルフィルムが一般に用いられる。 <Release film>
As the release film 8, a polyester film having a surface coated with a silicone resin is generally used.

この光学フィルム１の像鮮明度としては、ＪＩＳ Ｋ７１０５に規定された像鮮明度の透過法による２ｍｍくしの像鮮明度が７０〜９５％の範囲にあることが好ましい。また、ＪＩＳ Ｋ７１０５に規定された４５度反射法による２ｍｍくしの像鮮明度が２０〜６０％の範囲にあることが好ましい。   As the image definition of the optical film 1, it is preferable that the image definition of a 2 mm comb according to the image definition transmission method defined in JIS K7105 is in the range of 70 to 95%. Moreover, it is preferable that the image sharpness of a 2 mm comb by the 45-degree reflection method specified in JIS K7105 is in the range of 20 to 60%.

図２は、異なる実施の形態に係る光学フィルム１０の断面図である。   FIG. 2 is a cross-sectional view of an optical film 10 according to a different embodiment.

図２の光学フィルム１０は、図１の光学フィルム１において、導電層３をフィルム状のものに代えると共に、粘着層７及び離型フィルム８を省略したものである。即ち、図２の光学フィルム１０は、透明基材１２と、該透明基材１２の表面の全面に設けられたフィルム状の導電層１３と、該導電層１３の表面を覆うように設けられた防眩層１４と、該防眩層１４の表面に設けられた低屈折層１５と、該透明基材１２の裏面に設けられた近赤外線吸収層１６とを有する。   The optical film 10 in FIG. 2 is obtained by replacing the conductive layer 3 with a film-like one in the optical film 1 in FIG. 1 and omitting the adhesive layer 7 and the release film 8. That is, the optical film 10 in FIG. 2 was provided so as to cover the transparent base 12, the film-like conductive layer 13 provided on the entire surface of the transparent base 12, and the surface of the conductive layer 13. It has an antiglare layer 14, a low refractive layer 15 provided on the surface of the antiglare layer 14, and a near infrared absorption layer 16 provided on the back surface of the transparent substrate 12.

フィルム状の導電層１３としては、気相成膜法により得られる層（金属酸化物（ＩＴＯ等）の透明導電薄膜）、ＩＴＯ等の金属酸化物の誘電体膜とＡｇ等の金属層との交互積層体（例、ＩＴＯ／銀／ＩＴＯ／銀／ＩＴＯの積層体）等が挙げられる。   The film-like conductive layer 13 includes a layer obtained by a vapor deposition method (a transparent conductive thin film of a metal oxide (ITO, etc.)), a dielectric film of a metal oxide such as ITO, and a metal layer, such as Ag. Examples include alternating laminates (eg, ITO / silver / ITO / silver / ITO laminates).

図３は実施の形態に係る光学フィルタの平面図、図４は図３の光学フィルタの部分的な断面図である。   FIG. 3 is a plan view of the optical filter according to the embodiment, and FIG. 4 is a partial cross-sectional view of the optical filter of FIG.

この光学フィルタは、ガラス２７と、該ガラスの表面に設けられた光学フィルム２０とからなる。   This optical filter includes glass 27 and an optical film 20 provided on the surface of the glass.

この光学フィルム２０は、透明基材２２と、該透明基材２２の表面に設けられたパターン形状の導電層２３と、該導電層２３の表面及び該透明基材２２の表面の全面を覆うように設けられた防眩層２４と、該防眩層２４の表面に設けられた低屈折層２５と、該透明基材２の裏面に設けられた近赤外線吸収層２６と、該近赤外線吸収層２６の裏面に設けられた粘着層２７とを有している。この粘着層２７がガラス２８の表面に貼着されることにより、これら光学フィルム２０とガラス２８とが一体化されている。   The optical film 20 covers the transparent base material 22, the patterned conductive layer 23 provided on the surface of the transparent base material 22, the surface of the conductive layer 23, and the entire surface of the transparent base material 22. An anti-glare layer 24 provided on the surface, a low refractive layer 25 provided on the surface of the anti-glare layer 24, a near-infrared absorbing layer 26 provided on the back surface of the transparent substrate 2, and the near-infrared absorbing layer. 26 and an adhesive layer 27 provided on the back surface. By sticking the adhesive layer 27 on the surface of the glass 28, the optical film 20 and the glass 28 are integrated.

この光学フィルム２０の表面（図４の上面）に、光学フィルム２０の４辺近傍を周回するように、低屈折層２５及び防眩層２４が除去された導電層露出領域（電極部）２３’が形成されている。この導電層露出領域２３’において、導電層２３の一部が露出している。この導電層露出領域２３’よりも外側は、低屈折層２５が残されており、当該部分は縁部低屈折層２５’となっている。   On the surface of the optical film 20 (the upper surface in FIG. 4), a conductive layer exposed region (electrode portion) 23 ′ from which the low refractive layer 25 and the antiglare layer 24 have been removed so as to circulate around the four sides of the optical film 20. Is formed. In this conductive layer exposed region 23 ', a part of the conductive layer 23 is exposed. The low refractive layer 25 is left outside the conductive layer exposed region 23 ', and this portion is an edge low refractive layer 25'.

この光学フィルタを製造するには、透明基材２上にパターン形状の導電層３を形成する。この導電層３及び透明基材２の表面を覆うように防眩層４を形成し、さらに該防眩層４の表面に低屈折層５を形成する。   In order to manufacture this optical filter, a patterned conductive layer 3 is formed on the transparent substrate 2. An antiglare layer 4 is formed so as to cover the surfaces of the conductive layer 3 and the transparent substrate 2, and a low refractive layer 5 is further formed on the surface of the antiglare layer 4.

その後、低屈折層２５の全周囲の４辺縁部（端部）に、その縁に沿ってレーザを照射する。照射は、両側縁部だけでも良い。この場合、レーザの照射を最縁部（最端部）には照射しないように行う。低屈折層２５及びその下側の防眩層２４は合成樹脂からなる層であるため、レーザが照射された領域の低屈折層２５及び防眩層２４は分解又は燃焼して消失する。これにより、４辺端部近傍の低屈折層２５及び防眩層２４が除去され、導電層２３が露出し、導電層露出領域２３’が形成され、これが電極部を形成する。この際、透明基材２２の縁部に、レーザが照射されなかった低屈折層２５が残り、縁部低屈折層２５’が形成される。   Thereafter, the laser beam is radiated to the four peripheral edges (ends) of the entire periphery of the low refractive layer 25 along the edges. Irradiation may be only on the side edges. In this case, laser irradiation is performed so as not to irradiate the outermost edge (endmost part). Since the low-refractive layer 25 and the anti-glare layer 24 below the layer are made of synthetic resin, the low-refractive layer 25 and the anti-glare layer 24 in the region irradiated with the laser are decomposed or burned and disappear. As a result, the low refractive layer 25 and the antiglare layer 24 in the vicinity of the four side edges are removed, the conductive layer 23 is exposed, and a conductive layer exposed region 23 ′ is formed, which forms an electrode portion. At this time, the low refractive layer 25 that has not been irradiated with the laser remains at the edge of the transparent substrate 22, and the edge low refractive layer 25 ′ is formed.

この後、透明基材２２の裏側に近赤外線吸収層２６及び粘着層２７がこの順に形成され、該粘着層２７がガラス２８に貼着される。   Thereafter, a near-infrared absorbing layer 26 and an adhesive layer 27 are formed in this order on the back side of the transparent substrate 22, and the adhesive layer 27 is adhered to the glass 28.

この導電層露出領域（電極部）２３’がアースのための電極部として使用される。この両縁部の細い帯状の領域の幅（図３及び４のＬ）は、一般に１〜１００ｍｍ、特に２〜５０ｍｍが好ましい。また縁部低屈折層２５’の細い帯状の領域の幅は、一般に０．１〜２０ｍｍであり、特に０．５〜５ｍｍが好ましい。   This conductive layer exposed region (electrode part) 23 'is used as an electrode part for grounding. The width (L in FIGS. 3 and 4) of the thin band-like region at both edges is generally 1 to 100 mm, and particularly preferably 2 to 50 mm. Further, the width of the thin band-like region of the edge low-refractive layer 25 ′ is generally 0.1 to 20 mm, particularly preferably 0.5 to 5 mm.

この導電層露出領域（電極部）２３’に、導電ペーストや導電性テープなどの電極部材を設けてもよい。   An electrode member such as a conductive paste or a conductive tape may be provided in this conductive layer exposed region (electrode part) 23 '.

図３及び図４の光学フィルタでは、光学フィルム２０の側面に導電層２３の側面が露出していないが、導電層２３の側面が露出するようにしてもよい。この場合、この側面が電極部として機能する。   3 and 4, the side surface of the conductive layer 23 is not exposed on the side surface of the optical film 20, but the side surface of the conductive layer 23 may be exposed. In this case, this side surface functions as an electrode part.

図３及び４の導電層露出領域２３’は帯状領域であるが、本発明では縁部に電極部を形成可能な露出した導電層が存在していれば良いので、導電層露出領域は、間欠的な島状領域が連続的に存在する間欠的帯状領域でも良い。島状領域は、矩形、楕円形、円形、多角形等、どのような形状でも良い。また島状領域は、全て同じ大きさでも良いが、相互に異なっていても良い。   3 and 4 is a strip-shaped region. However, in the present invention, it is sufficient that an exposed conductive layer capable of forming an electrode portion is present at the edge, so that the conductive layer exposed region is intermittent. An intermittent band-like region in which typical island-like regions exist continuously may be used. The island region may have any shape such as a rectangle, an ellipse, a circle, and a polygon. The island regions may all be the same size, but may be different from each other.

上記実施の形態は本発明の一例であり、本発明は上記の実施の形態に限定されるものではない。例えば、光学フィルムを構成する層や基材を積層する順序は上記図１，２の順序に限定されるものではなく、
透明基材／導電層／防眩層、
透明基材／導電層／防眩層／低屈折層、
近赤外線吸収層／透明基材／透明基材／導電層／防眩層／低屈折層、
近赤外線吸収層／透明基材／導電層／防眩層／低屈折層、
という構成を有していてもよい。 The above embodiment is an example of the present invention, and the present invention is not limited to the above embodiment. For example, the order of laminating the layers and base materials constituting the optical film is not limited to the order of FIGS.
Transparent substrate / conductive layer / antiglare layer,
Transparent substrate / conductive layer / antiglare layer / low refractive layer,
Near-infrared absorbing layer / transparent substrate / transparent substrate / conductive layer / antiglare layer / low refractive layer,
Near infrared absorbing layer / transparent substrate / conductive layer / antiglare layer / low refractive layer,
You may have the structure of.

以下、実施例と比較例を示し、本発明を具体的に説明するが、本発明は以下の実施例に限定されるものではない。   EXAMPLES Hereinafter, although an Example and a comparative example are shown and this invention is demonstrated concretely, this invention is not limited to a following example.

［実施例１］
＜光学フィルムの作製＞
以下の方法により、図１に示す光学フィルム１のうち離型フィルムを省略したものを製造した。 [Example 1]
<Production of optical film>
The optical film 1 shown in FIG. 1 was manufactured by omitting the release film by the following method.

（１）メッシュ状の導電層の形成
表面に易接着層（ポリエステルポリウレタン；厚さ２０ｎｍ）を有する厚さ１００μｍの長尺状ポリエチレンテレフタレートフィルム（幅：６００ｍｍ、長さ１００ｍ）の易接着層上に、ポリビニルアルコールの２０％水溶液をドット状に印刷した。ドット１個の大きさは１辺が２３４μｍの正方形状であり、ドット同士間の間隔は２０μｍであり、ドット配列は正方格子状である。印刷厚さは、乾燥後で約５μｍである。 (1) Formation of mesh-like conductive layer On an easy-adhesion layer of a long polyethylene terephthalate film (width: 600 mm, length 100 m) having a thickness of 100 μm having an easy-adhesion layer (polyester polyurethane; thickness 20 nm) on the surface A 20% aqueous solution of polyvinyl alcohol was printed in dots. The size of one dot is a square shape with one side of 234 μm, the interval between the dots is 20 μm, and the dot arrangement is a square lattice. The printing thickness is about 5 μm after drying.

その上に、銅を平均膜厚４μｍとなるように真空蒸着した。次いで、常温の水に浸漬し、スポンジで擦ることによりドット部分を溶解除去し、次いで水でリンスした後、乾燥してポリエチレンテレフタレートフィルムの全面にメッシュ状導電層を形成した。   On top of that, copper was vacuum-deposited to an average film thickness of 4 μm. Next, it was immersed in room temperature water and rubbed with a sponge to dissolve and remove the dot portion, then rinsed with water and dried to form a mesh-like conductive layer on the entire surface of the polyethylene terephthalate film.

このフィルム表面の導電層は、正確にドットのネガパターンに対応した正方格子状のものであり、線幅は２０μｍ、開口率は７７％であった。また、導電層（銅層）の平均厚さは４μｍであった。   The conductive layer on the film surface had a square lattice shape corresponding to the negative pattern of dots accurately, the line width was 20 μm, and the aperture ratio was 77%. The average thickness of the conductive layer (copper layer) was 4 μm.

（２）防眩層の形成
下記の配合：
多官能モノマー（トリメチロールプロパントリアクリレート（ＴＭＰＴ））
：１００質量部
真球状アクリル架橋ビーズ（積水化学品工業社製、平均粒径５μｍ） ：１．５質量部
光開始剤（チバスペシャルティケミカルズ社製「イルガキュア１８４」）
： ４質量部
希釈溶剤（シクロヘキサン） ：１５０質量部
を混合して得た塗工液を、上記メッシュ状導電層の全面に、バーコータにより塗布し、紫外線照射により硬化させた。これにより、メッシュ状導電層上に厚さ７．５μｍの防眩層（屈折率１．４９）を形成した。 (2) Formation of antiglare layer The following formulation:
Multifunctional monomer (trimethylolpropane triacrylate (TMPT))
: 100 parts by mass True spherical acrylic cross-linked beads (manufactured by Sekisui Chemical Co., Ltd., average particle size 5 μm): 1.5 parts by mass Photoinitiator (“Irgacure 184” manufactured by Ciba Specialty Chemicals)
: 4 parts by weight Diluting solvent (cyclohexane): A coating liquid obtained by mixing 150 parts by weight was applied to the entire surface of the mesh-like conductive layer with a bar coater and cured by ultraviolet irradiation. As a result, an antiglare layer (refractive index: 1.49) having a thickness of 7.5 μm was formed on the mesh-like conductive layer.

（３）低屈折率層の形成
下記の配合：
オプスターＪＮ―７２１２（日本合成ゴム（株）製） １００質量部
メチルエチルケトン １１７質量部
メチルイソブチルケトン １１７質量部
を混合して得た塗工液を、上記防眩層上にバーコータを用いて塗布し、８０℃のオーブン中で５分間乾燥させ、次いでその紫外線照射により硬化させた。これにより、防眩層上に厚さ９０ｎｍの低屈折率層（屈折率１．４２）を形成した。 (3) Formation of low refractive index layer The following formulation:
Opstar JN-7212 (manufactured by Nippon Synthetic Rubber Co., Ltd.) 100 parts by weight Methyl ethyl ketone 117 parts by weight Methyl isobutyl ketone 117 parts by weight was applied onto the antiglare layer using a bar coater, It was dried in an oven at 80 ° C. for 5 minutes and then cured by irradiation with ultraviolet rays. This formed the 90-nm-thick low-refractive-index layer (refractive index 1.42) on the glare-proof layer.

（４）近赤外線吸収層（色調補正機能を有する）の形成
下記の配合：
ポリメチルメタクリレート ３０質量部
ＴＡＰ−２（山田化学工業（株）製） ０．４質量部
Ｐｌａｓｔ Ｒｅｄ ８３８０（有本化学工業（株）製 ０．１質量部
ＣＩＲ−１０８５（日本カーリット（株）製） １．３質量部
ＩＲ−１０Ａ（（株）日本触媒製） ０．６質量部
メチルエチルケトン １５２質量部
メチルイソブチルケトン １８質量部
を混合して得た塗工液を、上記ポリエチレンテレフタレートフィルムの裏面全面にバーコータを用いて塗布し、８０℃のオーブン中で５分間乾燥させた。これにより、ポリエチレンテレフタレートフィルム上に、厚さ５μｍの近赤外線吸収層（色調補正機能を有する）を形成した。 (4) Formation of near-infrared absorbing layer (having color tone correction function)
Polymethyl methacrylate 30 parts by mass TAP-2 (manufactured by Yamada Chemical Co., Ltd.) 0.4 parts by mass Plast Red 8380 (manufactured by Arimoto Chemical Co., Ltd.) 0.1 parts by mass CIR-1085 (manufactured by Nippon Carlit Co., Ltd.) ) 1.3 parts by weight IR-10A (manufactured by Nippon Shokubai Co., Ltd.) 0.6 parts by weight Methyl ethyl ketone 152 parts by weight Methyl isobutyl ketone 18 parts by weight of the coating solution obtained by mixing the back surface of the polyethylene terephthalate film The film was applied using a bar coater and dried for 5 minutes in an oven at 80 ° C. Thus, a near-infrared absorbing layer (having a color tone correction function) having a thickness of 5 μm was formed on the polyethylene terephthalate film.

（５）粘着層の形成
下記の配合：
ＳＫダイン１８１１Ｌ（綜研化学（株）製） １００質量部
硬化剤Ｌ−４５（綜研化学（株）製） ０．４５質量部
トルエン １５質量部
酢酸エチル ４質量部
を混合して得た塗工液を、上記近赤外線吸収層上にバーコータを用いて塗布し、８０℃のオーブン中で５分間乾燥させた。これにより、近赤外線吸収層上に厚さ２５μｍの粘着層を形成した。 (5) Formation of adhesive layer The following formulation:
SK Dyne 1811L (manufactured by Soken Chemical Co., Ltd.) 100 parts by mass Curing agent L-45 (manufactured by Soken Chemical Co., Ltd.) 0.45 parts by mass Toluene 15 parts by mass Ethyl acetate 4 parts by mass Was coated on the near infrared absorbing layer using a bar coater and dried in an oven at 80 ° C. for 5 minutes. As a result, an adhesive layer having a thickness of 25 μm was formed on the near-infrared absorbing layer.

＜像鮮明度の測定＞
得られた光学フィルムについて、ＪＩＳ Ｋ７１０５に準拠して像鮮明度の測定を行った。 <Measurement of image definition>
About the obtained optical film, the image definition was measured based on JIS K7105.

その結果、透過法による２ｍｍくしの像鮮明度が７０〜８１％の範囲にあり、且つ４５度反射法による２ｍｍくしの像鮮明度が２０〜２６％の範囲にあった。   As a result, the image clarity of the 2 mm comb by the transmission method was in the range of 70 to 81%, and the image clarity of the 2 mm comb by the 45 degree reflection method was in the range of 20 to 26%.

実施の形態に係る光学フィルム１の断面図である。It is sectional drawing of the optical film 1 which concerns on embodiment. 異なる実施の形態に係る光学フィルム１０の断面図である。It is sectional drawing of the optical film 10 which concerns on different embodiment. 実施の形態に係る光学フィルタの平面図である。It is a top view of the optical filter which concerns on embodiment. 図３の光学フィルタの断面図である。It is sectional drawing of the optical filter of FIG.

符号の説明Explanation of symbols

１，１０，２０ 光学フィルム
２，１２，２２ 透明基材
３，１３，２３ 導電層
４，１４，２４ 防眩層
５，１５，２５ 低屈折層
６，１６，２６ 近赤外線吸収層
７，２７ 粘着層
８ 離型フィルム
２８ ガラス 1,10,20 Optical film 2,12,22 Transparent substrate 3,13,23 Conductive layer 4,14,24 Antiglare layer 5,15,25 Low refractive layer 6,16,26 Near infrared absorbing layer 7,27 Adhesive layer 8 Release film 28 Glass

Claims (9)

透明基材と、該透明基材の表面に設けられた導電層と、該導電層の表面に設けられた防眩層とを有する光学フィルムにおいて、
該防眩層は、バインダー成分と、該バインダー成分中に分散された樹脂粒子とを含有しており、
該バインダー成分と該樹脂粒子の屈折率の差がほとんどないことを特徴とする光学フィルム。 In an optical film having a transparent substrate, a conductive layer provided on the surface of the transparent substrate, and an antiglare layer provided on the surface of the conductive layer,
The antiglare layer contains a binder component and resin particles dispersed in the binder component,
An optical film characterized in that there is almost no difference in refractive index between the binder component and the resin particles. 請求項１において、前記バインダー成分は光硬化性であることを特徴とする光学フィルム。   2. The optical film according to claim 1, wherein the binder component is photocurable. 請求項１又は２において、前記樹脂粒子は粒径１〜１０μｍであることを特徴とする光学フィルム。   3. The optical film according to claim 1, wherein the resin particles have a particle size of 1 to 10 [mu] m. 請求項１ないし３のいずれか１項において、前記樹脂粒子は架橋アクリル樹脂ビーズ、架橋スチレン樹脂ビーズ及び架橋アクリル−スチレン樹脂ビーズよりなる群より選ばれる少なくとも１種であることを特徴とする光学フィルム。   4. The optical film according to claim 1, wherein the resin particles are at least one selected from the group consisting of crosslinked acrylic resin beads, crosslinked styrene resin beads, and crosslinked acrylic-styrene resin beads. . 請求項１ないし４のいずれか１項において、さらに近赤外線吸収層が設けられていることを特徴とする光学フィルム。   The optical film according to any one of claims 1 to 4, further comprising a near-infrared absorbing layer. 請求項１ないし５のいずれか１項において、前記防眩層の表面に、該防眩層よりも屈折率の低い低屈折層が設けられていることを特徴とする光学フィルム。   6. The optical film according to claim 1, wherein a low refractive layer having a refractive index lower than that of the antiglare layer is provided on the surface of the antiglare layer. 請求項１ないし６のいずれか１項において、前記導電層の前記表面の周縁部又は周縁近傍部の少なくとも一部の領域が露出しており、この露出部が電極部となっていることを特徴とする光学フィルム。   7. The method according to claim 1, wherein at least a part of the peripheral portion or the peripheral portion of the surface of the conductive layer is exposed, and the exposed portion serves as an electrode portion. An optical film. 請求項１ないし７のいずれか１項において、前記導電層の側面が露出しており、この露出部が電極部となっていることを特徴とする光学フィルム。   8. The optical film according to claim 1, wherein a side surface of the conductive layer is exposed, and the exposed portion is an electrode portion. 請求項１ないし８のいずれか１項に記載の光学フィルムがガラスに貼合されていることを特徴とする光学フィルタ。   The optical filter of any one of Claims 1 thru | or 8 is bonded by glass.

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