JP2008158524A - 液晶パネルのセルギャップ形成方法 - Google Patents
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Abstract
【解決手段】液晶パネルの底面基板を定位に固定し、少なくとも一つの隔離層の上下に少なくとも一つのUV接着剤層を設け、該隔離層内部に若干の空洞(画素表示領域)を設け、該隔離層を底面基板に対向させ並びに下端のUV接着剤層により底面基板に接着し、更に滴下式注入(One Drop Fill)方法或いは真空液晶注入方式により、液晶を隔離層の各空洞に注入し、さらに該隔離層を上端のUV接着剤層により液晶パネルの上面基板に接合し、並びに紫外光を照射加熱して、この上下のUV接着剤層を硬化させて、液晶パネルの底面基板と上面基板をそれぞれ隔離層の底面と上面に結合させ、隔離層により液晶パネルのセルギャップを形成する効果を達成する。
【選択図】図4
Description
1.液晶分子の極めて急速な上昇と下降の反応時間、厚さが比較的薄いセルギャップ及び低電圧駆動の液晶材料、低電圧駆動による更に低い電力消費の達成、及び容易に設計できる電子制御回路
2.比較的高い透過率、厚さが低いセルギャップは比較的高い透過率を形成できる
3.組立が容易である。比較的薄いセルギャップは通常スペーサ粒子を使用することで均一に維持される。セルギャップは広く液晶ディスプレイ産業に採用されている。比較的小さいギャップ粒子は製造工程中で獲得及び掌握しやすい。
(A)底面基板及び上面基板を位置決めし、すなわち、底面基板と上面基板を固定位置に輸送し、上面基板を底面基板の上方に位置させるステップ、
(B)隔離層を定位に移動させ、すなわち、少なくとも一つの隔離層を(A)のステップの底面基板と上面基板の間の位置に移動させ、隔離層内に若干の隔離柱と空洞を設けるステップ、
(C)隔離層を底面基板に接合し、すなわち(B)のステップの隔離層の下方を底面基板の上端に接合するステップ、
(D)液晶を隔離層の空洞中に注入し、すなわち(C)のステップで底面基板に接合した隔離層の空洞に、液晶注入するステップ、
(E)隔離層と上面基板を接合し、すなわち(D)のステップで液晶注入完成した隔離層上端を(A)のステップの上面基板下方に接合し、該底面基板、隔離層と上面基板を結合して一体となすステップ、
(F)紫外光照射設備により照射加熱し、すなわち、(E)のステップで完成した底面基板、隔離層及び上面基板の一体の構造に対して、紫外光を照射加熱し、隔離層と該底面基板と上面基板を強固に結合するステップ、
(G)裁断成型し、すなわち(F)のステップで紫外光照射完成した底面基板、隔離層及び上面基板を裁断し、厚いセルギャップの液晶パネル製品を形成するステップ、
以上のステップを包含する。
(a)底面基板及び上面基板を位置決めし、すなわち、底面基板と上面基板を固定位置に輸送し、上面基板を底面基板の上方に位置させるステップ、
(b)隔離層を定位に移動させ、すなわち、帯状の隔離層を(a)のステップの底面基板と上面基板の間の位置に移動させ、底面基板と上面基板の間の位置に位置づけ、該隔離層内に若干の隔離柱と空洞を設け、該空洞の一側に注入孔を形成するステップ、
(c)隔離層を底面基板に接合し、すなわち(b)のステップの隔離層の下方を底面基板の上端に接合するステップ、
(d)隔離層と上面基板を接合し、すなわち(c)のステップの隔離層上端を(a)のステップの上面基板下方に接合し、該底面基板、隔離層と上面基板を結合して一体となすステップ、
(e)紫外光照射設備により照射加熱し、すなわち、(d)のステップで完成した底面基板、隔離層及び上面基板の一体の構造に対して、紫外光を照射加熱し、隔離層下端の下UV接着剤層と上端の上UV接着剤層を加熱硬化させ、該隔離層と該底面基板と上面基板を強固に結合するステップ、
(f)裁断成型し、すなわち(e)のステップで紫外光照射完成した底面基板、隔離層及び上面基板を裁断し、液晶パネルユニットを形成するステップ、
(g)液晶を隔離層の空洞に真空注入し、すなわち(f)のステップで完成した液晶パネルユニットの隔離層の注入孔より空洞に液晶を充填するステップ、
(h)注入孔を密封し、すなわち(g)のステップで液晶の隔離層の空洞への注入を完成した後に、該隔離層の注入孔を密封し、液晶パネル製品を形成するステップ、
を包含する。
(40)底面基板及び上面基板を位置決めする。すなわち、図1に示される底面基板10と上面基板30を図5に示される固定位置に輸送し、すなわち上面基板30を底面基板10の上方に位置させる。
(41)隔離層を定位に移動させる。すなわち、図2に示される帯状の隔離層20を(40)のステップの底面基板10と上面基板30の間の位置に移動させ、図5に示されるように底面基板10の上面基板30の上方及び上面基板30の下方の位置に位置させる。
(42)隔離層を底面基板に接合する。すなわち(41)のステップの隔離層20の下保護膜24を除去し、下UV接着剤層23を底面基板10の上端の配向層13に接合し、これは図6に示されるとおりである。
(43)液晶を隔離層の空洞中に注入する。すなわち(42)のステップで底面基板10に接合した隔離層20の上保護膜26を除去して露出した空洞22に、滴下式液晶注入方法により液晶を充填する。これは図7のとおりである。
(44)隔離層と上面基板を接合する。すなわち(43)のステップで液晶の注入完成した隔離層20上端の上UV接着剤層25を上面基板30下方の配向層31に接合し、該底面基板10、隔離層20と上面基板30を結合して図8のような一体の構造となす。
(45)紫外光照射設備により照射加熱する。すなわち、(44)のステップで完成した底面基板10、隔離層20及び上面基板30の組合せ構造に対して、紫外光を照射加熱し、隔離層20下端の下UV接着剤層23と上端の上UV接着剤層25を加熱し硬化させ、図8のように、隔離層20と該底面基板10と上面基板30を強固に結合する。
(46)裁断成型。すなわち(45)のステップで紫外光照射完成して一体に組み合わせた底面基板10、隔離層20及び上面基板30を裁断し、図9に示す本発明の厚いセルギャップの液晶パネル100製品を形成する。
(80)底面基板及び上面基板を位置決めする。すなわち、図13に示される底面基板10と上面基板30を図13に示される固定位置に輸送し、すなわち上面基板30を底面基板10の上方に位置させる。
(81)隔離層を定位に移動させる。すなわち、図13に示される帯状の隔離層70を(80)のステップの底面基板10と上面基板30の間の位置に移動させ、図13に示されるように底面基板10の上面基板30の上方及び上面基板30の下方の位置に位置させる。
(82)隔離層を底面基板に接合する。すなわち(81)のステップの隔離層70の下保護膜78を除去し、下UV接着剤層73を底面基板10の上端の配向層13に接合し、その方法は上述の(42)のステップと同様である。
(83)液晶を隔離層の空洞中に注入する。すなわち(82)のステップで底面基板10に接合した隔離層70の上端の上UV接着剤層75を上面基板30の下方の配向層31に接合し、底面基板10、隔離層70及び上面基板30を図12のように一体に結合する。
(84)紫外光照射設備により照射加熱する。すなわち、(83)のステップで完成した底面基板10、隔離層70及び上面基板30の組合せ構造に対して、紫外光を照射加熱し、隔離層70下端の下UV接着剤層73と上端の上UV接着剤層75を加熱し硬化させ、隔離層70と該底面基板10と上面基板30を強固に結合する。
(85)裁断成型。すなわち(84)のステップで紫外光照射完成して一体に組み合わせた底面基板10、隔離層70及び上面基板30を裁断し、図15に示す本発明の厚いセルギャップの液晶パネル100’製品を形成する。
(86)液晶を隔離層の空洞に真空注入する。すなわち、周知の真空注入方式により、液晶を(85)のステップで形成した液晶パネル100’のユニットの隔離層70の注入孔721に注入し、全体の空洞72に充填する。
(87)注入孔を密封する。すなわち、(86)のステップで隔離層70の空洞72に液晶を注入した後、該隔離層70の注入孔721を密封し、図16のような液晶パネル100’製品を形成する。
12 ITO導電層 13 配向層
20 隔離層 21 隔離柱
22 空洞 23 下UV接着剤層
24 下保護膜 25 上UV接着剤層
26 上保護膜 30 上面基板
31 配向層 32 ITO導電層
33 ガラス基板 40 底面基板と上面基板の位置決め
41 隔離層を定位に移動 42 隔離層を底面基板に接合
43 液晶を隔離層の空洞に注入 44 隔離層と上面基板を接合
45 紫外光設備で照射加熱 46 裁断成型
50 紫外光設備 60 両面配向薄膜
61 透明基板 62 第1配向膜
63 第2配向膜 70 隔離層
71 隔離柱 72 空洞
721 注入孔 73 下UV接着剤層
74 下保護膜 75 上UV接着剤層
80 底面基板と上面基板の位置決め 81 隔離層を定位に移動
82 隔離層を底面基板に接合 83 隔離層と上面基板を接合
84 紫外光設備で照射加熱 85 裁断成型
86 液晶を隔離層の空洞に注入 87 注入孔密封
100’ 液晶パネル H 高さ
Claims (17)
- 液晶パネルのセルギャップ形成方法において、
(A)底面基板及び上面基板を位置決めし、すなわち、底面基板と上面基板を固定位置に輸送し、上面基板を底面基板の上方に位置させるステップ、
(B)隔離層を定位に移動させ、すなわち、少なくとも一つの隔離層を(A)のステップの底面基板と上面基板の間の位置に移動させ、隔離層内に若干の隔離柱と空洞を設けるステップ、
(C)隔離層を底面基板に接合し、すなわち(B)のステップの隔離層の下方を底面基板の上端に接合するステップ、
(D)液晶を隔離層の空洞中に注入し、すなわち(C)のステップで底面基板に接合した隔離層の空洞に、液晶注入するステップ、
(E)隔離層と上面基板を接合し、すなわち(D)のステップで液晶注入完成した隔離層上端を(A)のステップの上面基板下方に接合し、該底面基板、隔離層と上面基板を結合して一体となすステップ、
(F)紫外光照射設備により照射加熱し、すなわち、(E)のステップで完成した底面基板、隔離層及び上面基板の一体の構造に対して、紫外光を照射加熱し、隔離層と該底面基板と上面基板を強固に結合するステップ、
(G)裁断成型し、すなわち(F)のステップで紫外光照射完成した底面基板、隔離層及び上面基板を裁断し、厚いセルギャップの液晶パネル製品を形成するステップ、
以上のステップを包含することを特徴とする、液晶パネルのセルギャップ形成方法。 - 請求項1記載の液晶パネルのセルギャップ形成方法において、(A)のステップ中の底面基板は、
底部に位置する底層と、
該底層上に結合されたITO導電層と、
該ITO導電層上に結合された配向層と、
を包含することを特徴とする、液晶パネルのセルギャップ形成方法。 - 請求項2記載の液晶パネルのセルギャップ形成方法において、該底層がガラスとされたことを特徴とする、液晶パネルのセルギャップ形成方法。
- 請求項2記載の液晶パネルのセルギャップ形成方法において、該底層がフレキシブル基板とされたことを特徴とする、液晶パネルのセルギャップ形成方法。
- 請求項1記載の液晶パネルのセルギャップ形成方法において、(B)のステップ中の隔離層は、
該隔離層内に分布し且つ交錯方式で配置された複数の隔離柱と空洞、
該隔離柱と空洞の下方に結合された下UV接着剤層、
該下UV接着剤層に結合されて該下UV接着剤層を保護する下保護膜、
該隔離柱と空洞の上方に結合された上UV接着剤層、
該上UV接着剤層に結合されて該上UV接着剤層の上面を保護する上保護膜、
を包含することを特徴とする、液晶パネルのセルギャップ形成方法。 - 請求項5記載の液晶パネルのセルギャップ形成方法において、該隔離柱がポリテトラフロロエチレンで形成されたことを特徴とする、液晶パネルのセルギャップ形成方法。
- 請求項1記載の液晶パネルのセルギャップ形成方法において、(A)のステップの隔離層が帯状とされたことを特徴とする、液晶パネルのセルギャップ形成方法。
- 請求項1記載の液晶パネルのセルギャップ形成方法において、(A)のステップの上面基板が、
該上面基板の底面に位置する配向層と、
この配向層上に結合されたITO導電層と、
このITO導電層上に結合されたガラス基板と、
を包含することを特徴とする、液晶パネルのセルギャップ形成方法。 - 請求項1記載の液晶パネルのセルギャップ形成方法において、(D)のステップの隔離層の空洞への液晶の注入方式は滴下式液晶注入方法であることを特徴とする、液晶パネルのセルギャップ形成方法。
- 請求項1記載の液晶パネルのセルギャップ形成方法において、(B)のステップの隔離層の数量が二個であることを特徴とする、液晶パネルのセルギャップ形成方法。
- 請求項10記載の液晶パネルのセルギャップ形成方法において、二つの隔離層の間に両面配向薄膜が結合されたことを特徴とする、液晶パネルのセルギャップ形成方法。
- 請求項11記載の液晶パネルのセルギャップ形成方法において、該両面配向薄膜が、
透明基板と、
該透明基板の上面にコーティングされ、隔離層に結合される第1配向膜と、
該透明基板の底面にコーティングされ、もう一つの隔離層に結合される第2配向膜と、 を包含したことを特徴とする、液晶パネルのセルギャップ形成方法。 - 請求項12記載の液晶パネルのセルギャップ形成方法において、該透明基板が異方性ポリマーフィルムとされたことを特徴とする、液晶パネルのセルギャップ形成方法。
- 請求項12記載の液晶パネルのセルギャップ形成方法において、該第1配向膜の配向角度と第2配向膜の配向角度が90度異なることを特徴とする、液晶パネルのセルギャップ形成方法。
- 液晶パネルのセルギャップ形成方法において、
(a)底面基板及び上面基板を位置決めし、すなわち、底面基板と上面基板を固定位置に輸送し、上面基板を底面基板の上方に位置させるステップ、
(b)隔離層を定位に移動させ、すなわち、帯状の隔離層を(a)のステップの底面基板と上面基板の間の位置に移動させ、底面基板と上面基板の間の位置に位置づけ、該隔離層内に若干の隔離柱と空洞を設け、該空洞の一側に注入孔を形成するステップ、
(c)隔離層を底面基板に接合し、すなわち(b)のステップの隔離層の下方を底面基板の上端に接合するステップ、
(d)隔離層と上面基板を接合し、すなわち(c)のステップの隔離層上端を(a)のステップの上面基板下方に接合し、該底面基板、隔離層と上面基板を結合して一体となすステップ、
(e)紫外光照射設備により照射加熱し、すなわち、(d)のステップで完成した底面基板、隔離層及び上面基板の一体の構造に対して、紫外光を照射加熱し、隔離層下端の下UV接着剤層と上端の上UV接着剤層を加熱硬化させ、該隔離層と該底面基板と上面基板を強固に結合するステップ、
(f)裁断成型し、すなわち(e)のステップで紫外光照射完成した底面基板、隔離層及び上面基板を裁断し、液晶パネルユニットを形成するステップ、
(g)液晶を隔離層の空洞に真空注入し、すなわち(f)のステップで完成した液晶パネルユニットの隔離層の注入孔より空洞に液晶を充填するステップ、
(h)注入孔を密封し、すなわち(g)のステップで液晶の隔離層の空洞への注入を完成した後に、該隔離層の注入孔を密封し、液晶パネル製品を形成するステップ、
を包含することを特徴とする、液晶パネルのセルギャップ形成方法。 - 請求項15記載の液晶パネルのセルギャップ形成方法において、(d)のステップ中の隔離層が、
該隔離層内に分布する若干の隔離柱と空洞、
該隔離柱と空洞の下方に結合された下UV接着剤層、
該下UV接着剤層に結合されて下UV接着剤層を保護する下保護膜、
該隔離柱と空洞の上方に結合された上UV接着剤層、
該上UV接着剤層に結合されて上UV接着剤層を保護すると共に空洞上端を封鎖する上保護膜、
以上を包含したことを特徴とする、液晶パネルのセルギャップ形成方法。 - 請求項16記載の液晶パネルのセルギャップ形成方法において、該隔離柱が不規則形状とされたことを特徴とする、液晶パネルのセルギャップ形成方法。
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