JP2008164886A - Colored photosensitive resin composition - Google Patents

Colored photosensitive resin composition Download PDF

Info

Publication number
JP2008164886A
JP2008164886A JP2006353673A JP2006353673A JP2008164886A JP 2008164886 A JP2008164886 A JP 2008164886A JP 2006353673 A JP2006353673 A JP 2006353673A JP 2006353673 A JP2006353673 A JP 2006353673A JP 2008164886 A JP2008164886 A JP 2008164886A
Authority
JP
Japan
Prior art keywords
resin composition
photosensitive resin
colored photosensitive
group
acid
Prior art date
Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
Pending
Application number
JP2006353673A
Other languages
Japanese (ja)
Inventor
Koji Ichikawa
幸司 市川
Yuji Akiyama
裕次 秋山
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
Sumitomo Chemical Co Ltd
Original Assignee
Sumitomo Chemical Co Ltd
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by Sumitomo Chemical Co Ltd filed Critical Sumitomo Chemical Co Ltd
Priority to JP2006353673A priority Critical patent/JP2008164886A/en
Priority to TW096147587A priority patent/TW200839439A/en
Priority to KR1020070136497A priority patent/KR101419938B1/en
Priority to CNA2007103054126A priority patent/CN101211111A/en
Publication of JP2008164886A publication Critical patent/JP2008164886A/en
Pending legal-status Critical Current

Links

Classifications

    • G—PHYSICS
    • G03—PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
    • G03F—PHOTOMECHANICAL PRODUCTION OF TEXTURED OR PATTERNED SURFACES, e.g. FOR PRINTING, FOR PROCESSING OF SEMICONDUCTOR DEVICES; MATERIALS THEREFOR; ORIGINALS THEREFOR; APPARATUS SPECIALLY ADAPTED THEREFOR
    • G03F7/00—Photomechanical, e.g. photolithographic, production of textured or patterned surfaces, e.g. printing surfaces; Materials therefor, e.g. comprising photoresists; Apparatus specially adapted therefor
    • G03F7/004—Photosensitive materials
    • G03F7/027—Non-macromolecular photopolymerisable compounds having carbon-to-carbon double bonds, e.g. ethylenic compounds
    • G03F7/032—Non-macromolecular photopolymerisable compounds having carbon-to-carbon double bonds, e.g. ethylenic compounds with binders
    • G03F7/033—Non-macromolecular photopolymerisable compounds having carbon-to-carbon double bonds, e.g. ethylenic compounds with binders the binders being polymers obtained by reactions only involving carbon-to-carbon unsaturated bonds, e.g. vinyl polymers
    • C—CHEMISTRY; METALLURGY
    • C08—ORGANIC MACROMOLECULAR COMPOUNDS; THEIR PREPARATION OR CHEMICAL WORKING-UP; COMPOSITIONS BASED THEREON
    • C08F—MACROMOLECULAR COMPOUNDS OBTAINED BY REACTIONS ONLY INVOLVING CARBON-TO-CARBON UNSATURATED BONDS
    • C08F2/00—Processes of polymerisation
    • C08F2/46—Polymerisation initiated by wave energy or particle radiation
    • C08F2/48—Polymerisation initiated by wave energy or particle radiation by ultraviolet or visible light
    • C08F2/50—Polymerisation initiated by wave energy or particle radiation by ultraviolet or visible light with sensitising agents
    • C—CHEMISTRY; METALLURGY
    • C09—DYES; PAINTS; POLISHES; NATURAL RESINS; ADHESIVES; COMPOSITIONS NOT OTHERWISE PROVIDED FOR; APPLICATIONS OF MATERIALS NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
    • C09B—ORGANIC DYES OR CLOSELY-RELATED COMPOUNDS FOR PRODUCING DYES, e.g. PIGMENTS; MORDANTS; LAKES
    • C09B11/00—Diaryl- or thriarylmethane dyes
    • C09B11/04—Diaryl- or thriarylmethane dyes derived from triarylmethanes, i.e. central C-atom is substituted by amino, cyano, alkyl
    • C09B11/10—Amino derivatives of triarylmethanes
    • C09B11/24—Phthaleins containing amino groups ; Phthalanes; Fluoranes; Phthalides; Rhodamine dyes; Phthaleins having heterocyclic aryl rings; Lactone or lactame forms of triarylmethane dyes
    • G—PHYSICS
    • G02—OPTICS
    • G02B—OPTICAL ELEMENTS, SYSTEMS OR APPARATUS
    • G02B5/00—Optical elements other than lenses
    • G02B5/20—Filters
    • G02B5/22—Absorbing filters
    • G02B5/223—Absorbing filters containing organic substances, e.g. dyes, inks or pigments
    • G—PHYSICS
    • G03—PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
    • G03F—PHOTOMECHANICAL PRODUCTION OF TEXTURED OR PATTERNED SURFACES, e.g. FOR PRINTING, FOR PROCESSING OF SEMICONDUCTOR DEVICES; MATERIALS THEREFOR; ORIGINALS THEREFOR; APPARATUS SPECIALLY ADAPTED THEREFOR
    • G03F7/00—Photomechanical, e.g. photolithographic, production of textured or patterned surfaces, e.g. printing surfaces; Materials therefor, e.g. comprising photoresists; Apparatus specially adapted therefor
    • G03F7/0005—Production of optical devices or components in so far as characterised by the lithographic processes or materials used therefor
    • G03F7/0007—Filters, e.g. additive colour filters; Components for display devices
    • G—PHYSICS
    • G03—PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
    • G03F—PHOTOMECHANICAL PRODUCTION OF TEXTURED OR PATTERNED SURFACES, e.g. FOR PRINTING, FOR PROCESSING OF SEMICONDUCTOR DEVICES; MATERIALS THEREFOR; ORIGINALS THEREFOR; APPARATUS SPECIALLY ADAPTED THEREFOR
    • G03F7/00—Photomechanical, e.g. photolithographic, production of textured or patterned surfaces, e.g. printing surfaces; Materials therefor, e.g. comprising photoresists; Apparatus specially adapted therefor
    • G03F7/004—Photosensitive materials
    • G03F7/027—Non-macromolecular photopolymerisable compounds having carbon-to-carbon double bonds, e.g. ethylenic compounds
    • G—PHYSICS
    • G03—PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
    • G03F—PHOTOMECHANICAL PRODUCTION OF TEXTURED OR PATTERNED SURFACES, e.g. FOR PRINTING, FOR PROCESSING OF SEMICONDUCTOR DEVICES; MATERIALS THEREFOR; ORIGINALS THEREFOR; APPARATUS SPECIALLY ADAPTED THEREFOR
    • G03F7/00—Photomechanical, e.g. photolithographic, production of textured or patterned surfaces, e.g. printing surfaces; Materials therefor, e.g. comprising photoresists; Apparatus specially adapted therefor
    • G03F7/004—Photosensitive materials
    • G03F7/027—Non-macromolecular photopolymerisable compounds having carbon-to-carbon double bonds, e.g. ethylenic compounds
    • G03F7/028—Non-macromolecular photopolymerisable compounds having carbon-to-carbon double bonds, e.g. ethylenic compounds with photosensitivity-increasing substances, e.g. photoinitiators
    • G03F7/029—Inorganic compounds; Onium compounds; Organic compounds having hetero atoms other than oxygen, nitrogen or sulfur
    • G03F7/0295—Photolytic halogen compounds
    • G—PHYSICS
    • G03—PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
    • G03F—PHOTOMECHANICAL PRODUCTION OF TEXTURED OR PATTERNED SURFACES, e.g. FOR PRINTING, FOR PROCESSING OF SEMICONDUCTOR DEVICES; MATERIALS THEREFOR; ORIGINALS THEREFOR; APPARATUS SPECIALLY ADAPTED THEREFOR
    • G03F7/00—Photomechanical, e.g. photolithographic, production of textured or patterned surfaces, e.g. printing surfaces; Materials therefor, e.g. comprising photoresists; Apparatus specially adapted therefor
    • G03F7/004—Photosensitive materials
    • G03F7/027—Non-macromolecular photopolymerisable compounds having carbon-to-carbon double bonds, e.g. ethylenic compounds
    • G03F7/028—Non-macromolecular photopolymerisable compounds having carbon-to-carbon double bonds, e.g. ethylenic compounds with photosensitivity-increasing substances, e.g. photoinitiators
    • G03F7/031—Organic compounds not covered by group G03F7/029

Landscapes

  • Physics & Mathematics (AREA)
  • General Physics & Mathematics (AREA)
  • Chemical & Material Sciences (AREA)
  • Spectroscopy & Molecular Physics (AREA)
  • Chemical Kinetics & Catalysis (AREA)
  • Organic Chemistry (AREA)
  • Inorganic Chemistry (AREA)
  • Health & Medical Sciences (AREA)
  • Medicinal Chemistry (AREA)
  • Polymers & Plastics (AREA)
  • Optics & Photonics (AREA)
  • Materials For Photolithography (AREA)
  • Optical Filters (AREA)

Abstract

<P>PROBLEM TO BE SOLVED: To provide a new colored photosensitive resin composition which ensures less residues, after development in the production of a color filter, even if it contains a pigment at a high concentration. <P>SOLUTION: The colored photosensitive resin composition comprises (A) a pigment, (B) a binder resin, (C) a photopolymerizable compound, (D) a photopolymerization initiator and (E) a solvent, wherein a content of the pigment (A) is 35-60 mass% by mass fraction, based on a solid content of the colored photosensitive resin composition, and the photopolymerizable compound (C) contains a compound represented by Formula (I). <P>COPYRIGHT: (C)2008,JPO&INPIT

Description

本発明は、着色感光性樹脂組成物に関する。   The present invention relates to a colored photosensitive resin composition.

着色感光性樹脂組成物は、ＣＣＤ、ＣＭＯＳなどのイメージセンサや、液晶表示パネル、エレクトロルミネッセンス、プラズマディスプレイパネルなどのディスプレイ装置に使用されるカラーフィルタの製造用に用いられている。   The colored photosensitive resin composition is used for manufacturing color filters used in image sensors such as CCD and CMOS, and display devices such as liquid crystal display panels, electroluminescence, and plasma display panels.

その中でも特にイメージセンサ用カラーフィルタでは、イメージセンサの高画素化に伴い、高解像度で膜厚の薄いものが求められている。単に膜厚を薄くすると色濃度が薄くなるため、充分な色濃度を確保するためには、カラーフィルタの画素を形成する感光性樹脂組成物中の顔料濃度を高くする必要がある。しかしながら、高い濃度で顔料を含む着色感光性樹脂組成物を用いて膜を形成して、所定の形状のマスクを用いて露光し、不要部分を現像液により除去してカラーフィルタを製造した場合に、現像液により除去できなかったもの（残渣）が多く残るという問題点があった（例えば、特許文献１参照。）。   Among them, in particular, color filters for image sensors are required to have high resolution and a thin film thickness as the number of pixels of the image sensor increases. If the film thickness is simply reduced, the color density is reduced. Therefore, in order to ensure a sufficient color density, it is necessary to increase the pigment density in the photosensitive resin composition forming the pixels of the color filter. However, when a color filter is produced by forming a film using a colored photosensitive resin composition containing a pigment at a high concentration, exposing using a mask having a predetermined shape, and removing unnecessary portions with a developer. There is a problem that a large amount of residue (residue) that cannot be removed by the developer remains (see, for example, Patent Document 1).

そこで、高い濃度で顔料を含んでいても現像残渣の残り難いカラーフィルタの製造用の着色感光性樹脂組成物が種々検討されており、着色剤、バインダー樹脂、光重合性化合物、光重合開始剤、溶剤からなる着色感光性樹脂組成物において、光重合性化合物がエトキシ化ジペンタエリスリトールヘキサアクリレートおよびエトキシ化ペンタエリスリトールからなるものが提案されている（例えば、特許文献２参照。）が、イメージセンサ用カラーフィルタの製造における現像後の残渣を改善するにはまだ改良の余地があった。   Accordingly, various types of colored photosensitive resin compositions for producing color filters in which development residues are difficult to remain even when pigments are contained at a high concentration have been studied. Colorants, binder resins, photopolymerizable compounds, photopolymerization initiators In a colored photosensitive resin composition comprising a solvent, a photopolymerizable compound comprising ethoxylated dipentaerythritol hexaacrylate and ethoxylated pentaerythritol has been proposed (for example, see Patent Document 2). There was still room for improvement in improving the post-development residue in the production of color filters for use.

特開平８−２７１７２３号公報JP-A-8-271723 特開平１０−６２９８６号公報Japanese Patent Laid-Open No. 10-62986

本発明の目的は、高い濃度で顔料を含んでいても、カラーフィルタの製造における現像後の残渣が少ない、新たな着色感光性樹脂組成物を提供することにある。   An object of the present invention is to provide a new colored photosensitive resin composition that contains little pigment after development in the production of a color filter even if it contains a pigment at a high concentration.

本発明者らは、上記したような課題を解決し得る着色感光性樹脂組成物を見出すべく、着色感光性樹脂組成物の組成について鋭意検討を重ねた結果、光重合性化合物として特定の化合物を含む着色感光性樹脂組成物が上記の問題を解決しうることを見出し、本発明を完成させるに至った。   In order to find a colored photosensitive resin composition that can solve the above-described problems, the present inventors have conducted extensive studies on the composition of the colored photosensitive resin composition, and as a result, have selected a specific compound as a photopolymerizable compound. The present inventors have found that a colored photosensitive resin composition to be contained can solve the above problems, and have completed the present invention.

即ち、本発明は、（Ａ）顔料、（Ｂ）バインダー樹脂、（Ｃ）光重合性化合物、（Ｄ）光重合開始剤、および、（Ｅ）溶剤を含有する着色感光性樹脂組成物において、（Ａ）顔料の含有量が着色感光性樹脂組成物の固形分に対して質量分率で３５〜６０質量％であり、かつ（Ｃ）光重合性化合物が式（Ｉ）で表される化合物を含有する着色感光性樹脂組成物を提供する。   That is, the present invention relates to a colored photosensitive resin composition containing (A) a pigment, (B) a binder resin, (C) a photopolymerizable compound, (D) a photopolymerization initiator, and (E) a solvent. (A) Compound whose pigment content is 35 to 60% by mass with respect to the solid content of the colored photosensitive resin composition, and (C) the photopolymerizable compound is represented by formula (I) A colored photosensitive resin composition containing

Figure 2008164886
Figure 2008164886

［式（Ｉ）中、ｌ、ｍおよびｎは、それぞれ、０以上の整数を表し、l＋ｍ＋ｎは、３〜２０の整数を表す。］ [In the formula (I), l, m and n each represents an integer of 0 or more, and l + m + n represents an integer of 3 to 20. ]

また、本発明は、前記の着色感光性樹脂組成物を用いて形成されたパターン、前記のパターンを含むイメージセンサ用カラーフィルタおよび前記のカラーフィルタを具備するイメージセンサを提供する。   Furthermore, the present invention provides a pattern formed using the colored photosensitive resin composition, a color filter for an image sensor including the pattern, and an image sensor including the color filter.

本発明の着色感光性樹脂組成物を用いて、膜厚の薄いカラーフィルタを製造すると、現像後の残渣が少なくなり、色純度が高く、製造不良品の少ないカラーフィルタを製造することができる。   When a color filter having a thin film thickness is produced using the colored photosensitive resin composition of the present invention, a residue after development is reduced, a color filter having high color purity and few defective products can be produced.

本発明の着色感光性樹脂組成物は、（Ａ）顔料、（Ｂ）バインダー樹脂、（Ｃ）光重合性化合物、（Ｄ）光重合開始剤、および、（Ｅ）溶剤を含有する着色感光性樹脂組成物において、（Ａ）顔料の含有量が着色感光性樹脂組成物の固形分に対して質量分率で３５〜６０質量％であり、かつ（Ｃ）光重合性化合物が式（Ｉ）で表される化合物を含有する。   The colored photosensitive resin composition of the present invention is a colored photosensitive resin containing (A) a pigment, (B) a binder resin, (C) a photopolymerizable compound, (D) a photopolymerization initiator, and (E) a solvent. In the resin composition, the content of (A) the pigment is 35 to 60% by mass with respect to the solid content of the colored photosensitive resin composition, and (C) the photopolymerizable compound has the formula (I) The compound represented by these is contained.

Figure 2008164886
Figure 2008164886

［式（Ｉ）中、ｌ、ｍおよびｎは、それぞれ、０以上の整数を表し、l＋ｍ＋ｎは、３〜２０の整数を表す。］ [In the formula (I), l, m and n each represents an integer of 0 or more, and l + m + n represents an integer of 3 to 20. ]

（Ｃ）光重合性化合物は、光を照射されることによって（Ｄ）光重合開始剤から発生した活性ラジカルや酸などによって重合しうる化合物である。   (C) A photopolymerizable compound is a compound that can be polymerized by active radicals or acids generated from (D) a photopolymerization initiator when irradiated with light.

前記の（Ｃ）光重合性化合物として、式（Ｉ）で表される化合物が含有される。   As the (C) photopolymerizable compound, a compound represented by the formula (I) is contained.

前記の（Ｃ）光重合性化合物中の式（Ｉ）で表される化合物の含有量としては、質量分率で、好ましくは５〜１００質量％であり、より好ましくは１０〜１００質量％であり、とりわけ好ましくは２０〜１００質量％である。   As content of the compound represented by Formula (I) in said (C) photopolymerizable compound, it is a mass fraction, Preferably it is 5-100 mass%, More preferably, it is 10-100 mass%. It is particularly preferably 20 to 100% by mass.

本発明の（Ｃ）光重合性化合物には、更に、他の光重合性を示す化合物を併用してもよい。他の光重合性を示す化合物としては、３官能以上の多官能の光重合性を示す化合物であることが好ましい。３官能以上の多官能の光重合性を示す化合物としては、例えば、ペンタエリスリトールテトラアクリレート、ペンタエリスリトールテトラメタクリレート、ジペンタエリスリトールペンタメタクリレート、ジペンタエリスリトールヘキサメタクリレート、カルボキシル基を有するジペンタエリスリトールペンタアクリレート誘導体などが挙げられる。   In the (C) photopolymerizable compound of the present invention, other photopolymerizable compounds may be used in combination. As another compound exhibiting photopolymerizability, a compound exhibiting trifunctional or higher polyfunctional photopolymerizability is preferable. Examples of trifunctional or higher polyfunctional photopolymerizable compounds include pentaerythritol tetraacrylate, pentaerythritol tetramethacrylate, dipentaerythritol pentamethacrylate, dipentaerythritol hexamethacrylate, and dipentaerythritol pentaacrylate derivatives having a carboxyl group. Etc.

前記の（Ｃ）光重合性化合物の含有量は着色感光性樹脂組成物の固形分に対して質量分率で、好ましくは５〜５０質量％であり、より好ましくは１０〜４０質量％であり、とりわけ好ましくは１２〜３５質量％である。（Ｃ）光重合性化合物の含有量が、前記の範囲にあると、硬化が十分におこり、現像前後での膜厚比率が向上し、パターンにアンダーカットが入りにくくなって密着性が良好になる傾向があることから好ましい。   Content of said (C) photopolymerizable compound is a mass fraction with respect to solid content of a coloring photosensitive resin composition, Preferably it is 5-50 mass%, More preferably, it is 10-40 mass%. Especially preferably, it is 12 to 35% by mass. (C) When the content of the photopolymerizable compound is in the above range, curing is sufficiently performed, the film thickness ratio before and after development is improved, and undercut is difficult to enter into the pattern, and the adhesion is good. It is preferable because it tends to become.

（Ａ）顔料としては、具体的には、カラーインデックス（The Society of Dyers and Colourists出版）でピグメントに分類されている化合物が挙げられる。具体的には、例えばＣ．Ｉ．ピグメントイエロー１、３、１２、１３、１４、１５、１６、１７、２０、２４、３１、５３、８３、８６、９３、９４、１０９、１１０、１１７、１２５、１２８、１３７、１３８、１３９、１４７、１４８、１５０、１５３、１５４、１６６、１７３、１９４、２１４などの黄色顔料；
Ｃ．Ｉ．ピグメントオレンジ１３、３１、３６、３８、４０、４２、４３、５１、５５、５９、６１、６４、６５、７１、７３などのオレンジ色の顔料；
Ｃ．Ｉ．ピグメントレッド９、９７、１０５、１２２、１２３、１４４、１４９、１６６、１６８、１７６、１７７、１８０、１９２、２０９、２１５、２１６、２２４、２４２、２５４、２５５、２６４、２６５などの赤色顔料；
Ｃ．Ｉ．ピグメントブルー１５、１５：３、１５：４、１５：６、６０などの青色顔料；
Ｃ．Ｉ．ピグメントバイオレット１、１９、２３、２９、３２、３６、３８などのバイオレット色顔料；
Ｃ．Ｉ．ピグメントグリーン７、３６などの緑色顔料；
Ｃ．Ｉ．ピグメントブラウン２３、２５などのブラウン色顔料；
Ｃ．Ｉ．ピグメントブラック１、７などの黒色顔料などが挙げられる。中でも、Ｃ．Ｉ．ピグメントイエロー１３８、１３９、１５０、Ｃ．Ｉ．ピグメントレッド１７７、２０９、２５４、Ｃ．Ｉ．ピグメントレッドバイオレット２３、Ｃ．Ｉ．ピグメントブルー１５：３、１５：６およびＣ．Ｉ．ピグメントグリーン７、３６からなる群から選ばれる少なくとも一種の顔料を含有していることが好ましい。 Specific examples of the pigment (A) include compounds classified as pigments according to a color index (published by The Society of Dyers and Colorists). Specifically, for example, C.I. I. Pigment Yellow 1, 3, 12, 13, 14, 15, 16, 17, 20, 24, 31, 53, 83, 86, 93, 94, 109, 110, 117, 125, 128, 137, 138, 139, Yellow pigments such as 147, 148, 150, 153, 154, 166, 173, 194, 214;
C. I. Orange pigments such as CI Pigment Orange 13, 31, 36, 38, 40, 42, 43, 51, 55, 59, 61, 64, 65, 71, 73;
C. I. Red pigments such as CI Pigment Red 9, 97, 105, 122, 123, 144, 149, 166, 168, 176, 177, 180, 192, 209, 215, 216, 224, 242, 254, 255, 264, 265;
C. I. Blue pigments such as CI Pigment Blue 15, 15: 3, 15: 4, 15: 6, 60;
C. I. Violet color pigments such as CI Pigment Violet 1, 19, 23, 29, 32, 36, 38;
C. I. Green pigments such as CI Pigment Green 7 and 36;
C. I. Brown pigments such as CI Pigment Brown 23 and 25;
C. I. And black pigments such as CI Pigment Black 1 and 7. Among them, C.I. I. Pigment yellow 138, 139, 150, C.I. I. Pigment red 177, 209, 254, C.I. I. Pigment red violet 23, C.I. I. Pigment blue 15: 3, 15: 6 and C.I. I. It is preferable to contain at least one pigment selected from the group consisting of CI Pigment Green 7 and 36.

赤色の画素を形成する場合、顔料の組合せとしては、例えば、Ｃ．Ｉ．ピグメントレッド１７７、２５４やＣ．Ｉ．ピグメントイエロー１５０、Ｃ．Ｉ．ピグメントレッド１７７、Ｃ．Ｉ．ピグメントレッド２５４挙げられる。
緑色の画素を形成する場合、顔料の組合せとしては、例えば、Ｃ．Ｉ．ピグメントイエロー１５０、Ｃ．Ｉ．ピグメントグリーン３６やＣ．Ｉ．ピグメントイエロー１３９、Ｃ．Ｉ．ピグメントグリーン７、Ｃ．Ｉ．ピグメントグリーン３６挙げられる。
青色の画素を形成する場合、顔料の組合せとしては、例えば、Ｃ．Ｉ．ピグメントブルー１５：３、Ｃ．Ｉ．ピグメントレッドバイオレット２３やＣ．Ｉ．ピグメントブルー１５：６、Ｃ．Ｉ．ピグメントレッドバイオレット２３挙げられる。 When forming a red pixel, as a combination of pigments, for example, C.I. I. Pigment red 177, 254 and C.I. I. Pigment yellow 150, C.I. I. Pigment red 177, C.I. I. Pigment red 254.
When forming a green pixel, as a combination of pigments, for example, C.I. I. Pigment yellow 150, C.I. I. Pigment Green 36 and C.I. I. Pigment yellow 139, C.I. I. Pigment green 7, C.I. I. Pigment Green 36.
When forming a blue pixel, examples of combinations of pigments include C.I. I. Pigment blue 15: 3, C.I. I. Pigment red violet 23 and C.I. I. Pigment blue 15: 6, C.I. I. Pigment Red Violet 23.

（Ａ）顔料は、必要により、分散剤や（Ｂ）バインダー樹脂の一部または全量を含有させて分散処理を行うことで、顔料が溶液中で均一に分散した状態の分散液として得ることができる。   (A) The pigment can be obtained as a dispersion liquid in which the pigment is uniformly dispersed in the solution by containing a dispersant or a part or all of the binder resin (B) as necessary, and performing a dispersion treatment. it can.

前記の分散剤としては、例えば、カチオン系、アニオン系、ノニオン系、両性、ポリエステル系、ポリアミン系などの界面活性剤などが挙げられ、単独でも２種以上を組合せて用いてもよい。   Examples of the dispersant include surfactants such as cationic, anionic, nonionic, amphoteric, polyester, and polyamine, and may be used alone or in combination of two or more.

該界面活性剤の例としては、ポリオキシエチレンアルキルエーテル類、ポリオキシエチレンアルキルフェニルエーテル類、ポリエチレングリコールジエステル類、ソルビタン脂肪酸エステル類、脂肪酸変性ポリエステル類、３級アミン変性ポリウレタン類、ポリエチレンイミン類等のほか、商品名でＫＰ（信越化学工業（株）製）、ポリフロー（共栄化学（株）製）、エフトップ（トーケムプロダクツ社製）、メガファック（大日本インキ化学工業（株）製）、フロラード（住友スリーエム（株）製）、アサヒガード、サーフロン（以上、旭硝子（株）製）、ソルスパース（ゼネカ（株）製）、ＥＦＫＡ（ＥＦＫＡ ＣＨＥＭＩＣＡＬＳ社製）、ＰＢ８２１（味の素（株）製）などが挙げられる。   Examples of the surfactant include polyoxyethylene alkyl ethers, polyoxyethylene alkyl phenyl ethers, polyethylene glycol diesters, sorbitan fatty acid esters, fatty acid-modified polyesters, tertiary amine-modified polyurethanes, polyethyleneimines, etc. In addition, KP (manufactured by Shin-Etsu Chemical Co., Ltd.), Polyflow (manufactured by Kyoei Chemical Co., Ltd.), F-Top (manufactured by Tochem Products), MegaFuck (manufactured by Dainippon Ink Chemical Co., Ltd.) , FLORARD (manufactured by Sumitomo 3M Co., Ltd.), Asahi Guard, Surflon (manufactured by Asahi Glass Co., Ltd.), Solsperse (manufactured by Geneca Co., Ltd.), EFKA (manufactured by EFKA CHEMICALS Co., Ltd.), PB821 (manufactured by Ajinomoto Co., Inc.) Etc.

分散剤を用いる場合、その使用量は顔料１００質量％に対して質量分率で、好ましくは０．１〜１００質量％であり、より好ましくは５〜５０質量％である。分散剤の使用量が前記の範囲にあると、均一な分散液が得られる傾向があるため好ましい。   When using a dispersing agent, the usage-amount is a mass fraction with respect to 100 mass% of pigments, Preferably it is 0.1-100 mass%, More preferably, it is 5-50 mass%. It is preferable that the amount of the dispersant used be in the above range because a uniform dispersion tends to be obtained.

本発明の着色感光性樹脂組成物に用いられる（Ａ）顔料の含有量は、着色感光性樹脂組成物の固形分に対して質量分率で３５〜６０質量％であり、好ましくは３５〜５５質量％、より好ましくは３５〜５０質量％である。ここで、本明細書中における固形分とは、着色感光性樹脂組成物の（Ａ）顔料、（Ｂ）バインダー樹脂、（Ｃ）光重合性化合物、（Ｄ）光重合開始剤、さらに必要に応じて添加される成分のうち常温で液状でない成分の合計量をいう。   The content of the pigment (A) used in the colored photosensitive resin composition of the present invention is 35 to 60% by mass, preferably 35 to 55% by mass with respect to the solid content of the colored photosensitive resin composition. It is 35 mass%, More preferably, it is 35-50 mass%. Here, the solid content in the present specification means (A) a pigment, (B) a binder resin, (C) a photopolymerizable compound, (D) a photopolymerization initiator of the colored photosensitive resin composition, and further necessary. The total amount of components that are not liquid at room temperature among the components added accordingly.

（Ａ）顔料の含有量が前記の範囲にあると、カラーフィルタとしたときの色濃度が十分であり、かつ組成物中にバインダー樹脂を必要量以上含有させることができることから、機械的強度が十分なパターンを形成することができるので、好ましい。   When the content of the pigment (A) is in the above range, the color density when the color filter is obtained is sufficient, and since the binder resin can be contained in the composition more than necessary, the mechanical strength is high. It is preferable because a sufficient pattern can be formed.

本発明の着色感光性樹脂塑性物は、本発明の効果を損なわない範囲であれば、（Ａ）顔料に加えて、染料を併用してもよい。   The colored photosensitive resin plastic of the present invention may be used in combination with a dye in addition to the pigment (A) as long as the effects of the present invention are not impaired.

前記の染料としては、油溶性染料、酸性染料、酸性染料のアミン塩や酸性染料のスルホンアミド誘導体などが挙げられる。
前記の染料としては、例えば、Ｃ．Ｉ．ソルベントイエロー４（以下、Ｃ．Ｉ．ソルベントイエローの記載を省略し、番号のみの記載とする。他の染料種および色相についても同様に省略して記載する。）、１４、１５、２３、２４、３８、６２、６３、６８、８２、９４、９８、９９、１６２、Ｃ．Ｉ．ソルベントレッド４５、４９、Ｃ．Ｉ．ソルベントオレンジ２、７、１１、１５、２６、５６、Ｃ．Ｉ．ソルベントブルー３５、３７、５９、６７などが挙げられる。またＣ．Ｉ．アシッド染料としてＣ．Ｉ．アシッドイエロー１７、２９、４０、７６、Ｃ．Ｉ．アシッドレッド９１、９２、９７、１１４、１３８、１５１、Ｃ．Ｉ．アシッドオレンジ５１、６３、Ｃ．Ｉ．アシッドブルー８０、８３、９０、Ｃ．Ｉ．アシッドグリーン９、１６、２５、２７などの染料が例示される。 Examples of the dye include oil-soluble dyes, acid dyes, amine salts of acid dyes, and sulfonamide derivatives of acid dyes.
Examples of the dye include C.I. I. Solvent Yellow 4 (hereinafter, CI Solvent Yellow is omitted and only numbers are described. Other dye types and hues are also omitted) 14, 15, 23, 24 38, 62, 63, 68, 82, 94, 98, 99, 162, C.I. I. Solvent Red 45, 49, C.I. I. Solvent Orange 2, 7, 11, 15, 26, 56, C.I. I. Solvent blue 35, 37, 59, 67 etc. are mentioned. In addition, C.I. I. As an acid dye, C.I. I. Acid Yellow 17, 29, 40, 76, C.I. I. Acid Red 91, 92, 97, 114, 138, 151, C.I. I. Acid Orange 51, 63, C.I. I. Acid Blue 80, 83, 90, C.I. I. Examples include dyes such as Acid Green 9, 16, 25, and 27.

また、染料（Ａ）には、例えば、式（ｉ）〜（ｖｉｉ）で表される酸性染料のアミン塩、および式（ｖｉｉｉ）〜（ｉｘ）で表される酸性染料のスルホンアミド誘導体も使用できる。   In addition, as the dye (A), for example, amine salts of acidic dyes represented by formulas (i) to (vii) and sulfonamide derivatives of acidic dyes represented by formulas (viii) to (ix) are also used. it can.

Ｄ−（ＳＯ３ −）ｍ（ＣｎＨ２ｎ＋１Ｎ＋Ｈ３）ｍ （ｉ）
Ｄ−（ＳＯ３ −）ｍ｛（ＣｎＨ２ｎ＋１）２Ｎ＋Ｈ２｝ｍ （ｉｉ）
Ｄ−（ＳＯ３ −）ｍ｛（ＣｎＨ２ｎ＋１）３Ｎ＋Ｈ｝ｍ （ｉｉｉ）
Ｄ−（ＳＯ３ −）ｍ｛（ＣｎＨ２ｎ＋１）４Ｎ＋｝ｍ （ｉｖ）
Ｄ−（ＳＯ３ −）ｍ（ＣｅＨ２ｅ＋１ＯＣｆＨ２ｆＮ＋Ｈ３）ｍ （ｖ）
Ｄ−（ＳＯ３ −）ｍ｛（ＣｎＨ２ｎ＋１）（ＰｈＣＨ２）２Ｎ＋Ｈ｝ｍ （ｖｉ）
Ｄ−（ＳＯ３ −）ｍ｛（ＣｎＨ２ｎ＋１）Ｐｙ＋｝ｍ （ｖｉｉ）
Ｄ−［｛ＳＯ２ＮＨ（ＣｎＨ２ｎ＋１）｝ｐ］［（ＳＯ３Ｌ）ｑ］ （ｖｉｉｉ）
Ｄ−［｛ＳＯ２ＮＨ（ＣｅＨ２ｅ＋１ＯＣｆＨ２ｆ）｝ｐ］［（ＳＯ３Ｌ）ｑ］（ｉｘ） D- (SO 3 − ) m (C n H 2n + 1 N + H 3 ) m (i)
D- (SO 3 − ) m {(C n H 2n + 1 ) 2 N + H 2 } m (ii)
D− (SO 3 − ) m {(C n H 2n + 1 ) 3 N + H} m (iii)
D- (SO 3 − ) m {(C n H 2n + 1 ) 4 N + } m (iv)
D- (SO 3 − ) m (C e H 2e + 1 OC f H 2f N + H 3 ) m (v)
D- (SO 3 − ) m {(C n H 2n + 1 ) (PhCH 2 ) 2 N + H} m (vi)
D- (SO 3 − ) m {(C n H 2n + 1 ) Py + } m (vii)
D - [{SO 2 NH ( C n H 2n + 1)} p] [(SO 3 L) q] (viii)
D - [{SO 2 NH ( C e H 2e + 1 OC f H 2f)} p] [(SO 3 L) q] (ix)

［式（ｉ）〜（ｉｘ）中、Ｄは、色素母体を表す。
ｍは、１〜２０の整数を表す。
ｎは、１〜２０の整数を表す。
ｅおよびｆは、それぞれ独立に、１〜１０の整数を表す。
Ｐｈは、フェニル基を表す。
Ｐｙは、窒素原子でＣｎＨ２ｎ＋１につながるピリジン環残基またはメチルピリジン環残基を表す。
ｐは、１〜８の整数を表す。
ｑは、０〜８の整数を表す。
Ｌは、水素原子または一価の陽イオンを表す。］ [In formulas (i) to (ix), D represents a dye matrix.
m represents an integer of 1 to 20.
n represents an integer of 1 to 20.
e and f each independently represents an integer of 1 to 10.
Ph represents a phenyl group.
Py represents a pyridine ring residue or a methylpyridine ring residue connected to C n H 2n + 1 by a nitrogen atom.
p represents an integer of 1 to 8.
q represents an integer of 0 to 8.
L represents a hydrogen atom or a monovalent cation. ]

Ｄとして、具体的には、アゾ染料母体、キサンテン染料母体、アントラキノン染料母体、トリフェニルメタン染料母体およびフタロシアニン染料母体が挙げられる。
ｍは、好ましくは１〜１０の整数、より好ましくは１〜８の整数を表す。
ｎは、好ましくは１〜１０の整数、より好ましくは１〜８の整数を表す。
ｅおよびｆは、それぞれ独立に、好ましくは１〜８の整数、より好ましくは１〜６の整数を表す。
Ｐｙは、好ましくはメチルピリジン環残基を表す。
ｐは、好ましくは１〜６の整数、より好ましくは１〜５の整数を表す。
ｑは、好ましくは０〜６の整数、より好ましくは０〜５の整数を表す。
Ｌにおける一価の陽イオンとしては、例えば、リチウムイオン、ナトリウムイオン、カリウムイオン、（Ｃ２Ｈ５）３ＨＮ＋などの４級アンモニウムイオンなどが挙げられ、好ましくはナトリウムイオンが挙げられる。 Specific examples of D include an azo dye matrix, a xanthene dye matrix, an anthraquinone dye matrix, a triphenylmethane dye matrix, and a phthalocyanine dye matrix.
m preferably represents an integer of 1 to 10, more preferably an integer of 1 to 8.
n preferably represents an integer of 1 to 10, more preferably an integer of 1 to 8.
e and f each independently preferably represent an integer of 1 to 8, more preferably an integer of 1 to 6.
Py preferably represents a methylpyridine ring residue.
p preferably represents an integer of 1 to 6, more preferably an integer of 1 to 5.
q preferably represents an integer of 0 to 6, more preferably an integer of 0 to 5.
Examples of the monovalent cation in L include lithium ions, sodium ions, potassium ions, quaternary ammonium ions such as (C 2 H 5 ) 3 HN + , and preferably sodium ions.

また、アゾ染料母体を有する染料として、例えば、式（１０）で表される染料や、式（１１）〜（１３）で表される染料が挙げられる。   Examples of the dye having an azo dye matrix include dyes represented by Formula (10) and dyes represented by Formulas (11) to (13).

Figure 2008164886
Figure 2008164886

［式（１０）中、Ｒ３０は、炭素数２〜２０のアルキル基、アルキル鎖の炭素数が２〜１２のシクロヘキシルアルキル基、アルキル鎖の炭素数が１〜４のアルキルシクロヘキシル基、炭素数２〜１２のアルコキシル基で置換された炭素数２〜１２のアルキル基、式（１０−１−１）で表されるアルキルカルボキシルアルキル基、式（１０−１−２）で表されるアルキルオキシカルボニルアルキル基、炭素数１〜２０のアルキル基で置換されたフェニル基、またはフェニル基で置換された炭素数１〜２０のアルキル基を表す。 [In the formula (10), R 30 is an alkyl group having 2 to 20 carbon atoms, a cyclohexylalkyl group having 2 to 12 carbon atoms in the alkyl chain, an alkylcyclohexyl group having 1 to 4 carbon atoms in the alkyl chain, and a carbon number. C2-C12 alkyl group substituted with 2-12 alkoxyl group, Alkylcarboxylalkyl group represented by Formula (10-1-1), Alkyloxy represented by Formula (10-1-2) A carbonylalkyl group, a phenyl group substituted with an alkyl group having 1 to 20 carbon atoms, or an alkyl group having 1 to 20 carbon atoms substituted with a phenyl group is represented.

Ｌ１−ＣＯ−Ｏ−Ｌ２− （１０−１−１）
Ｌ３−Ｏ−ＣＯ−Ｌ４− （１０−１−２） L 1 —CO—O—L 2 — (10-1-1)
L 3 -O-CO-L 4 - (10-1-2)

（式（１０−１−１）中、Ｌ１は、炭素数２〜１２のアルキル基を表す。
Ｌ２は、炭素数２〜１２のアルキレン基を示す。
式（１０−１−２）中、Ｌ３は、炭素数２〜１２のアルキル基を表す。
Ｌ４は、炭素数２〜１２のアルキレン基を表す。）］ (In formula (10-1-1), L 1 represents an alkyl group having 2 to 12 carbon atoms.
L 2 represents an alkylene group having 2 to 12 carbon atoms.
In formula (10-1-2), L 3 represents an alkyl group having 2 to 12 carbon atoms.
L 4 represents an alkylene group having 2 to 12 carbon atoms. ]]

炭素数２〜２０のアルキル基としては、エチル基、ｎ−プロピル基、イソプロピル基、ｎ−ヘキシル基、ｎ−ノニル基、ｎ−デシル基、ｎ−ドデシル基、２−エチルヘキシル基、１，３−ジメチルブチル基、１−メチルブチル基、１，５−ジメチルヘキシル基、１，１，３，３−テトラメチルブチル基などが挙げられる。
アルキル鎖の炭素数が２〜１２のシクロヘキシルアルキル基としては、シクロヘキシルエチル基、３−シクロヘキシルプロピル基、８−シクロヘキシルオクチル基などが挙げられる。
アルキル鎖の炭素数が１〜４のアルキルシクロヘキシル基としては、２−エチルシクロヘキシル基、２−プロピルシクロヘキシル基、２−（ｎ−ブチル）シクロヘキシル基などが挙げられる。
炭素数２〜１２のアルコキシル基で置換された炭素数２〜１２のアルキル基としては、３−エトキシ−ｎ−プロピル基、プロポキシプロピル基、４−プロポキシ−ｎ−ブチル基、３−メチル−ｎ−ヘキシルオキシエチル基、３−（２−エチルヘキシルオキシ）プロピル基などが挙げられる。
炭素数１〜２０のアルキル基で置換されたフェニル基としては、ｏ−イソプロピルフェニル基などが挙げられる。
フェニル基で置換された炭素数１〜２０のアルキル基としては、ＤＬ−１−フェニルエチル基、ベンジル基、３−フェニル−ｎ−ブチル基などが挙げられる。
Ｌ１およびＬ３における炭素数２〜１２のアルキル基としては、エチル基、プロピル基、ｎ−ヘキシル基、ｎ−ノニル基、ｎ−デシル基、ｎ−ドデシル基、２−エチルヘキシル基、１，３−ジメチルブチル基、１−メチルブチル基、１，５−ジメチルヘキシル基、１，１，３，３−テトラメチルブチル基などが挙げられる。
Ｌ２およびＬ４における炭素数２〜１２のアルキレン基としては、ジメチレン基、ヘキサメチレン基などが挙げられる。 Examples of the alkyl group having 2 to 20 carbon atoms include ethyl group, n-propyl group, isopropyl group, n-hexyl group, n-nonyl group, n-decyl group, n-dodecyl group, 2-ethylhexyl group, 1,3 -A dimethylbutyl group, 1-methylbutyl group, 1,5-dimethylhexyl group, 1,1,3,3-tetramethylbutyl group, etc. are mentioned.
Examples of the cyclohexylalkyl group having 2 to 12 carbon atoms in the alkyl chain include a cyclohexylethyl group, a 3-cyclohexylpropyl group, and an 8-cyclohexyloctyl group.
Examples of the alkylcyclohexyl group having 1 to 4 carbon atoms in the alkyl chain include 2-ethylcyclohexyl group, 2-propylcyclohexyl group, 2- (n-butyl) cyclohexyl group and the like.
Examples of the alkyl group having 2 to 12 carbon atoms substituted by an alkoxyl group having 2 to 12 carbon atoms include 3-ethoxy-n-propyl group, propoxypropyl group, 4-propoxy-n-butyl group, and 3-methyl-n. -Hexyloxyethyl group, 3- (2-ethylhexyloxy) propyl group, etc. are mentioned.
Examples of the phenyl group substituted with an alkyl group having 1 to 20 carbon atoms include an o-isopropylphenyl group.
Examples of the alkyl group having 1 to 20 carbon atoms substituted with a phenyl group include a DL-1-phenylethyl group, a benzyl group, and a 3-phenyl-n-butyl group.
Examples of the alkyl group having 2 to 12 carbon atoms in L1 and L3 include an ethyl group, a propyl group, an n-hexyl group, an n-nonyl group, an n-decyl group, an n-dodecyl group, a 2-ethylhexyl group, 1,3- Examples include dimethylbutyl group, 1-methylbutyl group, 1,5-dimethylhexyl group, 1,1,3,3-tetramethylbutyl group.
Examples of the alkylene group having 2 to 12 carbon atoms in L2 and L4 include a dimethylene group and a hexamethylene group.

Ｒ３１〜Ｒ３４としては、水素原子、メチル基、エチル基、ｎ−プロピル基、ｎ−ブチル基、イソプロピル基、ｓｅｃ−ブチル基、ｔｅｒｔ−ブチル基、フッ素原子、塩素原子、臭素原子、ヨウ素原子などが挙げられ、好ましくは水素原子、メチル基、エチル基、ｎ−プロピル基、ｎ−ブチル基、イソプロピル基、ｓｅｃ−ブチル基、ｔｅｒｔ−ブチル基、フッ素原子、塩素原子が挙げられる。 R 31 to R 34 include a hydrogen atom, a methyl group, an ethyl group, an n-propyl group, an n-butyl group, an isopropyl group, a sec-butyl group, a tert-butyl group, a fluorine atom, a chlorine atom, a bromine atom, and iodine. An atom etc. are mentioned, Preferably a hydrogen atom, a methyl group, an ethyl group, n-propyl group, n-butyl group, isopropyl group, sec-butyl group, tert-butyl group, a fluorine atom, and a chlorine atom are mentioned.

また、式（１０）で表される染料のうち、好ましい染料として、具体的には式（１４）で表される化合物が挙げられる。
また、キサンテン染料母体と有する染料としては、例えば、式（１５）で表される化合物が挙げられる。また、フタロシアニン染料母体を有するとしては、例えば、式（１６）で表される化合物などが挙げられる。 Moreover, as a preferable dye among the dyes represented by the formula (10), a compound represented by the formula (14) is specifically mentioned.
Moreover, as a dye which has a xanthene dye base material, the compound represented by Formula (15) is mentioned, for example. Moreover, as having a phthalocyanine dye base material, for example, a compound represented by the formula (16) and the like can be mentioned.

Figure 2008164886
Figure 2008164886

これら併用しうる染料は、着色組成物に用いられる溶剤への溶解度や、該着色組成物を含む着色感光性樹脂組成物を用いてカラーフィルタのパターンを形成としたときの光褪色耐性や分光スペクトルに合わせて適宜選択される。   These dyes that can be used in combination include the solubility in a solvent used for the colored composition, the light fading resistance and the spectral spectrum when forming a color filter pattern using a colored photosensitive resin composition containing the colored composition. It is suitably selected according to

本発明の着色感光性樹脂組成物は、（Ｂ）バインダー樹脂を含む。前記の（Ｂ）バインダー樹脂は、好ましくは（メタ）アクリル酸から導かれる構成単位を含有する。ここで、（メタ）アクリル酸は、アクリル酸および／またはメタクリル酸を表す。前記の（メタ）アクリル酸から導かれる構成単位の含有量は、（Ｂ）バインダー樹脂を構成する全構成単位中、モル分率で、好ましくは１０〜４０モル％、より好ましくは１３〜３５モル％である。メタ（アクリル）酸から導かれる構成単位の含有量が前記の範囲にあると、現像時に、溶解性が良好であり、かつ、現像後に残渣が残りにくい傾向があり、好ましい。   The colored photosensitive resin composition of the present invention contains (B) a binder resin. The (B) binder resin preferably contains a structural unit derived from (meth) acrylic acid. Here, (meth) acrylic acid represents acrylic acid and / or methacrylic acid. The content of the structural unit derived from the (meth) acrylic acid is preferably 10 to 40 mol%, more preferably 13 to 35 mol in terms of mole fraction in all the structural units constituting the (B) binder resin. %. When the content of the structural unit derived from meth (acrylic) acid is in the above range, it is preferable because the solubility is good at the time of development and the residue hardly remains after development.

（メタ）アクリル酸から導かれる構成単位以外のバインダー樹脂の構成単位を導く他のモノマーとしては、例えば、芳香族ビニル化合物、不飽和カルボン酸エステル類、不飽和カルボン酸アミノアルキルエステル類、不飽和カルボン酸グリシジルエステル類、カルボン酸ビニルエステル類、不飽和エーテル類、シアン化ビニル化合物、不飽和アミド類、不飽和イミド類、脂肪族共役ジエン類、重合体分子鎖の末端にモノアクリロイル基またはモノメタクリロイル基を有するマクロモノマー類が挙げられる。また、例えば、前記の構成単位として、式（Ｖ）で表される単位および式（ＶＩ）で表される単位などを挙げることができる。   Examples of the other monomer that leads to the constituent unit of the binder resin other than the constituent unit derived from (meth) acrylic acid include, for example, aromatic vinyl compounds, unsaturated carboxylic acid esters, unsaturated carboxylic acid aminoalkyl esters, and unsaturated compounds. Carboxylic acid glycidyl esters, carboxylic acid vinyl esters, unsaturated ethers, vinyl cyanide compounds, unsaturated amides, unsaturated imides, aliphatic conjugated dienes, monoacryloyl group or mono at the end of the polymer molecular chain And macromonomers having a methacryloyl group. Examples of the structural unit include a unit represented by the formula (V) and a unit represented by the formula (VI).

Figure 2008164886
Figure 2008164886

［式（Ｖ）および式（ＶＩ）中、Ｒ10およびＲ11は、それぞれ独立に、水素原子または炭素数１〜６のアルキル基を表す。］ [In Formula (V) and Formula (VI), R 10 and R 11 each independently represents a hydrogen atom or an alkyl group having 1 to 6 carbon atoms. ]

Ｒ10およびＲ11として、水素原子、メチル基、エチル基、ｎ−プロピル基、イソプロピル基、ｎ−ブチル基、ｓｅｃ−ブチル基、ｔｅｒｔ−ブチル基、ｎ−ペンチル基、１−メチルブチル基、２−メチルブチル基、３−メチルブチル基、１−エチルプロピル基、２−エチルプロピル基、ｎ−ヘキシル基、１−メチルペンチル基、２−メチルペンチル基、３−メチルペンチル基、４−メチルペンチル基、１−エチルブチル基、２−エチルブチル基、３−エチルブチル基などが挙げられ、好ましくは水素原子、メチル基、エチル基、ｎ−プロピル基、イソプロピル基、ｎ−ブチル基、ｓｅｃ−ブチル基、ｔｅｒｔ−ブチル基が挙げられ、より好ましくは水素原子、メチル基、エチル基が挙げられる。 R 10 and R 11 include a hydrogen atom, a methyl group, an ethyl group, an n-propyl group, an isopropyl group, an n-butyl group, a sec-butyl group, a tert-butyl group, an n-pentyl group, a 1-methylbutyl group, 2 -Methylbutyl group, 3-methylbutyl group, 1-ethylpropyl group, 2-ethylpropyl group, n-hexyl group, 1-methylpentyl group, 2-methylpentyl group, 3-methylpentyl group, 4-methylpentyl group, 1-ethylbutyl group, 2-ethylbutyl group, 3-ethylbutyl group and the like can be mentioned, preferably hydrogen atom, methyl group, ethyl group, n-propyl group, isopropyl group, n-butyl group, sec-butyl group, tert- A butyl group is mentioned, More preferably, a hydrogen atom, a methyl group, and an ethyl group are mentioned.

前記のバインダー樹脂としては、具体的には、メタクリル酸／ベンジルメタクリレート共重合体、メタクリル酸／ベンジルメタクリレート／スチレン共重合体、メタクリル酸／ベンジルメタクリレート／イソボルニルメタクリレート共重合体、メタクリル酸／スチレン／ベンジルメタクリレート／Ｎ−フェニルマレイミド共重合体、メタクリル酸／式（Ｖ）で表される構成成分（ただし、ここでは、式（Ｖ）中、Ｒ10はメチル基を表し、Ｒ11は水素原子を表す。）／ベンジルメタクリレート共重合体、式（Ｖ）で表される構成成分（ただし、ここでは、式（Ｖ）中、Ｒ10はメチル基を表し、Ｒ11は水素原子を表す。）／ベンジルメタクリレート共重合体、メタクリル酸／式（ＶＩ）で表される構成成分（ただし、ここでは、式（ＶＩ）中、Ｒ10はメチル基を表し、Ｒ11は水素原子を表す。）／スチレン共重合体／トリシクロデカニルメタクリレート共重合体などが好ましい。 Specific examples of the binder resin include methacrylic acid / benzyl methacrylate copolymer, methacrylic acid / benzyl methacrylate / styrene copolymer, methacrylic acid / benzyl methacrylate / isobornyl methacrylate copolymer, and methacrylic acid / styrene. / Benzyl methacrylate / N-phenylmaleimide copolymer, methacrylic acid / constituent component represented by formula (V) (wherein, in formula (V), R 10 represents a methyl group and R 11 represents a hydrogen atom) / Benzyl methacrylate copolymer, a constituent represented by the formula (V) (in the formula (V), R 10 represents a methyl group and R 11 represents a hydrogen atom). / Benzyl methacrylate copolymer, methacrylic acid / constituent component represented by formula (VI) (in this case, in formula (VI), R 10 represents a methyl group, and R 11 represents a hydrogen atom.) / Styrene copolymer / Tricyclodecanyl methacrylate copolymer and the like are preferable.

本発明で用いられる（Ｂ）バインダー樹脂の酸価は、好ましくは３０〜１５０であり、より好ましくは３５〜１３５、とりわけ好ましくは４０〜１２０である。酸価が、前記の範囲にあると、現像液に対する溶解性が向上して未露光部が溶解しやすくなり、また高感度化して現像時に露光部のパターンが残って残膜率が向上する傾向があり、好ましい。ここで酸価はアクリル系重合体１ｇを中和するに必要な水酸化カリウムの量（ｍｇ）として測定される値であり、通常、水酸化カリウム水溶液を用いて滴定することにより求めることができる。   The acid value of (B) binder resin used by this invention becomes like this. Preferably it is 30-150, More preferably, it is 35-135, Especially preferably, it is 40-120. When the acid value is in the above range, the solubility in the developer is improved and the unexposed area is easily dissolved, and the sensitivity is increased so that the pattern of the exposed area remains during development and the remaining film ratio tends to be improved. Is preferable. Here, the acid value is a value measured as the amount (mg) of potassium hydroxide necessary to neutralize 1 g of the acrylic polymer, and can usually be obtained by titration with an aqueous potassium hydroxide solution. .

（Ｂ）バインダー樹脂の含有量は、着色感光性樹脂組成物の固形分に対して質量分率で、好ましくは１０〜４０質量％であり、より好ましくは１２〜３５質量％であり、とりわけ好ましくは１４〜３２質量％である。（Ｂ）バインダー樹脂の含有量が、前記の範囲にあると、パターンが形成でき、また解像度および残膜率が向上する傾向にあり好ましい。   (B) Content of binder resin is a mass fraction with respect to solid content of a coloring photosensitive resin composition, Preferably it is 10-40 mass%, More preferably, it is 12-35 mass%, Especially preferably. Is 14 to 32% by mass. (B) It is preferable that the content of the binder resin be in the above range because a pattern can be formed and the resolution and the remaining film ratio tend to be improved.

式（Ｖ）で表される構成成分を有するバインダー樹脂、例えばメタクリル酸／式（Ｖ）で表される構成成分（ただし、ここでは、式（Ｖ）中、Ｒ10はメチル基を表し、Ｒ11は水素原子を表す。）／ベンジルメタクリレート共重合体は、メタクリル酸とベンジルメタクリレートとを重合させて２成分重合体を得て、得られた２成分重合体と式（Ｖ−１）で表される化合物（ただし、ここでは、式（Ｖ−１）中、Ｒ11は水素原子を表す。）とを反応させて得ることができる。 Binder resin having a component represented by the formula (V), for example, methacrylic acid / a component represented by the formula (V) (wherein, in the formula (V), R 10 represents a methyl group, R 11 represents a hydrogen atom.) / A benzyl methacrylate copolymer is obtained by polymerizing methacrylic acid and benzyl methacrylate to obtain a two-component polymer, and the obtained two-component polymer and the formula (V-1). (Wherein, R 11 represents a hydrogen atom in formula (V-1)).

Figure 2008164886
Figure 2008164886

メタクリル酸／式（ＶＩ）で表される構成成分（ただし、ここでは、式（ＶＩ）中、Ｒ10はメチル基を表し、Ｒ11は水素原子を表す。）／ベンジルメタクリレート／トリシクロデカニルメタクリレート共重合体は、ベンジルメタクリレート、メタクリル酸、トリシクロデカン骨格のモノメタクリレート共重合体に、グリシジルメタクリレートを反応させて得ることができる。 Methacrylic acid / constituent component represented by formula (VI) (wherein, in formula (VI), R 10 represents a methyl group and R 11 represents a hydrogen atom) / benzyl methacrylate / tricyclodecanyl The methacrylate copolymer can be obtained by reacting benzyl methacrylate, methacrylic acid, or a monomethacrylate copolymer having a tricyclodecane skeleton with glycidyl methacrylate.

（Ｂ）バインダー樹脂のポリスチレン換算重量平均分子量は、好ましくは５，０００〜１００，０００であり、より好ましくは６，０００〜８０，０００であり、とりわけ好ましくは７，０００〜６０，０００である。分子量が前記の範囲にあると、塗膜硬度が向上し、残膜率も高く、未露光部の現像液に対する溶解性が良好で、解像度が向上する傾向にあり、好ましい。   (B) The polystyrene-reduced weight average molecular weight of the binder resin is preferably 5,000 to 100,000, more preferably 6,000 to 80,000, and particularly preferably 7,000 to 60,000. . When the molecular weight is within the above range, the coating film hardness is improved, the residual film ratio is high, the solubility of the unexposed area in the developer is good, and the resolution tends to be improved, which is preferable.

本発明の着色感光性樹脂組成物は、（Ｄ）光重合開始剤を含む。前記の（Ｄ）光重合開始剤としては、トリアジン系化合物、アセトフェノン系化合物、ビイミダゾール系化合物、活性ラジカル発生剤、酸発生剤などが挙げられる。   The colored photosensitive resin composition of the present invention contains (D) a photopolymerization initiator. Examples of the (D) photopolymerization initiator include triazine compounds, acetophenone compounds, biimidazole compounds, active radical generators, and acid generators.

前記のトリアジン系化合物としては、例えば、２，４−ビス（トリクロロメチル）−６−（４−メトキシフェニル）−１，３，５−トリアジン、２，４−ビス（トリクロロメチル）−６−（４−メトキシナフチル）−１，３，５−トリアジン、２，４−ビス（トリクロロメチル）−６−（４−メトキシスチリル）−１，３，５−トリアジン、２，４−ビス（トリクロロメチル）−６−〔２−（５−メチルフラン−２−イル）エテニル〕−１，３，５−トリアジン、２，４−ビス（トリクロロメチル）−６−〔２−（フラン−２−イル）エテニル〕−１，３，５−トリアジン、２，４−ビス（トリクロロメチル）−６−〔２−（４−ジエチルアミノ−２−メチルフェニル）エテニル〕−１，３，５−トリアジン、２，４−ビス（トリクロロメチル）−６−〔２−（３，４−ジメトキシフェニル）エテニル〕−１，３，５−トリアジン、２,４−ビス（トリクロロメチル）−６−ピペロニル−１,３,５−トリアジンなどが挙げられ、好ましくは２，４−ビス（トリクロロメチル）−６−（４−メトキシフェニル）−１，３，５−トリアジン、２，４−ビス（トリクロロメチル）−６−（４−メトキシナフチル）−１，３，５−トリアジン、２，４−ビス（トリクロロメチル）−６−（４−メトキシスチリル）−１，３，５−トリアジン、２,４−ビス（トリクロロメチル）−６−ピペロニル−１,３,５−トリアジン挙げられ、より好ましくは２,４−ビス（トリクロロメチル）−６−ピペロニル−１,３,５−トリアジン挙げられる。   Examples of the triazine compound include 2,4-bis (trichloromethyl) -6- (4-methoxyphenyl) -1,3,5-triazine, 2,4-bis (trichloromethyl) -6- ( 4-methoxynaphthyl) -1,3,5-triazine, 2,4-bis (trichloromethyl) -6- (4-methoxystyryl) -1,3,5-triazine, 2,4-bis (trichloromethyl) -6- [2- (5-methylfuran-2-yl) ethenyl] -1,3,5-triazine, 2,4-bis (trichloromethyl) -6- [2- (furan-2-yl) ethenyl ] -1,3,5-triazine, 2,4-bis (trichloromethyl) -6- [2- (4-diethylamino-2-methylphenyl) ethenyl] -1,3,5-triazine, 2,4- Bis (trichloromethyl) ) -6- [2- (3,4-dimethoxyphenyl) ethenyl] -1,3,5-triazine, 2,4-bis (trichloromethyl) -6-piperonyl-1,3,5-triazine and the like. 2,4-bis (trichloromethyl) -6- (4-methoxyphenyl) -1,3,5-triazine, 2,4-bis (trichloromethyl) -6- (4-methoxynaphthyl)- 1,3,5-triazine, 2,4-bis (trichloromethyl) -6- (4-methoxystyryl) -1,3,5-triazine, 2,4-bis (trichloromethyl) -6-piperonyl-1 3,3-triazine, more preferably 2,4-bis (trichloromethyl) -6-piperonyl-1,3,5-triazine.

前記のアセトフェノン系化合物としては、例えば、ジエトキシアセトフェノン、２−メチル−２−モルホリノ−１−（４−メチルチオフェニル）プロパン−１−オン、２−ヒドロキシ−２−メチル−１−フェニルプロパン−１−オン、ベンジルジメチルケタール、２−ヒドロキシ−２−メチル−１−〔４−（２−ヒドロキシエトキシ）フェニル〕プロパン−１−オン、１−ヒドロキシシクロヘキシルフェニルケトン、２−ベンジル−２−ジメチルアミノ−１−（４−モルホリノフェニル）ブタン−１−オン、２−（４−メチルベンジル）−２−ジメチルアミノ−１−（４−モルホリノフェニル）ブタン−１−オン、２−ヒドロキシ−２−メチル−１−〔４−（１−メチルビニル）フェニル〕プロパン−１−オンのオリゴマーなどが挙げられ、好ましくは２−メチル−２−モルホリノ−１−（４−メチルチオフェニル）プロパン−１−オンなどが挙げられ、好ましくは２−メチル−２−モルホリノ−１−（４−メチルチオフェニル）プロパン−１−オン、２−ベンジル−２−ジメチルアミノ−１−（４−モルホリノフェニル）ブタン−１−オン、２−（４−メチルベンジル）−２−ジメチルアミノ−１−（４−モルホリノフェニル）ブタン−１−オン挙げられ、より好ましくは２−ベンジル−２−ジメチルアミノ−１−（４−モルホリノフェニル）ブタン−１−オン、２−（４−メチルベンジル）−２−ジメチルアミノ−１−（４−モルホリノフェニル）ブタン−１−オン挙げられる。   Examples of the acetophenone compound include diethoxyacetophenone, 2-methyl-2-morpholino-1- (4-methylthiophenyl) propan-1-one, and 2-hydroxy-2-methyl-1-phenylpropane-1. -One, benzyldimethyl ketal, 2-hydroxy-2-methyl-1- [4- (2-hydroxyethoxy) phenyl] propan-1-one, 1-hydroxycyclohexyl phenyl ketone, 2-benzyl-2-dimethylamino- 1- (4-morpholinophenyl) butan-1-one, 2- (4-methylbenzyl) -2-dimethylamino-1- (4-morpholinophenyl) butan-1-one, 2-hydroxy-2-methyl- And oligomers of 1- [4- (1-methylvinyl) phenyl] propan-1-one, etc. Preferred examples include 2-methyl-2-morpholino-1- (4-methylthiophenyl) propan-1-one, and preferably 2-methyl-2-morpholino-1- (4-methylthiophenyl) propane-1 -One, 2-benzyl-2-dimethylamino-1- (4-morpholinophenyl) butan-1-one, 2- (4-methylbenzyl) -2-dimethylamino-1- (4-morpholinophenyl) butane- 1-one, more preferably 2-benzyl-2-dimethylamino-1- (4-morpholinophenyl) butan-1-one, 2- (4-methylbenzyl) -2-dimethylamino-1- (4 -Morpholinophenyl) butan-1-one.

前記のビイミダゾール系化合物としては、２，２’−ビス（２−クロロフェニル）−４，４’，５，５’−テトラフェニルビイミダゾール、２，２’−ビス（２、３−ジクロロフェニル）−４，４’，５，５’−テトラフェニルビイミダゾール（例えば、特開平６−７５３７２号公報、特開平６−７５３７３号公報など参照。）、２，２’−ビス（２−クロロフェニル）−４，４’，５，５’−テトラフェニルビイミダゾール、２，２’−ビス（２−クロロフェニル）−４，４’，５，５’−テトラ（アルコキシフェニル）ビイミダゾール、２，２’−ビス（２−クロロフェニル）−４，４’，５，５’−テトラ（ジアルコキシフェニル）ビイミダゾール、２，２’−ビス（２−クロロフェニル）−４，４’，５，５’−テトラ（トリアルコキシフェニル）ビイミダゾール（例えば、特公昭４８−３８４０３号公報、特開昭６２−１７４２０４号公報など参照。）、４，４’５，５’−位のフェニル基がカルボアルコキシ基により置換されているイミダゾール化合物（例えば、特開平７−１０９１３号公報など参照。）などが挙げられ、好ましくは２，２’−ビス（２−クロロフェニル）−４，４’，５，５’−テトラフェニルビイミダゾール、２，２’−ビス（２、３−ジクロロフェニル）−４，４’，５，５’−テトラフェニルビイミダゾールが挙げられる。   Examples of the biimidazole compound include 2,2′-bis (2-chlorophenyl) -4,4 ′, 5,5′-tetraphenylbiimidazole, 2,2′-bis (2,3-dichlorophenyl)- 4,4 ′, 5,5′-tetraphenylbiimidazole (for example, see JP-A-6-75372 and JP-A-6-75373), 2,2′-bis (2-chlorophenyl) -4 , 4 ′, 5,5′-tetraphenylbiimidazole, 2,2′-bis (2-chlorophenyl) -4,4 ′, 5,5′-tetra (alkoxyphenyl) biimidazole, 2,2′-bis (2-Chlorophenyl) -4,4 ′, 5,5′-tetra (dialkoxyphenyl) biimidazole, 2,2′-bis (2-chlorophenyl) -4,4 ′, 5,5′-tetra (trialco Cyphenyl) biimidazole (for example, see Japanese Patent Publication No. 48-38403, Japanese Patent Laid-Open No. 62-174204, etc.), the phenyl group at the 4,4′5,5′-position is substituted with a carboalkoxy group. Imidazole compounds (see, for example, JP-A-7-10913) and the like, preferably 2,2′-bis (2-chlorophenyl) -4,4 ′, 5,5′-tetraphenylbiimidazole, 2,2′-bis (2,3-dichlorophenyl) -4,4 ′, 5,5′-tetraphenylbiimidazole may be mentioned.

活性ラジカル発生剤は光を照射されることによって活性ラジカルを発生する。前記の活性ラジカル発生剤としては、例えば、ベンゾイン系化合物、ベンゾフェノン系化合物、チオキサントン系化合物、オキシム系化合物などが挙げられる。   An active radical generator generates an active radical when irradiated with light. Examples of the active radical generator include benzoin compounds, benzophenone compounds, thioxanthone compounds, and oxime compounds.

前記のベンゾイン系化合物としては、例えば、ベンゾイン、ベンゾインメチルエーテル、ベンゾインエチルエーテル、ベンゾインイソプロピルエーテル、ベンゾインイソブチルエーテルなどが挙げられる。   Examples of the benzoin-based compound include benzoin, benzoin methyl ether, benzoin ethyl ether, benzoin isopropyl ether, and benzoin isobutyl ether.

前記のベンゾフェノン系化合物としては、例えば、ベンゾフェノン、ｏ−ベンゾイル安息香酸メチル、４−フェニルベンゾフェノン、４−ベンゾイル−４’−メチルジフェニルサルファイド、３，３’，４，４’−テトラ（ｔｅｒｔ−ブチルパーオキシカルボニル）ベンゾフェノン、２，４，６−トリメチルベンゾフェノンなどが挙げられる。   Examples of the benzophenone compounds include benzophenone, methyl o-benzoylbenzoate, 4-phenylbenzophenone, 4-benzoyl-4′-methyldiphenyl sulfide, 3,3 ′, 4,4′-tetra (tert-butyl). Peroxycarbonyl) benzophenone, 2,4,6-trimethylbenzophenone, and the like.

前記のチオキサントン系化合物としては、例えば、２−イソプロピルチオキサントン、４−イソプロピルチオキサントン、２，４−ジエチルチオキサントン、２，４−ジクロロチオキサントン、１−クロロ−４−プロポキシチオキサントンなどが挙げられる。   Examples of the thioxanthone compound include 2-isopropylthioxanthone, 4-isopropylthioxanthone, 2,4-diethylthioxanthone, 2,4-dichlorothioxanthone, 1-chloro-4-propoxythioxanthone, and the like.

前記のオキシム系化合物としては、例えば、Ｏ−アシルオキシム系化合物が挙げられ、その具体例としては、１−（４−フェニルスルファニル−フェニル）−ブタン−１，２−ジオン２−オキシム−Ｏ−ベンゾアート、１−（４−フェニルスルファニル−フェニル）−オクタン−１，２−ジオン２−オキシム−Ｏ−ベンゾアート、１−（４−フェニルスルファニル−フェニル）−オクタン−１−オンオキシム−Ｏ−アセタート、１−（４−フェニルスルファニル−フェニル）−ブタン−１−オンオキシム−Ｏ−アセタート等が挙げられる。   Examples of the oxime compounds include O-acyloxime compounds, and specific examples thereof include 1- (4-phenylsulfanyl-phenyl) -butane-1,2-dione 2-oxime-O—. Benzoate, 1- (4-phenylsulfanyl-phenyl) -octane-1,2-dione 2-oxime-O-benzoate, 1- (4-phenylsulfanyl-phenyl) -octane-1-one oxime-O-acetate 1- (4-phenylsulfanyl-phenyl) -butan-1-one oxime-O-acetate and the like.

前記の例示以外の活性ラジカル発生剤として、例えば、２，４，６−トリメチルベンゾイルジフェニルホスフィンオキサイド、１０−ブチル−２−クロロアクリドン、２−エチルアントラキノン、ベンジル、９，１０−フェナンスレンキノン、カンファーキノン、フェニルグリオキシル酸メチル、チタノセン化合物などを用いることもできる。   Examples of active radical generators other than those exemplified above include 2,4,6-trimethylbenzoyldiphenylphosphine oxide, 10-butyl-2-chloroacridone, 2-ethylanthraquinone, benzyl, and 9,10-phenanthrenequinone. Camphorquinone, methyl phenylglyoxylate, titanocene compounds, and the like can also be used.

前記の酸発生剤としては、例えば、４−ヒドロキシフェニルジメチルスルホニウムｐ−トルエンスルホナート、４−ヒドロキシフェニルジメチルスルホニウムヘキサフルオロアンチモネート、４−アセトキシフェニルジメチルスルホニウム−ｐ−トルエンスルホナート、４−アセトキシフェニルメチルベンジルスルホニウムヘキサフルオロアンチモネート、トリフェニルスルホニウムｐ−トルエンスルホナート、トリフェニルスルホニウムヘキサフルオロアンチモネート、ジフェニルヨードニウム−ｐ−トルエンスルホナート、ジフェニルヨードニウムヘキサフルオロアンチモネートなどのオニウム塩類や、ニトロベンジルトシレート類、ベンゾイントシレート類などを挙げることができる。   Examples of the acid generator include 4-hydroxyphenyldimethylsulfonium p-toluenesulfonate, 4-hydroxyphenyldimethylsulfonium hexafluoroantimonate, 4-acetoxyphenyldimethylsulfonium-p-toluenesulfonate, 4-acetoxyphenyl. Onium salts such as methylbenzylsulfonium hexafluoroantimonate, triphenylsulfonium p-toluenesulfonate, triphenylsulfonium hexafluoroantimonate, diphenyliodonium-p-toluenesulfonate, diphenyliodonium hexafluoroantimonate, and nitrobenzyl tosylate And benzoin tosylate.

また、前記の活性ラジカル発生剤として上記した化合物の中には、活性ラジカルと同時に酸を発生する化合物もあり、例えば、トリアジン系光重合開始剤は、酸発生剤としても使用される。   Among the compounds described above as the active radical generator, there are compounds that generate an acid simultaneously with the active radical. For example, a triazine photopolymerization initiator is also used as an acid generator.

（Ｄ）光重合開始剤の含有量は、（Ｂ）バインダー樹脂および（Ｃ）光重合性化合物の合計量に対して質量分率で、好ましくは０．１〜２０質量％であり、より好ましくは１〜１５質量％である。光重合開始剤の含有量が、前記の範囲にあると、高感度化して露光時間が短縮され生産性が向上し、一方感度が高すぎることによってラインアンドスペースのパターンが解像する最小線幅において線幅が太くなりすぎない傾向があることから好ましい。   (D) Content of photoinitiator is a mass fraction with respect to the total amount of (B) binder resin and (C) photopolymerizable compound, Preferably it is 0.1-20 mass%, More preferably Is 1 to 15% by mass. When the content of the photopolymerization initiator is within the above range, the sensitivity is increased, the exposure time is shortened, and the productivity is improved. On the other hand, the line width of the line and space pattern is resolved due to the sensitivity being too high. Is preferable because the line width tends not to be too large.

本発明の着色感光性樹脂組成物には、さらに（Ｇ）光重合開始助剤が含まれていてもよい。（Ｇ）光重合開始助剤は、通常、（Ｄ）光重合開始剤と組合せて用いられ、光重合開始剤によって重合が開始された光重合性化合物の重合を促進するために用いられる化合物である。
（Ｇ）光重合開始助剤としては、アミン系化合物、アルコキシアントラセン系化合物、チオキサントン系化合物などが挙げられる。
前記のアミン系化合物としては、例えば、トリエタノールアミン、メチルジエタノールアミン、トリイソプロパノールアミン、４−ジメチルアミノ安息香酸メチル、４−ジメチルアミノ安息香酸エチル、４−ジメチルアミノ安息香酸イソアミル、安息香酸２−ジメチルアミノエチル、４−ジメチルアミノ安息香酸２−エチルヘキシル、Ｎ，Ｎ−ジメチルパラトルイジン、４，４’−ビス（ジメチルアミノ）ベンゾフェノン、４，４’−ビス（ジエチルアミノ）ベンゾフェノン、４，４’−ビス（エチルメチルアミノ）ベンゾフェノンなどが挙げられ、中でも４，４’−ビス（ジエチルアミノ）ベンゾフェノンが好ましい。 The colored photosensitive resin composition of the present invention may further contain (G) a photopolymerization initiation assistant. The (G) photopolymerization initiation assistant is a compound that is usually used in combination with the (D) photopolymerization initiator and is used to accelerate the polymerization of the photopolymerizable compound that has been polymerized by the photopolymerization initiator. is there.
Examples of the (G) photopolymerization initiation assistant include amine compounds, alkoxyanthracene compounds, thioxanthone compounds, and the like.
Examples of the amine compound include triethanolamine, methyldiethanolamine, triisopropanolamine, methyl 4-dimethylaminobenzoate, ethyl 4-dimethylaminobenzoate, isoamyl 4-dimethylaminobenzoate, and 2-dimethylbenzoate. Aminoethyl, 2-ethylhexyl 4-dimethylaminobenzoate, N, N-dimethylparatoluidine, 4,4′-bis (dimethylamino) benzophenone, 4,4′-bis (diethylamino) benzophenone, 4,4′-bis (Ethylmethylamino) benzophenone and the like can be mentioned, among which 4,4′-bis (diethylamino) benzophenone is preferable.

前記のアルコキシアントラセン系化合物としては、例えば、９，１０−ジメトキシアントラセン、２−エチル−９，１０−ジメトキシアントラセン、９，１０−ジエトキシアントラセン、２−エチル−９，１０−ジエトキシアントラセンなどが挙げられる。   Examples of the alkoxyanthracene compound include 9,10-dimethoxyanthracene, 2-ethyl-9,10-dimethoxyanthracene, 9,10-diethoxyanthracene, 2-ethyl-9,10-diethoxyanthracene, and the like. Can be mentioned.

前記のチオキサントン系化合物としては、例えば、２−イソプロピルチオキサントン、４−イソプロピルチオキサントン、２，４−ジエチルチオキサントン、２，４−ジクロロチオキサントン、１−クロロ−４−プロポキシチオキサントンなどが挙げられる。   Examples of the thioxanthone compound include 2-isopropylthioxanthone, 4-isopropylthioxanthone, 2,4-diethylthioxanthone, 2,4-dichlorothioxanthone, 1-chloro-4-propoxythioxanthone, and the like.

（Ｇ）光重合開始助剤は、単独でも２種以上を組合せて用いてもよい。また、（Ｇ）光重合開始助剤としては、市販のものを用いることもでき、市販の（Ｇ）光重合開始助剤としては、例えば、商品名でＥＡＢ−Ｆ（保土谷化学工業（株）製、４，４’−ビス（ジエチルアミノ）ベンゾフェノン）などの有機アミン化合物などが挙げられる。   (G) The photopolymerization initiation assistant may be used alone or in combination of two or more. In addition, as the (G) photopolymerization initiation aid, commercially available products can be used, and as the commercially available (G) photopolymerization initiation aid, for example, EAB-F (Hodogaya Chemical Co., Ltd. And 4,4′-bis (diethylamino) benzophenone) and other organic amine compounds.

本発明の着色感光性樹脂組成物における（Ｄ）光重合開始剤／（Ｇ）光重合開始助剤の組合せとしては、例えば、２,４−ビス（トリクロロメチル）−６−ピペロニル−１,３,５−トリアジン／４，４’−ビス（ジエチルアミノ）ベンゾフェノン、ジエトキシアセトフェノン／４，４’−ビス（ジエチルアミノ）ベンゾフェノン、２−メチル−２−モルホリノ−１−（４−メチルチオフェニル）プロパン−１−オン／４，４’−ビス（ジエチルアミノ）ベンゾフェノン、２−ヒドロキシ−２−メチル−１−フェニルプロパン−１−オン／４，４’−ビス（ジエチルアミノ）ベンゾフェノン、ベンジルジメチルケタール／４，４’−ビス（ジエチルアミノ）ベンゾフェノン、２−ヒドロキシ−２−メチル−１−〔４−（２−ヒドロキシエトキシ）フェニル〕プロパン−１−オン／４，４’−ビス（ジエチルアミノ）ベンゾフェノン、１−ヒドロキシシクロヘキシルフェニルケトン／４，４’−ビス（ジエチルアミノ）ベンゾフェノン、２−ヒドロキシ−２−メチル−１−〔４−（１−メチルビニル）フェニル〕プロパン−１−オンのオリゴマー／４，４’−ビス（ジエチルアミノ）ベンゾフェノン、２−ベンジル−２−ジメチルアミノ−１−（４−モルホリノフェニル）ブタン−１−オン／４，４’−ビス（ジエチルアミノ）ベンゾフェノン、２−ベンジル−２−ジメチルアミノ−１−（４−モルホリノフェニル）ブタン−１−オン／４，４’−ビス（ジエチルアミノ）ベンゾフェノン、２−（４−メチルベンジル）−２−ジメチルアミノ−１−（４−モルホリノフェニル）ブタン−１−オン／４，４’−ビス（ジエチルアミノ）ベンゾフェノンなどが挙げられ、好ましくは２−ベンジル−２−ジメチルアミノ−１−（４−モルホリノフェニル）ブタン−１−オン／４，４’−ビス（ジエチルアミノ）ベンゾフェノン、２,４−ビス（トリクロロメチル）−６−ピペロニル−１,３,５−トリアジン／４，４’−ビス（ジエチルアミノ）ベンゾフェノン、２−（４−メチルベンジル）−２−ジメチルアミノ−１−（４−モルホリノフェニル）ブタン−１−オン／４，４’−ビス（ジエチルアミノ）ベンゾフェノンが挙げられる。   Examples of the combination of (D) photopolymerization initiator / (G) photopolymerization initiation assistant in the colored photosensitive resin composition of the present invention include 2,4-bis (trichloromethyl) -6-piperonyl-1,3. , 5-triazine / 4,4′-bis (diethylamino) benzophenone, diethoxyacetophenone / 4,4′-bis (diethylamino) benzophenone, 2-methyl-2-morpholino-1- (4-methylthiophenyl) propane-1 -One / 4,4'-bis (diethylamino) benzophenone, 2-hydroxy-2-methyl-1-phenylpropan-1-one / 4,4'-bis (diethylamino) benzophenone, benzyldimethyl ketal / 4,4 ' -Bis (diethylamino) benzophenone, 2-hydroxy-2-methyl-1- [4- (2-hydroxyethoxy) Enyl] propan-1-one / 4,4′-bis (diethylamino) benzophenone, 1-hydroxycyclohexyl phenyl ketone / 4,4′-bis (diethylamino) benzophenone, 2-hydroxy-2-methyl-1- [4- (1-Methylvinyl) phenyl] propan-1-one oligomer / 4,4′-bis (diethylamino) benzophenone, 2-benzyl-2-dimethylamino-1- (4-morpholinophenyl) butan-1-one / 4,4′-bis (diethylamino) benzophenone, 2-benzyl-2-dimethylamino-1- (4-morpholinophenyl) butan-1-one / 4,4′-bis (diethylamino) benzophenone, 2- (4- Methylbenzyl) -2-dimethylamino-1- (4-morpholinophenyl) butane-1 On / 4 / 4'-bis (diethylamino) benzophenone and the like, preferably 2-benzyl-2-dimethylamino-1- (4-morpholinophenyl) butan-1-one / 4,4'-bis (diethylamino) ) Benzophenone, 2,4-bis (trichloromethyl) -6-piperonyl-1,3,5-triazine / 4,4′-bis (diethylamino) benzophenone, 2- (4-methylbenzyl) -2-dimethylamino- 1- (4-morpholinophenyl) butan-1-one / 4,4′-bis (diethylamino) benzophenone.

これらの（Ｇ）光重合開始助剤を用いる場合、その使用量は、（Ｄ）光重合開始剤１質量部あたり、好ましくは０．０１〜１０質量部、より好ましくは０．０１〜５質量部である。   When these (G) photopolymerization initiation assistants are used, the amount used is preferably 0.01 to 10 parts by mass, more preferably 0.01 to 5 parts by mass, per 1 part by mass of the (D) photopolymerization initiator. Part.

本発明の着色感光性樹脂組成物に含まれる（Ｅ）溶剤としては、例えば、エーテル類、芳香族炭化水素類、ケトン類、アルコール類、エステル類、アミド類などが挙げられる。   Examples of the solvent (E) contained in the colored photosensitive resin composition of the present invention include ethers, aromatic hydrocarbons, ketones, alcohols, esters, amides and the like.

前記のエーテル類としては、例えば、テトラヒドロフラン、テトラヒドロピラン、１，４−ジオキサン、エチレングリコールモノメチルエーテル、エチレングリコールモノエチルエーテル、エチレングリコールモノプロピルエーテル、エチレングリコールモノブチルエーテル、ジエチレングリコールモノメチルエーテル、ジエチレングリコールモノエチルエーテル、ジエチレングリコールモノブチルエーテル、ジエチレングリコールジメチルエーテル、ジエチレングリコールジエチルエーテル、ジエチレングリコールジプロピルエーテル、ジエチレングリコールジブチルエーテル、プロピレングリコールモノメチルエーテルアセテート、プロピレングリコールモノエチルエーテルアセテート、プロピレングリコールモノプロピルエーテルアセテート、メチルセロソルブアセテート、エチルセロソルブアセテート、エチルカルビトールアセテート、ブチルカルビトールアセテート、プロピレングリコールメチルエーテルアセテート、メトキシブチルアセテート、メトキシペンチルアセテート、アニソール、フェネトール、メチルアニソールなどが挙げられる。   Examples of the ethers include tetrahydrofuran, tetrahydropyran, 1,4-dioxane, ethylene glycol monomethyl ether, ethylene glycol monoethyl ether, ethylene glycol monopropyl ether, ethylene glycol monobutyl ether, diethylene glycol monomethyl ether, diethylene glycol monoethyl ether. , Diethylene glycol monobutyl ether, diethylene glycol dimethyl ether, diethylene glycol diethyl ether, diethylene glycol dipropyl ether, diethylene glycol dibutyl ether, propylene glycol monomethyl ether acetate, propylene glycol monoethyl ether acetate, propylene glycol monopropyl ether acetate Over DOO, methyl cellosolve acetate, ethyl cellosolve acetate, ethyl carbitol acetate, butyl carbitol acetate, propylene glycol methyl ether acetate, methoxybutyl acetate, methoxy pentyl acetate, anisole, phenetole, and the like methyl anisole.

前記の芳香族炭化水素類としては、例えば、ベンゼン、トルエン、キシレン、メシチレンなどが挙げられる。   Examples of the aromatic hydrocarbons include benzene, toluene, xylene, mesitylene and the like.

前記のケトン類としては、例えば、アセトン、２−ブタノン、２−ヘプタノン、３−ヘプタノン、４−ヘプタノン、４−メチル−２−ペンタノン、シクロペンタノン、シクロヘキサノン、４−ヒドロキシ−４−メチル−２ペンタノンなどが挙げられる。   Examples of the ketones include acetone, 2-butanone, 2-heptanone, 3-heptanone, 4-heptanone, 4-methyl-2-pentanone, cyclopentanone, cyclohexanone, and 4-hydroxy-4-methyl-2. Examples include pentanone.

前記のアルコール類としては、例えば、メタノール、エタノール、プロパノール、ブタノール、ヘキサノール、シクロヘキサノール、エチレングリコール、グリセリンなどが挙げられる。   Examples of the alcohols include methanol, ethanol, propanol, butanol, hexanol, cyclohexanol, ethylene glycol, and glycerin.

前記のエステル類としては、例えば、酢酸エチル、酢酸−ｎ−ブチル、酢酸イソブチル、ギ酸アミル、酢酸イソアミル、酢酸イソブチル、プロピオン酸ブチル、酪酸イソプロピル、酪酸エチル、酪酸ブチル、アルキルエステル類、乳酸メチル、乳酸エチル、オキシ酢酸メチル、オキシ酢酸エチル、オキシ酢酸ブチル、メトキシ酢酸メチル、メトキシ酢酸エチル、メトキシ酢酸ブチル、エトキシ酢酸メチル、エトキシ酢酸エチル、３−オキシプロピオン酸メチル、３−オキシプロピオン酸エチル、３−メトキシプロピオン酸メチル、３−メトキシプロピオン酸エチル、３−エトキシプロピオン酸メチル、３−エトキシプロピオン酸エチル、２−オキシプロピオン酸メチル、２−オキシプロピオン酸エチル、２−オキシプロピオン酸プロピル、２−メトキシプロピオン酸メチル、２−メトキシプロピオン酸エチル、２−メトキシプロピオン酸プロピル、２−エトキシプロピオン酸メチル、２−エトキシプロピオン酸エチル、２−オキシ−２−メチルプロピオン酸メチル、２−オキシ−２−メチルプロピオン酸エチル、２−メトキシ−２−メチルプロピオン酸メチル、２−エトキシ−２−メチルプロピオン酸エチル、ピルビン酸メチル、ピルビン酸エチル、ピルビン酸プロピル、アセト酢酸メチル、アセト酢酸エチル、２−オキソブタン酸メチル、２−オキソブタン酸エチル、３−メトキシブチルアセテート、３−メチル−３−メトキシブチルアセテート、γ−ブチロラクトンなどが挙げられる。   Examples of the esters include ethyl acetate, n-butyl acetate, isobutyl acetate, amyl formate, isoamyl acetate, isobutyl acetate, butyl propionate, isopropyl butyrate, ethyl butyrate, butyl butyrate, alkyl esters, methyl lactate, Ethyl lactate, methyl oxyacetate, ethyl oxyacetate, butyl oxyacetate, methyl methoxyacetate, ethyl methoxyacetate, butyl methoxyacetate, methyl ethoxyacetate, ethyl ethoxyacetate, methyl 3-oxypropionate, ethyl 3-oxypropionate, 3 -Methyl methoxypropionate, ethyl 3-methoxypropionate, methyl 3-ethoxypropionate, ethyl 3-ethoxypropionate, methyl 2-oxypropionate, ethyl 2-oxypropionate, propyl 2-oxypropionate, Methyl methoxypropionate, ethyl 2-methoxypropionate, propyl 2-methoxypropionate, methyl 2-ethoxypropionate, ethyl 2-ethoxypropionate, methyl 2-oxy-2-methylpropionate, 2-oxy-2- Ethyl methyl propionate, methyl 2-methoxy-2-methylpropionate, ethyl 2-ethoxy-2-methylpropionate, methyl pyruvate, ethyl pyruvate, propyl pyruvate, methyl acetoacetate, ethyl acetoacetate, 2-oxobutane Examples include methyl acid, ethyl 2-oxobutanoate, 3-methoxybutyl acetate, 3-methyl-3-methoxybutyl acetate, and γ-butyrolactone.

前記のアミド類としては、例えば、Ｎ，Ｎ−ジメチルホルムアミド、Ｎ，Ｎ−ジメチルアセトアミドなどが挙げられる。   Examples of the amides include N, N-dimethylformamide and N, N-dimethylacetamide.

その他の溶剤としては、例えば、Ｎ−メチルピロリドン、ジメチルスルホオキシドなどが挙げられる。
前記の溶剤は、それぞれ単独でも２種類以上を組合せて用いてもよい。 Examples of other solvents include N-methylpyrrolidone and dimethyl sulfoxide.
These solvents may be used alone or in combination of two or more.

前記の溶剤の中で、プロピレングリコールモノメチルエーテルアセテートを含む溶剤が好ましく用いられる。（Ｅ）溶剤がプロピレングリコールモノメチルエーテルアセテートを含む場合、プロピレングリコールモノメチルエーテルアセテートの含有量は、溶剤全量に対して質量分率で、好ましくは５０〜９７質量％、より好ましくは６０〜９５質量％である。   Among the above solvents, a solvent containing propylene glycol monomethyl ether acetate is preferably used. (E) When the solvent contains propylene glycol monomethyl ether acetate, the content of propylene glycol monomethyl ether acetate is a mass fraction with respect to the total amount of the solvent, preferably 50 to 97 mass%, more preferably 60 to 95 mass%. It is.

（Ｅ）溶剤の含有量は、着色感光性樹脂組成物に対して質量分率で、好ましくは７０〜９０質量％、より好ましくは７５〜８８質量％である。（Ｅ）溶剤の含有量が、前記の範囲にあると、塗布時の面内均一性が良好で、またカラーフィルタを形成した際の色濃度が十分で表示特性が良好であるため好ましい。   (E) Content of a solvent is a mass fraction with respect to a coloring photosensitive resin composition, Preferably it is 70-90 mass%, More preferably, it is 75-88 mass%. (E) It is preferable for the content of the solvent to be in the above-mentioned range since the in-plane uniformity at the time of coating is good, and the color density when the color filter is formed is sufficient and the display characteristics are good.

さらに、界面活性剤が含まれていてもよい。界面活性剤としては、シリコーン系界面活性剤、フッ素系界面活性剤およびフッ素原子を有するシリコーン系界面活性剤が挙げられる。   Further, a surfactant may be included. Examples of the surfactant include a silicone surfactant, a fluorine surfactant, and a silicone surfactant having a fluorine atom.

前記のシリコーン系界面活性剤としては、シロキサン結合を有する界面活性剤などが挙げられる。具体的には、商品名でトーレシリコーンＤＣ３ＰＡ、同ＳＨ７ＰＡ、同ＤＣ１１ＰＡ、同ＳＨ２１ＰＡ、同ＳＨ２８ＰＡ、同２９ＳＨＰＡ、同ＳＨ３０ＰＡ、ポリエーテル変性シリコンオイルＳＨ８４００（トーレシリコーン（株）製）、ＫＰ３２１、ＫＰ３２２、ＫＰ３２３、ＫＰ３２４、ＫＰ３２６、ＫＰ３４０、ＫＰ３４１（信越シリコーン製）、ＴＳＦ４００、ＴＳＦ４０１、ＴＳＦ４１０、ＴＳＦ４３００、ＴＳＦ４４４０、ＴＳＦ４４４５、ＴＳＦ−４４４６、ＴＳＦ４４５２、ＴＳＦ４４６０（ジーイー東芝シリコーン（株）製）などが挙げられる。   Examples of the silicone surfactant include surfactants having a siloxane bond. Specifically, it is a Toray Silicone DC3PA, SH7PA, DC11PA, SH21PA, SH28PA, 29SHPA, SH30PA, polyether-modified silicone oil SH8400 (manufactured by Torresilicone Co., Ltd.), KP321, KP322, KP323. , KP324, KP326, KP340, KP341 (manufactured by Shin-Etsu Silicone), TSF400, TSF401, TSF410, TSF4300, TSF4440, TSF4445, TSF-4446, TSF4452, and TSF4460 (manufactured by GE Toshiba Silicone Co., Ltd.).

前記のフッ素系界面活性剤としては、フルオロカーボン鎖を有する界面活性剤などが挙げられる。具体的には、商品名でフロラードＦＣ４３０、同ＦＣ４３１（住友スリーエム（株）製）、メガファックＦ１４２Ｄ、同Ｆ１７１、同Ｆ１７２、同Ｆ１７３、同Ｆ１７７、同Ｆ１８３、同Ｆ４７０、同Ｆ４７５、同Ｒ３０（大日本インキ化学工業（株）製）、エフトップＥＦ３０１、同ＥＦ３０３、同ＥＦ３５１、同ＥＦ３５２（新秋田化成（株）製）、サーフロンＳ３８１、同Ｓ３８２、同ＳＣ１０１、同ＳＣ１０５（旭硝子（株）製）、Ｅ５８４４（（株）ダイキンファインケミカル研究所製）、ＢＭ−１０００、ＢＭ−１１００（ＢＭ Ｃｈｅｍｉｅ社製）などが挙げられる。   Examples of the fluorine-based surfactant include surfactants having a fluorocarbon chain. Specifically, under the product names Florard FC430, FC431 (Sumitomo 3M Co., Ltd.), MegaFuck F142D, F171, F172, F173, F177, F183, F470, F475, and R30 ( Dainippon Ink & Chemicals, Inc.), F-Top EF301, EF303, EF351, EF352 (made by Shin-Akita Kasei), Surflon S381, S382, SC101, SC105 (made by Asahi Glass Co., Ltd.) ), E5844 (manufactured by Daikin Fine Chemical Laboratory), BM-1000, BM-1100 (manufactured by BM Chemie), and the like.

前記のフッ素原子を有するシリコーン系界面活性剤としては、シロキサン結合およびフルオロカーボン鎖を有する界面活性剤などが挙げられる。具体的には、商品名でメガファックＲ０８、同ＢＬ２０、同Ｆ４７５、同Ｆ４７７、同Ｆ４４３（大日本インキ化学工業（株）製）などがあげられる。
これらの界面活性剤は、単独でも２種類以上を組合せて用いてもよい。 Examples of the silicone-based surfactant having a fluorine atom include surfactants having a siloxane bond and a fluorocarbon chain. Specific examples include Megafax R08, BL20, F475, F477, F443 (Dainippon Ink Chemical Co., Ltd.).
These surfactants may be used alone or in combination of two or more.

本発明の着色感光性樹脂組成物は、分子量１，０００以下の有機酸を含有してもよい。前記の有機酸としては、例えば、特開平５−３４３６３１号に開示された有機酸が挙げられる。具体的には、マロン酸、シュウ酸、コハク酸、グルタル酸、アジピン酸、安息香酸、フタル酸、イソフタル酸、テレフタル酸、シトラコン酸、イタコン酸、メサコン酸、フマル酸、フタル酸、アクリル酸、メタクリル酸が挙げられ、好ましくはマロン酸、シュウ酸、フマル酸、フタル酸が挙げられる。分子量１，０００以下の有機酸を含有することで、残渣がさらに良好となる傾向があるので、好ましい。   The colored photosensitive resin composition of the present invention may contain an organic acid having a molecular weight of 1,000 or less. Examples of the organic acid include organic acids disclosed in JP-A-5-343631. Specifically, malonic acid, oxalic acid, succinic acid, glutaric acid, adipic acid, benzoic acid, phthalic acid, isophthalic acid, terephthalic acid, citraconic acid, itaconic acid, mesaconic acid, fumaric acid, phthalic acid, acrylic acid, Methacrylic acid is mentioned, Preferably malonic acid, oxalic acid, fumaric acid, and phthalic acid are mentioned. By containing an organic acid having a molecular weight of 1,000 or less, the residue tends to be even better, which is preferable.

本発明の着色感光性樹脂組成物には、さらに、充填剤、バインダー樹脂以外の高分子化合物、密着促進剤、酸化防止剤、紫外線吸収剤、凝集防止剤、有機アミン化合物、硬化剤などの添加剤を含有していてもよい。   The colored photosensitive resin composition of the present invention is further added with a filler, a polymer compound other than the binder resin, an adhesion promoter, an antioxidant, an ultraviolet absorber, an aggregation inhibitor, an organic amine compound, a curing agent, and the like. An agent may be contained.

前記の充填剤としては、例えば、ガラス、アルミナなどの微粒子が挙げられる。   Examples of the filler include fine particles such as glass and alumina.

前記のバインダー樹脂以外の高分子化合物としては、例えば、ポリビニルアルコール、ポリアクリル酸、ポリエチレングリコールモノアルキルエーテル、ポリフロロアルキルアクリレートなどが挙げられる。   Examples of the polymer compound other than the binder resin include polyvinyl alcohol, polyacrylic acid, polyethylene glycol monoalkyl ether, and polyfluoroalkyl acrylate.

前記の密着促進剤としては、例えば、ビニルトリメトキシシラン、ビニルトリエトキシシラン、ビニルトリス（２−メトキシエトキシ）シラン、Ｎ−（２−アミノエチル）−３−アミノプロピルメチルジメトキシシラン、Ｎ−（２−アミノエチル）−３−アミノプロピルトリメトキシシラン、３−アミノプロピルトリエトキシシラン、３−グリシドキシプロピルトリメトキシシラン、３−グリシドキシメチルジメトキシシラン、２−（３，４−エポキシシクロヘキシル）エチルトリメトキシシラン、３−クロロプロピルメチルジメトキシシラン、３−クロロプロピルトリメトキシシラン、３−メタクリロキシプロピルトリメトキシシラン、３−メルカプトプロピルトリメトキシシランなどが挙げられる。   Examples of the adhesion promoter include vinyltrimethoxysilane, vinyltriethoxysilane, vinyltris (2-methoxyethoxy) silane, N- (2-aminoethyl) -3-aminopropylmethyldimethoxysilane, N- (2 -Aminoethyl) -3-aminopropyltrimethoxysilane, 3-aminopropyltriethoxysilane, 3-glycidoxypropyltrimethoxysilane, 3-glycidoxymethyldimethoxysilane, 2- (3,4-epoxycyclohexyl) Examples include ethyltrimethoxysilane, 3-chloropropylmethyldimethoxysilane, 3-chloropropyltrimethoxysilane, 3-methacryloxypropyltrimethoxysilane, and 3-mercaptopropyltrimethoxysilane.

前記の酸化防止剤としては、例えば、４，４’−チオビス（６−ｔｅｒｔ−ブチル−３−メチルフェノール）、２，６−ジ−ｔｅｒｔ−ブチル−４−メチルフェノールなどが挙げられる。   Examples of the antioxidant include 4,4'-thiobis (6-tert-butyl-3-methylphenol), 2,6-di-tert-butyl-4-methylphenol, and the like.

前記の紫外線吸収剤としては、例えば、２−（２−ヒドロキシ−３−ｔｅｒｔ−ブチル−５−メチルフェニル）−５−クロロベンゾトリアゾールなどのベンゾトリアゾール系；
２−ヒドロキシ−４−オクチルオキシベンゾフェノンなどのベンゾフェノン系；
２，４−ジ−ｔｅｒｔ−ブチルフェニル−３，５−ジ−ｔｅｒｔ−ブチル−４−ヒドロキシベンゾエートなどのベンゾエート系；
２−（４，６−ジフェニル−１，３，５−トリアジン−２−イル）−５−ヘキシルオキシフェノールなどのトリアジン系などが挙げられる。 Examples of the ultraviolet absorber include benzotriazoles such as 2- (2-hydroxy-3-tert-butyl-5-methylphenyl) -5-chlorobenzotriazole;
Benzophenone series such as 2-hydroxy-4-octyloxybenzophenone;
Benzoate systems such as 2,4-di-tert-butylphenyl-3,5-di-tert-butyl-4-hydroxybenzoate;
And triazines such as 2- (4,6-diphenyl-1,3,5-triazin-2-yl) -5-hexyloxyphenol.

前記の凝集防止剤としては、例えば、ポリアクリル酸ナトリウムなどが挙げられる。   Examples of the aggregation preventing agent include sodium polyacrylate.

有機アミン化合物の添加により、現像時に未露光部の基板上に残渣を生じることがなく、かつ基板への密着性に優れた画素を与えることができる。
前記の有機アミン化合物としては、例えば、ｎ―プロピルアミン、イソプロピルアミン、ｎ−ブチルアミン、イソブチルアミン、ｓｅｃ−ブチルアミン、ｔｅｒｔ−ブチルアミン、ｎ−ペンチルアミン、ｎ−ヘキシルアミン、ｎ−ヘプチルアミン、ｎ−オクチルアミン、ｎ−ノニルアミン、ｎ−デシルアミン、ｎ−ウンデシルアミン、ｎ−ドデシルアミンなどのモノアルキルアミン類；
シクロヘキシルアミン、２−メチルシクロヘキシルアミン、３−メチルシクロヘキシルアミン、４−メチルシクロヘキシルアミンなどのモノシクロアルキルアミン類；
メチルエチルアミン、ジエチルアミン、メチル−ｎ−プロピルアミン、エチル−ｎ−プロピルアミン、ジ−ｎ−プロピルアミン、ジイソプロピルアミン、ジ−ｎ−ブチルアミン、ジイソブチルアミン、ジ−ｓｅｃ−ブチルアミン、ジ−ｔｅｒｔ−ブチルアミン、ジ−ｎ−ペンチルアミン、ジ−ｎ−ヘキシルアミンなどのジアルキルアミン類；
メチルシクロヘキシルアミン、エチルシクロヘキシルアミンなどのモノアルキルモノシクロアルキルアミン類；
ジシクロヘキシルアミンなどのジシクロアルキルアミン類；
ジメチルエチルアミン、メチルジエチルアミン、トリエチルアミン、ジメチル−ｎ−プロピルアミン、ジエチル−ｎ−プロピルアミン、メチルジ−ｎ−プロピルアミン、エチルジ−ｎ−プロピルアミン、トリ−ｎ−プロピルアミン、トリイソプロピルアミン、トリ−ｎ−ブチルアミン、トリイソブチルアミン、トリ−ｓｅｃ−ブチルアミン、トリ−ｔｅｒｔ−ブチルアミン、トリ−ｎ−ペンチルアミン、トリ−ｎ−ヘキシルアミンなどのトリアルキルアミン類；
ジメチルシクロヘキシルアミン、ジエチルシクロヘキシルアミンなどのジアルキルモノシクロアルキルアミン類；
メチルジシクロヘキシルアミン、エチルジシクロヘキシルアミン、トリシクロヘキシルアミンなどのモノアルキルジシクロアルキルアミン類；
２−アミノエタノール、３−アミノ−１−プロパノール、１−アミノ−２−プロパノール、４−アミノ−１−ブタノール、５−アミノ−１−ペンタノール、６−アミノ−１−ヘキサノールなどのモノアルカノールアミン類；
４−アミノ−１−シクロヘキサノールなどのモノシクロアルカノールアミン類；
ジエタノールアミン、ジ−ｎ−プロパノールアミン、ジイソプロパノールアミン、ジ−ｎ−ブタノールアミン、ジイソブタノールアミン、ジ−ｎ−ペンタノールアミン、ジ−ｎ−ヘキサノールアミンなどのジアルカノールアミン類；
ジ（４−シクロヘキサノール）アミンなどのジシクロアルカノールアミン類；
トリエタノールアミン、トリ−ｎ−プロパノールアミン、トリイソプロパノールアミン、トリｎ−ブタノールアミン、トリイソブタノールアミン、トリ−ｎ−ペンタノールアミン、トリ−ｎ−ヘキサノールアミンなどのトリアルカノールアミン類；
トリ（４−シクロヘキサノール）アミンなどのトリシクロアルカノールアミン類；
３−アミノ−１，２−プロパンジオール、２−アミノ−１，３−プロパンジオール、４−アミノ−１，２−ブタンジオール、４−アミノ−１，３−ブタンジオール、３−ジメチルアミノ−１，２−プロパンジオール、３−ジエチルアミノ−１，２−プロパンジオール、２−ジメチルアミノ−１，３−プロパンジオール、２−ジエチルアミノ−１，３−プロパンジオールなどのアミノアルカンジオール類；
４−アミノ−１，２−シクロヘキサンジオール、４−アミノ−１，３−シクロヘキサンジオールなどのアミノシクロアルカンジオール類；
１−アミノシクロペンタノンメタノール、４−アミノシクロペンタノンメタノールなどのアミノ基含有シクロアルカノンメタノール類；
１−アミノシクロヘキサノンメタノール、４−アミノシクロヘキサノンメタノール、４−ジメチルアミノシクロペンタンメタノール、４−ジエチルアミノシクロペンタンメタノール、４−ジメチルアミノシクロヘキサンメタノール、４−ジエチルアミノシクロヘキサンメタノールなどのアミノ基含有シクロアルカンメタノール類；
β−アラニン、２−アミノ酪酸、３−アミノ酪酸、４−アミノ酪酸、２−アミノイソ酢酸、３−アミノイソ酢酸、２−アミノ吉草酸、５−アミノ吉草酸、６−アミノカプロン酸、１−アミノシクロプロパンカルボン酸、１−アミノシクロヘキサンカルボン酸、４−アミノシクロヘキサンカルボン酸などのアミノカルボン酸類；
アニリン、ｏ−メチルアニリン、ｍ−メチルアニリン、ｐ−メチルアニリン、ｐ−エチルアニリン、ｐ−ｎ−プロピルアニリン、ｐ−イソプロピルアニリン、ｐ−ｎ−ブチルアニリン、ｐ−ｔｅｒｔ−ブチルアニリン、１−ナフチルアミン、２−ナフチルアミン、Ｎ，Ｎ−ジメチルアニリン、Ｎ，Ｎ−ジエチルアニリン、ｐ−メチル−Ｎ，Ｎ−ジメチルアニリンなどの芳香族アミン類；
ｏ−アミノベンジルアルコール、ｍ−アミノベンジルアルコール、ｐ−アミノベンジルアルコール、ｐ−ジメチルアミノベンジルアルコール、ｐ−ジエチルアミノベンジルアルコールなどのアミノベンジルアルコール類；
ｏ−アミノフェノール、ｍ−アミノフェノール、ｐ−アミノフェノール、ｐ−ジメチルアミノフェノール、ｐ−ジエチルアミノフェノールなどのアミノフェノール類；
ｍ−アミノ安息香酸、ｐ−アミノ安息香酸、ｐ−ジメチルアミノ安息香酸、ｐ−ジエチルアミノ安息香酸などのアミノ安息香酸類などが挙げられる。 By adding the organic amine compound, a residue is not generated on the unexposed substrate during development, and a pixel having excellent adhesion to the substrate can be provided.
Examples of the organic amine compound include n-propylamine, isopropylamine, n-butylamine, isobutylamine, sec-butylamine, tert-butylamine, n-pentylamine, n-hexylamine, n-heptylamine, n- Monoalkylamines such as octylamine, n-nonylamine, n-decylamine, n-undecylamine, n-dodecylamine;
Monocycloalkylamines such as cyclohexylamine, 2-methylcyclohexylamine, 3-methylcyclohexylamine, 4-methylcyclohexylamine;
Methylethylamine, diethylamine, methyl-n-propylamine, ethyl-n-propylamine, di-n-propylamine, diisopropylamine, di-n-butylamine, diisobutylamine, di-sec-butylamine, di-tert-butylamine, Dialkylamines such as di-n-pentylamine and di-n-hexylamine;
Monoalkylmonocycloalkylamines such as methylcyclohexylamine and ethylcyclohexylamine;
Dicycloalkylamines such as dicyclohexylamine;
Dimethylethylamine, methyldiethylamine, triethylamine, dimethyl-n-propylamine, diethyl-n-propylamine, methyldi-n-propylamine, ethyldi-n-propylamine, tri-n-propylamine, triisopropylamine, tri-n -Trialkylamines such as butylamine, triisobutylamine, tri-sec-butylamine, tri-tert-butylamine, tri-n-pentylamine, tri-n-hexylamine;
Dialkylmonocycloalkylamines such as dimethylcyclohexylamine and diethylcyclohexylamine;
Monoalkyldicycloalkylamines such as methyldicyclohexylamine, ethyldicyclohexylamine, tricyclohexylamine;
Monoalkanolamines such as 2-aminoethanol, 3-amino-1-propanol, 1-amino-2-propanol, 4-amino-1-butanol, 5-amino-1-pentanol, and 6-amino-1-hexanol Kind;
Monocycloalkanolamines such as 4-amino-1-cyclohexanol;
Dialkanolamines such as diethanolamine, di-n-propanolamine, diisopropanolamine, di-n-butanolamine, diisobutanolamine, di-n-pentanolamine, di-n-hexanolamine;
Dicycloalkanolamines such as di (4-cyclohexanol) amine;
Trialkanolamines such as triethanolamine, tri-n-propanolamine, triisopropanolamine, tri-n-butanolamine, triisobutanolamine, tri-n-pentanolamine, tri-n-hexanolamine;
Tricycloalkanolamines such as tri (4-cyclohexanol) amine;
3-amino-1,2-propanediol, 2-amino-1,3-propanediol, 4-amino-1,2-butanediol, 4-amino-1,3-butanediol, 3-dimethylamino-1 Aminoalkanediols such as 1,2-propanediol, 3-diethylamino-1,2-propanediol, 2-dimethylamino-1,3-propanediol, 2-diethylamino-1,3-propanediol;
Aminocycloalkanediols such as 4-amino-1,2-cyclohexanediol and 4-amino-1,3-cyclohexanediol;
Amino group-containing cycloalkanone methanols such as 1-aminocyclopentanone methanol and 4-aminocyclopentanone methanol;
Amino group-containing cycloalkanemethanols such as 1-aminocyclohexanone methanol, 4-aminocyclohexanone methanol, 4-dimethylaminocyclopentanemethanol, 4-diethylaminocyclopentanemethanol, 4-dimethylaminocyclohexanemethanol, 4-diethylaminocyclohexanemethanol;
β-alanine, 2-aminobutyric acid, 3-aminobutyric acid, 4-aminobutyric acid, 2-aminoisoacetic acid, 3-aminoisoacetic acid, 2-aminovaleric acid, 5-aminovaleric acid, 6-aminocaproic acid, 1-aminocyclo Aminocarboxylic acids such as propanecarboxylic acid, 1-aminocyclohexanecarboxylic acid, 4-aminocyclohexanecarboxylic acid;
Aniline, o-methylaniline, m-methylaniline, p-methylaniline, p-ethylaniline, pn-propylaniline, p-isopropylaniline, pn-butylaniline, p-tert-butylaniline, 1- Aromatic amines such as naphthylamine, 2-naphthylamine, N, N-dimethylaniline, N, N-diethylaniline, p-methyl-N, N-dimethylaniline;
aminobenzyl alcohols such as o-aminobenzyl alcohol, m-aminobenzyl alcohol, p-aminobenzyl alcohol, p-dimethylaminobenzyl alcohol, p-diethylaminobenzyl alcohol;
aminophenols such as o-aminophenol, m-aminophenol, p-aminophenol, p-dimethylaminophenol, p-diethylaminophenol;
Examples include aminobenzoic acids such as m-aminobenzoic acid, p-aminobenzoic acid, p-dimethylaminobenzoic acid, and p-diethylaminobenzoic acid.

前記の硬化剤としては、例えば、加熱されることによってバインダー樹脂中のカルボキシル基と反応してバインダー樹脂を架橋することができる化合物、単独で重合して着色パターンを硬化させ得る化合物などが挙げられる。前記の化合物としては、例えば、エポキシ化合物、オキセタン化合物などが挙げられ、オキセタン化合物が好ましく用いられる。   Examples of the curing agent include a compound that can react with a carboxyl group in the binder resin by being heated to crosslink the binder resin, and a compound that can be polymerized alone to cure the colored pattern. . As said compound, an epoxy compound, an oxetane compound, etc. are mentioned, for example, An oxetane compound is used preferably.

ここで、エポキシ化合物としては、例えば、ビスフェノールＡ系エポキシ樹脂、水素化ビスフェノールＡ系エポキシ樹脂、ビスフェノールＦ系エポキシ樹脂、水素化ビスフェノールＦ系エポキシ樹脂、ノボラック型エポキシ樹脂、他の芳香族系エポキシ樹脂、脂環族系エポキシ樹脂、複素環式エポキシ樹脂、グリシジルエステル系樹脂、グリシジルアミン系樹脂、エポキシ化油等のエポキシ樹脂や、これらのエポキシ樹脂の臭素化誘導体、エポキシ樹脂およびその臭素化誘導体以外の脂肪族、脂環族または芳香族のエポキシ化合物、ブタジエンの（共）重合体のエポキシ化物、イソプレンの（共）重合体のエポキシ化物、グリシジル（メタ）アクリレートの（共）重合体、トリグリシジルイソシアヌレートなどが挙げられる。   Here, as the epoxy compound, for example, bisphenol A type epoxy resin, hydrogenated bisphenol A type epoxy resin, bisphenol F type epoxy resin, hydrogenated bisphenol F type epoxy resin, novolac type epoxy resin, other aromatic epoxy resins , Alicyclic epoxy resins, heterocyclic epoxy resins, glycidyl ester resins, glycidyl amine resins, epoxy resins such as epoxidized oil, brominated derivatives of these epoxy resins, epoxy resins and brominated derivatives thereof Aliphatic, cycloaliphatic or aromatic epoxy compounds, epoxidized butadiene (co) polymers, epoxidized isoprene (co) polymers, glycidyl (meth) acrylate (co) polymers, triglycidyl Examples include isocyanurate.

前記のオキセタン化合物としては、例えば、カーボネートビスオキセタン、キシリレンビスオキセタン、アジペートビスオキセタン、テレフタレートビスオキセタン、シクロヘキサンジカルボン酸ビスオキセタンなどが挙げられる。   Examples of the oxetane compound include carbonate bisoxetane, xylylene bisoxetane, adipate bisoxetane, terephthalate bisoxetane, and bisoxetane cyclohexanedicarboxylate.

本発明の着色感光性樹脂組成物は、硬化剤としてエポキシ化合物、オキセタン化合物などを含有する場合には、エポキシ化合物のエポキシ基、オキセタン化合物のオキセタン骨格を開環重合させ得る化合物を含んでいてもよい。該化合物としては、例えば、多価カルボン酸類、多価カルボン酸無水物類、酸発生剤などが挙げられる。   When the colored photosensitive resin composition of the present invention contains an epoxy compound, an oxetane compound, or the like as a curing agent, it may contain a compound capable of ring-opening polymerization of the epoxy group of the epoxy compound or the oxetane skeleton of the oxetane compound. Good. Examples of the compound include polyvalent carboxylic acids, polyvalent carboxylic acid anhydrides, and acid generators.

前記の多価カルボン酸類としては、例えば、フタル酸、３，４−ジメチルフタル酸、イソフタル酸、テレフタル酸、ピロメリット酸、トリメリット酸、１，４，５，８−ナフタレンテトラカルボン酸、３，３’，４，４’−ベンゾフェノンテトラカルボン酸などの芳香族多価カルボン酸類；
こはく酸、グルタル酸、アジピン酸、１，２，３，４−ブタンテトラカルボン酸、マレイン酸、フマル酸、イタコン酸などの脂肪族多価カルボン酸類；
ヘキサヒドロフタル酸、３，４−ジメチルテトラヒドロフタル酸、ヘキサヒドロイソフタル酸、ヘキサヒドロテレフタル酸、１，２，４−シクロペンタントリカルボン酸、１，２，４−シクロヘキサントリカルボン酸、シクロペンタンテトラカルボン酸、１，２，４，５−シクロヘキサンテトラカルボン酸などの脂環族多価カルボン酸類などが挙げられる。 Examples of the polyvalent carboxylic acids include phthalic acid, 3,4-dimethylphthalic acid, isophthalic acid, terephthalic acid, pyromellitic acid, trimellitic acid, 1,4,5,8-naphthalenetetracarboxylic acid, 3 Aromatic polycarboxylic acids such as 3,3 ', 4,4'-benzophenonetetracarboxylic acid;
Aliphatic polycarboxylic acids such as succinic acid, glutaric acid, adipic acid, 1,2,3,4-butanetetracarboxylic acid, maleic acid, fumaric acid, itaconic acid;
Hexahydrophthalic acid, 3,4-dimethyltetrahydrophthalic acid, hexahydroisophthalic acid, hexahydroterephthalic acid, 1,2,4-cyclopentanetricarboxylic acid, 1,2,4-cyclohexanetricarboxylic acid, cyclopentanetetracarboxylic acid And alicyclic polyvalent carboxylic acids such as 1,2,4,5-cyclohexanetetracarboxylic acid.

前記の多価カルボン酸無水物類としては、例えば、無水フタル酸、無水ピロメリット酸、無水トリメリット酸、３，３’，４，４’−ベンゾフェノンテトラカルボン酸二無水物などの芳香族多価カルボン酸無水物類；
無水イタコン酸、無水こはく酸、無水シトラコン酸、無水ドデセニルコハク酸、無水トリカルバリル酸、無水マレイン酸、１，２，３，４−ブタンテトラカルボン酸二無水物などの脂肪族多価カルボン酸無水物類；
無水ヘキサヒドロフタル酸、３，４−ジメチルテトラヒドロフタル酸無水物、１，２，４−シクロペンタントリカルボン酸無水物、１，２，４−シクロヘキサントリカルボン酸無水物、シクロペンタンテトラカルボン酸二無水物、１，２，４，５−シクロヘキサンテトラカルボン酸二無水物、無水ハイミック酸、無水ナジン酸などの脂環族多価カルボン酸無水物類；
エチレングリコールビストリメリテイト酸、グリセリントリストリメリテイト無水物などのエステル基含有カルボン酸無水物類などが挙げられる。 Examples of the polyvalent carboxylic acid anhydrides include aromatic phthalic anhydride, pyromellitic anhydride, trimellitic anhydride, and 3,3 ′, 4,4′-benzophenone tetracarboxylic dianhydride. Carboxylic anhydrides;
Aliphatic polycarboxylic anhydrides such as itaconic anhydride, succinic anhydride, citraconic anhydride, dodecenyl succinic anhydride, tricarballylic anhydride, maleic anhydride, 1,2,3,4-butanetetracarboxylic dianhydride Kind;
Hexahydrophthalic anhydride, 3,4-dimethyltetrahydrophthalic anhydride, 1,2,4-cyclopentanetricarboxylic anhydride, 1,2,4-cyclohexanetricarboxylic anhydride, cyclopentanetetracarboxylic dianhydride Alicyclic polycarboxylic acid anhydrides such as 1,2,4,5-cyclohexanetetracarboxylic dianhydride, hymic anhydride, and nadic anhydride;
Examples include ester group-containing carboxylic acid anhydrides such as ethylene glycol bistrimellitic acid and glycerin tristrimellitic anhydride.

前記のカルボン酸無水物類としては、エポキシ樹脂硬化剤として市販されているものを用いてもよい。前記のエポキシ樹脂硬化剤としては、例えば、商品名でアデカハードナーＥＨ−７００（旭電化工業（株）製）、リカシッドＨＨ、ＭＨ−７００（いずれも、新日本理化（株）製）などが挙げられる。   As said carboxylic acid anhydride, you may use what is marketed as an epoxy resin hardening | curing agent. Examples of the epoxy resin curing agent include ADEKA HARDNER EH-700 (manufactured by Asahi Denka Kogyo Co., Ltd.), RIKACID HH, MH-700 (both manufactured by Shin Nippon Rika Co., Ltd.) and the like. It is done.

前記の硬化剤は、単独でも２種以上を組合せて用いてもよい。   The above curing agents may be used alone or in combination of two or more.

本発明の着色感光性樹脂組成物を調製する方法としては、例えば、溶剤（Ｅ）中において分散剤を併存させて、顔料などの着色剤を分散させることにより、着色剤の分散液を調製し、さらに、溶剤に溶解させた（Ｂ）バインダー樹脂、（Ｃ）光重合性化合物、（Ｄ）光重合開始剤および必要によりその他の添加剤等を溶解させ、前記の（Ａ）着色剤の分散液と混合し、必要によりさらに溶剤を添加する方法などが挙げられる。   As a method for preparing the colored photosensitive resin composition of the present invention, for example, a dispersion of a colorant is prepared by dispersing a colorant such as a pigment in the solvent (E) together with a dispersant. Furthermore, (B) binder resin, (C) photopolymerizable compound, (D) photopolymerization initiator and other additives as necessary dissolved in a solvent are dissolved, and the above-mentioned (A) colorant is dispersed. The method of mixing with a liquid and adding a solvent further as needed is mentioned.

また、本発明の着色感光性樹脂組成物は、通常、容器に封入して、流通、保管に供される。   In addition, the colored photosensitive resin composition of the present invention is usually enclosed in a container and distributed and stored.

本発明の着色感光性樹脂組成物を用いたイメージセンサ用カラーフィルタの一般的な製造法は次の通りである。本発明の着色感光性樹脂組成物を基板上に塗布・乾燥する工程、得られた乾燥塗布膜にｉ線ステッパー等でパターン露光する工程、露光後にアルカリ現像する工程、次に加熱処理する工程を順次行い、各色（３色あるいは４色）ごとに前記工程を順次繰り返して画素を形成することによりカラーフィルタが得られる。   A general method for producing a color filter for an image sensor using the colored photosensitive resin composition of the present invention is as follows. A step of applying and drying the colored photosensitive resin composition of the present invention on a substrate, a step of pattern exposure of the obtained dry coating film with an i-line stepper, a step of alkali development after exposure, and a step of heat treatment A color filter is obtained by sequentially performing the above steps for each color (3 colors or 4 colors) to form pixels.

より具体的には、本発明の着色感光性樹脂組成物を、スピンコーター等により、適当な基板上に乾燥時の膜厚が一般的に０．１〜５μｍ、好ましくは０．２〜２μｍになるように塗布し、１００℃のオーブンに３分間放置し平滑な塗膜を得る。
基板としては、特に限定されないが、ガラス板、プラスチックス板、アルミ板、撮像素子用シリコンウエハ等の電子部品の基板、さらには透明樹脂板、樹脂フィルム、ブラウン管表示面、撮像感の受光面、ＣＣＤ、ＢＢＤ、ＣＩＤ、ＢＡＳＩＳ等の固体撮像素子が形成されたウエハー、薄膜半導体を用いた密着型イメージセンサ、液晶ディスプレイ面、カラー電子写真用感光体、エレクトロクロミィー（ＥＣ）表示装置の基板等が挙げられる。また、基板にカラーフィルタ層との接着性を向上させるために高密着処理を施すことが好ましい。具体的には、基板上に予めシランカップリング剤等で薄く塗布した後に着色感光性樹脂組成物のパターンを形成するか、あるいは予め着色感光性樹脂組成物中にシランカップリング剤を含有させてもよい。 More specifically, the colored photosensitive resin composition of the present invention is dried on a suitable substrate by a spin coater or the like so that the film thickness when dried is generally 0.1 to 5 μm, preferably 0.2 to 2 μm. Then, it is left in an oven at 100 ° C. for 3 minutes to obtain a smooth coating film.
The substrate is not particularly limited, but is a glass plate, a plastic plate, an aluminum plate, a substrate for an electronic component such as a silicon wafer for an image sensor, a transparent resin plate, a resin film, a cathode ray tube display surface, a light receiving surface for imaging feeling, Wafers on which solid-state image sensors such as CCD, BBD, CID, and BASIS are formed, contact image sensors using thin film semiconductors, liquid crystal display surfaces, color electrophotographic photoreceptors, substrates for electrochromy (EC) display devices, etc. Is mentioned. Further, it is preferable to perform a high adhesion treatment to improve the adhesion to the color filter layer on the substrate. Specifically, after a thin coating with a silane coupling agent or the like is applied on the substrate in advance, a pattern of the colored photosensitive resin composition is formed, or the colored photosensitive resin composition is previously incorporated with a silane coupling agent. Also good.

なお、基板上に段差がある場合は、その段差を解消し塗設面を平滑にするための平坦化膜を基板上に塗設した後、本発明の着色感光性樹脂組成物を塗布することができる。例えば、ＣＣＤなどのイメージセンサのセンサ部はシリコン基板上に受光量に応じて電子を発生させる光電子変換部（フォトダイオード）とその発生した電子を出力する為の読み出しゲート部とで構成されているが、読み出しゲート部に光が当たるとノイズの原因となり正確なデータが出力されないため、読み出しゲート部の上部には遮光膜層が形成されており、遮光膜層を持たないフォトダイオード部との間で段差が生じている場合がある。このような段差上にカラーレジストを塗布し、直接カラーフィルタを形成すると光路長が長くなるため画像が暗く、また集光性も劣るようになる。これを改善する為、その段差を埋める目的で透明な平坦化膜をＣＣＤとカラーフィルタとの間に形成することが好ましい。この平坦化膜の材料としては、本発明におけるような感光性樹脂組成物、アクリル系、エポキシ系等の熱硬化性樹脂や光硬化性樹脂等が挙げられる。   If there is a step on the substrate, apply the colored photosensitive resin composition of the present invention after coating the substrate with a planarizing film for eliminating the step and smoothing the coating surface. Can do. For example, a sensor unit of an image sensor such as a CCD is composed of a photoelectric conversion unit (photodiode) that generates electrons on a silicon substrate according to the amount of received light, and a readout gate unit for outputting the generated electrons. However, if light hits the readout gate part, it causes noise and accurate data is not output.Therefore, a light shielding film layer is formed on the upper part of the readout gate part, and between the photodiode part without the light shielding film layer. There may be a level difference. When a color resist is applied on such a step and a color filter is directly formed, the optical path length becomes long, so that the image becomes dark and the light condensing property becomes inferior. In order to improve this, it is preferable to form a transparent flattening film between the CCD and the color filter in order to fill the step. Examples of the material for the planarizing film include a photosensitive resin composition as in the present invention, an acrylic-based, epoxy-based thermosetting resin, a photo-curable resin, and the like.

感光性樹脂組成物を塗布した後、溶媒を除去して乾燥塗布膜を得るため、通常、減圧乾燥やプリベークが行われる。減圧乾燥の方法としては、例えば、塗布物を、０．１〜１００Ｔｏｒｒの圧力で、５０〜１２０℃の温度におくことにより行う方法がある。プリベークの方法としては、高温の空気などによる加熱乾燥、ホットプレート等による加熱乾燥（８０〜１４０℃、５０〜２００秒）などの方法がある。   After applying the photosensitive resin composition, in order to obtain a dry coating film by removing the solvent, drying under reduced pressure or pre-baking is usually performed. As a method for drying under reduced pressure, for example, there is a method in which the coated material is placed at a temperature of 50 to 120 ° C. at a pressure of 0.1 to 100 Torr. Examples of the pre-baking method include heat drying using high-temperature air and the like, and heat drying using a hot plate or the like (80 to 140 ° C., 50 to 200 seconds).

また、現像後に得られたパターンを、十分硬化させて機械強度を高め永久膜とするためにポストベークが行われる。例えば、３色のカラーフィルタの製造に際しては、最初に形成されたパターンは、その後、他色の着色感光性樹脂組成物の塗布、露光、現像を２度受ける。この際に、塗布された着色感光性樹脂組成物との混色、露光、現像によるパターンの欠落が生じないようにポストベークを行うものである。このポストベークはプリベーク同様の方法が用いられるが、プリベークの条件よりも、高温、長時間で行われる。例えば、１００〜２５０℃、１〜６０分間行われる。   In addition, post-baking is performed in order to sufficiently cure the pattern obtained after development to increase the mechanical strength and form a permanent film. For example, in the production of a three-color filter, the first formed pattern is then subjected twice to the application of a colored photosensitive resin composition of another color, exposure, and development. At this time, post-baking is performed so as not to cause pattern omission due to color mixing, exposure, and development with the applied colored photosensitive resin composition. This post-baking uses the same method as pre-baking, but is performed at a higher temperature and for a longer time than the pre-baking conditions. For example, it is performed at 100 to 250 ° C. for 1 to 60 minutes.

着色感光性樹脂組成物の現像に使用する現像液は特に制限はなく、従来公知の現像液を使用することができる。中でも、テトラメチルアンモニウムハイドロキサイド（ＴＭＡＨ）などの４級アンモニウム塩類の有機アルカリ系水溶液が好ましい。   There is no restriction | limiting in particular in the developing solution used for development of a coloring photosensitive resin composition, A conventionally well-known developing solution can be used. Among these, an organic alkaline aqueous solution of quaternary ammonium salts such as tetramethylammonium hydroxide (TMAH) is preferable.

ここで、本発明のカラーフィルタを具備するイメージセンサは、例えば、上記のとおり、基板上に形成されたセンサ部上に平坦化膜を形成し、その上に本発明のカラーフィルタを形成した後、レンズ材を塗布し、フォトリソグラフィ工程と熱処理によりレンズパターンをパターニングし、次に、全面をエッチバックしてオンチップレンズを形成することにより製造することができる。   Here, in the image sensor including the color filter of the present invention, for example, as described above, after the planarization film is formed on the sensor portion formed on the substrate and the color filter of the present invention is formed thereon, It can be manufactured by applying a lens material, patterning a lens pattern by a photolithography process and heat treatment, and then etching back the entire surface to form an on-chip lens.

以下、実施例によって本発明をより詳細に説明するが、本発明はこれらの実施例によって限定されるものではない。   EXAMPLES Hereinafter, although an Example demonstrates this invention in detail, this invention is not limited by these Examples.

＜樹脂（Ｂ１）の合成＞
撹拌機、温度計、還流冷却管、滴下ロートおよびガス導入管を備えた１Ｌのフラスコに、プロピレングリコールモノメチルエーテルアセテート３３３ｇが導入された。その後、窒素ガスがガス導入管を通ってフラスコ内に導入されて、フラスコ内雰囲気が窒素ガスに置換された。その後、フラスコ内の溶液が１００℃に昇温された後、ジシクロペンタニルメタクリレート（ＦＡ−５１３Ｍ；日立化成工業（株）製）２２．０ｇ（０．１０モル）、ベンジルメタクリレート７０．５ｇ（０．４０モル）、メタクリル酸４３．０ｇ（０．５モル）、アゾビスイソブチロニトリル３．６ｇおよびプロピレングリコールモノメチルエーテルアセテート１６４ｇからなる混合物が、滴下ロートを用いて２時間かけてフラスコに滴下され、滴下完了後さらに１００℃で５時間撹拌が続けられた。 <Synthesis of Resin (B1)>
333 g of propylene glycol monomethyl ether acetate was introduced into a 1 L flask equipped with a stirrer, thermometer, reflux condenser, dropping funnel and gas introduction tube. Thereafter, nitrogen gas was introduced into the flask through the gas introduction tube, and the atmosphere in the flask was replaced with nitrogen gas. Thereafter, after the temperature of the solution in the flask was raised to 100 ° C., 22.0 g (0.10 mol) of dicyclopentanyl methacrylate (FA-513M; manufactured by Hitachi Chemical Co., Ltd.), 70.5 g of benzyl methacrylate ( 0.40 mol), 43.0 g (0.5 mol) of methacrylic acid, 3.6 g of azobisisobutyronitrile and 164 g of propylene glycol monomethyl ether acetate were added to the flask using a dropping funnel over 2 hours. After the completion of the dropwise addition, stirring was further continued at 100 ° C. for 5 hours.

攪拌終了後、ガス導入管を通って空気がフラスコ内に導入されて、フラスコ内雰囲気が空気にされた後、グリシジルメタクリレート３５．５ｇ［０．２５モル（本反応に用いたメタクリル酸に対してモル分率で、５０モル％）］、トリスジメチルアミノメチルフェノール０．９ｇおよびハイドロキノン０．１４５ｇがフラスコ内に投入され、反応が１１０℃で６時間続けられて、樹脂Ｂ１を含む溶液が得られた（固形分３８．５質量％、酸価８０ｍｇＫＯＨ／ｇ）。   After the stirring was completed, air was introduced into the flask through the gas introduction tube, and the atmosphere in the flask was changed to air. Then, 35.5 g of glycidyl methacrylate [0.25 mol (based on methacrylic acid used in this reaction)] In a molar fraction, 50 mol%)], 0.9 g of trisdimethylaminomethylphenol and 0.145 g of hydroquinone were charged into the flask, and the reaction was continued at 110 ° C. for 6 hours to obtain a solution containing resin B1. (Solid content 38.5% by mass, acid value 80 mg KOH / g).

ここで、酸価は、カルボン酸などの酸基を有する重合体１ｇを中和するに必要な水酸化カリウムの量（ｍｇ）として測定される値であり、通常、濃度既知の水酸化カリウム水溶液を用いて滴定することにより求められる。
得られた樹脂Ｂ１のポリスチレン換算重量平均分子量は９，０００であった。 Here, the acid value is a value measured as an amount (mg) of potassium hydroxide necessary to neutralize 1 g of a polymer having an acid group such as carboxylic acid, and is usually a potassium hydroxide aqueous solution having a known concentration. It is calculated | required by titrating using.
The obtained resin B1 had a polystyrene equivalent weight average molecular weight of 9,000.

上記のバインダー樹脂のポリスチレン換算重量平均分子量の測定については、ＧＰＣ法を用いて、以下の条件で行った。
装置；ＨＬＣ-８１２０ＧＰＣ（東ソー（株）製）
カラム；ＴＳＫ−ＧＥＬＧ２０００ＨＸＬ
カラム温度；４０℃
溶媒；ＴＨＦ
流速；１．０ｍＬ／ｍｉｎ
被検液固形分濃度；０．００１〜０．０１質量％
注入量；５０μＬ
検出器；ＲＩ
校正用標準物質；ＴＳＫ ＳＴＡＮＤＡＲＤ ＰＯＬＹＳＴＹＲＥＮＥ Ｆ−４０、Ｆ−４、Ｆ−１、Ａ−２５００、Ａ−５００（東ソー（株）製） About the measurement of the polystyrene conversion weight average molecular weight of said binder resin, it carried out on condition of the following using GPC method.
Equipment: HLC-8120GPC (manufactured by Tosoh Corporation)
Column; TSK-GELG2000HXL
Column temperature: 40 ° C
Solvent; THF
Flow rate: 1.0 mL / min
Test liquid solid content concentration: 0.001 to 0.01% by mass
Injection volume: 50 μL
Detector; RI
Standard material for calibration; TSK STANDARD POLYSTYRENE F-40, F-4, F-1, A-2500, A-500 (manufactured by Tosoh Corporation)

本実施例で用いる成分は以下の通りであり、以下、省略して表示することがある。
（Ａ−１）着色剤：Ｃ．Ｉ．ピグメントレッド２５４
（Ａ−２）着色剤：Ｃ．Ｉ．ピグメントイエロー１３９
（Ｂ−１）樹脂Ｂ１（固形分３８．５質量％のプロピレングリコールモノメチルエーテルアセテート溶液）
（Ｃ−１）光重合性化合物：ＤＰＨＡ（日本化薬（株）製）
（Ｃ−２）光重合性化合物：Ａ−ＧＬＹ−３Ｅ（新中村化学工業（株）製）
エチレンオキサイド化（３個）グリセリントリアクリレート（l＋ｍ＋ｎ＝３）
（Ｃ−３）光重合性化合物：Ａ−ＧＬＹ−６Ｅ（新中村化学工業（株）製）
エチレンオキサイド化（６個）グリセリントリアクリレート（l＋ｍ＋ｎ＝６）
（Ｃ−４）光重合性化合物：Ａ−ＧＬＹ−９Ｅ（新中村化学工業（株）製）
エチレンオキサイド化（９個）グリセリントリアクリレート（l＋ｍ＋ｎ＝９）
（Ｃ−５）光重合性化合物：Ａ−ＧＬＹ−２０Ｅ（新中村化学工業（株）製）
エチレンオキサイド化（２０個）グリセリントリアクリレート（l＋ｍ＋ｎ＝２０）
（Ｃ−６）光重合性化合物：Ａ−ＤＰＨ−６Ｅ（新中村化学工業（株）製）
エチレンオキサイド化（６個）ジペンタエリスリトールヘキサアクリレート
（Ｃ−７）光重合性化合物：Ａ−ＤＰＨ−６Ｐ（新中村化学工業（株）製）
プロピレンオキサイド化（６個）ジペンタエリスリトールヘキサアクリレート
（Ｃ−８）光重合性化合物：ＡＴＭ−４Ｅ（新中村化学工業（株）製）
エチレンオキサイド化（４個）ペンタエリスリトール
（Ｃ−９）光重合性化合物：Ａ−ＴＭＰＴ−３ＥＯ（新中村化学工業（株）製）
エチレンオキサイド化（３個）トリメチロールプロパントリアクリレート
（Ｃ−１０）光重合性化合物：Ａ−ＴＭＰＴ−６ＥＯ（新中村化学工業（株）製）
エチレンオキサイド化（６個）トリメチロールプロパントリアクリレート
（Ｃ−１１）光重合性化合物：Ａ−ＴＭＰＴ−９ＥＯ（新中村化学工業（株）製）
エチレンオキサイド化（９個）トリメチロールプロパントリアクリレート
（Ｃ−１２）光重合性化合物：ＳＲ９０２０（サートマー・ジャパン（株）製）
プロピレンオキサイド化（３個）グリセリントリアクリレート
（Ｃ−１３）光重合性化合物：ＣＤ９０２１（サートマー・ジャパン（株）製）
プロピレンオキサイド化（５．５個）グリセリントリアクリレート
（Ｄ−１）光重合開始剤：２−ベンジル−２−ジメチルアミノ−１−（４−モルホリノフェニル）ブタン−１−オン
（Ｇ−１）光重合開始助剤：４，４’−ビス（ジエチルアミノ）ベンゾフェノン
（Ｅ−１）溶剤：プロピレングリコールモノメチルエーテルアセテート
（Ｅ−２）溶剤：３−エトキシプロピオン酸エチル
（Ｆ−１）メガファックＦ４７５（大日本インキ化学工業（株）製） The components used in this example are as follows, and may be omitted below.
(A-1) Colorant: C.I. I. Pigment Red 254
(A-2) Colorant: C.I. I. Pigment Yellow 139
(B-1) Resin B1 (Propylene glycol monomethyl ether acetate solution having a solid content of 38.5% by mass)
(C-1) Photopolymerizable compound: DPHA (manufactured by Nippon Kayaku Co., Ltd.)
(C-2) Photopolymerizable compound: A-GLY-3E (manufactured by Shin-Nakamura Chemical Co., Ltd.)
Ethylene oxide (3) glycerin triacrylate (l + m + n = 3)
(C-3) Photopolymerizable compound: A-GLY-6E (manufactured by Shin-Nakamura Chemical Co., Ltd.)
Ethylene oxide (6) Glycerin triacrylate (l + m + n = 6)
(C-4) Photopolymerizable compound: A-GLY-9E (manufactured by Shin-Nakamura Chemical Co., Ltd.)
Ethylene oxide (9) Glycerin triacrylate (l + m + n = 9)
(C-5) Photopolymerizable compound: A-GLY-20E (manufactured by Shin-Nakamura Chemical Co., Ltd.)
Ethylene oxide (20) Glycerin triacrylate (l + m + n = 20)
(C-6) Photopolymerizable compound: A-DPH-6E (manufactured by Shin-Nakamura Chemical Co., Ltd.)
Ethylene oxide (6) dipentaerythritol hexaacrylate (C-7) photopolymerizable compound: A-DPH-6P (manufactured by Shin-Nakamura Chemical Co., Ltd.)
Propylene oxide (6) dipentaerythritol hexaacrylate (C-8) photopolymerizable compound: ATM-4E (manufactured by Shin-Nakamura Chemical Co., Ltd.)
Ethylene oxide (4) Pentaerythritol (C-9) photopolymerizable compound: A-TMPT-3EO (manufactured by Shin-Nakamura Chemical Co., Ltd.)
Ethylene oxide (three) trimethylolpropane triacrylate (C-10) photopolymerizable compound: A-TMPT-6EO (manufactured by Shin-Nakamura Chemical Co., Ltd.)
Ethylene oxide (6) trimethylolpropane triacrylate (C-11) photopolymerizable compound: A-TMPT-9EO (manufactured by Shin-Nakamura Chemical Co., Ltd.)
Ethylene oxide (9) trimethylolpropane triacrylate (C-12) photopolymerizable compound: SR9020 (manufactured by Sartomer Japan, Inc.)
Propylene oxide (3) glycerin triacrylate (C-13) photopolymerizable compound: CD9021 (manufactured by Sartomer Japan, Inc.)
Propylene Oxidized (5.5) Glycerin Triacrylate (D-1) Photopolymerization Initiator: 2-Benzyl-2-dimethylamino-1- (4-morpholinophenyl) butan-1-one (G-1) Light Polymerization initiation aid: 4,4'-bis (diethylamino) benzophenone (E-1) Solvent: Propylene glycol monomethyl ether acetate (E-2) Solvent: Ethyl 3-ethoxypropionate (F-1) Megafax F475 (large (Made by Nippon Ink Chemical Co., Ltd.)

実施例１
〔着色感光性樹脂組成物１の調製〕
（Ａ−１） ６．３３３質量部
（Ａ−２） １．８９２質量部
（固形分に対する（Ａ）合計量；４７質量％）
アクリル系分散剤 １．６０２質量部
（Ｂ−１） １１．６６４質量部（対固形分；２５．７質量％）
（Ｃ−２） ２．４１８質量部（対固形分；１３．８質量％）
（Ｄ−１） ０．６２２質量部
（対（Ｂ）の固形分＋（Ｃ）の合計量；９質量％）
（Ｇ−１） ０．１３８質量部（対（Ｄ）；２２．２質量％）
（Ｅ−１） ６７．０７７質量部
（Ｅ−２） ８．２５０質量部
（（Ｅ−１）の対（Ｅ）合計量；９０質量％）
（組成物に対する（Ｅ）合計量；８２．５質量％）
（Ｆ−１） ０．００４質量部
を混合して着色感光性樹脂組成物１を得た。 Example 1
[Preparation of colored photosensitive resin composition 1]
(A-1) 6.333 parts by mass (A-2) 1.892 parts by mass
(Total amount of (A) based on solid content: 47% by mass)
Acrylic dispersant 1.602 parts by mass (B-1) 11.664 parts by mass (based on solids; 25.7% by mass)
(C-2) 2.418 parts by mass (based on solid content; 13.8% by mass)
(D-1) 0.622 parts by mass
(Total amount of solid content of (B) + (C); 9% by mass)
(G-1) 0.138 parts by mass (vs. (D); 22.2% by mass)
(E-1) 67.077 parts by mass (E-2) 8.250 parts by mass
((E-1) pair (E) total amount; 90% by mass)
(Total amount of (E) based on composition; 82.5% by mass)
(F-1) Colored photosensitive resin composition 1 was obtained by mixing 0.004 parts by mass.

〔パターンの形成１〕
次にガラス（＃１７３７；コーニング）上に、スミレジストＰＲ−１３００Ｙ−ＰＧ（住友化学（株）製）をスピンコートし、１００℃で１分間加熱して揮発成分を除去し、膜厚０．５μｍの樹脂層を形成した。次いで、このガラスを２３０℃で１５分間加熱して樹脂層を硬化させ、平坦化被膜付き支持体を形成した。この支持体上に、上記で得た着色感光性樹脂組成物（赤色）をスピンコート法で塗布した後、１００℃３分間で揮発成分を揮発させて着色感光性樹脂組成物膜を形成した。冷却後、この着色感光性樹脂組成物膜にフォトマスクを介してｉ線〔波長３６５ｎｍ〕を照射して露光した。ｉ線の光源には超高圧水銀ランプを用い、平行光としてから照射した。照射光量は１５０ｍＪ／ｃｍ2とした。フォトマスクとしては、線幅３μｍ、４μｍ、５μｍ、６μｍ、７μｍ、８μｍ、９μｍ、１０μｍ、２０μｍ、３０μｍ、４０μｍ、５０μｍおよび１００μｍの線状の色画素を形成するためのフォトマスクを用いた。次いで露光後のガラス基板〔表面には着色感光性樹脂組成物膜が形成されている。〕を２３℃の現像液（ＣＩＳ ＤＥＶＥＬＯＰＥＲ；ＥＮＦ Ｔｅｃｈｎｏｌｏｇｙ（株）製）に８０秒間浸漬して現像し、純水で洗浄し、ラインアンドスペースパターンをパターンニングしたガラス基板を得た。 [Pattern formation 1]
Next, Sumiresist PR-1300Y-PG (manufactured by Sumitomo Chemical Co., Ltd.) is spin-coated on glass (# 1737; Corning) and heated at 100 ° C. for 1 minute to remove volatile components. A 5 μm resin layer was formed. Next, this glass was heated at 230 ° C. for 15 minutes to cure the resin layer, thereby forming a support with a flattened film. On this support, the colored photosensitive resin composition (red) obtained above was applied by spin coating, and then the volatile components were volatilized at 100 ° C. for 3 minutes to form a colored photosensitive resin composition film. After cooling, the colored photosensitive resin composition film was exposed by irradiating i-line (wavelength 365 nm) through a photomask. An ultra-high pressure mercury lamp was used as the i-line light source, and the light was irradiated after being converted into parallel light. The amount of irradiation light was 150 mJ / cm 2 . As the photomask, a photomask for forming linear color pixels having a line width of 3 μm, 4 μm, 5 μm, 6 μm, 7 μm, 8 μm, 9 μm, 10 μm, 20 μm, 30 μm, 40 μm, 50 μm, and 100 μm was used. Next, a glass substrate after exposure [a colored photosensitive resin composition film is formed on the surface. ] Was developed by being immersed in a developer at 23 ° C. (CIS DEVELOPER; manufactured by ENF Technology) for 80 seconds, washed with pure water, and a glass substrate patterned with a line and space pattern was obtained.

〔評価１〕
上記で得た基板の塗膜層を溶解した後の透過率（５５０ｎｍ）は９９．４％であった。 [Evaluation 1]
The transmittance (550 nm) after dissolving the coating layer of the substrate obtained above was 99.4%.

〔パターンの形成２〕
また、シリコンウエハ上に、スミレジストＰＲ−１３００Ｙ−ＰＧ（住友化学（株）製）をスピンコートし、１００℃で１分間加熱して揮発成分を除去し、膜厚０．５μｍの樹脂層を形成した。次いで、このシリコンウエハを２３０℃で１５分間加熱して樹脂層を硬化させ、平坦化被膜付き支持体を形成した。この支持体上に、先に得られた着色感光性樹脂組成物１がスピンコート法により塗布され、１００℃で１分間加熱することにより揮発成分が除去されて着色感光性樹脂組成物層が形成された。次いで得られた着色感光性樹脂組成物層に、露光機（Ｎｉｋｏｎ ＮＳＲ ｉ９Ｃ；ニコン（株）製）を用いてマスクパターン（２μｍの正方ピクセルが市松模様に形成されている。）を介してｉ線の照射が、２０〜３１０ｍｓｅｃにわたり、１０ｍｓｅｃ間隔で３０箇所に段階で行われたのち、露光された支持体ごとが、現像液（ＣＩＳ ＤＥＶＥＬＯＰＥＲ；ＥＮＦ Ｔｅｃｈｎｏｌｏｇｙ（株）製）中に２３℃で６０秒間浸漬されて、現像が行われた。現像後、水洗し、乾燥後、支持体上に、線幅２．０μｍで厚みが０．７μｍの市松模様状のパターンで形成された画素を有するカラーフィルタを得た。 [Pattern formation 2]
Also, a violet resist PR-1300Y-PG (manufactured by Sumitomo Chemical Co., Ltd.) is spin-coated on a silicon wafer, heated at 100 ° C. for 1 minute to remove volatile components, and a resin layer having a thickness of 0.5 μm is formed. Formed. Next, this silicon wafer was heated at 230 ° C. for 15 minutes to cure the resin layer, thereby forming a support with a flattened film. On this support, the previously obtained colored photosensitive resin composition 1 is applied by spin coating, and heated at 100 ° C. for 1 minute to remove volatile components and form a colored photosensitive resin composition layer. It was done. Next, the obtained colored photosensitive resin composition layer was subjected to i through a mask pattern (2 μm square pixels were formed in a checkered pattern) using an exposure machine (Nikon NSR i9C; manufactured by Nikon Corporation). After irradiation of the line was performed in 30 steps at 10 msec intervals over 20 to 310 msec, each exposed support was 60 ° C. at 23 ° C. in a developing solution (CIS DEVELOPER; manufactured by ENF Technology). Development was performed by dipping for 2 seconds. After development, washing with water and drying, a color filter having pixels formed in a checkered pattern having a line width of 2.0 μm and a thickness of 0.7 μm on the support was obtained.

〔評価２〕
パターンの断面を走査型電子顕微鏡（Ｓ−４５００；（株）日立製作所製）で観察したところ、現像溶解部、特にパターンのエッジ部分に残渣の付着がない、順テーパー形状の密着性良好なパターンが得られた。 [Evaluation 2]
When the cross section of the pattern was observed with a scanning electron microscope (S-4500; manufactured by Hitachi, Ltd.), there was no residue adhering to the developing and dissolving portion, particularly the edge portion of the pattern, and the forward taper-shaped good adhesion pattern was gotten.

実施例２
〔着色感光性樹脂組成物２の調製〕
実施例１の（Ｃ−２）を（Ｃ−３）に変更する以外は、実施例１と同様に混合して着色感光性樹脂組成物２を得た。 Example 2
[Preparation of colored photosensitive resin composition 2]
A colored photosensitive resin composition 2 was obtained by mixing in the same manner as in Example 1 except that (C-2) in Example 1 was changed to (C-3).

〔評価１〕
実施例１の着色感光性樹脂組成物１を着色感光性樹脂組成物２に変更する以外は実施例１と同様にして、基板の塗膜層を溶解した後の透過率（５５０ｎｍ）を測定した結果、９９．８％であった。 [Evaluation 1]
The transmittance (550 nm) after dissolving the coating layer of the substrate was measured in the same manner as in Example 1 except that the colored photosensitive resin composition 1 of Example 1 was changed to the colored photosensitive resin composition 2. As a result, it was 99.8%.

〔評価２〕
パターンの断面を実施例１と同様にして観察したところ、現像溶解部に残渣の付着がないパターンが得られた。 [Evaluation 2]
When the cross section of the pattern was observed in the same manner as in Example 1, a pattern in which no residue adhered to the development and dissolution portion was obtained.

実施例３
〔着色感光性樹脂組成物３の調製〕
実施例１の（Ｃ−２）を（Ｃ−４）に変更する以外は、実施例１と同様に混合して着色感光性樹脂組成物３を得た。 Example 3
[Preparation of colored photosensitive resin composition 3]
A colored photosensitive resin composition 3 was obtained by mixing in the same manner as in Example 1 except that (C-2) in Example 1 was changed to (C-4).

〔評価１〕
実施例１の着色感光性樹脂組成物１を着色感光性樹脂組成物３に変更する以外は実施例１と同様にして、基板の塗膜層を溶解した後の透過率（５５０ｎｍ）を測定した結果、１００％であった。 [Evaluation 1]
The transmittance (550 nm) after dissolving the coating layer of the substrate was measured in the same manner as in Example 1 except that the colored photosensitive resin composition 1 of Example 1 was changed to the colored photosensitive resin composition 3. As a result, it was 100%.

〔評価２〕
パターンの断面を実施例１と同様にして観察したところ、現像溶解部に残渣の付着がないパターンが得られた。 [Evaluation 2]
When the cross section of the pattern was observed in the same manner as in Example 1, a pattern in which no residue adhered to the development and dissolution portion was obtained.

実施例４
〔着色感光性樹脂組成物４の調製〕
実施例１の（Ｃ−２）を（Ｃ−５）に変更する以外は、実施例１と同様に混合して着色感光性樹脂組成物４を得た。 Example 4
[Preparation of colored photosensitive resin composition 4]
A colored photosensitive resin composition 4 was obtained by mixing in the same manner as in Example 1 except that (C-2) in Example 1 was changed to (C-5).

〔評価１〕
実施例１の着色感光性樹脂組成物１を着色感光性樹脂組成物４に変更する以外は実施例１と同様にして、基板の塗膜層を溶解した後の透過率（５５０ｎｍ）を測定した結果、９９．２％であった。 [Evaluation 1]
The transmittance (550 nm) after dissolving the coating layer of the substrate was measured in the same manner as in Example 1 except that the colored photosensitive resin composition 1 of Example 1 was changed to the colored photosensitive resin composition 4. As a result, it was 99.2%.

〔評価２〕
パターンの断面を実施例１と同様にして観察したところ、現像溶解部に残渣の付着がないパターンが得られた。 [Evaluation 2]
When the cross section of the pattern was observed in the same manner as in Example 1, a pattern in which no residue adhered to the development and dissolution portion was obtained.

比較例１
〔着色感光性樹脂組成物５の調製〕
実施例１の（Ｃ−２）を（Ｃ−１）に変更する以外は、実施例１と同様に混合して着色感光性樹脂組成物５を得た。 Comparative Example 1
[Preparation of colored photosensitive resin composition 5]
A colored photosensitive resin composition 5 was obtained by mixing in the same manner as in Example 1 except that (C-2) in Example 1 was changed to (C-1).

〔評価１〕
実施例１の着色感光性樹脂組成物１を着色感光性樹脂組成物５に変更する以外は実施例１と同様にして、基板の塗膜層を溶解した後の透過率（５５０ｎｍ）を測定した結果、５２．４％であった。 [Evaluation 1]
The transmittance (550 nm) after dissolving the coating layer of the substrate was measured in the same manner as in Example 1 except that the colored photosensitive resin composition 1 of Example 1 was changed to the colored photosensitive resin composition 5. As a result, it was 52.4%.

〔評価２〕
パターンの断面を実施例１と同様にして観察したところ、現像溶解部が完全に溶解せず、パターンが形成されなかった。 [Evaluation 2]
When the cross section of the pattern was observed in the same manner as in Example 1, the development-dissolved portion was not completely dissolved, and the pattern was not formed.

比較例２
〔着色感光性樹脂組成物６の調製〕
実施例１の（Ｃ−２）を（Ｃ−６）に変更する以外は、実施例１と同様に混合して着色感光性樹脂組成物６を得た。 Comparative Example 2
[Preparation of colored photosensitive resin composition 6]
A colored photosensitive resin composition 6 was obtained by mixing in the same manner as in Example 1 except that (C-2) in Example 1 was changed to (C-6).

〔評価１〕
実施例１の着色感光性樹脂組成物１を着色感光性樹脂組成物６に変更する以外は実施例１と同様にして、基板の塗膜層を溶解した後の透過率（５５０ｎｍ）を測定した結果、８９．４％であった。 [Evaluation 1]
The transmittance (550 nm) after dissolving the coating layer of the substrate was measured in the same manner as in Example 1 except that the colored photosensitive resin composition 1 of Example 1 was changed to the colored photosensitive resin composition 6. As a result, it was 89.4%.

〔評価２〕
パターンの断面を実施例１と同様にして観察したところ、現像溶解部が完全に溶解せず、パターンのエッジ部分に残渣の付着が観察された。 [Evaluation 2]
When the cross section of the pattern was observed in the same manner as in Example 1, the developed and dissolved portion was not completely dissolved, and adhesion of residues was observed at the edge portion of the pattern.

比較例３
〔着色感光性樹脂組成物７の調製〕
実施例１の（Ｃ−２）を（Ｃ−７）に変更する以外は、実施例１と同様に混合して着色感光性樹脂組成物７を得た。 Comparative Example 3
[Preparation of colored photosensitive resin composition 7]
A colored photosensitive resin composition 7 was obtained by mixing in the same manner as in Example 1 except that (C-2) in Example 1 was changed to (C-7).

〔評価１〕
実施例１の着色感光性樹脂組成物１を着色感光性樹脂組成物７に変更する以外は実施例１と同様にして、基板の塗膜層を溶解した後の透過率（５５０ｎｍ）を測定した結果、８５．４％であった。 [Evaluation 1]
The transmittance (550 nm) after dissolving the coating layer of the substrate was measured in the same manner as in Example 1 except that the colored photosensitive resin composition 1 of Example 1 was changed to the colored photosensitive resin composition 7. As a result, it was 85.4%.

〔評価２〕
パターンの断面を実施例１と同様にして観察したところ、現像溶解部が完全に溶解せず、パターンのエッジ部分に残渣の付着が観察された。また、得られたパターンは市松模様状のパターンの一部が剥離したパターンであった。 [Evaluation 2]
When the cross section of the pattern was observed in the same manner as in Example 1, the developed and dissolved portion was not completely dissolved, and adhesion of residues was observed at the edge portion of the pattern. The obtained pattern was a pattern in which a part of the checkered pattern was peeled off.

比較例４
〔着色感光性樹脂組成物８の調製〕
実施例１の（Ｃ−２）を（Ｃ−８）に変更する以外は、実施例１と同様に混合して着色感光性樹脂組成物８を得た。 Comparative Example 4
[Preparation of colored photosensitive resin composition 8]
A colored photosensitive resin composition 8 was obtained by mixing in the same manner as in Example 1 except that (C-2) in Example 1 was changed to (C-8).

〔評価１〕
実施例１の着色感光性樹脂組成物１を着色感光性樹脂組成物８に変更する以外は実施例１と同様にして、基板の塗膜層を溶解した後の透過率（５５０ｎｍ）を測定した結果、９５．４％であった。 [Evaluation 1]
The transmittance (550 nm) after dissolving the coating layer of the substrate was measured in the same manner as in Example 1 except that the colored photosensitive resin composition 1 of Example 1 was changed to the colored photosensitive resin composition 8. As a result, it was 95.4%.

〔評価２〕
パターンの断面を実施例１と同様にして観察したところ、現像溶解部に残渣の付着が観察された。 [Evaluation 2]
When the cross section of the pattern was observed in the same manner as in Example 1, adhesion of residues was observed at the developing and dissolving portion.

比較例５
〔着色感光性樹脂組成物９の調製〕
実施例１の（Ｃ−２）を（Ｃ−９）に変更する以外は、実施例１と同様に混合して着色感光性樹脂組成物９を得た。 Comparative Example 5
[Preparation of colored photosensitive resin composition 9]
A colored photosensitive resin composition 9 was obtained by mixing in the same manner as in Example 1 except that (C-2) in Example 1 was changed to (C-9).

〔評価１〕
実施例１の着色感光性樹脂組成物１を着色感光性樹脂組成物９に変更する以外は実施例１と同様にして、基板の塗膜層を溶解した後の透過率（５５０ｎｍ）を測定した結果、９５．９％であった。 [Evaluation 1]
The transmittance (550 nm) after dissolving the coating layer of the substrate was measured in the same manner as in Example 1 except that the colored photosensitive resin composition 1 of Example 1 was changed to the colored photosensitive resin composition 9. As a result, it was 95.9%.

〔評価２〕
パターンの断面を実施例１と同様にして観察したところ、現像溶解部に残渣の付着が観察された。 [Evaluation 2]
When the cross section of the pattern was observed in the same manner as in Example 1, adhesion of residues was observed at the developing and dissolving portion.

比較例６
〔着色感光性樹脂組成物１０の調製〕
実施例１の（Ｃ−２）を（Ｃ−１０）に変更する以外は、実施例１と同様に混合して着色感光性樹脂組成物１０を得た。 Comparative Example 6
[Preparation of colored photosensitive resin composition 10]
A colored photosensitive resin composition 10 was obtained by mixing in the same manner as in Example 1 except that (C-2) in Example 1 was changed to (C-10).

〔評価１〕
実施例１の着色感光性樹脂組成物１を着色感光性樹脂組成物１０に変更する以外は実施例１と同様にして、基板の塗膜層を溶解した後の透過率（５５０ｎｍ）を測定した結果、９８．５％であった。 [Evaluation 1]
The transmittance (550 nm) after dissolving the coating layer of the substrate was measured in the same manner as in Example 1 except that the colored photosensitive resin composition 1 of Example 1 was changed to the colored photosensitive resin composition 10. As a result, it was 98.5%.

〔評価２〕
パターンの断面を実施例１と同様にして観察したところ、現像溶解部に残渣の付着が観察された。 [Evaluation 2]
When the cross section of the pattern was observed in the same manner as in Example 1, adhesion of residues was observed at the developing and dissolving portion.

比較例７
〔着色感光性樹脂組成物１１の調製〕
実施例１の（Ｃ−２）を（Ｃ−１１）に変更する以外は、実施例１と同様に混合して着色感光性樹脂組成物１１を得た。 Comparative Example 7
[Preparation of colored photosensitive resin composition 11]
A colored photosensitive resin composition 11 was obtained by mixing in the same manner as in Example 1 except that (C-2) in Example 1 was changed to (C-11).

〔評価１〕
実施例１の着色感光性樹脂組成物１を着色感光性樹脂組成物１１に変更する以外は実施例１と同様にして、基板の塗膜層を溶解した後の透過率（５５０ｎｍ）を測定した結果、９６．４％であった。 [Evaluation 1]
The transmittance (550 nm) after dissolving the coating layer of the substrate was measured in the same manner as in Example 1 except that the colored photosensitive resin composition 1 of Example 1 was changed to the colored photosensitive resin composition 11. As a result, it was 96.4%.

〔評価２〕
パターンの断面を実施例１と同様にして観察したところ、現像溶解部に残渣の付着が観察された。また、得られたパターンは市松模様状のパターンの一部が剥離したパターンであった。 [Evaluation 2]
When the cross section of the pattern was observed in the same manner as in Example 1, adhesion of residues was observed at the developing and dissolving portion. The obtained pattern was a pattern in which a part of the checkered pattern was peeled off.

比較例８
〔着色感光性樹脂組成物１２の調製〕
実施例１の（Ｃ−２）を（Ｃ−１２）に変更する以外は、実施例１と同様に混合して着色感光性樹脂組成物１２を得た。
〔評価１〕
実施例１の着色感光性樹脂組成物１を着色感光性樹脂組成物１２に変更する以外は実施例１と同様にして、基板の塗膜層を溶解した後の透過率（５５０ｎｍ）を測定した結果、８７．１％であった。
〔評価２〕
パターンの断面を実施例１と同様にして観察したところ、現像溶解部に残渣の付着が観察された。 Comparative Example 8
[Preparation of colored photosensitive resin composition 12]
A colored photosensitive resin composition 12 was obtained by mixing in the same manner as in Example 1 except that (C-2) in Example 1 was changed to (C-12).
[Evaluation 1]
The transmittance (550 nm) after dissolving the coating layer of the substrate was measured in the same manner as in Example 1 except that the colored photosensitive resin composition 1 of Example 1 was changed to the colored photosensitive resin composition 12. As a result, it was 87.1%.
[Evaluation 2]
When the cross section of the pattern was observed in the same manner as in Example 1, adhesion of residues was observed at the developing and dissolving portion.

比較例９
〔着色感光性樹脂組成物１３の調製〕
実施例１の（Ｃ−２）を（Ｃ−１３）に変更する以外は、実施例１と同様に混合して着色感光性樹脂組成物１３を得た。
〔評価１〕
実施例１の着色感光性樹脂組成物１を着色感光性樹脂組成物１３に変更する以外は実施例１と同様にして、基板の塗膜層を溶解した後の透過率（５５０ｎｍ）を測定した結果、９４．３％であった。
〔評価２〕
パターンの断面を実施例１と同様にして観察したところ、現像溶解部が完全に溶解せず、パターンのエッジ部分に残渣の付着が観察された。
Comparative Example 9
[Preparation of colored photosensitive resin composition 13]
A colored photosensitive resin composition 13 was obtained by mixing in the same manner as in Example 1 except that (C-2) in Example 1 was changed to (C-13).
[Evaluation 1]
The transmittance (550 nm) after dissolving the coating layer of the substrate was measured in the same manner as in Example 1 except that the colored photosensitive resin composition 1 of Example 1 was changed to the colored photosensitive resin composition 13. As a result, it was 94.3%.
[Evaluation 2]
When the cross section of the pattern was observed in the same manner as in Example 1, the developed and dissolved portion was not completely dissolved, and adhesion of residues was observed at the edge portion of the pattern.

Claims (6)

（Ａ）顔料、（Ｂ）バインダー樹脂、（Ｃ）光重合性化合物、（Ｄ）光重合開始剤、および、（Ｅ）溶剤を含有する着色感光性樹脂組成物において、（Ａ）顔料の含有量が着色感光性樹脂組成物の固形分に対して質量分率で、３５〜６０質量％であり、かつ（Ｃ）光重合性化合物が式（Ｉ）で表される化合物を含有することを特徴とする着色感光性樹脂組成物。
Figure 2008164886
［式（Ｉ）中、ｌ、ｍおよびｎは、それぞれ、０以上の整数を表し、l＋ｍ＋ｎは、３〜２０の整数を表す。］ A colored photosensitive resin composition containing (A) a pigment, (B) a binder resin, (C) a photopolymerizable compound, (D) a photopolymerization initiator, and (E) a solvent. The amount is 35 to 60% by mass with respect to the solid content of the colored photosensitive resin composition, and (C) the photopolymerizable compound contains a compound represented by the formula (I). A colored photosensitive resin composition.
Figure 2008164886
[In the formula (I), l, m and n each represents an integer of 0 or more, and l + m + n represents an integer of 3 to 20. ] 式（Ｉ）で表される化合物の含有量が、（Ｃ）光重合性化合物に対して質量分率で、５〜１００質量％である請求項１に記載の着色感光性樹脂組成物。   2. The colored photosensitive resin composition according to claim 1, wherein the content of the compound represented by the formula (I) is 5 to 100% by mass with respect to the photopolymerizable compound (C). （Ｃ）光重合性化合物の含有量が、着色感光性樹脂組成物の固形分に対して質量分率で、５〜４５質量％である請求項１または２に記載の着色感光性樹脂組成物。   The colored photosensitive resin composition according to claim 1 or 2, wherein the content of (C) the photopolymerizable compound is 5 to 45% by mass with respect to the solid content of the colored photosensitive resin composition. . 請求項１〜３のいずれかに記載の着色感光性樹脂組成物を用いて形成されたパターン。   The pattern formed using the coloring photosensitive resin composition in any one of Claims 1-3. 請求項４に記載のパターンを含むカラーフィルタ。   A color filter comprising the pattern according to claim 4. 請求項５に記載されたカラーフィルタを具備するイメージセンサ。
An image sensor comprising the color filter according to claim 5.
JP2006353673A 2006-12-28 2006-12-28 Colored photosensitive resin composition Pending JP2008164886A (en)

Priority Applications (4)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP2006353673A JP2008164886A (en) 2006-12-28 2006-12-28 Colored photosensitive resin composition
TW096147587A TW200839439A (en) 2006-12-28 2007-12-13 Coloring photosensitive resin composition
KR1020070136497A KR101419938B1 (en) 2006-12-28 2007-12-24 Colored Photosensitive Resin Composition
CNA2007103054126A CN101211111A (en) 2006-12-28 2007-12-26 Coloring phototonus resin composition

Applications Claiming Priority (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP2006353673A JP2008164886A (en) 2006-12-28 2006-12-28 Colored photosensitive resin composition

Publications (1)

Publication Number Publication Date
JP2008164886A true JP2008164886A (en) 2008-07-17

Family

ID=39611221

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
JP2006353673A Pending JP2008164886A (en) 2006-12-28 2006-12-28 Colored photosensitive resin composition

Country Status (4)

Country Link
JP (1) JP2008164886A (en)
KR (1) KR101419938B1 (en)
CN (1) CN101211111A (en)
TW (1) TW200839439A (en)

Cited By (14)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2009175724A (en) * 2007-12-28 2009-08-06 Fujifilm Corp Colored curable composition, color filter and method for manufacturing the same, and solid-state image pickup device
JP2010049069A (en) * 2008-08-22 2010-03-04 Toppan Printing Co Ltd Photosensitive colored composition and color filter for liquid crystal display using the same
JP2010113244A (en) * 2008-11-07 2010-05-20 Taiyo Ink Mfg Ltd Photosetting resin composition, dry film and hardened material of the same, and printed wiring board using the same
JP2010128328A (en) * 2008-11-28 2010-06-10 Jsr Corp Radiation-sensitive resin composition, spacer and protective film of liquid crystal display element and method for forming them
JP2010170073A (en) * 2008-12-25 2010-08-05 Sumitomo Chemical Co Ltd Colored photosensitive composition
JP2010170074A (en) * 2008-12-25 2010-08-05 Sumitomo Chemical Co Ltd Colored photosensitive composition
JP2010191119A (en) * 2009-02-17 2010-09-02 Jsr Corp Radiation-sensitive composition for forming color layer, color filter and solid-state imaging device
JP2010204199A (en) * 2009-02-27 2010-09-16 Tokyo Ohka Kogyo Co Ltd Photosensitive resin composition
JP2013527937A (en) * 2010-05-03 2013-07-04 ビーエーエスエフ ソシエタス・ヨーロピア Color filters for low temperature applications
CN104345550A (en) * 2013-07-30 2015-02-11 东友精细化工有限公司 Colored photosensitive resin composition, color filter, and liquid crystal display device having the same
KR101741653B1 (en) 2008-06-03 2017-05-30 스미또모 가가꾸 가부시키가이샤 Colored curable composition
KR20210119321A (en) 2020-03-24 2021-10-05 스미또모 가가꾸 가부시키가이샤 Colored curable resin composition
WO2022172781A1 (en) * 2021-02-09 2022-08-18 住友化学株式会社 Curable composition
KR20230052275A (en) 2020-08-20 2023-04-19 미쯔비시 케미컬 주식회사 Colored resin composition, color filter and image display device

Families Citing this family (6)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
TWI416286B (en) * 2010-09-09 2013-11-21 Trend Tone Imaging Inc Chemical developer and method for fabricating the same
JP5919830B2 (en) * 2011-02-08 2016-05-18 住友化学株式会社 Colored photosensitive resin composition
KR102012523B1 (en) * 2013-07-25 2019-08-20 동우 화인켐 주식회사 Colored photosensitive resin composition, color filter and liquid crystal display having the same
TWI646394B (en) * 2017-03-31 2019-01-01 住華科技股份有限公司 Photosensitive resin composition, and color resist structure and display using the same
WO2021137546A1 (en) * 2019-12-31 2021-07-08 코오롱인더스트리 주식회사 Photosensitive resin composition, and dry film photoresist, photosensitive element, circuit board, and display device, each using same
JP7376723B2 (en) * 2019-12-31 2023-11-08 コーロン インダストリーズ インク Photosensitive resin composition and dry film photoresist, photosensitive element, circuit board, and display device using the same

Citations (7)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPS63218744A (en) * 1987-03-06 1988-09-12 Toyo Ink Mfg Co Ltd Plastic coating agent curable by actinic energy radiation
JP2004138809A (en) * 2002-10-17 2004-05-13 Hitachi Chem Co Ltd Photosensitive resin composition and photosensitive element using the same
JP2004318111A (en) * 2003-03-28 2004-11-11 Sumitomo Chem Co Ltd Colored photosensitive resin composition
JP2006259708A (en) * 2005-02-21 2006-09-28 Sumitomo Chemical Co Ltd Colored photosensitive resin composition
JP2007161949A (en) * 2005-12-16 2007-06-28 Konica Minolta Holdings Inc Ink jet ink set and ink jet recording method
JP2007219499A (en) * 2006-01-18 2007-08-30 Fujifilm Electronic Materials Co Ltd Photosetting composition, color filter using the same and method for producing the color filter
JP2008083508A (en) * 2006-09-28 2008-04-10 Nippon Kayaku Co Ltd Negative colored photosensitive composition

Family Cites Families (2)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP4092376B2 (en) * 2001-11-22 2008-05-28 富士フイルム株式会社 Photosensitive colored resin composition, method for producing the same, and method for producing color filter
JP2006221099A (en) * 2005-02-14 2006-08-24 Hitachi Chem Co Ltd Photosensitive resin composition, photosensitive element, resist pattern forming method and method for manufacturing printed wiring board

Patent Citations (7)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPS63218744A (en) * 1987-03-06 1988-09-12 Toyo Ink Mfg Co Ltd Plastic coating agent curable by actinic energy radiation
JP2004138809A (en) * 2002-10-17 2004-05-13 Hitachi Chem Co Ltd Photosensitive resin composition and photosensitive element using the same
JP2004318111A (en) * 2003-03-28 2004-11-11 Sumitomo Chem Co Ltd Colored photosensitive resin composition
JP2006259708A (en) * 2005-02-21 2006-09-28 Sumitomo Chemical Co Ltd Colored photosensitive resin composition
JP2007161949A (en) * 2005-12-16 2007-06-28 Konica Minolta Holdings Inc Ink jet ink set and ink jet recording method
JP2007219499A (en) * 2006-01-18 2007-08-30 Fujifilm Electronic Materials Co Ltd Photosetting composition, color filter using the same and method for producing the color filter
JP2008083508A (en) * 2006-09-28 2008-04-10 Nippon Kayaku Co Ltd Negative colored photosensitive composition

Cited By (19)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2009175724A (en) * 2007-12-28 2009-08-06 Fujifilm Corp Colored curable composition, color filter and method for manufacturing the same, and solid-state image pickup device
KR101741653B1 (en) 2008-06-03 2017-05-30 스미또모 가가꾸 가부시키가이샤 Colored curable composition
JP2010049069A (en) * 2008-08-22 2010-03-04 Toppan Printing Co Ltd Photosensitive colored composition and color filter for liquid crystal display using the same
JP2010113244A (en) * 2008-11-07 2010-05-20 Taiyo Ink Mfg Ltd Photosetting resin composition, dry film and hardened material of the same, and printed wiring board using the same
JP2010128328A (en) * 2008-11-28 2010-06-10 Jsr Corp Radiation-sensitive resin composition, spacer and protective film of liquid crystal display element and method for forming them
JP2010170073A (en) * 2008-12-25 2010-08-05 Sumitomo Chemical Co Ltd Colored photosensitive composition
JP2010170074A (en) * 2008-12-25 2010-08-05 Sumitomo Chemical Co Ltd Colored photosensitive composition
JP2010191119A (en) * 2009-02-17 2010-09-02 Jsr Corp Radiation-sensitive composition for forming color layer, color filter and solid-state imaging device
JP2010204199A (en) * 2009-02-27 2010-09-16 Tokyo Ohka Kogyo Co Ltd Photosensitive resin composition
JP2013531269A (en) * 2010-05-03 2013-08-01 ビーエーエスエフ ソシエタス・ヨーロピア Color filters for low temperature applications
US9575230B2 (en) 2010-05-03 2017-02-21 Basf Se Color filter for low temperature applications
JP2013527937A (en) * 2010-05-03 2013-07-04 ビーエーエスエフ ソシエタス・ヨーロピア Color filters for low temperature applications
US10690825B2 (en) 2010-05-03 2020-06-23 Basf Se Color filter for low temperature applications
CN104345550A (en) * 2013-07-30 2015-02-11 东友精细化工有限公司 Colored photosensitive resin composition, color filter, and liquid crystal display device having the same
CN104345550B (en) * 2013-07-30 2019-03-19 东友精细化工有限公司 Colored photosensitive resin composition, colour filter and the liquid crystal display device with the colour filter
KR20210119321A (en) 2020-03-24 2021-10-05 스미또모 가가꾸 가부시키가이샤 Colored curable resin composition
KR20230052275A (en) 2020-08-20 2023-04-19 미쯔비시 케미컬 주식회사 Colored resin composition, color filter and image display device
WO2022172781A1 (en) * 2021-02-09 2022-08-18 住友化学株式会社 Curable composition
KR20230141797A (en) 2021-02-09 2023-10-10 스미또모 가가꾸 가부시키가이샤 curable composition

Also Published As

Publication number Publication date
KR101419938B1 (en) 2014-07-16
KR20080063110A (en) 2008-07-03
CN101211111A (en) 2008-07-02
TW200839439A (en) 2008-10-01

Similar Documents

Publication Publication Date Title
JP4631808B2 (en) Colored photosensitive resin composition
KR101419938B1 (en) Colored Photosensitive Resin Composition
JP5910691B2 (en) Colored curable composition
JP5515422B2 (en) Colored curable composition
KR101243547B1 (en) Colored Photosensitive Resin Composition
KR101344786B1 (en) Photosensitive resin composition for color filter comprising the same and color filter using the same
KR20070118958A (en) Colored photosensitive resin composition
JP2006265548A (en) Color development composition
JP2010160380A (en) Photosensitive resin composition for near-infrared absorbent
KR101424248B1 (en) Coloring composition
JP4720318B2 (en) Colored photosensitive resin composition
JP4923495B2 (en) Colored photosensitive resin composition
JP5415128B2 (en) Colored photosensitive resin composition and pattern and color filter formed using the same
KR20070014999A (en) Colored photosensitive resin composition
JP4682824B2 (en) Colored photosensitive resin composition
JP4816294B2 (en) Colored photosensitive resin composition and pattern forming method using the same
JP2007058192A (en) Colored photosensitive resin composition
JP2007057651A (en) Colored photosensitive resin composition
US20020136968A1 (en) Colored photosensitive composition
JP2007206165A (en) Colored photosensitive resin composition
JP4872233B2 (en) Colored photosensitive resin composition and color filter formed using the same
KR20070009419A (en) Colored photosensitive resin composition
JP2008020779A (en) Colored photosensitive resin composition
JP2005010763A (en) Colored photosensitive resin composition
JP4374996B2 (en) Colored photosensitive resin composition

Legal Events

Date Code Title Description
RD05 Notification of revocation of power of attorney

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A7425

Effective date: 20080516

A621 Written request for application examination

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A621

Effective date: 20091104

A977 Report on retrieval

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A971007

Effective date: 20110804

A131 Notification of reasons for refusal

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A131

Effective date: 20110809

A521 Written amendment

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A523

Effective date: 20110928

A131 Notification of reasons for refusal

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A131

Effective date: 20111213

A02 Decision of refusal

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A02

Effective date: 20120515