JP2008100378A - パターン形成体の製造方法 - Google Patents
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Abstract
【解決手段】本発明は、親液層および撥液層が表面に形成された基板を用い、上記親液層上に被転写樹脂層形成用塗工液を塗布し、被転写樹脂層を形成する被転写樹脂層形成工程と、上記被転写樹脂層に対して、凹凸パターン部を有するモールドを密着させ、密着積層体を形成する密着積層体形成工程と、上記密着積層体の被転写樹脂層を硬化させる硬化工程と、を有することを特徴とするパターン形成体の製造方法を提供することにより、上記課題を解決する。
【選択図】図1
Description
まず、本発明のパターン形成体の製造方法について説明する。本発明のパターン形成体の製造方法は、親液層および撥液層が表面に形成された基板を用い、上記親液層上に被転写樹脂層形成用塗工液を塗布し、被転写樹脂層を形成する被転写樹脂層形成工程と、上記被転写樹脂層に対して、凹凸パターン部を有するモールドを密着させ、密着積層体を形成する密着積層体形成工程と、上記密着積層体の被転写樹脂層を硬化させる硬化工程と、を有することを特徴とするものである。
以下、本発明のパターン形成体の製造方法について、工程ごとに説明する。
本発明における被転写樹脂層形成工程について説明する。本発明における被転写樹脂層形成工程は、親液層および撥液層が表面に形成された基板を用い、上記親液層上に被転写樹脂層形成用塗工液を塗布し、被転写樹脂層を形成する工程である。通常、本発明においては、被転写樹脂層形成用塗工液との親和性に優れた親液層上のみに被転写樹脂層を形成する。
まず、本発明に用いられる親液層および撥液層について説明する。本発明に用いられる親液層は、基板上に形成され、後述する被転写樹脂層を保持する層である。本発明において、上記親液層は、撥液層と比較して被転写樹脂層形成用塗工液に対する親和性が高い層であれば、特に限定されるものではない。一方、本発明に用いられる撥液層は、基板上に形成され、主に樹脂漏れの発生を抑制する機能を有する層である。本発明において、上記撥液層は、撥液層と比較して被転写樹脂層形成用塗工液に対する親和性が低い層であれば、特に限定されるものではない。
上記親液層および上記撥液層の厚みとしては、親液層および撥液層を構成する材料等により異なるものであるが、それぞれ通常1nm〜1μmの範囲内である。
次に、本発明に用いられる基板について説明する。本発明に用いられる基板は、上述した親液層および撥液層を保持するものである。
次に、本発明に用いられる被転写樹脂層形成用塗工液について説明する。本発明に用いられる被転写樹脂層形成用塗工液は、通常、被転写樹脂および溶媒を含有するものである。
次に、本発明に用いられる被転写樹脂層の形成方法について説明する。本発明においては、上述した親液層上に被転写樹脂層形成用塗工液を塗布し、溶媒を除去することにより、被転写樹脂層を形成する。
次に、本発明における密着積層体形成工程について説明する。本発明における密着積層体形成工程は、上述した被転写樹脂層に対して、凹凸パターン部を有するモールドを密着させ、密着積層体を形成する工程である。
まず、本発明に用いられるモールドについて説明する。本発明に用いられるモールドは、通常、凹凸パターン部および非凹凸パターン部を表面に有する。特に、本発明においては、上記凹凸パターン部が、ナノオーダーの凹凸を有するナノ凹凸パターン部であることが好ましい。ナノオーダーの凹凸を有することにより、半導体デバイスの製造等に有用だからである。また、非凹凸パターン部は、上記凹凸パターン部以外の領域をいい、通常、平滑な表面を有する領域である。
次に、本発明における密着積層体の形成方法について説明する。本発明に用いられる密着積層体は、通常、上記基板と上記モールドとを上記被転写樹脂層を介して、常温で密着させることにより形成する。
次に、本発明における硬化工程について説明する。本発明における硬化工程は、上述した密着積層体の被転写樹脂層を硬化させる工程である。被転写樹脂層を硬化させる方法は、用いられる被転写樹脂層の種類により異なる。
本発明のパターン形成体の製造方法は、上述した被転写樹脂層形成工程、密着積層体形成工程、および硬化工程を少なくとも有するものである。さらに、本発明においては、通常、硬化工程後に、密着積層体からモールドを剥離する剥離工程を行う。密着積層体からモールドを剥離する方法としては、特に限定されるものではなく、一般的なインプリントで用いられる方法と同様の方法で行うことができる。
次に、本発明により得られるパターン形成体の用途について説明する。本発明により得られるパターン形成体は、基板と、上記基板上に形成され、上記モールドの凹凸パターンに対応するパターンを有する被転写樹脂層(以下、「パターン形成層」と称する場合がある。)と、を有する。本発明においては、上記パターン形成層を、基板を加工するためのレジストとして使用しても良く、パターン形成層自身を機能層として使用しても良い。
次に、本発明のインプリント用モールドについて説明する。本発明のインプリント用モールドは、凹凸パターン部および非凹凸パターン部を表面に有し、かつ、上記非凹凸パターン部の撥液性が、上記凹凸パターン部の撥液性よりも高いことを特徴とするものである。
[実施例]
石英基板上にスパッタリング法によりクロムを100nm成膜し、スピンコート法によりレジスト(IP)を塗布し、I線ステッパーにより露光し、現像、エッチングプロセスを経て、平滑な石英基板上にクロムパターンを形成した。
パターニングされた基板はO2プラズマアッシングにより表面の有機物を除去し洗浄した。次に撥液性官能基を示すシランカップリング剤として、CF3(CF2)5CH2CH2Si(OCH2CH3)3溶液(溶媒:1,3−ビストリフルオロベンゼン)に5分間室温で浸漬し、55度で30分間加熱した。次に上記基板のクロムパターンをクロムのエッチャントにより剥離し、パターン状の撥液層を得た。
次に親液性官能基を示すシランカップリング剤として、C3H6NH2Si(CH3O)3溶液(溶媒:水)を用い、上記パターン状の撥液層が形成された基板の上にスピンコート法により塗布し、70度で15分間加熱し、パターン状の親液層を得た。このようにして、二種類のシランカップリング剤でパターン化された基板を得た。
次に、表面張力0.073mN/mの試験溶液(純水)を用いて、得られた基板の接触角を測定したところ、上記親液層の接触角は60°であり、上記撥液層の接触角は113°であった。また、得られた基板をAFM(Atomic Force Microscope)により観察したところ、基板上に単分子コートの親液層および撥液層が作製できていることを確認した。この基板を用いてインプリントを行った結果、上記親液層にのみインプリント樹脂が広がり、上記撥液層にはインプリント樹脂が回りこまないことを光学顕微鏡により確認できた。
2 … 撥液層
3 … 基板
4 … 被転写樹脂層
5 … モールド
6 … 密着積層体
7 … 光
8 … 凹凸パターン部
9 … 非凹凸パターン部
Claims (8)
- 親液層および撥液層が表面に形成された基板を用い、前記親液層上に被転写樹脂層形成用塗工液を塗布し、被転写樹脂層を形成する被転写樹脂層形成工程と、
前記被転写樹脂層に対して、凹凸パターン部を有するモールドを密着させ、密着積層体を形成する密着積層体形成工程と、
前記密着積層体の被転写樹脂層を硬化させる硬化工程と、
を有することを特徴とするパターン形成体の製造方法。 - 表面張力0.073mN/mの試験溶液を用いて接触角を測定した場合に、前記親液層での接触角(θa)と、前記撥液層での接触角(θb)との差(θb−θa)が50°以上であることを特徴とする請求項1に記載のパターン形成体の製造方法。
- 前記親液層が、親液性官能基を有するシランカップリング剤により形成され、かつ、前記撥液層が、撥液性官能基を有するシランカップリング剤により形成されていることを特徴とする請求項1または請求項2に記載のパターン形成体の製造方法。
- 前記基板上に、光触媒の作用により表面の濡れ性が変化する濡れ性変化層を形成し、前記濡れ性変化層と、光触媒を含有する光触媒含有層が基材上に形成されてなる光触媒含有層側基板とを、所定の間隔をおいて配置し、所定の方向からパターン状にエネルギーを照射することにより、前記基板上に前記親液層および前記撥液層を形成することを特徴とする請求項1または請求項2に記載のパターン形成体の製造方法。
- 前記被転写樹脂層が、熱硬化性樹脂または光硬化性樹脂を含有することを特徴とする請求項1から請求項4までのいずれかの請求項に記載のパターン形成体の製造方法。
- 前記モールドが、凹凸パターン部および非凹凸パターン部を表面に有し、かつ、前記非凹凸パターン部の撥液性が、前記凹凸パターン部の撥液性よりも高いことを特徴とする請求項1から請求項5までのいずれかの請求項に記載のパターン形成体の製造方法。
- 凹凸パターン部および非凹凸パターン部を表面に有し、かつ、前記非凹凸パターン部の撥液性が、前記凹凸パターン部の撥液性よりも高いことを特徴とするインプリント用モールド。
- 表面張力0.073mN/mの試験溶液を用いて接触角を測定した場合に、前記凹凸パターン部での接触角(θc)と、前記非凹凸パターン部での接触角(θd)との差(θd−θc)が10°以上であることを特徴とする請求項7に記載のインプリント用モールド。
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2006282942A JP4940884B2 (ja) | 2006-10-17 | 2006-10-17 | パターン形成体の製造方法 |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
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JP2006282942A JP4940884B2 (ja) | 2006-10-17 | 2006-10-17 | パターン形成体の製造方法 |
Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JP2008100378A true JP2008100378A (ja) | 2008-05-01 |
JP4940884B2 JP4940884B2 (ja) | 2012-05-30 |
Family
ID=39435073
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP2006282942A Active JP4940884B2 (ja) | 2006-10-17 | 2006-10-17 | パターン形成体の製造方法 |
Country Status (1)
Country | Link |
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