JP2008098430A - 基板処理装置および基板処理方法 - Google Patents
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Abstract
【課題】 基板に付着した有機物を良好に除去できる基板処理装置および基板処理方法を提供する。
【解決手段】 除去ユニット10は、主として、マイクロバブル水11aを基板Wに向けて吐出する複数の吐出ノズル11と、マイクロバブル発生部21と、を備えており、基板Wに付着した有機物を除去する。洗浄ユニット60は、主として、複数の上側ノズル61と、複数の下側ノズル62と、貯留槽80と、を備えており、除去ユニット10での有機物除去処理が施された基板Wに対して純水によるリンス処理を施す。
【選択図】図1
【解決手段】 除去ユニット10は、主として、マイクロバブル水11aを基板Wに向けて吐出する複数の吐出ノズル11と、マイクロバブル発生部21と、を備えており、基板Wに付着した有機物を除去する。洗浄ユニット60は、主として、複数の上側ノズル61と、複数の下側ノズル62と、貯留槽80と、を備えており、除去ユニット10での有機物除去処理が施された基板Wに対して純水によるリンス処理を施す。
【選択図】図1
Description
本発明は、半導体基板、液晶表示装置用ガラス基板、フォトマスク用ガラス基板、光ディスク用基板等(以下、単に「基板」と称する)に対して処理を施す基板処理装置および基板処理方法に関するもので、特に、基板に付着した有機物の除去に関する。
従来より、プラズマガス(例えば、プラズマ化されたプロセスガス)や紫外線によって、基板に付着した有機物(例えば、フォトリソ工程で生じたレジストの残渣)を除去可能な基板処理装置が知られている(例えば、特許文献1)。
しかし、特許文献1において、紫外線を利用して有機物を除去する場合、ランプ寿命の短い紫外線ランプ等が紫外線照射部として使用されており、紫外線ランプを頻繁に交換することが必要となる。その結果、装置のランニングコストが増大するという問題が生じていた。
また、プラズマガスを利用して有機物を除去する場合、基板処理装置にプラズマガス発生部を設けることが必要となる。その結果、装置の製造コストが増大するという問題が生じていた。
そこで、本発明では、基板に付着した有機物を良好に除去することができる基板処理装置および基板処理方法を提供することを目的とする。
上記の課題を解決するため、請求項1の発明は、マイクロバブルを発生させるマイクロバブル発生部と、前記マイクロバブル発生部によって発生させられたマイクロバブルを含む第1処理液を、基板に供給する第1供給部と、前記第1供給部によって前記第1処理液が供給された前記基板に、第2処理液を供給する第2供給部とを備えることを特徴とする。
また、請求項2の発明は、請求項1に記載の基板処理装置において、前記第1供給部は、カーテン状とされた前記第1処理液を前記基板に向けて吐出し、搬送部による前記基板の搬送方向と略垂直な第1方向に沿って、前記第1処理液を前記基板に着液させることを特徴とする。
また、請求項3の発明は、請求項1に記載の基板処理装置において、前記第1供給部は、搬送部による前記基板の搬送方向と略垂直な第1方向に沿って配置された複数のノズルを有し、各ノズルは、前記第1方向に伸びる吐出口、を有することを特徴とする。
また、請求項4の発明は、請求項1ないし請求項3のいずれかに記載の基板処理装置において、前記第1供給部は、貯留槽内で発生したマイクロバブルを前記基板に供給することを特徴とする。
また、請求項5の発明は、請求項1ないし請求項3のいずれかに記載の基板処理装置において、前記第1供給部と連通接続されており、前記第1供給部側に第1処理液を供給する第1供給管、をさらに備え、前記マイクロバブル発生部は、前記第1供給管に設けられていることを特徴とする。
また、請求項6の発明は、請求項5に記載の基板処理装置において、前記マイクロバブル発生部は、マイクロバブル径が良好な有機物の除去処理において要求される範囲となるように、前記第1供給管の所定位置に取り付けられていることを特徴とする。
また、請求項7の発明は、請求項1ないし請求項6のいずれかに記載の基板処理装置において、前記第1供給部から供給される第1処理液は、前記第1処理液と酸素を含むガスとをマイクロバブル発生部で混合させることによって発生したマイクロバブルを含むことを特徴とする。
また、請求項8の発明は、請求項1ないし請求項6のいずれかに記載の基板処理装置において、前記第1供給部から供給される第1処理液は、前記第1処理液とオゾンガスとをマイクロバブル発生部で混合させることによって発生したマイクロバブルを含むことを特徴とする。
また、請求項9の発明は、請求項1ないし請求項8のいずれかに記載の基板処理装置において、前記第1処理液は、前記基板上における前記マイクロバブルの径サイズを制御可能な添加物を含むことを特徴とする。
また、請求項10の発明は、請求項1ないし請求項9のいずれかに記載の基板処理装置において、前記基板に供給されて基板処理に使用された使用済みの前記第2処理液を前記マイクロバブル発生部に供給する第2供給管、をさらに備え、前記第1処理液と前記第2処理液とは、同種の処理液であることを特徴とする。
また、請求項11の発明は、(a)マイクロバブル発生部によって発生させられたマイクロバブルを含む第1処理液を基板に供給する工程と、(b)前記工程(a)により前記第1処理液が供給された前記基板に、第2処理液を供給する工程とを備えることを特徴とする。
請求項1ないし請求項11に記載の発明によれば、第2処理液による基板処理が行われる前に、マイクロバブルを含む第1処理液を基板に供給して、基板に付着した有機物を除去することができる。そのため、第2処理液による基板処理を清浄な基板に対して実行でき、良好な基板処理を実行することができる。
特に、請求項2および請求項3に記載の発明によれば、搬送方向に搬送される基板全体に良好に、マイクロバブルを含む第1処理液を供給することができる。そのため、基板から良好に有機物を除去することができる。
特に、請求項4に記載の発明によれば、貯留槽内に十分な量のマイクロバブルを発生させ、その後、マイクロバブルを含む第1処理液を第1供給部に供給することができる。これにより、有機物除去に十分な量のマイクロバブルを基板に供給することができる。そのため、基板に付着した有機物をさらに良好に除去することができる。
特に、請求項5に記載の発明によれば、第1供給管に設けられたマイクロバブル発生部以外に特別な装置を用いることなく、基板にマイクロバブルを含む第1処理液を供給することができる。そのため、装置の製造コストおよび装置のフットプリントを低減させることができる。
特に、請求項6に記載の発明によれば、マイクロバブル発生部の取付位置を調整することにより、適切な径サイズのマイクロバブルを含む第1処理液を基板に供給することができる。そのため、基板に付着した有機物をさらに良好に除去することができる。
特に、請求項7に記載の発明によれば、酸素を含むガスにより形成されたマイクロバブルの酸化力によって、基板に付着した有機物をさらに良好に除去することができる。
特に、請求項8に記載の発明によれば、オゾンガスにより形成されたマイクロバブルの酸化力によって、基板に付着した有機物をさらに良好に除去することができる。
特に、請求項9に記載の発明において、第1処理液には、基板上におけるマイクロバブルの径サイズを制御可能な添加物が含まれている。これにより、適切な径サイズのマイクロバブルを含む第1処理液を基板に供給することができる。そのため、基板に付着した有機物をさらに良好に除去することができる。
特に、請求項10に記載の発明によれば、第1処理液と第2処理液とは同種の処理液であり、第2供給管によって供給される使用済みの第2処理液は、マイクロバブル発生部に供給可能とされている。これにより、マイクロバブルを含む使用済みの第2処理液を、第1供給部から基板に供給することができる。そのため、第1処理液の使用量を低減させることができる。
以下、図面を参照しつつ本発明の実施の形態について詳細に説明する。
<1.基板処理装置の構成>
図1は、本発明の実施の形態における基板処理装置1の全体構成の一例を示す図である。図2および図3は、吐出ノズル11から吐出されるマイクロバブルを含む純水の吐出状況を説明するための図である。ここで、基板処理装置1は、基板Wに付着した有機物(例えば、露光後の現像工程や、エッチング後の剥離工程等によって生じたレジスト残渣)を除去する工程と、有機物除去後の基板Wに対して純水による洗浄する工程と、を実行可能な装置である。図1に示すように、基板処理装置1は、主として、複数の搬送ローラ5と、除去ユニット10と、洗浄ユニット60と、を備えている。
図1は、本発明の実施の形態における基板処理装置1の全体構成の一例を示す図である。図2および図3は、吐出ノズル11から吐出されるマイクロバブルを含む純水の吐出状況を説明するための図である。ここで、基板処理装置1は、基板Wに付着した有機物(例えば、露光後の現像工程や、エッチング後の剥離工程等によって生じたレジスト残渣)を除去する工程と、有機物除去後の基板Wに対して純水による洗浄する工程と、を実行可能な装置である。図1に示すように、基板処理装置1は、主として、複数の搬送ローラ5と、除去ユニット10と、洗浄ユニット60と、を備えている。
なお、図1および以降の各図には、それらの方向関係を明確にすべく必要に応じて適宜、Z軸方向を鉛直方向とし、XY平面を水平面とするXYZ直交座標系が付されている。また、本実施の形態において、処理液には、フッ酸等の薬液だけでなく純水も含まれる。
複数の搬送ローラ5は、処理対象となる基板Wを、除去ユニット10側から洗浄ユニット60側に搬送する搬送部であり、これら搬送ローラ5によって搬送路6が形成される。各搬送ローラ5は、不図示の駆動モータに接続されており、Y軸と略平行な回転軸を中心として回転させられる。そのため、搬送ローラ5上の基板Wは、搬送方向AR1(X軸と略平行)に搬送される。
除去ユニット10は、例えば、露光後の現像工程やエッチング後の剥離工程を経た基板Wに対して、マイクロバブルを含む純水(第1処理液)(以下、「マイクロバブル水」とも呼ぶ)を供給し、該基板Wに付着したレジスト残渣等の有機物を除去するユニットである。なお、除去ユニット10の構成については、後述する。
洗浄ユニット60は、除去ユニット10での有機物除去処理が施された基板Wに、純水によるリンス処理を施すユニットである。図1に示すよに、洗浄ユニット60は、主として、複数の上側ノズル61と、複数の下側ノズル62と、貯留槽80と、を備えている。
複数の上側ノズル61は、処理室60a内であって搬送路6の上方に設けられており、基板Wの上面(Z軸プラス側の面)に純水61aを供給する。また、下側ノズル62は、処理室60aであって、搬送路6の下方に設けられており、基板Wの下面(Z軸マイナス側の面)に純水62aを供給する。
また、図1に示すように、各上側ノズル61は、共通供給管71と、バルブ75が設けられた純水供給管72とを介して、純水供給源31と連通接続されている。一方、各下側ノズル62は、共通供給管71と、バルブ76が設けられた純水供給管73とを介して、純水供給源31と連通接続されている。
したがって、バルブ75が開放されるとともに、バルブ35、76が閉鎖されることにより、各上側ノズル61は、搬送路6の基板Wに上面に向けて純水61aを吐出する。また、バルブ76が開放されるとともに、バルブ35、76が閉鎖されることにより、各下側ノズル62は、基板Wの下面に向けて純水62aを吐出する。さらに、バルブ75、76が開放されるとともに、バルブ35が閉鎖されることにより、各上側ノズル61および下側ノズル62は、基板Wの両面に向けて純水61a、62aを吐出する。
このように、複数の上側ノズル61、および/または、複数の下側ノズル62は、マイクロバブル水が供給された基板Wに、純水(第2処理液)を供給する供給部(第2供給部)として使用される。そして、基板Wに向けて吐出された純水61a、62aは、処理室60aの下部付近に設けられた排出口63と、排出管64とを介して、処理室60a内から貯留槽80側に排出される。
貯留槽80は、基板Wに供給されてリンス処理に使用された使用済みの純水を回収する。図1に示すように、処理室60a内から排出された使用済みの純水は、排出管64を介して、貯留槽80に供給される。
また、図1に示すように、貯留槽80の下部付近は、バルブ85およびポンプ87が設けられた排液供給管81(第2供給管)と、共通供給管22とを介して、マイクロバブル発生部21と連通接続されている。したがって、バルブ85が開放されるとともに、ポンプ87が駆動させられると、貯留槽80に貯留された使用済みの純水80aは、マイクロバブル発生部21側に供給される。
<2.除去ユニットの構成>
ここでは、除去ユニット10の構成について説明する。図1に示すように、除去ユニット10は、主として、マイクロバブル水11aを吐出する複数の吐出ノズル11と、貯留槽20と、マイクロバブル発生部21と、を備えている。
ここでは、除去ユニット10の構成について説明する。図1に示すように、除去ユニット10は、主として、マイクロバブル水11aを吐出する複数の吐出ノズル11と、貯留槽20と、マイクロバブル発生部21と、を備えている。
複数の吐出ノズル11は、図1に示すように、処理室10a内であって、搬送路6の上方に設けられている。各吐出ノズル11は、図1に示すように、その先端に、略Y軸方向(第1方向)に伸びる吐出口を有している。
これにより、各吐出ノズル11から搬送路6の基板Wに向けて吐出されたマイクロバブル水11aにつき、第1方向から見た該マイクロバブル水11aの断面は、図2に示すように略扇形状となる。そして、マイクロバブル水11aは、基板Wの搬送方向AR1と略垂直な方向(第1方向)(略Y軸方向)に沿って伸びる着液部11cに着液する。
また、複数の吐出ノズル11は、図3に示すように、第1方向に沿って配置されている。したがって、複数の吐出ノズル11を一組とする吐出ノズル列(第1供給部)は、カーテン状とされたマイクロバブル水11aを基板Wに向けて吐出することができ、マイクロバブル水11aを第1方向に沿って着液させることができる。そのため、搬送される基板W全体に対して、良好にマイクロバブル水11aを供給することができる。
なお、本実施の形態では、図1に示すように、この複数の吐出ノズル11を一組とする吐出ノズル列が、搬送路6の上方に3つ設けられているが、吐出ノズル列の列数はこれに限定されない。例えば、1列または2列であってもよいし、4列以上であってもよい。
また、各吐出ノズル列は、4つの吐出ノズル11を有するものとして説明したが、吐出ノズル11の本数はこれに限定されない。カーテン状にマイクロバブル水11aを吐出可能であれば、吐出ノズル11の本数は、1本でもよいし、複数(2本以上)であってもよい。
また、吐出ノズル11は、図1に示すように、バルブ55およびポンプ57が設けられたマイクロバブル水供給管51(第1供給管)を介して、貯留槽20の下部付近と連通接続されている。したがって、バルブ55が開放されるとともに、ポンプ57が駆動させられると、貯留槽20に貯留されたマイクロバブル水20aは、マイクロバブル水供給管51に導入されて、吐出ノズル11から吐出される。そして、基板Wに向けて吐出されたマイクロバブル水11aは、排出口13と、バルブ15が設けられた排出管14を介して、除去ユニット10の処理室10a内から貯留槽20側に排出される。
貯留槽20は、図1に示すように、その槽内にマイクロバブル発生部21が設けられている。したがって、マイクロバブル発生部21で発生したマイクロバブル水20aは、貯留槽20に貯留される。
マイクロバブル発生部21は、(1)純水供給源31側、除去ユニット10の排出口13側、および洗浄ユニット60の貯留槽80側のうちのいずれか1つ以上から供給される純水(液相)と、(2)エア供給源41からの酸素(O2)を含むガスであるエア(空気)(気相)と、を混合させることによって、マイクロバブルを発生させる。例えば、マイクロバブルの発生は、気液二相の流体を高速旋回させることで生ずる遠向心分離作用を利用して行われている。
ここで、マイクロバブル水11aが、各吐出ノズル11から吐出され、基板Wに衝突すると、基板Wの上面には、物理的な衝撃が付与される。そして、基板Wに付着したパーティクルやレジスト残渣等の有機物は、この物理的な衝撃によって、基板Wから遊離されて除去される。
また、マイクロバブル水11aに含まれるマイクロバブルは、マイクロバブル水11a中において徐々に収縮し、その一部が消滅(いわゆる「圧壊」)する。このようにマイクロバブルが圧壊する場合、マイクロバブルは、その内部が断熱圧縮される。これにより、消滅直前にマイクロバブルが位置する微小領域(いわゆる「ホットスポット」)は、高温(例えば数千℃)、高圧(例えば数千気圧)となる。そのため、基板Wに付着したパーティクルや有機物は、ホットスポットから発散されるエネルギーの作用によって、基板Wから遊離されて除去される。
なお、マイクロバブル水11aの衝突による物理的衝撃は、主として、サイズの大きなパーティクルや有機物に作用する。一方、マイクロバブルの圧壊により発散されるエネルギーは、主として、サイズの小さなパーティクルや有機物に作用する。
また、マイクロバブルは、電気的吸着性を有している。さらに、マイクロバブルのサイズは、70μm以下と微小であり、マイクロバブル水11aの単位体積当たりの表面積(気液界面の面積)は、大きくなる。そのため、マイクロバブル水11a中を浮遊するパーティクルや有機物は、マイクロバブルによって効率よく吸着される。
さらに、本実施の形態において、マイクロバブルには、酸化力を有する酸素が含まれてに形成されている。これにより、基板Wに付着した有機物(炭素C、水素H等によって構成されている)やマイクロバブル水11a中の有機物は、このマイクロバブルの酸化力によって、例えばCO2とH20とに分解されて除去される。
このように、本実施の形態の除去ユニット10では、(1)マイクロバブル水11a(第1処理液)による物理的衝撃、(2)ホットスポットから発散されるエネルギー、(3)マイクロバブルが有する電気的吸着性、および、(4)マイクロバブルの酸化力によって、基板Wに付着した有機物が除去される。そのため、洗浄ユニット60は、純水(第2処理液)によるリンス処理を清浄な基板Wに対して実行できる。
また、マイクロバブル水によって基板Wに付着した有機物が除去されると、基板W表面の接触角が下がり、基板W表面に対する純水の濡れ性が向上する。これにより、上側ノズル61および下側ノズル62からの純水61a、62aを基板W表面に均一に供給することができる。そのため、後工程であるリンス処理の均一性を向上させることができる。
また、マイクロバブル発生部21は、図1に示すように、共通供給管22と、バルブ35の設けられた純水供給管32と、を介して純水供給源31と連通接続されている。また、マイクロバブル発生部21は、共通供給管22と排出管14とを介して処理室10a内と、共通供給管22と排液供給管81とを介して貯留槽80と、それぞれ連通接続されている。
したがって、バルブ35が開放されるとともに、バルブ15、75、76、85が閉鎖されることにより、マイクロバブル発生部21には、純水供給源31からの純水が供給される。また、バルブ15が開放されるとともに、バルブ35、75、76、85が閉鎖されることにより、マイクロバブル発生部21には、処理室10a内から排出されたマイクロバブル水が供給される。さらに、バルブ85が開放されるとともに、バルブ35、75、76が閉鎖されることにより、マイクロバブル発生部21には、貯留槽80に貯留された純水80aが供給される。
また、マイクロバブル発生部21は、バルブ45が設けられたガス供給管42を介してエア供給源41と連通接続されている。したがって、バルブ45が開放されることにより、マイクロバブル発生部21にはエア供給源41からの酸素を含むガスが供給される。
このように、マイクロバブル発生部21には、純水と酸素を含むガスとが供給される。そして、マイクロバブル発生部21で純水と酸素を含むガスとを混合させることによって発生したマイクロバブル水20aは、貯留槽20に貯留される。したがって、貯留槽20内に十分な量のマイクロバブルを発生させ、その後に、マイクロバブル水20aを吐出ノズル11に供給することができる。そのため、基板Wには有機物除去に十分な量のマイクロバブルが供給され、基板Wに付着した有機物は良好に除去される。
また、上述のように、除去ユニット10の吐出ノズル11と、洗浄ユニット60の上側ノズル61および下側ノズル62とは、同一の純水供給源31から供給された純水を吐出する。すなわち、マイクロバブルの有無等の相違があるものの、吐出ノズル11から吐出される処理液(第1処理液)と、上側ノズル61および下側ノズル62から吐出される処理液(第2処理液)とは、同種の処理液である。また、貯留槽80に貯留された使用済みの純水80aは、排液供給管81によって、マイクロバブル発生部21に供給可能とされている。
これにより、本実施の形態では、純水供給源31からの純水を使用せず、洗浄ユニット60にて使用済みの純水と酸素を含むガスとによって生成されたマイクロバブル水20aを、各吐出ノズル11から基板Wに供給することができる。そのため、純水供給源31からの純水(第1処理液)の使用量を低減させることができる。
<3.本実施の形態の基板処理装置の利点>
以上のように、本実施の形態の基板処理装置1は、各吐出ノズル11から吐出されたマイクロバブル水11aを基板Wに供給して、該基板Wに付着した有機物を除去することができる。これにより、基板処理装置1は、有機物汚染が除去された清浄な基板Wに対して、後工程であるリンス処理を実行できる。そのため、基板処理装置1では、後工程の基板処理を良好に実行することができる。
以上のように、本実施の形態の基板処理装置1は、各吐出ノズル11から吐出されたマイクロバブル水11aを基板Wに供給して、該基板Wに付着した有機物を除去することができる。これにより、基板処理装置1は、有機物汚染が除去された清浄な基板Wに対して、後工程であるリンス処理を実行できる。そのため、基板処理装置1では、後工程の基板処理を良好に実行することができる。
<4.変形例>
以上、本発明の実施の形態について説明してきたが、本発明は上記実施の形態に限定されるものではなく様々な変形が可能である。
以上、本発明の実施の形態について説明してきたが、本発明は上記実施の形態に限定されるものではなく様々な変形が可能である。
(1)本実施の形態において、除去ユニット10による有機物の除去工程後には、純水によるリンス工程が実行されるものとして説明したが、有機物除去工程の後工程はこれに限定されない。該後工程は、例えば、レジストによって形成されたパターンマスクに基づいて、基板W上の金属膜をエッチングする工程であってもよい。すなわち、マイクロバブル水が供給された基板Wに、エッチング液(第2処理液)が供給されてもよい。
この場合も、マイクロバブル水によって、基板Wに付着した有機物が除去されて、基板W表面に対するエッチング液の濡れ性が向上する。そのため、高粘度のエッチング液であっても、基板W表面に均一に供給することができる。その結果、後工程であるエッチング処理の均一性を向上させることができる。
(2)また、本実施の形態において、マイクロバブル発生部21は、純水と酸素を含むガス(エア)とを混合させることによりマイクロバブルを発生させているが、これに限定されるものでない。例えば、基板W上におけるマイクロバブルの径サイズを制御可能な添加物(例えば、界面活性剤)を純水に添加することによって得られる処理液と、酸素とによってマイクロバブルを発生させてもよい。すなわち、マイクロバブル水は、さらに該添加物を含む。これにより、適切な径サイズのマイクロバブルを含むマイクロバブル水が基板Wに供給される。そのため、基板Wに付着した有機物をさらに良好に除去することが可能となる。
(3)また、本実施の形態において、マイクロバブル発生部21には、酸化力を有する気体として酸素を含むガスが供給されるものとして説明したが、これに限定されるものでない。例えば、マイクロバブル発生部21には、酸素を含むガスに代えて、酸素ガスやオゾンガスが供給されてもよい。この場合も、酸素ガスおよびオゾンガスの有する酸化力によって、基板Wに付着した有機物を良好に除去することができる。
(4)また、本実施の形態において、マイクロバブル発生部21は、貯留槽20の槽内に設けられているものとして説明したが、マイクロバブル発生部21の取付位置はこれに限定されない。
図4は、本発明の実施の形態の他の例である基板処理装置100の全体構成を示す図である。基板処理装置100は、マイクロバブル発生部の取付位置を除き、基板処理装置1と同様なハードウェア構成を有している。
マイクロバブル発生部121は、図4に示すように、各吐出ノズル11と連通接続されており、各吐出ノズル11側にマイクロバブル水を供給するマイクロバブル水供給管51に設けられている。また、マイクロバブル発生部121は、バルブ45が設けられたガス供給管42を介して、エア供給源41と連通接続されている。
したがって、マイクロバブル発生部121は、マイクロバブル水供給管51を流れる純水と、エア供給源41からの酸素を含むガスと、を混合させることによって、マイクロバブルを発生させることができる。ここで、マイクロバブル水供給管51には、貯留槽120に貯留された純水120aが導入されているが、マイクロバブルの発生自体には、貯留槽120は必要とされない。
このように、基板処理装置100は、マイクロバブル発生部121以外に特別な装置を用いることなく、マイクロバブル水11a(第1処理液)を基板Wに供給することができる。そのため、基板処理装置100の製造コストおよび装置のフットプリントを低減させることができる。
また、基板W上でのマイクロバブル径は、マイクロバブル水供給管51上におけるマイクロバブル発生部121の取付位置(すなわち、各吐出ノズル11からマイクロバブル発生部121までの距離)に応じて変化する。すなわち、マイクロバブル発生部121の取付位置が制御されると、基板W上でのマイクロバブル径を制御することが可能となる。
したがって、マイクロバブル径は、マイクロバブル発生部121がマイクロバブル水供給管51の所定位置に取り付けられることによって、良好な有機物の除去処理において要求される範囲内となるように制御される。これにより、適切な径サイズのマイクロバブルを含むマイクロバブル水を基板Wに供給することができる。そのため、基板Wに付着した有機物をさらに良好に除去することが可能となる。なお、マイクロバブル発生部121がマイクロバブル水供給管51に取り付けられる所定位置は、例えば、実験によって求められる。
1、100 基板処理装置
5 搬送ローラ(搬送部)
10 除去ユニット
11 吐出ノズル
11a マイクロバブル水(第1処理液)
11b 吐出口
13、63 排出口
14、64 排出管
20、80、120 貯留槽
21、121 マイクロバブル発生部
41 エア供給源
51 マイクロバブル水供給管(第1供給管)
60 洗浄ユニット
61a、61b 純水(第2処理液)
81 排液供給管(第2供給管)
AR1 搬送方向
W 基板
5 搬送ローラ(搬送部)
10 除去ユニット
11 吐出ノズル
11a マイクロバブル水(第1処理液)
11b 吐出口
13、63 排出口
14、64 排出管
20、80、120 貯留槽
21、121 マイクロバブル発生部
41 エア供給源
51 マイクロバブル水供給管(第1供給管)
60 洗浄ユニット
61a、61b 純水(第2処理液)
81 排液供給管(第2供給管)
AR1 搬送方向
W 基板
Claims (11)
- マイクロバブルを発生させるマイクロバブル発生部と、
前記マイクロバブル発生部によって発生させられたマイクロバブルを含む第1処理液を、基板に供給する第1供給部と、
前記第1供給部によって前記第1処理液が供給された前記基板に、第2処理液を供給する第2供給部と、
を備えることを特徴とする基板処理装置。 - 請求項1に記載の基板処理装置において、
前記第1供給部は、カーテン状とされた前記第1処理液を前記基板に向けて吐出し、搬送部による前記基板の搬送方向と略垂直な第1方向に沿って、前記第1処理液を前記基板に着液させることを特徴とする基板処理装置。 - 請求項1に記載の基板処理装置において、
前記第1供給部は、
搬送部による前記基板の搬送方向と略垂直な第1方向に沿って配置された複数のノズルを有し、
各ノズルは、
前記第1方向に伸びる吐出口、
を有することを特徴とする基板処理装置。 - 請求項1ないし請求項3のいずれかに記載の基板処理装置において、
前記第1供給部は、貯留槽内で発生したマイクロバブルを前記基板に供給することを特徴とする基板処理装置。 - 請求項1ないし請求項3のいずれかに記載の基板処理装置において、
前記第1供給部と連通接続されており、前記第1供給部側に第1処理液を供給する第1供給管、
をさらに備え、
前記マイクロバブル発生部は、前記第1供給管に設けられていることを特徴とする基板処理装置。 - 請求項5に記載の基板処理装置において、
前記マイクロバブル発生部は、マイクロバブル径が良好な有機物の除去処理において要求される範囲となるように、前記第1供給管の所定位置に取り付けられていることを特徴とする基板処理装置。 - 請求項1ないし請求項6のいずれかに記載の基板処理装置において、
前記第1供給部から供給される第1処理液は、前記第1処理液と酸素を含むガスとをマイクロバブル発生部で混合させることによって発生したマイクロバブルを含むことを特徴とする基板処理装置。 - 請求項1ないし請求項6のいずれかに記載の基板処理装置において、
前記第1供給部から供給される第1処理液は、前記第1処理液とオゾンガスとをマイクロバブル発生部で混合させることによって発生したマイクロバブルを含むことを特徴とする基板処理装置。 - 請求項1ないし請求項8のいずれかに記載の基板処理装置において、
前記第1処理液は、前記基板上における前記マイクロバブルの径サイズを制御可能な添加物を含むことを特徴とする基板処理装置。 - 請求項1ないし請求項9のいずれかに記載の基板処理装置において、
前記基板に供給されて基板処理に使用された使用済みの前記第2処理液を前記マイクロバブル発生部に供給する第2供給管、
をさらに備え、
前記第1処理液と前記第2処理液とは、同種の処理液であることを特徴とする基板処理装置。 - (a) マイクロバブル発生部によって発生させられたマイクロバブルを含む第1処理液を基板に供給する工程と、
(b) 前記工程(a)により前記第1処理液が供給された前記基板に、第2処理液を供給する工程と、
を備えることを特徴とする基板処理方法。
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2006
- 2006-10-12 JP JP2006278896A patent/JP2008098430A/ja active Pending
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