JP2008121002A - 光学成形体 - Google Patents
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- 230000003287 optical effect Effects 0.000 title claims abstract description 55
- 229920001400 block copolymer Polymers 0.000 claims abstract description 55
- 229920000642 polymer Polymers 0.000 claims abstract description 41
- 150000001993 dienes Chemical class 0.000 claims abstract description 23
- 239000011342 resin composition Substances 0.000 claims abstract description 13
- 229920001890 Novodur Polymers 0.000 claims abstract description 3
- 229920002554 vinyl polymer Polymers 0.000 claims description 59
- -1 vinyl aromatic hydrocarbon Chemical class 0.000 claims description 52
- PPBRXRYQALVLMV-UHFFFAOYSA-N Styrene Chemical compound C=CC1=CC=CC=C1 PPBRXRYQALVLMV-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 42
- 229920005992 thermoplastic resin Polymers 0.000 claims description 14
- 229920001577 copolymer Polymers 0.000 claims description 11
- 229920003067 (meth)acrylic acid ester copolymer Polymers 0.000 claims description 8
- 150000004945 aromatic hydrocarbons Chemical class 0.000 claims description 7
- 238000000465 moulding Methods 0.000 abstract description 18
- 229930195733 hydrocarbon Natural products 0.000 abstract description 7
- 239000004215 Carbon black (E152) Substances 0.000 abstract description 6
- 150000002430 hydrocarbons Chemical class 0.000 abstract description 6
- 238000000034 method Methods 0.000 description 23
- KAKZBPTYRLMSJV-UHFFFAOYSA-N Butadiene Chemical compound C=CC=C KAKZBPTYRLMSJV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 20
- 238000006116 polymerization reaction Methods 0.000 description 14
- 239000000203 mixture Substances 0.000 description 12
- 229920005989 resin Polymers 0.000 description 11
- 239000011347 resin Substances 0.000 description 11
- MZRVEZGGRBJDDB-UHFFFAOYSA-N N-Butyllithium Chemical compound [Li]CCCC MZRVEZGGRBJDDB-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 10
- RRHGJUQNOFWUDK-UHFFFAOYSA-N Isoprene Chemical compound CC(=C)C=C RRHGJUQNOFWUDK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 8
- 230000000052 comparative effect Effects 0.000 description 8
- 239000004793 Polystyrene Substances 0.000 description 7
- ZMANZCXQSJIPKH-UHFFFAOYSA-N Triethylamine Chemical compound CCN(CC)CC ZMANZCXQSJIPKH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 6
- 238000001125 extrusion Methods 0.000 description 6
- 238000005227 gel permeation chromatography Methods 0.000 description 6
- 229920002223 polystyrene Polymers 0.000 description 6
- 150000001875 compounds Chemical class 0.000 description 5
- XDTMQSROBMDMFD-UHFFFAOYSA-N Cyclohexane Chemical compound C1CCCCC1 XDTMQSROBMDMFD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- WYURNTSHIVDZCO-UHFFFAOYSA-N Tetrahydrofuran Chemical compound C1CCOC1 WYURNTSHIVDZCO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- 239000003054 catalyst Substances 0.000 description 4
- 239000003795 chemical substances by application Substances 0.000 description 4
- 239000002904 solvent Substances 0.000 description 4
- UHOVQNZJYSORNB-UHFFFAOYSA-N Benzene Chemical compound C1=CC=CC=C1 UHOVQNZJYSORNB-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- OKKJLVBELUTLKV-UHFFFAOYSA-N Methanol Chemical compound OC OKKJLVBELUTLKV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- YXFVVABEGXRONW-UHFFFAOYSA-N Toluene Chemical compound CC1=CC=CC=C1 YXFVVABEGXRONW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- 239000000654 additive Substances 0.000 description 3
- 150000001412 amines Chemical class 0.000 description 3
- 238000000071 blow moulding Methods 0.000 description 3
- 238000001746 injection moulding Methods 0.000 description 3
- 238000004519 manufacturing process Methods 0.000 description 3
- 239000000463 material Substances 0.000 description 3
- 238000005259 measurement Methods 0.000 description 3
- 238000002156 mixing Methods 0.000 description 3
- VLKZOEOYAKHREP-UHFFFAOYSA-N n-Hexane Chemical compound CCCCCC VLKZOEOYAKHREP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- OFBQJSOFQDEBGM-UHFFFAOYSA-N n-pentane Natural products CCCCC OFBQJSOFQDEBGM-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- 229910000489 osmium tetroxide Inorganic materials 0.000 description 3
- 239000012285 osmium tetroxide Substances 0.000 description 3
- 229920003023 plastic Polymers 0.000 description 3
- 239000010734 process oil Substances 0.000 description 3
- 230000001681 protective effect Effects 0.000 description 3
- 239000002994 raw material Substances 0.000 description 3
- 239000000243 solution Substances 0.000 description 3
- 238000002834 transmittance Methods 0.000 description 3
- 125000000391 vinyl group Chemical group [H]C([*])=C([H])[H] 0.000 description 3
- SDJHPPZKZZWAKF-UHFFFAOYSA-N 2,3-dimethylbuta-1,3-diene Chemical compound CC(=C)C(C)=C SDJHPPZKZZWAKF-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- CRWNQZTZTZWPOF-UHFFFAOYSA-N 2-methyl-4-phenylpyridine Chemical compound C1=NC(C)=CC(C=2C=CC=CC=2)=C1 CRWNQZTZTZWPOF-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- JLBJTVDPSNHSKJ-UHFFFAOYSA-N 4-Methylstyrene Chemical compound CC1=CC=C(C=C)C=C1 JLBJTVDPSNHSKJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- IJGRMHOSHXDMSA-UHFFFAOYSA-N Atomic nitrogen Chemical compound N#N IJGRMHOSHXDMSA-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- RGSFGYAAUTVSQA-UHFFFAOYSA-N Cyclopentane Chemical compound C1CCCC1 RGSFGYAAUTVSQA-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- YNQLUTRBYVCPMQ-UHFFFAOYSA-N Ethylbenzene Chemical compound CCC1=CC=CC=C1 YNQLUTRBYVCPMQ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- DGAQECJNVWCQMB-PUAWFVPOSA-M Ilexoside XXIX Chemical compound C[C@@H]1CC[C@@]2(CC[C@@]3(C(=CC[C@H]4[C@]3(CC[C@@H]5[C@@]4(CC[C@@H](C5(C)C)OS(=O)(=O)[O-])C)C)[C@@H]2[C@]1(C)O)C)C(=O)O[C@H]6[C@@H]([C@H]([C@@H]([C@H](O6)CO)O)O)O.[Na+] DGAQECJNVWCQMB-PUAWFVPOSA-M 0.000 description 2
- UQSXHKLRYXJYBZ-UHFFFAOYSA-N Iron oxide Chemical compound [Fe]=O UQSXHKLRYXJYBZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 229920009204 Methacrylate-butadiene-styrene Polymers 0.000 description 2
- CERQOIWHTDAKMF-UHFFFAOYSA-N Methacrylic acid Chemical class CC(=C)C(O)=O CERQOIWHTDAKMF-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- BAPJBEWLBFYGME-UHFFFAOYSA-N Methyl acrylate Chemical compound COC(=O)C=C BAPJBEWLBFYGME-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- KWYHDKDOAIKMQN-UHFFFAOYSA-N N,N,N',N'-tetramethylethylenediamine Chemical compound CN(C)CCN(C)C KWYHDKDOAIKMQN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- IMNFDUFMRHMDMM-UHFFFAOYSA-N N-Heptane Chemical compound CCCCCCC IMNFDUFMRHMDMM-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- ZLMJMSJWJFRBEC-UHFFFAOYSA-N Potassium Chemical compound [K] ZLMJMSJWJFRBEC-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 229920007962 Styrene Methyl Methacrylate Polymers 0.000 description 2
- XECAHXYUAAWDEL-UHFFFAOYSA-N acrylonitrile butadiene styrene Chemical compound C=CC=C.C=CC#N.C=CC1=CC=CC=C1 XECAHXYUAAWDEL-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 229920000122 acrylonitrile butadiene styrene Polymers 0.000 description 2
- 239000004676 acrylonitrile butadiene styrene Substances 0.000 description 2
- 150000004703 alkoxides Chemical class 0.000 description 2
- XYLMUPLGERFSHI-UHFFFAOYSA-N alpha-Methylstyrene Chemical compound CC(=C)C1=CC=CC=C1 XYLMUPLGERFSHI-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 239000003963 antioxidant agent Substances 0.000 description 2
- 230000008859 change Effects 0.000 description 2
- 230000007423 decrease Effects 0.000 description 2
- SBZXBUIDTXKZTM-UHFFFAOYSA-N diglyme Chemical compound COCCOCCOC SBZXBUIDTXKZTM-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 229910001873 dinitrogen Inorganic materials 0.000 description 2
- UKMSUNONTOPOIO-UHFFFAOYSA-N docosanoic acid Chemical compound CCCCCCCCCCCCCCCCCCCCCC(O)=O UKMSUNONTOPOIO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 150000002170 ethers Chemical class 0.000 description 2
- 125000004494 ethyl ester group Chemical group 0.000 description 2
- IIEWJVIFRVWJOD-UHFFFAOYSA-N ethylcyclohexane Chemical compound CCC1CCCCC1 IIEWJVIFRVWJOD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 238000011156 evaluation Methods 0.000 description 2
- 239000010408 film Substances 0.000 description 2
- 229920005669 high impact polystyrene Polymers 0.000 description 2
- 239000004797 high-impact polystyrene Substances 0.000 description 2
- 238000009863 impact test Methods 0.000 description 2
- 239000003999 initiator Substances 0.000 description 2
- QWTDNUCVQCZILF-UHFFFAOYSA-N isopentane Chemical compound CCC(C)C QWTDNUCVQCZILF-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 150000002642 lithium compounds Chemical class 0.000 description 2
- HQKMJHAJHXVSDF-UHFFFAOYSA-L magnesium stearate Chemical compound [Mg+2].CCCCCCCCCCCCCCCCCC([O-])=O.CCCCCCCCCCCCCCCCCC([O-])=O HQKMJHAJHXVSDF-UHFFFAOYSA-L 0.000 description 2
- 239000000155 melt Substances 0.000 description 2
- ADFPJHOAARPYLP-UHFFFAOYSA-N methyl 2-methylprop-2-enoate;styrene Chemical compound COC(=O)C(C)=C.C=CC1=CC=CC=C1 ADFPJHOAARPYLP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- UAEPNZWRGJTJPN-UHFFFAOYSA-N methylcyclohexane Chemical compound CC1CCCCC1 UAEPNZWRGJTJPN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- GDOPTJXRTPNYNR-UHFFFAOYSA-N methylcyclopentane Chemical compound CC1CCCC1 GDOPTJXRTPNYNR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 239000000178 monomer Substances 0.000 description 2
- 125000004108 n-butyl group Chemical group [H]C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])* 0.000 description 2
- 150000003003 phosphines Chemical class 0.000 description 2
- 150000008039 phosphoramides Chemical class 0.000 description 2
- 239000004033 plastic Substances 0.000 description 2
- 229920003229 poly(methyl methacrylate) Polymers 0.000 description 2
- 239000004926 polymethyl methacrylate Substances 0.000 description 2
- 229920005672 polyolefin resin Polymers 0.000 description 2
- 239000011591 potassium Substances 0.000 description 2
- 229910052700 potassium Inorganic materials 0.000 description 2
- 239000011734 sodium Substances 0.000 description 2
- 229910052708 sodium Inorganic materials 0.000 description 2
- 239000000126 substance Substances 0.000 description 2
- YLQBMQCUIZJEEH-UHFFFAOYSA-N tetrahydrofuran Natural products C=1C=COC=1 YLQBMQCUIZJEEH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 150000003568 thioethers Chemical class 0.000 description 2
- AHAREKHAZNPPMI-AATRIKPKSA-N (3e)-hexa-1,3-diene Chemical compound CC\C=C\C=C AHAREKHAZNPPMI-AATRIKPKSA-N 0.000 description 1
- PMJHHCWVYXUKFD-SNAWJCMRSA-N (E)-1,3-pentadiene Chemical compound C\C=C\C=C PMJHHCWVYXUKFD-SNAWJCMRSA-N 0.000 description 1
- NVZWEEGUWXZOKI-UHFFFAOYSA-N 1-ethenyl-2-methylbenzene Chemical compound CC1=CC=CC=C1C=C NVZWEEGUWXZOKI-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- UVHXEHGUEKARKZ-UHFFFAOYSA-N 1-ethenylanthracene Chemical compound C1=CC=C2C=C3C(C=C)=CC=CC3=CC2=C1 UVHXEHGUEKARKZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- ZMYIIHDQURVDRB-UHFFFAOYSA-N 1-phenylethenylbenzene Chemical group C=1C=CC=CC=1C(=C)C1=CC=CC=C1 ZMYIIHDQURVDRB-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- QEDJMOONZLUIMC-UHFFFAOYSA-N 1-tert-butyl-4-ethenylbenzene Chemical compound CC(C)(C)C1=CC=C(C=C)C=C1 QEDJMOONZLUIMC-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- IGGDKDTUCAWDAN-UHFFFAOYSA-N 1-vinylnaphthalene Chemical compound C1=CC=C2C(C=C)=CC=CC2=C1 IGGDKDTUCAWDAN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- NPSJHQMIVNJLNN-UHFFFAOYSA-N 2-ethylhexyl 4-nitrobenzoate Chemical compound CCCCC(CC)COC(=O)C1=CC=C([N+]([O-])=O)C=C1 NPSJHQMIVNJLNN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000004808 2-ethylhexylester Substances 0.000 description 1
- NMYFVWYGKGVPIW-UHFFFAOYSA-N 3,7-dioxabicyclo[7.2.2]trideca-1(11),9,12-triene-2,8-dione Chemical compound O=C1OCCCOC(=O)C2=CC=C1C=C2 NMYFVWYGKGVPIW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- PYSRRFNXTXNWCD-UHFFFAOYSA-N 3-(2-phenylethenyl)furan-2,5-dione Chemical compound O=C1OC(=O)C(C=CC=2C=CC=CC=2)=C1 PYSRRFNXTXNWCD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- VXEGSRKPIUDPQT-UHFFFAOYSA-N 4-[4-(4-methoxyphenyl)piperazin-1-yl]aniline Chemical compound C1=CC(OC)=CC=C1N1CCN(C=2C=CC(N)=CC=2)CC1 VXEGSRKPIUDPQT-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- APMOEFCWQRJOPS-UHFFFAOYSA-N 5-ethenyl-1,5-dimethylcyclohexa-1,3-diene Chemical compound CC1=CC=CC(C)(C=C)C1 APMOEFCWQRJOPS-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- NIXOWILDQLNWCW-UHFFFAOYSA-M Acrylate Chemical compound [O-]C(=O)C=C NIXOWILDQLNWCW-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 1
- 235000021357 Behenic acid Nutrition 0.000 description 1
- 229920000049 Carbon (fiber) Polymers 0.000 description 1
- LFQSCWFLJHTTHZ-UHFFFAOYSA-N Ethanol Chemical compound CCO LFQSCWFLJHTTHZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- UFHFLCQGNIYNRP-UHFFFAOYSA-N Hydrogen Chemical compound [H][H] UFHFLCQGNIYNRP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- WHXSMMKQMYFTQS-UHFFFAOYSA-N Lithium Chemical group [Li] WHXSMMKQMYFTQS-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- VVQNEPGJFQJSBK-UHFFFAOYSA-N Methyl methacrylate Chemical compound COC(=O)C(C)=C VVQNEPGJFQJSBK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- CTQNGGLPUBDAKN-UHFFFAOYSA-N O-Xylene Chemical compound CC1=CC=CC=C1C CTQNGGLPUBDAKN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- ISWSIDIOOBJBQZ-UHFFFAOYSA-N Phenol Chemical compound OC1=CC=CC=C1 ISWSIDIOOBJBQZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- OAICVXFJPJFONN-UHFFFAOYSA-N Phosphorus Chemical compound [P] OAICVXFJPJFONN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000004696 Poly ether ether ketone Substances 0.000 description 1
- 229930182556 Polyacetal Natural products 0.000 description 1
- 239000004697 Polyetherimide Substances 0.000 description 1
- 239000004698 Polyethylene Substances 0.000 description 1
- 239000004721 Polyphenylene oxide Substances 0.000 description 1
- 239000004734 Polyphenylene sulfide Substances 0.000 description 1
- 239000004743 Polypropylene Substances 0.000 description 1
- 235000021355 Stearic acid Nutrition 0.000 description 1
- 229920000147 Styrene maleic anhydride Polymers 0.000 description 1
- 229910021627 Tin(IV) chloride Inorganic materials 0.000 description 1
- ICKXMDGNIZPYRS-UHFFFAOYSA-N [Li]CCCCCC[Li] Chemical compound [Li]CCCCCC[Li] ICKXMDGNIZPYRS-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000006096 absorbing agent Substances 0.000 description 1
- 230000000996 additive effect Effects 0.000 description 1
- 150000001338 aliphatic hydrocarbons Chemical class 0.000 description 1
- 125000000129 anionic group Chemical group 0.000 description 1
- 239000002216 antistatic agent Substances 0.000 description 1
- 125000003118 aryl group Chemical group 0.000 description 1
- 230000004888 barrier function Effects 0.000 description 1
- 229940116226 behenic acid Drugs 0.000 description 1
- 150000001565 benzotriazoles Chemical class 0.000 description 1
- LKAVYBZHOYOUSX-UHFFFAOYSA-N buta-1,3-diene;2-methylprop-2-enoic acid;styrene Chemical compound C=CC=C.CC(=C)C(O)=O.C=CC1=CC=CC=C1 LKAVYBZHOYOUSX-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000001273 butane Substances 0.000 description 1
- CJZGTCYPCWQAJB-UHFFFAOYSA-L calcium stearate Chemical compound [Ca+2].CCCCCCCCCCCCCCCCCC([O-])=O.CCCCCCCCCCCCCCCCCC([O-])=O CJZGTCYPCWQAJB-UHFFFAOYSA-L 0.000 description 1
- 239000008116 calcium stearate Substances 0.000 description 1
- 235000013539 calcium stearate Nutrition 0.000 description 1
- 238000011088 calibration curve Methods 0.000 description 1
- 125000004432 carbon atom Chemical group C* 0.000 description 1
- UBAZGMLMVVQSCD-UHFFFAOYSA-N carbon dioxide;molecular oxygen Chemical compound O=O.O=C=O UBAZGMLMVVQSCD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000004917 carbon fiber Substances 0.000 description 1
- 238000003763 carbonization Methods 0.000 description 1
- 238000006243 chemical reaction Methods 0.000 description 1
- 239000011248 coating agent Substances 0.000 description 1
- 238000000576 coating method Methods 0.000 description 1
- 239000003086 colorant Substances 0.000 description 1
- 238000007796 conventional method Methods 0.000 description 1
- 239000007822 coupling agent Substances 0.000 description 1
- 125000004122 cyclic group Chemical group 0.000 description 1
- 238000000354 decomposition reaction Methods 0.000 description 1
- 230000003247 decreasing effect Effects 0.000 description 1
- 238000011161 development Methods 0.000 description 1
- LSXWFXONGKSEMY-UHFFFAOYSA-N di-tert-butyl peroxide Chemical compound CC(C)(C)OOC(C)(C)C LSXWFXONGKSEMY-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- SMBQBQBNOXIFSF-UHFFFAOYSA-N dilithium Chemical compound [Li][Li] SMBQBQBNOXIFSF-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- AFABGHUZZDYHJO-UHFFFAOYSA-N dimethyl butane Natural products CCCC(C)C AFABGHUZZDYHJO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000000428 dust Substances 0.000 description 1
- 230000000694 effects Effects 0.000 description 1
- 238000005516 engineering process Methods 0.000 description 1
- 150000002148 esters Chemical group 0.000 description 1
- 125000001495 ethyl group Chemical group [H]C([H])([H])C([H])([H])* 0.000 description 1
- BLHLJVCOVBYQQS-UHFFFAOYSA-N ethyllithium Chemical compound [Li]CC BLHLJVCOVBYQQS-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000000835 fiber Substances 0.000 description 1
- 239000003063 flame retardant Substances 0.000 description 1
- 238000010097 foam moulding Methods 0.000 description 1
- 238000009472 formulation Methods 0.000 description 1
- 239000007789 gas Substances 0.000 description 1
- 239000003365 glass fiber Substances 0.000 description 1
- 239000012760 heat stabilizer Substances 0.000 description 1
- DMEGYFMYUHOHGS-UHFFFAOYSA-N heptamethylene Natural products C1CCCCCC1 DMEGYFMYUHOHGS-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229920001519 homopolymer Polymers 0.000 description 1
- 239000001257 hydrogen Substances 0.000 description 1
- 229910052739 hydrogen Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000012535 impurity Substances 0.000 description 1
- 239000011261 inert gas Substances 0.000 description 1
- 238000002347 injection Methods 0.000 description 1
- 239000007924 injection Substances 0.000 description 1
- 238000010102 injection blow moulding Methods 0.000 description 1
- 239000011256 inorganic filler Substances 0.000 description 1
- 229910003475 inorganic filler Inorganic materials 0.000 description 1
- 235000013980 iron oxide Nutrition 0.000 description 1
- 125000000959 isobutyl group Chemical group [H]C([H])([H])C([H])(C([H])([H])[H])C([H])([H])* 0.000 description 1
- 239000004611 light stabiliser Substances 0.000 description 1
- 239000007788 liquid Substances 0.000 description 1
- 229940057995 liquid paraffin Drugs 0.000 description 1
- UBJFKNSINUCEAL-UHFFFAOYSA-N lithium;2-methylpropane Chemical compound [Li+].C[C-](C)C UBJFKNSINUCEAL-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- WGOPGODQLGJZGL-UHFFFAOYSA-N lithium;butane Chemical compound [Li+].CC[CH-]C WGOPGODQLGJZGL-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- SZAVVKVUMPLRRS-UHFFFAOYSA-N lithium;propane Chemical compound [Li+].C[CH-]C SZAVVKVUMPLRRS-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- XBEREOHJDYAKDA-UHFFFAOYSA-N lithium;propane Chemical compound [Li+].CC[CH2-] XBEREOHJDYAKDA-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000000314 lubricant Substances 0.000 description 1
- 235000019359 magnesium stearate Nutrition 0.000 description 1
- 229910052751 metal Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000002184 metal Substances 0.000 description 1
- GYNNXHKOJHMOHS-UHFFFAOYSA-N methyl-cycloheptane Natural products CC1CCCCCC1 GYNNXHKOJHMOHS-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000002480 mineral oil Substances 0.000 description 1
- 239000006082 mold release agent Substances 0.000 description 1
- RKISUIUJZGSLEV-UHFFFAOYSA-N n-[2-(octadecanoylamino)ethyl]octadecanamide Chemical compound CCCCCCCCCCCCCCCCCC(=O)NCCNC(=O)CCCCCCCCCCCCCCCCC RKISUIUJZGSLEV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- IJDNQMDRQITEOD-UHFFFAOYSA-N n-butane Chemical compound CCCC IJDNQMDRQITEOD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- JFNLZVQOOSMTJK-KNVOCYPGSA-N norbornene Chemical compound C1[C@@H]2CC[C@H]1C=C2 JFNLZVQOOSMTJK-KNVOCYPGSA-N 0.000 description 1
- QIQXTHQIDYTFRH-UHFFFAOYSA-N octadecanoic acid Chemical compound CCCCCCCCCCCCCCCCCC(O)=O QIQXTHQIDYTFRH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- OQCDKBAXFALNLD-UHFFFAOYSA-N octadecanoic acid Natural products CCCCCCCC(C)CCCCCCCCC(O)=O OQCDKBAXFALNLD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- TVMXDCGIABBOFY-UHFFFAOYSA-N octane Chemical compound CCCCCCCC TVMXDCGIABBOFY-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000013307 optical fiber Substances 0.000 description 1
- 239000012788 optical film Substances 0.000 description 1
- 150000002900 organolithium compounds Chemical class 0.000 description 1
- 238000006864 oxidative decomposition reaction Methods 0.000 description 1
- 239000008188 pellet Substances 0.000 description 1
- 229910052698 phosphorus Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000011574 phosphorus Substances 0.000 description 1
- 239000000049 pigment Substances 0.000 description 1
- PMJHHCWVYXUKFD-UHFFFAOYSA-N piperylene Natural products CC=CC=C PMJHHCWVYXUKFD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000004014 plasticizer Substances 0.000 description 1
- 229920002285 poly(styrene-co-acrylonitrile) Polymers 0.000 description 1
- 229920002492 poly(sulfone) Polymers 0.000 description 1
- 229920006122 polyamide resin Polymers 0.000 description 1
- 229920001083 polybutene Polymers 0.000 description 1
- 229920001707 polybutylene terephthalate Polymers 0.000 description 1
- 229920005668 polycarbonate resin Polymers 0.000 description 1
- 239000004431 polycarbonate resin Substances 0.000 description 1
- 229920001225 polyester resin Polymers 0.000 description 1
- 239000004645 polyester resin Substances 0.000 description 1
- 229920002530 polyetherether ketone Polymers 0.000 description 1
- 229920001601 polyetherimide Polymers 0.000 description 1
- 229920000573 polyethylene Polymers 0.000 description 1
- 229920000139 polyethylene terephthalate Polymers 0.000 description 1
- 239000005020 polyethylene terephthalate Substances 0.000 description 1
- 229920001721 polyimide Polymers 0.000 description 1
- 239000009719 polyimide resin Substances 0.000 description 1
- 229920000193 polymethacrylate Polymers 0.000 description 1
- 229920006324 polyoxymethylene Polymers 0.000 description 1
- 229920006380 polyphenylene oxide Polymers 0.000 description 1
- 229920000069 polyphenylene sulfide Polymers 0.000 description 1
- 229920001155 polypropylene Polymers 0.000 description 1
- 229920001296 polysiloxane Polymers 0.000 description 1
- 229920005990 polystyrene resin Polymers 0.000 description 1
- 229920000346 polystyrene-polyisoprene block-polystyrene Polymers 0.000 description 1
- 239000004800 polyvinyl chloride Substances 0.000 description 1
- 229920000915 polyvinyl chloride Polymers 0.000 description 1
- 238000003825 pressing Methods 0.000 description 1
- 230000008569 process Effects 0.000 description 1
- 238000012545 processing Methods 0.000 description 1
- 229920005604 random copolymer Polymers 0.000 description 1
- 230000009257 reactivity Effects 0.000 description 1
- 239000012744 reinforcing agent Substances 0.000 description 1
- 238000012552 review Methods 0.000 description 1
- 238000007493 shaping process Methods 0.000 description 1
- 239000005049 silicon tetrachloride Substances 0.000 description 1
- 239000003381 stabilizer Substances 0.000 description 1
- 239000008117 stearic acid Substances 0.000 description 1
- 238000006557 surface reaction Methods 0.000 description 1
- 125000000999 tert-butyl group Chemical group [H]C([H])([H])C(*)(C([H])([H])[H])C([H])([H])[H] 0.000 description 1
- 238000012360 testing method Methods 0.000 description 1
- 238000005979 thermal decomposition reaction Methods 0.000 description 1
- HPGGPRDJHPYFRM-UHFFFAOYSA-J tin(iv) chloride Chemical compound Cl[Sn](Cl)(Cl)Cl HPGGPRDJHPYFRM-UHFFFAOYSA-J 0.000 description 1
- 239000012780 transparent material Substances 0.000 description 1
- 238000007666 vacuum forming Methods 0.000 description 1
- XLYOFNOQVPJJNP-UHFFFAOYSA-N water Substances O XLYOFNOQVPJJNP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229910001868 water Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000008096 xylene Substances 0.000 description 1
- XOOUIPVCVHRTMJ-UHFFFAOYSA-L zinc stearate Chemical compound [Zn+2].CCCCCCCCCCCCCCCCCC([O-])=O.CCCCCCCCCCCCCCCCCC([O-])=O XOOUIPVCVHRTMJ-UHFFFAOYSA-L 0.000 description 1
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- Manufacture Of Macromolecular Shaped Articles (AREA)
Abstract
【課題】成形後の複屈折が小さく、透明、耐衝撃性にすぐれた光学成形品の提供。
【解決手段】少なくとも1個のビニル芳香族炭化水素を主体とする重合体ブロックAと少なくとも1個の共役ジエンを主体とする重合体ブロックBとからなるビニル芳香族炭化水素含有量が40〜99質量%のブロック共重合体(1)を少なくとも1種を含有するスチレン系樹脂組成物から構成される光学成形体。
【選択図】なし
【解決手段】少なくとも1個のビニル芳香族炭化水素を主体とする重合体ブロックAと少なくとも1個の共役ジエンを主体とする重合体ブロックBとからなるビニル芳香族炭化水素含有量が40〜99質量%のブロック共重合体(1)を少なくとも1種を含有するスチレン系樹脂組成物から構成される光学成形体。
【選択図】なし
Description
本発明は、複屈折が低いシートから得られる光学特性に優れる光学成形体に関する。
近年、光学技術の発達に伴い、ディスプレイ、光ディスク、レーザープリンター、光ファイバーなど、多くの分野で新しい光学機器製品が開発されており、光学特性に優れた透明プラスチックスが、光学レンズ、プリズム、光ディスクなどの光学製品に多く利用されている。
一般に高分子は分子主鎖方向とそれに垂直方向とで屈折率が異なるために分子鎖の配向により複屈折を生じる。複屈折の小さい透明材料としてPMMAが知られている(非特許文献1)が、耐衝撃性が低いため、複屈折の小さい耐衝撃性の良好な材料が求められている。
一般に高分子は分子主鎖方向とそれに垂直方向とで屈折率が異なるために分子鎖の配向により複屈折を生じる。複屈折の小さい透明材料としてPMMAが知られている(非特許文献1)が、耐衝撃性が低いため、複屈折の小さい耐衝撃性の良好な材料が求められている。
特許文献1に示されているようにラメラ構造を有するブロック共重合体を用いた位相差板が知られている。特許文献1にはスチレン−イソプレンブロック共重合体からなる光学フィルムが開示されているが、低い複屈折と良好な剛性を有する成形体は得られていないのが現状である。
また、ビニル芳香族炭化水素−共役ジエンブロック共重合体とアクリル酸エステル共重合体から構成される樹脂組成物からなるシート、フィルムが開示されている(特許文献2)。しかし、これらの組成物から得られるシート、フィルムが光学特性に優れるという記載は全くない。
化学総説、No.39、1998(学会出版センター発行) 特開平5−164920
特開2001−2870
また、ビニル芳香族炭化水素−共役ジエンブロック共重合体とアクリル酸エステル共重合体から構成される樹脂組成物からなるシート、フィルムが開示されている(特許文献2)。しかし、これらの組成物から得られるシート、フィルムが光学特性に優れるという記載は全くない。
化学総説、No.39、1998(学会出版センター発行)
本発明は、成形後の複屈折変化が小さく、かつ透明性、剛性、耐衝撃性に優れた光学成形体を提供することを目的とする。
本発明者らは、驚くべきことに特定構造のブロック共重合体を使用して得られた光学成形体において、押出や延伸等の成形後でも複屈折変化が小さく、かつ透明性、剛性、耐衝撃性能に優れることを見出し本発明を完成するに至った。
すなわち、本発明は、
[1]少なくとも1個のビニル芳香族炭化水素を主体とする重合体ブロックAと少なくとも1個の共役ジエンを主体とする重合体ブロックBとからなるビニル芳香族炭化水素含有量が40〜99質量%のブロック共重合体(1)を少なくとも1種を含有するスチレン系樹脂組成物から構成され、厚みが300μmを越えるシートから得られる光学成形体。
[2]ブロック共重合体(1)中の全ビニル芳香族炭化水素に対するビニル芳香族炭化水素重合体ブロックのブロック率が50〜100%であり、ブロック共重合体(1)のビニル芳香族炭化水素重合体ブロックの数平均分子量Mnが1万以上15万以下であることを特徴とする[1]に記載の光学成形体。
[3]スチレン系樹脂組成物がブロック共重合体(1)10〜99質量%と熱可塑性樹脂90〜1質量%を含むことを特徴とする[1]又は[2]に記載の光学成形体。
[4]スチレン系樹脂組成物がブロック共重合体(1)30〜80質量%と熱可塑性樹脂70〜20質量%を含むことを特徴とする[1]又は[2]に記載の光学成形体。
[5]熱可塑性樹脂がビニル芳香族炭化水素−(メタ)アクリル酸エステル共重合体であることを特徴とする[3]又は[4]に記載の光学成形体。
[6]ビニル芳香族炭化水素−(メタ)アクリル酸エステル共重合体の芳香族炭化水素含有量が70〜90質量%であることを特徴とする[5]に記載の光学成形体。
[7]ブロック共重合体(1)の芳香族炭化水素含有量が70〜90質量%であることを特徴とする[1]〜[6]のいずれかに記載の光学成形体。
[8]リターデーションが1nm以上2000nm以下であることを特徴とする[1]〜[7]のいずれかに記載の光学成形体、
である。
すなわち、本発明は、
[1]少なくとも1個のビニル芳香族炭化水素を主体とする重合体ブロックAと少なくとも1個の共役ジエンを主体とする重合体ブロックBとからなるビニル芳香族炭化水素含有量が40〜99質量%のブロック共重合体(1)を少なくとも1種を含有するスチレン系樹脂組成物から構成され、厚みが300μmを越えるシートから得られる光学成形体。
[2]ブロック共重合体(1)中の全ビニル芳香族炭化水素に対するビニル芳香族炭化水素重合体ブロックのブロック率が50〜100%であり、ブロック共重合体(1)のビニル芳香族炭化水素重合体ブロックの数平均分子量Mnが1万以上15万以下であることを特徴とする[1]に記載の光学成形体。
[3]スチレン系樹脂組成物がブロック共重合体(1)10〜99質量%と熱可塑性樹脂90〜1質量%を含むことを特徴とする[1]又は[2]に記載の光学成形体。
[4]スチレン系樹脂組成物がブロック共重合体(1)30〜80質量%と熱可塑性樹脂70〜20質量%を含むことを特徴とする[1]又は[2]に記載の光学成形体。
[5]熱可塑性樹脂がビニル芳香族炭化水素−(メタ)アクリル酸エステル共重合体であることを特徴とする[3]又は[4]に記載の光学成形体。
[6]ビニル芳香族炭化水素−(メタ)アクリル酸エステル共重合体の芳香族炭化水素含有量が70〜90質量%であることを特徴とする[5]に記載の光学成形体。
[7]ブロック共重合体(1)の芳香族炭化水素含有量が70〜90質量%であることを特徴とする[1]〜[6]のいずれかに記載の光学成形体。
[8]リターデーションが1nm以上2000nm以下であることを特徴とする[1]〜[7]のいずれかに記載の光学成形体、
である。
本発明により、押出や延伸等の成形後でも複屈折が小さく、すなわちリターデーションが小さく、耐衝撃性、剛性、透明性に優れた成形体の提供が可能になった。
以下、本発明について具体的に説明する。
本発明で用いるブロック共重合体(1)は、少なくとも1個のビニル芳香族炭化水素を主体とする重合体ブロックAと少なくとも1個の共役ジエンを主体とする重合体ブロックBとを有するブロック共重合体である。
ここでビニル芳香族炭化水素を主体とする重合体ブロックAとはビニル芳香族炭化水素含有量を50質量%以上含有するビニル芳香族炭化水素と共役ジエンとの共重合体ブロック及び/又はビニル芳香族炭化水素単独重合体ブロックを示し、共役ジエンを主体とする重合体ブロックBとは共役ジエンを50質量%を越える量で含有する共役ジエンとビニル芳香族炭化水素共重合体ブロック及び/又は共役ジエン単独重合体ブロックをいう。
本発明で用いるブロック共重合体(1)は、少なくとも1個のビニル芳香族炭化水素を主体とする重合体ブロックAと少なくとも1個の共役ジエンを主体とする重合体ブロックBとを有するブロック共重合体である。
ここでビニル芳香族炭化水素を主体とする重合体ブロックAとはビニル芳香族炭化水素含有量を50質量%以上含有するビニル芳香族炭化水素と共役ジエンとの共重合体ブロック及び/又はビニル芳香族炭化水素単独重合体ブロックを示し、共役ジエンを主体とする重合体ブロックBとは共役ジエンを50質量%を越える量で含有する共役ジエンとビニル芳香族炭化水素共重合体ブロック及び/又は共役ジエン単独重合体ブロックをいう。
ビニル芳香族炭化水素を主体とする重合体ブロックA或は共役ジエンを主体とする重合体ブロックB中にビニル芳香族炭化水素と共役ジエンのランダム共重合体部分が存在する場合、共重合されているビニル芳香族炭化水素は重合体ブロック中に均一に分布していても、テーパー(漸減)状に分布していてもよい。また、該共重合体部分はビニル芳香族炭化水素が均一に分布している部分及び/又はテーパー状に分布している部分が複数個共存してもよい。
本発明のブロック共重合体(1)が複数個の重合体ブロックA(またはB)を有する場合、それらは分子量、組成、種類等が異なっていても良い。
本発明のブロック共重合体(1)が複数個の重合体ブロックA(またはB)を有する場合、それらは分子量、組成、種類等が異なっていても良い。
本発明で用いるブロック共重合体(1)は基本的には従来公知の手法で製造することができ、例えば特公昭36−19286号公報、特公昭43−17979号公報、特公昭48−2423号公報、特公昭49−36957号公報、特公昭57−49567号公報、特公昭58−11446号公報などに記載された手法が挙げられるが、各構成ポリマーは後述する要件を満足するように製造条件を設定しなければならない。上記の公知の手法はすべて、炭化水素溶剤中で有機リチウム化合物等のアニオン開始剤を用い、共役ジエンとビニル芳香族炭化水素をブロック共重合する手法である。
本発明で用いるブロック共重合体のポリマー構造は例えば、
A−(B−A)n、A−(B−A)n−B、B−(A−B)n+1
〔上式において、Aはビニル芳香族炭化水素を主体とする重合体ブロックであり、Bは共役ジエンを主体とする重合体ブロックである。AブロックとBブロックとの境界は必ずしも明瞭に区別される必要はない。nは1以上の整数、一般的には1〜5である。〕で表される線状ブロック共重合体、あるいは、
[(A−B)k]m−X、[(A−B)k−A]m−X、[(B−A)k]m−X、
[(B−A)k−B]m−X
〔上式において、A、Bは前記と同じであり、k及びmは1以上の整数、一般的には1〜5である。Xは例えば四塩化ケイ素、四塩化スズなどのカップリング剤の残基または多官能有機リチウム化合物等の開始剤の残基を示す。〕で表されるラジアルブロック共重合体、あるいはこれらのブロック共重合体の任意のポリマー構造の混合物が使用できる。
A−(B−A)n、A−(B−A)n−B、B−(A−B)n+1
〔上式において、Aはビニル芳香族炭化水素を主体とする重合体ブロックであり、Bは共役ジエンを主体とする重合体ブロックである。AブロックとBブロックとの境界は必ずしも明瞭に区別される必要はない。nは1以上の整数、一般的には1〜5である。〕で表される線状ブロック共重合体、あるいは、
[(A−B)k]m−X、[(A−B)k−A]m−X、[(B−A)k]m−X、
[(B−A)k−B]m−X
〔上式において、A、Bは前記と同じであり、k及びmは1以上の整数、一般的には1〜5である。Xは例えば四塩化ケイ素、四塩化スズなどのカップリング剤の残基または多官能有機リチウム化合物等の開始剤の残基を示す。〕で表されるラジアルブロック共重合体、あるいはこれらのブロック共重合体の任意のポリマー構造の混合物が使用できる。
本発明に用いられるビニル芳香族炭化水素としては、スチレン、o−メチルスチレン、p−メチルスチレン、p−tert−ブチルスチレン、1,3−ジメチルスチレン、α−メチルスチレン、ビニルナフタレン、ビニルアントラセン、1,1−ジフェニルエチレンなどが挙げられるが、特に一般的にはスチレンが挙げられる。これらは1種のみならず2種以上混合使用してもよい。共役ジエンとしては、1対の共役二重結合を有するジオレフィンであり、例えば1,3−ブタジエン、2−メチル−1,3−ブタジエン(イソプレン)、2,3−ジメチル−1,3−ブタジエン、1,3−ペンタジエン、1,3−ヘキサジエンなどが挙げられる。代表的な共役ジエンとしては、1,3−ブタジエン、イソプレンなどが挙げられる。これらは1種のみならず2種以上混合使用してもよい。
1,3−ブタジエンとイソプレンを併用する場合、1,3−ブタジエンは10質量%以上であることが好ましく、25質量%以上であることが更に好ましく、40質量%以上であることが特に好ましい。1,3−ブタジエンが10質量%以上であると、成形時等に熱分解を起こさず分子量が低下しないため光学成形体として好ましく用いることができる。
炭化水素溶媒としては、ブタン、ペンタン、ヘキサン、イソペンタン、ヘプタン、オクタン等の脂肪族炭化水素、シクロペンタン、メチルシクロペンタン、シクロヘキサン、メチルシクロヘキサン、エチルシクロヘキサン等の脂環式炭化水素、或はベンゼン、トルエン、エチルベンゼン、キシレン等の芳香族炭化水素等が使用できる。これらは1種のみならず2種以上混合使用してもよい。
炭化水素溶媒としては、ブタン、ペンタン、ヘキサン、イソペンタン、ヘプタン、オクタン等の脂肪族炭化水素、シクロペンタン、メチルシクロペンタン、シクロヘキサン、メチルシクロヘキサン、エチルシクロヘキサン等の脂環式炭化水素、或はベンゼン、トルエン、エチルベンゼン、キシレン等の芳香族炭化水素等が使用できる。これらは1種のみならず2種以上混合使用してもよい。
有機リチウム化合物としては、分子中に一個以上のリチウム原子を結合した有機モノリチウム化合物、有機ジリチウム化合物、有機ポリリチウム化合物等が挙げられる。これらの具体例としては、エチルリチウム、n−プロピルリチウム、イソプロピルリチウム、n−ブチルリチウム、sec−ブチルリチウム、tert−ブチルリチウム、ヘキサメチレンジリチウム、ブタジエニルジリチウム、イソプレニルジリチウム等が挙げられる。これらは1種のみならず2種以上混合使用してもよい。
本発明においては、重合速度の調整、重合した共役ジエン部のミクロ構造(シス、トランス、ビニルの比率)の変更、共役ジエンとビニル芳香族炭化水素の反応比の調整などの目的で極性化合物やランダム化剤を使用することができる。極性化合物やランダム化剤としては、テトラヒドロフラン、ジエチレングリコールジメチルエーテル、ジエチレングリコールジブチルエーテル等のエーテル類、トリエチルアミン、テトラメチルエチレンジアミン等のアミン類、チオエーテル類、ホスフィン類、ホスホルアミド類、アルキルベンゼンスルホン酸塩、カリウムやナトリウムのアルコキシド等が挙げられる。
本発明においては、重合速度の調整、重合した共役ジエン部のミクロ構造(シス、トランス、ビニルの比率)の変更、共役ジエンとビニル芳香族炭化水素の反応比の調整などの目的で極性化合物やランダム化剤を使用することができる。極性化合物やランダム化剤としては、テトラヒドロフラン、ジエチレングリコールジメチルエーテル、ジエチレングリコールジブチルエーテル等のエーテル類、トリエチルアミン、テトラメチルエチレンジアミン等のアミン類、チオエーテル類、ホスフィン類、ホスホルアミド類、アルキルベンゼンスルホン酸塩、カリウムやナトリウムのアルコキシド等が挙げられる。
本発明の方法においてブロック共重合体(1)を製造する際の重合温度は、一般的には−10℃〜150℃、好ましくは40℃〜120℃の範囲である。重合に要する時間は、条件によって異なるが、通常は48時間以内であり、特に好適には1〜10時間の範囲である。また、重合系の雰囲気は窒素ガスなどの不活性ガスなどをもって置換するのが望ましい。重合圧力は上記重合温度範囲でモノマー及び溶媒を液層に維持するに充分な圧力の範囲で行えばよく、特に制限されるものではない。更に重合系内には触媒及びリビングポリマーを不活性化させるような不純物、例えば水、酸素、炭酸ガス等が混入しないよう留意する必要がある。
本発明で用いるブロック共重合体(1)のビニル芳香族炭化水素含有量の範囲は40〜99質量%であり、好ましくは65〜95質量%の範囲、より好ましくは70〜90質量%の範囲である。ブロック共重合体のビニル芳香族炭化水素含有量が40質量%以上では樹脂組成物成形品の剛性と透明性に優れる。70〜90質量%の範囲であると、リターデーションがより小さくなり好ましい。
本発明においてブロック共重合体(1)中に組み込まれているビニル芳香族炭化水素重合体ブロックのブロック率の好ましい範囲は50〜100%である。ブロック率が50%以上の場合は樹脂組成物成形品の剛性に優れるために好ましい。ビニル芳香族炭化水素ブロックのブロック率は、ブロック共重合体の製造時において少なくとも一部のビニル芳香族炭化水素と共役ジエンが共重合する工程におけるビニル芳香族炭化水素と共役ジエンの重量、重量比、重合反応性比等を変えることによりコントロールすることができる。
本発明においてブロック共重合体(1)中に組み込まれているビニル芳香族炭化水素重合体ブロックのブロック率の好ましい範囲は50〜100%である。ブロック率が50%以上の場合は樹脂組成物成形品の剛性に優れるために好ましい。ビニル芳香族炭化水素ブロックのブロック率は、ブロック共重合体の製造時において少なくとも一部のビニル芳香族炭化水素と共役ジエンが共重合する工程におけるビニル芳香族炭化水素と共役ジエンの重量、重量比、重合反応性比等を変えることによりコントロールすることができる。
具体的な方法としては、
(イ)ビニル芳香族炭化水素と共役ジエンとの混合物を連続的に重合系に供給して重合する、及び/又は、(ロ)極性化合物或はランダム化剤を使用してビニル芳香族炭化水素と共役ジエンを共重合する、等の方法が採用できる。
極性化合物やランダム化剤としては、テトラヒドロフラン、ジエチレングリコールジメチルエーテル、ジエチレングリコールジブチルエーテル等のエーテル類、トリエチルアミン、テトラメチルエチレンジアミン等のアミン類、チオエーテル類、ホスフィン類、ホスホルアミド類、アルキルベンゼンスルホン酸塩、カリウムやナトリウムのアルコキシド等が挙げられる。尚、本発明においてブロック共重合体中に組み込まれているビニル芳香族炭化水素重合体ブロックのブロック率とは、四酸化オスミウムを触媒としてジ・ターシャリーブチルハイドロパーオキサイドによりブロック共重合体を酸化分解する方法〔I.M.KOLTHOFF,etal.,J.Polym.Sci.1,429(1946)に記載の方法〕により得たビニル芳香族炭化水素重合体ブロック成分(但し平均重合度が約30以下のビニル芳香族炭化水素重合体成分は除かれている)を定量し、下記の式から求めた値を云う。
(イ)ビニル芳香族炭化水素と共役ジエンとの混合物を連続的に重合系に供給して重合する、及び/又は、(ロ)極性化合物或はランダム化剤を使用してビニル芳香族炭化水素と共役ジエンを共重合する、等の方法が採用できる。
極性化合物やランダム化剤としては、テトラヒドロフラン、ジエチレングリコールジメチルエーテル、ジエチレングリコールジブチルエーテル等のエーテル類、トリエチルアミン、テトラメチルエチレンジアミン等のアミン類、チオエーテル類、ホスフィン類、ホスホルアミド類、アルキルベンゼンスルホン酸塩、カリウムやナトリウムのアルコキシド等が挙げられる。尚、本発明においてブロック共重合体中に組み込まれているビニル芳香族炭化水素重合体ブロックのブロック率とは、四酸化オスミウムを触媒としてジ・ターシャリーブチルハイドロパーオキサイドによりブロック共重合体を酸化分解する方法〔I.M.KOLTHOFF,etal.,J.Polym.Sci.1,429(1946)に記載の方法〕により得たビニル芳香族炭化水素重合体ブロック成分(但し平均重合度が約30以下のビニル芳香族炭化水素重合体成分は除かれている)を定量し、下記の式から求めた値を云う。
ブロック共重合体(1)のビニル芳香族
炭化水素重合体ブロックの質量%
ブロック率(%)= ――――――――――――――――― ×100
ブロック共重合体(1)の全ビニル
芳香族炭化水素の質量%
炭化水素重合体ブロックの質量%
ブロック率(%)= ――――――――――――――――― ×100
ブロック共重合体(1)の全ビニル
芳香族炭化水素の質量%
本発明で使用するブロック共重合体(1)のビニル芳香族炭化水素重合体ブロックの数平均分子量Mnは、好ましくは1万以上15万以下、より好ましくは2万以上12万以下である。ビニル芳香族炭化水素重合体ブロックの数平均分子量Mnが1万以上では剛性と耐衝撃性に優れるため好ましく、15万以下では、成形加工性と透明性に優れるため好ましい。
ブロック共重合体(1)の数平均分子量の測定は、上記と同様に、四酸化オスミウムを触媒としてジ・ターシャリーブチルハイドロパーオキサイドによりブロック共重合体を酸化分解する方法〔I.M.KOLTHOFF,etal.,J.Polym.Sci.1,429(1946)に記載の方法〕により得たビニル芳香族炭化水素重合体ブロック成分をゲルパーミエーションクロマトグラフィー(GPC)により求めることが出来る。分子量は、GPC用の単分散ポリスチレンをGPC測定して、そのピークカウント数と単分散ポリスチレンの分子量との検量線を作成し、常法(例えば「ゲルクロマトグラフィー<基礎編>講談社発行」に従って算出する。
ブロック共重合体(1)は、2種類以上の混合物であっても構わない。
本発明の光学成形体に使用するスチレン系樹脂組成物は、透明性と耐衝撃性を維持しつつ剛性、耐熱性あるいは加工性を高めるためにブロック共重合体(1)と熱可塑性樹脂との組成物とすることが好ましい。
ブロック共重合体(1)は、2種類以上の混合物であっても構わない。
本発明の光学成形体に使用するスチレン系樹脂組成物は、透明性と耐衝撃性を維持しつつ剛性、耐熱性あるいは加工性を高めるためにブロック共重合体(1)と熱可塑性樹脂との組成物とすることが好ましい。
熱可塑性樹脂としては、ポリエチレン、ポリプロピレン、ポリブテン等のポリオレフィン系樹脂、ポリスチレン、ゴム変性耐衝撃性ポリスチレン(HIPS)、スチレン−ブチルアクリレート共重合体、スチレン−アクリロニトリル共重合体、スチレン−無水マレイン酸共重合体、アクリロニトリル−ブタジエン−スチレン共重合体(ABS)、メタクリル酸エステル−ブタジエン−スチレン共重合体(MBS)、ポリ塩化ビニル系樹脂、ポリメタクリル酸エステル系樹脂、ポリカーボネート系樹脂、ポリエチレンテレフタレート、ポリトリメチレンテレフタレート、ポリブチレンテレフタレート等のポリエステル系樹脂、ポリアミド系樹脂、ポリフェニレンサルファイド系樹脂、ポリエーテルエーテルケトン系樹脂、ポリスルホン系樹脂、ポリフェニレンオキサイド系樹脂、ポリイミド系樹脂、ポリエーテルイミド系樹脂、ポリアセタール系樹脂、環状オレフィン系樹脂、ノルボルネン系樹脂等が挙げられる。
好ましい熱可塑性樹脂として、ビニル芳香族炭化水素−(メタ)アクリル酸エステル共重合体、ポリスチレン系樹脂が挙げられる。
好ましい熱可塑性樹脂として、ビニル芳香族炭化水素−(メタ)アクリル酸エステル共重合体、ポリスチレン系樹脂が挙げられる。
特に好ましい熱可塑性樹脂としてビニル芳香族炭化水素−(メタ)アクリル酸エステル共重合体が挙げられる。最終組成物の透明性およびリターデーションを小さくする観点から、ビニル芳香族炭化水素の含有量は、好ましくは70〜90質量%、より好ましくは75〜88質量%である。また、0.1〜2%の他の単量体を含んでいてもよい。ビニル芳香族炭化水素−(メタ)アクリル酸エステル共重合体に用いられるビニル芳香族炭化水素は、スチレン、α−メチルスチレン、p−メチルスチレン、p−t−ブチルスチレンなどであり、(メタ)アクリル酸エステルは、メタクリル酸のメチルエステル、エチルエステル、n−ブチルエステル、i−ブチルエステル、t−ブチルエステル、2−エチルヘキシルエステル、アクリル酸のメチルエステル、エチルエステル、n−ブチルエステル、2−エチルヘキシルエステルなど、(メタ)アクリル酸と炭素数1〜8のアルコールとのエステルである。ビニル芳香族炭化水素−(メタ)アクリル酸エステル共重合体の中で剛性、耐熱性を改良するにはスチレン−メタクリル酸メチル共重合体が好ましく、また高度の透明性を維持し、同時に剛性、加工性を改良するためにはスチレン−アクリル酸ブチル共重合体が好ましい。ブロック共重合体(1)とビニル芳香族炭化水素−(メタ)アクリル酸エステルの好ましい配合量は、質量%比で10/90〜99/1が好ましく、より好ましくは30/70〜80/20である。配合量が90質量%以下の樹脂組成物では耐衝撃性が優れ、本願の光学成形体の特徴であるリターデーションが小さく且つ剛性が優れるために好ましい。
更に、本発明の効果を著しく損なわない範囲内で、各種目的に応じて任意の添加剤を配合することができる。添加剤の種類は,樹脂やゴム状重合体の配合に一般的に用いられるものであれば特に制限はない。無機充填剤、酸化鉄等の顔料、ステアリン酸、ベヘニン酸、ステアリン酸亜鉛、ステアリン酸カルシウム、ステアリン酸マグネシウム、エチレンビスステアロアミド等の滑剤、離型剤、パラフィン系プロセスオイル、ナフテン系プロセスオイル、芳香族系プロセスオイル、パラフィン、有機ポリシロキサン,ミネラルオイル等の軟化剤・可塑剤,ヒンダードフェノール系酸化防止剤、りん系熱安定剤等の酸化防止剤、ヒンダードアミン系光安定剤、ベンゾトリアゾール系紫外線吸収剤、難燃剤、帯電防止剤、有機繊維、ガラス繊維、炭素繊維、金属ウィスカ等の補強剤、着色剤、その他添加剤或いはこれらの混合物等が挙げられる。
本発明の光学成形体は、複屈折の低い光学特性に優れた樹脂組成物から得られ、光学レンズ、プリズム、光ディスクなどの光学製品に好適に用いることが出来る。特に、本発明の光学成形体は、光を通過させた時に光の特性を損なわずに使用できることから、光を通過させて使用するような光学装置の保護材料として有用である。例えば、光ディスクを埃などから守る保護カバーとして用いた場合、低複屈折であるために光の特性を損なうことなく光ディスクに記録された情報を読み取ることが可能となる。また、本発明の光学成形体は、例えば反射防止処理、透明導電処理、電磁波遮蔽処理、ガスバリア処理等の表面機能化処理をすることもできる。
光学成形体の製造方法は、特に制限されるものではなく、公知の方法が利用できる。例えば単軸押出機、二軸押出機、バンバリーミキサー、ブラベンダー、各種ニーダー等の溶融混練機を用いて製造することができる。また本発明における成形体は、射出成形、シート成形、ブロー成形、インジェクションブロー成形、押し出し成形、発泡成形等、公知の方法で成形することが可能であり、圧空成形、真空成形等の二次加工成形法も用いることができる。
本発明の光学成形体の好ましい製法として、プレス成形、真空成形、ブロー成形、射出成形、異形押し出し成形等の手法が用いられる。例えば、Tダイから押し出されたシートを再度加熱して、プレス成形、真空成形等により各種形体の箱型成形品を賦形する方法、ブロー成形法により中空の成形品を賦形する方法、射出成形により、レンズ状あるいは、各種の複雑な形状を賦形する方法により成形体を得ることが出来る。本願発明の光学成形体の一形態である光学シートの厚さは、リターデーションを2000nm以下にするために1mm以下の範囲が好ましい。
本発明の光学成形体の好ましい製法として、プレス成形、真空成形、ブロー成形、射出成形、異形押し出し成形等の手法が用いられる。例えば、Tダイから押し出されたシートを再度加熱して、プレス成形、真空成形等により各種形体の箱型成形品を賦形する方法、ブロー成形法により中空の成形品を賦形する方法、射出成形により、レンズ状あるいは、各種の複雑な形状を賦形する方法により成形体を得ることが出来る。本願発明の光学成形体の一形態である光学シートの厚さは、リターデーションを2000nm以下にするために1mm以下の範囲が好ましい。
また、厚さ300μmを越えたシートから得られる光学成形体は耐衝撃性が優れ、且つ剛性が優れるために好ましい。更にブロック共重合体(1)とビニル芳香族炭化水素−(メタ)アクリル酸エステル共重合体との組成物から得られた300μmを越えた光学成形体では、耐衝撃性が優れ、本願の光学成形体の特徴であるリターデーションが小さく且つ剛性が優れるために好ましい。
シートから得られる光学成形体とは、上記の如く、例えばTダイ等を用いて押し出し成形された板状の成形品、あるいは、これを真空成形等により各種形体の箱型成形品にしたもの等があげられる。光学成形体は、部分的に厚み300μm以上の肉厚部のある賦形された形状を有するものであれば、部分的に300μm以下の薄肉部分があっても構わない。また、Tダイで得られたシートを更に、機械的流れ方向に縦一軸延伸、機械的流れ方向に直行する方向に横一軸延伸することができ、またロール延伸とテンター延伸の逐次2軸延伸法、テンター延伸による同時2軸延伸法、チューブラー延伸による2軸延伸法等によって延伸することにより2軸延伸シートを製造することができる。延伸を行うことによりシートの強度を向上させることができる。最終的な延伸倍率は得られたシートの熱収縮率より判断することができる。
シートから得られる光学成形体とは、上記の如く、例えばTダイ等を用いて押し出し成形された板状の成形品、あるいは、これを真空成形等により各種形体の箱型成形品にしたもの等があげられる。光学成形体は、部分的に厚み300μm以上の肉厚部のある賦形された形状を有するものであれば、部分的に300μm以下の薄肉部分があっても構わない。また、Tダイで得られたシートを更に、機械的流れ方向に縦一軸延伸、機械的流れ方向に直行する方向に横一軸延伸することができ、またロール延伸とテンター延伸の逐次2軸延伸法、テンター延伸による同時2軸延伸法、チューブラー延伸による2軸延伸法等によって延伸することにより2軸延伸シートを製造することができる。延伸を行うことによりシートの強度を向上させることができる。最終的な延伸倍率は得られたシートの熱収縮率より判断することができる。
次に実施例によって本発明を説明する。
本願発明および実施例で用いた評価法をまず説明する。
(A)評価
(1)リターデーションの測定
大塚電子製RETS−100を用いて、回転検光子法により400〜800nmの波長について測定を行った。複屈折の絶対値(|Δn|)とリターデーション(Re)は以下の関係にある。
Re=|Δn|×d
(|Δn|:複屈折の絶対値、Re:リターデーション、d:サンプルの厚み(nm))
また、複屈折の絶対値(|Δn|)は以下に示す値である。
|Δn|=|nx−ny|
(nx:延伸方向の屈折率、ny:面内で延伸方向と垂直な屈折率)
本願発明および実施例で用いた評価法をまず説明する。
(A)評価
(1)リターデーションの測定
大塚電子製RETS−100を用いて、回転検光子法により400〜800nmの波長について測定を行った。複屈折の絶対値(|Δn|)とリターデーション(Re)は以下の関係にある。
Re=|Δn|×d
(|Δn|:複屈折の絶対値、Re:リターデーション、d:サンプルの厚み(nm))
また、複屈折の絶対値(|Δn|)は以下に示す値である。
|Δn|=|nx−ny|
(nx:延伸方向の屈折率、ny:面内で延伸方向と垂直な屈折率)
(2)ブロック率および、ブロック共重合体(1)のビニル芳香族炭化水素重合体ブロックの数平均分子量
四酸化オスミウムを触媒としてジ・ターシャリーブチルハイドロパーオキサイドによりブロック共重合体を酸化分解する方法〔I.M.KOLTHOFF,etal.,J.Polym.Sci.1,429(1946)に記載の方法〕により得たビニル芳香族炭化水素重合体ブロック成分を定量し、下記の式から求めた。
ブロック共重合体(1)のビニル芳香族
炭化水素重合体ブロックの質量%
ブロック率(%)= ――――――――――――――――― ×100
ブロック共重合体(1)の全ビニル
芳香族炭化水素の質量%
また、この手法にて得られたビニル芳香族炭化水素重合体ブロック成分をGPCを用いて数平均分子量を得た。
四酸化オスミウムを触媒としてジ・ターシャリーブチルハイドロパーオキサイドによりブロック共重合体を酸化分解する方法〔I.M.KOLTHOFF,etal.,J.Polym.Sci.1,429(1946)に記載の方法〕により得たビニル芳香族炭化水素重合体ブロック成分を定量し、下記の式から求めた。
ブロック共重合体(1)のビニル芳香族
炭化水素重合体ブロックの質量%
ブロック率(%)= ――――――――――――――――― ×100
ブロック共重合体(1)の全ビニル
芳香族炭化水素の質量%
また、この手法にて得られたビニル芳香族炭化水素重合体ブロック成分をGPCを用いて数平均分子量を得た。
(3)落錘衝撃試験
ASTM D1709に準拠し、東洋精機株式会社製ダートインパクトテスタを用いて、測定した。
(4)引っ張り弾性率
ASTM D638に準拠し、ミネベア株式会社製TG−5KN型試験機を用い、試験速度5mm/minで測定した。
(5)全光線透過率及びヘイズ
JIS K7105に準拠し、日本電色株式会社製ヘイズメータ(1001DP)を用いた。測定においては、流動パラフィン塗布によりおこなった。
(6)デュポン式衝撃試験機
東洋精機株式会社製デュポン式衝撃試験機を用いて行った。
ASTM D1709に準拠し、東洋精機株式会社製ダートインパクトテスタを用いて、測定した。
(4)引っ張り弾性率
ASTM D638に準拠し、ミネベア株式会社製TG−5KN型試験機を用い、試験速度5mm/minで測定した。
(5)全光線透過率及びヘイズ
JIS K7105に準拠し、日本電色株式会社製ヘイズメータ(1001DP)を用いた。測定においては、流動パラフィン塗布によりおこなった。
(6)デュポン式衝撃試験機
東洋精機株式会社製デュポン式衝撃試験機を用いて行った。
(B)原材料
(1)ブロック共重合体(1−a)
攪拌機付きオートクレーブを用い、窒素ガス雰囲気下で
i)スチレン25質量部を含むシクロヘキサン溶液にn−ブチルリチウムを0.080質量部を添加し、80℃で20分間重合した。
次にii)スチレン15質量部と1,3−ブタジエン24質量部を含むシクロヘキサン溶液を60分間連続的に添加して80℃で重合した。
次にiii)スチレン36質量部を含むシクロヘキサン溶液を25分間連続的に添加して80℃で重合した後、80℃で10分間保持した。その後、重合器にメタノールをn−ブチルリチウムに対して0.9倍モル添加して重合を停止し、安定剤として2−〔1−(2−ヒドロキシ−3,5−ジ−t−ペンチルフェニル)エチル〕−4,6−ジ−t−ペンチルフェニルアクリレートをブロック共重合体100質量部に対して0.5質量部を加えた後、脱溶媒してブロック共重合体(A−1)を得た。ブロック共重合体A−1は、スチレン/1,3−ブタジエン=100/0質量比である重合体ブロックA、スチレン/1,3−ブタジエン=38.5/61.5質量比である重合体ブロックB、スチレン/1,3−ブタジエン=100/0質量比である重合体ブロックAよりなるA−B−A型ブロック重合体である。また、得られたブロック共重合体A−1は、数平均分子量85000、スチレン含有量は77.5質量%、ブロック率は80%、また、メルトフローレートは7g/10分(ASTM D1238に準拠、200℃、荷重5kg)であった。
(1)ブロック共重合体(1−a)
攪拌機付きオートクレーブを用い、窒素ガス雰囲気下で
i)スチレン25質量部を含むシクロヘキサン溶液にn−ブチルリチウムを0.080質量部を添加し、80℃で20分間重合した。
次にii)スチレン15質量部と1,3−ブタジエン24質量部を含むシクロヘキサン溶液を60分間連続的に添加して80℃で重合した。
次にiii)スチレン36質量部を含むシクロヘキサン溶液を25分間連続的に添加して80℃で重合した後、80℃で10分間保持した。その後、重合器にメタノールをn−ブチルリチウムに対して0.9倍モル添加して重合を停止し、安定剤として2−〔1−(2−ヒドロキシ−3,5−ジ−t−ペンチルフェニル)エチル〕−4,6−ジ−t−ペンチルフェニルアクリレートをブロック共重合体100質量部に対して0.5質量部を加えた後、脱溶媒してブロック共重合体(A−1)を得た。ブロック共重合体A−1は、スチレン/1,3−ブタジエン=100/0質量比である重合体ブロックA、スチレン/1,3−ブタジエン=38.5/61.5質量比である重合体ブロックB、スチレン/1,3−ブタジエン=100/0質量比である重合体ブロックAよりなるA−B−A型ブロック重合体である。また、得られたブロック共重合体A−1は、数平均分子量85000、スチレン含有量は77.5質量%、ブロック率は80%、また、メルトフローレートは7g/10分(ASTM D1238に準拠、200℃、荷重5kg)であった。
(2)ブロック共重合体(1−b〜1−g)
ブロック共重合体(1−a)と同様の手法を用い、(1−a)のi)、ii)、iii)にて添加するスチレン、1,3−ブタジエンの添加量及び、n−ブチルリチウムの添加量を適宜コントロールすることで、ブロック共重合体(1−b〜1−g)を作成した。
尚、n−ブチルリチウムの添加量を少なくすると分子量は大きくなる。i)、iii)で添加するスチレン量に対し、ii)で添加するスチレン量を増やすとスチレンブロック率は低下する。
得られたブロック共重合体(1−a)〜(1−g)の性状を表1に示した。
ブロック共重合体(1−a)と同様の手法を用い、(1−a)のi)、ii)、iii)にて添加するスチレン、1,3−ブタジエンの添加量及び、n−ブチルリチウムの添加量を適宜コントロールすることで、ブロック共重合体(1−b〜1−g)を作成した。
尚、n−ブチルリチウムの添加量を少なくすると分子量は大きくなる。i)、iii)で添加するスチレン量に対し、ii)で添加するスチレン量を増やすとスチレンブロック率は低下する。
得られたブロック共重合体(1−a)〜(1−g)の性状を表1に示した。
(3)ブロック共重合体(1−h)
ブロック共重合体(1−a)と(1−b)を50/50質量比でドライブレンドした後、シリンダー径が40mmφの単軸押出し機を用いて、シリンダー温度200℃で溶融混練し、2種のブロック共重合体のブレンド物からなるブロック共重合体(1−h)を得た。
(4)熱可塑性樹脂(2−a);ポリスチレン
ポリスチレンとしてポリスチレン685(PSジャパン株式会社製)を用いた。
(5)熱可塑性樹脂(2−b);ビニル芳香族炭化水素−アクリル酸エステル共重合体
スチレン−アクリル酸n−ブチル共重合体(スチレン含有量84質量%、メルトフローレートは6.5g/10min(200℃,5kg荷重))を用いた。
(6)熱可塑性樹脂(2−c);ビニル芳香族炭化水素−メタアクリル酸エステル共重合体
スチレン−メタアクリル酸メチル共重合体(スチレン含有量80質量%)を用いた。
(7)熱可塑性樹脂(2−d);ポリメチルメタクリレート
デラグラス80N(旭化成ケミカルズ株式会社製)を用いた。
ブロック共重合体(1−a)と(1−b)を50/50質量比でドライブレンドした後、シリンダー径が40mmφの単軸押出し機を用いて、シリンダー温度200℃で溶融混練し、2種のブロック共重合体のブレンド物からなるブロック共重合体(1−h)を得た。
(4)熱可塑性樹脂(2−a);ポリスチレン
ポリスチレンとしてポリスチレン685(PSジャパン株式会社製)を用いた。
(5)熱可塑性樹脂(2−b);ビニル芳香族炭化水素−アクリル酸エステル共重合体
スチレン−アクリル酸n−ブチル共重合体(スチレン含有量84質量%、メルトフローレートは6.5g/10min(200℃,5kg荷重))を用いた。
(6)熱可塑性樹脂(2−c);ビニル芳香族炭化水素−メタアクリル酸エステル共重合体
スチレン−メタアクリル酸メチル共重合体(スチレン含有量80質量%)を用いた。
(7)熱可塑性樹脂(2−d);ポリメチルメタクリレート
デラグラス80N(旭化成ケミカルズ株式会社製)を用いた。
[実施例1〜14および比較例1〜6]
ユニオンプラスチックス株式会社製Tダイ装着押し出し機(USV型/バレル径40mmφ、L/D=28、幅400mmTダイ装着)のホッパーに表2又は表3に示す配合にて各原料ペレットを投入した。押し出し機のシリンダー内樹脂温度とTダイの温度を調整し、厚さ約300μm、700μm、1000μmシートを押し出し成形してリターデーションを測定した。また、さらに、得られたシートをプレス成形機を用いて200℃、150kg/cm2で5分加圧し配向を緩和させたシートを得た。配向緩和シートをさらに、東洋精機株式会社製2軸延伸装置を用いて2倍及び3倍に一軸延伸(延伸速度0.3m/分)を行いリターデーションを測定した。
|Δn|=|nx−ny|を求めるのに必要なnxは、押し出しシートにおいては、シートの押し出し方向(MD)、プレス成形品においてはプレス前のシートのMD、一軸延伸シートにおいては一軸延伸方向の屈折率とし、nyはそれぞれnx方向に垂直な方向の屈折率とした。
また、300μmの押し出しシートについては、落錘衝撃強さ、引張り弾性率、全光線透過率、ヘイズを測定した。
組成、押し出し条件、延伸条件、シートの厚み、リターデーション(550nm)、複屈折の絶対値、落錘衝撃強さ、引張り弾性率、全光線透過率、ヘイズを表2及び表3に示した。
比較例1〜4のシートは、実施例に比べ、耐衝撃性が著しく劣るものであった。比較例5のシートは、リターデーションが高く、剛性、透明性が著しく低く、更に比較例6のシートは白濁して評価に至らなかった。
ユニオンプラスチックス株式会社製Tダイ装着押し出し機(USV型/バレル径40mmφ、L/D=28、幅400mmTダイ装着)のホッパーに表2又は表3に示す配合にて各原料ペレットを投入した。押し出し機のシリンダー内樹脂温度とTダイの温度を調整し、厚さ約300μm、700μm、1000μmシートを押し出し成形してリターデーションを測定した。また、さらに、得られたシートをプレス成形機を用いて200℃、150kg/cm2で5分加圧し配向を緩和させたシートを得た。配向緩和シートをさらに、東洋精機株式会社製2軸延伸装置を用いて2倍及び3倍に一軸延伸(延伸速度0.3m/分)を行いリターデーションを測定した。
|Δn|=|nx−ny|を求めるのに必要なnxは、押し出しシートにおいては、シートの押し出し方向(MD)、プレス成形品においてはプレス前のシートのMD、一軸延伸シートにおいては一軸延伸方向の屈折率とし、nyはそれぞれnx方向に垂直な方向の屈折率とした。
また、300μmの押し出しシートについては、落錘衝撃強さ、引張り弾性率、全光線透過率、ヘイズを測定した。
組成、押し出し条件、延伸条件、シートの厚み、リターデーション(550nm)、複屈折の絶対値、落錘衝撃強さ、引張り弾性率、全光線透過率、ヘイズを表2及び表3に示した。
比較例1〜4のシートは、実施例に比べ、耐衝撃性が著しく劣るものであった。比較例5のシートは、リターデーションが高く、剛性、透明性が著しく低く、更に比較例6のシートは白濁して評価に至らなかった。
[実施例15〜17および比較例7〜10]
実施例1、4、9、比較例1〜4に用いた厚さ1000μmのシートを真空成形機を用いて、厚肉部約1000μm、薄肉部約250μmのコップ形状に成形した。薄肉部を切り出し、平面状に固定した後、リターデーションを測定した。また、コップを握り潰して割れにくさの判定をおこなった。
結果を表4に示した。
実施例1、4、9、比較例1〜4に用いた厚さ1000μmのシートを真空成形機を用いて、厚肉部約1000μm、薄肉部約250μmのコップ形状に成形した。薄肉部を切り出し、平面状に固定した後、リターデーションを測定した。また、コップを握り潰して割れにくさの判定をおこなった。
結果を表4に示した。
[実施例18〜20及び比較例11〜14]
実施例1、4、9、比較例1〜4に用いた原料を日精樹脂工業株式会社製射出成形機(FE−120)を用いて、厚さ1/8インチ短冊、厚さ2mmの名刺板サイズ平板を射出成形し、ダンベルのリターデーション(550nm)、名刺版でのデュポン衝撃試験を行った。結果を表5に示した。
実施例1、4、9、比較例1〜4に用いた原料を日精樹脂工業株式会社製射出成形機(FE−120)を用いて、厚さ1/8インチ短冊、厚さ2mmの名刺板サイズ平板を射出成形し、ダンベルのリターデーション(550nm)、名刺版でのデュポン衝撃試験を行った。結果を表5に示した。
本発明の光学成形体は、光学レンズ、プリズム、光ディスクなどの光学製品分野に好適に用いることができる。特に、本発明の光学成形体は、光を通過させた時に光の特性を損なわずに使用できることから光学装置の保護カバーとして有用な材料である。
Claims (8)
- 少なくとも1個のビニル芳香族炭化水素を主体とする重合体ブロックAと少なくとも1個の共役ジエンを主体とする重合体ブロックBとからなるビニル芳香族炭化水素含有量が40〜99質量%のブロック共重合体(1)を少なくとも1種を含有するスチレン系樹脂組成物から構成され、厚みが300μmを越えるシートから得られる光学成形体。
- ブロック共重合体(1)中の全ビニル芳香族炭化水素に対するビニル芳香族炭化水素重合体ブロックのブロック率が50〜100%であり、ブロック共重合体(1)のビニル芳香族炭化水素重合体ブロックの数平均分子量Mnが1万以上15万以下であることを特徴とする請求項1に記載の光学成形体。
- スチレン系樹脂組成物がブロック共重合体(1)10〜99質量%と熱可塑性樹脂90〜1質量%を含むことを特徴とする請求項1又は2に記載の光学成形体。
- スチレン系樹脂組成物がブロック共重合体(1)30〜80質量%と熱可塑性樹脂70〜20質量%を含むことを特徴とする請求項1又は2に記載の光学成形体。
- 熱可塑性樹脂がビニル芳香族炭化水素−(メタ)アクリル酸エステル共重合体あることを特徴とする請求項3又は4に記載の光学成形体。
- ビニル芳香族炭化水素−(メタ)アクリル酸エステル共重合体の芳香族炭化水素含有量が70〜90質量%であることを特徴とする請求項5に記載の光学成形体。
- ブロック共重合体(1)の芳香族炭化水素含有量が70〜90質量%であることを特徴とする請求項1〜6のいずれかに記載の光学成形体。
- リターデーションが1nm以上2000nm以下であることを特徴とする請求項1〜7のいずれかに記載の光学成形体。
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2007269691A JP2008121002A (ja) | 2006-10-18 | 2007-10-17 | 光学成形体 |
Applications Claiming Priority (2)
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JP2006284249 | 2006-10-18 | ||
JP2007269691A JP2008121002A (ja) | 2006-10-18 | 2007-10-17 | 光学成形体 |
Publications (1)
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JP2008121002A true JP2008121002A (ja) | 2008-05-29 |
Family
ID=39506092
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP2007269691A Pending JP2008121002A (ja) | 2006-10-18 | 2007-10-17 | 光学成形体 |
Country Status (1)
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