JP2010079014A - Optical filter for display, and manufacturing method for optical filter for display - Google Patents
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Abstract
Description
本発明は、プラズマディスプレイパネル（ＰＤＰ）、ブラウン管（ＣＲＴ）ディスプレイ、液晶ディスプレイ、有機ＥＬ（電界発光）ディスプレイ等のディスプレイの画像表示部に用いられ、電磁波シールド性を有するディスプレイ用光学フィルタ及びディスプレイ用光学フィルタの製造方法に関する。 The present invention is used for an image display part of a display such as a plasma display panel (PDP), a cathode ray tube (CRT) display, a liquid crystal display, an organic EL (electroluminescence) display, etc. The present invention relates to a method for manufacturing an optical filter.
従来から、プラズマディスプレイパネル（ＰＤＰ）等のディスプレイから発生する不要な電磁波の輻射を遮蔽するディスプレイ用フィルタとして、フィルタ内にメッシュ状の導電層を設けた電磁波シールド性および光透過性を有するディスプレイ用光学フィルタが用いられている。 Conventionally, as a display filter that shields radiation of unnecessary electromagnetic waves generated from a display such as a plasma display panel (PDP), for a display having an electromagnetic shielding property and a light transmitting property in which a mesh-like conductive layer is provided in the filter. An optical filter is used.
上記ディスプレイ用光学フィルタとして、例えば、１枚の基材フィルム上に導電層を設け、その上にハードコート層や反射防止層等の機能層を積層させたものが開発されている（特許文献１）。ハードコート層や反射防止層は視聴者側の最外面であり、平面性が重視される。特に、平面性が低下すると、光学的歪みにより光学フィルタ表面の反射率が高くなり、外部からの光の影響で、内部の視覚情報が見え難くなる問題が生じる。 As the above-mentioned optical filter for display, for example, an optical filter in which a conductive layer is provided on one base film and a functional layer such as a hard coat layer or an antireflection layer is laminated thereon has been developed (Patent Document 1). ). The hard coat layer and the antireflection layer are the outermost surfaces on the viewer side, and flatness is important. In particular, when the planarity is lowered, the reflectance of the optical filter surface is increased due to optical distortion, and there is a problem that the internal visual information becomes difficult to see due to the influence of light from the outside.
しかしながら、凹凸があるメッシュ状の導電層上にハードコート層等を塗工する場合、高度な平面性を得るためには相当な厚塗りが必要になる。図４に、従来のハードコート層上に反射防止層等を積層する方法（特許文献１、２）による光学フィルタの例を示す。この光学フィルタでは、基材フィルム３２の表面に形成された導電層３３の上にハードコート層３４が形成され、その上に、反射防止層として、高屈折率層３５及び低屈折率層３６が形成されている。基材フィルム３２の導電層３３が形成された面の他面上には、近赤外線層３７及び粘着剤層３８が形成されている。この場合、図示のように、メッシュ状の導電層３２の凹凸が影響し、反射防止層（低屈折率層３６）の表面まで凹凸が生じ、反射率が高くなる場合がある。
However, when a hard coat layer or the like is applied on a mesh-like conductive layer having irregularities, a considerable thickness coating is required to obtain a high level of flatness. FIG. 4 shows an example of an optical filter by a conventional method (
近年、より薄型の光学フィルタの需要もあり、ハードコート層の層厚を薄くする必要もあるが、高度な平面性との兼ね合いで技術的に困難であった。 In recent years, there has been a demand for thinner optical filters, and it is necessary to reduce the thickness of the hard coat layer, but this has been technically difficult due to the high flatness.
従って、本発明の目的は、基材フィルムの一方の表面にメッシュ状の導電層と、導電層上に樹脂組成物のハードコート層を備えた構造を含むディスプレイ用光学フィルタであって、ハードコート層の層厚を厚くすることなく、表面が高度な平面性を有するディスプレイ用光学フィルタ、及びその製造方法を提供することにある。 Accordingly, an object of the present invention is an optical filter for display comprising a structure having a mesh-like conductive layer on one surface of a base film and a hard coat layer of a resin composition on the conductive layer, An object of the present invention is to provide an optical filter for display having a highly flat surface and a manufacturing method thereof without increasing the layer thickness.
なお、本発明において、「高度な平面性」とは、表面粗さ計サーフコム４８０Ａ（東京精密社製）を用いてＪＩＳ Ｂ０６０１（２００１）に準拠した方法で、算術平均粗さ（Ｒａ）を測定し、０．０５μｍ以下の平面性を言う。 In the present invention, “advanced flatness” means that the arithmetic average roughness (Ra) is measured by a method based on JIS B0601 (2001) using a surface roughness meter Surfcom 480A (manufactured by Tokyo Seimitsu Co., Ltd.). And flatness of 0.05 μm or less.
また、本発明において、ハードコート層とは、ＪＩＳ Ｋ５６００（１９９９）で規定される鉛筆硬度試験でＨ以上の硬度を有するものをいう。 Moreover, in this invention, a hard-coat layer means what has the hardness more than H by the pencil hardness test prescribed | regulated by JISK5600 (1999).
上記目的は、基材フィルムの一方の表面にメッシュ状の導電層と、導電層上に樹脂組成物のハードコート層を備えた構造を含むディスプレイ用光学フィルタであって、前記導電層上に前記ハードコート層が複数層形成されていることを特徴とするディスプレイ用光学フィルタによって達成される。 The above object is an optical filter for display comprising a structure having a mesh-like conductive layer on one surface of a base film and a hard coat layer of a resin composition on the conductive layer, wherein the optical filter for display is formed on the conductive layer. This is achieved by an optical filter for display, wherein a plurality of hard coat layers are formed.
ハードコート層が複数層形成されていることで、同等の層厚のハードコート層が単層で形成されているよりもメッシュ状の導電層の凹凸の影響が軽減され、層厚を厚くすることなく表面が高度な平面性を有するディスプレイ用光学フィルタを提供することができる。 By forming a plurality of hard coat layers, the effect of unevenness of the mesh-like conductive layer is reduced and the layer thickness is made thicker than when a hard coat layer having the same layer thickness is formed as a single layer. In addition, an optical filter for a display having a highly flat surface can be provided.
本発明に係るディスプレイ用光学フィルタの好ましい態様は以下の通りである。
（１）複数層形成されるハードコート層の層数が２又は３層であることを特徴とする。これにより、ハードコート層の層数を必要最低限とすることができ、層厚を厚くすることなく表面が高度な平面性を有し、経済的にも有利なディスプレイ用光学フィルタを提供することができる。
（２）前記ハードコート層の樹脂組成物が、紫外線硬化性樹脂組成物であることを特徴とする。紫外線硬化性樹脂は短時間で硬化され、生産性にすぐれているので、さらに経済的に有利なディスプレイ用光学フィルタを提供することができる。
（３）更に、前記ハードコート層上に反射防止層が形成されていることを特徴とする。これにより、さらに表面の反射率が制御されたディスプレイ用光学フィルタを提供することができる。
Preferred embodiments of the optical filter for display according to the present invention are as follows.
(1) The number of hard coat layers formed in a plurality of layers is two or three. Accordingly, it is possible to minimize the number of hard coat layers, and to provide an optical filter for a display which has a highly flat surface and is economically advantageous without increasing the layer thickness. Can do.
(2) The hard coat layer resin composition is an ultraviolet curable resin composition. Since the ultraviolet curable resin is cured in a short time and has excellent productivity, it is possible to provide a more economically advantageous optical filter for display.
(3) Further, an antireflection layer is formed on the hard coat layer. Thereby, the optical filter for displays in which the reflectance of the surface is further controlled can be provided.
また、上記目的は、基材フィルムの一方の表面にメッシュ状の導電層と、導電層上に樹脂組成物のハードコート層を備えた構造を含むディスプレイ用光学フィルタの製造方法であって、前記導電層上に前記ハードコート層形成用樹脂組成物含有塗工液を塗工する工程、及び塗工した樹脂組成物層を硬化させる工程、を複数回繰り返して行うハードコート層を複数層形成する工程を含むことを特徴とするディスプレイ用光学フィルタの製造方法によって達成される。 The above object is also a method for producing an optical filter for display comprising a structure having a mesh-like conductive layer on one surface of a base film and a hard coat layer of a resin composition on the conductive layer, A plurality of hard coat layers are formed by repeating the step of applying the resin composition-containing coating liquid for forming a hard coat layer on the conductive layer and the step of curing the applied resin composition layer a plurality of times. This method is achieved by a method for manufacturing an optical filter for display, which includes a step.
ハードコート層の樹脂の塗工及び硬化を複数回繰り返すことで、同等の層厚のハードコート層を単回で形成させるよりもメッシュ状の導電層の凹凸の影響を軽減することができ、層厚を厚くすることなく表面が高度な平面性を有するディスプレイ用光学フィルタの製造方法を提供することができる。 By repeating the coating and curing of the resin of the hard coat layer a plurality of times, the influence of the unevenness of the mesh-like conductive layer can be reduced rather than forming a hard coat layer with an equivalent layer thickness by a single layer. A method for manufacturing an optical filter for display having a highly flat surface can be provided without increasing the thickness.
本発明に係るディスプレイ用光学フィルタの製造方法の好ましい態様は以下の通りである。
（１）複数層形成するハードコート層の層数が２又は３層であることを特徴とする。これにより、形成させるハードコート層の層数を必要最低限とすることができ、層厚を厚くすることなく表面が高度な平面性を有し、経済的にも有利なディスプレイ用光学フィルタの製造方法を提供することができる。
（２）前記ハードコート層形成用の樹脂組成物含有塗工液が、紫外線硬化樹脂組成物含有塗工液であることを特徴とする。紫外線硬化性樹脂は短時間で硬化され、生産性が高いので、さらに経済的に有利なディスプレイ用光学フィルタの製造方法を提供することができる。
The preferable aspect of the manufacturing method of the optical filter for displays which concerns on this invention is as follows.
(1) The number of hard coat layers to be formed is two or three. This makes it possible to minimize the number of hard coat layers to be formed, and to produce an optical filter for a display that has a highly flat surface and is economically advantageous without increasing the layer thickness. A method can be provided.
(2) The resin composition-containing coating solution for forming the hard coat layer is an ultraviolet curable resin composition-containing coating solution. Since the ultraviolet curable resin is cured in a short time and has high productivity, it is possible to provide a more economically advantageous method for producing an optical filter for display.
本発明によれば、メッシュ状の導電層上にハードコート層を備えた構造を含むディスプレイ用光学フィルタであっても、ハードコート層の層厚を厚くすることなく、表面が高度な平面性を有するため、より薄型で、光学的歪みが小さく、反射率の制御が容易な、ディスプレイ用光学フィルタ、及びその製造方法を提供できる。 According to the present invention, even in an optical filter for display including a structure having a hard coat layer on a mesh-like conductive layer, the surface has a high level of flatness without increasing the thickness of the hard coat layer. Therefore, it is possible to provide a display optical filter that is thinner, has a small optical distortion, and can easily control the reflectance, and a method for manufacturing the same.
以下に、本発明のディスプレイ用光学フィルタ及びディスプレイ用光学フィルタの製造方法について、図面を参照しながら説明する。図１は、本発明のディスプレイ用光学フィルタの代表的な１例を示す概略断面図である。 Below, the optical filter for display of this invention and the manufacturing method of the optical filter for display are demonstrated, referring drawings. FIG. 1 is a schematic sectional view showing a typical example of the optical filter for display according to the present invention.
図示の通り、ディスプレイ用光学フィルタ２０においては、矩形状の透明な基材フィルム１２の表面全域にメッシュ状の導電層１３が形成されている。なお、基材フィルム１２と導電層１３との間に中間層が形成されていても良い（図示していない）。その上に第１のハードコート層１４及び第２のハードコート層１４'の２層が形成され、さらにその上に、反射防止層として、高屈折率層１５及び低屈折率層１６が形成されている。基材フィルム１２の導電層１３が形成された面の他面上には、近赤外線層１７及び粘着剤層１８が形成されており、光学フィルタ２０は粘着剤層１８を介して、ガラス基板２１に張り付けられている。なお、導電層１３から外部への導通を図るため、光学フィルタ２０には、光学フィルタの周囲のハードコート層等の機能層をレーザー照射等により除去して導電層を露出させたり、導電性粘着テープを導電層に挟みこんで外部に接地させる等の構造が含まれる（図示していない）。
As shown in the figure, in the display
メッシュ状の導電層１３による凹凸の影響を第１のハードコート層１４では十分に軽減できず、第１のハードコート層１４と第２のハードコート層１４'の界面には凹凸が生じている。しかしながら、第２のハードコート層１４'が形成されていることにより、凹凸の影響がさらに軽減され、その表面は高度な平面性が得られている。従って、第２のハードコート層１４'の上に形成された高屈折率層１５、低屈折率層１６の表面も高度な平面性を有している。その結果、この光学フィルタ２０は反射率が低く、外部の光の影響を受け難い光学フィルタである。
The influence of unevenness due to the mesh-like
ハードコート層の層数は２層以上の複数層であれば制限はないが、高度な平面性を得る効果と経済的観点（生産性が高い）から、２又は３層が好ましい。後述の実施例で示すように、同等の層厚で１層のハードコート層を形成した場合と比較すると、２層のハードコート層を形成した方が表面粗さを低くすることができる。これは、金属の導電層の凹凸の影響を１層の樹脂のハードコート層で軽減するより、第１のハードコート層で導電層の凹凸を被覆した上で、第１のハードコート層に生じた凹凸の影響を同種の材料の第２のハードコート層で軽減する方が、親和性の点でより薄い層で可能となるためと考えられる。 The number of hard coat layers is not limited as long as it is a plurality of two or more layers, but two or three layers are preferable from the viewpoint of obtaining an effect of high flatness and an economical viewpoint (high productivity). As shown in the examples described later, the surface roughness can be reduced by forming two hard coat layers as compared with the case of forming one hard coat layer with an equivalent layer thickness. This occurs in the first hard coat layer after the conductive hard layer is coated with the first hard coat layer rather than the effect of the metal conductive layer unevenness on the first hard coat layer. It is considered that it is possible to reduce the influence of unevenness with the second hard coat layer of the same kind of material with a thinner layer in terms of affinity.
ハードコート層は樹脂組成物からなり、樹脂組成物を構成する合成樹脂は、一般に、アクリル樹脂、エポキシ樹脂、ウレタン樹脂、シリコン樹脂等の熱硬化性樹脂、又は紫外線硬化性樹脂である。短時間で硬化させることができ、生産性に優れる点から紫外線硬化性樹脂が好ましい。紫外線硬化性樹脂を用いる場合は、紫外線硬化性樹脂組成物（紫外線硬化性樹脂、光重合開始剤等からなる）として使用される。 The hard coat layer is made of a resin composition, and the synthetic resin constituting the resin composition is generally a thermosetting resin such as an acrylic resin, an epoxy resin, a urethane resin, or a silicon resin, or an ultraviolet curable resin. An ultraviolet curable resin is preferable because it can be cured in a short time and is excellent in productivity. When an ultraviolet curable resin is used, it is used as an ultraviolet curable resin composition (consisting of an ultraviolet curable resin, a photopolymerization initiator, etc.).
複数層のハードコート層の材料は、同一でも異なっていても良い。界面における干渉縞（色ムラ）を抑えるため、一般に同一の材料が使用される。一方で、光学特性を調整するため、敢えて屈折率を変化させる場合には、異なる材料で形成しても良い。 The materials of the multiple hard coat layers may be the same or different. In general, the same material is used to suppress interference fringes (color unevenness) at the interface. On the other hand, in order to adjust the optical characteristics, when the refractive index is changed, it may be formed of a different material.
反射防止層として、高屈折率層１５及び低屈折率層１６は無くても良いが、光学フィルタとして、外部の光の反射を抑えるために反射防止層が形成されていることが好ましい。反射防止層は、図１に示すように高屈折率層１５と低屈折率層１６と組み合わせた層でも良く、低屈折率層１６のみでも良い。
Although the high
図２は、本発明のディスプレイ用光学フィルタの製造方法の代表的な１例を示す概略断面図である。 FIG. 2 is a schematic cross-sectional view showing a typical example of a method for producing an optical filter for display according to the present invention.
図示の通り、矩形状の透明な基材フィルム２２の表面全域にメッシュ状の導電層２３を形成する（１）（導電層形成工程）。基材フィルム２２と導電層２３等との接着性を保持するために、基材フィルム２２と導電層２３との間に中間層を形成しても良い（図示していない）。次いで、第１のハードコート層２４を形成する（２）（第１ハードコート層形成工程）。図示の通り、第１ハードコート層形成工程は、ハードコート層形成用樹脂組成物含有塗工液を塗工する工程（ａ）と、塗工した樹脂組成物層を硬化する工程（ｂ）を含む。硬化工程（ｂ）は、例えば、紫外線硬化樹脂組成物を使用した場合は乾燥した後、紫外線照射して硬化し、熱硬化樹脂組成物を使用した場合は加熱処理して硬化する。
As shown in the figure, a mesh-like
次いで同様に第２のハードコート層２４'を形成する（２'）（第２ハードコート層形成工程）。必要回数のハードコート層を形成する工程を繰り返し、複数層のハードコート層を形成する。形成するハードコート層の層数は２層以上であれば制限はないが、高度な平面性を得る効果と経済的観点（生産性が高い）から、２又は３層が好ましい。 Next, similarly, a second hard coat layer 24 'is formed (2') (second hard coat layer forming step). The process of forming the required number of hard coat layers is repeated to form a plurality of hard coat layers. The number of hard coat layers to be formed is not limited as long as it is two or more, but two or three layers are preferable from the viewpoint of obtaining an effect of high flatness and an economical viewpoint (high productivity).
塗工工程（ａ）におけるハードコート層形成用樹脂組成物含有塗工液を構成する合成樹脂は、一般に、アクリル樹脂層、エポキシ樹脂層、ウレタン樹脂層、シリコン樹脂層等の熱硬化性樹脂、又は紫外線硬化性樹脂である。短時間で硬化させることができ、生産性に優れる点から紫外線硬化性樹脂を使用して製造するのが好ましい。紫外線硬化性樹脂を用いる場合は、紫外線硬化性樹脂組成物（紫外線硬化性樹脂、光重合開始剤等からなる）として使用する。塗工液は樹脂組成物をトルエン等の溶媒で溶液としたものを使用し、その濃度、粘度は組成物の種類、塗工厚等により調整する。 Synthetic resins constituting the hard coat layer-forming resin composition-containing coating solution in the coating step (a) are generally thermosetting resins such as acrylic resin layers, epoxy resin layers, urethane resin layers, silicon resin layers, Or it is ultraviolet curable resin. It can be cured in a short time and is preferably produced using an ultraviolet curable resin from the viewpoint of excellent productivity. When an ultraviolet curable resin is used, it is used as an ultraviolet curable resin composition (consisting of an ultraviolet curable resin, a photopolymerization initiator, etc.). As the coating solution, a solution obtained by dissolving the resin composition with a solvent such as toluene is used, and its concentration and viscosity are adjusted depending on the type of the composition, the coating thickness, and the like.
複数層のハードコート層形成用樹脂組成物含有塗工液の材料は、同一でも異なっていても良い。界面における干渉縞（色ムラ）を抑えるため、一般に同一の材料が使用される。一方で、光学特性を調整するため、敢えて屈折率を変化させる場合には、異なる材料で形成しても良い。 The material of the coating liquid containing the resin composition for forming a plurality of hard coat layers may be the same or different. In general, the same material is used to suppress interference fringes (color unevenness) at the interface. On the other hand, in order to adjust the optical characteristics, when the refractive index is changed, it may be formed of a different material.
次いで、反射防止層として高屈折率層２５及びその上に低屈折率層２６を形成する（３）（反射防止層形成工程）。反射防止層形成工程においては、低屈折率層２６のみを形成しても良い。また、反射防止層形成工程を行わなくても良く、別の機能層を形成させても良い。
Next, a high
反射防止層形成工程後、基材フィルム２２の導電層２３が形成された面の他面上に近赤外線吸収層２７及びその上に透明な粘着剤層２８が形成される（４）。これらの機能層は、何らかの機能を示す合成樹脂を含む層であればどのようなものでも良い。図２の例においては２層の組合せであるが、用途によっては、粘着剤層２８は設けなくても良く、近赤外線吸収層２７に換えて、又は加えて、ネオンカット層を設けても良い。また、工程（４）を行った後、導電層形成工程（１）、第１ハードコート層形成工程（２）等を行っても良い。
After the antireflection layer forming step, a near-infrared absorbing layer 27 and a transparent pressure-
上記のように枚葉に加工しても良いが、以下のように連続的に形成することも可能である。即ち、長尺状の基材フィルム２２にメッシュ状の導電層２３、その上に第１のハードコート層２４等を形成させ、さらにその他面上に近赤外線吸収層２７等を連続的に形成した後、必要な長さで裁断する。
Although it may be processed into a single wafer as described above, it can also be formed continuously as follows. That is, the mesh-shaped
以上の工程により形成された光学フィルタ３０を粘着剤層２８でガラス基板に貼り付ける（５）(図示していない)。なお、光学フィルタ３０の製造工程の（１）〜（５）の間、又はその後において、導電層２３から外部への導通を図るため、光学フィルタの周囲のハードコート層等の機能層をレーザー照射等により除去して導電層を露出させたり、導電性粘着テープを導電層に挟みこんで外部に接地させる等の工程が含まれる（図示していない）。
The
本発明のディスプレイ用光学フィルタ、及びディスプレイ用光学フィルタの製造方法は、本発明の目的を達成することができれば、どのような材料や工程を用いても良い。以下に好ましい態様を説明する。 The optical filter for display and the method for producing the optical filter for display of the present invention may use any material or process as long as the object of the present invention can be achieved. A preferred embodiment will be described below.
基材フィルムは、一般に、透明なプラスチックフィルムである。その材料としては、透明（「可視光に対して透明」を意味する。）であれば特に制限はない。プラスチックフィルムの例としては、ポリエステル[例、ポリエチレンテレフタレート（ＰＥＴ）、ポリブチレンテレフタレート]、ポリメチルメタクリレート（ＰＭＭＡ）、アクリル樹脂、ポリカーボネート（ＰＣ）、ポリスチレン、トリアセテート樹脂、ポリビニルアルコール、ポリ塩化ビニル、ポリ塩化ビニリデン、ポリエチレン、エチレン−酢酸ビニル共重合体、ポリビニルブチラール、金属イオン架橋エチレン−メタクリル酸共重合体、ポリウレタン、セロファン等を挙げることができる。これらの中でも、加工時の負荷（熱、溶剤、折り曲げ等）に対する耐性が高く、透明性が特に高い等の点で、ポリエチレンテレフタレート（ＰＥＴ）、ポリカーボネート（ＰＣ）、ポリメチルメタクリレート（ＰＭＭＡ）等が好ましい。特に、ＰＥＴが、加工性に優れているので好ましい。また、近赤外吸収層等に含まれる有機色素類は紫外線を受けて耐久性が低下しやすいが、ＰＥＴ等のポリエステルはこのような紫外線を吸収する傾向があり好ましい。基材フィルムの表面には各機能層の密着性を良くするための易接着層を設けても良い。易接着層は、例えば、共重合ポリエステル樹脂とポリウレタン樹脂等の熱硬化性樹脂のみ、又はそれらの樹脂に、ＳｉＯ2、ＺｒＯ2、ＴｉＯ2、Ａｌ2Ｏ3等の金属酸化微粒子、好ましくは平均粒径１〜１００ｎｍの金属酸化微粒子を配合して、屈折率を調整したものが用いられる。 The base film is generally a transparent plastic film. The material is not particularly limited as long as it is transparent (meaning “transparent to visible light”). Examples of plastic films include polyester [eg, polyethylene terephthalate (PET), polybutylene terephthalate], polymethyl methacrylate (PMMA), acrylic resin, polycarbonate (PC), polystyrene, triacetate resin, polyvinyl alcohol, polyvinyl chloride, poly Examples thereof include vinylidene chloride, polyethylene, ethylene-vinyl acetate copolymer, polyvinyl butyral, metal ion crosslinked ethylene-methacrylic acid copolymer, polyurethane, cellophane and the like. Among these, polyethylene terephthalate (PET), polycarbonate (PC), polymethyl methacrylate (PMMA), etc. are highly resistant to loads during processing (heat, solvent, bending, etc.) and particularly highly transparent. preferable. In particular, PET is preferable because it has excellent processability. In addition, organic dyes contained in the near-infrared absorbing layer and the like are likely to be deteriorated in durability by receiving ultraviolet rays, but polyesters such as PET are preferable because they tend to absorb such ultraviolet rays. You may provide the easily bonding layer for improving the adhesiveness of each functional layer on the surface of a base film. The easy-adhesion layer is, for example, a thermosetting resin such as a copolyester resin and a polyurethane resin, or a metal oxide fine particle such as SiO 2 , ZrO 2 , TiO 2 , or Al 2 O 3 , preferably an average. What adjusted the refractive index by mix | blending metal oxide fine particles with a particle size of 1-100 nm is used.
基材フィルムの厚さとしては、光学フィルタの用途等によっても異なるが、一般に１μｍ〜１０ｍｍ、１μｍ〜５ｍｍ、特に２５〜２５０μｍが好ましい。 The thickness of the base film varies depending on the use of the optical filter and the like, but is generally 1 μm to 10 mm, 1 μm to 5 mm, and particularly preferably 25 to 250 μm.
メッシュ状の導電層は、一般に１０Ω／□以下、好ましくは０．００１〜５Ω／□の範囲、特に０．００５〜５Ω／□のとなるように設定される。メッシュ状の導電層としては金属繊維及び金属被覆有機繊維の金属を網状にしたもの、透明フィルム上の銅箔等の層を網状にエッチング加工し、開口部を設けたもの、透明フィルム上に導電性インクをメッシュ状に印刷したもの、等を挙げることができる。 The mesh-like conductive layer is generally set to be 10Ω / □ or less, preferably in the range of 0.001 to 5Ω / □, particularly 0.005 to 5Ω / □. As the mesh-like conductive layer, metal fibers and metal-coated organic fiber metals made into a mesh, copper foil on a transparent film etched into a mesh and provided with openings, conductive on the transparent film And the like, in which a conductive ink is printed in a mesh shape.
メッシュ状の導電層の場合、メッシュとしては、金属繊維及び／又は金属被覆有機繊維よりなる線径１μｍ〜１ｍｍ、開口率４０〜９５％のものが好ましい。より好ましい線径は１０〜５００μｍ、開口率は５０〜９５％である。メッシュ状の導電層において、線径が１ｍｍを超えると電磁波シールド性が向上するが、開口率が低下し両立させることができない。１μｍ未満では、メッシュとしての強度が下がり取扱いが困難となる。また開口率が９５％を超えるとメッシュとしての形状を維持することが困難であり、４０％未満では光透過性が低下し、ディスプレイからの光量も低下する。 In the case of a mesh-shaped conductive layer, the mesh preferably has a wire diameter of 1 μm to 1 mm and an aperture ratio of 40 to 95% made of metal fibers and / or metal-coated organic fibers. A more preferable wire diameter is 10 to 500 μm, and an aperture ratio is 50 to 95%. When the wire diameter exceeds 1 mm in the mesh-like conductive layer, the electromagnetic wave shielding property is improved, but the aperture ratio is lowered and cannot be made compatible. If it is less than 1 μm, the strength as a mesh is lowered and handling becomes difficult. Further, when the aperture ratio exceeds 95%, it is difficult to maintain the shape as a mesh. When the aperture ratio is less than 40%, the light transmittance is reduced, and the amount of light from the display is also reduced.
なお、メッシュの開口率とは、当該メッシュの投影面積における開口部分が占める面積割合を言う。 In addition, the aperture ratio of a mesh means the area ratio which the opening part occupies in the projection area of the said mesh.
メッシュ状の導電層を構成する金属繊維及び金属被覆有機繊維の金属としては、銅、ステンレス、アルミニウム、ニッケル、チタン、タングステン、錫、鉛、鉄、銀、炭素又はこれらの合金、好ましくは銅、ステンレス、ニッケルが用いられる。 As the metal of the mesh-like conductive layer and the metal of the metal-coated organic fiber, copper, stainless steel, aluminum, nickel, titanium, tungsten, tin, lead, iron, silver, carbon or alloys thereof, preferably copper, Stainless steel and nickel are used.
金属被覆有機繊維の有機材料としては、ポリエステル、ナイロン、塩化ビニリデン、アラミド、ビニロン、セルロース等が用いられる。 As the organic material for the metal-coated organic fiber, polyester, nylon, vinylidene chloride, aramid, vinylon, cellulose and the like are used.
金属箔等の導電性の箔をパターンエッチングしたもの場合、金属箔の金属としては、銅、ステンレス、アルミニウム、ニッケル、鉄、真鍮、或いはこれらの合金、好ましくは銅、ステンレス、アルミニウムが用いられる。 When a conductive foil such as a metal foil is subjected to pattern etching, copper, stainless steel, aluminum, nickel, iron, brass, or an alloy thereof, preferably copper, stainless steel, or aluminum is used as the metal of the metal foil.
金属箔の厚さは、薄過ぎると取扱い性やパターンエッチングの作業性等の面で好ましくなく、厚過ぎると得られるフィルムの厚さに影響を及ぼし、エッチング工程の所要時間が長くなることから、１〜２００μｍ程度とするのが好ましい。 If the thickness of the metal foil is too thin, it is not preferable in terms of handleability and workability of pattern etching, and if it is too thick, it affects the thickness of the film obtained, and the time required for the etching process becomes long. The thickness is preferably about 1 to 200 μm.
エッチングパターンの形状には特に制限はなく、例えば四角形の孔が形成された格子状の金属箔や、円形、六角形、三角形又は楕円形の孔が形成されたパンチングメタル状の金属箔等が挙げられる。また、孔は規則的に並んだものに限らず、ランダムパターンとしても良い。この金属箔の投影面における開口部分の面積割合は、２０〜９５％であることが好ましい。 The shape of the etching pattern is not particularly limited, and examples thereof include a grid-like metal foil in which square holes are formed, and a punching metal-like metal foil in which circular, hexagonal, triangular or elliptical holes are formed. It is done. Further, the holes are not limited to those regularly arranged, and may be a random pattern. It is preferable that the area ratio of the opening part in the projection surface of this metal foil is 20 to 95%.
上記の他に、メッシュ状の導電層として、フィルム面に、溶剤に対して可溶な材料によってドットを形成し、フィルム面に溶剤に対して不溶な導電材料からなる導電材料層を形成し、フィルム面を溶剤と接触させてドット及びドット上の導電材料層を除去することによって得られるメッシュ状の導電層を用いても良い。 In addition to the above, as a mesh-like conductive layer, dots are formed on the film surface by a material soluble in a solvent, and a conductive material layer made of a conductive material insoluble in a solvent is formed on the film surface, A mesh-like conductive layer obtained by bringing the film surface into contact with a solvent to remove the dots and the conductive material layer on the dots may be used.
導電層上に、さらに金属メッキ層を、導電性を向上させるためは設けても良い（特に、上記溶剤に対して可溶な材料によってドットを形成する方法の場合）。金属メッキ層は、公知の電解メッキ法、無電解メッキ法により形成することができる。メッキに使用される金属としては、一般に銅、銅合金、ニッケル、アルミ、銀、金、亜鉛又はスズ等を使用することが可能であり、好ましくは銅、銅合金、銀、又はニッケルであり、特に経済性、導電性の点から、銅又は銅合金を使用することが好ましい。 A metal plating layer may be further provided on the conductive layer in order to improve the conductivity (particularly in the case of forming dots with a material soluble in the solvent). The metal plating layer can be formed by a known electrolytic plating method or electroless plating method. As the metal used for plating, generally, copper, copper alloy, nickel, aluminum, silver, gold, zinc, tin or the like can be used, preferably copper, copper alloy, silver, or nickel, In particular, it is preferable to use copper or a copper alloy from the viewpoint of economy and conductivity.
また、防眩性能を付与させても良い。この防眩化処理を行う場合、（メッシュ）導電層の表面に黒化処理を行っても良い。例えば、金属膜の酸化処理、クロム合金等の黒色メッキ、黒又は暗色系のインクの塗布等を行うことができる。 Moreover, you may give anti-glare performance. When this anti-glare treatment is performed, a blackening treatment may be performed on the surface of the (mesh) conductive layer. For example, oxidation treatment of a metal film, black plating such as chromium alloy, application of black or dark ink, and the like can be performed.
基材フィルムと導電層との間に中間層を形成する場合は、その材料として、主として、ポリエステル樹脂を用いる。ポリエステル樹脂は、一般にグリコールと多価（一般に二価）のカルボン酸との重縮合により得られる。グリコールの例としては、エチレングリコール、ジエチレングリコール、プロピレングリコール、ブタンジオール、ヘキサンジオール、１，４−シクロヘキサンジメタノール、２，２−ジメチル−１，３−プロパンジオール（ネオペンチルグリコール）、２−メチル−２−エチル−１，３−プロパンジオール、２−メチル−２−ブチル−１，３−プロパンジオール、２−メチル−２−プロピル−１，３−プロパンジオール、２−メチル−２−イソプロピル−１，３−プロパンジオール、２−メチル−２−ｎ−ヘキシル−１，３−プロパンジオール、２，２−ジエチル−１，３−プロパンジオール、２−エチル−２−ｎ−ブチル−１，３−プロパンジオール、２−エチル−２−ｎ−ヘキシル−１，３−プロパンジオール、２，２−ジ−ｎ−ブチル−１，３−プロパンジオール、２−ｎ−ブチル−２−プロピル−１，３−プロパンジオール、２，２−ジ−ｎ−ヘキシル−１，３−プロパンジオールを挙げることができる。エチレングリコール、ジエチレングリコール、プロピレングリコール、ブタンジオール、ヘキサンジオール、１，４−シクロヘキサンジメタノール、２，２−ジメチル−１，３−プロパンジオールが好ましい。
When an intermediate layer is formed between the base film and the conductive layer, a polyester resin is mainly used as the material. The polyester resin is generally obtained by polycondensation of glycol and a polyvalent (generally divalent) carboxylic acid. Examples of glycols include ethylene glycol, diethylene glycol, propylene glycol, butanediol, hexanediol, 1,4-cyclohexanedimethanol, 2,2-dimethyl-1,3-propanediol (neopentyl glycol), 2-methyl- 2-ethyl-1,3-propanediol, 2-methyl-2-butyl-1,3-propanediol, 2-methyl-2-propyl-1,3-propanediol, 2-methyl-2-isopropyl-1 , 3-propanediol, 2-methyl-2-n-hexyl-1,3-propanediol, 2,2-diethyl-1,3-propanediol, 2-ethyl-2-n-butyl-1,3- Propanediol, 2-ethyl-2-n-hexyl-1,3-propanediol, 2,2-di-n-
多価（一般に二価）のカルボン酸の例としては、テレフタル酸、イソフタル酸、ジフェニルカルボン酸、２，６−ナフタレンジカルボン酸等の芳香族ジカルボン酸；アジピン酸、コハク酸、マロン酸、グルタル酸、ピメリン酸、スベリン酸、アゼライン酸、セバシン酸、フマル酸、マレイン酸を挙げることができる。テレフタル酸、イソフタル酸、アジピン酸、コハク酸、アゼライン酸、セバシン酸が好ましい。 Examples of polyvalent (generally divalent) carboxylic acids include aromatic dicarboxylic acids such as terephthalic acid, isophthalic acid, diphenylcarboxylic acid, 2,6-naphthalenedicarboxylic acid; adipic acid, succinic acid, malonic acid, glutaric acid And pimelic acid, suberic acid, azelaic acid, sebacic acid, fumaric acid and maleic acid. Terephthalic acid, isophthalic acid, adipic acid, succinic acid, azelaic acid and sebacic acid are preferred.
ポリエステル樹脂の重量平均分子量は一般に１０００〜５００００の範囲、特に２０００〜２００００の範囲が好ましい。また、数平均分子量は一般に１０００〜５００００の範囲、特に２０００〜２００００の範囲が好ましい。 The weight average molecular weight of the polyester resin is generally in the range of 1000 to 50000, particularly preferably in the range of 2000 to 20000. The number average molecular weight is generally in the range of 1000 to 50000, and particularly preferably in the range of 2000 to 20000.
ポリエステル樹脂以外の樹脂成分として、アクリル樹脂、スチレン−マレイン酸グラフトポリエステル樹脂、アクリルグラフトポリエステル樹脂、エポキシ樹脂、ウレタン樹脂、シリコン樹脂等を使用しても良い。 As a resin component other than the polyester resin, an acrylic resin, a styrene-maleic acid graft polyester resin, an acrylic graft polyester resin, an epoxy resin, a urethane resin, a silicon resin, or the like may be used.
中間層形成用の塗工液は、上記ポリエステル樹脂、各種添加剤を有機溶剤に混合、溶解させることにより得ることができる。そして、得られた塗工液を公知の塗工法により、塗工、乾燥することにより中間層を得ることができる。この塗工液は、通常、硬化剤を含んでいないので、塗工後、溶剤を蒸発させることにより中間層を形成することができる。 The coating liquid for forming the intermediate layer can be obtained by mixing and dissolving the polyester resin and various additives in an organic solvent. And an intermediate | middle layer can be obtained by coating and drying the obtained coating liquid by a well-known coating method. Since this coating liquid usually does not contain a curing agent, the intermediate layer can be formed by evaporating the solvent after coating.
ハードコート層は、上述のようにアクリル樹脂層、エポキシ樹脂層、ウレタン樹脂層、シリコン樹脂層等の合成樹脂を主成分とする樹脂組成物層である。通常、ハードコート層の厚さは複数層のハードコート層全体で１〜５０μｍ、層厚を厚くせず、高度な平面性を得るために、好ましくは５〜２０μｍである。合成樹脂は、一般にフェノール樹脂、レゾルシノール樹脂、尿素樹脂、メラミン樹脂、エポキシ樹脂、アクリル樹脂、ウレタン樹脂、フラン樹脂、シリコン樹脂などの熱硬化性樹脂、又は紫外線硬化性樹脂であり、上述の通り、短時間で硬化させることができ、生産性に優れる点から紫外線硬化性樹脂が好ましい。紫外線硬化性樹脂を用いる場合は、紫外線硬化性樹脂組成物（紫外線硬化性樹脂、光重合開始剤等からなる）として使用する。 As described above, the hard coat layer is a resin composition layer mainly composed of a synthetic resin such as an acrylic resin layer, an epoxy resin layer, a urethane resin layer, or a silicon resin layer. Usually, the thickness of the hard coat layer is 1 to 50 μm over the entire hard coat layer, and preferably 5 to 20 μm in order to obtain high flatness without increasing the layer thickness. Synthetic resins are generally thermosetting resins such as phenol resins, resorcinol resins, urea resins, melamine resins, epoxy resins, acrylic resins, urethane resins, furan resins, silicone resins, or ultraviolet curable resins, as described above. An ultraviolet curable resin is preferable because it can be cured in a short time and is excellent in productivity. When an ultraviolet curable resin is used, it is used as an ultraviolet curable resin composition (consisting of an ultraviolet curable resin, a photopolymerization initiator, etc.).
紫外線硬化性樹脂（モノマー、オリゴマー）としては、例えば、２−ヒドロキシエチル（メタ）アクリレート、２−ヒドロキシプロピル（メタ）アクリレート、４−ヒドロキシブチル（メタ）アクリレート、２−エチルヘキシルポリエトキシ（メタ）アクリレート、ベンジル（メタ）アクリレート、イソボルニル（メタ）アクリレート、フェニルオキシエチル（メタ）アクリレート、トリシクロデカンモノ（メタ）アクリレート、ジシクロペンテニルオキシエチル（メタ）アクリレート、テトラヒドロフルフリル（メタ）アクリレート、アクリロイルモルホリン、Ｎ−ビニルカプロラクタム、２−ヒドロキシ−３−フェニルオキシプロピル（メタ）アクリレート、ｏ−フェニルフェニルオキシエチル（メタ）アクリレート、ネオペンチルグリコールジ（メタ）アクリレート、ネオペンチルグリコールジプロポキシジ（メタ）アクリレート、ヒドロキシピバリン酸ネオペンチルグリコールジ（メタ）アクリレート、トリシクロデカンジメチロールジ（メタ）アクリレート、１，６−ヘキサンジオールジ（メタ）アクリレート、ノナンジオールジ（メタ）アクリレート、トリメチロールプロパントリ（メタ）アクリレート、ペンタエリスリトールトリ（メタ）アクリレート、ペンタエリスリトールテトラ（メタ）アクリレート、トリス〔（メタ）アクリロキシエチル〕イソシアヌレート、ジトリメチロールプロパンテトラ（メタ）アクリレート等の（メタ）アクリレートモノマー類；ポリオール化合物（例えば、エチレングリコール、プロピレングリコール、ネオペンチルグリコール、１，６−ヘキサンジオール、３−メチル−１，５−ペンタンジオール、１，９−ノナンジオール、２−エチル−２−ブチル−１，３−プロパンジオール、トリメチロールプロパン、ジエチレングリコール、ジプロピレングリコール、ポリプロピレングリコール、１，４−ジメチロールシクロヘキサン、ビスフェノールＡポリエトキシジオール、ポリテトラメチレングリコール等のポリオール類、前記ポリオール類とコハク酸、マレイン酸、イタコン酸、アジピン酸、水添ダイマー酸、フタル酸、イソフタル酸、テレフタル酸等の多塩基酸又はこれらの酸無水物類との反応物であるポリエステルポリオール類、前記ポリオール類とε−カプロラクトンとの反応物であるポリカプロラクトンポリオール類、前記ポリオール類と前記多塩基酸又はこれらの酸無水物類のε−カプロラクトンとの反応物、ポリカーボネートポリオール、ポリマーポリオール等）と有機ポリイソシアネート（例えば、トリレンジイソシアネート、イソホロンジイソシアネート、キシリレンジイソシアネート、ジフェニルメタン−４，４’−ジイソシアネート、ジシクロペンタニルジイソシアネート、ヘキサメチレンジイソシアネート、２，４，４’−トリメチルヘキサメチレンジイソシアネート、２，２’−４−トリメチルヘキサメチレンジイソシアネート等）と水酸基含有（メタ）アクリレート（例えば、２−ヒドロキシエチル（メタ）アクリレート、２−ヒドロキシプロピル（メタ）アクリレート、４−ヒドロキシブチル（メタ）アクリレート、２−ヒドロキシ−３−フェニルオキシプロピル（メタ）アクリレート、シクロヘキサン−１，４−ジメチロールモノ（メタ）アクリレート、ペンタエリスリトールトリ（メタ）アクリレート、ペンタエリスリトールペンタ（メタ）アクリレート、ジペンタエリスリトールヘキサ（メタ）アクリレート、グリセリンジ（メタ）アクリレート等）の反応物であるポリウレタン（メタ）アクリレート、ビスフェノールＡ型エポキシ樹脂、ビスフェノールＦ型エポキシ樹脂等のビスフェノール型エポキシ樹脂と（メタ）アクリル酸の反応物であるビスフェノール型エポキシ（メタ）アクリレート等の（メタ）アクリレートオリゴマー類等を挙げることができる。これら化合物は１種又は２種以上、混合して使用することができる。これらの紫外線硬化性樹脂を、熱重合開始剤とともに用いて熱硬化性樹脂として使用してもよい。 Examples of the ultraviolet curable resin (monomer, oligomer) include 2-hydroxyethyl (meth) acrylate, 2-hydroxypropyl (meth) acrylate, 4-hydroxybutyl (meth) acrylate, and 2-ethylhexyl polyethoxy (meth) acrylate. , Benzyl (meth) acrylate, isobornyl (meth) acrylate, phenyloxyethyl (meth) acrylate, tricyclodecane mono (meth) acrylate, dicyclopentenyloxyethyl (meth) acrylate, tetrahydrofurfuryl (meth) acrylate, acryloylmorpholine , N-vinylcaprolactam, 2-hydroxy-3-phenyloxypropyl (meth) acrylate, o-phenylphenyloxyethyl (meth) acrylate, neopentylglyce Di (meth) acrylate, neopentyl glycol dipropoxy di (meth) acrylate, neopentyl glycol di (meth) acrylate hydroxypivalate, tricyclodecane dimethylol di (meth) acrylate, 1,6-hexanediol di (meth) Acrylate, nonanediol di (meth) acrylate, trimethylolpropane tri (meth) acrylate, pentaerythritol tri (meth) acrylate, pentaerythritol tetra (meth) acrylate, tris [(meth) acryloxyethyl] isocyanurate, ditrimethylolpropane (Meth) acrylate monomers such as tetra (meth) acrylate; polyol compounds (for example, ethylene glycol, propylene glycol, neopentyl glycol, , 6-hexanediol, 3-methyl-1,5-pentanediol, 1,9-nonanediol, 2-ethyl-2-butyl-1,3-propanediol, trimethylolpropane, diethylene glycol, dipropylene glycol, polypropylene Polyols such as glycol, 1,4-dimethylolcyclohexane, bisphenol A polyethoxydiol, polytetramethylene glycol, the polyols and succinic acid, maleic acid, itaconic acid, adipic acid, hydrogenated dimer acid, phthalic acid, isophthalic acid Polyester polyols which are reaction products of polybasic acids such as acid and terephthalic acid or acid anhydrides thereof, polycaprolactone polyols which are reaction products of the polyols and ε-caprolactone, the polyols and the polyhydric acid Basic acid or this Reaction products of acid anhydrides of ε-caprolactone, polycarbonate polyols, polymer polyols, etc.) with organic polyisocyanates (for example, tolylene diisocyanate, isophorone diisocyanate, xylylene diisocyanate, diphenylmethane-4,4′-diisocyanate, dicyclohexane) Pentanyl diisocyanate, hexamethylene diisocyanate, 2,4,4′-trimethylhexamethylene diisocyanate, 2,2′-4-trimethylhexamethylene diisocyanate, etc.) and a hydroxyl group-containing (meth) acrylate (for example, 2-hydroxyethyl (meth)) Acrylate, 2-hydroxypropyl (meth) acrylate, 4-hydroxybutyl (meth) acrylate, 2-hydroxy-3-phenyloxypropyl (meth) acrylate , Cyclohexane-1,4-dimethylol mono (meth) acrylate, pentaerythritol tri (meth) acrylate, pentaerythritol penta (meth) acrylate, dipentaerythritol hexa (meth) acrylate, glycerin di (meth) acrylate, etc.) (Meth) acrylate such as polyurethane (meth) acrylate, bisphenol A type epoxy resin, bisphenol F type epoxy resin, etc. ) Acrylate oligomers and the like. These compounds can be used alone or in combination. These ultraviolet curable resins may be used as a thermosetting resin together with a thermal polymerization initiator.
ハードコート層とするには、上記の紫外線硬化性樹脂（モノマー、オリゴマー）の内、ペンタエリスリトールトリ（メタ）アクリレート、ペンタエリスリトールペンタ（メタ）アクリレート、ジペンタエリスリトールヘキサ（メタ）アクリレート等の硬質の多官能モノマーを主に使用することが好ましい。 For the hard coat layer, among the above-mentioned ultraviolet curable resins (monomers and oligomers), hard materials such as pentaerythritol tri (meth) acrylate, pentaerythritol penta (meth) acrylate and dipentaerythritol hexa (meth) acrylate are used. It is preferable to mainly use polyfunctional monomers.
紫外線硬化性樹脂の光重合開始剤として、紫外線硬化性樹脂の性質に適した任意の化合物を使用することができる。例えば、２−ヒドロキシ−２−メチル−１−フェニルプロパン−１−オン、１−ヒドロキシシクロヘキシルフェニルケトン、２−メチル−１−（４−（メチルチオ）フェニル）−２−モルホリノプロパン−１などのアセトフェノン系、ベンジルジメチルケタールなどのベンゾイン系、ベンゾフェノン、４−フェニルベンゾフェノン、ヒドロキシベンゾフェノンなどのベンゾフェノン系、イソプロピルチオキサントン、２−４−ジエチルチオキサントンなどのチオキサントン系、その他特殊なものとしては、メチルフェニルグリオキシレートなどが使用できる。特に好ましくは、２−ヒドロキシ−２−メチル−１−フェニルプロパン−１−オン、１−ヒドロキシシクロヘキシルフェニルケトン、２−メチル−１−（４−（メチルチオ）フェニル）−２−モルホリノプロパン−１、ベンゾフェノン等が挙げられる。これら光重合開始剤は、必要に応じて、４−ジメチルアミノ安息香酸のごとき安息香酸系叉は、第３級アミン系などの公知慣用の光重合促進剤の１種または２種以上を任意の割合で混合して使用することができる。また、光重合開始剤のみの１種または２種以上の混合で使用することができる。特に１−ヒドロキシシクロヘキシルフェニルケトン(チバ・スペシャリティ・ケミカルズ社製、イルガキュア１８４）が好ましい。 Any compound suitable for the properties of the ultraviolet curable resin can be used as the photopolymerization initiator for the ultraviolet curable resin. For example, acetophenone such as 2-hydroxy-2-methyl-1-phenylpropan-1-one, 1-hydroxycyclohexyl phenyl ketone, 2-methyl-1- (4- (methylthio) phenyl) -2-morpholinopropane-1 Benzoin series such as benzyl dimethyl ketal, benzophenone, 4-phenylbenzophenone, benzophenone series such as hydroxybenzophenone, thioxanthone series such as isopropylthioxanthone, 2-4-diethylthioxanthone, and other special types include methylphenyl glyoxylate Etc. can be used. Particularly preferably, 2-hydroxy-2-methyl-1-phenylpropan-1-one, 1-hydroxycyclohexyl phenyl ketone, 2-methyl-1- (4- (methylthio) phenyl) -2-morpholinopropane-1, Examples include benzophenone. These photopolymerization initiators may be optionally selected from one or more known photopolymerization accelerators such as benzoic acid type or tertiary amine type such as 4-dimethylaminobenzoic acid. It can be used by mixing at a ratio. Moreover, it can be used by 1 type, or 2 or more types of mixture of only a photoinitiator. In particular, 1-hydroxycyclohexyl phenyl ketone (manufactured by Ciba Specialty Chemicals, Irgacure 184) is preferable.
光重合開始剤の量は、樹脂組成物に対して一般に０．１〜１０質量％、好ましくは０．１〜５質量％である。 Generally the quantity of a photoinitiator is 0.1-10 mass% with respect to a resin composition, Preferably it is 0.1-5 mass%.
さらに、ハードコート層は、紫外線吸収剤、赤外線吸収剤、老化防止剤、塗料加工助剤、着色剤等を少量含んでいても良い。特に、紫外線吸収剤（例、ベンゾトリアゾール系紫外線吸収剤又はベンゾフェノン系紫外線吸収剤）を含むことが好ましく、これによりフィルタの黄変等の防止が効率的に行うことができる。その量は、樹脂組成物に対して一般に０．１〜１０質量％、好ましくは０．１〜５質量％である。 Further, the hard coat layer may contain a small amount of an ultraviolet absorber, an infrared absorber, an anti-aging agent, a paint processing aid, a colorant and the like. In particular, it is preferable to contain an ultraviolet absorber (for example, a benzotriazole-based ultraviolet absorber or a benzophenone-based ultraviolet absorber), whereby yellowing of the filter can be efficiently prevented. The amount thereof is generally 0.1 to 10% by mass, preferably 0.1 to 5% by mass, based on the resin composition.
反射防止層の内、高屈折率層は、ポリマー（好ましくは紫外線硬化性樹脂）中に、ＩＴＯ，ＡＴＯ，Ｓｂ2Ｏ3，ＳｂＯ2，Ｉｎ2Ｏ3，ＳｎＯ2，ＺｎＯ、ＡｌをドープしたＺｎＯ、ＴｉＯ2等の導電性金属酸化物微粒子（無機化合物）が分散した層（硬化層）とすることが好ましい。金属酸化物微粒子としては、平均粒径１０〜１００００ｎｍ、好ましくは１０〜５０ｎｍのものが好ましい。特にＩＴＯ（特に平均粒径１０〜５０ｎｍのもの）が好ましい。膜厚は一般に１０〜５００ｎｍの範囲、好ましくは２０〜２００ｎｍである。 Among the antireflective layers, the high refractive index layer is doped with ITO, ATO, Sb 2 O 3 , SbO 2 , In 2 O 3 , SnO 2 , ZnO, and Al in a polymer (preferably an ultraviolet curable resin). A layer (cured layer) in which conductive metal oxide fine particles (inorganic compounds) such as ZnO and TiO 2 are dispersed is preferably used. The metal oxide fine particles preferably have an average particle size of 10 to 10,000 nm, preferably 10 to 50 nm. In particular, ITO (especially having an average particle diameter of 10 to 50 nm) is preferable. The film thickness is generally in the range of 10 to 500 nm, preferably 20 to 200 nm.
反射防止層の内、低屈折率層は、シリカ、フッ素樹脂等の微粒子、好ましくは中空シリカを１０〜４０重量％（好ましくは１０〜３０質量％）がポリマー（好ましくは紫外線硬化性樹脂）中に分散した層（硬化層）であることが好ましい。膜厚は一般に１０〜５００ｎｍの範囲、好ましくは２０〜２００ｎｍである。中空シリカとしては、平均粒径１０〜１００ｎｍ、好ましくは１０〜５０ｎｍ、比重０．５〜１．０、好ましくは０．８〜０．９のものが好ましい。 Among the antireflection layers, the low refractive index layer is composed of fine particles such as silica and fluororesin, preferably 10 to 40% by weight (preferably 10 to 30% by weight) of hollow silica in the polymer (preferably UV curable resin). A layer dispersed in (hardened layer) is preferable. The film thickness is generally in the range of 10 to 500 nm, preferably 20 to 200 nm. As the hollow silica, those having an average particle diameter of 10 to 100 nm, preferably 10 to 50 nm, and a specific gravity of 0.5 to 1.0, preferably 0.8 to 0.9 are preferable.
複数層のハードコート層全体として可視光線透過率が８５％以上であることが好ましい。高屈折率層及び低屈折率層の可視光線透過率も、いずれも８５％以上であることが好ましい。 The visible light transmittance is preferably 85% or more as a whole of the multiple hard coat layers. Both the visible light transmittance of the high refractive index layer and the low refractive index layer are preferably 85% or more.
複数層のハードコート層と上記２層より構成される場合、例えば、ハードコート層の厚さは全体で５〜２０μｍ、高屈折率層の厚さは５０〜１５０ｎｍ、低屈折率層の厚さは５０〜１５０ｎｍであることが好ましい。 In the case of being composed of a plurality of hard coat layers and the above two layers, for example, the total thickness of the hard coat layer is 5 to 20 μm, the thickness of the high refractive index layer is 50 to 150 nm, and the thickness of the low refractive index layer. Is preferably 50 to 150 nm.
各層を形成するには、例えば、前記の通り、ポリマー（好ましくは紫外線硬化性樹脂）に必要に応じ上記の微粒子を配合し、得られた塗工液を、前記の矩形透明基板表面に塗工し、次いで乾燥した後、紫外線照射して硬化すればよい。この場合、各層を１層ずつ塗工し硬化させてもよく、全層を塗工した後、まとめて硬化させてもよい。連続加工の場合各層の塗工後に硬化をしないと、塗工面に傷が付く場合があるので、各層を１層ずつ塗工し硬化するのが好ましい。 In order to form each layer, for example, as described above, the above-mentioned fine particles are blended with a polymer (preferably an ultraviolet curable resin) as necessary, and the obtained coating liquid is applied to the surface of the rectangular transparent substrate. Then, after drying, it may be cured by ultraviolet irradiation. In this case, each layer may be applied and cured one by one, or all the layers may be applied and then cured together. In the case of continuous processing, the coating surface may be damaged unless it is cured after coating of each layer. Therefore, it is preferable to coat and cure each layer one by one.
塗工の具体的な方法としては、アクリル系モノマー等を含む紫外線硬化性樹脂をトルエン、ｎ−ヘキサン、メチルエチルケトン等の溶媒で溶液にした塗工液をグラビアコータ等によりコーティングし、その後乾燥し、次いで紫外線により硬化する方法を挙げることができる。このウェットコーティング法であれば、高速で均一に且つ安価に成膜できるという利点がある。このコーティング後に例えば紫外線を照射して硬化することにより密着性の向上、膜の硬度の上昇という効果が得られる。 As a specific method of coating, a coating solution in which an ultraviolet curable resin containing an acrylic monomer or the like is made into a solution with a solvent such as toluene, n-hexane, or methyl ethyl ketone is coated with a gravure coater, and then dried. Next, a method of curing with ultraviolet rays can be mentioned. This wet coating method has the advantage that the film can be uniformly formed at high speed at low cost. After this coating, for example, by irradiating and curing with ultraviolet rays, the effect of improving the adhesion and increasing the hardness of the film can be obtained.
紫外線硬化の場合は、光源として紫外〜可視領域に発光する多くのものが採用でき、例えば超高圧、高圧、低圧水銀灯、ケミカルランプ、キセノンランプ、ハロゲンランプ、マーキュリーハロゲンランプ、カーボンアーク灯、白熱灯、レーザー光等を挙げることができる。照射時間は、ランプの種類、光源の強さによって一概には決められないが、数秒〜数分程度である。また、硬化促進のために、予め積層体を４０〜１２０℃に加熱し、これに紫外線を照射してもよい。 In the case of ultraviolet curing, many light sources that emit light in the ultraviolet to visible range can be used as the light source, such as ultra-high pressure, high pressure, low pressure mercury lamp, chemical lamp, xenon lamp, halogen lamp, mercury lamp, carbon arc lamp, incandescent lamp. And laser light. The irradiation time cannot be determined unconditionally depending on the type of lamp and the intensity of the light source, but is about several seconds to several minutes. Moreover, in order to accelerate curing, the laminate may be preheated to 40 to 120 ° C. and irradiated with ultraviolet rays.
基材フィルムの導電層が形成された面の他面上に形成される近赤外線吸収層は、一般に、基板フィルムの表面に色素等を含む層が形成されることにより得られる。近赤外線吸収層は、例えば上記色素及びバインダ樹脂等を含む塗工液を塗工、必要により乾燥、そして硬化させることにより得られる。或いは上記色素及びバインダ樹脂等を含む塗工液を塗工、そして単に乾燥させることによっても得られる。フィルムとして使用する場合は、一般に近赤外線カットフィルムであり、例えば色素等を含有するフィルムである。色素としては、一般に８００〜１２００ｎｍの波長に吸収極大を有するもので、例としては、フタロシアニン系色素、金属錯体系色素、ニッケルジチオレン錯体系色素、シアニン系色素、スクアリリウム系色素、ポリメチン系色素、アゾメチン系色素、アゾ系色素、ポリアゾ系色素、ジイモニウム系色素、アミニウム系色素、アントラキノン系色素、を挙げることができ、特にシアニン系色素又、フタロシアニン系色素、ジイモニウム系色素が好ましい。これらの色素は、単独又は組み合わせて使用することができる。バインダ樹脂の例としては、アクリル樹脂等の熱可塑性樹脂を挙げることができる。 The near-infrared absorbing layer formed on the other surface of the base film on which the conductive layer is formed is generally obtained by forming a layer containing a pigment or the like on the surface of the substrate film. The near-infrared absorbing layer can be obtained, for example, by applying a coating liquid containing the above-described pigment and binder resin, and if necessary, drying and curing. Alternatively, it can also be obtained by applying a coating solution containing the above-mentioned pigment and binder resin and simply drying it. When used as a film, it is generally a near-infrared cut film, such as a film containing a pigment or the like. The dye generally has an absorption maximum at a wavelength of 800 to 1200 nm. Examples include phthalocyanine dyes, metal complex dyes, nickel dithiolene complex dyes, cyanine dyes, squarylium dyes, polymethine dyes, Examples thereof include azomethine dyes, azo dyes, polyazo dyes, diimonium dyes, aminium dyes, and anthraquinone dyes, and cyanine dyes, phthalocyanine dyes, and diimonium dyes are particularly preferable. These dyes can be used alone or in combination. Examples of the binder resin include thermoplastic resins such as acrylic resins.
近赤外線吸収層に、ネオン発光の吸収機能（ネオンカット機能）を付与することにより色調の調節機能を持たせても良い。このために、ネオン発光の吸収層（ネオンカット層）を設けても良いが、近赤外線吸収層にネオン発光の選択吸収色素を含有させても良い。 The near-infrared absorbing layer may be provided with a function of adjusting color tone by providing a neon emission absorbing function (neon cut function). For this purpose, a neon-emission absorption layer (neon cut layer) may be provided, but a neon-emission selective absorption dye may be included in the near-infrared absorption layer.
ネオン発光の選択吸収色素としては、シアニン系色素、スクアリリウム系色素、アントラキノン系色素、フタロシアニン系色素、ポリメチン系色素、ポリアゾ系色素、アズレニウム系色素、ジフェニルメタン系色素、トリフェニルメタン系色素を挙げることができる。このような選択吸収色素は、５８５ｎｍ付近のネオン発光の選択吸収性とそれ以外の可視光波長において吸収が小さいことが必要であるため、吸収極大波長が５７５〜５９５ｎｍであり、吸収スペクトル半値幅が４０ｎｍ以下であるものが好ましい。 Neon luminescent selective absorption dyes include cyanine dyes, squarylium dyes, anthraquinone dyes, phthalocyanine dyes, polymethine dyes, polyazo dyes, azurenium dyes, diphenylmethane dyes, and triphenylmethane dyes. it can. Such a selective absorption dye is required to have a selective absorption of neon emission near 585 nm and a small absorption at other visible light wavelengths, so that the absorption maximum wavelength is 575 to 595 nm and the absorption spectrum half width is What is 40 nm or less is preferable.
また、近赤外線やネオン発光の吸収色素を複数種組み合わせる場合、色素の溶解性に問題がある場合、混合による色素間の反応ある場合、耐熱性、耐湿性等の低下が認められる場合には、すべての近赤外線吸収色素を同一の層に含有させる必要はなく、別の層に含有させても良い。 Also, when combining multiple types of near-infrared or neon luminescent absorbing dyes, if there is a problem with the solubility of the dye, if there is a reaction between the dyes due to mixing, if there is a decline in heat resistance, moisture resistance, etc. All the near-infrared absorbing dyes need not be contained in the same layer, and may be contained in another layer.
また、光学特性に大きな影響を与えない限り、さらに着色用の色素、紫外線吸収剤、酸化防止剤等を加えても良い。 Further, a coloring pigment, an ultraviolet absorber, an antioxidant, and the like may be added as long as the optical properties are not greatly affected.
近赤外線吸収特性としては、８５０〜１０００ｎｍの透過率を、２０％以下、さらに１５％するのが好ましい。また選択吸収性としては、５８５ｎｍの透過率が５０％以下であることが好ましい。特に前者の場合には、周辺機器のリモコン等の誤作動が指摘されている波長領域の透過度を減少させる効果があり、後者の場合は、５７５〜５９５ｎｍにピークを持つオレンジ色が色再現性を悪化させる原因であることから、このオレンジ色の波長を吸収させる効果があり、これにより真赤性を高めて色の再現性を向上させたものである。近赤外線吸収層の層厚は、０．５〜５０μｍが一般的である。 As near-infrared absorption characteristics, it is preferable that the transmittance of 850 to 1000 nm is 20% or less, and further 15%. Moreover, as selective absorptivity, it is preferable that the transmittance | permeability of 585 nm is 50% or less. Especially in the former case, there is an effect of reducing the transmittance in a wavelength region where malfunction of a remote controller of a peripheral device is pointed out. In the latter case, an orange color having a peak at 575 to 595 nm is color reproducibility. This has the effect of absorbing the orange wavelength, thereby improving the redness and improving the color reproducibility. The layer thickness of the near infrared absorbing layer is generally 0.5 to 50 μm.
透明な粘着剤層は、ガラス基板に接着する接着機能を有するものであればどのような樹脂でも使用することができる。例えば、エチレン−酢酸ビニル共重合体（ＥＶＡ）、エチレン−アクリル酸メチル共重合体、ブチルアクリレート等から形成されたアクリル系粘着剤、ゴム系粘着剤、ＳＥＢＳ（スチレン／エチレン／ブチレン／スチレン）及びＳＢＳ（スチレン／ブタジエン／スチレン）等の熱可塑性エラストマー（ＴＰＥ）を主成分とするＴＰＥ系粘着剤及び接着剤等も用いることができる。 As the transparent pressure-sensitive adhesive layer, any resin can be used as long as it has an adhesion function of adhering to the glass substrate. For example, an acrylic adhesive formed from an ethylene-vinyl acetate copolymer (EVA), an ethylene-methyl acrylate copolymer, butyl acrylate, a rubber adhesive, SEBS (styrene / ethylene / butylene / styrene) and TPE-based pressure-sensitive adhesives and adhesives mainly composed of a thermoplastic elastomer (TPE) such as SBS (styrene / butadiene / styrene) can also be used.
その層厚は、一般に５〜５００μ光学フィルタは、一般に上記粘着剤層をディスプレイのガラス板に圧着することにより装備することができる。 The thickness of the optical filter is generally 5 to 500 μm. The optical filter can generally be equipped by pressing the pressure-sensitive adhesive layer on the glass plate of the display.
前記粘着剤層の材料として、ＥＶＡを使用する場合、ＥＶＡとしては酢酸ビニル含有量が５〜５０重量％、好ましくは１５〜４０重量％のものが使用される。酢酸ビニル含有量が５重量％より少ないと透明性に問題があり、また４０重量％を超すと機械的性質が著しく低下する上に、成膜が困難となり、フィルム相互のブロッキングが生じ易い。 When EVA is used as the material for the pressure-sensitive adhesive layer, the EVA has a vinyl acetate content of 5 to 50% by weight, preferably 15 to 40% by weight. When the vinyl acetate content is less than 5% by weight, there is a problem in transparency, and when it exceeds 40% by weight, the mechanical properties are remarkably deteriorated and the film formation becomes difficult and the films are easily blocked.
架橋剤としては加熱架橋する場合は、有機過酸化物が適当であり、シート加工温度、架橋温度、貯蔵安定性等を考慮して選ばれる。使用可能な過酸化物としては、例えば２，５−ジメチルヘキサン−２，５−ジハイドロパーオキサイド；２，５−ジメチル−２，５−ジ（ｔ−ブチルパーオキシ）ヘキサン−３；ジーｔ−ブチルパーオキサイド；ｔ−ブチルクミルパーオキサイド；２，５−ジメチル−２，５−ジ（ｔ−ブチルパーオキシ）ヘキサン；ジクミルパーオキサイド；α，α’−ビス（ｔ−ブチルパーオキシイソプロピル）ベンゼン；ｎ−ブチル−４，４−ビス（ｔ−ブチルパーオキシ）バレレート；２，２−ビス（ｔ−ブチルパーオキシ）ブタン；１，１−ビス（ｔ−ブチルパーオキシ）シクロヘキサン；１，１−ビス（ｔ−ブチルパーオキシ）−３，３，５−トリメチルシクロヘキサン；ｔ−ブチルパーオキシベンゾエート；ベンゾイルパーオキサイド；第３ブチルパーオキシアセテート；２，５−ジメチル−２，５−ビス（第３ブチルパーオキシ）ヘキシン−３；１，１−ビス（第３ブチルパーオキシ）−３，３，５−トリメチルシクロヘキサン；１，１−ビス（第３ブチルパーオキシ）シクロヘキサン；メチルエチルケトンパーオキサイド；２，５−ジメチルヘキシル−２，５−ビスパーオキシベンゾエート；第３ブチルハイドロパーオキサイド；ｐ−メンタンハイドロパーオキサイド；ｐ−クロルベンゾイルパーオキサイド；第３ブチルパーオキシイソブチレート；ヒドロキシヘプチルパーオキサイド；クロルヘキサノンパーオキサイド等を挙げることができる。これらの過酸化物は１種を単独で又は２種以上を混合して、通常ＥＶＡ１００質量部に対して、５質量部以下、好ましくは０．５〜５．０質量部の割合で使用される。 As the cross-linking agent, an organic peroxide is suitable for heat cross-linking and is selected in consideration of sheet processing temperature, cross-linking temperature, storage stability, and the like. Examples of peroxides that can be used include 2,5-dimethylhexane-2,5-dihydroperoxide; 2,5-dimethyl-2,5-di (t-butylperoxy) hexane-3; -Butyl peroxide; t-butylcumyl peroxide; 2,5-dimethyl-2,5-di (t-butylperoxy) hexane; dicumyl peroxide; α, α'-bis (t-butylperoxyisopropyl) ) Benzene; n-butyl-4,4-bis (t-butylperoxy) valerate; 2,2-bis (t-butylperoxy) butane; 1,1-bis (t-butylperoxy) cyclohexane; , 1-bis (t-butylperoxy) -3,3,5-trimethylcyclohexane; t-butylperoxybenzoate; benzoyl peroxide; Luperoxyacetate; 2,5-dimethyl-2,5-bis (tertiarybutylperoxy) hexyne-3; 1,1-bis (tertiarybutylperoxy) -3,3,5-trimethylcyclohexane; 1-bis (tert-butylperoxy) cyclohexane; methyl ethyl ketone peroxide; 2,5-dimethylhexyl-2,5-bisperoxybenzoate; tert-butyl hydroperoxide; p-menthane hydroperoxide; p-chlorobenzoyl Peroxides; tertiary butyl peroxyisobutyrate; hydroxyheptyl peroxide; chlorohexanone peroxide. These peroxides are used singly or in combination of two or more, and are usually used at a ratio of 5 parts by mass or less, preferably 0.5 to 5.0 parts by mass with respect to 100 parts by mass of EVA. .
有機過酸化物は通常ＥＶＡに対し押出機、ロールミル等で混練されるが、有機溶媒、可塑剤、ビニルモノマー等に溶解し、ＥＶＡのフィルムに含浸法により添加しても良い。 The organic peroxide is usually kneaded with EVA using an extruder, a roll mill or the like, but may be dissolved in an organic solvent, a plasticizer, a vinyl monomer or the like and added to the EVA film by an impregnation method.
なお、ＥＶＡの物性（機械的強度、光学的特性、接着性、耐候性、耐白化性、架橋速度など）改良のために、各種アクリロキシ基又はメタクリロキシ基及びアリル基含有化合物を添加することができる。この目的で用いられる化合物としてはアクリル酸又はメタクリル酸誘導体、例えばそのエステル及びアミドが最も一般的であり、エステル残基としてはメチル、エチル、ドデシル、ステアリル、ラウリル等のアルキル基の他、シクロヘキシル基、テトラヒドロフルフリル基、アミノエチル基、２−ヒドロキシエチル基、３−ヒドロキシプロピル基、３−クロロ−２−ヒドロキシプロピル基などが挙げられる。また、エチレングリコール、トリエチレングリコール、ポリエチレングリコール、トリメチロールプロパン、ペンタエリスリトール等の多官能アルコールとのエステルを用いることもできる。アミドとしてはダイアセトンアクリルアミドが代表的である。 Various acryloxy group or methacryloxy group and allyl group-containing compounds can be added to improve EVA physical properties (mechanical strength, optical properties, adhesiveness, weather resistance, whitening resistance, crosslinking speed, etc.). . As the compound used for this purpose, acrylic acid or methacrylic acid derivatives, for example, esters and amides thereof are the most common. As the ester residue, in addition to alkyl groups such as methyl, ethyl, dodecyl, stearyl, lauryl, cyclohexyl groups , Tetrahydrofurfuryl group, aminoethyl group, 2-hydroxyethyl group, 3-hydroxypropyl group, 3-chloro-2-hydroxypropyl group and the like. Further, esters with polyfunctional alcohols such as ethylene glycol, triethylene glycol, polyethylene glycol, trimethylolpropane, and pentaerythritol can also be used. A typical amide is diacetone acrylamide.
その例としては、トリメチロールプロパン、ペンタエリスリトール、グリセリン等のアクリル又はメタクリル酸エステル等の多官能エステルや、トリアリルシアヌレート、トリアリルイソシアヌレート、フタル酸ジアリル、イソフタル酸ジアリル、マレイン酸ジアリル等のアリル基含有化合物が挙げられ、これらは１種を単独で或いは２種以上を混合して、通常ＥＶＡ１００質量部に対して０．１〜２質量部、好ましくは０．５〜５質量部用いられる。 Examples thereof include polyfunctional esters such as acrylic or methacrylic acid esters such as trimethylolpropane, pentaerythritol, glycerin, triallyl cyanurate, triallyl isocyanurate, diallyl phthalate, diallyl isophthalate, diallyl maleate, etc. Examples include allyl group-containing compounds. These are used alone or in combination of two or more, and are usually used in an amount of 0.1 to 2 parts by weight, preferably 0.5 to 5 parts by weight, based on 100 parts by weight of EVA. .
ＥＶＡを光により架橋する場合、上記過酸化物の代りに光増感剤が通常ＥＶＡ１００質量部に対して５質量部以下、好ましくは０．１〜３．０質量部使用される。 When EVA is crosslinked by light, a photosensitizer is usually used in an amount of 5 parts by mass or less, preferably 0.1 to 3.0 parts by mass based on 100 parts by mass of EVA instead of the peroxide.
この場合、使用可能な光増感剤としては、例えばベンゾイン、ベンゾフェノン、ベンゾインメチルエーテル、ベンゾインエチルエーテル、ベンゾインイソプロピルエーテル、ベンゾインイソブチルエーテル、ジベンジル、５−ニトロアセナフテン、ヘキサクロロシクロペンタジエン、ｐ−ニトロジフェニル、ｐ−ニトロアニリン、２，４，６−トリニトロアニリン、１，２−ベンズアントラキノン、３−メチル−１，３−ジアザ−１，９−ベンズアンスロンなどが挙げられ、これらは１種を単独で或いは２種以上を混合して用いることができる。 In this case, usable photosensitizers include, for example, benzoin, benzophenone, benzoin methyl ether, benzoin ethyl ether, benzoin isopropyl ether, benzoin isobutyl ether, dibenzyl, 5-nitroacenaphthene, hexachlorocyclopentadiene, p-nitrodiphenyl. , P-nitroaniline, 2,4,6-trinitroaniline, 1,2-benzanthraquinone, 3-methyl-1,3-diaza-1,9-benzanthrone, and the like. Alternatively, two or more types can be mixed and used.
また、接着促進剤としてシランカップリング剤が併用される。このシランカップリング剤としては、ビニルトリエトキシシラン、ビニルトリス（β−メトキシエトキシ）シラン、γ−メタクリロキシプロピルトリメトキシシラン、ビニルトリアセトキシシラン、γ−グリシドキシプロピルトリメトキシシラン、γ−グリシドキシプロピルトリエトキシシラン、β−（３，４−エポキシシクロヘキシル）エチルトリメトキシシラン、γ−クロロプロピルメトキシシラン、ビニルトリクロロシラン、γ−メルカプトプロピルトリメトキシシラン、γ−アミノプロピルトリエトキシシラン、Ｎ−β（アミノエチル）−γ−アミノプロピルトリメトキシシランなどが挙げられる。 Moreover, a silane coupling agent is used in combination as an adhesion promoter. As this silane coupling agent, vinyltriethoxysilane, vinyltris (β-methoxyethoxy) silane, γ-methacryloxypropyltrimethoxysilane, vinyltriacetoxysilane, γ-glycidoxypropyltrimethoxysilane, γ-glycid Xylpropyltriethoxysilane, β- (3,4-epoxycyclohexyl) ethyltrimethoxysilane, γ-chloropropylmethoxysilane, vinyltrichlorosilane, γ-mercaptopropyltrimethoxysilane, γ-aminopropyltriethoxysilane, N- β (aminoethyl) -γ-aminopropyltrimethoxysilane and the like can be mentioned.
シランカップリング剤は、一般にＥＶＡ１００質量部に対して０．００１〜１０質量部、好ましくは０．００１〜５質量部の割合で１種又は２種以上が混合使用される。 The silane coupling agent is generally used in an amount of 0.001 to 10 parts by mass, preferably 0.001 to 5 parts by mass, based on 100 parts by mass of EVA, and one or more types are mixed and used.
なおＥＶＡの透明接着層には、その他、紫外線吸収剤、赤外線吸収剤、老化防止剤、塗料加工助剤、着色剤等を少量含んでいてもよく、また、場合によってはカーボンブラック、疎水性シリカ、炭酸カルシウム等の充填剤を少量含んでも良い。 In addition, the EVA transparent adhesive layer may contain a small amount of an ultraviolet absorber, an infrared absorber, an anti-aging agent, a coating processing aid, a colorant, etc., and in some cases, carbon black, hydrophobic silica. A small amount of a filler such as calcium carbonate may be included.
上記粘着剤層は、例えばＥＶＡと上述の添加剤とを混合し、押出機、ロール等で混練した後、カレンダー、ロール、Ｔダイ押出、インフレーション等の成膜法により所定の形状にシート成形することにより製造される。 For example, after the EVA and the above-mentioned additive are mixed and kneaded with an extruder, a roll or the like, the pressure-sensitive adhesive layer is formed into a predetermined shape by a film forming method such as a calendar, roll, T-die extrusion or inflation. It is manufactured by.
粘着剤層上に設けられる剥離シートの材料としては、ガラス転移温度が５０℃以上の透明のポリマーが好ましく、このような材料としては、ポリエチレンテレフタレート、ポリシクロヘキシレンテレフタレート、ポリエチレンナフタレート等のポリエステル系樹脂、ナイロン４６、変性ナイロン６Ｔ、ナイロンＭＸＤ６、ポリフタルアミド等のポリアミド系樹脂、ポリフェニレンスルフィド、ポリチオエーテルサルフォン等のケトン系樹脂、ポリサルフォン、ポリエーテルサルフォン等のサルフォン系樹脂の他に、ポリエーテルニトリル、ポリアリレート、ポリエーテルイミド、ポリアミドイミド、ポリカーボネート、ポリメチルメタクリレート、トリアセチルセルロース、ポリスチレン、ポリビニルクロライド等のポリマーを主成分とする樹脂を用いることができる。これら中で、ポリカーボネート、ポリメチルメタアクリレート、ポリビニルクロライド、ポリスチレン、ポリエチレンテレフタレートが好適に用いることができる。厚さは１０〜２００μｍが好ましく、特に３０〜１００μｍが好ましい。 As the material of the release sheet provided on the pressure-sensitive adhesive layer, a transparent polymer having a glass transition temperature of 50 ° C. or higher is preferable. Examples of such a material include polyesters such as polyethylene terephthalate, polycyclohexylene terephthalate, and polyethylene naphthalate. In addition to resins, nylon 46, modified nylon 6T, nylon MXD6, polyamide resins such as polyphthalamide, ketone resins such as polyphenylene sulfide and polythioether sulfone, and sulfone resins such as polysulfone and polyether sulfone. Mainly composed of polymers such as ether nitrile, polyarylate, polyetherimide, polyamideimide, polycarbonate, polymethyl methacrylate, triacetyl cellulose, polystyrene, polyvinyl chloride It can be used fat. Of these, polycarbonate, polymethyl methacrylate, polyvinyl chloride, polystyrene, and polyethylene terephthalate can be suitably used. The thickness is preferably 10 to 200 μm, particularly preferably 30 to 100 μm.
以下、本発明を実施例により説明する。なお、ハードコート層及び反射防止層を評価をするための試験なので、基材フィルムの導電層が形成された面の他面側の機能層の形成は省略した。
（実施例１）
（１）ハードコート層用塗料の調製
樹脂成分としてジペンタエリスリトールトリアクリレート；５０質量部、及びエトキシ化ビスフェノールＡジアクリレート（エチレンオキサイド（ＥＯ）；４モル付加）；５０質量部を用い、重合開始剤としてイルガキュア１８４（チバ・スペシャリティ・ケミカルズ社製）；５重量部を添加したものを重合前固形分Ａとした。
Hereinafter, the present invention will be described with reference to examples. In addition, since it is a test for evaluating a hard-coat layer and an antireflection layer, formation of the functional layer of the other surface side of the surface in which the conductive layer of the base film was formed was abbreviate | omitted.
Example 1
(1) Preparation of paint for hard coat layer Dipentaerythritol triacrylate as resin component; 50 parts by mass and ethoxylated bisphenol A diacrylate (ethylene oxide (EO); 4 mol addition); Irgacure 184 (manufactured by Ciba Specialty Chemicals); 5 parts by weight was added as a solid content A before polymerization.
また、２-プロパノールとシクロヘキサノンを５：５の質量比で混合したものを溶剤Ａとした。この重合前固形分Ａと溶剤Ａを４：６の割合で混合したものに対し、平滑化剤としてＫＦ９６−２００ＣＳ（信越シリコーン社製）を０．０２質量％添加し、室温で１時間攪拌することで、ハードコート層用塗料を調製した。
（２）高屈折率層用塗料の調製
二酸化チタンと二酸化ジルコニウムの複合コロイドゾル(平均粒径１３．１μｍ、固形分濃度３０％、メタノール溶剤、二酸化チタンと二酸化ジルコニウムの重量比率＝８５／１５)；２００質量部に対し、樹脂成分としてトリメチロールプロパントリアクリレート（ＥＯ；３モル付加）；５０質量部、平滑化剤としてＫＦ９６−５０ＣＳ（信越シリコーン社製）を０．０１質量％添加し、室温で１時間攪拌した後、孔径１μｍのポリプロピレンフィルタで、ろ過することで高屈折率層用塗料を調製した。
（３）低屈折率層用塗料の調製
シリカ微粒子のメタノール分散液（平均粒径１５ｎｍ、固形分濃度５０質量％）；１００質量部に対し、シランカップリング剤としてＫＢＭ−５０３（信越シリコーン社製）；３質量部、触媒として１Ｎ塩酸；１質量部を添加し、室温で１２時間攪拌した後５０時間室温放置することで、シランカップリング処理したシリカ微粒子分散液を調製した。このシリカ分散液；５質量部に対し、樹脂成分としてペンタエリスリトールトリアクリレート；２５質量部、溶剤としてメチルイソブチルケトン；９４質量部、及びイソブチルアルコール；５質量部、重合開始剤としてイルガキュア９０７；２質量部、平滑剤としてＫＦ９６−５０ＣＳ（信越シリコーン社製）を０．００１質量％添加し、室温で１時間攪拌した後、孔径１μｍのポリプロピレンフィルタでろ過することで、低屈折率層用塗料を調製した。
（４）光学フィルタの作製
（ｉ）メッシュ状導電層の形成
表面に易接着層（ポリエステルポリウレタン；厚さ８０ｎｍ）を有する厚さ１００μｍの長尺状ポリエチレンテレフタレート（ＰＥＴ）フィルムの易接着層上に、ポリビニルアルコールの２０％水溶液をドット状に印刷した。ドット１個の大きさは１辺が１７０μｍの正方形状であり、ドット同士間の間隔は３０μｍであり、ドット配列は正方格子状である。印刷厚さは、乾燥後で約５μｍである。
A mixture of 2-propanol and cyclohexanone at a mass ratio of 5: 5 was designated as solvent A. 0.02% by mass of KF96-200CS (manufactured by Shin-Etsu Silicone Co., Ltd.) as a smoothing agent is added to the mixture of solid content A and solvent A before polymerization in a ratio of 4: 6, and the mixture is stirred at room temperature for 1 hour. Thus, a paint for a hard coat layer was prepared.
(2) Preparation of coating material for high refractive index layer Composite colloidal sol of titanium dioxide and zirconium dioxide (average particle size 13.1 μm,
(3) Preparation of paint for low refractive index layer Methanol dispersion of silica fine particles (
(4) Production of optical filter (i) Formation of mesh-like conductive layer On the easy-adhesion layer of a long polyethylene terephthalate (PET) film having a thickness of 100 μm and having an easy-adhesion layer (polyester polyurethane; thickness 80 nm) on the
その上に、銅を平均膜厚４μｍとなるように真空蒸着した。次いで、常温の水に浸漬し、スポンジで擦ることによりドット部分を溶解除去し、次いで水でリンスした後、乾燥し、さらに、酸化処理による黒化処理を行い、ＰＥＴフィルムの全面にメッシュ状導電層を形成した（図２（１）参照）。 On top of that, copper was vacuum-deposited to an average film thickness of 4 μm. Next, the dots are dissolved and removed by immersing in normal temperature water and rubbing with a sponge, then rinsing with water, drying, and further blackening treatment by oxidation treatment. A layer was formed (see FIG. 2 (1)).
このフィルム表面の導電層は、正確にドットのネガパターンに対応した正方格子状のものであり、平均線幅は３０μｍ、平均ピッチが１７０μｍであった。また、導電層（黒化層を含む）の平均厚さは４．１μｍであった。
（ｉｉ）ハードコート層の形成
上記メッシュ状導電層上に、上記ハードコート層用塗料を卓上バーコーターで塗布し、１２０℃、３０秒間乾燥した後、積算光量６００ｍＪ／ｃｍ2の紫外線を照射して硬化させ、第１のハードコート層を形成し、厚さ及び表面粗さ（Ｒａ）を測定した。第１のハードコート層の厚さは９．５μｍであった。
The conductive layer on the surface of the film had a square lattice shape corresponding to the negative pattern of dots accurately, the average line width was 30 μm, and the average pitch was 170 μm. The average thickness of the conductive layer (including the blackened layer) was 4.1 μm.
(Ii) Formation of hard coat layer The above-mentioned coating material for hard coat layer is applied on the mesh-like conductive layer with a desktop bar coater, dried at 120 ° C. for 30 seconds, and then irradiated with ultraviolet rays having an integrated light quantity of 600 mJ / cm 2. Then, the first hard coat layer was formed, and the thickness and the surface roughness (Ra) were measured. The thickness of the first hard coat layer was 9.5 μm.
次に同じハードコート層用塗料を用い、同様の方法・条件で上記ハードコート層状に第２のハードコート層を形成し、同様に厚さ及び表面粗さ（Ｒａ）を測定した。第１及び第２のハードコート層を合わせたハードコート層の厚さは１５．０μｍであった(図２（２）参照)。
（ｉｉｉ）反射防止層の形成
上記ハードコート層上に反射防止層として、上記高屈折率層用塗料を塗布し、８０℃、１０秒間乾燥させた後、積算光量６００ｍＪ／ｃｍ2の紫外線を照射して高屈折率層を形成した。ハードコート層及び高屈折率層を形成した状態での光学反射スペクトル測定を３５０〜８００ｎｍの範囲で行い、反射率の最小値が４００〜４５０ｎｍの範囲にあるように膜厚を調整した。
Next, using the same hard coat layer coating material, a second hard coat layer was formed in the same manner and under the same method and conditions, and the thickness and surface roughness (Ra) were measured in the same manner. The thickness of the hard coat layer including the first and second hard coat layers was 15.0 μm (see FIG. 2 (2)).
(Iii) Formation of antireflection layer The antireflective layer is coated on the hard coat layer with the coating material for the high refractive index layer, dried at 80 ° C. for 10 seconds, and then irradiated with an ultraviolet ray having an integrated light amount of 600 mJ / cm 2. Thus, a high refractive index layer was formed. The optical reflection spectrum measurement in the state where the hard coat layer and the high refractive index layer were formed was performed in the range of 350 to 800 nm, and the film thickness was adjusted so that the minimum value of the reflectance was in the range of 400 to 450 nm.
次いで、高屈折率層上に、上記低屈折率層用塗料を塗布し、８０℃、１０秒間乾燥させた後、積算光量６００ｍＪ／ｃｍ２の紫外線を照射して低屈折率層を形成した。ハードコート層、高屈折率層及び低屈折率層を形成した状態での光学反射スペクトル測定を３５０から８００ｎｍの範囲で行い、反射率の最小値が５５０〜６００ｎｍの範囲の膜厚を調整した（図２（３）参照）。
Next, the coating material for the low refractive index layer was applied on the high refractive index layer, dried at 80 ° C. for 10 seconds, and then irradiated with ultraviolet rays having an integrated light amount of 600 mJ /
（実施例２）
実施例１のハードコート層用塗料の樹脂成分として、ジペンタエリスリトールトリアクリレート；５０質量部及びエトキシ化ビスフェノールＡジアクリレート（ＥＯ；４モル付加）；５０質量部の代わりに、トリメチロールプロパントリアクリレート；１００質量部を用い、その他については、同様の方法で光学フィルタを作製した。
(Example 2)
Dipentaerythritol triacrylate: 50 parts by mass and ethoxylated bisphenol A diacrylate (EO; 4 mol addition); trimethylolpropane triacrylate instead of 50 parts by mass as a resin component of the hard coat layer coating material of Example 1 An optical filter was produced in the same manner using 100 parts by mass.
（実施例３）
実施例１の第２のハードコート層について、実施例１よりも厚く形成し、その他については、同様の方法で光学フィルタを作製した。
(Example 3)
About the 2nd hard-coat layer of Example 1, it formed thicker than Example 1, and produced an optical filter by the same method about others.
（実施例４）
実施例１の第２のハードコート層について、ジペンタエリスリトールトリアクリレート；５０質量部及びエトキシ化ビスフェノールＡジアクリレート（ＥＯ；４モル付加）；５０質量部の代わりに、ジトリメチロールプロパンテトラアクリレート；１００質量部を用い、その他については、同様の方法で光学フィルタを作製した。
Example 4
For the second hardcoat layer of Example 1, dipentaerythritol triacrylate; 50 parts by weight and ethoxylated bisphenol A diacrylate (EO; 4 mole addition); instead of 50 parts by weight, ditrimethylolpropane tetraacrylate; 100 The optical filter was produced by the same method using the mass part and others.
（比較例１）
実施例１の第２のハードコート層を形成せず、その他については同様の方法で光学フィルタを作製した。
(Comparative Example 1)
The second hard coat layer of Example 1 was not formed, and an optical filter was produced in the same manner as for the others.
（比較例２）
実施例２の第２のハードコート層を形成せず、その他については同様の方法で光学フィルタを作製した。
(Comparative Example 2)
The second hard coat layer of Example 2 was not formed, and an optical filter was produced in the same manner with respect to others.
（比較例３）
実施例１の第１のハードコート層の厚さを１７μｍに変更し、第２のハードコート層を形成せず、その他については同様の方法で光学フィルタを作製した。
(Comparative Example 3)
The thickness of the first hard coat layer in Example 1 was changed to 17 μm, the second hard coat layer was not formed, and the other was used to produce an optical filter by the same method.
（評価方法）
（１）メッシュ状導電層の厚さ及び光学フィルタの表面粗さ（Ｒａ）の測定
表面粗さ計サーフコム４８０Ａ（東京精密社製）を用いて、ＪＩＳ Ｂ０６０１（２００１）に準拠した方法で測定した。測定は図３に示すように、メッシュ状導電層の格子の中心部を針が通るように測定し、測定条件は測定速度０．０３ｍ／ｍｉｎ、測定長さ１ｍｍ、カットオフ値０．２５ｍｍとした。
（２）ハードコート層の厚さの測定
膜厚測定計Ｆ２０（フィルメトリクス社製）で測定した。
（３）光学反射スペクトル測定
作製した各光学フィルタの裏面に、黒ビニールテープをハンドローラーで貼り、分光光度計Ｕ−４０００（日立ハイテク社製）を用いて、視感反射率を測定した。
（４）鉛筆硬度
トライボギア連続加重式引掻強度試験機 ＴＹＰＥ：１８（新東科学）を用い、ＪＩＳ Ｋ５６００（１９９９）に準拠した方法で測定した。
(Evaluation methods)
(1) Measurement of thickness of mesh-like conductive layer and surface roughness (Ra) of optical filter Measured by a method based on JIS B0601 (2001) using a surface roughness meter Surfcom 480A (manufactured by Tokyo Seimitsu Co., Ltd.). . As shown in FIG. 3, the measurement is performed so that the needle passes through the center of the lattice of the mesh-like conductive layer. The measurement conditions are a measurement speed of 0.03 m / min, a measurement length of 1 mm, and a cutoff value of 0.25 mm. did.
(2) Measurement of thickness of hard coat layer The thickness was measured with a film thickness meter F20 (manufactured by Filmetrics).
(3) Optical reflection spectrum measurement A black vinyl tape was attached to the back surface of each of the produced optical filters with a hand roller, and the luminous reflectance was measured using a spectrophotometer U-4000 (manufactured by Hitachi High-Tech).
(4) Pencil hardness Using a tribogear continuous load type scratch strength tester TYPE: 18 (Shinto Kagaku), it was measured by a method based on JIS K5600 (1999).
（評価結果）
表１に評価結果を示す。実施例１〜４においては、ハードコート層の厚さが１４．５〜１８．９μｍであり、表面粗さ（Ｒａ）が０．０２〜０．０３μｍで、高度な平面性（平面粗さ（Ｒａ）が０．０３μｍ以下）を示した。一方、比較例１〜３においては、ハードコート層の厚さが９．５〜１７．０μｍであり、表面粗さ（Ｒａ）が０．０７〜０．０８μｍであった。特に、比較例３においては、層厚が実施例１よりも厚いにもかかわらず、表面粗さ（Ｒａ）が大きく、高度な平面性が得られなかった。以上により、複数層のハードコート層を備える本発明の有効性が示された。
(Evaluation results)
Table 1 shows the evaluation results. In Examples 1 to 4, the hard coat layer has a thickness of 14.5 to 18.9 [mu] m, a surface roughness (Ra) of 0.02 to 0.03 [mu] m, and high flatness (planar roughness ( Ra) was 0.03 μm or less). On the other hand, in Comparative Examples 1 to 3, the thickness of the hard coat layer was 9.5 to 17.0 μm, and the surface roughness (Ra) was 0.07 to 0.08 μm. In particular, in Comparative Example 3, although the layer thickness was thicker than that in Example 1, the surface roughness (Ra) was large and a high level of flatness was not obtained. As described above, the effectiveness of the present invention including a plurality of hard coat layers was demonstrated.
さらに、反射防止層を形成した光学フィルタとしては、表面粗さ（Ｒａ）はハードコート層の場合と同様な数値を示し、反射率は、視感反射率で実施例１〜４が０．７％であるのに対し、比較例１〜３が１．５％であった。従って、実施例においては比較例に比べて反射率を低くすることができることが示された。 Furthermore, as an optical filter in which the antireflection layer is formed, the surface roughness (Ra) shows the same numerical value as in the case of the hard coat layer, and the reflectance is a luminous reflectance, and Examples 1-4 are 0.7. % Of Comparative Examples 1 to 3 was 1.5%. Therefore, it was shown that the reflectance can be lowered in the example as compared with the comparative example.
なお、鉛筆硬度は全ての光学フィルタで２Ｈ〜３Ｈであり、ハードコート層の機能は十分に備えていることが示された。 The pencil hardness was 2H to 3H for all the optical filters, indicating that the hard coat layer has a sufficient function.
なお、本発明は上記の実施の形態の構成及び実施例に限定されるものではなく、発明の要旨の範囲内で種々変形が可能である。
In addition, this invention is not limited to the structure and Example of said embodiment, A various deformation | transformation is possible within the range of the summary of invention.
１２、２２、３２ 基材フィルム
１３、２３、３３ 導電層
１４、２４、３４ 第１のハードコート層
１４'、２４' 第２のハードコート層
１５、２５、３５ 高屈折率層
１６、２６、３６ 低屈折率層
１７，２７、３７ 近赤外線吸収層
１８，２８、３８ 粘着剤層
２０、３０ 光学フィルタ
２１ ガラス基板
12, 22, 32
Claims (7)
前記導電層上に前記ハードコート層が複数層形成されていることを特徴とするディスプレイ用光学フィルタ。 An optical filter for display comprising a structure having a mesh-like conductive layer on one surface of a base film and a hard coat layer of a resin composition on the conductive layer,
An optical filter for display, wherein a plurality of the hard coat layers are formed on the conductive layer.
前記導電層上に前記ハードコート層形成用樹脂組成物含有塗工液を塗工する工程、及び
塗工した樹脂組成物層を硬化させる工程、
を複数回繰り返して行うハードコート層を複数層形成する工程を含むことを特徴とするディスプレイ用光学フィルタの製造方法。 A method for producing an optical filter for a display comprising a structure having a mesh-like conductive layer on one surface of a base film and a hard coat layer of a resin composition on the conductive layer,
Applying the hard coat layer-forming resin composition-containing coating solution onto the conductive layer; and curing the applied resin composition layer;
A process for producing an optical filter for a display, comprising a step of forming a plurality of hard coat layers by repeating a plurality of times.
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| JP2008248206A JP2010079014A (en) | 2008-09-26 | 2008-09-26 | Optical filter for display, and manufacturing method for optical filter for display |
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|---|---|---|---|---|
| JP2015069058A (en) * | 2013-09-30 | 2015-04-13 | 凸版印刷株式会社 | Hard coat composition, and hard coat film and antireflection film having coating of the same |
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