JP2008111964A - 光学フィルムおよびその製造方法 - Google Patents

Abstract

【課題】反射率が低く、かつ、耐擦傷性が高い反射防止層を備えた光学フィルムを提供する。
【解決手段】透光性基材と、透光性基材の一方の主面側に配置されたハードコート膜と、ハードコート膜上に配置されハードコート膜よりも屈折率が小さい低屈折率膜とを含む光学フィルムの製造方法であって、透光性基材の前記一方の主面側に配置されたハードコート膜上に、中空シリカ微粒子と硬化性バインダーと重合開始剤とを含んだ低屈折率膜形成用の塗料を塗布して、ハードコート膜上に塗膜を形成した後、塗膜中の硬化性バインダーを硬化して低屈折率膜を形成する低屈折率膜形成工程を含み、中空シリカ微粒子の空隙率は３０％を超え５０％以下であり、塗料において、重合開始剤は、硬化性バインダー１００重量部に対して３重量部以上１０重量部以下含まれていることを特徴とする。
【選択図】 なし

Description

本発明は、透光性基材と、ハードコート膜と、低屈折率膜とがこの順で積層され、ハードコート膜と低屈折率膜とが反射防止層として機能する光学フィルムおよびその製造方法に関する。

プラズマディスプレイパネル（ＰＤＰ）等に代表される大画面ディスプレイの開発が急速に進んでいる。ディスプレイ画面には、外光の写り込みを防止するために、反射防止層を備えた光学フィルムが貼り付けられる。ディスプレイ画面に貼り付けられた光学フィルムを構成する反射防止層は最表面に配置されることとなるので、反射防止層には高い擦傷性が要求される。

反射防止層は、一般的には、透光性基材上に形成されたハードコート膜と、ハードコート膜上に配置され、ハードコート膜よりも屈折率が低い低屈折率膜とから構成される。低屈折率膜をさらに低屈折率化して反射防止層を低反射率化するために、従来、樹脂成分としてフッ素樹脂を用いることにより低屈折率膜にフッ素原子を導入し、または、中空シリカ微粒子を用いることが提案されている。しかし、低屈折率膜にフッ素原子を導入し、および／または、中空シリカ微粒子を用いると、フッ素原子の凝集力が小さいため、および／または、中空シリカ微粒子の使用に伴う硬化性バインダー含有量の低下により、膜強度が低くなり、耐擦傷性が低下してしまう。そのため、空気中の酸素濃度よりも低い酸素濃度雰囲気下で、低屈折率膜形成用の塗料に含まれる硬化性バインダーを硬化させることにより耐擦傷性を高めることが提案されている（例えば、特許文献１）。
特開２００６−１１９５９９号公報

しかし、酸素濃度が空気中のそれより低い雰囲気下で硬化性バインダーの硬化を行なうと、多量の窒素が必要となり、製造コストが上がってしまう。

本発明は、硬化性バインダーの硬化を酸素濃度が空気中のそれより低い雰囲気下で行なわなくても、反射率が低く、耐擦傷性が高い反射防止層を備えた光学フィルムを実現できる、光学フィルムの製造方法、および該製造方法により得られる光学フィルムを提供する。

本発明の光学フィルムの製造方法は、透光性基材と、前記透光性基材の一方の主面側に配置されたハードコート膜と、前記ハードコート膜上に配置され前記ハードコート膜よりも屈折率が小さい低屈折率膜とを含む光学フィルムの製造方法であって、前記透光性基材の前記一方の主面側に配置された前記ハードコート膜上に、中空シリカ微粒子と硬化性バインダーと重合開始剤とを含んだ低屈折率膜形成用の塗料を塗布して、前記ハードコート膜上に塗膜を形成した後、前記塗膜中の硬化性バインダーを硬化して前記低屈折率膜を形成する低屈折率膜形成工程を含み、前記中空シリカ微粒子の空隙率は３０％を超え５０％以下であり、前記塗料において、前記重合開始剤は、前記硬化性バインダー１００重量部に対して３重量部以上１０重量部以下含まれていることを特徴とする。

本発明の光学フィルムは、本発明の光学フィルムの製造方法によって製造されたことを特徴とする。

本発明によれば、硬化性バインダーの硬化を酸素濃度が空気中のそれより低い雰囲気下で行なわなくても、反射率が低く、耐擦傷性が高い反射防止層を備えた光学フィルムを実現できる光学フィルムの製造方法、および該製造方法により得られる光学フィルムを提供できる。

以下、本発明について詳細を説明する。

（実施形態１）
実施形態１では、本発明の光学フィルムの一例について説明する。

図１は、本発明の光学フィルムの一例を示す断面図である。図１に示すように、本実施形態の光学フィルム１の一例は、透光性基材１０と、透光性基材１０の一方の主面上に直接配置されたハードコート膜１２と、このハードコート膜１２上に接して配置された低屈折率膜１５とを備えている。低屈折率膜１５の屈折率はハードコート膜１２のそれより低いので、低屈折率膜１５とハードコート膜１２とからなる積層体は、反射防止層９として機能する。

＜透光性基材＞
透光性基材１０の材料としては、透光性を有していれば特に限定されない。透光性基材１０には、例えば、飽和ポリエステル樹脂、ポリカーボネート樹脂、ポリアクリル酸エステル系樹脂、脂環式ポリオレフィン系樹脂、ポリスチレン樹脂、ポリ塩化ビニル系樹脂、ポリ酢酸ビニル系樹脂、トリアセチルセルロース系樹脂等の材料をフィルム状に加工したものを用いることができる。

フィルム状に加工する方法としては、押出成形法、カレンダー成形法、圧縮成形法、射出成形法などの方法が挙げられる。透光性基材１０の厚さは通常１０〜５００μｍ程度が適当である。なお、透光性基材１０は、酸化防止剤、難燃剤、耐熱防止剤、紫外線吸収剤、易滑剤、帯電防止剤等の添加剤をさらに含んでいてもよい。

本実施形態の光学フィルム１の一例では、全光線透過率が９１％以上であると好ましい。この反射防止層９が透光性基材１０の上に配置されることにより、光学フィルムの全光線透過率は、透光性基材１０の単独の全光線透過率よりも高くなっている。反射防止層９を設けることにより、光学フィルム１全体に入射する光の量が増加するからである。

光学フィルム１の全光線透過率を９１％以上とし、かつ、光学フィルム１の全光線透過率を透光性基材１０の単独の全光線透過率よりも高くするためには、例えば、透光性基材１０の厚さを１０μｍ〜５００μｍとし、透光性基材１０の全光線透過率を、好ましくは８５％以上とし、より好ましくは９０％以上とすればよい。

＜低屈折率膜＞
低屈折率膜１５は、中空シリカ微粒子と硬化性バインダーとを含んでいる。中空シリカ微粒子の空隙率は３０％を超え５０％以下であることを要する。３０％以下では光学フィルム１の反射率が十分低くならず、５０％を超えると中空シリカ微粒子の合成時に無機酸化物としての硬度を維持することが困難だからである。中空シリカ微粒子の空隙率が３５％以上４５％以下であれば、光学フィルム１の反射率を低くできかつ中空シリカ微粒子の硬度が好適となるので好ましい。

低屈折率膜１５形成用の塗料に含まれる中空シリカ微粒子の配合割合は、硬化性バインダーと中空シリカ微粒子の重量の総和の６５重量％以下であると好ましく、６０質量％以下であるとより好ましい。硬化性バインダーの重量は硬化しても殆んど変わらない。よって、低屈折率膜１５における中空シリカ微粒子の含有量は、硬化性バインダー（硬化）と中空シリカ微粒子の重量の総和の６５重量％以下であると好ましく、６０質量％以下であるとより好ましい。中空シリカ微粒子の含有量が多すぎると、低屈折率膜１５における硬化性バインダーの含有量が低くなり、低屈折率膜１５の耐擦傷性が低下するからである。一方、低屈折率膜１５における中空シリカ微粒子の含有量の下限、または、低屈折率膜１５形成用の塗料中における中空シリカ微粒子の配合割合の下限は、光学フィルムの反射率を低くする観点から、硬化性バインダー（硬化）と中空シリカ微粒子の重量の総和の５０重量％以上であると好ましく、５５重量％以上であるとより好ましい。

中空シリカ微粒子の平均粒子径は、低屈折率膜１５の厚みを大きく超えないことが好ましい。また、平均粒子径が大きくなりすぎると散乱が生じ、ヘイズ値が大きくなってしまうため好ましくない。よって、中空シリカ微粒子の平均粒子径は、０．１μｍ以下であると好ましい。なお、中空シリカ微粒子の平均粒子径は、小さければ小さいほど低屈折率膜における中空シリカ微粒子の含有量を多くすることができ、かつ低屈折率膜の透明性も高くなるので好ましい。

低屈折率膜１５において、低屈折率膜１５の屈折率ｎと膜厚ｄの積である光学膜厚ｎｄは、１１０ｎｍ以上１６３ｎｍ以下であると好ましく、１２５ｎｍ以上１５０ｎｍ以下であるとより好ましい。この場合、低屈折率膜１５の反射率を低くすることができるからである。ハードコート膜１２上に配置される低屈折率膜１５の膜厚については、低屈折率膜１５の屈折率と上記膜厚の積である光学膜厚がλ／４(λ：人間の目の視感度が高い光の波長５５０ｎｍに設定されることが多い)となるように設定されると、反射率がより低くなり好ましい。低屈折率膜１５の屈折率とハードコート膜１２の屈折率との差は大きいほど、反射防止性能は向上するので、好ましい。低屈折率膜１５の一方の表面は、本実施形態の光学フィルムの一方の最外面でもあるので、強度と防汚性を有していることが好ましい。

低屈折率膜１５の屈折率は、光学フィルム１の低反射率化のために、例えば１．４０未満であると好ましく、１．３８以下であるとより好ましい。

低屈折率膜１５形成用の塗料に含まれる硬化性バインダーとしては、熱硬化型バインダーまたは電離放射線硬化型バインダー（電離放射線硬化型樹脂）等が挙げられる。電離放射線硬化型樹脂としては、ビニル基、(メタ)アクリロイル基、エポキシ基、オキセタニル基を有する化合物を用いることができる。上記化合物は、モノマー、プレポリマー、ポリマーのいずれであってもよい。電離放射線硬化型樹脂は、耐擦傷性を向上させる観点から、特に、重合可能な不飽和基を２つ以上有する多官能アクリレ−ト等を含んでいると好ましい。

不飽和基を２つ以上有する多官能アクリル系化合物としては、例えば、エチレングリコールジ（メタ）アクリレート、ジエチレングリコールジ（メタ）アクリレート、トリエチレングリコールジ（メタ）アクリレート、１，４−シクロヘキサンジアクリレート、ペンタエリスリトールテトラ（メタ）アクリレート、ペンタエリスリトールトリ（メタ）アクリレート、トリメチロールプロパントリ（メタ）アクリレート、トリメチロールエタントリ（メタ）アクリレート、ジペンタエリスリトールテトラ（メタ）アクリレート、ジペンタエリスリトールペンタ（メタ）アクリレート、ジペンタエリスリトールヘキサ（メタ）アクリレート、１，２，３−シクロヘキサントリメタクリレート、ポリウレタンポリアクリレート、ポリエステルポリアクリレート等の、多価アルコールと（メタ）アクリル酸とから生成されるエステル類、１，４−ジビニルベンゼン、４−ビニル安息香酸−２−アクリロイルエチルエステル、１，４−ジビニルシクロヘキサノン等のビニルベンゼンおよびその誘導体等が挙げられる。これらは、単独で用いてもよいが、２種以上を組み合せて用いてもよい。なかでも、耐擦傷性をより高める観点から、ペンタエリスリトールトリアクリレートおよびジペンタエリスリトールヘキサアクリレートから選ばれる少なくとも１種が好ましい。ペンタエリスリトールテトラ（メタ）アクリレート、ペンタエリスリトールトリ（メタ）アクリレート、トリメチロールプロパントリ（メタ）アクリレート、トリメチロールエタントリ（メタ）アクリレート、ジペンタエリスリトールテトラ（メタ）アクリレート、ジペンタエリスリトールペンタ（メタ）アクリレート、およびジペンタエリスリトールヘキサ（メタ）アクリレートについては、膜強度を高める観点からは好ましいが、屈折率が高いので、屈折率がこれらよりも低い他の多官能アクリル系化合物と組み合せて用いると好ましい。

しかし、重合可能な不飽和結合を２個以上有するアクリル系化合物の重合体の屈折率は、空隙率が３０％を超え５０％以下の中空シリカ微粒子の屈折率（ｎ＝１．３０〜１．４０）より高いので、低屈折率膜１５におけるこの重合体の含有率が高くなると、低屈折率膜１５の屈折率も高くなる。そのため、低屈折率膜１５における上記重合体の含有率は、低屈折率膜１５の強度確保と、低屈折率膜１５の屈折率の上昇の抑制とをバランスさせる観点から、上記重合体（硬化性バインダー）と中空シリカ微粒子の重量の総和の、３５重量％を越え５０重量％未満であると好ましく、４０重量％を越え４５重量％未満であるとより好ましい。硬化性バインダーの含有量がこれらの範囲であれば、低屈折率膜１５形成用の塗料に含まれる後述の重合開始剤による作用と相俟って、より耐擦傷性が高い光学フィルムを実現できる。

熱硬化型バインダーとしては、例えば、シリカゾル等の無機バインダー等が挙げられる。シリカゾルとしては、例えば、ケイ素アルコキシドと酸触媒またはアルカリ触媒とを出発原料とするシリカゾルが挙げられる。ケイ素アルコキシドとしては、例えば、テトラメトキシシランやテトラエトキシシラン等が挙げられる。

低屈折率膜１５形成用塗料には、重合開始剤が含まれていることを要する。上記塗料における重合開始剤の配合割合は、硬化性バインダー１００重量部に対して、３質量部以上１０質量以下であることを要するが、４質量部以上８質量部以下であると好ましい。３質量部未満では十分な耐擦傷性がえられず、１０質量部を超えると硬化性バインダーの低屈折率膜中における含有率を低くせざるをえず、低屈折率膜の耐擦傷性が低下するからである。

低屈折率膜を形成する工程においては、ハードコート膜１２上に形成された塗膜中の硬化性バインダーを、例えば、紫外線を用いて硬化する場合、上記重合開始剤には光重合開始剤を用いる。この光重合開始剤としては、例えば、２−メチル−１−〔４−（メチルチオ）フェニル〕−２−モルフォリノ−プロパン−１−オン、１−ヒドロキシシクロヘキシルフェニルケトン、２,２−ジメトキシ−２−フェニルアセトフェノン、キサントン、フルオレノン、ベンズアルデヒド、フルオレン、アントラキノン、トリフェニルアミン、カルバゾール、３−メチルアセトフェノン、４−クロロベンゾフェノン、４,４'−ジメトキシベンゾフェノン、４,４'−ジアミノベンゾフェノン、ミヒラーケトン、ベンゾインプロピルエーテル、ベンゾインエチルエーテル、ベンジルジメチルケタール、１−（４−イソプロピルフェニル）−２−ヒドロキシ−２−メチルプロパン−１−オン、２−ヒドロキシ−２−メチル−１−フェニルプロパン−１−オン、チオキサントン、ジエチルチオキサントン、２−イソプロピルチオキサントン、２−クロロチオキサントン、２,４,６−トリメチルベンゾイルジフェニルホスフィンオキシド、ビス−（２,６−ジメトキシベンゾイル）−２,４,４−トリメチルペンチルホスフィンオキシド等が挙げられるが、これらは単独で用いてよいし、二種以上を組み合せて用いてもよい。

低屈折率膜１５形成用塗料に含まれる溶媒としては、例えば、硬化性バインダーを溶解させることが可能で、かつ、中空シリカ微粒子が安定して分散可能な有機溶媒であれば特に限定されない。例えば、ヘキサン、ミネラルスピリット等の脂肪族炭化水素系溶剤；ベンゼン、トルエン、キシレン等の芳香族炭化水素系溶剤；酢酸ブチル等のエステル系溶剤；メタノール、ブタノール等のアルコール系溶剤；メチルエチルケトン、イソブチルメチルケトン等のケトン系溶剤；ジメチルホルムアミド、ジメチルスルホキシド、Ｎ−メチルビロリドン、ピリジン等の非プロトン性極性溶剤等が挙げられる。また、これらの溶剤のうちの１種のみを用いてもよいが、２種以上組み合わせて用いてもよい。

低屈折率膜１５が防汚性を備えるように、低屈折率膜１５形成用塗料には、防汚剤が含まれていると好ましい。上記防汚剤としては、例えば、シリコン系化合物等が挙げられる。防汚剤の配合量は、低屈折率膜１５用塗料に含まれる硬化性バインダー１００質量部に対して、０．０１〜１０質量部程度が好ましい。

シリコン系化合物としては、例えば、ジメチルシリルオキシ単位を繰り返し単位として含む化合物鎖の末端および／または側鎖に置換基を有するものが挙げられる。より具体的には、シリコン系化合物としては、ポリジメチルシロキサン、ポリエーテル変性ポリジメチルシロキサン、アラルキル変性ポリジメチルシロキサン、アラルキル変性ポリジメチルシロキサン、脂肪酸エステル変性ポリジメチルシロキサン、または脂肪酸アミド変性ポリジメチルシロキサン等の非反応性シリコーン、アミノ変性ポリジメチルシロキサン、エポキシ変性ポリジメチルシロキサン、カルビノール変性ポリジメチルシロキサン、カルボキシル変性ポリジメチルシロキサン、メタクリル／アクリル変性ポリジメチルシロキサン、フェノール変性ポリジメチルシロキサン、シラノール変性ポリジメチルシロキサン、メルカプト変性ポリジメチルシロキサン等の反応性シリコーン等が挙げられる。

低屈折率膜１５の表面硬度は、ＪＩＳ Ｋ５４００に規定された鉛筆硬度試験による評価で２Ｈ以上であると好ましい。表面硬度が２Ｈ以上であれば表面に傷が入り難くいからである。

ハードコート膜１２上に低屈折率膜１５を形成する方法については特に制限はなく、上記材料を含む塗料をハードコート膜１２上に塗布することにより形成できる。塗布方法も特に制限されず、例えば、ロールコート、ダイコート、エアナイフコート、ブレードコート、スピンコート、リバースコート、グラビアコート等の塗工法、又はグラビア印刷、スクリーン印刷、オフセット印刷、インクジェット印刷等の印刷法等を用いることができる。

＜ハードコート膜＞
ハードコート膜１２の材料を構成するバインダー成分としては、透光性を有し、透光性基材１０よりも高硬度の膜を形成でき、かつ、低屈折率膜の材料よりも高い屈折率を有していれば特に限定されない。ハードコート膜１２形成用の塗料に含まれるバインダー成分としては、電離放射線硬化型樹脂または熱硬化型樹脂等が挙げられる。電離放射線硬化型樹脂としては、低屈折率膜の形成に用いられる電離放射線硬化型樹脂と同様のものを用いることができる。熱硬化型樹脂としては、例えば、ウレタン系、メラミン系、エポキシ系、アクリル系等の熱硬化型樹脂が挙げられる。なかでも、表面硬度が高い膜を形成可能な、電離放射線硬化型樹脂を用いることがより好ましい。

ハードコート膜１２は、導電性金属酸化物および／または導電性樹脂等を含み、帯電防止機能を有していると好ましい。ハードコート膜１２が帯電防止機能を有していると、ディスプレイにおける画面表面の静電気による埃、ゴミ等の付着を防止することができるからである。

ハードコート膜１２おける導電性金属酸化物の含有量は、ハードコート膜の全質量に対して５質量％以上１５質量％以下であると好ましく、９質量％以上１２質量％以下であるとより好ましい。導電性金属酸化物の含有量が５質量％未満では帯電防止機能が不十分であり、１５質量％を超えると光学フィルムの全光線透過率が低下するからである。

ハードコート膜１２に含まれる導電性金属酸化物としては、例えば、アンチモン−スズ複合酸化物（ＡＴＯ）、インジウム−スズ複合酸化物（ＩＴＯ）、酸化亜鉛（ＺｎＯ）、酸化錫（ＳｎＯ）、アンチモン酸亜鉛（ＺｎＳｂ₂Ｏ₆）等が挙げられる。導電性金属酸化物は、電離放射線硬化型樹脂等のバインダー成分中における分散性が良好な、微粒子状のものが好ましく、その一次粒子径は、１００ｎｍ以下が好ましく、５０ｎｍ以下がより好ましく、２０ｎｍ以下が特に好ましい。なお、上記一次粒子径は、小さければ小さいほど、ハードコート膜１２における導電性金属酸化物の含有量を多くすることができ、かつハードコート膜１２の透明性も高くなるので好ましい。

導電性金属酸化物の微粒子は、有機溶媒に分散したオルガノゾルとして容易に入手できる。オルガノゾルを構成する分散媒として、溶解度パラメータが９．５以上の有機溶媒を用いると、ハードコート膜１２の導電性が向上するので好ましい。さらに、ハードコート膜１２の導電性を向上させるためには、ハードコート膜１２形成用の塗料には、溶解度パラメータが９．５以上の有機溶媒を、０．０５質量％〜８０質量％配合されていると好ましい。

ハードコート膜１２中に、導電性金属酸化物の微粒子が均一性よく分散されていると、ハードコート膜１２の導電性が向上する。よって、ハードコート膜１２形成用塗料には、分散剤が配合されていると好ましい。分散剤としては、カチオン系、弱カチオン系、ノニオン系又は両性の界面活性剤を用いることができる。特に、プロピレンオキサイド又はエチレンオキサイド等の低級（Ｃ２〜Ｃ３）アルキレンオキサイドにより変性されたアルキルアミン系の界面活性剤が好ましい。分散剤のハードコート膜における含有量、またはハードコート膜形成用塗料における配合量は、導電性金属酸化物１００質量部に対して０．０５〜１５質量部であると好ましく、０．５〜１０質量部であるとより好ましい。これらの範囲内であれば、分散剤の効果が確実に得られ、また、ハードコート膜１２の透光性が維持でき、強度も確保できるからである。

ハードコート膜１２に含まれる導電性樹脂としては、例えば、ポリアニリン、ポリエチレンジオキシチオフェン（ＰＥＤＯＴ）、ポリピロール等が挙げられる。導電性樹脂は、ハードコート膜１２形成用塗料に含まれる有機溶媒に可溶であるか、または、上記有機溶媒に対する分散性が良好な微粒子状であると好ましい。導電性樹脂が微粒子状である場合、その一次粒径は１００ｎｍ以下であると、硬化性バイン中での分散性も良好であるので、より好ましい。

透光性基材１０の一方の主面側にハードコート膜１２を形成する方法については特に制限はなく、ハードコート膜１２形成用塗料を、低屈折率膜１５を形成する場合と同様に、隣接する層に塗布し、塗膜を乾燥し、塗膜に含まれるバインダー成分を硬化することにより形成できる。

ハードコート膜１２の表面硬度は、ＪＩＳ Ｋ５４００に規定された鉛筆硬度試験による評価で、Ｈ以上が好ましく、２Ｈ以上であることがより好ましい。また、ハードコート膜１２の厚さは、２〜７μｍが好ましく、３〜５μｍがより好ましい。厚さが２μｍ未満であると、硬度の維持が困難となり、７μｍを超えるとクラックが生じ易くなり、カール（フィルムの反り）が発生し易くなり、よって、光学フィルム１の全光線透過率が低下し易くなるからである。

ハードコート膜１２形成用塗料には重合開始剤が含まれていると好ましい。ハードコート膜１２形成用塗料に含まれるバインダー成分が電離放射線硬化型樹脂であり、これを硬化させる際に紫外線を用いる場合には、重合開始剤には光重合開始剤を用いればよい。この光重合開始剤としては、例えば、低屈折率膜に用いられる光重合開始剤と同様のものを用いればよい。

光学フィルム１の反射防止層側の表面抵抗値は、５×１０¹²Ω／□以下であると好ましく、１×１０¹¹Ω／□以下であるとより好ましい。表面抵抗値が５×１０¹²Ω／□を超えると塵埃が付着し易くなって好ましくないからである。表面抵抗値は、低ければ低いほど好ましいが、表面抵抗値を低くしようとして、上記導電性金属酸化物の添加量を多くすると、ハードコート膜の着色が大きくなって光学フィルムの全光線透過率が低下する。また、反射防止層の硬度が小さくなって耐擦傷性が低下する。よって、上記表面抵抗値の下限値は１０⁸Ω／□程度が適当である。

＜易接着層＞
図２に示すように、本実施形態の光学フィルム２の他の一例では、透光性基材１０とハードコート膜１２との間に、易接着層１１が配置されている。易接着層１１と透光性基材１０との接着強度、および、易接着層１１とハードコート層１２との接着強度は、透光性基材１０とこれに接するハードコート層１２との接着強度より高い。そのため、易接着層１１を透光性基材１０とハードコート膜１２との間に設ければ、透光性基材１０とハードコート膜１２との接合強度が向上する点で好ましい。なお、透光性基材１０とこれに接するハードコート層１２との接着強度が十分な場合は、干渉斑を低減する観点から、易接着層１１は無い方がよい。

易接着層１１に用いられる材料としては、例えば、ポリエステル樹脂、ポリウレタン樹脂、アクリル樹脂等が挙げられる。これらの樹脂は単独で用いてもよいが、２種以上組み合わせてポリマーブレンドとして用いてもよい。これらの樹脂を構成する単量体に、カルボキシル基、水酸基等の親水基を有する単量体を共重合させた共重合体を、易接着層１１の材料として用いると、易接着層と透光性基材との接着性がさらに向上するのでより好ましい。

易接着層１１は、透光性基材１０の滑り性、巻き性、耐ブロッキング性等のハンドリング性や、耐摩耗性、耐スクラッチ性等の摩耗特性を改善したり、屈折率の調整のために、無機粒子及び耐熱性高分子粒子から選ばれる少なくとも１種の粒子を含んでいてもよい。無機粒子としては、炭酸カルシウム粒子、リン酸カルシウム粒子、シリカ粒子、カオリン粒子、タルク粒子、二酸化チタン粒子、アルミナ粒子、硫酸バリウム粒子、フッ化カルシウム粒子、フッ化リチウム粒子、ゼオライト粒子、硫化モリブデン粒子、シュウ酸カルシウム粒子等が挙げられ、耐熱性高分子粒子としては、架橋高分子粒子等が挙げられる。これらの粒子の中でも、シリカ粒子が好適である。下記平均粒子径のシリカ粒子の屈折率はポリエステル樹脂の屈折率と比較的近く、高い透明性が得やすいからである。

上記粒子の平均粒子径は、通常０．００５μｍ〜１．０μｍ、好ましくは０．００５μｍ〜０．５μｍ、さらに好ましくは０．００５μｍ〜０．１μｍである。平均粒子径が１．０μｍを超えると易接着層の表面が粗面化し、易接着層１１の透明性が低下する傾向があるからである。

易接着層１１中に含まれる上記粒子の含有量は、通常、６０質量％以下、好ましくは５０質量％以下、さらに好ましくは４０質量％以下である。粒子の含有量が多すぎると易接着層１１の易接着性が損なわれることがあるからである。

易接着層１１は、上記樹脂成分、上記粒子および溶媒等を含む塗料を、例えば透光性基材１０に塗布することにより形成できる。塗布方法は特に制限されず、例えば、リバースロールコート法、グラビアコート法、キスコート法、ロールブラッシュ法、スプレーコート法、エアナイフコート法、ワイヤーバーバーコート法、パイプドクター法、含浸コート法、カーテンコート法等が挙げられる。これらの方法は単独で用いてもよいし、２種以上を組み合わせて用いてもよい。

易接着層１１形成用塗料の塗布は、二軸延伸され、かつ熱固定化された透光性基材に対して行なってもよいが、延伸前の透光性基材に対して行ない、塗布後に延伸及び熱固定を行ってもよい。塗料を均一性よく塗布するためには、延伸前の透光性基材に対してに塗布する方が好ましい。

易接着層１１形成用塗料中の固形分濃度（溶媒を除いた残りの成分の総濃度）は、通常３０質量％以下であり、好ましくは１０質量％以下である。易接着層１１形成用塗料の塗布量は、走行中のフィルム１ｍ²に対して０．０１〜５ｇであると好ましく、０．２〜４ｇであるとより好ましい。易接着層１１形成用塗料を塗布する際の透光性基材１０のクリーン度は、埃の付着を少なくする点から、クラス１０００以下が好ましい。

易接着層１１の厚さは、１μｍ未満であると好ましく、０．７μｍ未満であるとより好ましい。易接着層１１の厚さが１μｍ以上になると、接着性向上の効果が飽和に達するだけではなく、経済的に不利となり、また、光学フィルム１の厚さが必要以上に厚くなり好ましくない。ハードコート膜１２と透光性基材１０との界面での反射光を減少させ、ハードコート膜１２による干渉縞の発生を低減させることが必要な場合には、下記関係式を満足させるように、易接着層の厚さ（ｄ_P）を設定すると、上記界面での反射光が効果的に低減され、干渉縞の発生が防止でき、好ましい。

（数１）
ｄ_P＝（２Ｎ−１）×λ／（４ｎ_P）

ここで、Ｎは自然数、λは人間の目の視感度が高い光の波長（５５０ｎｍに設定されることが多い）、ｎ_Pは易接着層の屈折率である。

＜近赤外線吸収層＞
図３に示すように、本実施形態の光学フィルム３のさらに別の一例では、透光性基材１０の反射防止層側の反対側に、近赤外線吸収層１４が配置されていてもよい。これにより、光学フィルム１をＰＤＰの表面に貼り付ければ、プラズマ放電に伴って放射される近赤外線を近赤外線吸収層１４によって吸収できる。そのため、ＰＤＰから放射される近赤外線によって、周囲の電子機器が誤作動し、特に、テレビやエアコン等のリモコンが誤動作するといった問題が解消される。

この場合、図３に示すように、透光性基材１０と近赤外線吸収層１４との間に、易接着層１３が配置されていてもよい。この易接着層１３の材料、形成方法等は、透光性基材１０とハードコート膜１２の間に配置された易接着層１１と同様である。図３に示した光学フィルム１では、反射防止層９を備えているので光学フィルム１の全光線透過率が高いく、よって、近赤外線吸収層１４の設計の自由度が大きくなる。

近赤外線吸収層１４に含まれる近赤外線吸収化合物は、８５０ｎｍ〜１１００ｎｍの波長領域に最大吸収波長を有する化合物であることが好ましい。近赤外線吸収層が上記近赤外線吸収化合物を含んでいると、波長４００ｎｍ〜８５０ｎｍの可視光の透過率を大きく低減させることなく、波長領域８５０ｎｍ〜１１００ｎｍの近赤外線の透過率を低減させることが可能となる。そのため、本実施形態の光学フィルムをＰＤＰ等の近赤外線吸収フィルタとしても好適に用いることができる。

上記８５０ｎｍ〜１１００ｎｍの波長領域に最大吸収波長を有する近赤外線吸収化合物としては、例えば、アミニウム系、アゾ系、アジン系、アントラキノン系、インジゴイド系、オキサジン系、キノフタロニン系、スクワリウム系、スチルベン系、トリフェニルメタン系、ナフトキノン系、ジイモニウム系、フタロシアニン系、シアニン系、ポリメチン系等の有機色素が挙げられる。

近赤外線吸収化合物を分散させるバインダー成分としては、ポリエステル樹脂、アクリル樹脂、ポリウレタン樹脂、ポリ塩化ビニル樹脂、エポキシ樹脂、ポリ酢酸ビニル樹脂、ポリスチレン樹脂、セルロース樹脂、ポリブチラール樹脂等が挙げられる。これらの樹脂は単独で用いてもいいし、２種以上を組み合せてポリマーブレンドとしても用いてもよい。

近赤外線吸収層１４形成用塗料に含まれる溶媒としては、近赤外線吸収層１４形成用塗料に用いられる従来から公知の溶媒を用いればよい。また、近赤外線吸収層１４形成用塗料に含まれる溶媒の配合割合については、塗料の塗布方法等に応じて適宜選択すればよい。

透光性基材１０のハードコート膜１２側の反対側に近赤外線吸収層１４を形成する方法については特に制限はなく、例えば、近赤外線吸収層１４形成用塗料を透光性基材に塗布した後、塗膜中の溶媒を除去することにより形成できる。塗布方法は、例えば、ロールコート、ダイコート、エアナイフコート、ブレードコート、スピンコート、リバースコート、グラビアコート等の塗工方法、又はグラビア印刷、スクリーン印刷、オフセット印刷、インクジェット印刷等の印刷方法等を採用できる。

近赤外線吸収層１４の厚さは、１μｍ〜１０μｍが好ましく、２μｍ〜７μｍがより好ましい。厚さが１μｍ未満だと、近赤外線の吸収が不十分となり、１０μｍを超えるとクラックが生じ易くなり、カール（フィルムの反り）も発生し易くなるからである。

近赤外線吸収層１４には、ＰＤＰのネオン輝線スペクトル（オレンジ色）をカットする化合物が適宜添加されていてもよい。これにより、ＰＤＰにおいて赤色をより鮮やかに発色させることができる。ネオン輝線スペクトルをカットする化合物としては、５８０〜６２０ｎｍの波長領域に最大吸収波長を有する有機色素が使用でき、例えば、シアニン系、アズレニウム系、スクワリウム系、ジフェニルメタン系、トリフェニルメタン系、オキサジン系、アジン系、チオピリウム系、ビオローゲン系、アゾ系、アゾ金属錯塩系、アザポルフィリン系、ビスアゾ系、アントラキノン系、フタロシアニン系等の有機色素を用いることができる。

近赤外線吸収層１４の厚さ、材料の種類、近赤外線吸収化合物の含有率等は、波長８５０ｎｍ〜１１００ｎｍの全波長領域において、光学フィルムの分光透過率が２０％以下となるように適宜定めればよい。

（実施形態２）
実施形態２では、図３に示した実施形態１の光学フィルムの製造方法の一例について説明する。

図４に示すように、透光性基材１０とその一方の主面上に易接着層１１とハードコート膜１２とがこの順に形成された帯状の積層体Ａは、ロール状に巻回された状態にある。積層体Ａは、積層体Ａが巻回された巻回体１０１から繰り出され、塗料塗布部４に搬送される。

塗料塗布部４では、積層体Ａを構成するハードコート膜に対して、低屈折率膜形成用塗料の塗布が行なわれる。次いで、ハードコート膜上に塗膜が形成された積層体Ａ'は、乾燥機２９内に搬送される。乾燥機２９内では、塗膜中の溶媒が除去される。乾燥機２９内の雰囲気温度および積層体Ａ'の搬送速度は、乾燥機２９内で上記塗膜中の溶媒の殆どが除去可能となるように設定すればよい。また、透光性基材やハードコート膜の熱によるだダメージが可能なかぎり小さくなるように設定すればよい。

次いで、乾燥機２９内を通過して、塗膜中の溶媒が除去された積層体Ａ''に対して、例えば、放射線照射装置により放射線（例えば、紫外線）が照射される。放射線が照射されることにより、塗膜中の硬化性バインダーが硬化し、塗膜は、低屈折率膜１５（図１参照）となる。放射線の照射が行なわれる雰囲気の酸素濃度は、空気中の酸素濃度と等しくてよい。

次ぎに、積層体Ａ'''は一旦ロール状に巻き取られる。次いで、積層体Ａ'''を巻回体１０２から繰り出し、積層体Ａ'''について、光学的欠陥の有無を検査する（検査工程）。

次ぎに、検査工程を経た積層体Ａ'''に保護ラミネートフィルムを貼り付ける。保護ラミネートフィルムの貼付けは、積層体Ａ'''を構成する低屈折率膜に対して行なわれる。

次ぎに、透光性基材１０のハードコート膜側の面の反対面上に易接着層およびおよび近赤外線吸収層１４をこの順に形成する。易接着層および近赤外線吸収層の形成は、保護ラミネートフィルム付き積層体Ａ'''を一旦ロール状に巻回してから行ってもよいが、巻回を経ることなく、保護ラミネートフィルムの貼付け直後に行ってもよい。易接着層および近赤外線吸収層の形成方法については、特に制限はなく、従来公知の方法で形成すればよい。

本実施形態の光学フィルムの製造方法では、後述の実施例に記載の結果に示されるように、中空シリカ微粒子と硬化性バインダーと重合開始剤とを含んだ低屈折率膜形成用の塗料を用いて低屈折率膜が形成され、中空シリカ微粒子の空隙率が３０％を超え５０％以下であり、この塗料中における、重合開始剤の配合割合が、硬化性バインダー１００重量部に対して３重量部以上１０重量部以下であるので、酸素濃度が空気中のそれより低い雰囲気下で硬化性バインダーを硬化しなくても、反射率が低く、耐擦傷性が高い反射防止層を備えた光学フィルムを提供できる。

以下、実施例に基づき本発明の一例を説明するが、本発明は以下の実施例に限定されるものではない。なお、下記実施例１〜１０および比較例１〜６のいずれについても、紫外線の照射は、組成無調整の空気中で行なった。

＜易接着層付き透光性基材の準備＞
紫外線カット性ポリエチレンテレフタレート（ＰＥＴ）フィルムの一方の主面にシリカ微粒子含有ポリエステル系樹脂(屈折率：１．５８)からなる第１易接着層が形成され、他方の主面にシリカ含有アクリル系樹脂からなる第２易接着層が形成された、厚さ１００μｍの、易接着層付き透光性基材（全光線透過率：９２．４％）を準備した。

＜ハードコート膜形成用塗料の作製＞
下記材料を十分に混合および攪拌して、ハードコート膜形成用塗料を作製した。
（１）アンチモン酸亜鉛微粒子（日産化学社製、“セルナックスＣＸ−Ｚ２１０ＩＰ−Ｆ２”、固形分２０質量％のイソプロピルアルコールゾル、一次粒子径：２０ｎｍ）：１５重量部
（２）ペンタエリスリトールトリアクリレート：８重量部
（３）ジペンタエリスリトールヘキサアクリレート：８重量部
（４）光重合開始剤（チバ・スペシャルティ・ケミカルズ社製、“ＩＲＧＡＣＵＲＥ（登録商標）９０７”）：１重量部
（５）イソプロピルアルコール（溶解度パラメータ：１１．５）：６８重量部

次に、上記第１易接着層上に、上記ハードコート膜形成用塗料をマイクログラビアコータ(康井精機社製)を用いて、相対湿度６０％の環境下で塗布した。その後、塗膜を乾燥させ、次いで、塗膜に紫外線を１００ｍＪ／ｃｍ²の線量で照射して、塗膜を硬化させ、厚さ３μｍのハードコート膜を得た。

＜低屈折率膜用塗料の作製＞
下記材料を混合および攪拌して、低屈折率膜形成用塗料を作製した。
（１）中空シリカ微粒子（空隙率：３５％ 触媒化成社製）：６０重量部
（２）ペンタエリスリトールトリアクリレート：２０重量部
（３）ジペンタエリスリトールヘキサアクリレート：２０重量部
（４）光重合開始剤（チバ・スペシャルティ・ケミカルズ社製、“ＩＲＧＡＣＵＲＥ（登録商標）９０７”）：１．６重量部
（５）高分子表面改質剤 (日本油脂社製、“モディパーＦ６００”)：１重量部
（６）イソプロピルアルコール：２０００重量部

次に、ハードコート膜の上に、上記低屈折率膜形成用塗料を上記マイクログラビアコータを用いて塗布して、ハードコート膜上に塗膜を形成した。その後、塗膜を乾燥させ、次いで、塗膜に紫外線を３００ｍＪ／ｃｍ²の線量で照射して、塗膜を硬化させ、屈折率１．３７％、厚さ１０６ｎｍの低屈折率膜を形成した。以上のようにして、実施例１の評価用光学フィルムを作製した。

下記組成の低屈折率膜形成用塗料を用いたこと以外は、実施例１と同様にして評価用の光学フィルムを作製した。
（１）中空シリカ微粒子（空隙率：３５％ 触媒化成社製）：５５重量部
（２）ペンタエリスリトールトリアクリレート：２０重量部
（３）ジペンタエリスリトールヘキサアクリレート：２５重量部
（４）光重合開始剤（チバ・スペシャルティ・ケミカルズ社製、“ＩＲＧＡＣＵＲＥ（登録商標）９０７”）：１．８重量部
（５）高分子表面改質剤(日本油脂社製、“モディパーＦ６００”)：１重量部
（６）イソプロピルアルコール：２０００重量部

下記組成の低屈折率膜形成用塗料を用いたこと以外は、実施例１と同様にして評価用の光学フィルムを作製した。
（１）中空シリカ微粒子（空隙率：３５％ 触媒化成社製）：５０重量部
（２）ペンタエリスリトールトリアクリレート：２０重量部
（３）ジペンタエリスリトールヘキサアクリレート：３０重量部
（４）光重合開始剤（チバ・スペシャルティ・ケミカルズ社製、“ＩＲＧＡＣＵＲＥ（登録商標）９０７”）：２．０重量部
（５）高分子表面改質剤“モディパーＦ６００”(日本油脂社製)：１重量部
（６）イソプロピルアルコール：２０００重量部

下記組成の低屈折率膜形成用塗料を用いたこと以外は、実施例１と同様にして評価用の光学フィルムを作製した。
（１）中空シリカ微粒子（空隙率：３５％ 触媒化成社製）：６０重量部
（２）ペンタエリスリトールトリアクリレート：２０重量部
（３）ジペンタエリスリトールヘキサアクリレート：２０重量部
（４）光重合開始剤（チバ・スペシャルティ・ケミカルズ社製、“ＩＲＧＡＣＵＲＥ（登録商標）９０７”）：２．４重量部
（５）高分子表面改質剤(日本油脂社製、“モディパーＦ６００”)：１重量部
（６）イソプロピルアルコール：２０００重量部

下記組成の低屈折率膜形成用塗料を用いた以外は、実施例１と同様にして評価用の光学フィルムを作製した。
（１）中空シリカ微粒子（空隙率：３５％ 触媒化成社製）：６０重量部
（２）ペンタエリスリトールトリアクリレート：２０重量部
（３）ジペンタエリスリトールヘキサアクリレート：２０重量部
（４）光重合開始剤（チバ・スペシャルティ・ケミカルズ社製、“ＩＲＧＡＣＵＲＥ（登録商標）９０７”）：１．２重量部
（５）高分子表面改質剤 (日本油脂社製、“モディパーＦ６００”)：１重量部
（６）イソプロピルアルコール：２０００重量部

下記組成の近赤外線吸収層形成用の塗料を用いて、第２易接着層上に近赤外線吸収層を形成したこと以外は、実施例１と同様にして評価用の光学フィルムを作製した。

＜近赤外線吸収層形成用塗料の作製＞
下記材料を混合および攪拌して、近赤外線吸収層形成用塗料を作製した。
（１）アクリル樹脂（三菱レイヨン社製、“ダイヤナール”）：１００重量部
（２）芳香族ジイモニウム色素（日本カーリット社製、“ＣＩＲ−１０８５”）：６重量部
（３）シアニン部位・ジチオール金属錯体部位含有近赤外線吸収化合物（住友精化社製、“ＳＤ５０−Ｅ０４Ｎ”、最大吸収波長：８７７ｎｍ）：１重量部
（４）シアニン部位・ジチオール金属錯体部位含有近赤外線吸収化合物（住友精化社製、“ＳＤ５０−Ｅ０５Ｎ”、最大吸収波長：８３３ｎｍ）：１重量部
（５）メチルエチルケトン：１２５重量部
（６）トルエン：４６０重量部

次に、上記近赤外線吸収層形成用塗料を上記マイクログラビアコータを用いて第２易接着層に塗布して塗膜を形成した。その後、塗膜を乾燥させ、厚さ４μｍの近赤外線吸収層を形成した。

実施例２と同様に反射防止層を形成し、実施例６と同様に近赤外線吸収層を形成して評価用の光学フィルムを作製した。

下記組成の低屈折率膜形成用塗料を用いたこと以外は、実施例１と同様にして評価用の光学フィルムを作製した。
（１）中空シリカ微粒子（空隙率：４０％）：６０重量部
（２）ペンタエリスリトールトリアクリレート：２０重量部
（３）ジペンタエリスリトールヘキサアクリレート：２０重量部
（４）光重合開始剤（チバ・スペシャルティ・ケミカルズ社製、“ＩＲＧＡＣＵＲＥ（登録商標）９０７”）：２．４重量部
（５）高分子表面改質剤(日本油脂社製、“モディパーＦ６００”)：１重量部
（６）イソプロピルアルコール：２０００重量部

下記組成の低屈折率膜形成用塗料を用いたこと以外は、実施例１と同様にして評価用の光学フィルムを作製した。
（１）中空シリカ微粒子（空隙率：４５％）：６０重量部
（２）ペンタエリスリトールトリアクリレート：２０重量部
（３）ジペンタエリスリトールヘキサアクリレート：２０重量部
（４）光重合開始剤“（チバ・スペシャルティ・ケミカルズ社製、ＩＲＧＡＣＵＲＥ（登録商標）９０７”）：２．４重量部
（５）高分子表面改質剤 (日本油脂社製、“モディパーＦ６００”)：１重量部
（６）イソプロピルアルコール：２０００重量部

下記組成の低屈折率膜形成用塗料を用いたこと以外は、実施例１と同様にして評価用の光学フィルムを作製した。
（１）中空シリカ微粒子（空隙率：５０％）：６０重量部
（２）ペンタエリスリトールトリアクリレート：２０重量部
（３）ジペンタエリスリトールヘキサアクリレート：２０重量部
（４）光重合開始剤（チバ・スペシャルティ・ケミカルズ社製、“ＩＲＧＡＣＵＲＥ（登録商標）９０７”）：２．４重量部
（５）高分子表面改質剤 (日本油脂社製、“モディパーＦ６００”)：１重量部
（６）イソプロピルアルコール：２０００重量部

（比較例１）
下記材料を用いて低屈折率形成用塗料を作製したこと以外は、実施例１と同様にして評価用の光学フィルムを作製した。
（１）中空シリカ微粒子（空隙率：３０％ 触媒化成社製）：６０重量部
（２）ペンタエリスリトールトリアクリレート：２０重量部
（３）ジペンタエリスリトールヘキサアクリレート：２０重量部
（４）光重合開始剤（チバ・スペシャルティ・ケミカルズ社製、“ＩＲＧＡＣＵＲＥ（登録商標）９０７”）：０．８重量部
（５）高分子表面改質剤(日本油脂社製、“モディパーＦ６００”)：１重量部
（６）イソプロピルアルコール：２０００重量部

（比較例２）
下記材料を用いて低屈折率形成用塗料を作製したこと以外は、実施例１と同様にして評価用の光学フィルムを作製した。
（１）中空シリカ微粒子（空隙率：５５％）：５５重量部
（２）ペンタエリスリトールトリアクリレート：２０重量部
（３）ジペンタエリスリトールヘキサアクリレート：２５重量部
（４）光重合開始剤（チバ・スペシャルティ・ケミカルズ社製、“ＩＲＧＡＣＵＲＥ（登録商標）９０７”）：４．５重量部
（５）高分子表面改質剤(日本油脂社製、“モディパーＦ６００”)：１重量部
（６）イソプロピルアルコール：２０００重量部

（比較例３）
下記材料を用いて低屈折率形成用塗料を作製したこと以外は、実施例１と同様にして評価用の光学フィルムを作製した。
（１）中空シリカ微粒子（空隙率：３５％ 触媒化成社製）：６０重量部
（２）ペンタエリスリトールトリアクリレート：２０重量部
（３）ジペンタエリスリトールヘキサアクリレート：２０重量部
（４）光重合開始剤（チバ・スペシャルティ・ケミカルズ社製、“ＩＲＧＡＣＵＲＥ（登録商標）９０７”）：０．８重量部
（５）高分子表面改質剤(日本油脂社製、“モディパーＦ６００”)：１重量部
（６）イソプロピルアルコール：２０００重量部

（比較例４）
下記材料を用いて低屈折率用塗料を作製したこと以外は、実施例１と同様にして評価用の光学フィルムを作製した。
（１）中空シリカ微粒子（空隙率：３５％ 触媒化成社製）：６０重量部
（２）ペンタエリスリトールトリアクリレート：２０重量部
（３）ジペンタエリスリトールヘキサアクリレート：２０重量部
（４）光重合開始剤（チバ・スペシャルティ・ケミカルズ社製、“ＩＲＧＡＣＵＲＥ（登録商標）９０７”）：４．８重量部
（５）高分子表面改質剤 (日本油脂社製、“モディパーＦ６００”)：１重量部
（６）イソプロピルアルコール：２０００重量部

（比較例５）
下記材料を用いて低屈折率膜形成用塗料を作製したこと以外は、実施例１と同様にして、評価用の光学フィルムを作製した。
（１）中空シリカ微粒子（空隙率：３０％ 触媒化成社製）：７０重量部
（２）ペンタエリスリトールトリアクリレート：１５重量部
（３）ジペンタエリスリトールヘキサアクリレート：１５重量部
（４）光重合開始剤（チバ・スペシャルティ・ケミカルズ社製、“ＩＲＧＡＣＵＲＥ（登録商標）９０７”）：３．０重量部
（５）高分子表面改質剤 (日本油脂社製、“モディパーＦ６００”)：１重量部
（６）イソプロピルアルコール：２０００重量部

上記実施例１〜１０及び比較例１〜５の光学フィルムの特性を下記方法により評価し、表１に示した。なお、表１中の「重合開始剤（重量部）」は、低屈折率膜形成用の塗料に含まれる硬化性バインダー１００重量部に対する値であり、「中空シリカ含率（質量％）」は、低屈折率膜形成用の塗料中の硬化性バインダーと中空シリカ微粒子の重量の総和を１００質量％とした場合の値である。

＜屈折率＞
各評価用の光学フィルムのハードコート膜と低屈折率膜の屈折率を、屈折率測定装置“ＦｉｌｍＴｅｋ３０００”（ＳＣＩ社製）を用いて測定した。

＜反射率＞
分光光度計“Ｕｂｅｓｔ Ｖ−５７０型”（日本分光社製）を用い、３００〜８００ｎｍの波長領域において視感度反射率Ｙを測定した。

＜鉛筆硬度＞
各評価用光学フィルムの反射防止層の鉛筆硬度をＪＩＳ Ｋ５４００に基づいて測定した。

＜スチールウール耐性＞
＃００００のスチールウールを用いて１．９６Ｎ／ｃｍ²の荷重を各評価用光学フィルムの低屈折率膜にかけた状態で、スチールウールを１０往復させた後、低屈折率膜の表面の状態を観察して、以下の４段階で評価した。

◎：傷が全くつかなかった。
○：ほとんど見えない傷がついた。
△：明確に傷が確認できた。
×：膜の剥離が生じた。

＜全光線透過率＞
分光光度計“Ｕｂｅｓｔ Ｖ−５７０型”（日本分光社製）を用い、各評価用の光学フィルムの全光線透過率を測定した。光は、透光性基材のハードコート膜側の面の反対面から入射させた。なお、近赤外線吸収層を備えた評価用の光学フィルムについては、反射防止層を形成した後、近赤外線吸収層を設ける前に、全光線透過率を測定した。

＜空隙率の測定方法＞
中空シリカ微粒子の空隙率は、低屈折率膜の屈折率と、硬化状態の硬化性バインダー及びシリカの屈折率（硬化性バインダー：１．５０、シリカ：１．４４）、低屈折率膜における中空シリカ微粒子の体積含率、低屈折率膜の組成より算出した。

＜平均粒子径の測定方法＞
粒子の平均粒子径は、コールター社製のレーザードップラー方式の粒度分布計Ｎ４ ＰＬＵＳを用いて測定した分散平均粒径（ｎｍ）である。

表１から明らかなように、実施例１〜１０の光学フィルムは、比較例１の光学フィルムとに比べて、屈折率も低く、低い反射率を有し、反射防止能が優れていることがわかる。また、実施例１〜１０の光学フィルムは、比較例２〜５に比べて反射防止層の鉛筆硬度を２Ｈとすることができ、スチールウール耐性も良く、高い耐傷性を有することが分かる。

以上説明したように本発明によれば、反射率が低く、かつ、耐擦傷性が高い反射防止層を備えた光学フィルムを提供でき、各種ディスプレイ、特に、ＰＤＰに好適な光学フィルタを提供できる。

本発明の光学フィルムの一例の断面図 本発明の光学フィルムの他の例の断面図 本発明の光学フィルムのさらに別の例の断面図 本発明の光学フィルムの製造方法の一例の工程断面図

符号の説明

１ 光学フィルム
９ 反射防止層
１０ 透光性基材
１１ 易接着層
１２ ハードコート膜
１３ 易接着層
１４ 近赤外線吸収層
１５ 低屈折率膜

Claims (13)

1. 透光性基材と、前記透光性基材の一方の主面側に配置されたハードコート膜と、前記ハードコート膜上に配置され前記ハードコート膜よりも屈折率が小さい低屈折率膜とを含む光学フィルムの製造方法であって、
   前記透光性基材の前記一方の主面側に配置された前記ハードコート膜上に、中空シリカ微粒子と硬化性バインダーと重合開始剤とを含んだ低屈折率膜形成用の塗料を塗布して、前記ハードコート膜上に塗膜を形成した後、前記塗膜中の硬化性バインダーを硬化して前記低屈折率膜を形成する低屈折率膜形成工程を含み、
   前記中空シリカ微粒子の空隙率は３０％を超え５０％以下であり、
   前記塗料において、前記重合開始剤は、前記硬化性バインダー１００重量部に対して３重量部以上１０重量部以下含まれていることを特徴とする光学フィルムの製造方法。
2. 前記透光性基材の他方の主面側に近赤外線吸収層を形成する、近赤外線吸収層形成工程をさらに含む請求項１に記載の光学フィルムの製造方法。
3. 前記近赤外線吸収層形成工程の前に、前記透光性基材の他方の主面上に易接着層を形成する、易接着層形成工程さらに含む請求項１に記載の光学フィルムの製造方法。
4. 前記硬化性バインダーは、電離放射線硬化型樹脂である請求項１に記載の光学フィルムの製造方法。
5. 前記電離放射線硬化型樹脂は、重合可能な不飽和結合を２個以上有するアクリル系化合物を含む請求項１に記載の光学フィルムの製造方法。
6. 前記塗料中における前記中空シリカ微粒子の配合割合は、前記硬化性バインダーと前記中空シリカ微粒子の重量の総和の６５重量％以下である請求項１に記載の光学フィルムの製造方法。
7. 請求項１に記載の光学フィルムの製造方法によって製造されたことを特徴とする光学フィルム。
8. 前記透光性基材の他方の主面側に配置された近赤外線吸収層をさらに含む請求項７に記載の光学フィルム。
9. 前記近赤外線吸収層と記透光性基材の間には易接着層が配置された請求項８に記載の光学フィルム。
10. 前記硬化性バインダーは、電離放射線硬化性樹脂を含む請求項７に記載の光学フィルム。
11. 前記硬化性バインダーは、重合可能な不飽和結合を２個以上有するアクリル系化合物の重合体を含む請求項１０に記載の光学フィルム。
12. 前記低屈折率膜における前記中空シリカ微粒子の含有量は、前記硬化性バインダーと前記中空シリカ微粒子の重量の総和の６５重量％以下である請求項７に記載の光学フィルム。
13. 前記光学フィルムの全光線透過率は９１％以上であり、前記透光性基材単独の全光線透過率よりも高い請求項７に記載の光学フィルム。

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