JP2008091566A - 絶縁膜で被覆されたカーボンナノチューブ構造体の製造方法及びその構造体からなる電界効果トランジスタ装置 - Google Patents
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Abstract
【解決手段】カーボンナノチューブ3と、前記カーボンナノチューブの表面を被覆する絶縁膜とからなるカーボンナノチューブ構造体の形成方法において、前記カーボンナノチューブを成長装置内で成長する第1の工程と、前記カーボンナノチューブを前記成長装置から取り出す前に、前記カーボンナノチューブの表面を絶縁膜で被覆する第2の工程とからなる。
【選択図】図3
Description
カーボンナノチューブは、炭素原子からなる六員環ネットワーク(グラフェンシート)が円筒上に丸まったナノサイズの自己組織化構造体(自然に形成される特定の構造)である。カーボンナノチューブは、直径が〜1nm長さが数μmの細長い微小単結晶である。その特異な構造から、物性研究の対象として注目を集めているだけでなく、新素材としても期待されている。
図15にナノチューブFETの斜視図を、図16にA−A’線断面図を示す。図15および図16に図示されたナノチューブFETは、どのような基板の上にでも形成可能なトップゲート型ナノチューブFETである。
トップゲート型ナノチューブFETの製造方法としては、2つの方法が報告されている。図17〜21は、一般的に行われている分散法(非特許文献1)と呼ばれる製造法の工程を示したものである。
以上の方法はナノチューブFETの製造方法としては一般的であるが、所定の位置にナノチューブFETを形成することができないという欠点がある。この欠点を解消するために、以下に説明する架橋法が開発された(非特許文献1)。図22〜図26は、架橋法の製造工程を示したものである。
「カーボンナノチューブの基礎と応用」、斎藤理一郎、藤原久典、倍風館、p.62〜p.77。
(第1の発明)第1の発明は、カーボンナノチューブと、前記カーボンナノチューブの表面を被覆する絶縁膜とからなるカーボンナノチューブ構造体の形成方法において、前記カーボンナノチューブを成長装置内で成長する第1の工程と、前記カーボンナノチューブを前記成長装置から取り出す前に、前記カーボンナノチューブの表面を絶縁膜で被覆する第2の工程とからなることを特徴とする。
図1に、本実施形態に用いるSiN被覆CNT構造体の成長装置の概略を示す。この装置は、基本的には化学気相成長装置である。成長室14は、CNT成長用基板27を担持する試料台15とCNT成長用基板27を加熱するためのヒータ16とを具備している。更に、成長室14は、カーボンナノチューブの原料ガス(アセチレンガス:C2H2ガス)を、CNT成長用基板27に供給する前に部分的に熱分解するフィラメント17を具備している。カーボンナノチューブ成長の原料ガスとしてはC2H2ガスが好ましいが、C2H2,CH4,C2H5OHの何れかであっても良い。
まず、シリコン基板1の表面に熱酸化膜2を形成する(図9(a))。次に、この熱酸化膜2の上に、カーボンナノチューブ成長の触媒となるFe膜29をスパッタ法により1〜5nm堆積する(図9(b))。尚、カーボンナノチューブ成長の触媒としては、通常Fe,Co,Ni,もしくはそれらの合金の内から選択されるものであれば良い。但し、最も好ましい触媒はFeである。
カーボンナノチューブを成長装置内で成長する第1の工程と、
前記カーボンナノチューブを前記成長装置から取り出す前に、前記カーボンナノチューブの表面を絶縁膜で被覆する第2の工程とからなるカーボンナノチューブ構造体の形成方法。
前記カーボンナノチューブの一端を被覆する前記絶縁膜を除去して形成したソース電極と、
前記カーボンナノチューブの他端を被覆する前記絶縁膜を除去して形成したドレイン電極と、
前記ソース電極および前記ドレイン電極の間の前記絶縁膜の上に形成したゲート電極からなる電界効果トランジスタ装置。
2 絶縁膜
3 カーボンナノチューブ
4 ソース電極
5 ドレイン電極
6 ゲート絶縁膜
7 ゲート電極
8 分散液
9 フォトレジスト膜
10 Ti膜
11 絶縁膜
27 CNT成長用基板
29 Fe膜
30 SiN被覆CNT構造体
Claims (5)
- カーボンナノチューブと、前記カーボンナノチューブの表面を被覆する絶縁膜とからなるカーボンナノチューブ構造体の形成方法において、
前記カーボンナノチューブを成長装置内で成長する第1の工程と、
前記カーボンナノチューブを前記成長装置から取り出す前に、前記カーボンナノチューブの表面を絶縁膜で被覆する第2の工程とからなるカーボンナノチューブ構造体の形成方法。 - 第1の工程で成長するカーボンナノチューブが、基板に一端のみが接したカーボンナノチューブであることを特徴とする請求項1記載のカーボンナノチューブ構造体の形成方法。
- 前記絶縁膜が、窒化珪素膜であることを特徴とする請求項1又は2記載のカーボンナノチューブ構造体の形成方法。
- 前記第1の工程が、半導体的なカーボンナノチューブの成長が可能な工程であることを特徴とする請求項1乃至3記載のカーボンナノチューブ構造体の形成方法。
- 請求項4記載のカーボンナノチューブ構造体を加工してなり、
前記カーボンナノチューブの一端を被覆する前記絶縁膜を除去して形成したソース電極と、
前記カーボンナノチューブの他端を被覆する前記絶縁膜を除去して形成したドレイン電極と、
前記ソース電極および前記ドレイン電極の間の前記絶縁膜の上に形成したゲート電極からなる電界効果トランジスタ装置。
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