JP2008088047A - ガラス - Google Patents
ガラス Download PDFInfo
- Publication number
- JP2008088047A JP2008088047A JP2007197086A JP2007197086A JP2008088047A JP 2008088047 A JP2008088047 A JP 2008088047A JP 2007197086 A JP2007197086 A JP 2007197086A JP 2007197086 A JP2007197086 A JP 2007197086A JP 2008088047 A JP2008088047 A JP 2008088047A
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- glass
- raw material
- fluoride
- less
- mass
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Granted
Links
- 239000011521 glass Substances 0.000 title claims abstract description 403
- 239000002994 raw material Substances 0.000 claims abstract description 256
- 238000004031 devitrification Methods 0.000 claims abstract description 85
- 238000002844 melting Methods 0.000 claims abstract description 59
- 230000008018 melting Effects 0.000 claims abstract description 59
- 239000000203 mixture Substances 0.000 claims abstract description 56
- 238000000034 method Methods 0.000 claims abstract description 39
- 229910052788 barium Inorganic materials 0.000 claims abstract description 25
- 229910052731 fluorine Inorganic materials 0.000 claims abstract description 25
- 229910052791 calcium Inorganic materials 0.000 claims abstract description 23
- 230000008569 process Effects 0.000 claims abstract description 23
- 229910052712 strontium Inorganic materials 0.000 claims abstract description 23
- 229910052782 aluminium Inorganic materials 0.000 claims abstract description 22
- 229910052760 oxygen Inorganic materials 0.000 claims abstract description 16
- 229910052727 yttrium Inorganic materials 0.000 claims abstract description 12
- KRHYYFGTRYWZRS-UHFFFAOYSA-M Fluoride anion Chemical compound [F-] KRHYYFGTRYWZRS-UHFFFAOYSA-M 0.000 claims description 58
- 230000003287 optical effect Effects 0.000 claims description 51
- -1 phosphoric acid compound Chemical class 0.000 claims description 45
- NBIIXXVUZAFLBC-UHFFFAOYSA-N phosphoric acid Substances OP(O)(O)=O NBIIXXVUZAFLBC-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 42
- 229910000147 aluminium phosphate Inorganic materials 0.000 claims description 38
- 239000000463 material Substances 0.000 claims description 23
- 239000005304 optical glass Substances 0.000 claims description 21
- 229910016569 AlF 3 Inorganic materials 0.000 claims description 20
- 229910004261 CaF 2 Inorganic materials 0.000 claims description 20
- 239000000126 substance Substances 0.000 claims description 19
- 229910052749 magnesium Inorganic materials 0.000 claims description 12
- 229910052710 silicon Inorganic materials 0.000 claims description 11
- 239000002253 acid Substances 0.000 claims description 10
- 229910016036 BaF 2 Inorganic materials 0.000 claims description 9
- 230000020169 heat generation Effects 0.000 claims description 9
- 229910052746 lanthanum Inorganic materials 0.000 claims description 9
- 239000000843 powder Substances 0.000 claims description 8
- 238000012545 processing Methods 0.000 claims description 8
- 229910052700 potassium Inorganic materials 0.000 claims description 7
- 229910052708 sodium Inorganic materials 0.000 claims description 7
- CPELXLSAUQHCOX-UHFFFAOYSA-M Bromide Chemical compound [Br-] CPELXLSAUQHCOX-UHFFFAOYSA-M 0.000 claims description 6
- VEXZGXHMUGYJMC-UHFFFAOYSA-M Chloride anion Chemical compound [Cl-] VEXZGXHMUGYJMC-UHFFFAOYSA-M 0.000 claims description 6
- 229910004298 SiO 2 Inorganic materials 0.000 claims description 6
- XMBWDFGMSWQBCA-UHFFFAOYSA-N hydrogen iodide Chemical compound I XMBWDFGMSWQBCA-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 6
- 229910013870 LiPF 6 Inorganic materials 0.000 claims description 5
- 230000003247 decreasing effect Effects 0.000 claims description 5
- 229910052688 Gadolinium Inorganic materials 0.000 claims description 4
- 229910052744 lithium Inorganic materials 0.000 claims description 4
- 238000005259 measurement Methods 0.000 claims description 4
- 238000000691 measurement method Methods 0.000 claims description 4
- 239000000758 substrate Substances 0.000 claims description 4
- 229910017855 NH 4 F Inorganic materials 0.000 claims description 3
- 230000000630 rising effect Effects 0.000 claims description 2
- 239000013078 crystal Substances 0.000 abstract description 35
- 238000001816 cooling Methods 0.000 abstract description 19
- 229910052698 phosphorus Inorganic materials 0.000 abstract description 11
- 239000005303 fluorophosphate glass Substances 0.000 abstract description 3
- RHFUXPCCELGMFC-UHFFFAOYSA-N n-(6-cyano-3-hydroxy-2,2-dimethyl-3,4-dihydrochromen-4-yl)-n-phenylmethoxyacetamide Chemical compound OC1C(C)(C)OC2=CC=C(C#N)C=C2C1N(C(=O)C)OCC1=CC=CC=C1 RHFUXPCCELGMFC-UHFFFAOYSA-N 0.000 abstract 1
- 230000001105 regulatory effect Effects 0.000 abstract 1
- 230000000694 effects Effects 0.000 description 63
- 239000006185 dispersion Substances 0.000 description 31
- 239000000156 glass melt Substances 0.000 description 28
- 239000011575 calcium Substances 0.000 description 22
- BASFCYQUMIYNBI-UHFFFAOYSA-N platinum Chemical group [Pt] BASFCYQUMIYNBI-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 21
- 238000006243 chemical reaction Methods 0.000 description 17
- 238000004017 vitrification Methods 0.000 description 17
- 230000000052 comparative effect Effects 0.000 description 15
- 238000004519 manufacturing process Methods 0.000 description 11
- 230000015572 biosynthetic process Effects 0.000 description 10
- 239000000470 constituent Substances 0.000 description 8
- 230000004075 alteration Effects 0.000 description 7
- 238000000465 moulding Methods 0.000 description 7
- 230000001737 promoting effect Effects 0.000 description 7
- 238000012360 testing method Methods 0.000 description 7
- 229910045601 alloy Inorganic materials 0.000 description 6
- 239000000956 alloy Substances 0.000 description 6
- 150000002500 ions Chemical class 0.000 description 6
- 150000003839 salts Chemical class 0.000 description 6
- 206010037660 Pyrexia Diseases 0.000 description 5
- 230000008859 change Effects 0.000 description 5
- 239000000155 melt Substances 0.000 description 5
- 229910052697 platinum Inorganic materials 0.000 description 5
- PNEYBMLMFCGWSK-UHFFFAOYSA-N aluminium oxide Inorganic materials [O-2].[O-2].[O-2].[Al+3].[Al+3] PNEYBMLMFCGWSK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- 150000002222 fluorine compounds Chemical group 0.000 description 4
- 230000005484 gravity Effects 0.000 description 4
- XLYOFNOQVPJJNP-UHFFFAOYSA-N water Substances O XLYOFNOQVPJJNP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- 230000004580 weight loss Effects 0.000 description 4
- 239000002585 base Substances 0.000 description 3
- 150000001875 compounds Chemical class 0.000 description 3
- 230000008034 disappearance Effects 0.000 description 3
- 238000011156 evaluation Methods 0.000 description 3
- 239000007789 gas Substances 0.000 description 3
- 238000009413 insulation Methods 0.000 description 3
- 150000003016 phosphoric acids Chemical class 0.000 description 3
- 230000009467 reduction Effects 0.000 description 3
- 238000002834 transmittance Methods 0.000 description 3
- CURLTUGMZLYLDI-UHFFFAOYSA-N Carbon dioxide Chemical compound O=C=O CURLTUGMZLYLDI-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- YCKRFDGAMUMZLT-UHFFFAOYSA-N Fluorine atom Chemical compound [F] YCKRFDGAMUMZLT-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- GRYLNZFGIOXLOG-UHFFFAOYSA-N Nitric acid Chemical class O[N+]([O-])=O GRYLNZFGIOXLOG-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 229910019142 PO4 Inorganic materials 0.000 description 2
- 206010040925 Skin striae Diseases 0.000 description 2
- QAOWNCQODCNURD-UHFFFAOYSA-N Sulfuric acid Chemical class OS(O)(=O)=O QAOWNCQODCNURD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 238000010521 absorption reaction Methods 0.000 description 2
- 239000002535 acidifier Substances 0.000 description 2
- 229910052783 alkali metal Inorganic materials 0.000 description 2
- 150000001340 alkali metals Chemical class 0.000 description 2
- 229910052784 alkaline earth metal Inorganic materials 0.000 description 2
- 238000005266 casting Methods 0.000 description 2
- 150000001768 cations Chemical class 0.000 description 2
- 238000002425 crystallisation Methods 0.000 description 2
- 230000008025 crystallization Effects 0.000 description 2
- 238000013461 design Methods 0.000 description 2
- 239000011737 fluorine Substances 0.000 description 2
- 238000007496 glass forming Methods 0.000 description 2
- 238000010438 heat treatment Methods 0.000 description 2
- 238000003384 imaging method Methods 0.000 description 2
- 230000006872 improvement Effects 0.000 description 2
- 239000004615 ingredient Substances 0.000 description 2
- 239000007788 liquid Substances 0.000 description 2
- 229910052751 metal Inorganic materials 0.000 description 2
- 239000002184 metal Substances 0.000 description 2
- 230000004048 modification Effects 0.000 description 2
- 238000012986 modification Methods 0.000 description 2
- 230000007935 neutral effect Effects 0.000 description 2
- 229910017604 nitric acid Inorganic materials 0.000 description 2
- 239000002245 particle Substances 0.000 description 2
- NBIIXXVUZAFLBC-UHFFFAOYSA-K phosphate Chemical compound [O-]P([O-])([O-])=O NBIIXXVUZAFLBC-UHFFFAOYSA-K 0.000 description 2
- 239000010452 phosphate Substances 0.000 description 2
- 238000010583 slow cooling Methods 0.000 description 2
- 229910017119 AlPO Inorganic materials 0.000 description 1
- FQKMRXHEIPOETF-UHFFFAOYSA-N F.OP(O)(O)=O Chemical compound F.OP(O)(O)=O FQKMRXHEIPOETF-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229910005690 GdF 3 Inorganic materials 0.000 description 1
- 229910017768 LaF 3 Inorganic materials 0.000 description 1
- VYPSYNLAJGMNEJ-UHFFFAOYSA-N Silicium dioxide Chemical compound O=[Si]=O VYPSYNLAJGMNEJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229910052776 Thorium Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000003082 abrasive agent Substances 0.000 description 1
- 150000001342 alkaline earth metals Chemical class 0.000 description 1
- 150000001450 anions Chemical class 0.000 description 1
- 239000007864 aqueous solution Substances 0.000 description 1
- 229910052785 arsenic Inorganic materials 0.000 description 1
- 229910052790 beryllium Inorganic materials 0.000 description 1
- 229910052793 cadmium Inorganic materials 0.000 description 1
- WUKWITHWXAAZEY-UHFFFAOYSA-L calcium difluoride Chemical compound [F-].[F-].[Ca+2] WUKWITHWXAAZEY-UHFFFAOYSA-L 0.000 description 1
- 229910001634 calcium fluoride Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000001569 carbon dioxide Substances 0.000 description 1
- 229910002092 carbon dioxide Inorganic materials 0.000 description 1
- 150000004649 carbonic acid derivatives Chemical class 0.000 description 1
- 229910052804 chromium Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000012459 cleaning agent Substances 0.000 description 1
- 229910052802 copper Inorganic materials 0.000 description 1
- 238000005520 cutting process Methods 0.000 description 1
- 230000002708 enhancing effect Effects 0.000 description 1
- 230000007613 environmental effect Effects 0.000 description 1
- 230000002349 favourable effect Effects 0.000 description 1
- 239000006260 foam Substances 0.000 description 1
- 150000004820 halides Chemical class 0.000 description 1
- 150000004677 hydrates Chemical class 0.000 description 1
- XLYOFNOQVPJJNP-UHFFFAOYSA-M hydroxide Chemical compound [OH-] XLYOFNOQVPJJNP-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 1
- 150000004679 hydroxides Chemical class 0.000 description 1
- 229910052742 iron Inorganic materials 0.000 description 1
- 229910052745 lead Inorganic materials 0.000 description 1
- 230000007774 longterm Effects 0.000 description 1
- 229910052748 manganese Inorganic materials 0.000 description 1
- 230000007246 mechanism Effects 0.000 description 1
- 239000002905 metal composite material Substances 0.000 description 1
- 229910052750 molybdenum Inorganic materials 0.000 description 1
- 229910052759 nickel Inorganic materials 0.000 description 1
- 229910052762 osmium Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000001301 oxygen Substances 0.000 description 1
- 230000000704 physical effect Effects 0.000 description 1
- 238000005498 polishing Methods 0.000 description 1
- 238000001556 precipitation Methods 0.000 description 1
- 238000002360 preparation method Methods 0.000 description 1
- 238000011160 research Methods 0.000 description 1
- 229910052711 selenium Inorganic materials 0.000 description 1
- 229910052709 silver Inorganic materials 0.000 description 1
- 238000009751 slip forming Methods 0.000 description 1
- 238000003756 stirring Methods 0.000 description 1
- 229910052716 thallium Inorganic materials 0.000 description 1
- 229910052723 transition metal Inorganic materials 0.000 description 1
- 150000003624 transition metals Chemical class 0.000 description 1
- 229910052720 vanadium Inorganic materials 0.000 description 1
Images
Landscapes
- Glass Compositions (AREA)
Abstract
【解決手段】ガラス原料組成物にSi及び/又はBを0.005〜0.2元素質量%未満含有させ、P、Al、Ca、Sr、Ba、Y、F、Oの構成元素比率を調整することによって、所望の屈折率及びアッベ数を実現しつつ、熔融状態からの冷却過程におけるガラス内部の失透(結晶)発生を効果的に抑制することにより、極低屈折率極低分散弗燐酸ガラスを安定に取得する。
【選択図】なし
Description
元素質量%で、Si及び/又はBを0.005〜0.2%未満含有するガラス原料組成物を熔融することにより得られるガラスであって、Pを0.1〜5.0%、Alを1.0〜20.0%、Fを30.0〜60.0%、Oを1.0〜20.0%を含有し、かつCa、Sr、Baのうち1種以上を必須に含有し、屈折率(nd)が1.41〜1.47、アッベ数(νd)が90〜100の範囲の光学恒数を有するガラス。
(構成2)
元素質量%で、Si及び/又はBを0.005〜0.2%未満含有するガラス原料組成物を熔融することにより得られるガラスであって、Pを0.1〜5.0%、Alを1.0〜20.0%、Caを3.0〜20.0%、Srを1.0〜20.0%、Baを1.0〜20.0%、Fを30.0〜60.0%、Oを1.0〜20.0%、Mgを0〜10.0%、Yを0〜10.0%含有し、屈折率(nd)が1.41〜1.47、アッベ数(νd)が90〜100の範囲の光学恒数を有するガラス。
(構成3)
元素質量%で、Si及び/又はBを0.005〜0.2%未満含有するガラス原料組成物を熔融することにより得られるガラスであって、Pを1.0〜5.0%、Alを8.0〜18.0%、Caを3.0〜18.0%、Srを3.0〜19.0%、Baを3.0〜18.0%、Fを32.0〜58.0%、Oを1.0〜18.0%、Mgを0.3〜8.0%及びYを0.1〜8.0%、並びにLaを0〜5.0%及び/又はGdを0〜5.0%及び/又はLiを0〜3.0%及び/又はNaを0〜3.0%及び/又はKを0〜3.0%含有し、屈折率(nd)が1.42〜1.46、アッベ数(νd)が92〜98の範囲の光学恒数を有するガラス。
(構成4)
構成1〜3のいずれか一項に記載のガラスであって、元素質量%比(Si+B+P+Al)/Fが0.15〜0.40の範囲であるガラス。
(構成5)
構成1〜3のいずれか一項に記載のガラスであって、元素質量%比(Si+B+P+Al)/Fが0.20〜0.35、かつ、元素質量%比Ba/Srが0.6〜1.0の範囲であるガラス。
(構成6)
屈折率(nd)が1.42〜1.46、アッベ数(νd)が92〜98の範囲の光学恒数を有するガラスであって、
酸化物以外の原料から導入されるSi及び/又はB、
燐酸化合物原料から導入されるP、
燐酸化合物及び/又はフッ化物を必須に含有する原料から導入されるAl、Mg、Ca、Sr及びBa
フッ化物を必須に含有する原料から導入されるY、La、Gd、Li、Na及びK
を含有することを特徴とするガラス原料組成物を溶融することにより得られるガラス。
(構成7)
ガラス原料の総質量を基準として、元素質量%で、
酸化物を除く原料から導入されるSi及び/又はBをを0.005〜0.2%未満、
燐酸化合物原料から導入されるPを1.0〜5.0%、
燐酸化合物及び/又はフッ化物を必須に含有する原料から導入されるAlを3.0〜20.0%、
燐酸化合物及び/又はフッ化物を必須に含有する原料から導入されるMgを0.0〜5.0%、
燐酸化合物及び/又はフッ化物を必須に含有する原料から導入されるCaを3.0〜20.0%、
燐酸化合物及び/又はフッ化物を必須に含有する原料から導入されるSrを3.0〜20.0%、
燐酸化合物及び/又はフッ化物を必須に含有する原料から導入されるBaを3.0〜20.0%、
フッ化物を必須に含有する原料から導入されるYを0.01〜8.0%未満、
フッ化物を必須に含有する原料から導入されるLaを0.0〜5.0%、
フッ化物を必須に含有する原料から導入されるGdを0.0〜5.0%、
フッ化物を必須に含有する原料から導入されるLiを0.0〜3.0%、
フッ化物を必須に含有する原料から導入されるNaを0.0〜3.0%、
フッ化物を必須に含有する原料から導入されるKを0.0〜3.0%、
フッ化物を必須に含有する原料から導入されるFを35〜65%、
塩化物原料から導入されるClを0.0〜3.0%、
臭化物原料から導入されるBrを0.0〜5.0%、
ヨウ化物原料から導入されるIを0.0〜5.0%、
燐酸化合物原料及び酸化物原料から導入されるOを0.1〜10%
含有することを特徴とするガラス原料組成物を溶融することにより得られる構成6に記載のガラス。
(構成8)
元素質量%で、
酸化物を除く原料から導入されるSi及び/又はBを0.005〜0.2%未満、
燐酸化合物原料から導入されるPを1.0〜5.0%、
燐酸化合物原料及び/又はフッ化物原料から導入されるAlを8.0〜18.0%、
燐酸化合物原料及び/又はフッ化物原料から導入されるMgを0.3〜3.0%、
燐酸化合物原料及び/又はフッ化物原料から導入されるCaを7.0〜15.0%、
燐酸化合物原料及び/又はフッ化物原料から導入されるSrを11.0〜18.0%、
燐酸化合物料及び/又はフッ化物原料から導入されるBaを5.0〜15.0%、
ただし、質量% 和(Sr+Ba)は、20.0〜35.0%、
フッ化物原料から導入されるYを0.5〜6%未満、
フッ化物原料から導入されるLaを0.0〜4.0%、
フッ化物原料から導入されるGdを0.0〜4.0%、
フッ化物原料から導入されるLiを0.0〜2.0%、
フッ化物原料から導入されるNaを0.0〜2.0%、
フッ化物原料から導入されるKを0.0〜1.0%、
フッ化物原料から導入されるFを40〜55%、
塩化物原料から導入されるClを0.0〜1.0%、
臭化物原料から導入されるBrを0.0〜1.0%、
ヨウ化物原料から導入されるIを0.0〜1.0%、
燐酸化合物原料及び酸化物原料から導入されるOを0.5〜8%
含有することを特徴とするガラス原料組成物を溶融することにより得られる構成6または7に記載のガラス。
(構成9)
ガラス原料の総質量を基準として、 質量%で、
Al(PO3)3を2.0〜10.0%、
AlF3を20〜35%、
CaF2を15〜25%、
SrF2を15〜28%、
BaF2を5〜20%、
YF3を0.1〜10.0%
含有するガラス原料組成物であり、かつ、元素質量%で、酸化物を除く原料から導入されるSi及び/又はBを0.005〜0.2%未満含有するガラス原料組成物を溶融することにより得られる、屈折率(nd)が1.41〜1.47、アッベ数(νd)が90〜100の範囲の光学恒数を有するガラス。
(構成10)
ガラス原料の総質量を基準として、 質量%で、
Al(PO3)3を2.0〜10.0%、
AlF3を20〜35%、
CaF2を15〜25%、
SrF2を15〜28%、
BaF2を5〜20%、
YF3を0.1〜10.0%
含有するガラス原料組成物であり、かつ、元素質量%で、酸化物を除く原料から導入されるSi及び/又はBを0.005〜0.2%未満含有するガラス原料組成物を溶融することにより得られる構成1〜8のいずれか一項に記載のガラス。
(構成11)
ガラス原料の総質量を基準として、質量%で、
Al(PO3)3を2.5〜10.0%、
AlF3を22〜33%、
MgF2を1〜7.0%、
CaF2を16〜24%、
但し、質量%比(MgF2+CaF2)/(Al(PO3)3+AlF3)は、0.77未満
SrF2を15.5〜27%、
BaF2を6〜18%、
YF3を0.5〜9.0%、
含有するガラス原料組成物であり、かつ、元素質量%で、酸化物を除く原料から導入されるSi及び/又はBを0.005〜0.2%未満含有することを特徴とするガラス原料組成物を溶融することにより得られる構成9又は10に記載のガラス。
(構成12)
構成1〜11のいずれか一項に記載のガラスであって、SiO2、B2O3、Ba(PO3)2、BaCl2、LiF、NaF、KF、LiPF6、NaPF6、KPF6を含有しないことを特徴とするガラス原料組成物を熔融することにより得られるガラス。
(構成13)
ガラス原料の総質量を基準として、質量%で、
Al(PO3)3を2.5〜10.0%、
AlF3を22〜33%、
MgF2を1〜7.0%、
CaF2を16〜24%、
但し、質量%比(MgF2+CaF2)/(Al(PO3)3+AlF3)は、0.73未満
SrF2を15.5〜27%、
BaF2を6〜18%未満、
YF3を0.5〜9.0%、
Na2SiF6を0.0〜3.0%
K2SiF6を0.0〜3.0%
但し、質量和(Na2SiF6+K2SiF6)は、0.01〜5.0%
KHF2を0.1〜3.0%
NH4F・HFを0.0〜1.0%
含有し、SiO2、B2O3、Ba(PO3)2、BaCl2、LiF、NaF、KF、LiPF6、NaPF6、KPF6を含有しないことを特徴とするガラス原料組成物を溶融することにより得られるガラスであって、屈折率(nd)が1.42〜1.46、アッベ数(νd)が92〜98の範囲の光学恒数を有するガラス。
(構成14)
構成6〜13のいずれか一項に記載のガラスであって、ガラス原料の総質量を基準とした元素質量%で、(Si+B+P+Al)/Fが0.20〜0.40の範囲に調整されることを特徴とするガラス原料組成物を溶融することにより得られるガラス。
(構成15)
構成6〜13のいずれか一項に記載のガラスであって、ガラス原料の総質量を基準とした元素質量%で、(Si+B+P+Al)/Fが0.27〜0.30、かつ、Ba/Srが0.6〜1.0の範囲に調整されることを特徴とするガラス原料組成物を溶融することにより得られるガラス。
(構成16)
構成1〜15のいずれか一項に記載のガラスであって、1000℃にて熔融した状態から690℃へ冷却した後、690℃で60時間保温しても、ガラス内部に失透(結晶)が発生しないことを特徴とするガラス。
(構成17)
構成1〜16のいずれか一項に記載のガラスであって、DTA測定における昇温過程での失透消失温度(Tm)と降温過程での発熱開始温度から算出される失透温度(Tx)の差が15℃以上であることを特徴とする光学ガラス。
(構成18)
構成1〜17のいずれか一項に記載のガラスであって、日本光学硝子工業会規格JOGIS06-1999「光学ガラスの化学的耐久性の測定方法(粉末法)」により測定するガラスの耐酸性が級1〜3であることを特徴とするガラス。
(構成19)
構成1〜18のいずれか一項に記載のガラスを母材とするレンズ・プリズム等の光学素子。
(構成20)
構成1〜19のいずれか一項に記載のガラスをリヒートプレス加工して作成するレンズ・プリズム等の光学素子。
(構成21)
構成1〜20のいずれか一項に記載のガラスで作成した光学素子および光学基板材料を使用するカメラ・プロジェクタなどの光学機器。
構成1のガラスは、元素質量%で、Si及び/又はBを0.005〜0.2%未満含有するガラス原料組成物を熔融することにより得られるガラスであって、Pを0.1〜5.0%、Alを1.0〜20.0%、Fを30.0〜60.0%、Oを1.0〜20.0%を含有し、かつCa、Sr、Baのうち1種以上を必須に含有し、屈折率(nd)が1.41〜1.47、アッベ数(νd)が90〜100の範囲の光学恒数を有することを特徴とする。
構成1と重複する構成要素については、既に説明したとおりであるため、割愛する。
この屈折率及びアッベ数を持つガラスを安定に取得するため、構成2に記載した構成成分の種類と構成比率をさらに好ましい範囲としたものが、構成3である。重複する構成要素に関する説明は、割愛する。
La及びGdは、3価のガラス修飾成分としてYと同様の効果が得られやすいため、任意に添加することが可能である。しかし、過度に添加すると、ガラスの屈折率が高くなりやすいため、それぞれ5.0%以下、より好ましくは4.5%以下、最も好ましくは4.0%以下とする。
前記構成6は、屈折率(nd)が1.42〜1.46、アッベ数(νd)が92〜98の範囲の光学恒数を有するガラスを安定に得るための、ガラス原料及びガラス構成成分に関する要素である。ガラス構成成分についての役割及び効果は、既に説明しているため、割愛する。そして構成7は、構成6のより好ましい態様であり、構成8は、構成7のより好ましい態様である。
Bの酸化物であるB2O3は、不安定な化合物であり吸湿性が高いため、保管や管理において、注意を要し、安定な生産活動を阻害するため、酸化物以外のガラス原料でBを導入することが好ましい。
原料中に含有されるSi及び/又はBは、その合計量が、好ましくは0.2%未満、より好ましくは0.195%以下、最も好ましくは0.19%以下を上限とし、好ましくは0.005%、より好ましくは0.008%、最も好ましくは0.01%を下限とする。
なお原料中に含有されるPは好ましくは5.0%、より好ましくは4.9%、最も好ましくは4.8%を上限とし、好ましくは1.0%、より好ましくは1.1%、最も好ましくは1.2%を下限とする。
フッ化物原料は、本発明のガラスに必要不可欠なFの供給源であるため、必須のガラス原料として用いる。
原料に含有されるAlは好ましくは20.0%、より好ましくは18.0%を上限とし、好ましくは3.0%、より好ましくは8.0%を下限とする。
原料に含有されるMgは好ましくは5.0%、より好ましくは3.0%を上限とする。またMgは含有しなくても差し支えないが、0.3%以上含有することが好ましい。
原料に含有されるCaは好ましくは20.0%、より好ましくは15.0%を上限とし、好ましくは3.0%、より好ましくは7.0%を下限とする。
原料に含有されるSrは好ましくは20.0%、より好ましくは18.0%を上限とし、好ましくは3.0%、より好ましくは11.0%を下限とする。
原料に含有されるBaは好ましくは20.0%、より好ましくは15.0%を上限とし、好ましくは3.0%、より好ましくは5.0%を下限とする。
またSr+Baの和は20.0%〜35.0%の範囲であることが好ましく、22.0〜33.0%の範囲であることが好ましい。
原料に含有されるYは好ましくは8.0%、より好ましくは6.0%、最も好ましくは4.0%未満を上限とし好ましくは0.01%、より好ましくは0.5%を下限とする。
原料に含有されるLaは好ましくは5.0%、より好ましくは4.0%、最も好ましくは3.0%を上限とする。
原料に含有されるGdは好ましくは5.0%、より好ましくは4.0%、最も好ましくは3.0%を上限とする。
原料に含有されるLiは好ましくは3.0%、より好ましくは2.0%、最も好ましくは1.0%を上限とする。
原料に含有されるNaは好ましくは3.0%、より好ましくは2.0%、最も好ましくは1.0%を上限とする。
原料に含有されるKは好ましくは3.0%、より好ましくは2.0%、最も好ましくは1.0%を上限とする。
なお、原料に含有されるFは好ましくは65%、より好ましくは55%を上限とし、好ましくは35%、より好ましくは40%を下限とする。
さらに、原料中に含まれるOは好ましくは10.0%、より好ましくは8.0%を上限とし、好ましくは0.1%、より好ましくは0.5%を下限とする。
構成9及び構成10は、屈折率(nd)が1.41〜1.47、アッベ数(νd)が90〜100の範囲の光学恒数を有するガラスを得るために、好適な原料組成物により示したものである。この段落では、「ガラス原料の総質量を基準とした質量%」を、単に「%」と表記する。
酸化物を除く原料から導入されるSiを0.005〜0.2元素質量%未満の範囲で原料に含有させることが、熔融状態からの冷却過程におけるガラス内部の失透(結晶)発生を抑制するために重要かつ不可欠な要素であることは、前述のとおりである。
1000℃は、ガラス融液から結晶が発生する温度より十分高い温度であり、60時間保温する690℃は、構成1〜15のガラスの成形温度に近い温度である。この評価方法で、ガラス内部に結晶が生じないことが確認できれば、経済性の高い連続熔融成形生産方式を適用し、安定してガラスを取得しやすくなる。
(Tm−Tx)が大きいほど、融液からの冷却過程において結晶(失透)が発生しにくいことを意味し、この数値を15℃以上とすることによって、低温までガラスの温度を下げても結晶(失透)が発生しにくいので、成形時のガラス粘性を高めやすくなり、流出ガラスの対流によるすじ状の不均一部分(脈理)の発生を効果的に抑制しやすくなる。安定かつ経済的に所望の低屈折率低分散ガラスを生産するためには、(Tm−Tx)は、18℃以上であることがより好ましく、最も好ましくは20℃以上である。
日本光学硝子工業会規格JOGIS06-1999「光学ガラスの化学的耐久性の測定方法(粉末法)」により測定するガラスの耐酸性が級1〜3であることを特徴とする。
なお、比較例(No.A〜E)のガラス原料質量%及び質量%比(MgF2+CaF2)/(Al(PO3)3+AlF3)を表10に示す。
(1)屈折率(nd)及びアッべ数(νd)
徐冷降温速度を−25℃/時にして得られた光学ガラスについて測定した。
(2)保温テスト評価
得られたガラスを5mm以下の大きさに破砕して容量50ccの白金坩堝に入れ、アルミナ製のフタをして1000℃の電気炉内へ投入し、1時間保温する。続いて、電気炉を約100℃/時(1000℃から690℃へ3時間)の割合で降温し、690℃の電気炉内で60時間保温した後、白金坩堝を炉外へ取り出してフタを外し、明るい光源の下でガラス内部を目視観察し、失透(結晶)が認められないものを「○」、失透(結晶)が発生していたものを「×」として表記した。
(3)失透消失温度(Tm)及び失透温度(Tx)の差 Tm−Tx
得られたガラスを粒度425〜600μmに破砕し、粉砕したガラス試料を約200mg量り取り、アルミナ製のDTA坩堝にいれ、昇温速度10℃/分で800℃へ加熱する過程で検出される示差熱曲線の吸熱ピークの中で、最高温の吸熱ピーク温度を失透消失温度Tmとする。800℃まで達した後、降温速度5℃/分で300℃へ冷却する過程で検出される示唆熱曲線の最も高温での発熱開始温度Tx(−5)と、同様に800℃まで達した後、降温速度10℃/分で300℃へ冷却する過程で検出される示唆熱曲線の最も高温での発熱開始温度Tx(−10)をそれぞれ各2回測定し、それらの値から、降温速度0℃/分へ外挿した温度を失透温度(Tx)と定義し、差分(Tm−Tx)を算出する。
実施例1および比較例DのTm−Txを表11に示し、また発熱開始温度と降温速度の関係を図1に示す。
(4)粉末法耐酸性
耐酸性(級)は、日本光学硝子工業会規格「光学ガラスの化学的耐久性の測定方法(粉末法)」JOGIS06−1999に基づき、得られたガラスを粒度425〜600μmに破砕し、破砕したガラス試料を比重グラムとり、白金かごの中に入れ、白金かごを10mmol/l(=0.01N)硝酸水溶液が入った石英ガラス製丸底フラスコに入れて、沸騰水浴中で60分間処理した後、処理後のガラス試料の減量率(%)を算出して、減量率が0.20%未満の場合を級1、減量率が0.20〜0.35%未満の場合を級2、減量率が0.35〜0.65%未満の場合を級3としたものであり、級の数が小さいほど、ガラスの耐水性が優れていることを意味する。
Claims (21)
- 元素質量%で、Si及び/又はBを0.005〜0.2%未満含有するガラス原料組成物を熔融することにより得られるガラスであって、Pを0.1〜5.0%、Alを1.0〜20.0%、Fを30.0〜60.0%、Oを1.0〜20.0%を含有し、かつCa、Sr、Baのうち1種以上を必須に含有し、屈折率(nd)が1.41〜1.47、アッベ数(νd)が90〜100の範囲の光学恒数を有するガラス。
- 元素質量%で、Si及び/又はBを0.005〜0.2%未満含有するガラス原料組成物を熔融することにより得られるガラスであって、Pを0.1〜5.0%、Alを1.0〜20.0%、Caを3.0〜20.0%、Srを1.0〜20.0%、Baを1.0〜20.0%、Fを30.0〜60.0%、Oを1.0〜20.0%、Mgを0〜10.0%、Yを0〜10.0%含有し、屈折率(nd)が1.41〜1.47、アッベ数(νd)が90〜100の範囲の光学恒数を有するガラス。
- 元素質量%で、Si及び/又はBを0.005〜0.2%未満含有するガラス原料組成物を熔融することにより得られるガラスであって、Pを1.0〜5.0%、Alを8.0〜18.0%、Caを3.0〜18.0%、Srを3.0〜19.0%、Baを3.0〜18.0%、Fを32.0〜58.0%、Oを1.0〜18.0%、Mgを0.3〜8.0%及びYを0.1〜8.0%、並びにLaを0〜5.0%及び/又はGdを0〜5.0%及び/又はLiを0〜3.0%及び/又はNaを0〜3.0%及び/又はKを0〜3.0%含有し、屈折率(nd)が1.42〜1.46、アッベ数(νd)が92〜98の範囲の光学恒数を有するガラス。
- 請求項1〜3のいずれか一項に記載のガラスであって、元素質量%比(Si+B+P+Al)/Fが0.15〜0.40の範囲であるガラス。
- 請求項1〜3のいずれか一項に記載のガラスであって、元素質量%比(Si+B+P+Al)/Fが0.20〜0.35、かつ、元素質量%比Ba/Srが0.6〜1.0の範囲であるガラス。
- 屈折率(nd)が1.42〜1.46、アッベ数(νd)が92〜98の範囲の光学恒数を有するガラスであって、
酸化物以外の原料から導入されるSi及び/又はB、
燐酸化合物原料から導入されるP、
燐酸化合物及び/又はフッ化物を必須に含有する原料から導入されるAl、Mg、Ca、Sr及びBa
フッ化物を必須に含有する原料から導入されるY、La、Gd、Li、Na及びK
を含有することを特徴とするガラス原料組成物を溶融することにより得られるガラス。 - ガラス原料の総質量を基準として、元素質量%で、
酸化物を除く原料から導入されるSi及び/又はBを0.005〜0.2%未満、
燐酸化合物原料から導入されるPを1.0〜5.0%、
燐酸化合物及び/又はフッ化物を必須に含有する原料から導入されるAlを3.0〜20.0%、
燐酸化合物及び/又はフッ化物を必須に含有する原料から導入されるMgを0.0〜5.0%、
燐酸化合物及び/又はフッ化物を必須に含有する原料から導入されるCaを3.0〜20.0%、
燐酸化合物及び/又はフッ化物を必須に含有する原料から導入されるSrを3.0〜20.0%、
燐酸化合物及び/又はフッ化物を必須に含有する原料から導入されるBaを3.0〜20.0%、
フッ化物を必須に含有する原料から導入されるYを0.01〜8.0%未満、
フッ化物を必須に含有する原料から導入されるLaを0.0〜5.0%、
フッ化物を必須に含有する原料から導入されるGdを0.0〜5.0%、
フッ化物を必須に含有する原料から導入されるLiを0.0〜3.0%、
フッ化物を必須に含有する原料から導入されるNaを0.0〜3.0%、
フッ化物を必須に含有する原料から導入されるKを0.0〜3.0%、
フッ化物を必須に含有する原料から導入されるFを35〜65%、
塩化物原料から導入されるClを0.0〜3.0%、
臭化物原料から導入されるBrを0.0〜5.0%、
ヨウ化物原料から導入されるIを0.0〜5.0%、
燐酸化合物原料及び酸化物原料から導入されるOを0.1〜10%
含有することを特徴とするガラス原料組成物を溶融することにより得られる請求項6に記載のガラス。 - 元素質量%で、
酸化物を除く原料から導入されるSi及び/又はBを0.005〜0.2%未満、
燐酸化合物原料から導入されるPを1.0〜5.0%、
燐酸化合物原料及び/又はフッ化物原料から導入されるAlを8.0〜18.0%、
燐酸化合物原料及び/又はフッ化物原料から導入されるMgを0.3〜3.0%、
燐酸化合物原料及び/又はフッ化物原料から導入されるCaを7.0〜15.0%、
燐酸化合物原料及び/又はフッ化物原料から導入されるSrを11.0〜18.0%、
燐酸化合物料及び/又はフッ化物原料から導入されるBaを5.0〜15.0%、
ただし、質量% 和(Sr+Ba)は、20.0〜35.0%、
フッ化物原料から導入されるYを0.5〜6%未満、
フッ化物原料から導入されるLaを0.0〜4.0%、
フッ化物原料から導入されるGdを0.0〜4.0%、
フッ化物原料から導入されるLiを0.0〜2.0%、
フッ化物原料から導入されるNaを0.0〜2.0%、
フッ化物原料から導入されるKを0.0〜1.0%、
フッ化物原料から導入されるFを40〜55%、
塩化物原料から導入されるClを0.0〜1.0%、
臭化物原料から導入されるBrを0.0〜1.0%、
ヨウ化物原料から導入されるIを0.0〜1.0%、
燐酸化合物原料及び酸化物原料から導入されるOを0.5〜8%
含有することを特徴とするガラス原料組成物を溶融することにより得られる請求項6または7に記載のガラス。 - ガラス原料の総質量を基準として、質量%で、
Al(PO3)3を2.0〜10.0%、
AlF3を20〜35%、
CaF2を15〜25%、
SrF2を15〜28%、
BaF2を5〜20%、
YF3を0.1〜10.0%
含有するガラス原料組成物であり、かつ、元素質量%で、酸化物を除く原料から導入されるSi及び/又はBを0.005〜0.2%未満含有するガラス原料組成物を溶融することにより得られる、屈折率(nd)が1.41〜1.47、アッベ数(νd)が90〜100の範囲の光学恒数を有するガラス。 - ガラス原料の総質量を基準として、質量%で、
Al(PO3)3を2.0〜10.0%、
AlF3を20〜35%、
CaF2を15〜25%、
SrF2を15〜28%、
BaF2を5〜20%、
YF3を0.1〜10.0%
含有するガラス原料組成物であり、かつ、元素質量%で、酸化物を除く原料から導入されるSi及び/又はBを0.005〜0.2%未満含有するガラス原料組成物を溶融することにより得られる請求項1〜8のいずれか一項に記載のガラス。 - ガラス原料の総質量を基準として、質量%で、
Al(PO3)3を2.5〜10.0%、
AlF3を22〜33%、
MgF2を1〜7.0%、
CaF2を16〜24%、
但し、質量%比(MgF2+CaF2)/(Al(PO3)3+AlF3)は、0.77未満
SrF2を15.5〜27%、
BaF2を6〜18%、
YF3を0.5〜9.0%、
含有するガラス原料組成物であり、かつ、元素質量%で、酸化物を除く原料から導入されるSi及び/又はBを0.005〜0.2%未満含有することを特徴とするガラス原料組成物を溶融することにより得られる請求項9又は10に記載のガラス。 - 請求項1〜11のいずれか一項に記載のガラスであって、SiO2、B2O3、Ba(PO3)2、BaCl2、LiF、NaF、KF、LiPF6、NaPF6、KPF6を含有しないことを特徴とするガラス原料組成物を熔融することにより得られるガラス。
- ガラス原料の総質量を基準として、質量%で、
Al(PO3)3を2.5〜10.0%、
AlF3を22〜33%、
MgF2を1〜7.0%、
CaF2を16〜24%、
但し、質量%比(MgF2+CaF2)/(Al(PO3)3+AlF3)は、0.73未満
SrF2を15.5〜27%、
BaF2を6〜18%未満、
YF3を0.5〜9.0%、
Na2SiF6を0.0〜3.0%
K2SiF6を0.0〜3.0%
但し、質量和(Na2SiF6+K2SiF6)は、0.01〜5.0%
KHF2を0.1〜3.0%
NH4F・HFを0.0〜1.0%
含有し、SiO2、B2O3、Ba(PO3)2、BaCl2、LiF、NaF、KF、LiPF6、NaPF6、KPF6を含有しないことを特徴とするガラス原料組成物を溶融することにより得られるガラスであって、屈折率(nd)が1.42〜1.46、アッベ数(νd)が92〜98の範囲の光学恒数を有するガラス。 - 請求項6〜13のいずれか一項に記載のガラスであって、ガラス原料の総質量を基準とした元素質量%で、(Si+B+P+Al)/Fが0.20〜0.40の範囲に調整されることを特徴とするガラス原料組成物を溶融することにより得られるガラス。
- 請求項6〜13のいずれか一項に記載のガラスであって、ガラス原料の総質量を基準とした元素質量%で、(Si+B+P+Al)/Fが0.27〜0.30、かつ、Ba/Srが0.6〜1.0の範囲に調整されることを特徴とするガラス原料組成物を溶融することにより得られるガラス。
- 請求項1〜15のいずれか一項に記載のガラスであって、1000℃にて熔融した状態から690℃へ冷却した後、690℃で60時間保温しても、ガラス内部に失透(結晶)が発生しないことを特徴とするガラス。
- 請求項1〜16のいずれか一項に記載のガラスであって、DTA測定における昇温過程での失透消失温度(Tm)と降温過程での発熱開始温度から算出される失透温度(Tx)の差が15℃以上であることを特徴とする光学ガラス。
- 請求項1〜17のいずれか一項に記載のガラスであって、日本光学硝子工業会規格JOGIS06-1999「光学ガラスの化学的耐久性の測定方法(粉末法)」により測定するガラスの耐酸性が級1〜3であることを特徴とするガラス。
- 請求項1〜18のいずれか一項に記載のガラスを母材とするレンズ・プリズム等の光学素子。
- 請求項1〜19のいずれか一項に記載のガラスをリヒートプレス加工して作成するレンズ・プリズム等の光学素子。
- 請求項1〜20のいずれか一項に記載のガラスで作成した光学素子および光学基板材料を使用するカメラ・プロジェクタなどの光学機器。
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2007197086A JP5491686B2 (ja) | 2006-09-07 | 2007-07-30 | ガラス |
Applications Claiming Priority (3)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2006242974 | 2006-09-07 | ||
JP2006242974 | 2006-09-07 | ||
JP2007197086A JP5491686B2 (ja) | 2006-09-07 | 2007-07-30 | ガラス |
Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JP2008088047A true JP2008088047A (ja) | 2008-04-17 |
JP5491686B2 JP5491686B2 (ja) | 2014-05-14 |
Family
ID=39372569
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP2007197086A Active JP5491686B2 (ja) | 2006-09-07 | 2007-07-30 | ガラス |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JP5491686B2 (ja) |
Cited By (5)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP2012153602A (ja) * | 2007-03-06 | 2012-08-16 | Hoya Corp | 光学ガラス、プレス成形用プリフォーム、光学素子およびそれらの製造方法 |
JP2013087026A (ja) * | 2011-10-20 | 2013-05-13 | Morita Kagaku Kogyo Kk | 弗燐酸塩光学ガラスの製造方法 |
JPWO2014084380A1 (ja) * | 2012-11-30 | 2017-01-05 | Hoya株式会社 | ガラス物品 |
WO2019142397A1 (ja) * | 2018-01-18 | 2019-07-25 | 株式会社ニコン | 光学ガラス、光学ガラスを用いた光学素子、光学装置 |
CN114804620A (zh) * | 2021-01-22 | 2022-07-29 | Agc株式会社 | 浮法玻璃基板 |
Families Citing this family (1)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
CN109160728A (zh) * | 2018-09-28 | 2019-01-08 | 成都光明光电股份有限公司 | 氟磷酸盐光学玻璃、光学预制件、元件及仪器 |
Citations (5)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPS5654249A (en) * | 1979-10-04 | 1981-05-14 | Ohara Inc | Fluoride glass |
JPH05208842A (ja) * | 1991-09-27 | 1993-08-20 | Carl Zeiss:Fa | 青色領域で正異常部分分散を示す光学ガラス |
JPH07157330A (ja) * | 1993-12-02 | 1995-06-20 | Hoya Corp | 塩素含有フツ燐酸塩ガラス |
JPH09142875A (ja) * | 1995-11-27 | 1997-06-03 | Nikon Corp | フッ化物リン酸塩光学ガラスの製造方法 |
JP2005247658A (ja) * | 2004-03-05 | 2005-09-15 | Hoya Corp | 精密プレス成形用プリフォームの製造方法および光学素子の製造方法 |
-
2007
- 2007-07-30 JP JP2007197086A patent/JP5491686B2/ja active Active
Patent Citations (5)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPS5654249A (en) * | 1979-10-04 | 1981-05-14 | Ohara Inc | Fluoride glass |
JPH05208842A (ja) * | 1991-09-27 | 1993-08-20 | Carl Zeiss:Fa | 青色領域で正異常部分分散を示す光学ガラス |
JPH07157330A (ja) * | 1993-12-02 | 1995-06-20 | Hoya Corp | 塩素含有フツ燐酸塩ガラス |
JPH09142875A (ja) * | 1995-11-27 | 1997-06-03 | Nikon Corp | フッ化物リン酸塩光学ガラスの製造方法 |
JP2005247658A (ja) * | 2004-03-05 | 2005-09-15 | Hoya Corp | 精密プレス成形用プリフォームの製造方法および光学素子の製造方法 |
Cited By (7)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP2012153602A (ja) * | 2007-03-06 | 2012-08-16 | Hoya Corp | 光学ガラス、プレス成形用プリフォーム、光学素子およびそれらの製造方法 |
JP2013087026A (ja) * | 2011-10-20 | 2013-05-13 | Morita Kagaku Kogyo Kk | 弗燐酸塩光学ガラスの製造方法 |
JPWO2014084380A1 (ja) * | 2012-11-30 | 2017-01-05 | Hoya株式会社 | ガラス物品 |
US9718723B2 (en) | 2012-11-30 | 2017-08-01 | Hoya Corporation | Glass article |
KR101875261B1 (ko) * | 2012-11-30 | 2018-07-05 | 호야 가부시키가이샤 | 유리 물품 |
WO2019142397A1 (ja) * | 2018-01-18 | 2019-07-25 | 株式会社ニコン | 光学ガラス、光学ガラスを用いた光学素子、光学装置 |
CN114804620A (zh) * | 2021-01-22 | 2022-07-29 | Agc株式会社 | 浮法玻璃基板 |
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
JP5491686B2 (ja) | 2014-05-14 |
Similar Documents
Publication | Publication Date | Title |
---|---|---|
JP4597937B2 (ja) | 光学ガラス | |
JP7219199B2 (ja) | 光学ガラスおよび光学素子 | |
JP5919594B2 (ja) | 光学ガラス、光学素子およびプリフォーム | |
WO2010126141A1 (ja) | 光学ガラス、光学素子及び精密プレス成形用プリフォーム | |
JP5116616B2 (ja) | フツリン酸ガラス、プレス成形用ガラス素材、光学素子ブランク、光学素子およびそれらの製造方法 | |
JP5491686B2 (ja) | ガラス | |
JP2010235429A (ja) | 光学ガラス、光学素子及びプリフォーム | |
JP6174317B2 (ja) | 光学ガラス、光学素子及びプリフォーム | |
JP2011136884A (ja) | 光学ガラスの製造方法及び光学機器 | |
JP2007070156A (ja) | 光学ガラスの製造方法 | |
JP2013151410A (ja) | 光学ガラス、光学素子及びプリフォーム | |
KR20180111681A (ko) | 광학 유리 및 광학 소자 | |
WO2018105279A1 (ja) | 光学ガラス、プリフォーム及び光学素子 | |
JP2016088761A (ja) | 赤外線透過ガラス、光学素子及びプリフォーム | |
JP2009269771A (ja) | 光学ガラス、光学素子及び光学機器 | |
JP5698442B2 (ja) | 光学ガラス及び光学素子 | |
JP2010260739A (ja) | 光学ガラス及び光学素子 | |
JP2010059018A (ja) | プリフォームロットならびに光学素子の製造方法 | |
JP7049192B2 (ja) | 光学ガラス、プリフォーム及び光学素子 | |
JP5443415B2 (ja) | フツリン酸ガラス、プレス成形用ガラス素材、光学素子ブランク、光学素子およびそれらの製造方法 | |
JP2011153042A (ja) | 光学ガラスの製造方法及び光学機器 | |
WO2018211861A1 (ja) | 光学ガラス、光学素子およびプリフォーム | |
TW201908257A (zh) | 光學玻璃、預成形體及光學元件 | |
JP2015127277A (ja) | 光学ガラスの製造方法 | |
JP2013209232A (ja) | 光学ガラス及び光学素子 |
Legal Events
Date | Code | Title | Description |
---|---|---|---|
A621 | Written request for application examination |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A621 Effective date: 20100407 |
|
A977 | Report on retrieval |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A971007 Effective date: 20120502 |
|
RD03 | Notification of appointment of power of attorney |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A7423 Effective date: 20130118 |
|
RD04 | Notification of resignation of power of attorney |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A7424 Effective date: 20130212 |
|
A131 | Notification of reasons for refusal |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A131 Effective date: 20130220 |
|
A521 | Request for written amendment filed |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A523 Effective date: 20130417 |
|
A131 | Notification of reasons for refusal |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A131 Effective date: 20140122 |
|
A521 | Request for written amendment filed |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A523 Effective date: 20140128 |
|
TRDD | Decision of grant or rejection written | ||
A01 | Written decision to grant a patent or to grant a registration (utility model) |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A01 Effective date: 20140219 |
|
A61 | First payment of annual fees (during grant procedure) |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A61 Effective date: 20140228 |
|
R150 | Certificate of patent or registration of utility model |
Ref document number: 5491686 Country of ref document: JP Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R150 |
|
R250 | Receipt of annual fees |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250 |
|
R250 | Receipt of annual fees |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250 |
|
R250 | Receipt of annual fees |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250 |
|
R250 | Receipt of annual fees |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250 |
|
R250 | Receipt of annual fees |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250 |
|
R250 | Receipt of annual fees |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250 |
|
R250 | Receipt of annual fees |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250 |
|
R250 | Receipt of annual fees |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250 |