JP2008105410A - 液体吐出ヘッドおよびその製造方法 - Google Patents
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Abstract
【解決手段】 圧電体62のうちで下部電極61および上部電極63に挟まれており圧電体62の変位に寄与する活性領域62aの面積が、圧力室52の凹部断面積よりも小さく、圧力室52のアスペクト比(CWy/CWx)が2乃至5である場合に、圧力室52の短手方向における圧電体62の活性領域62aの幅DWxと圧力室52の幅CWxとの比(DWx/CWx)は、0.4乃至0.75であり、且つ、圧力室52の長手方向における圧電体62の活性領域62aの幅DWyと圧力室52の幅CWyとの比(DWy/CWy)は、Lnを自然対数とし、圧力室52のアスペクト比A(=CWy/CWx)を変数xとして、0.133×Ln(x)+0.7312を中心値とした±0.05の範囲内とした。
【選択図】 図3
Description
図16は、図1の液体吐出ヘッド50を備えた画像形成装置80の全体構成の概略を示すブロック図である。
Claims (5)
- 液体吐出口へ連通する圧力室上に少なくとも下部電極、圧電体および上部電極が順に配置されて構成され、
前記圧力室は、面状の前記圧電体の面方向に沿った凹部断面において短手方向および長手方向を有し、
前記圧電体のうちで前記下部電極および前記上部電極に挟まれており前記圧電体の変位に寄与する活性領域の面積が、前記圧力室の凹部断面積よりも小さく、
前記圧力室の前記短手方向の幅CWxと前記圧力室の前記長手方向の幅CWyとのアスペクト比(CWy/CWx)が2乃至5である場合に、
前記圧力室の前記短手方向における前記圧電体の活性領域の幅DWxと前記圧力室の幅CWxとの比(DWx/CWx)は、0.4乃至0.75であり、
且つ、前記圧力室の前記長手方向における前記圧電体の活性領域の幅DWyと前記圧力室の幅CWyとの比(DWy/CWy)は、Lnを自然対数とし、前記圧力室のアスペクト比(CWy/CWx)を変数xとして、0.133×Ln(x)+0.7312を中心値とした±0.05の範囲内であることを特徴とする液体吐出ヘッド。 - 前記圧電体は単板構造で形成され、
前記上部電極の縁から前記圧電体の表面に沿った沿面距離の最短値Lmin[μm]と、前記圧電体の駆動電界E[V]との関係が、E/Lmin≦1を満たすことを特徴とする請求項1に記載の液体吐出ヘッド。 - 液体吐出口へ連通する圧力室上に少なくとも下部電極、圧電体および上部電極を順に形成する液体吐出ヘッドの製造方法において、
前記圧力室は、面状の前記圧電体の面方向に沿った凹部断面において短手方向および長手方向を有し、
前記圧電体のうちで前記下部電極および前記上部電極に挟まれており前記圧電体の変位に寄与する活性領域の面積を、前記圧力室の凹部断面積よりも小さく形成し、
前記圧力室の前記短手方向の幅CWxと前記圧力室の前記長手方向の幅CWyとのアスペクト比(CWy/CWx)が2乃至5である場合に、
前記圧力室の前記短手方向における前記圧電体の活性領域の幅DWxと前記圧力室の前記短手方向の幅CWxとの比(DWx/CWx)は、0.4乃至0.75とし、
且つ、前記圧力室の前記長手方向における前記圧電体の活性領域の幅DWyと前記圧力室の幅CWyとの比(DWy/CWy)は、Lnを自然対数とし、前記圧力室のアスペクト比(CWy/CWx)を変数xとして、0.133×Ln(x)+0.7312を中心値とした±0.05の範囲内とすることを特徴とする液体吐出ヘッドの製造方法。 - 前記圧電体を、スパッタリング、AD(エアロゾルデポジション)法、ゾルゲル法、スクリーン印刷、MOCVD(有機金属気相成長)法、レーザアブレーション法、および、水熱合成法の何れかにより、薄膜形成することを特徴とする請求項3に記載の液体吐出ヘッドの製造方法。
- 請求項1または2に記載の液体吐出ヘッドを備えた画像形成装置。
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