JP2008173556A - 下水処理装置 - Google Patents
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Abstract
【解決手段】流入する下水3を活性汚泥により処理する反応槽1と、該反応槽1内に浸漬して鉛直に設置され、懸濁物と処理水とを分離する膜ろ過装置4を構成する複数の固液分離平膜4a、4a…と、この膜ろ過装置4の下部に配した散気装置8とを有する下水処理装置において、この複数の固液分離平膜4a、4a…の近傍に配した洗浄促進手段11、11…を具備し、この洗浄促進手段11、11…は、この散気装置8から散気される気泡の上昇方向に対して凹部11b及び凸部11aを交互に有するものである。
【選択図】図1
Description
Claims (5)
- 流入する下水を活性汚泥により処理する反応槽と、該反応槽内に浸漬して鉛直に設置され、懸濁物と処理水とを分離する膜ろ過装置を構成する複数の固液分離平膜と、前記膜ろ過装置の下部に配した散気装置とを有する下水処理装置において、
前記複数の固液分離平膜の近傍に配した洗浄促進手段を具備し、
前記洗浄促進手段は、前記散気装置から散気される気泡の上昇方向に対して凹部及び凸部を交互に有することを特徴とする下水処理装置。 - 請求項1記載の下水処理装置において、
前記洗浄促進手段の凹部及び凸部は、波形状であることを特徴とする下水処理装置。 - 請求項1記載の下水処理装置において、
前記洗浄促進手段は、鉛直方向に昇降する昇降手段を具備したことを特徴とする下水処理装置。 - 請求項3記載の下水処理装置において、
前記昇降手段は、前記洗浄促進手段の凹部及び凸部のピッチ以内の間隔で昇降するようにしたことを特徴とする下水処理装置。 - 請求項3又は4記載の下水処理装置において、
前記膜ろ過装置の処理水の量を測定する計測手段を設けると共に前記計測手段の計測量に応じて前記昇降手段の昇降の頻度を制御する制御手段を設けたことを特徴とする下水処理装置。
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