JP2008211038A - 基板処理装置 - Google Patents
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Abstract
【解決手段】基板処理装置は、処理液を貯留する処理槽1と、基板Wを保持しつつ、基板Wを処理槽1内の処理位置と処理槽1の上方位置とにわたって昇降させるリフタ機構3と、処理槽1の上端面に沿う方向にドライエアを供給するエア供給部5と、処理槽1に処理液を供給する噴出管11を備えている。そして、制御部は、基板Wを処理位置から上方位置へ上昇させる際に、エア供給部5から乾燥気体を供給させるとともに、噴出管11から純水を供給して、処理液の液面を処理槽1の上端の高さで一定に保つ。これにより、基板Wが処理液から露出し始める位置を同じ高さに保つことができるので、基板面全体にわたって乾燥状態を均一にすることができる。
【選択図】図4
Description
すなわち、従来の装置は、基板やリフタ機構が処理液中から引き上げられるのに伴い、処理液の液面の高さは徐々に低下する。しかしながら、供給される乾燥気体の流路(風路)は一定である。このため、基板を上昇させるにつれて、基板が液面から露出し始める位置が乾燥気体の流路から外れていく。
すなわち、請求項1に記載の発明は、基板を処理液から引き上げつつ、乾燥させる基板処理装置において、処理液を貯留する処理槽と、基板を保持しつつ、基板を前記処理槽内の処理位置と前記処理槽の上方位置とにわたって昇降させる昇降手段と、前記処理槽の上端面に沿う方向に乾燥気体を供給する気体供給手段と、前記処理槽に処理液を補充する補充手段と、前記昇降手段を操作して基板を処理位置から上方位置へ上昇させる際に、前記気体供給手段から乾燥気体を供給させるとともに、前記補充手段を操作して、少なくとも基板が処理液から引き上げられているときは処理液の液面を所定高さに保つ制御手段と、を備えていることを特徴とするものである。
上部カバー35が回動してチャンバー9の上方が開放された状態で、待機位置まで上昇したリフタ機構3が図示省略の基板搬送機構から基板Wを受け取る。引き続き、リフタ機構3は下降して基板Wをチャンバー9内に搬入し、チャンバー9の上方を閉塞する。また、リフタ機構3が待機位置で基板Wを受け取ったとき、枚数検出器37は基板Wに対して所定の検出動作を行い、制御部51は、枚数検出器37から得られた検出結果に基づいてリフタ機構3に保持されている基板Wの枚数を取得する。
流量調節弁19bを操作して、処理槽1内に薬液を供給し、処理槽1の上部から薬液を溢れさせている状態で、リフタ機構3は基板Wを処理位置まで降下させる。この状態で基板Wを薬液中に所定時間浸漬することで、基板Wに薬液処理を行う。
流量調節弁19a、19bを操作して、処理槽1内への薬液の供給を停止するとともに、処理槽1内に純水を供給し始める。これにより、処理槽1内の薬液は純水に置換され、次第に処理槽1の上部から純水が溢れている状態になる。この状態で、所定時間が経過するまで基板Wにリンス(洗浄)処理を行う。
流量調節弁19aを操作して純水の供給を停止する。これにより、処理槽1の上部から純水が溢れ出すことなく、処理槽1の上端位置まで純水が貯留された状態となり、液面の荒れ・乱れは次第に消滅する。また、ドライエア供給装置43を操作して、エア供給部5から処理槽1の上端面に沿ってドライエアを供給するとともに、エア排出部7を操作して、ドライエアを吸引、排出する。
ドライエアを供給している状態で、リフタ機構3を操作して処理位置から上方位置へ基板Wを上昇させる。この際、制御部51は流量調節弁19aの操作に関する操作情報に基づいて流量調節弁19aを操作して、噴出管11から処理槽1に純水を供給する。ここで、リフタ機構3の動作としては、一定速度(たとえば5mm/sec)で上昇移動することが例示される。
チャンバー9の上方を開放し、基板Wを待機位置まで上昇させて、基板Wをチャンバー9から搬出する。
基板Wをチャンバー9内に搬入し、処理槽1の上部から薬液を溢れさせている状態で、基板Wを処理位置まで降下させる。基板Wを薬液中に浸漬した状態で所定の薬液処理を行うと、流量調節弁19a、19bを操作して、処理槽1に供給する処理液を薬液から純水に切り換える。これにより、基板Wにリンス処理を行う。
リンス処理が終了すると、流量調節弁19aを操作して純水の供給を停止する。これにより、処理槽1の上端位置まで純水が貯留された状態となる。そして、ドライエア供給装置43及びエア排出部7を操作して、処理槽1の上端面に沿ってドライエアを供給する。
処理位置から上方位置へ基板Wを上昇させる。この際、制御部52は、液面計55の検出結果に基づいて流量調節弁20、26を操作して、処理槽1に対してノズル12からの純水供給と、排出口21からの純水排出を並行して行うとともに、処理槽1への供給流量と処理槽1からの排出流量の差に相当する正味供給流量を調節して、処理液の液面が処理槽1の上端と同じ高さで一定となるように制御する。
基板Wをチャンバー9から搬出する。
3 …リフタ機構
5 …エア供給部
7 …エア排出部
11 …噴出管
19a、20、26 …流量調節弁
21 …排出口
37 …枚数検出器
51、52 …制御部
Q …供給流量
W …基板
Claims (7)
- 基板を処理液から引き上げつつ、乾燥させる基板処理装置において、
処理液を貯留する処理槽と、
基板を保持しつつ、基板を前記処理槽内の処理位置と前記処理槽の上方位置とにわたって昇降させる昇降手段と、
前記処理槽の上端面に沿う方向に乾燥気体を供給する気体供給手段と、
前記処理槽に処理液を補充する補充手段と、
前記昇降手段を操作して基板を処理位置から上方位置へ上昇させる際に、前記気体供給手段から乾燥気体を供給させるとともに、前記補充手段を操作して、少なくとも基板が処理液から引き上げられているときは処理液の液面を所定高さに保つ制御手段と、
を備えていることを特徴とする基板処理装置。 - 請求項1に記載の基板処理装置において、
前記所定高さは、前記処理槽の上端と同じ高さであることを特徴とする基板処理装置。 - 請求項1または請求項2に記載の基板処理装置において、
前記補充手段は、
前記処理槽に処理液を供給する液供給手段と、
前記液供給手段による処理液の供給流量を調節する供給調節手段と、
を備え、
前記制御手段は、前記供給調節手段を操作して、少なくとも基板が処理液から引き上げられているときに処理液の液面高さを制御することを特徴とする基板処理装置。 - 請求項3に記載の基板処理装置において、
前記液供給手段は、前記処理槽の内部から処理液を供給することを特徴とすることを特徴とする基板処理装置。 - 請求項1または請求項2に記載の基板処理装置において、
前記補充手段は、
前記処理槽に処理液を供給する液供給手段と、
前記液供給手段による処理液の供給流量を調節する供給調節手段と、
前記処理槽から処理液を排出する液排出手段と、
前記液排出手段による処理液の排出流量を調節する排出調節手段と、
を備え、
前記制御手段は、前記供給調節手段および前記排出調節手段を操作して前記供給流量から前記排出流量を引いた正味供給流量を調節することで、少なくとも基板が処理液から引き上げられているときに処理液の液面高さを制御することを特徴とする基板処理装置。 - 請求項5に記載の基板処理装置において、
前記液供給手段は、前記処理槽の上部から処理液を供給し、
前記液排出手段は、前記処理槽の下部から処理液を排出することを特徴とする基板処理装置。 - 請求項1から請求項6のいずれかに記載の基板処理装置において、
前記昇降手段に保持されている基板の枚数を取得するための枚数検出手段と、
をさらに備え、
前記制御手段は、前記枚数検出手段から得られた検出結果を考慮して、前記補充手段を操作することを特徴とする基板処理装置。
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JP2007047298A JP2008211038A (ja) | 2007-02-27 | 2007-02-27 | 基板処理装置 |
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