JP2008186580A - 光学記録媒体 - Google Patents
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Abstract
【課題】光学記録媒体の情報記録層を構成する半透明反射膜及び反射膜において耐候性の向上とコストの低廉化を図ることを目的とする。
【解決手段】情報記録層21及び22と反射膜14とを有し、反射膜14が、1.5〔atom%〕以上8.2〔atom%〕以下のCuを含有するAgCu系合金薄膜から成り、AgCu系合金は、0.1〔atom%〕以上2.0〔atom%〕以下のPdを含有し、かつAl,Ti,Fe,Ni,Mo,Wのうちの1または2の元素を含有し、この元素の含有合計が、1.0〔atom%〕以上7.5〔atom%〕以下とされたAgCuPd系の4元合金もしくは5元合金のいずれかより成る構成とする。
【選択図】図1
【解決手段】情報記録層21及び22と反射膜14とを有し、反射膜14が、1.5〔atom%〕以上8.2〔atom%〕以下のCuを含有するAgCu系合金薄膜から成り、AgCu系合金は、0.1〔atom%〕以上2.0〔atom%〕以下のPdを含有し、かつAl,Ti,Fe,Ni,Mo,Wのうちの1または2の元素を含有し、この元素の含有合計が、1.0〔atom%〕以上7.5〔atom%〕以下とされたAgCuPd系の4元合金もしくは5元合金のいずれかより成る構成とする。
【選択図】図1
Description
本発明は例えばCD(Compact Disc)、CD−ROM(CD-Read Only Memory)等において、半透明反射膜、反射膜の、より高い耐候性、コストのより低廉化を図った光学記録媒体に係わる。
オーディオ用、ビデオ用等、各種の情報を記録する光学記録媒体として、CDおよびCD−ROM等の再生専用型、光磁気ディスク、相変化ディスク等の書換え型、および有機材料を用いたCD−R等の追記型等の各種光学記録媒体がある。
これらの光学記録媒体を構成する情報記録層には、データ情報、トラッキングサーボ信号等の記録がなされる位相ピット、プリグルーブ等の微細凹凸が形成される。
これらの光学記録媒体を構成する情報記録層には、データ情報、トラッキングサーボ信号等の記録がなされる位相ピット、プリグルーブ等の微細凹凸が形成される。
一方、近年、光学記録媒体において、情報記録の大容量化の要求が高まっており、例えば第1および第2の情報記録層が積層された2層構造のDVD(Digital Versatile Disc)の実用化が進んでいる。
図4は、第1の情報記録層231および第2の情報記録層232が積層された2層構造による光学記録媒体200の概略断面図を示す。
第1の情報記録層231は、第1の基板201の射出成形と同時に形成した第1の微細凹凸211上に、例えばAu,Si,AgPdCu,AgPdTi等より成る半透明反射膜223が成膜されて構成されている。
第2の情報記録層232は、第2の基板202の射出成形と同時に形成した第2の微細凹凸222上に、例えばAl薄膜、Al合金薄膜等の反射膜224が成膜されて構成されている。
第1の情報記録層231は、第1の基板201の射出成形と同時に形成した第1の微細凹凸211上に、例えばAu,Si,AgPdCu,AgPdTi等より成る半透明反射膜223が成膜されて構成されている。
第2の情報記録層232は、第2の基板202の射出成形と同時に形成した第2の微細凹凸222上に、例えばAl薄膜、Al合金薄膜等の反射膜224が成膜されて構成されている。
そして、これら第1の基板201と第2の基板202とは、第1の情報記録層231および第2の情報記録層232を対向させて透明接着剤層203を介して貼り合わされて、2層の情報記録層が形成されている。
この構成による光学記録媒体200においては、その第1および第2の情報記録層231および232からのそれぞれの情報の再生または記録、あるいはその双方(以下単に再生または記録という)を行うには、そのドライブ装置の簡略化を図り、かつこれらの情報記録層231および232のそれぞれに対し、短時間にアクセスし、連続的にその記録あるいは再生を行うことができるように、1組の光学ヘッドによって、光学記録媒体200の同一側、例えば第1の基板201側からのレーザ光照射によって行うようにすることが望まれる。
このように、光学記録媒体の同一側から、第1および第2の情報記録層231および232対して、その記録あるいは再生、またはその双方を行うレーザ光の照射を行う場合、同一光学ヘッドから、第1の情報記録層231に対しては、レーザ光Lを、図4中の実線で示すように、第1の情報記録層231にフォーカシングさせて行い、第2の情報記録層232に対しては、レーザ光Lを図4中の破線で示すように、第2の情報記録層232にフォーカシングさせて行う。
この場合、第1および第2の情報記録層231および232の双方に関してレーザ光による記録あるいは再生、またはその双方を行うことができるようにするためには、上述したように、レーザ光の入射側の第1の情報記録層231には、半透明反射膜223が設けられて照射レーザ光の一部を反射してこの第1の情報記録層231の記録あるいは再生が行われるようにし、一部を透過させて、第2の情報記録層232に向かわせて、この第2の情報記録層231の記録あるいは再生が行われるようにする。
尚、第1の情報記録層231と第2の情報記録層232とは、レーザ光に対して高透過率を有する接着材料からなる透明接着剤層203を介して、互いの再生信号が干渉しないような距離を隔てて積層されているものであり、このために、対物レンズのフォーカス位置を各々の情報記録層231および232に対応した位置に合わせることにより、それぞれの情報を高精度に再生することが可能になる。
このような信号の再生方法を実現する上では、第1の情報記録層231の半透明反射膜223の膜設計が極めて重要となる。
この半透明反射膜223の成膜材料として、上述したように、Au,Si,AgPdCu,AgPdTiが用いられている。
これらは、レーザ光に対する反射率および透過率の観点から半透明反射膜223としての光学的特性を満足し、またスパッタリングによって容易に薄膜形成できることから適用されていた。
この半透明反射膜223の成膜材料として、上述したように、Au,Si,AgPdCu,AgPdTiが用いられている。
これらは、レーザ光に対する反射率および透過率の観点から半透明反射膜223としての光学的特性を満足し、またスパッタリングによって容易に薄膜形成できることから適用されていた。
しかしながら、Auは材料のコスト高を来すという問題があり、Siは相対的に安価であるが、透明接着剤層203を構成する接着材料あるいは基板201の材料との接着性に劣り、曲げや反り等の機械的な変形あるいは高湿度下のような厳しい環境下における信頼性が充分に得られないという問題を有する。
さらには、Si膜は金属薄膜に比べて、その成膜時のスパッタリング工程におけるスパッタリング処理室内に付着したSiが剥離し易く、いわゆるパーティクルが発生しやすく、エラーレートの悪化を来すという問題がある。
また、通常の半透明反射膜に用いられている金属あるいはSi半導体材料等によって半透明反射膜を構成するには、その膜厚は5〔nm〕〜25〔nm〕程度とすることが必要であり、これは例えば通常のコンパクトディスクにおける反射膜の35〔nm〕〜60〔nm〕に比して薄い。そして、この通常の半透明反射膜に用いられている金属あるいはSi半導体材料等は、長期間保存、更に高温多湿環境下での保存において、基板201側からの影響により表面酸化が比較的生じ易いことから、この程度の膜厚では、その反射率変化への影響が大きく耐候性に劣る。
また、この半透明反射膜223は、基板201側からの影響のみならず、透明接着剤層203との接触部からの酸化も問題となり、これによる反射率の変化や再生信号のジッターの劣化が問題となっている。
また、上述した酸化のみならず、高温環境下での放置、いわゆるアニール効果によって、成膜後の膜中の原子が移動し、熱伝導率、あるいは反射率が増加してしまう現象も、組成によっては問題となる。
また、上述した酸化のみならず、高温環境下での放置、いわゆるアニール効果によって、成膜後の膜中の原子が移動し、熱伝導率、あるいは反射率が増加してしまう現象も、組成によっては問題となる。
このような多層構造の光学記録媒体においては、その半透明反射膜の構成に、多くの問題を抱えていて、この耐候性およびコストの低廉化は、多層構造の光学媒体の実用化において、大きな問題となっている。
しかしながら、このような多層構造の光学記録媒体に限らず、情報記録層として各種材料膜を積層成膜する光磁気、相変化、色素系等の記録可能な光学記録媒体に用いられる反射膜においても、反射膜の耐候性は重要であり、反射膜の酸化等による経時変化により、再生信号品質のみならず、記録感度等の記録条件の変化を来すという問題もある。
一方、AgPdCu薄膜あるいはAgPdTi薄膜は、Au単体に比較してコスト的に安価であり、Siの場合のような剥離の問題も生じない。
しかしながら、昨今、より高い、記録密度あるいは記録容量が要求され、記録あるいは再生に用いられる照射光として、短波長レーザ光が用いられて面記録密度の向上が図られている。この場合、より高い記録ピットの精度が必要となり、面記録密度が低い場合において許容される程度の僅かな再生信号のジッターの劣化でも、面記録密度の高くなる場合には問題となる。
しかしながら、昨今、より高い、記録密度あるいは記録容量が要求され、記録あるいは再生に用いられる照射光として、短波長レーザ光が用いられて面記録密度の向上が図られている。この場合、より高い記録ピットの精度が必要となり、面記録密度が低い場合において許容される程度の僅かな再生信号のジッターの劣化でも、面記録密度の高くなる場合には問題となる。
更に、上述したような情報記録層が2層構造とされたり、さらに2層以上の多層化がなされると、照射光の入射側に位置する各情報記録層における半透明反射膜は、各層の反射率や、透過率関係の選定から、その膜厚は、より薄くされる方向にあり、この半透明反射膜においては、より高い耐候性が要求されてくる。
すなわち、より長期に渡り、より過酷な環境下において反射率変化や、再生信号のジッターの劣化を来すことがない、より高い耐候性が要求される。
そして、更に、よりコストの低廉化の要求も高まっている。
そして、更に、よりコストの低廉化の要求も高まっている。
本発明は、光学記録媒体の情報記録層を構成する半透明反射膜、および反射膜、殊に半透明という特殊な特性が要求される半透明反射膜において、その耐候性の向上と同時に、コストの低廉化を図ることができる光学記録媒体を提供するものである。
少なくとも情報記録層と反射膜とを有する光学記録媒体にあって、その反射膜が、3.0〔atom%〕以上6.5〔atom%〕以下のCuを含有するAgCu合金薄膜から成る構成とする。
また、少なくとも第1の情報記録層と、第2の情報記録層とが積層されて成る光学記録媒体にあって、その第1の情報記録層には半透明反射膜が形成され、第2の情報記録層には反射膜が形成された構成を有し、その半透明反射膜が、3.0〔atom%〕以上6.5〔atom%〕以下のCuを含有するAgCu合金薄膜から成る構成とする。
この構成において、第2の情報記録層に対する情報の再生は、第1の情報記録層を透過した照射光により行うものである。
この構成において、第2の情報記録層に対する情報の再生は、第1の情報記録層を透過した照射光により行うものである。
また、少なくとも情報記録層と反射膜とを有する光学記録媒体にあって、その反射膜が、2.0〔atom%〕以上9.0〔atom%〕以下のCuを含有するAgCu系合金薄膜から成り、このAgCu系合金が、Al,Ti,Fe,Ni,Mo,Wのうちの、1または2の元素を含有し、この元素の含有合計が、0.5〔atom%〕以上8.1〔atom%〕以下とされたAgCu系の、3元合金もしくは4元合金のいずれかより成る構成とする。
更に、少なくとも第1の情報記録層と、第2の情報記録層とが積層されて成る光学記録媒体にあって、その第1の情報記録層には半透明反射膜が形成され、第2の情報記録層には反射膜が形成された構成を有し、その半透明反射膜が、2.0〔atom%〕以上9.0〔atom%〕以下のCuを含有するAgCu系合金薄膜から成り、このAgCu系合金が、Al,Ti,Fe,Ni,Mo,Wのうちの、1または2の元素を含有し、この元素の含有合計が、0.5〔atom%〕以上8.1〔atom%〕以下とされたAgCu系の、3元合金もしくは4元合金のいずれかより成る構成とする。
この構成において、第2の情報記録層に対する情報の再生は、第1の情報記録層を透過した照射光により行うものである。
この構成において、第2の情報記録層に対する情報の再生は、第1の情報記録層を透過した照射光により行うものである。
上記課題を解決するため、本発明による光学記録媒体は、情報記録層と反射膜とを有し、その反射膜が、1.5〔atom%〕以上9.0〔atom%〕以下のCuを含有するAgCu系合金薄膜から成り、このAgCu系合金は、0.1〔atom%〕以上2.0〔atom%〕以下のPdを含有し、かつAl,Ti,Fe,Ni,Mo,Wのうちの、1または2の元素を含有し、この元素の含有合計が、0.5〔atom%〕以上8.1〔atom%〕以下とされたAgCuPd系の、4元合金もしくは5元合金のいずれかより成る構成とする。
また、本発明は、第1の情報記録層と、第2の情報記録層とが積層されて成り、その第1の情報記録層には半透明反射膜が形成されて成り、第2の情報記録層には反射膜が形成されて成り、その半透明反射膜が、1.5〔atom%〕以上9.0〔atom%〕以下のCuを含有するAgCu系合金薄膜から成り、このAgCu系合金が、0.1〔atom%〕以上2.0〔atom%〕以下のPdを含有し、かつAl,Ti,Fe,Ni,Mo,Wのうちの、1または2の元素を含有し、この元素の含有合計が、0.5〔atom%〕以上8.1〔atom%〕以下含有する、AgCuPd系の、4元合金もしくは5元合金のいずれかより成る構成とする。
この構成において、第2の情報記録層に対する情報の再生は、第1の情報記録層を透過した照射光により行う。
この構成において、第2の情報記録層に対する情報の再生は、第1の情報記録層を透過した照射光により行う。
そして、上述した少なくとも第1および第2の情報記録層を有する光学記録媒体において、第1の情報記録層は、第1の基板の上に形成され、第2の情報記録層は、第2の基板上に形成されて、これら第1の基板と第2の基板とが、互いの情報記録層を対向させて貼り合わされた構成とすることができ、これら第1および第2の情報記録層に対する情報の再生は、共に第1の基板側からの光照射によって行われる構成とする。
上述したように、本発明構成においては、反射膜を有する光学記録媒体において、その反射膜を、あるいは反射膜および半透明反射膜を有する光学記録媒体にあっては少なくともその半透明反射膜を、それぞれAgCuPd系合金による構成としたことによって、より耐候性にすぐれ、しかも廉価な光学記録媒体を得ることができるようにしたものある。
更に、本発明によれば、上述した反射膜、あるいは半透明反射膜、または反射膜および半透明反射膜を構成する、AgCuPd系合金において、これら合金を構成するに好適な添加元素の特定と、その含有率の特定とによって、これら反射膜、あるいは半透明反射膜、または反射膜および半透明反射膜の耐候性の向上を図り、例えば高温多湿の条件下における長期保存によっても、光学記録媒体の情報記録層に要求される反射率や透過率等の光学特性、あるいは記録感度の変化を効果的に回避することができるようにしたものである。
本発明によれば、より高い耐候性を示し、しかも廉価な従ってコストの低減化が図られた光学記録媒体を得ることができる。
以下、本発明の光学記録媒体の実施形態について図を参照して説明するが、本発明の光学記録媒体は以下に示す例に限定されるものではない。
図1は、本発明の光学記録媒体10の概略断面図を示す。
図1は、本発明の光学記録媒体10の概略断面図を示す。
この光学記録媒体10においては、第1の基板1と第2の基板2とが、これら基板1および2に形成された情報記録層21および22を互いに対向させて、透明接着剤層3を介して貼り合わせた構成を有し、第1の情報記録層21および第2の情報記録層22が積層された2層構造のDVDフォーマットによる構成とした場合である。
第1および第2の情報記録層21および22は、それぞれ記録情報に応じて形成された第1および第2の微細凹凸11および12を有し、第1の微細凹凸11には、記録および/あるいは再生に用いる照射光に対する半透明反射膜13が被着形成され、第2の微細凹凸22には、同様の照射光に対する反射膜14が被着形成されて成る。
第1の基板1は、上述の照射光に対して光透過性を示す例えばポリカーボネート等のプラスチックを用いた射出成形によって作製することができる。この場合、この第1の基板1に形成する第1の情報記録層21の第1の微細凹凸11も、この第1の基板1の射出成形と同時に形成することができる。
第2の基板2は、光透過性、不透明等を問わないものの、例えば同様に例えばポリカーボネート等のプラスチックの射出成形によって成形することができ、この第2の基板2の成形と同時に第2の情報記録2を構成する第2の微細凹凸12を形成することができる。
また、第1の情報記録層21の第1の微細凹凸11上には、半透明反射膜13が成膜される。
この半透明反射膜13は、上述の照射光例えばレーザ光のうちの一部を反射し、一部を透過することができるように、例えば膜厚10〔nm〕〜15〔nm〕を有する、AgCu合金、あるいはAgCu系合金による薄膜によって形成する。
この半透明反射膜13は、上述の照射光例えばレーザ光のうちの一部を反射し、一部を透過することができるように、例えば膜厚10〔nm〕〜15〔nm〕を有する、AgCu合金、あるいはAgCu系合金による薄膜によって形成する。
半透明反射膜13を構成するAgCu合金は、3.0〔atom%〕以上6.5〔atom%〕以下のCuを含有するAgCu合金を適用することができる。
また、半透明反射膜13は、2.0〔atom%〕以上9.0〔atom%〕以下のCuを含有するAgCu系合金であって、Al,Ti,Fe,Ni,Mo,Wのうちの、1または2の元素を含有し、この含有合計が、0.5〔atom%〕以上8.1〔atom%〕以下である、AgCu系の3元合金または4元合金によって構成し得る。
また、半透明反射膜13は、2.0〔atom%〕以上9.0〔atom%〕以下のCuを含有するAgCu系合金であって、Al,Ti,Fe,Ni,Mo,Wのうちの、1または2の元素を含有し、この含有合計が、0.5〔atom%〕以上8.1〔atom%〕以下である、AgCu系の3元合金または4元合金によって構成し得る。
あるいは、半透明反射膜13は、1.5〔atom%〕以上9.0〔atom%〕以下のCuを含有するAgCu系合金であって、0.1〔atom%〕以上2.0〔atom%〕のPdを含有し、Al,Ti,Fe,Ni,Mo,Wのうちの、少なくとも1または2以上の元素を合計で0.5〔atom%〕以上8.1〔atom%〕以下含有する、AgCuPd系の4元または5元合金によって構成する。
一方、第2の情報記録層22は、上述した第2の微細凹凸12上に、反射膜14が形成される。
この反射膜14は、高反射率を有する金属材料、例えばAu、Auを主成分とする合金、例えばAg、もしくはAgを主成分とする合金、またはPt、もしくはPtを主成分とする合金、あるいはCuもしくはCuを主成分とする合金等を用いて成膜することもできる。
この反射膜14は、高反射率を有する金属材料、例えばAu、Auを主成分とする合金、例えばAg、もしくはAgを主成分とする合金、またはPt、もしくはPtを主成分とする合金、あるいはCuもしくはCuを主成分とする合金等を用いて成膜することもできる。
また、コストの低廉化から、反射膜14を、Alに、Si,Ti,Cr等を添加したAl合金によって構成することもできる。
しかしながら、この反射膜14は、高耐候性と低コスト化から上述した半透明反射膜と同様の材料、組成による上述したAgCu合金、AgCu系の3元あるいは4元合金、AgCuPd系の4元あるいは5元合金によって形成し、その膜厚を例えば35〔nm〕〜60〔nm〕に形成することができる。
しかしながら、この反射膜14は、高耐候性と低コスト化から上述した半透明反射膜と同様の材料、組成による上述したAgCu合金、AgCu系の3元あるいは4元合金、AgCuPd系の4元あるいは5元合金によって形成し、その膜厚を例えば35〔nm〕〜60〔nm〕に形成することができる。
上述した半透明反射膜13および反射膜14は共に、従来公知のスパッタリング法、一般にはマグネトロンスパッタリング法によって成膜することができる。
図1に示す光学記録媒体10に対する第1の情報記録層21および第2の情報記録層22からの信号の再生あるいは記録を行う際には、ドライブ装置の簡略化を図り、かつこれらの情報記録層21および22のそれぞれに対し、短時間にアクセスし、連続的にその記録ないし再生を行うことができるように、1組の光学ヘッドによって、光学記録媒体10の同一面側、図1の構成においては、第1の基板1側からのレーザ光照射によって行う。
図1に示す光学記録媒体10に対する第1の情報記録層21および第2の情報記録層22からの信号の再生あるいは記録を行う際には、ドライブ装置の簡略化を図り、かつこれらの情報記録層21および22のそれぞれに対し、短時間にアクセスし、連続的にその記録ないし再生を行うことができるように、1組の光学ヘッドによって、光学記録媒体10の同一面側、図1の構成においては、第1の基板1側からのレーザ光照射によって行う。
光学記録媒体10の同一面側からのレーザ光照射による再生あるいは記録は、光学ヘッドからの照射光Lを、図1中の実線で示すように、第1の情報記録層21にフォーカシングさせて行い、第2の情報記録層22に対しては、光学ヘッドからの照射光Lを図1中の破線で示すように、第2の情報記録層22にフォーカシングさせて行う。
次に、本発明の光学記録媒体を、光磁気記録媒体に適用した場合について説明する。
図2は、光磁気記録媒体100の一例の概略断面図を示す。
光磁気記録媒体100においては、ポリカーボネート等の光透過性樹脂よりなる基板101上に、基板の射出成形と同時に形成したプリグルーブ等の微細凹凸102を有し、この微細凹凸102上に光磁気記録層104が成膜されてなる情報層105を有し、情報層105上に保護層106が形成されてなる構成を有する。
図2は、光磁気記録媒体100の一例の概略断面図を示す。
光磁気記録媒体100においては、ポリカーボネート等の光透過性樹脂よりなる基板101上に、基板の射出成形と同時に形成したプリグルーブ等の微細凹凸102を有し、この微細凹凸102上に光磁気記録層104が成膜されてなる情報層105を有し、情報層105上に保護層106が形成されてなる構成を有する。
図3に、図2に示した光磁気記録媒体100の光磁気記録層104の積層構造を示した概略断面図を示す。
光磁気記録層104は、図3に示す積層構成とすることができる。
光磁気記録層104は、図3に示す積層構成とすることができる。
この光磁気記録層104は、例えば基板101上に、例えばSiNxより成り、40〔nm〕程度の膜厚の第1の誘電体層41と、例えばTbFeCoより成り、15〔nm〕程度の膜厚の記録層42と、後述するAgCu系合金より成り、10〔nm〕程度の膜厚の半透明の熱調整膜43と、例えばSiNxより成り20〔nm〕程度の膜厚の第2の誘電体層44と、後述するAgCu系合金より成り、40〔nm〕程度の膜厚の反射膜45とが順次積層形成されて成る構成を有する。
図3における熱調整膜43および反射膜45は、前述した半透明反射膜13および反射膜14におけると同様に、AgCu合金、あるいはAgCu系合金による薄膜によって形成することができる。
AgCu合金は、3.0〔atom%〕以上6.5〔atom%〕以下のCuを含有するAgCu合金を適用することができる。
AgCu合金は、3.0〔atom%〕以上6.5〔atom%〕以下のCuを含有するAgCu合金を適用することができる。
あるいは、2.0〔atom%〕以上9.0〔atom%〕以下のCuを含有するAgCu系合金であって、Al,Ti,Fe,Ni,Mo,Wのうちの、1または2の元素を含有し、この含有合計が、0.5〔atom%〕以上8.1〔atom%〕以下である、AgCu系の3元合金または4元合金によって構成し得る。
あるいは、1.5〔atom%〕以上9.0〔atom%〕以下のCuを含有するAgCu系合金であって、0.1〔atom%〕以上2.0〔atom%〕のPdを含有し、Al,Ti,Fe,Ni,Mo,Wのうちの、少なくとも1または2以上の元素を合計で0.5〔atom%〕以上8.1〔atom%〕以下含有する、AgCuPd系の4元または5元合金によって構成する。
保護層106は、従来公知の紫外線硬化性樹脂をスピンコートし、光硬化することによって形成することができる。
図2に示す光磁気記録媒体100に対する情報の記録あるいは再生を行う際には、基板101側からのレーザ光照射によって行う。
図2に示す光磁気記録媒体100に対する情報の記録あるいは再生を行う際には、基板101側からのレーザ光照射によって行う。
すなわち、光学ヘッドからの照射光Lを、図2中の実線で示すように、情報層105にフォーカシングさせて行う。
次に、本発明の光学記録媒体の特性の理解のために、本発明による光学記録媒体の実施例を含めて各ディスク構造による試料を作製し、それぞれの特性、すなわち耐候性の測定を行った。
尚、これら試料中において、1枚の基板にのみ情報記録層を形成した構造のディスク(以下単板と称する。)の試料を作製して、その特性を測定した理由は、例えば基板の厚さを0.6〔mm〕とした場合、2枚の基板間に第1および第2の情報記録層を挟み込んだ貼合わせ構造に比し、全体の剛性が劣ることから、その保存試験による基板の反りの発生が顕著に現れ、例えば半透明反射膜等を構成する合金薄膜と基板との密着力が問題となり、剥離が生じやすく、結果として、厳しい評価を行うことができることにある。
尚、これら試料中において、1枚の基板にのみ情報記録層を形成した構造のディスク(以下単板と称する。)の試料を作製して、その特性を測定した理由は、例えば基板の厚さを0.6〔mm〕とした場合、2枚の基板間に第1および第2の情報記録層を挟み込んだ貼合わせ構造に比し、全体の剛性が劣ることから、その保存試験による基板の反りの発生が顕著に現れ、例えば半透明反射膜等を構成する合金薄膜と基板との密着力が問題となり、剥離が生じやすく、結果として、厳しい評価を行うことができることにある。
また、それぞれ第1および第2の情報記録層21および22に相当する第1および第2の基板1および2に相当する2枚の基板の貼り合わせ構造による光ディスクに関する試料において、その反射膜14に相当する合金薄膜を、半透明反射膜における合金薄膜とは異なる通常の合金薄膜のAlTi材料による構成とした理由は、異質の合金薄膜の貼合わせの方が高湿環境下での劣化が加速され、厳しい評価を行うことができることによる。つまり、この貼合わせ構造の試料において、半透明反射膜と反射膜との双方を、共に、AgCu合金、AgCu合金系、AgCuPd系合金によって構成する場合は、これら試料の耐候性は、よりすぐれた耐候性を示すことになる。
すなわち、各試料に基づいて、半透明反射膜の材料特性の考察をより厳しく行った。
すなわち、各試料に基づいて、半透明反射膜の材料特性の考察をより厳しく行った。
〔試料1〕
先ず、厚さ0.6〔mm〕の基板をポリカーボネートを用いて射出成形によって作製した。
この基板の一主面には、その成形と同時に、トラックピッチ0.74〔μm〕、ピット深さ110〔nm〕、最短ピット長0.44〔μm〕のEFMコードを用いて変調された微細凹凸すなわちピットデータ列を形成した。
このピットデータ列が形成された基板上に、マグネトロンスパッタリング法によって、膜厚を10〔nm〕〜15〔nm〕のAg100−xCux(xは、atom%)より成り、x=3.0とした半透明反射膜を成膜して第1の情報記録層21を形成した。
先ず、厚さ0.6〔mm〕の基板をポリカーボネートを用いて射出成形によって作製した。
この基板の一主面には、その成形と同時に、トラックピッチ0.74〔μm〕、ピット深さ110〔nm〕、最短ピット長0.44〔μm〕のEFMコードを用いて変調された微細凹凸すなわちピットデータ列を形成した。
このピットデータ列が形成された基板上に、マグネトロンスパッタリング法によって、膜厚を10〔nm〕〜15〔nm〕のAg100−xCux(xは、atom%)より成り、x=3.0とした半透明反射膜を成膜して第1の情報記録層21を形成した。
次に、このAgCu合金による半透明反射膜上を覆って、保護層を紫外線硬化樹脂のスピンコートおよび硬化処理によって形成した。
〔試料2〕
試料1と同様の構成において、半透明反射膜の組成をx=6.5とした。
試料1と同様の構成において、半透明反射膜の組成をx=6.5とした。
〔試料3〕(実施例1)
この試料においては、図1に示した構造に対応するを有し、それぞれ第1および第2の情報記録層21および22を有する第1および第2の基板1および2の貼合わせ構造とした場合である。
この場合、試料1における基板と同様の構成による第1の基板1を用意して、この上に、マグネトロンスパッタリング法によって、Ag100−xCuxにおいてx=3.0としたAgCu合金薄膜を成膜して、膜厚10〜15〔nm〕の半透明反射膜13を成膜して第1の情報記録層21を形成した。
この試料においては、図1に示した構造に対応するを有し、それぞれ第1および第2の情報記録層21および22を有する第1および第2の基板1および2の貼合わせ構造とした場合である。
この場合、試料1における基板と同様の構成による第1の基板1を用意して、この上に、マグネトロンスパッタリング法によって、Ag100−xCuxにおいてx=3.0としたAgCu合金薄膜を成膜して、膜厚10〜15〔nm〕の半透明反射膜13を成膜して第1の情報記録層21を形成した。
一方、第1の基板1と同様の構成による第2の基板2を作製し、この第2の基板2上に、マグネトロンスパッタリング法によって膜厚50〔nm〕のAlTi合金薄膜よりなる反射膜14を成膜して第2の情報記録層22を形成した。
そして、これら第1の基板1と第2の基板2とを、透明接着剤として紫外線硬化性樹脂を用いて互いの情報記録層21、22を対向させて貼り合わせ、貼り合わせ構造の光ディスクを作製した。
そして、これら第1の基板1と第2の基板2とを、透明接着剤として紫外線硬化性樹脂を用いて互いの情報記録層21、22を対向させて貼り合わせ、貼り合わせ構造の光ディスクを作製した。
因みに、第1の基板1上に成膜したAgCu系合金膜の膜厚の選定は、波長660〔nm〕のレーザ光を用い、第2の基板2上の反射膜14として35〜60〔nm〕の膜厚のAl合金膜、あるいは30〜60〔nm〕の膜厚のAg合金膜を形成した場合に、第1の情報記録層21の反射率と第2の情報記録層22の反射率とが、略等しくなるように設定したものである。
〔試料4〕(比較例1)
この試料においては、試料1と同様の構成、および製造方法をとるものの、そのAg100−xCux合金薄膜を、x=2.0とした。
この試料においては、試料1と同様の構成、および製造方法をとるものの、そのAg100−xCux合金薄膜を、x=2.0とした。
〔試料5〕(比較例2)
この試料においても、試料1と同様の構成、および製造方法をとるものの、そのAg100−xCux合金薄膜を、x=7.0とした。
この試料においても、試料1と同様の構成、および製造方法をとるものの、そのAg100−xCux合金薄膜を、x=7.0とした。
〔試料6〕(比較例3)
この試料においても、試料1と同様の構成、および製造方法をとるものの、そのAg100−xCux合金薄膜を、x=9.0とした。
この試料においても、試料1と同様の構成、および製造方法をとるものの、そのAg100−xCux合金薄膜を、x=9.0とした。
〔試料7〕(比較例4)
この試料においても、試料1と同様の構成、および製造方法をとるものの、そのAg100−xCux合金薄膜に代えて、第1の基板1上にマグネトロンスパッタリング法によって、膜厚が10〜15〔nm〕のSi膜を成膜して第1の情報記録層21を形成した。
次に第1の基板1と同様に、第2の基板2上にマグネトロンスパッタリング法によって膜厚50〔nm〕のAlTi合金薄膜による反射膜14を成膜して第2の情報記録層22を形成した。
これら第1および第2の基板1および2を、試料3と同様に透明接着剤としての紫外線硬化性樹脂によって互いの情報記録層21、22を対向させて貼り合わせて、貼り合わせ構造の光ディスクを作製した。
この試料においても、試料1と同様の構成、および製造方法をとるものの、そのAg100−xCux合金薄膜に代えて、第1の基板1上にマグネトロンスパッタリング法によって、膜厚が10〜15〔nm〕のSi膜を成膜して第1の情報記録層21を形成した。
次に第1の基板1と同様に、第2の基板2上にマグネトロンスパッタリング法によって膜厚50〔nm〕のAlTi合金薄膜による反射膜14を成膜して第2の情報記録層22を形成した。
これら第1および第2の基板1および2を、試料3と同様に透明接着剤としての紫外線硬化性樹脂によって互いの情報記録層21、22を対向させて貼り合わせて、貼り合わせ構造の光ディスクを作製した。
〔試料8〕(比較例5)
この試料においては、試料1と同様の構成、および製造方法をとるものの、その半透明反射膜として、膜厚が10〜15〔nm〕のAg膜を成膜した。
この試料においては、試料1と同様の構成、および製造方法をとるものの、その半透明反射膜として、膜厚が10〜15〔nm〕のAg膜を成膜した。
上述した各試料1〜8について、高温高湿環境下の保存試験を行い、この試験の前後における、各情報記録層21、22の反射率〔%〕、ジッター〔%〕の測定を行い、保存試験の前後での情報記録層の反射率の変化率〔%〕を算出した。
なお、高温高湿環境下の保存試験は、温度85℃、湿度90%RHの環境の保存槽内に各試料の光ディスクを100時間放置させるものとした。
なお、高温高湿環境下の保存試験は、温度85℃、湿度90%RHの環境の保存槽内に各試料の光ディスクを100時間放置させるものとした。
また、ジッター値の測定には、波長660〔nm〕の半導体レーザ、および開口率0.60の対物レンズを搭載した光学ピックアップを用いた。
各試料1〜8の、半透明反射膜の成膜材料組成(atom%)と、光ディスク構造と、その保存試験の前後における、各情報記録層21、22の反射率〔%〕、ジッター〔%〕、および保存試験の前後での情報記録層の反射率の変化〔%〕を結果を、図6および図7の表1−1および表1−2に示す。
各試料1〜8の、半透明反射膜の成膜材料組成(atom%)と、光ディスク構造と、その保存試験の前後における、各情報記録層21、22の反射率〔%〕、ジッター〔%〕、および保存試験の前後での情報記録層の反射率の変化〔%〕を結果を、図6および図7の表1−1および表1−2に示す。
表中、R1〔%〕は、単板構造および貼り合わせ構造の各試料(光ディスク)の第1の情報記録層21についての、初期すなわち保存試験前の反射率を示し、R3〔%〕は、これらの保存試験後の反射率を示す。
また、表中R2〔%〕は、貼り合わせ構造の試料(光ディスク)の第2の情報記録層22の初期の反射率を示し、R4〔%〕は、これらの保存試験後の反射率を示す。
更に、保存試験前後の反射率の変化は、|R1−R3|〔%〕で示す。
また、表中R2〔%〕は、貼り合わせ構造の試料(光ディスク)の第2の情報記録層22の初期の反射率を示し、R4〔%〕は、これらの保存試験後の反射率を示す。
更に、保存試験前後の反射率の変化は、|R1−R3|〔%〕で示す。
表1(図6および図7)に示すように単板構造の光ディスクの情報記録層および貼り合わせ構造の光ディスクの第1の情報記録層21に、Ag100−xCux(3≦x≦6.5)の薄膜を形成した試料1〜3は、保存試験前後における反射率の変化が1.0〔%〕以下に低減化され、保存試験前後におけるジッターの変化を1〔%〕以下に抑制することができ、この結果から耐候性が良好な光学特性が得られることが分かる。
これに対し試料4〜7(比較例1〜比較例4)は、保存試験前後における反射率の変化が1.0〔%〕を超え、試料8(比較例5)においては、保存試験後のジッター値が大きくなって安定した信号の再生が行えなくなるという問題が生じた。
次に、情報記録層に、2.0〔atom%〕以上9.0〔atom%〕以下のCuを含有し、Al,Ti,Fe,Ni,Mo,Wのうちの、1または2の元素を含有し、その含有合計が0.5〔atom%〕以上8.1〔atom%〕以下としたAgCu(Al,Ti,Fe,Ni,Mo,W)の3元合金あるいは4元合金のいずれかを成膜した試料9〜39を作製した。
〔試料9〕〜〔試料31〕
これら試料においては、試料1におけると同様の構成および方法による単板の光ディスク構成としたが、これら試料においては、基板上1上のAgCu合金膜代えて、半透明反射膜13を、膜厚が10〜15〔nm〕のAg100−x−yCuxAy(AはAl,Ti,Fe,Ni,Mo,Wのうちの1または2の元素で、x,yはそれぞれatom%を示す)とし、2≦x≦9、0.5≦y≦8.1の構成とした。
これら試料においては、試料1におけると同様の構成および方法による単板の光ディスク構成としたが、これら試料においては、基板上1上のAgCu合金膜代えて、半透明反射膜13を、膜厚が10〜15〔nm〕のAg100−x−yCuxAy(AはAl,Ti,Fe,Ni,Mo,Wのうちの1または2の元素で、x,yはそれぞれatom%を示す)とし、2≦x≦9、0.5≦y≦8.1の構成とした。
〔試料32〕(実施例2)〜〔試料38〕(実施例8)
試料3と同様の構成および方法をもって、図1で示した第1および第2の情報記録層21および22を有する第1および第2の基板1および2の貼り合わせ構造とするものの、この試料32〜試料38においては、第1の基板1上の半透明反射膜13を、膜厚が10〜15〔nm〕のAg100−x−yCuxAy(AはAl,Ti,Fe,Ni,Mo,Wのうちの1または2の元素で、x,yはそれぞれatom%を示す)とし、2≦x≦9、0.5≦y≦8.1の構成とした。
試料3と同様の構成および方法をもって、図1で示した第1および第2の情報記録層21および22を有する第1および第2の基板1および2の貼り合わせ構造とするものの、この試料32〜試料38においては、第1の基板1上の半透明反射膜13を、膜厚が10〜15〔nm〕のAg100−x−yCuxAy(AはAl,Ti,Fe,Ni,Mo,Wのうちの1または2の元素で、x,yはそれぞれatom%を示す)とし、2≦x≦9、0.5≦y≦8.1の構成とした。
〔試料39〕(比較例6)
試料1と同様の構造および方法によるものの、この試料39においては、その半透明反射膜13を、Ag100−x−yCuxAy(AはAlおよびTi)とし、x=5.4とし、y=8.5とした。
その他の条件は〔試料1〕と同様にして単板構造の光ディスクのサンプルを作製した。
試料1と同様の構造および方法によるものの、この試料39においては、その半透明反射膜13を、Ag100−x−yCuxAy(AはAlおよびTi)とし、x=5.4とし、y=8.5とした。
その他の条件は〔試料1〕と同様にして単板構造の光ディスクのサンプルを作製した。
上述した各試料9〜39について、その半透明反射膜の成膜材料組成(atom%)と、光ディスク構造を図8および図10の表2−1および表3−1として示し、前述したと同様の高温高湿環境下の保存試験を行い、この試験結果を、図9および図11の表2−2および表3−2に示す。
単板構造の光ディスクの情報記録層および貼り合わせ構造の光ディスクの第1の情報記録層21に、合金の原子組成をAg100−x−yCuxAy(A=Al,Ti,Fe,Ni,Mo,Wのうちの少なくともいずれか)で、2≦x≦9、0.5≦y≦8.1とした、試料9〜試料38においては、保存試験前後における反射率の変化が1.0〔%〕以下に低減化され、保存試験前後におけるジッターの変化を1〔%〕以下に抑制することができ、特に耐候性が良好な光学特性が得られた。
これに対し、試料39(比較例6)においては、保存試験前後における反射率の変化が1.0〔%〕を超え、耐候性が劣化した。
次に、情報記録層に、1.5〔atom%〕以上9.0〔atom%〕以下のCuを含有し、Al,Ti,Fe,Ni,Mo,Wのうちの、1または2の元素を合計で0.5〔atom%〕以上8.1〔atom%〕以下含有し、0.1〔atom%〕以上2.0〔atom%〕以下のPdを含有する、AgCuPd系4元合金または5元合金のいずれかによる半透明反射膜を成膜した試料(光ディスク)を示す。
〔試料40〕〜〔試料60〕
試料1と同様の構造および方法による単板構造とするものの、その半透明反射膜13を、Ag100−x−y−zPdzCuxAy(AはAl,Ti,Fe,Ni,Mo,Wの1種であり、x,y,zはそれぞれatom%を示す)の、1.5≦x≦9.0、0.5≦y≦8.1、0.1≦z≦2.0とした。
試料1と同様の構造および方法による単板構造とするものの、その半透明反射膜13を、Ag100−x−y−zPdzCuxAy(AはAl,Ti,Fe,Ni,Mo,Wの1種であり、x,y,zはそれぞれatom%を示す)の、1.5≦x≦9.0、0.5≦y≦8.1、0.1≦z≦2.0とした。
〔試料61〕(実施例9)〜〔試料65〕(実施例13)
試料3(実施例1)と同様の構造および方法によって作製するのの、その半透明反射膜13を、Ag100−x−y−zPdzCuxAy(AはAl,Ti,Fe,Ni,Mo,Wの1種であり、x,y,zはそれぞれatom%を示す)の、1.5≦x≦9.0、0.5≦y≦8.1、0.1≦z≦2.0とした。
試料3(実施例1)と同様の構造および方法によって作製するのの、その半透明反射膜13を、Ag100−x−y−zPdzCuxAy(AはAl,Ti,Fe,Ni,Mo,Wの1種であり、x,y,zはそれぞれatom%を示す)の、1.5≦x≦9.0、0.5≦y≦8.1、0.1≦z≦2.0とした。
〔試料66〕(比較例7)
試料1で説明したと同様の構造および方法によって作製するものの、その半透明反射膜13を、Ag100−x−y−zPdzCuxAy(AはAl)とし、x=4.0とし、y=9.0とし、z=0.9とした。
試料1で説明したと同様の構造および方法によって作製するものの、その半透明反射膜13を、Ag100−x−y−zPdzCuxAy(AはAl)とし、x=4.0とし、y=9.0とし、z=0.9とした。
〔試料67〕(比較例8)
試料1と同様の構造および方法によって作製するものの、その半透明反射膜13を、Ag100−x−y−zPdzCuxAyとし、x=1.5、y=0.0、z=0.9とした。
試料1と同様の構造および方法によって作製するものの、その半透明反射膜13を、Ag100−x−y−zPdzCuxAyとし、x=1.5、y=0.0、z=0.9とした。
〔試料68〕(比較例9)
試料1と同様の構造および方法によって作製するものの、その半透明反射膜13を、Ag100−x−y−zPdzCuxAyとし、x=1.5、y=0.0、z=0.9とした。
試料1と同様の構造および方法によって作製するものの、その半透明反射膜13を、Ag100−x−y−zPdzCuxAyとし、x=1.5、y=0.0、z=0.9とした。
〔試料69〕(比較例10)
試料3と同様の構造および方法によって作製するものの、その半透明反射膜13を、Ag100−x−y−zPdzCuxAyとし、x=1.5、y=0.0、z=0.9とした。
試料3と同様の構造および方法によって作製するものの、その半透明反射膜13を、Ag100−x−y−zPdzCuxAyとし、x=1.5、y=0.0、z=0.9とした。
〔試料70〕(比較例11)
試料3と同様の構造および方法によって作製するものの、その半透明反射膜13を、Ag100−x−y−zPdzCuxAyとし、x=4.0、y=0.0、z=0.9とした。
試料3と同様の構造および方法によって作製するものの、その半透明反射膜13を、Ag100−x−y−zPdzCuxAyとし、x=4.0、y=0.0、z=0.9とした。
上述した試料57〜試料70の光ディスクについて、その半透明反射膜の成膜材料組成(atom%)と、光ディスク構造と、前述したと同様の高温高湿環境下の保存試験を行い、この試験結果を、図14および図15の表5−1および表5−2に示す。
図14および図15の表5−1および表5−2に示すように、単板構造および貼り合わせ構造の第1の情報記録層21に、合金の原子組成をAg100−x−y−zPdzCuxAyとし、AがAl,Ti,Fe,Ni,Mo,Wのうちの1または2種の元素とし、1.5≦x≦9.0、0.5≦y≦8.1、0.1≦z≦2.0とした試料40〜試料65においては、保存試験前後における反射率の変化が1.0〔%〕以下に低減化され、保存試験前後におけるジッターの変化を1〔%〕以下に抑制することができ、特に耐候性が良好な光学特性が得られた。
これに対して試料66(比較例7)においては、保存試験後のジッター値が大きくなってしまい、安定した信号の再生が行えなくなるという問題を生じた。
また、試料67(比較例8)〜試料70(比較例11)に示した光ディスクにおいては、保存試験前後における反射率の変化が1.0〔%〕を超え、耐候性が劣化した。
また、試料67(比較例8)〜試料70(比較例11)に示した光ディスクにおいては、保存試験前後における反射率の変化が1.0〔%〕を超え、耐候性が劣化した。
上述したところから明らかなように、本発明によれば、情報記録層に、AgCu合金薄膜、あるいはAgCu系合金を適用し、その組成の特定、元素の選定、その含有量の特定によって、情報記録層の耐候性が向上を図られ、高温高湿条件下において長期保存した後における反射率や透過率等の、光学記録媒体の情報記録層に要求される光学特性の変化量が低く抑えられ、ジッターの劣化が効果的に回避されるものであり、また従来の光学記録媒体に比してコストの低減化が図られるものである。
尚、上述した各試料においては、ROM(Read Only Memoly)の光ディスクについて例示したが、本発明はこの例に限定されるものではなく、この他、光磁気記録、相変化記録のような書換えが可能な光ディスクについても適用でき、反射膜や熱構造膜として、本発明の情報記録層を構成するAgCu合金を適用することによって、耐候性の向上を図り、長時間保存による経時変化による記録感度の変化を低減して安定な記録を行うことができるようになり、ジッターの劣化が効果的に回避することができる。
例えば、本発明を図3に示す光磁気記録媒体100に適用して、記録感度の変化の測定を行った。
光磁気記録媒体100は、基板101上にSiNxより成り40〔nm〕の膜厚の第1の誘電体層41、TbFeCoより成り15〔nm〕の膜厚の記録層42、AgCu系合金より成り10〔nm〕程度の膜厚の半透明反射膜による熱調整膜43、SiNxより成り20〔nm〕程度の膜厚の第2の誘電体層44、およびAgCu系合金より成り40〔nm〕程度の膜厚の反射膜45が積層形成されて成る構成を有する。
なお、熱調整膜43および反射膜45が、AgPd0.9Cu1.5合金薄膜よりなる光磁気ディスクサンプルと、AgCu0.9Ti1.7合金薄膜よりなる光磁気ディスクを作製した。
光磁気記録媒体100は、基板101上にSiNxより成り40〔nm〕の膜厚の第1の誘電体層41、TbFeCoより成り15〔nm〕の膜厚の記録層42、AgCu系合金より成り10〔nm〕程度の膜厚の半透明反射膜による熱調整膜43、SiNxより成り20〔nm〕程度の膜厚の第2の誘電体層44、およびAgCu系合金より成り40〔nm〕程度の膜厚の反射膜45が積層形成されて成る構成を有する。
なお、熱調整膜43および反射膜45が、AgPd0.9Cu1.5合金薄膜よりなる光磁気ディスクサンプルと、AgCu0.9Ti1.7合金薄膜よりなる光磁気ディスクを作製した。
この場合、いわゆる磁界変調記録法を用い、レーザ光の波長を405〔nm〕とし、対物レンズの開口数を0.60とし、線速度を4.6〔m/s〕の各条件下、トラックピッチを0.80〔μm〕、溝深さ30〔nm〕のいわゆるランドグルーブ記録案内溝の設けられた基板101上の光磁気記録層104に、マーク長さ0.3〔μm〕の記録を行い、上述した保存試験前後における記録パワーと再生CNRの関係を測定した。
この測定結果を図5に示す。図5において、■、および□がAgPd0.9Cu1.5合金薄膜を成膜した光磁気ディスクの保存試験前後における測定結果を示し、●および○をAgCu0.9Ti1.7合金薄膜を成膜した光磁気ディスクの保存試験前後における測定結果を示す。
図5に示すように、AgPd0.9Cu1.5合金を成膜した光磁気ディスクにおいては、高温高湿条件下における保存試験後の記録パワーは、およそ10%程度高い方向にシフトした。すなわち、高温高湿条件下に放置されることによって、原子の移動により薄膜の密度が向上し、熱伝導率が高くなり、エネルギー的なロスが大きくなった。
図5に示すように、AgPd0.9Cu1.5合金を成膜した光磁気ディスクにおいては、高温高湿条件下における保存試験後の記録パワーは、およそ10%程度高い方向にシフトした。すなわち、高温高湿条件下に放置されることによって、原子の移動により薄膜の密度が向上し、熱伝導率が高くなり、エネルギー的なロスが大きくなった。
一方、本発明の光学記録媒体の一例に係る光磁気ディスクにおけるAgCu0.9Ti1.7合金を成膜した光磁気ディスクにおいては、高温高湿条件下における保存試験後においては、記録パワーの上昇は見られず、エネルギー的なロスが小さく、膜の特性として極めて耐候性に優れたものであることがわかった。
金属では、一般に、反射率が高い材料ほど熱伝導率が高く、逆に反射率が低いと熱伝導率も低下する。また、熱伝導率が高くなるほど、記録感度が低下し、逆に熱伝導率が低いほど記録感度が向上する。
反射膜の保存試験前後での反射率の変化を測定することによって、記録感度の変化を見積もることができる。ゆえに上記〔表1〕〜〔表5〕中に示した各実施例から、各種組成での記録感度の変化を見積もることが可能である。
反射膜の保存試験前後での反射率の変化を測定することによって、記録感度の変化を見積もることができる。ゆえに上記〔表1〕〜〔表5〕中に示した各実施例から、各種組成での記録感度の変化を見積もることが可能である。
本発明によれば、AgCu合金あるいはAgCuPd合金に、Al,Ti,Fe,Ni,Mo,Wのうちのいずれかの元素を1種以上含有させることを特徴としているが、このような添加元素のほか、化学的に類似した性質を有する遷移金属であるV,Cr,Mn,Co,Y,Zr,Nb,Ru,Taを含有させることによっても本発明と同様の効果を期待することができる。
尚、本発明の光学記録媒体は、単層、2層の情報記録層を有するものに限定されるものではなく、例えば3層以上の情報記録層が積層された多層構造の光学記録媒体についても、同様に適用することができる。
また、上述した例においては、光学記録媒体を構成する基板を、射出成形により形成したが、本発明は上述の例に限定されず、平滑面を有する板に、2P(Photo polimarization)法によって微細凹凸を形成する場合にも適用できる。
また、上述した例においては、ディスク状、円板状の光学記録媒体の例について説明したが、本発明はこの例に限定されず、カード状、シート状等、各種形状の光学記録媒体についても適用できる。
また、上述した例においては、光学記録媒体を構成する基板を、射出成形により形成したが、本発明は上述の例に限定されず、平滑面を有する板に、2P(Photo polimarization)法によって微細凹凸を形成する場合にも適用できる。
また、上述した例においては、ディスク状、円板状の光学記録媒体の例について説明したが、本発明はこの例に限定されず、カード状、シート状等、各種形状の光学記録媒体についても適用できる。
1 第1の基板
2 第2の基板
3 透明接着剤層
10 光学記録媒体
11 第1の微細凹凸
12 第2の微細凹凸
13 半透明反射膜
14 反射膜
21 第1の情報記録層
22 第2の情報記録層
41 第1の誘電体層
42 記録層
43 熱調整膜
44 第2の誘電体層
45 反射膜
100 光学記録媒体
101 基板
102 微細凹凸
104 光磁気記録層
105 情報層
106 保護膜
200 光学記録媒体
201 第1の基板
202 第2の基板
203 透明接着剤層
211 第1の微細凹凸
222 第2の微細凹凸
223 半透明反射膜
224 反射膜
231 第1の情報記録層
232 第2の情報記録層
2 第2の基板
3 透明接着剤層
10 光学記録媒体
11 第1の微細凹凸
12 第2の微細凹凸
13 半透明反射膜
14 反射膜
21 第1の情報記録層
22 第2の情報記録層
41 第1の誘電体層
42 記録層
43 熱調整膜
44 第2の誘電体層
45 反射膜
100 光学記録媒体
101 基板
102 微細凹凸
104 光磁気記録層
105 情報層
106 保護膜
200 光学記録媒体
201 第1の基板
202 第2の基板
203 透明接着剤層
211 第1の微細凹凸
222 第2の微細凹凸
223 半透明反射膜
224 反射膜
231 第1の情報記録層
232 第2の情報記録層
Claims (3)
- 情報記録層と反射膜とを有し、
上記反射膜が、1.5〔atom%〕以上8.2〔atom%〕以下のCuを含有するAgCuPd系合金薄膜から成り、
該AgCuPd系合金は、0.1〔atom%〕以上2.0〔atom%〕以下のPdを含有し、かつAl,Ti,Fe,Ni,Mo,Wのうちの、1または2の元素を含有し、該元素の含有合計が、1.0〔atom%〕以上7.5〔atom%〕以下とされたAgCuPd系の4元合金もしくは5元合金のいずれかより成る
光学記録媒体。 - 第1の情報記録層と、第2の情報記録層とが積層されて成り、
上記第1の情報記録層には半透明反射膜が形成されて成り、
上記第2の情報記録層には反射膜が形成されて成り、
上記半透明反射膜が、1.5〔atom%〕以上8.2〔atom%〕以下のCuを含有するAgCuPd系合金から成り、
上記AgCuPd系合金は、0.1〔atom%〕以上2.0〔atom%〕以下のPdを含有し、かつAl,Ti,Fe,Ni,Mo,Wのうちの、1または2の元素を含有し、該元素の含有合計が、1.0〔atom%〕以上7.5〔atom%〕以下とされたAgCuPd系の4元合金もしくは5元合金のいずれかから成り、
上記第2の情報記録層に対する情報の再生が、上記第1の情報記録層を透過した照射光により行われる
光学記録媒体。 - 上記第1の情報記録層は、第1の基板上に形成され、
上記第2の情報記録層は、第2の基板上に形成され、
上記第1の基板と上記第2の基板とが、互いの情報記録を対向させて貼り合わせて成り、
上記第1および第2の情報記録層に対する情報の再生は、第1の基板側からの光照射によって行われる
請求項1又は2記載の光学記録媒体。
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