JP2008098636A - 検査方法および装置、リソグラフィ装置、リソグラフィ処理セルおよびデバイス製造方法 - Google Patents
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Abstract
【解決手段】スキャトロメトリ測定方法では、対象パラメータに対して感受性が異なる様々なターゲットを、キャリブレーションマトリクスに印刷し、異なるスペクトルを取得する。主な成分の解析を異なるスペクトルに適用して、1つのターゲットから取得したスペクトルから取得したキャリブレーション関数よりも、下にある構造の変動に対して感受性が低いキャリブレーション関数を取得する。
【選択図】図5
Description
放射検査ビームを複数のターゲットパターンのうち第一パターンに誘導し、そこから反射または散乱した放射を測定して、第1測定データを取得し、
第一測定データを処理して、複数のターゲットパターンのうち第一パターンのパラメータに関連する第一値を取得し、
放射検査ビームを複数のターゲットパターンのうち第二パターンに誘導し、そこから反射または散乱した放射を測定して、第二測定データを取得し、
第二測定データを処理して、複数のターゲットパターンのうち第二パターンのパラメータに関連する第二値を取得する
ことを含み、
第二測定データを処理する際に、第一値から導出したシード値を使用して、第二値の取得を補助する、方法が提供される。
リソグラフィプロセスによって複数のターゲットパターンおよびデバイスパターンを、第一基板および第二基板それぞれの1つまたは複数のフィールドに印刷し、
放射検査ビームを複数のターゲットパターンのうち第一パターンに誘導し、そこから反射または散乱した放射を測定して、第一測定データを取得し、
第一測定データを処理して、複数のターゲットパターンのうち第一パターンのパラメータに関連する第一値を取得し、
放射検査ビームを複数のターゲットパターンのうち第二パターンに誘導し、そこから反射または散乱した放射を測定して、第二測定データを取得し、
第二測定データを処理して、複数のターゲットパターンのうち第二パターンのパラメータに関連する第二値を取得する
ことを含み、
第二測定データを処理する際に、第一値から導出したシード値を使用して、第二値の取得を補助する、デバイス製造方法が提供される。
放射検査ビームをターゲットパターンに誘導する照明光学システム、
ターゲットパターンによって反射または散乱した放射をディテクタに投影して、スキャトロメトリスペクトルを取得する投影光学システム、
スキャトロメトリスペクトルとシード値を使用して値を計算する計算器、および
計算器によって計算された値を記憶し、1つまたは複数の記憶された値をシード値として計算器に提供するストレージデバイス
を備える検査装置が提供される。
放射検査ビームを複数のターゲットパターンのうち第一パターンに誘導し、そこから反射または散乱した放射を測定して、第1測定データを取得し、
放射検査ビームを複数のターゲットパターンのうち第2パターンに誘導し、そこから反射または散乱した放射を測定して、第二測定データを取得し、
複数のターゲットパターンのうち第一および第二パターンの両方のパラメータに関連し且つそれをリンクするモデルを使用して、第一および第二測定データを処理し、それぞれ複数のターゲットパターンのうち第一および第二パターンのパラメータに関連する第一および第二値を取得する
ことを含む、方法が提供される。
放射検査ビームを複数のターゲットパターンそれぞれに誘導する照明光学システム、
複数のターゲットパターンそれぞれによって反射または散乱した放射をディテクタに投影して、スキャトロメトリスペクトルを取得する投影光学システム、
スキャトロメトリスペクトルとモデルを使用して値を計算する計算器、および
モデルを記憶するストレージデバイス
を備え、モデルは複数のターゲットパターンのそれぞれのパラメータに関連し且つそれをリンクする、検査装置が提供される。
Claims (20)
- リソグラフィプロセスによって1つまたは複数の基板の1つまたは複数のフィールドに印刷されている複数のターゲットパターンの1つまたは複数のパラメータを測定する方法であって、
放射検査ビームを前記複数のターゲットパターンのうち第一パターンに誘導し、そこから反射または散乱した前記放射を測定して、第1測定データを取得し、
前記第一測定データを処理して、前記複数のターゲットパターンのうち前記第一パターンのパラメータに関連する第一値を取得し、
放射検査ビームを前記複数のターゲットパターンのうち第二パターンに誘導し、そこから反射または散乱した前記放射を測定して、第二測定データを取得し、
前記第二測定データを処理して、前記複数のターゲットパターンのうち第二パターンのパラメータに関連する第二値を取得する、
ことを含み、
前記第二測定データの前記処理において、前記第一値から導出したシード値を使用して、前記第二値の取得を補助する、方法。 - 前記複数のターゲットのうち前記第一および第二ターゲットが、同じ基板ではあるが異なるフィールドに配置される、請求項1に記載の方法。
- 前記複数のターゲットのうち前記第一および第二ターゲットが、各々のフィールド内における同じ相対位置に配置される、請求項2に記載の方法。
- 前記複数のターゲットのうち前記第一および第二ターゲットが、異なる基板の対応するフィールドに配置される、請求項1に記載の方法。
- 前記複数のターゲットのうち前記第一および第二ターゲットが、各々のフィールド内における同じ相対位置に配置される、請求項4に記載の方法。
- 前記複数のターゲットパターンのうち前記第一パターンへの前記放射検査ビームを誘導することと、前記第一測定データを処理することとが、各々異なる位置に配置された第一複数の前記ターゲットパターンで複数回繰り返され、前記第一複数のターゲットパターンの個々のパターンのパラメータの第一セットの値を取得し、前記シード値が前記第一セットの値から導出される、請求項1に記載の方法。
- 前記ターゲットパターンの前記第二パターンが、前記第一複数のターゲットパターンのいずれの前記フィールドまたは基板内の位置にも対応しない位置に配置され、前記シード値が、内挿、外挿またはモデリングによって導出される、請求項6に記載の方法。
- 放射検査ビームを前記複数のターゲットパターンのうち第三ターゲットに誘導し、そこから反射または散乱した前記放射を測定して、第三測定データを取得し、
前記第三データを処理して、前記複数のターゲットパターンのうち前記第三パターンのパラメータに関連する第三値を取得する、
ことをさらに含み、
前記第三測定データの前記処理において、前記第一値、前記第二値、またはその両方から導出した第二シード値を使用する、請求項1に記載の方法。 - 前記第一測定データの前記処理、および前記第二測定データの前記処理が、ライブラリ探索、内挿またはフィッティング方法を含む、請求項1に記載の方法。
- 前記第一測定データの前記処理、および前記第二測定データの前記処理が、反復計算を含む、請求項1に記載の方法。
- フィードフォワード補正を実行するために前記シード値を調節することをさらに含む、請求項1に記載の方法。
- リソグラフィプロセスによって複数のターゲットパターンおよびデバイスパターンを、第一基板および第二基板それぞれの1つまたは複数のフィールドに印刷し、
放射検査ビームを前記複数のターゲットパターンのうち第一パターンに誘導し、そこから反射または散乱した前記放射を測定して、第一測定データを取得し、
前記第一測定データを処理して、前記複数のターゲットパターンのうち前記第一パターンのパラメータに関連する第一値を取得し、
放射検査ビームを複数のターゲットパターンのうち第二パターンに誘導し、そこから反射または散乱した前記放射を測定して、第二測定データを取得し、
前記第二測定データを処理して、前記複数のターゲットパターンのうち前記第二パターンのパラメータに関連する第二値を取得する、
ことを含み、
前記第二測定データの前記処理において、前記第一値から導出したシード値を使用して、前記第二値の取得を補助する、デバイス製造方法。 - 前記リソグラフィプロセスによって複数のターゲットパターンおよびデバイスパターンを第三基板の1つまたは複数のフィールドに印刷することをさらに含み、第三基板のリソグラフィプロセスのパラメータが、前記第二値に基づいて調節される、請求項12に記載の方法。
- 前記リソグラフィプロセスが、基板を保持する2つ以上のテーブルを有するリソグラフィ装置によって実行され、前記第一および第二基板が、前記ターゲットパターンおよびデバイスパターンの前記印刷中に同じテーブルによって保持される、請求項12に記載の方法。
- 前記リソグラフィプロセスが、基板上でプロセスステップを実行する2つ以上の等しい処理ユニットを有するリソグラフィセルによって実行され、前記第一および第二基板が、前記ターゲットパターンおよびデバイスパターンの前記印刷中に同じ処理ユニットによって処理される、請求項12に記載の方法。
- 基板上にデバイス層を製造するために使用されるリソグラフィプロセスによって、基板に印刷されたターゲットパターンのパラメータに関連する値を求める検査装置であって、
放射検査ビームを前記ターゲットパターンに誘導する照明光学システム、
前記ターゲットパターンによって反射または散乱した放射をディテクタに投影して、スキャトロメトリスペクトルを取得する投影光学システム、
前記スキャトロメトリスペクトルとシード値を使用して前記値を計算する計算器、および
前記計算器によって計算された値を記憶し、1つまたは複数の記憶された値をシード値として前記計算器に提供するストレージデバイス、
を備える検査装置。 - パターンを照明する照明光学システム、
前記パターンの像を基板に投影する投影光学システム、および
基板上にデバイス層を製造するために使用されるリソグラフィプロセスによって、基板上に印刷されたターゲットパターンのパラメータに関連する値を求める検査装置であって、
放射検査ビームを前記ターゲットパターンに誘導する照明光学システムと、
前記ターゲットパターンによって反射または散乱した放射をディテクタに投影して、スキャトロメトリスペクトルを取得する投影光学システムと、
前記スキャトロメトリスペクトルおよびシード値を使用して、前記値を計算する計算器と、
前記計算器によって計算された値を記憶し、1つまたは複数の記憶した値をシード値として前記計算器に提供するストレージデバイスと
を備える検査装置、
を備えるリソグラフィ装置。 - 放射感応性層で基板をコーティングするコータ、
前記コータによってコーティングした基板の前記放射感応性層に像を露光するリソグラフィ装置、
前記リソグラフィ装置によって露光した前記像を現像するデベロッパ、および
基板上にデバイス層を製造するために使用されるリソグラフィプロセスによって、基板上に印刷されたターゲットパターンのパラメータに関連する値を求める検査装置であって、
放射検査ビームを前記ターゲットパターンに誘導する照明光学システムと、
前記ターゲットパターンによって反射または散乱した放射をディテクタに投影して、スキャトロメトリスペクトルを取得する投影光学システムと、
前記スキャトロメトリスペクトルおよびシード値を使用して、前記値を計算する計算器と、
前記計算器によって計算された値を記憶し、1つまたは複数の記憶した値をシード値として前記計算器に提供するストレージデバイスと
を備える検査装置、
を備えるリソグラフィセル。 - リソグラフィプロセスによって1つまたは複数の基板の1つまたは複数のフィールドに印刷されている複数のターゲットパターンの1つまたは複数のパラメータを測定する方法であって、
放射検査ビームを前記複数のターゲットパターンのうち第一パターンに誘導し、そこから反射または散乱した前記放射を測定して、第1測定データを取得し、
放射検査ビームを前記複数のターゲットパターンのうち第2パターンに誘導し、そこから反射または散乱した前記放射を測定して、第二測定データを取得し、
前記複数のターゲットパターンのうち前記第一および第二パターンの両方のパラメータに関連し且つそれをリンクするモデルを使用して、前記第一および第二測定データを処理し、それぞれ前記複数のターゲットパターンのうち前記第一および第二パターンのパラメータに関連する第一および第二値を取得する、
ことを含む方法。 - 基板上にデバイス層を製造するために使用されるリソグラフィプロセスによって、基板に印刷された複数のターゲットパターンのパラメータに関連する複数の値を求める検査装置であって、
放射検査ビームを前記複数のターゲットパターンそれぞれに誘導する照明光学システム、
前記複数のターゲットパターンそれぞれによって反射または散乱した放射をディテクタに投影して、スキャトロメトリスペクトルを取得する投影光学システム、
前記スキャトロメトリスペクトルとモデルを使用して値を計算する計算器、および
前記モデルを記憶するストレージデバイス、
を備え、前記モデルは前記複数のターゲットパターンのそれぞれのパラメータに関連し且つそれをリンクする、検査装置。
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