JP2008078343A - Printed wiring board and its manufacturing method - Google Patents

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Noritaka Nakada
記孝 仲田
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Abstract

<P>PROBLEM TO BE SOLVED: To provide a printed wiring board capable of narrowing a pitch of a conductor pad part and providing a high-density circuit wiring. <P>SOLUTION: The printed wiring board with its both-side conductors connected by an interlayer connection via hole for connecting a first connection via hole provided on one side of the printed wiring board and a second connection via hole provided on the other side at their respective bottoms has a plurality of conductor pads including the first connection via hole arranged on the one side, and a plurality of conductor pads including the second connection via hole arranged on the other side. The pitch width between the conductor pads including the first connection via hole adjacently arranged on the one side is different from at least one pitch width between the conductor pads including the second connection via hole adjacently arranged on the other side. <P>COPYRIGHT: (C)2008,JPO&INPIT

Description

本発明はプリント配線板及びその製造方法に関し、特に、CSP(チップサイズパッケージ)などのような狭ピッチな電極パッドを有する電子部品を搭載することができる、高密度で狭ピッチな導体配線を有するプリント配線板及びその製造方法に関する。   The present invention relates to a printed wiring board and a manufacturing method thereof, and in particular, has a high-density and narrow-pitch conductor wiring on which electronic components having narrow-pitch electrode pads such as CSP (chip size package) can be mounted. The present invention relates to a printed wiring board and a manufacturing method thereof.

近年、電子部品の高密度や細線化に共ない、当該電子部品を搭載することが可能なプリント配線板の要求が高まっている。前記電子部品の一例としては、CSP(チップサイズパッケージ)と呼称される能動部品のパッケージ方式が挙げられ、当該CSPが安定して搭載できる高密度な実装パッド部を有するプリント配線板が重要となっている。   In recent years, there has been an increasing demand for printed wiring boards on which electronic components can be mounted without being accompanied by high density and thinning of electronic components. As an example of the electronic component, there is an active component package system called a CSP (chip size package), and a printed wiring board having a high-density mounting pad portion on which the CSP can be stably mounted is important. ing.

上記のようなプリント配線板は、CSPの電極パッド部と電気的に接続する部品を実装するパッド部を必要とするため、プリント配線板上の前記パッド部は、CSPの電極パッド部と同じピッチ幅(ピッチ幅とは導体パッド部の中心間距離)が要求される。ここで、プリント配線板上の部品を実装するパッド部の一例としては、ピッチ幅を0.3mmとする技術が必要とされる。   Since the printed wiring board as described above requires a pad part for mounting a component electrically connected to the electrode pad part of the CSP, the pad part on the printed wiring board has the same pitch as the electrode pad part of the CSP. The width (the pitch width is the distance between the centers of the conductor pad portions) is required. Here, as an example of the pad portion for mounting the components on the printed wiring board, a technique for setting the pitch width to 0.3 mm is required.

従来、高密度な部品を実装するパッド部を有するプリント配線板は、層間接続方式に関して、図8に示されるスルーホール接続及び図9に示されるBVH(ブラインドビアホール)接続などが用いられていたが、このような従来のプリント配線板の層間接続方式においては、次のような問題を生じていた。   Conventionally, a printed wiring board having a pad portion on which high-density components are mounted has used a through-hole connection shown in FIG. 8 and a BVH (blind via hole) connection shown in FIG. The conventional printed wiring board interlayer connection system has the following problems.

図8に示されるスルーホール51接続を用いたプリント配線板においては、始めに、所望の箇所にドリル穴あけ及び銅めっき53を行ない、スルーホール51を形成し、次いで、スルーホール51部を樹脂54にて封止(孔埋め)を行なう。前記スルーホール51部の封止(孔埋め)性が良好に実施できる製造方法を考慮した場合、ドリル径の最小サイズはφ100μmとなる。加えて、アニュラリングの幅に関しては、回路形成時の合わせを考慮し、部品を実装するパッド部のピッチ幅を0.3mm(=300μm)とした場合、部品を実装するパッド部52の径が220μm、当該パッド部52の間隙部が80μm、アニュラリングの幅が60μmとなり、部品を実装するパッド部52の間隙部に導体配線を配置することができず、いわゆる導体配線の引き回し手段が設計上で制限されるため、プリント配線板の高密度化が阻害される問題を生じていた。   In the printed wiring board using the through-hole 51 connection shown in FIG. 8, first, drilling and copper plating 53 are performed at a desired location to form the through-hole 51, and then the through-hole 51 is replaced with the resin 54. Sealing (hole filling) with. In consideration of a manufacturing method that can satisfactorily perform sealing (hole filling) of the through-hole 51 part, the minimum size of the drill diameter is φ100 μm. In addition, regarding the width of the annular ring, when the pitch width of the pad portion on which the component is mounted is set to 0.3 mm (= 300 μm) in consideration of alignment at the time of circuit formation, the diameter of the pad portion 52 on which the component is mounted is 220 μm, the gap portion of the pad portion 52 is 80 μm, and the width of the annular ring is 60 μm, so that conductor wiring cannot be arranged in the gap portion of the pad portion 52 on which a component is mounted. Therefore, there is a problem that the density of the printed wiring board is hindered.

一方、上記回路形成時の設計寸法において、ガラス乾板やデジタル露光技術により、アニュラリング幅をより小さくすることできるが、部品を実装するパッド部52を小径化することは、CSPなどの高密度な部品を実装する際に、実装不良の不具合を生じやすくなる。そのため、適した解決手段とはならないものであった。   On the other hand, in the design dimensions at the time of circuit formation, the annular width can be further reduced by a glass dry plate or digital exposure technology. However, reducing the diameter of the pad portion 52 on which the component is mounted has a high density such as CSP. When mounting a component, it is likely to cause a mounting defect. Therefore, it was not a suitable solution.

また、図9に示されるBVH61接続を用いたプリント配線板においては、レーザによる孔あけ加工により、BVH61のトップ径が最小φ80μmとして、それに伴い、部品を実装するパッド部62を小径化できる。
図9に示される仕様であれば、部品を実装するパッド部のピッチ幅を0.3mm(=300μm)とした場合、部品を実装するパッド部62の径が200μm、当該パッド部62の間隙部が100μm、アニュラリングの幅が60μmとなる。しかしながら、BVH61を小径化するために、BVH61の底部箇所においてはφ50μm程度となり、BVH孔あけ部への銅めっき液の入り込みが悪くなるなどの問題を生じる。そして、それによりBVH61の底部箇所においては、電気的な接続が不安定となる問題を生じていた。
In the printed wiring board using the BVH61 connection shown in FIG. 9, the top diameter of the BVH61 is set to a minimum φ80 μm by drilling with a laser, and accordingly, the pad portion 62 on which the component is mounted can be reduced in diameter.
With the specification shown in FIG. 9, when the pitch width of the pad portion on which the component is mounted is 0.3 mm (= 300 μm), the diameter of the pad portion 62 on which the component is mounted is 200 μm, and the gap portion of the pad portion 62 Is 100 μm and the width of the annular ring is 60 μm. However, in order to reduce the diameter of the BVH 61, the bottom portion of the BVH 61 has a diameter of about 50 μm, which causes problems such as poor penetration of the copper plating solution into the BVH drilling portion. As a result, at the bottom portion of the BVH 61, there is a problem that the electrical connection becomes unstable.

すなわち、BVH61接続を用いたプリント配線板の構造においても、図9に示される設計寸法のプリント配線板となり、部品を実装するパッドの間隙部に導体配線を配置することができず、いわゆる導体配線の引き回し手段が設計上で制限されるため、プリント配線板の高密度化が阻害される問題を生じていた。   That is, even in the structure of the printed wiring board using the BVH61 connection, the printed wiring board has the design dimensions shown in FIG. 9, and the conductor wiring cannot be arranged in the gap portion between the pads for mounting the components. Since the routing means is limited in design, there has been a problem that densification of the printed wiring board is hindered.

前記プリント配線板の導体配線の引き回し技術について言及するならば、従来、前記導体パッド部の最小ピッチ幅は、0.5mmピッチ程度の幅であり、高密度な導体配線を形成するに際し、パッド間隙と呼称されるプリント配線板上の部品を実装するパッド部間のスペースに、1本ないし2本の導体配線を設ける手法が有効であり、このような導体配線の引き回し技術が設計上でも有効であった。   When referring to the conductor wiring routing technique of the printed wiring board, conventionally, the minimum pitch width of the conductor pad portion is about 0.5 mm pitch, and when forming a high-density conductor wiring, It is effective to provide one or two conductor wirings in the space between the pad parts for mounting the parts on the printed wiring board, which is referred to as “a”, and such a conductor wiring routing technique is also effective in the design. there were.

ところが、前述のようにプリント配線板上の部品を実装するパッド部のピッチ幅が0.3mmとなった場合、パッド部間のスペースに導体配線を設けることが困難になる。   However, when the pitch width of the pad portion on which the component on the printed wiring board is mounted is 0.3 mm as described above, it is difficult to provide the conductor wiring in the space between the pad portions.

より詳細に例を挙げて説明すると、図9に示されるプリント配線板上の部品を実装するパッド部のピッチ幅が0.3mm(=300μm)となった場合、実装パッド部の径はφ0.2mm(=200μm)となり、部品を実装パッド部の間隙は0.1mm(=100μm)となる。したがって、当該100μmの導体パッドの間隙部に導体配線を形成する際には、ライン/スペース=30/30μmの導体配線が必要となり、サブトラクティブ法による回路形成方法では困難で、工業的な量産を背景とした場合には歩留まりを低下させるものであった。   More specifically, when the pitch width of the pad portion for mounting the components on the printed wiring board shown in FIG. 9 is 0.3 mm (= 300 μm), the diameter of the mounting pad portion is φ0. 2 mm (= 200 μm), and the gap between the component and the mounting pad is 0.1 mm (= 100 μm). Therefore, when forming the conductor wiring in the gap portion of the 100 μm conductor pad, the conductor wiring of line / space = 30/30 μm is required, which is difficult with the circuit forming method by the subtractive method, and industrial mass production is required. In the case of the background, the yield was lowered.

このような背景において、従来の技術としては、微細で高密度な導体配線の形成を目的として、図10に示されるような導体層が3層構造からなるプリント配線板の技術が報告されている(例えば、特許文献1参照)。   Against this background, as a conventional technique, for the purpose of forming fine and high-density conductor wiring, a technique of a printed wiring board having a three-layered conductor layer as shown in FIG. 10 has been reported. (For example, refer to Patent Document 1).

このような図10に示されるプリント配線板は、内層配線71を中心として、その上下両面に絶縁樹脂層を介して複数の配線層が形成されるものであり、特徴的な箇所としては、内層配線71を中心に対向する構造で第1の層間接続ビア73と第2の層間接続ビア74が設けられている点である。この構造により、配線層のパターン設計自由度が増すなどの効果がある。   The printed wiring board shown in FIG. 10 is such that a plurality of wiring layers are formed on both upper and lower surfaces with the inner layer wiring 71 as a center through insulating resin layers. The first interlayer connection via 73 and the second interlayer connection via 74 are provided so as to face each other around the wiring 71. This structure has an effect of increasing the degree of freedom in pattern design of the wiring layer.

しかしながら、上記の配線層が3層構造からなるプリント配線板は、内層配線71を中心として、その上下両面に絶縁樹脂層72を介するため、特に絶縁層部位の厚さが増し、プリント配線板の薄型化が困難になるといった問題が生じるものであった。   However, the printed wiring board in which the wiring layer has a three-layer structure has an insulating resin layer 72 on both the upper and lower surfaces with the inner layer wiring 71 as the center, and therefore the thickness of the insulating layer portion is particularly increased. There was a problem that it was difficult to reduce the thickness.

一方、層間接続ビアの対面構造に係る従来の技術としては、図11に示されるような、両面構造のプリント配線板に層間接続ビアを対面構造に設けた技術が報告されている(例えば、特許文献2)。   On the other hand, as a conventional technique related to a facing structure of interlayer connection vias, a technique in which an interlayer connection via is provided in a facing structure on a printed wiring board having a double-side structure as shown in FIG. Reference 2).

このような図11に示されるプリント配線板は、絶縁基板81に貫通孔82を設け、かつ当該貫通孔82の内層中央部にくびれ構造を設けたものであり、絶縁基板81の周壁83を表面処理した後に、導電部材84を充填し、加えて導体パターン85を形成したものである。   The printed wiring board shown in FIG. 11 has a through hole 82 in the insulating substrate 81 and a constricted structure at the center of the inner layer of the through hole 82, and the peripheral wall 83 of the insulating substrate 81 is provided on the surface. After the treatment, the conductive member 84 is filled, and in addition, a conductor pattern 85 is formed.

上記プリント配線板の特徴的な箇所としては、貫通孔82の内層中央部にくびれ構造を設けることにより、温度サイクル試験などにおいて耐久性が向上し、クラックなどを抑制することで信頼性が向上する点である。   As a characteristic part of the printed wiring board, by providing a constricted structure at the center of the inner layer of the through hole 82, durability is improved in a temperature cycle test and the like, and reliability is improved by suppressing cracks and the like. Is a point.

しかしながら、上記の貫通孔82の内層中央部にくびれ構造を有するプリント配線板は、前述のように貫通孔82の部位において信頼性は向上するものの、直接的な高密度配線の形成は困難であり、また製造方法においては、貫通孔82と貫通孔84との形成で、中心性C1における穴あけ位置合わせ精度がミクロン単位で要求されるため位置合わせ精度が厳密であり、工業的な量産を背景とした場合では、歩留まりを向上させるのに限界が生じるものであった。
特開2004−265967号公報 特開2003−318501号公報
However, the printed wiring board having a constricted structure at the center of the inner layer of the through hole 82 has improved reliability at the portion of the through hole 82 as described above, but it is difficult to form a high density wiring directly. Also, in the manufacturing method, since the through hole 82 and the through hole 84 are formed and the hole alignment accuracy at the centrality C1 is required in units of microns, the alignment accuracy is strict and the background to industrial mass production. In such a case, there is a limit in improving the yield.
JP 2004-265967 A JP 2003-318501 A

以上のような背景に基づき本発明が解決しようとする課題は、CSPなどのような狭ピッチな電極パッド部を有する電子部品を搭載できるプリント配線板に関して、前記部品を実装するプリント配線板のパッド部を狭ピッチ化することができ、かつ高密度な導体配線を備えたプリント配線板及びその製造方法を提供することにある。   The problem to be solved by the present invention based on the background as described above is related to a printed wiring board on which an electronic component having a narrow-pitch electrode pad portion such as CSP can be mounted. It is an object of the present invention to provide a printed wiring board having a high-density conductor wiring and a method for manufacturing the same.

更に詳細には、本発明は前記の如き従来の問題に鑑み、特に電極パッド部のピッチ幅が0.3mmピッチ以下であるCSPを容易に実装することのできるプリント配線板及びその製造方法を提供することを課題としている。   More specifically, the present invention provides a printed wiring board capable of easily mounting a CSP having a pitch width of an electrode pad portion of 0.3 mm or less, and a method for manufacturing the same, in view of the conventional problems as described above. The challenge is to do.

発明者は上記課題を解決するために種々検討を重ねた。その結果、プリント配線板の一方の面より第1の接続ビアを、他方の面より第2の接続ビアを設け、各々の底部で接続せしめて、プリント配線板の表裏の導体を接続する層間接続ビアを設ける際に、一方の平面上で隣接する第1の接続ビアの配列ピッチの幅と、他方の裏面の平面上で隣接する第2の接続ビアの配列ピッチの幅とを異なるもの、特に第1の接続ビアの配列ピッチの幅を狭ピッチ化し、第2の接続ビアの配列ピッチの幅を広げ、加えて第2の接続ビアのパッドの間隙箇所に、少なくとも1本の導体配線を設ければ、極めて良い結果が得られることを見出して本発明を完成するに至った。   The inventor has made various studies in order to solve the above problems. As a result, the first connection via is provided from one side of the printed wiring board, the second connection via is provided from the other side, and connected at the bottom of each layer to connect the conductors on the front and back of the printed wiring board. When providing vias, the width of the arrangement pitch of the first connection vias adjacent on one plane differs from the width of the arrangement pitch of the second connection vias adjacent on the other back plane, in particular The width of the arrangement pitch of the first connection vias is narrowed, the width of the arrangement pitch of the second connection vias is increased, and at least one conductor wiring is provided in the gap between the pads of the second connection via. As a result, it was found that extremely good results can be obtained, and the present invention has been completed.

すなわち、本発明は、プリント配線板の一方の面から設けられた第1の接続ビアと、他方の面から設けられた第2の接続ビアとが、それぞれの底部にて接続している層間接続ビアにより表裏の導体が接続されているプリント配線板において、当該一方の面部に第1の接続ビアを含む導体パッドが複数配置されていると共に、他方の面部に第2の接続ビアを含む導体パッドが複数配置され、かつ当該一方の面部に配置された隣接する第1の接続ビアを含む導体パッド間のピッチ幅と、当該他方の面部に配置された隣接する第2の接続ビアを含む導体パッド間の少なくとも一つのピッチ幅とが異なることを特徴とするプリント配線板により課題を解決したものである。   That is, the present invention provides an interlayer connection in which a first connection via provided from one surface of a printed wiring board and a second connection via provided from the other surface are connected to each other at the bottom. In a printed wiring board in which front and back conductors are connected by vias, a plurality of conductor pads including first connection vias are disposed on the one surface portion, and a conductor pad including second connection vias on the other surface portion. Are arranged, and the pitch between the conductor pads including the adjacent first connection vias disposed on the one surface portion, and the conductor pad including the adjacent second connection vias disposed on the other surface portion. The printed wiring board is characterized in that at least one pitch width between the printed wiring boards is different.

また、本発明は、前記第1の接続ビアの底部が、前記第2の接続ビアの底部よりも大きな面積を備え、かつ当該第2の接続ビアの底部が、当該第1の接続ビアの底部内の任意の箇所に接続されていることを特徴とするプリント配線板により上記課題を解決したものである。   According to the present invention, the bottom of the first connection via has a larger area than the bottom of the second connection via, and the bottom of the second connection via is the bottom of the first connection via. The above-mentioned problem is solved by a printed wiring board characterized by being connected to an arbitrary portion.

また、本発明は、前記隣接する第1の接続ビアを含む導体パッド間のピッチ幅が0.3mm以下であり、かつ当該ピッチ幅は、前記隣接する第2の接続ビアを含む導体パッド間の少なくとも一つのピッチ幅よりも狭いことを特徴とするプリント配線板により上記課題を解決したものである。   In the present invention, the pitch width between the conductor pads including the adjacent first connection vias is 0.3 mm or less, and the pitch width is between the conductor pads including the adjacent second connection vias. The above-described problems are solved by a printed wiring board characterized by being narrower than at least one pitch width.

また、本発明は、前記隣接する第2の接続ビアを含む導体パッド間の少なくとも一つの間隙部が、前記隣接する第1の接続ビアを含む導体パッド間の間隙部よりも広いことを特徴とするプリント配線板により上記課題を解決したものである。   The present invention is characterized in that at least one gap between the conductor pads including the adjacent second connection via is wider than a gap between the conductor pads including the adjacent first connection via. The printed wiring board which solves the said subject.

また、本発明は、前記隣接する第2の接続ビアを含む導体パッド間の少なくとも一つの間隙部に、導体配線が設けられていることを特徴とするプリント配線板により上記課題を解決したものである。   In addition, the present invention solves the above problem by a printed wiring board, wherein a conductor wiring is provided in at least one gap between conductor pads including the adjacent second connection via. is there.

また、本発明は、前記導体配線が、ライン/スペース=50μm/50μm以下の導体配線であることを特徴とするプリント配線板により上記課題を解決したものである。   In addition, the present invention solves the above problems by a printed wiring board in which the conductor wiring is a conductor wiring of line / space = 50 μm / 50 μm or less.

また、本発明は、前記プリント配線板をコア部材として備えていることを特徴とする多層プリント配線板により上記課題を解決したものである。   Moreover, this invention solves the said subject with the multilayer printed wiring board characterized by providing the said printed wiring board as a core member.

また、本発明は、内部に補強材が設けられた両面銅張積層板の一方の面から第1の接続ビアを設ける工程と、他方の面から第2の接続ビアを設ける工程と、当該第1及び第2の接続ビアをそれぞれの底部にて接続して表裏の導体を接続する層間接続ビアを形成する工程とを備えたプリント配線板の製造方法において、前記第1の接続ビアを両面銅張積層板の一方の面から内部に設けられた補強材までの層間部に設け、かつ前記第2の接続ビアを前記両面銅張積層板の他方の面から内部に設けられた補強材を貫通して、前記第1の接続ビアの底部に達するまでの層間部に設けることを特徴とするプリント配線板の製造方法により上記課題を解決したものである。   The present invention also includes a step of providing a first connection via from one surface of a double-sided copper clad laminate having a reinforcing material provided therein, a step of providing a second connection via from the other surface, And a step of forming an interlayer connection via for connecting the front and back conductors by connecting the first and second connection vias at their bottoms, wherein the first connection via is a double-sided copper. Provided in the interlayer part from one side of the tension laminate to the reinforcement provided inside, and the second connection via penetrates the reinforcement provided inside from the other side of the double-sided copper clad laminate Then, the above-mentioned problem is solved by a method for manufacturing a printed wiring board, which is provided in an interlayer portion up to the bottom of the first connection via.

また、本発明は、前記第1の接続ビア及び第2の接続ビアを設ける前に、当該ビアの形成位置における表面の銅箔をエッチング除去する工程を備えていることを特徴とするプリント配線板の製造方法により上記課題を解決したものである。   Further, the present invention includes a step of etching and removing the copper foil on the surface at the via formation position before providing the first connection via and the second connection via. The above-mentioned problem is solved by this manufacturing method.

また、本発明は、前記第1の接続ビア及び第2の接続ビアを設ける加工を、レーザ加工により行なうことを特徴とするプリント配線板の製造方法により上記課題を解決したものである。   Further, the present invention solves the above problems by a method for manufacturing a printed wiring board, wherein the process of providing the first connection via and the second connection via is performed by laser processing.

また、本発明は、前記両面銅張積層板の内部に設けられた補強材が、ガラスクロスであることを特徴とするプリント配線板の製造方法により上記課題を解決したものである。   Moreover, this invention solves the said subject by the manufacturing method of the printed wiring board characterized by the reinforcing material provided in the inside of the said double-sided copper clad laminated board being a glass cloth.

また、本発明は、前記第1の接続ビアの底部を、前記第2の接続ビアの底部より大きな面積で設けることを特徴とするプリント配線板の製造方法により上記課題を解決したものである。   According to another aspect of the present invention, there is provided a printed wiring board manufacturing method, wherein the bottom of the first connection via is provided in a larger area than the bottom of the second connection via.

また、本発明は、更に、前記一方の面部に第1の接続ビアを含む導体パッドを複数形成する工程と、前記他方の面部に第2の接続ビアを含む導体パッドを複数形成する工程とを備えていることを特徴とするプリント配線板の製造方法により上記課題を解決したものである。   The present invention further includes a step of forming a plurality of conductor pads including a first connection via on the one surface portion, and a step of forming a plurality of conductor pads including a second connection via on the other surface portion. The above-described problems are solved by a method for manufacturing a printed wiring board, which is characterized by comprising the above.

また、本発明は、前記隣接する第2の接続ビアを含む導体パッド間の間隙部の少なくとも一つを、前記隣接する第1の接続ビアを含む導体パッド間の間隙部よりも広く形成することを特徴とするプリント配線板の製造方法により上記課題を解決したものである。   In the present invention, at least one of the gaps between the conductor pads including the adjacent second connection via is formed wider than the gap between the conductor pads including the adjacent first connection via. The above-mentioned problems are solved by a method for manufacturing a printed wiring board characterized by the above.

また、本発明は、更に、前記隣接する第2の接続ビアを含む導体パッド間の少なくとも一つの間隙部に導体配線を設ける工程を備えていることを特徴とするプリント配線板の製造方法により上記課題を解決したものである。   Further, the present invention further includes a step of providing a conductor wiring in at least one gap between the conductor pads including the adjacent second connection via. It solves the problem.

本発明によれば、隣接する導体パッド間の間隙部に導体配線を配置できるため、プリント配線板の導体パッド部を狭くピッチ化することができると共に、回路配線を高密度化することができる。   According to the present invention, since the conductor wiring can be arranged in the gap portion between the adjacent conductor pads, the conductor pad portion of the printed wiring board can be narrowed and the circuit wiring can be densified.

本発明を実施するための最良の形態に関し、第1の実施の形態について図1から図4を使用して説明し、第2の実施の形態について図5から図7を使用して説明する。   With regard to the best mode for carrying out the present invention, the first embodiment will be described with reference to FIGS. 1 to 4, and the second embodiment will be described with reference to FIGS. 5 to 7.

(第1の実施の形態)
図1に示すように、始めに両面銅張積層板1を用意する。両面銅張積層板1としては、絶縁性の樹脂にガラスクロス2を含浸させてなる絶縁材料10を使用し、当該絶縁材料10の表裏の面に銅箔4a及び銅箔4bを配置し、積層プレスなどにより圧着した材料を使用する。
(First embodiment)
As shown in FIG. 1, a double-sided copper-clad laminate 1 is first prepared. As the double-sided copper-clad laminate 1, an insulating material 10 in which an insulating resin is impregnated with a glass cloth 2 is used, and copper foil 4 a and copper foil 4 b are arranged on the front and back surfaces of the insulating material 10 and laminated. Use a material that has been pressed with a press.

また、両面銅張積層板1は、図1(a)に示されるように、表面側内部において、ガラスクロス2と銅箔4aとの層間部に、樹脂3aのみからなり、ガラスクロス2を含まない樹脂専有部分を有し、裏面側内部においても同様に、ガラスクロス2と銅箔4bとの層間部に樹脂3bのみからなる樹脂専有部分を有する。このガラスクロス2、樹脂3a及び樹脂3bの厚み比率は特に限定されないが、例えば、ガラスクロス2が60%、樹脂3a及び樹脂3bがそれぞれ20%の材料を使用することが好適である。   Moreover, as shown in FIG. 1A, the double-sided copper-clad laminate 1 includes only the resin 3a in the interlayer portion between the glass cloth 2 and the copper foil 4a and includes the glass cloth 2 inside the surface side. Similarly, the inside of the back surface side also has a resin-exclusive portion consisting only of the resin 3b in the interlayer portion between the glass cloth 2 and the copper foil 4b. The thickness ratio of the glass cloth 2, the resin 3a, and the resin 3b is not particularly limited. For example, it is preferable to use a material in which the glass cloth 2 is 60% and the resin 3a and the resin 3b are each 20%.

このような両面銅張積層板1を使用して、両面銅張積層板1の表面より、図1(b)に示されるように、第1の接続ビア11a,11bを設ける。因に、図1(b)に示される構造体においては、2つの第1の接続ビアが設けられている。   Using such a double-sided copper-clad laminate 1, first connection vias 11 a and 11 b are provided from the surface of the double-sided copper-clad laminate 1 as shown in FIG. Incidentally, in the structure shown in FIG. 1B, two first connection vias are provided.

前記第1の接続ビア11a,11bの製造方法は、銅箔4aの所望の箇所に回路形成で銅箔をエッチングし、開口させることでウインドウ部を形成した後に、レーザ照射にて樹脂3aを燃焼させ、その第1の接続ビア11a,11bの底部がガラスクロス2に接するように形成する。これは、第1の接続ビア11a,11bを形成する際にレーザ穴あけ加工の条件を調節し、図1(b)に示されるように、ガラスクロス2の上部に設けられている樹脂3aのみをレーザにて燃焼させ、ガラスクロス2を燃焼させないレーザ穴あけ加工の条件を使用して第1の接続ビア11a,11bを形成する。   The first connection vias 11a and 11b are manufactured by burning the resin 3a by laser irradiation after forming a window portion by etching and opening the copper foil in a desired portion of the copper foil 4a. The bottoms of the first connection vias 11a and 11b are formed so as to be in contact with the glass cloth 2. This is because laser drilling conditions are adjusted when the first connection vias 11a and 11b are formed, and only the resin 3a provided on the upper portion of the glass cloth 2 is used as shown in FIG. The first connection vias 11a and 11b are formed using a laser drilling condition in which the glass cloth 2 is not burned by burning with a laser.

また、前記回路形成で銅箔をエッチングし、開口させることでウインドウ部を形成する工程においては、工程の簡略化を目的として、図1(b)に示される構造体の銅箔4a及び銅箔4bの両面において、所望の箇所にウインドウ部を形成することが好適である。   Further, in the process of forming the window portion by etching and opening the copper foil in the circuit formation, for the purpose of simplifying the process, the copper foil 4a and the copper foil of the structure shown in FIG. It is preferable to form window portions at desired locations on both sides of 4b.

ここで、図1(b)に示される構造体においてはガラスクロス2を使用し、当該ガラスクロス2の上に第1の接続ビア11a,11bを設けることとしているが、目的とするところは第1の接続ビア11a,11bの底部が当該箇所に設けられれば良いため、ガラスクロス2以外の材料も使用できる。例えば、補強材として各種無機フィラーを高充填させた材料であっても良い。   Here, in the structure shown in FIG. 1 (b), the glass cloth 2 is used and the first connection vias 11a and 11b are provided on the glass cloth 2. Since it is only necessary that the bottom of each connection via 11a, 11b is provided at that location, materials other than the glass cloth 2 can be used. For example, a material that is highly filled with various inorganic fillers as a reinforcing material may be used.

上記第1の接続ビア11a,11bを形成する際のレーザ穴あけ加工の条件の一例としては、レーザ加工装置に三菱電機社製のレーザ加工機(ML−605GTX)を使用し、パルス幅8μs、ショット数1〜5ショット、マスク径φ0.7mm、コリメーション152mmとするレーザ条件の使用が挙げられる。このような製造方法にて、図1(b)に示されるような第1の接続ビア11a,11bを形成する。   As an example of the conditions for laser drilling when forming the first connection vias 11a and 11b, a laser processing machine (ML-605GTX) manufactured by Mitsubishi Electric Corporation is used for the laser processing apparatus, the pulse width is 8 μs, and the shot is made. Use of laser conditions of several 1 to 5 shots, a mask diameter of φ0.7 mm, and a collimation of 152 mm can be mentioned. With such a manufacturing method, first connection vias 11a and 11b as shown in FIG. 1B are formed.

次いで、第1の接続ビア11a,11bを形成した図1(b)に示される構造体を使用して、両面銅張積層板1の裏面側に設けられた銅箔4bの所望の箇所に回路形成で銅箔をエッチングし、開口させることでウインドウ部を形成した後に、レーザ照射にて樹脂3b及びガラスクロス2を燃焼させ、図1(c)に示される構造体のように、ビアの底部が第1の接続ビア11a,11bに接する2つの第2の接続ビア12a,12bを形成する。   Next, using the structure shown in FIG. 1B in which the first connection vias 11a and 11b are formed, a circuit is provided at a desired location on the copper foil 4b provided on the back side of the double-sided copper-clad laminate 1. After forming the window portion by etching and opening the copper foil in formation, the resin 3b and the glass cloth 2 are burned by laser irradiation, and the bottom of the via as in the structure shown in FIG. 1 (c) Forms two second connection vias 12a and 12b in contact with the first connection vias 11a and 11b.

前記第2の接続ビア12a,12bを形成する際においても、新たにレーザ穴あけ加工の条件を調節し、図1(c)に示されるように、樹脂3b及びガラスクロス2(ガラスクロスの周辺の樹脂部を含む)を燃焼させるレーザ穴あけ加工の条件を使用して第2の接続ビア12a,12bを形成する。   Also when forming the second connection vias 12a and 12b, the laser drilling conditions are newly adjusted, and as shown in FIG. 1C, the resin 3b and the glass cloth 2 (around the glass cloth) The second connection vias 12a and 12b are formed using the laser drilling conditions for burning (including the resin portion).

ここで、上記第2の接続ビア12a,12bを形成する際のレーザ穴あけ加工の条件の一例としては、レーザ加工装置に三菱電機社製のレーザ加工機(ML−605GTX)を使用し、パルス幅5μs、ショット数1〜5ショット、マスク径φ0.7mm、コリメーション142mmとするレーザ条件の使用が挙げられる。このような製造方法にて、図1(c)に示されるような第2の接続ビア12a,12bを形成する。   Here, as an example of the conditions for laser drilling when forming the second connection vias 12a and 12b, a laser processing machine (ML-605GTX) manufactured by Mitsubishi Electric Corporation is used for the laser processing apparatus, and the pulse width Use of laser conditions of 5 μs, 1 to 5 shots, mask diameter φ0.7 mm, and collimation 142 mm can be mentioned. With such a manufacturing method, second connection vias 12a and 12b as shown in FIG. 1C are formed.

ここで、第2の接続ビア12a,12bの形成においては、第1の接続ビア11a,11bに接するように行なうことが必要であるが、このビア同士の接続は、第1の接続ビア11a,11bの底部の面積が、第2の接続ビア12a,12bの底部の面積よりも大きく加工を行なうのが好ましい。これは、第1の接続ビア11a,11bに第2の接続ビア12a,12bを接続しやすいという利点のためである。これにより、当該両方のビア接続においては、製造方法が容易になるため、従来の製造方法に対して歩留まりや位置精度の向上といった観点より有利である。   Here, in forming the second connection vias 12a and 12b, it is necessary to make contact with the first connection vias 11a and 11b. It is preferable that the processing is performed so that the area of the bottom of 11b is larger than the area of the bottom of the second connection vias 12a and 12b. This is because the second connection vias 12a and 12b can be easily connected to the first connection vias 11a and 11b. As a result, in both via connections, the manufacturing method becomes easy, which is advantageous from the viewpoint of improving yield and position accuracy over the conventional manufacturing method.

このことは、従来技術を示す図10及び図11の構造と比較して説明するとより明確である。図10に示される従来技術は、第1の接続ビア73に対して、第2の接続ビア74が位置精度として対向する構造を必要としているため、製造方法において厳密な位置合わせが必要となり、実質的に製造が難しく、歩留まりを低下させる要因となっていた。また、前記ビア間に内層配線層71が設けられることで、多少の位置ずれが許容されることとなるが、この場合、内層配線層71の存在により、隣接する他のビアとの狭ピッチ化や高密度化が阻害されていた。   This will be clearer when described in comparison with the structure of FIGS. 10 and 11 showing the prior art. The prior art shown in FIG. 10 requires a structure in which the second connection via 74 is opposed to the first connection via 73 in terms of positional accuracy. In particular, it was difficult to manufacture, and this was a factor that lowered the yield. Further, since the inner wiring layer 71 is provided between the vias, a slight positional shift is allowed. In this case, the pitch between the adjacent other vias is reduced due to the presence of the inner wiring layer 71. And densification was hindered.

また、図11に示される従来技術は、第1の接続ビア82に対して、第2の接続ビア84が位置精度として対向する構造を必要としているため、製造方法においては、接続ビア84の形成における穴あけ位置合わせ精度がミクロン単位で要求されるため、工業的な量産を背景とした場合では、歩留まりを向上させるのに限界が生じるものであった。   Further, since the conventional technique shown in FIG. 11 requires a structure in which the second connection via 84 is opposed to the first connection via 82 in terms of positional accuracy, the connection via 84 is formed in the manufacturing method. Therefore, in the case of industrial mass production, there is a limit in improving the yield.

しかしながら、本発明のプリント配線板においては、第1の接続ビア11a,11bの底部を第2の接続ビア12a,12bの底部よりも大きく設計しているため、多少の位置ずれを生じた場合であっても、容易に第1の接続ビア11a,11bと第2の接続ビア12a,12bとを接続することができる。これはプリント配線板の製造方法においては、歩留まりの向上などにおいて有利である。また、本発明のプリント配線板においては、前記従来技術のビア間に設けられた内層配線層71が無い。そのため、隣接する他のビアとの狭ピッチ化や高密度化が容易に行なえるために有利である。   However, in the printed wiring board of the present invention, the bottoms of the first connection vias 11a and 11b are designed to be larger than the bottoms of the second connection vias 12a and 12b. Even if it exists, the 1st connection via 11a, 11b and the 2nd connection via 12a, 12b can be connected easily. This is advantageous in improving the yield in the method for manufacturing a printed wiring board. Further, in the printed wiring board of the present invention, there is no inner wiring layer 71 provided between the prior art vias. Therefore, it is advantageous because it is possible to easily reduce the pitch and increase the density with other adjacent vias.

さらに、本発明の第1の接続ビア11a,11bの底部は、第2の接続ビア12a,12bの底部よりも大きな面積を備えており、当該第2の接続ビア12a,12bの底部が、当該第1の接続ビア11a,11bの底部内であれば任意の箇所に接続することができる。その結果、詳細は後述するが、表面の同一面部で配置された隣接する第1の接続ビア11a,11bをそれぞれ含む導体パッド間のピッチ幅が、裏面の同一面部で配置された隣接する第2の接続ビア12a,12bをそれぞれ含む導体パッド間のピッチ幅とは異なるものとすることができ、特に第2の接続ビア12a,12bをそれぞれ含む導体パッド間の間隙部を広げることなどができ、設計上で有利となる。   Furthermore, the bottoms of the first connection vias 11a and 11b of the present invention have a larger area than the bottoms of the second connection vias 12a and 12b, and the bottoms of the second connection vias 12a and 12b As long as it is within the bottoms of the first connection vias 11a and 11b, it can be connected to an arbitrary location. As a result, although details will be described later, the pitch width between the conductor pads each including the adjacent first connection vias 11a and 11b arranged on the same surface portion of the front surface is adjacent to the second adjacent surface arranged on the same surface portion of the back surface. The pitch width between the conductor pads each including the connection vias 12a and 12b can be different, particularly the gap between the conductor pads including the second connection vias 12a and 12b can be widened. This is advantageous in design.

このような態様で作製される、図1(c)に示される構造体は、ビア構造において特徴を有する。これは、第2の接続ビア12a,12bを設ける際に、第1の接続ビア11a,11bの底部が第2の接続ビア12a,12bよりも大きいという点を利用する。より詳しくは、図1(c)左側において、第2の接続ビア12aを第1の接続ビア11aに接続する際に、設計上で第1の接続ビア11aの底部の向かって左側に第2の接続ビア12aの底部を配置する。加えて、設計上で第1の接続ビア11bの底部の向かって右側に第2の接続ビア12bの底部を配置する。   The structure shown in FIG. 1C manufactured in this manner has a feature in the via structure. This utilizes the point that when the second connection vias 12a and 12b are provided, the bottoms of the first connection vias 11a and 11b are larger than the second connection vias 12a and 12b. More specifically, when the second connection via 12a is connected to the first connection via 11a on the left side of FIG. 1C, the second connection via on the left side toward the bottom of the first connection via 11a is designed. The bottom of the connection via 12a is disposed. In addition, the bottom of the second connection via 12b is arranged on the right side of the bottom of the first connection via 11b in design.

このような配置を行なうことで、第1の接続ビア11aと第1の接続ビア11bとのピッチ幅よりも、第2の接続ビア12aと第2の接続ビア12bとのピッチ幅を広く設けることができる。一例としては、第1の接続ビア11aと第1の接続ビア11bとのピッチ幅を0.3mm(=300μm)として、第2の接続ビア12aと第2の接続ビア12bとのピッチ幅を0.4mm(=400μm)とすることが可能となる。   By performing such an arrangement, the pitch width between the second connection via 12a and the second connection via 12b is wider than the pitch width between the first connection via 11a and the first connection via 11b. Can do. As an example, the pitch width between the first connection via 11a and the first connection via 11b is 0.3 mm (= 300 μm), and the pitch width between the second connection via 12a and the second connection via 12b is 0. 4 mm (= 400 μm).

これにより、第1の接続ビア11aと第1の接続ビア11bとのピッチ幅を狭く設計した場合でも、そのビアに接続された裏面側の、第2の接続ビア12aと第2の接続ビア12bとのピッチ幅を広く設けることが可能となり、第2の接続ビア12aと第2の接続ビア12bとの間に導体配線を設けることができる。これは、ビアのピッチ幅を狭ピッチな状態で保持したまま、回路配線を高密度化することができるため、狭ピッチで高密度なプリント配線板として大変有効である。   Thereby, even when the pitch width between the first connection via 11a and the first connection via 11b is designed to be narrow, the second connection via 12a and the second connection via 12b on the back surface side connected to the via. Can be provided with a wide pitch width, and a conductor wiring can be provided between the second connection via 12a and the second connection via 12b. This is very effective as a printed wiring board having a narrow pitch and a high density because the circuit wiring can be densified while the pitch width of the vias is maintained in a narrow pitch state.

加えて、前記第1の接続ビア11a,11bの底部内であれば任意の箇所に、第2の接続ビア12a,12bを接続することができる結果、図1(d)に示されるような、第2の接続ビア12a及び12bがより接近した構造を形成することも可能となる。   In addition, as a result of being able to connect the second connection vias 12a and 12b to arbitrary locations within the bottoms of the first connection vias 11a and 11b, as shown in FIG. It is also possible to form a structure in which the second connection vias 12a and 12b are closer to each other.

このような配置を行なうことで、第1の接続ビア11aと第1の接続ビア11bとのピッチ幅よりも、第2の接続ビア12aと第2の接続ビア12bとのピッチ幅を狭く設けることもできる。一例としては、第1の接続ビア11aと第1の接続ビア11bとのピッチ幅を0.3mm(=300μm)として、第2の接続ビア12aと第2の接続ビア12bとのピッチ幅を0.2mm(=200μm)とすることが可能となる。   By performing such an arrangement, the pitch width between the second connection via 12a and the second connection via 12b is narrower than the pitch width between the first connection via 11a and the first connection via 11b. You can also. As an example, the pitch width between the first connection via 11a and the first connection via 11b is 0.3 mm (= 300 μm), and the pitch width between the second connection via 12a and the second connection via 12b is 0. .2 mm (= 200 μm).

すなわち、本発明のプリント配線板においては、第1の接続ビア11a,11bと第2の接続ビア12a,12bのそれぞれのピッチを変化させることができる。その結果、図1(d)に示される銅箔4b面側の同一面部で配置された隣接する第2の接続ビア12aと12bの間隙部を広げたり、狭くすることができ、当該広くした間隙部に導体配線を配置することが可能となり、設計上で有利となる。   That is, in the printed wiring board of the present invention, the pitches of the first connection vias 11a and 11b and the second connection vias 12a and 12b can be changed. As a result, the gap portion between the adjacent second connection vias 12a and 12b arranged on the same surface portion on the copper foil 4b surface side shown in FIG. 1 (d) can be widened or narrowed. It is possible to arrange the conductor wiring in the part, which is advantageous in design.

次いで、図1(c)に示されるプリント配線板の構造体の全面に銅めっき13を付着させ、図2(a)に示される構造体を得る。この銅めっき13を付着させる方法の一例としては、始めに、第1の接続ビア11a,11b及び第2の接続ビア12a,12bの壁面をデスミアなどに代表される薬液処理を行ない、バリやスミアを除去することで銅めっきの付着性を向上させる。   Next, copper plating 13 is adhered to the entire surface of the printed wiring board structure shown in FIG. 1C to obtain the structure shown in FIG. As an example of the method of attaching the copper plating 13, first, the chemical solution treatment represented by desmear is performed on the wall surfaces of the first connection vias 11a and 11b and the second connection vias 12a and 12b, and burrs and smears are performed. The adhesion of copper plating is improved by removing.

次いで、前記銅めっき13を無電解型の化学銅及び電解型の銅めっきを順に行ない、銅めっき13がプリント配線板骨格の前面に付着した図2(a)に示される構造体を得る(図2、図3においては図面上でガラスクロス2を省略している)。   Next, electroless chemical copper and electrolytic copper plating are sequentially performed on the copper plating 13 to obtain the structure shown in FIG. 2A in which the copper plating 13 is attached to the front surface of the printed wiring board skeleton (FIG. 2). 2 and 3, the glass cloth 2 is omitted from the drawing).

次いで、第1の接続ビア11a,11bと第2の接続ビア12a,12bからなるプリント配線板の表裏を接続するビア内を封止樹脂にて充填することで、図2(b)に示される構造体を得る。このビア内の封止樹脂の方法は一例として次のように行なう。   Next, the inside of the via connecting the front and back of the printed wiring board composed of the first connection vias 11a and 11b and the second connection vias 12a and 12b is filled with sealing resin, as shown in FIG. Get a structure. The method of sealing resin in the via is performed as follows as an example.

前記ビア内の樹脂封止方法としては、例えば東海商事株式会社製の製版枠取付け仕様のスクリーン印刷機(セリア、SVM5060MS−CT)を使用して、封止樹脂15には、例えばタツタシステムエレクトロニクス株式会社製の封止樹脂(商品名「AE1125HD銅ペースト」)を用いて、ロールコート印刷型の樹脂封止方法にて行なう。この際に、前記封止樹脂15としては、前記銅ペーストに限定されるものではなく、一般に市販されているスルーホールなどの穴内埋設の用途に使用される封止樹脂であれば、各種製品が使用できる。   As the resin sealing method in the via, for example, a screen printing machine (Ceria, SVM5060MS-CT) having a plate making frame mounting specification manufactured by Tokai Shoji Co., Ltd. is used. Using a company-made sealing resin (trade name “AE1125HD copper paste”), a roll coat printing type resin sealing method is used. At this time, the sealing resin 15 is not limited to the copper paste, and various products can be used as long as the sealing resin is used for embedding in a hole such as a commercially available through hole. Can be used.

また、前記スクリーン印刷に係る印刷条件としては、減圧条件下で行なうことが高品質で樹脂が充填されるため好適であり、当該減圧条件下でのロールコート印刷の条件の一例としては次のように行なう。   Further, as the printing conditions related to the screen printing, it is preferable to carry out under reduced pressure conditions because the resin is filled with high quality. Examples of conditions for roll coat printing under the reduced pressure conditions are as follows. To do.

まず、減圧条件下でのスクリーン印刷方法として、図1(a)に示される構造体で、第2の接続ビア12a,12b側の表面に、ペットフィルムを添付して、一時的に擬似の有底構造とする(図面説明なし)。次に、スクリーン印刷を実施するチャンバー内の環境を減圧にする。このときの減圧度としては一例として、150Paとすることが好適である。   First, as a screen printing method under reduced pressure conditions, a pet film is attached to the surface on the second connection via 12a, 12b side in the structure shown in FIG. A bottom structure is used (there is no explanation for the drawings). Next, the environment in the chamber where screen printing is performed is reduced in pressure. As an example of the degree of decompression at this time, 150 Pa is preferable.

次いで、減圧下で樹脂封止を行なう。減圧条件下でのロールコート印刷の具体的条件としては、例えば減圧度を150Pa以下に設定し、当該減圧環境下において、印刷スキージの押し込み圧力を100(N)として、印刷速度を30(mm/sec)、ロール回転速度75(mm/sec)、ロールと製品の隙間となるクリアランス1.2mmで行なう方法が挙げられる。また、減圧条件を開放し、常圧条件にした後には、印刷スキージの押し込み圧力を50(N)として、印刷速度を30(mm/sec)、ロール回転速度75(mm/sec)、ロールと製品の隙間となるクリアランス1.2mmで行なうと、目的とする樹脂封止の状態が得られる。   Next, resin sealing is performed under reduced pressure. As specific conditions for roll coat printing under reduced pressure conditions, for example, the degree of reduced pressure is set to 150 Pa or less, and in this reduced pressure environment, the pressing pressure of the printing squeegee is set to 100 (N), and the printing speed is set to 30 (mm / mm). sec), a roll rotation speed of 75 (mm / sec), and a clearance of 1.2 mm which is a gap between the roll and the product. In addition, after releasing the decompression condition and setting to the normal pressure condition, the press pressure of the printing squeegee is 50 (N), the printing speed is 30 (mm / sec), the roll rotation speed is 75 (mm / sec), the roll If the clearance is 1.2 mm, which is a gap between products, the desired resin-sealed state can be obtained.

ここでの減圧環境と常圧環境での印刷は、第1の接続ビア11a,11bと第2の接続ビア12a,12bのアスペクトなどにより、減圧環境での印刷と常圧環境での印刷を数回繰り返すことで、必要量の封止樹脂を目的とするビア内に充填することができる。この態様は、従来の減圧型印刷機と同様の使い方で行なうことができる。   Here, the printing in the reduced pressure environment and the normal pressure environment includes several printings in the reduced pressure environment and the normal pressure environment depending on the aspect of the first connection vias 11a and 11b and the second connection vias 12a and 12b. By repeating the process, the required amount of sealing resin can be filled in the target via. This aspect can be performed in the same manner as a conventional pressure-reducing printer.

次いで、封止樹脂15を所定の加熱条件のもと、加熱硬化を行なう。ここで、タツタシステムエレクトロニクス株式会社製の封止樹脂(商品名「AE1125HD銅ペースト」)の加熱条件としては、例えば80℃で30分加熱した後に、160℃で60分加熱し、封止樹脂15の硬化物を得る。   Next, the sealing resin 15 is heat-cured under predetermined heating conditions. Here, as heating conditions of the sealing resin (trade name “AE1125HD copper paste”) manufactured by Tatsuta System Electronics Co., Ltd., for example, after heating at 80 ° C. for 30 minutes, heating is performed at 160 ° C. for 60 minutes, and sealing resin 15 To obtain a cured product.

次いで、後工程として、前記貼り付けを行なったペットフィルムを剥離し、バフロール型の表面研磨機を使用し、特にプリント配線板の表面に残っている封止樹脂15を研磨で除去し、図2(b)に示される構造体を得る。   Next, as a post-process, the pasted PET film is peeled off, and a sealing resin 15 remaining on the surface of the printed wiring board is removed by polishing using a buffol type surface polishing machine. The structure shown in (b) is obtained.

次いで、図2(b)に示されるプリント配線板の構造体に、フタ状態となる銅めっき18を付着させる。この銅めっき18は、無電解型の化学銅及び電解型の銅めっきを順に行ない、銅めっき18がプリント配線板の表面に付着した図2(c)に示される構造体を得る。   Subsequently, the copper plating 18 which will be in a cover state is made to adhere to the structure of the printed wiring board shown by FIG.2 (b). The copper plating 18 is obtained by sequentially performing electroless chemical copper and electrolytic copper plating to obtain the structure shown in FIG. 2C in which the copper plating 18 adheres to the surface of the printed wiring board.

次いで、図2(c)に示されるプリント配線板の構造体の回路形成を行なう。回路形成方法としては、図2(c)に示されるプリント配線板の構造体の表裏の銅を粗化処理した後に、ドライフィルムエッチングレジストをラミネートする。次いで、回路配線形成用のマスクを張合せ、表裏の面に露光を行ない、ドライフィルムエッチングレジスト用の現像液を使用して現像を行ない、塩化第二鉄液などを用いてエッチングを行なう。次いで、ドライフィルムエッチングレジストの剥離を行ない、図3(a)に示されるプリント配線板の構造体を得る。   Next, a circuit of the printed wiring board structure shown in FIG. 2C is formed. As a circuit formation method, after roughening the copper on the front and back of the printed wiring board structure shown in FIG. 2C, a dry film etching resist is laminated. Next, a circuit wiring formation mask is attached, the front and back surfaces are exposed, development is performed using a developer for a dry film etching resist, and etching is performed using a ferric chloride solution or the like. Next, the dry film etching resist is peeled off to obtain the printed wiring board structure shown in FIG.

また、ここでの回路形成方法としては、露光工程にデジタル露光システムによる直接描画方法を使用しても良い。露光システムによる直接描画方法は、ドライフィルムエッチングレジストを張り合わせた後に、プリント配線板上のパターン類が形成される箇所において露光を行ない、前記レジストを硬化させる方法であり、狭ピッチで高密度なプリント配線板を形成する際に、従来の露光ムラ不具合を生じることなく、高精度で形状安定性の良好なレジスト及び回路パターン類を形成することができる。   Further, as a circuit forming method here, a direct drawing method using a digital exposure system may be used in the exposure process. The direct drawing method using an exposure system is a method in which a dry film etching resist is laminated and then exposed at a place where patterns on the printed wiring board are formed to cure the resist. When forming a wiring board, it is possible to form resists and circuit patterns having high accuracy and good shape stability without causing the conventional exposure unevenness problem.

図3(a)に示されるプリント配線板の構造は、第1の接続ビア11a,11bの箇所を回路形成して得られる部品を実装する導体パッド21a,21bとその裏面に第2の接続ビア12a,12bの箇所を回路形成して得られる導体パッド22a,22bを有している。   The structure of the printed wiring board shown in FIG. 3 (a) is such that the conductor pads 21a and 21b for mounting components obtained by forming a circuit at the locations of the first connection vias 11a and 11b and the second connection vias on the back surface thereof. It has conductor pads 22a and 22b obtained by forming circuits at positions 12a and 12b.

その構造の特徴的な箇所としては、プリント配線板の表面の第1の接続ビア11a,11bを含む導体パッド21a,21bと、その裏面の第2の接続ビア12a,12bを含む導体パッド22a,22bがプリント配線板の表裏の導体を接続してなる層間接続ビア構造であって、かつ、導体パッド21a,21bと導体パッド22a,22bのパッド径が異なり、例えば導体パッド21a,21bよりも導体パッド22a,22bを小さくすることが可能となる。   Characteristic portions of the structure include conductor pads 21a and 21b including first connection vias 11a and 11b on the surface of the printed wiring board, and conductor pads 22a including second connection vias 12a and 12b on the back surface thereof. 22b is an interlayer connection via structure formed by connecting the front and back conductors of the printed wiring board, and the pad diameters of the conductor pads 21a and 21b and the conductor pads 22a and 22b are different. For example, the conductor pads 21a and 21b are more conductive than the conductor pads 21a and 21b. The pads 22a and 22b can be made smaller.

また、表面の同一平面上で隣接する第1の接続ビア11a,11bを含む導体パッド21a,21bの配列ピッチの幅が、裏面の同一平面上で隣接する第2の接続ビア12a,12bを含む導体パッド22a,22bの配列ピッチの幅とは異なる幅を有する。すなわち、第1の接続ビア11a,11bを含む導体パッド21a及び導体パッド21bの配列ピッチの幅(図3(a)内P1)と、第2の接続ビア12a,12bを含む導体パッド22a及び導体パッド22bの配列ピッチの幅(図3(a)内P2)とは、異なるピッチ幅を有する。   Further, the width of the arrangement pitch of the conductor pads 21a, 21b including the first connection vias 11a, 11b adjacent on the same plane of the front surface includes the second connection vias 12a, 12b adjacent on the same plane of the back surface. The conductor pads 22a and 22b have a width different from the width of the arrangement pitch. That is, the width of the arrangement pitch of the conductor pads 21a and the conductor pads 21b including the first connection vias 11a and 11b (P1 in FIG. 3A) and the conductor pads 22a and the conductors including the second connection vias 12a and 12b. The pitch of the pads 22b is different from the width of the arrangement pitch (P2 in FIG. 3A).

これにより、図3(a)に示されるプリント配線板の構造においては、表面の同一平面上で隣接する第1の接続ビア11a,11bを含む導体パッド21aと導体パッド21bの間隙部D1に対して、裏面の同一平面上で隣接する第2の接続ビア12a,12bを含む導体パッド22aと導体パッド22bの間隙部D2を広げることができ、当該間隙部D2箇所において、導体配線20を設けることができる。   Thereby, in the structure of the printed wiring board shown in FIG. 3A, with respect to the gap D1 between the conductor pad 21a and the conductor pad 21b including the first connection vias 11a and 11b adjacent on the same plane of the surface. Thus, the gap D2 between the conductor pad 22a and the conductor pad 22b including the second connection vias 12a and 12b adjacent on the same plane on the back surface can be widened, and the conductor wiring 20 is provided at the gap D2 location. Can do.

すなわち、この図3(a)に示されるプリント配線板は、狭ピッチの導体パッドの配列ピッチ幅を保持し、導体配線20が設けられることにより、回路配線の高密度な設計が可能となる。   That is, the printed wiring board shown in FIG. 3A maintains the arrangement pitch width of the narrow-pitch conductor pads and is provided with the conductor wiring 20, thereby enabling high-density design of circuit wiring.

ここで、設計寸法における一例を示して説明する。導体パッド21a及び導体パッド21bのパッド径はφ250μmであって、導体パッド21aと導体パッド21bのピッチ幅(パッドの中心間距離)が300μmであった場合、間隙部D1は50μmである。この50μmの間隙部D1においては、狭すぎるために導体配線を形成することができない。   Here, an example in the design dimension will be shown and described. When the pad diameters of the conductor pads 21a and 21b are φ250 μm and the pitch width (distance between the centers of the pads) between the conductor pads 21a and 21b is 300 μm, the gap D1 is 50 μm. In the 50 μm gap D1, the conductor wiring cannot be formed because it is too narrow.

一方、裏面側の導体パッド22a及び導体パッド22bは、パッド径を導体パッド21a,21bよりも小さくできるため、例えばφ125μmとすることができる。これにより、導体パッド22aと導体パッド22bの間隙部D2は175μmとすることが可能となる。この175μmの間隙部D2においては、例えば、ライン/スペース=50μm/50μmの導体配線20を設けることが可能となる。   On the other hand, the conductor pad 22a and the conductor pad 22b on the back side can have a pad diameter smaller than that of the conductor pads 21a and 21b. As a result, the gap D2 between the conductor pad 22a and the conductor pad 22b can be set to 175 μm. In the gap portion D2 of 175 μm, for example, the conductor wiring 20 of line / space = 50 μm / 50 μm can be provided.

この図3(a)に示されるプリント配線板は、導体パッド21a,21bに電極パッドのピッチ幅が0.3mm(300μm)ピッチ幅であるCSPが容易に実装できるものであり、加えて、導体パッド21a,21bは裏面の導体パッド22a,22bに接続され、導体パッド22a,22bの間隙部D2に設けられた導体配線20を利用することで、回路配線部が高密度に形成することができる。さらに、この図3(a)に示されるプリント配線板は、骨格が両面銅張積層板からなるために、薄型化の特性を有するプリント配線板として利用できる。   In the printed wiring board shown in FIG. 3A, a CSP having a pitch width of 0.3 mm (300 μm) as electrode pads can be easily mounted on the conductor pads 21a and 21b. The pads 21a and 21b are connected to the conductor pads 22a and 22b on the back surface, and by using the conductor wiring 20 provided in the gap D2 between the conductor pads 22a and 22b, the circuit wiring portion can be formed with high density. . Further, the printed wiring board shown in FIG. 3A can be used as a printed wiring board having a thinning characteristic because the skeleton is made of a double-sided copper-clad laminate.

また、製品としてのプリント配線板としては、図3(a)に示されるプリント配線板の構造体に、所望の形状のソルダーレジスト23を設けることにより得られ、図3(b)に示されるプリント配線板の構造体となる。   Moreover, as a printed wiring board as a product, it is obtained by providing a solder resist 23 having a desired shape on the structure of the printed wiring board shown in FIG. 3A, and the printed wiring board shown in FIG. It becomes a structure of a wiring board.

さらに、上記図3(a)に示されるプリント配線板をコア部材とし、当該プリント配線板の表裏の面にビルドアップ材25を積層プレスなどによる熱圧着にて貼り付け、多層構造のプリント板として使用しても良い。この多層構造のプリント板はビルドアップ材25を設けた後に、従来の製造方法を使用して、BVH(ブラインドビアホール)を設け、表層には回路配線を形成して使用する。   Further, the printed wiring board shown in FIG. 3A is used as a core member, and a build-up material 25 is attached to the front and back surfaces of the printed wiring board by thermocompression bonding using a lamination press or the like to obtain a multilayer structure printed board. May be used. This printed circuit board having a multilayer structure is provided with a build-up material 25 and then a BVH (blind via hole) using a conventional manufacturing method, and a circuit wiring is formed on the surface layer.

このようにして得られる本発明のプリント配線板の、隣接するビアの例を図4に示す。図4(a)では、表面側に導体パッド21a及び21bを均等なピッチ幅で配列させ、その裏面側に、導体パッド22a及び22bを異なるなピッチ幅で配列させた構造体を示している。   FIG. 4 shows an example of adjacent vias of the printed wiring board of the present invention thus obtained. FIG. 4A shows a structure in which the conductor pads 21a and 21b are arranged at an equal pitch width on the front surface side, and the conductor pads 22a and 22b are arranged at different pitch widths on the rear surface side.

このような構造体においては、導体パッド21aと導体パッド21bとのピッチ幅よりも、導体パッド22aと導体パッド22bとのピッチ幅を広く設けることができ、それにより広げられた導体パッド22aと導体パッド22bとの間隙部に導体配線20を設けることができ、設計上で有利となる。前記構造の一例としては、導体パッド21aと導体パッド21bとのピッチ幅を0.3mm(=300μm)として、導体パッド22aと導体パッド22bとのピッチ幅を部分的に0.4mm(=400μm)とする。そして、導体パッド22aと導体パッド22bの間隙部に、例えば、ライン/スペース=50μm/50μmの導体配線20が設けられる。   In such a structure, the pitch width between the conductor pad 22a and the conductor pad 22b can be provided wider than the pitch width between the conductor pad 21a and the conductor pad 21b. The conductor wiring 20 can be provided in the gap with the pad 22b, which is advantageous in design. As an example of the structure, the pitch width between the conductor pad 21a and the conductor pad 21b is 0.3 mm (= 300 μm), and the pitch width between the conductor pad 22a and the conductor pad 22b is partially 0.4 mm (= 400 μm). And Then, for example, a conductor wiring 20 of line / space = 50 μm / 50 μm is provided in the gap between the conductor pad 22a and the conductor pad 22b.

また、製品として使用されるプリント配線板としては、図4(a)に示されるプリント配線板の構造体に、所望の形状のソルダーレジスト23を設けたプリント配線板の構造体となる。   The printed wiring board used as a product is a printed wiring board structure in which a solder resist 23 having a desired shape is provided on the printed wiring board structure shown in FIG.

さらに、前記記載のように、本発明のプリント配線板をコア部材とし、当該プリント配線板の表裏の面にビルドアップ材25を積層プレスなどによる熱圧着にて貼り付け、図4(b)に示されるような多層構造のプリント板として使用しても良い。この多層構造のプリント板はビルドアップ材25を設けた後に、従来の製造方法を使用して、BVH(ブラインドビアホール)を設け、表層には回路配線を形成して使用する。   Further, as described above, the printed wiring board of the present invention is used as a core member, and the buildup material 25 is pasted on the front and back surfaces of the printed wiring board by thermocompression bonding using a lamination press or the like, as shown in FIG. It may be used as a printed board having a multilayer structure as shown. This printed circuit board having a multilayer structure is provided with a build-up material 25 and then a BVH (blind via hole) using a conventional manufacturing method, and a circuit wiring is formed on the surface layer.

(第2の実施の形態)
図5に示すように、始めに両面銅張積層板1を用意する。両面銅張積層板1としては、絶縁性の樹脂にガラスクロス2を含浸させてなる絶縁材料10を使用し、当該絶縁材料10の表裏の面に銅箔4a及び銅箔4bを配置し、積層プレスなどにより圧着した材料を使用する。
(Second Embodiment)
As shown in FIG. 5, the double-sided copper-clad laminate 1 is prepared first. As the double-sided copper-clad laminate 1, an insulating material 10 in which an insulating resin is impregnated with a glass cloth 2 is used, and copper foil 4 a and copper foil 4 b are arranged on the front and back surfaces of the insulating material 10 and laminated. Use a material that has been pressed with a press.

また、両面銅張積層板1は、図5(a)に示されるように、表面側内部において、ガラスクロス2と銅箔4aとの層間部に、樹脂3aのみからなり、ガラスクロス2を含まない樹脂専有部分を有し、裏面側内部においても同様に、ガラスクロス2と銅箔4bとの層間部に樹脂3bのみからなる樹脂専有部分を有する。このガラスクロス2、樹脂3a及び樹脂3bの厚み比率は特に限定されないが、ガラスクロス2が60%、樹脂3a及び樹脂3bがそれぞれ20%の材料を使用することが好適である。   Further, as shown in FIG. 5A, the double-sided copper-clad laminate 1 includes only the resin 3a and includes the glass cloth 2 in the interlayer portion between the glass cloth 2 and the copper foil 4a inside the surface side. Similarly, the inside of the back surface side also has a resin-exclusive portion consisting only of the resin 3b in the interlayer portion between the glass cloth 2 and the copper foil 4b. The thickness ratio of the glass cloth 2, the resin 3a, and the resin 3b is not particularly limited, but it is preferable to use a material in which the glass cloth 2 is 60% and the resin 3a and the resin 3b are 20%.

このような両面銅張積層板1を使用して、両面銅張積層板1の表面より、図5(b)に示されるように、第1の接続ビア11a,11bを設ける。因に、図5(b)に示される構造体においては、2つの第1の接続ビアが設けられている。   Using such a double-sided copper-clad laminate 1, first connection vias 11a and 11b are provided from the surface of the double-sided copper-clad laminate 1 as shown in FIG. Incidentally, in the structure shown in FIG. 5B, two first connection vias are provided.

前記第1の接続ビア11a,11bの製造方法は、銅箔4aの所望の箇所に回路形成で銅箔をエッチングし、開口させることでウインドウ部を形成した後に、レーザ照射にて樹脂3aを燃焼させ、その第1の接続ビア11a,11bの底部がガラスクロス2に接するように形成する。すなわち、第1の接続ビア11a,11bを形成する際にレーザ穴あけ加工の条件を調節し、図5(b)に示されるように、ガラスクロス2の上部に設けられている樹脂3aのみをレーザにて燃焼させ、ガラスクロス2を燃焼させないレーザ穴あけ加工の条件を使用して第1の接続ビア11a,11bを形成する。   The first connection vias 11a and 11b are manufactured by burning the resin 3a by laser irradiation after forming a window portion by etching and opening the copper foil in a desired portion of the copper foil 4a. The bottoms of the first connection vias 11a and 11b are formed so as to be in contact with the glass cloth 2. That is, the laser drilling conditions are adjusted when forming the first connection vias 11a and 11b, and only the resin 3a provided on the upper portion of the glass cloth 2 is laser-treated as shown in FIG. The first connection vias 11a and 11b are formed using laser drilling conditions that do not cause the glass cloth 2 to burn.

ここで、図5(b)に示される構造体においてはガラスクロス2を使用し、当該ガラスクロス2の上に第1の接続ビア11a,11bを設けることとしているが、目的とするところは第1の接続ビア11a,11bの底部が当該箇所に設けられれば良いため、ガラスクロス2以外の材料も使用できる。例えば、補強材として各種無機フィラーを高充填させた材料であっても良い。   Here, in the structure shown in FIG. 5 (b), the glass cloth 2 is used, and the first connection vias 11a and 11b are provided on the glass cloth 2. Since it is only necessary that the bottom of each connection via 11a, 11b is provided at that location, materials other than the glass cloth 2 can be used. For example, a material that is highly filled with various inorganic fillers as a reinforcing material may be used.

上記第1の接続ビア11a,11bを形成する際のレーザ穴あけ加工の条件の一例としては、レーザ加工装置に三菱電機社製のレーザ加工機(ML−605GTX)を使用し、パルス幅8μs、ショット数1〜5ショット、マスク径φ0.7mm、コリメーション152mmとするレーザ条件の使用が挙げられる。このような製造方法にて、図5(b)に示されるような第1の接続ビア11a,11bを形成する。   As an example of the conditions for laser drilling when forming the first connection vias 11a and 11b, a laser processing machine (ML-605GTX) manufactured by Mitsubishi Electric Corporation is used for the laser processing apparatus, the pulse width is 8 μs, and the shot is made. Use of laser conditions of several 1 to 5 shots, a mask diameter of φ0.7 mm, and a collimation of 152 mm can be mentioned. With such a manufacturing method, first connection vias 11a and 11b as shown in FIG. 5B are formed.

次いで、第1の接続ビア11a,11bを形成した図5(b)に示される構造体を使用して、その全面に銅めっき31を行なう。始めに、銅めっきの前処理として、第1の層間接続ビア11a,11b内をデスミアなどに代表される薬液処理を行ない、バリやスミアを除去することで銅めっきの付着性を向上させる。   Next, copper plating 31 is performed on the entire surface using the structure shown in FIG. 5B in which the first connection vias 11a and 11b are formed. First, as a pretreatment for copper plating, the first interlayer connection vias 11a and 11b are treated with a chemical solution typified by desmear to improve the adhesion of copper plating by removing burrs and smears.

ここでの銅めっきとしては、有底構造を充填することができる、いわゆるフィルドビア機能を有する銅めっきを使用する。このフィルドビア機能を有する銅めっき31にて、前記第1の接続ビア11a,11b内を充填し、図5(c)に示される構造体を得る。この際に、プリント配線板の裏面部へ銅めっきが付着しても良い。また、銅めっき厚みが厚くなった場合は、エッチング処理やバフ研磨などにより導体厚さを薄くしても良い。   As the copper plating here, copper plating having a so-called filled via function capable of filling the bottomed structure is used. The copper plating 31 having the filled via function fills the first connection vias 11a and 11b to obtain the structure shown in FIG. At this time, copper plating may adhere to the back surface of the printed wiring board. In addition, when the copper plating thickness is increased, the conductor thickness may be reduced by etching or buffing.

次いで、第1の接続ビア11a,11b及び銅めっき31を形成した図5(c)に示される構造体を使用して、両面銅張積層板1の裏面側に設けられた銅箔4bの所望の箇所に回路形成で銅箔をエッチングし、開口させることでウインドウ部を形成した後に、レーザ照射にて樹脂3b及びガラスクロス2を燃焼させ、図6(a)に示される構造体のように、第1の接続ビア11a,11bに接する2つの第2の接続ビア12a,12bを形成する。(図6、図7においては図面上でガラスクロス2を省略している。)   Next, the desired copper foil 4b provided on the back side of the double-sided copper-clad laminate 1 using the structure shown in FIG. 5C in which the first connection vias 11a and 11b and the copper plating 31 are formed. After forming the window portion by etching the copper foil by circuit formation at the location of, and then forming the window portion, the resin 3b and the glass cloth 2 are burned by laser irradiation, as in the structure shown in FIG. Then, two second connection vias 12a and 12b in contact with the first connection vias 11a and 11b are formed. (In FIGS. 6 and 7, the glass cloth 2 is omitted from the drawing.)

前記第2の接続ビア12a,12bを形成する際においても、新たにレーザ穴あけ加工の条件を調節し、樹脂3b及びガラスクロス2(ガラスクロスの周辺の樹脂部を含む)を燃焼させるレーザ穴あけ加工の条件を使用して第2の接続ビア12a,12bを形成する。   Also in forming the second connection vias 12a and 12b, laser drilling is performed by newly adjusting the laser drilling conditions and burning the resin 3b and the glass cloth 2 (including the resin portion around the glass cloth). The second connection vias 12a and 12b are formed using the above conditions.

ここで、上記第2の接続ビア12a,12bを形成する際のレーザ穴あけ加工の条件の一例としては、レーザ加工装置に三菱電機社製のレーザ加工機(ML−605GTX)を使用し、パルス幅5μs、ショット数1〜5ショット、マスク径φ0.7mm、コリメーション142mmとするレーザ条件の使用が挙げられる。このような製造方法にて、図6(a)に示されるような第2の接続ビア12a,12bを形成する。   Here, as an example of the conditions for laser drilling when forming the second connection vias 12a and 12b, a laser processing machine (ML-605GTX) manufactured by Mitsubishi Electric Corporation is used for the laser processing apparatus, and the pulse width Use of laser conditions of 5 μs, 1 to 5 shots, mask diameter φ0.7 mm, and collimation 142 mm can be mentioned. With such a manufacturing method, second connection vias 12a and 12b as shown in FIG. 6A are formed.

ここで、第2の接続ビア12a,12bの形成においては、第1の接続ビア11a,11bに接するように行なうことが必要であるが、このビア同士の接続は、容易に行なうことができる。   Here, in forming the second connection vias 12a and 12b, it is necessary to make contact with the first connection vias 11a and 11b, but the connection between the vias can be easily performed.

これは、第2の接続ビア12a,12bを設ける際に、第1の接続ビア11a,11bの底部が第2の接続ビア12a,12bよりも大きいという点を利用する。より詳しくは、図6(a)左側において、第2の接続ビア12aを第1の接続ビア11aに接続する際に、設計上で第1の接続ビア11aの底部の向かって左側に第2の接続ビア12aの底部を配置する。加えて、設計上で第1の接続ビア11bの底部の向かって右側に第2の接続ビア12bの底部を配置する。   This utilizes the point that when the second connection vias 12a and 12b are provided, the bottoms of the first connection vias 11a and 11b are larger than the second connection vias 12a and 12b. More specifically, when the second connection via 12a is connected to the first connection via 11a on the left side of FIG. 6A, the second connection via on the left side toward the bottom of the first connection via 11a is designed. The bottom of the connection via 12a is disposed. In addition, the bottom of the second connection via 12b is arranged on the right side of the bottom of the first connection via 11b in design.

このような配置を行なうことで、第1の接続ビア11aと第1の接続ビア11bとのピッチ幅よりも、第2の接続ビア12aと第2の接続ビア12bとのピッチ幅を広く設けることができる。一例としては、第1の接続ビア11aと第1の接続ビア11bとのピッチ幅を0.3mm(=300μm)として、第2の接続ビア12aと第2の接続ビア12bとのピッチ幅を0.4mm(=400μm)とすることが可能となる。   By performing such an arrangement, the pitch width between the second connection via 12a and the second connection via 12b is wider than the pitch width between the first connection via 11a and the first connection via 11b. Can do. As an example, the pitch width between the first connection via 11a and the first connection via 11b is 0.3 mm (= 300 μm), and the pitch width between the second connection via 12a and the second connection via 12b is 0. 4 mm (= 400 μm).

これにより、第1の接続ビア11aと第1の接続ビア11bとのピッチ幅を狭く設計した場合でも、そのビアに接続された裏面側の、第2の接続ビア12aと第2の接続ビア12bとのピッチ幅を広く設けることが可能となり、第2の接続ビア12aと第2の接続ビア12bとの間に導体配線を設けることができる。これは、ビアのピッチ幅を狭ピッチな状態で保持したまま、回路配線を高密度化することができるため、狭ピッチで高密度なプリント配線板として大変有効である。   Thereby, even when the pitch width between the first connection via 11a and the first connection via 11b is designed to be narrow, the second connection via 12a and the second connection via 12b on the back surface side connected to the via. Can be provided with a wide pitch width, and a conductor wiring can be provided between the second connection via 12a and the second connection via 12b. This is very effective as a printed wiring board having a narrow pitch and a high density because the circuit wiring can be densified while the pitch width of the vias is maintained in a narrow pitch state.

次いで、図6(a)に示されるプリント配線板の構造体の全面に銅めっき33を付着させ、図6(b)に示される構造体を得る。ここでも銅めっき33を良好に付着させるために、第1の接続ビア11a,11b及び第2の接続ビア12a,12bの内部をデスミアなどに代表される薬液処理を行ない、バリやスミアを除去することで銅めっきの付着性を向上させる。   Next, copper plating 33 is attached to the entire surface of the printed wiring board structure shown in FIG. 6A to obtain the structure shown in FIG. 6B. Again, in order to adhere the copper plating 33 satisfactorily, the insides of the first connection vias 11a and 11b and the second connection vias 12a and 12b are treated with a chemical solution represented by desmear to remove burrs and smears. This improves the adhesion of copper plating.

次いで、銅めっきとしては、有底構造を充填することができる、いわゆるフィルドビア機能を有する銅めっきを使用する。このフィルドビア機能を有する銅めっき33にて、前記第2の接続ビア12a,12b内を埋設し、図6(b)に示される構造体を得る。この際に、プリント配線板の裏面部へ銅めっきが付着しても良い。   Next, as the copper plating, a copper plating having a so-called filled via function that can fill the bottomed structure is used. With the copper plating 33 having the filled via function, the second connection vias 12a and 12b are embedded to obtain the structure shown in FIG. 6B. At this time, copper plating may adhere to the back surface of the printed wiring board.

また、この銅めっき33にて、プリント配線板の表面の導体厚みが増す場合は、エッチングや物理研磨などの処理を行ない、表面の導体厚みを薄くして図6(c)に示される構造体を得る。   Further, when the conductor thickness on the surface of the printed wiring board is increased by the copper plating 33, the structure shown in FIG. 6C is formed by performing a process such as etching or physical polishing to reduce the surface conductor thickness. Get.

次いで、図6(c)に示されるプリント配線板の構造体の回路形成を行なう。回路形成方法としては、図6(c)に示されるプリント配線板の構造体の表裏銅を粗化処理した後に、ドライフィルムエッチングレジストをラミネートする。次いで、回路配線形成用のマスクを張合せ、表裏の面に露光を行ない、ドライフィルムエッチングレジスト用の現像液を使用して現像を行ない、塩化第二鉄液などを用いてエッチングを行なう。次いで、ドライフィルムエッチングレジストの剥離を行ない、図7(a)に示されるプリント配線板の構造体を得る。   Next, a circuit of the printed wiring board structure shown in FIG. 6C is formed. As a circuit formation method, after roughening the front and back copper of the printed wiring board structure shown in FIG. 6C, a dry film etching resist is laminated. Next, a circuit wiring formation mask is attached, the front and back surfaces are exposed, development is performed using a developer for a dry film etching resist, and etching is performed using a ferric chloride solution or the like. Next, the dry film etching resist is peeled off to obtain the printed wiring board structure shown in FIG.

図7(a)に示されるプリント配線板の構造は、第1の接続ビア11a,11bの箇所を回路形成して得られる導体パッド21a,21bとその裏面に第2の接続ビア12a,12bの箇所を回路形成して得られる導体パッド22a,22bを有している。   The structure of the printed wiring board shown in FIG. 7A has conductor pads 21a and 21b obtained by forming a circuit at the first connection vias 11a and 11b, and second connection vias 12a and 12b on the back surface thereof. It has conductor pads 22a and 22b obtained by forming circuits at the locations.

その構造の特徴的な箇所としては、プリント配線板の表面の第1の接続ビア11a,11bを含む導体パッド21a,21bと、その裏面の第2の接続ビア12a,12bを含む導体パッド22a,22bがプリント配線板の表裏の導体を接続してなる層間接続ビア構造であって、かつ、導体パッド21a,21bと導体パッド22a,22bのパッド径が異なり、例えば導体パッド21a,21bよりも導体パッド22a,22bを小さくすることが可能となる。   Characteristic portions of the structure include conductor pads 21a and 21b including first connection vias 11a and 11b on the surface of the printed wiring board, and conductor pads 22a including second connection vias 12a and 12b on the back surface thereof. 22b is an interlayer connection via structure formed by connecting the front and back conductors of the printed wiring board, and the pad diameters of the conductor pads 21a and 21b and the conductor pads 22a and 22b are different. For example, the conductor pads 21a and 21b are more conductive than the conductor pads 21a and 21b. The pads 22a and 22b can be made smaller.

また、この導体パッド21a,21bと導体パッド22a,22bのパッド径が異なることから、表面の同一平面上で隣接する第1の接続ビア11a,11bを含む導体パッド21a,21bの配列ピッチの幅が、裏面の同一平面状で隣接する第2の接続ビアを含む導体パッド22a,22bの配列ピッチの幅とは異なる幅を有する。   Further, since the pad diameters of the conductor pads 21a and 21b and the conductor pads 22a and 22b are different, the width of the arrangement pitch of the conductor pads 21a and 21b including the first connection vias 11a and 11b adjacent on the same plane of the surface. However, it has a width different from the width of the arrangement pitch of the conductor pads 22a and 22b including the second connection via adjacent in the same plane on the back surface.

これにより、図7(a)に示されるプリント配線板の構造においては、表面の同一平面上で隣接する第1の接続ビア11a,11bを含む導体パッド21aと導体パッド21bの間隙部D1に対して、裏面の同一平面上で隣接する第2の接続ビアを含む導体パッド22aと導体パッド22bの間隙部D2を広げることができ、当該間隙部D2箇所において、導体配線20を設けることができる。   Thereby, in the structure of the printed wiring board shown in FIG. 7A, with respect to the gap D1 between the conductor pad 21a and the conductor pad 21b including the first connection vias 11a and 11b adjacent on the same plane of the surface. Thus, the gap portion D2 between the conductor pad 22a and the conductor pad 22b including the second connection via adjacent on the same plane on the back surface can be widened, and the conductor wiring 20 can be provided at the gap portion D2.

すなわち、この図7(a)に示されるプリント配線板は、狭ピッチの導体パッドの配列ピッチ幅を保持し、導体配線20が設けられることにより、回路配線の高密度な設計が可能となる。   That is, the printed wiring board shown in FIG. 7A retains the arrangement pitch width of the narrow-pitch conductor pads and is provided with the conductor wiring 20, thereby enabling high-density circuit wiring design.

ここで、設計寸法における一例を示して説明する。導体パッド21a及び導体パッド21bのパッド径はφ250μmであって、導体パッド21aと導体パッド21bのピッチ幅(パッドの中心間距離)が300μmであった場合、間隙部D1は50μmである。この50μmの間隙部D1においては、狭すぎるために導体配線を形成することができない。   Here, an example in the design dimension will be shown and described. When the pad diameters of the conductor pads 21a and 21b are φ250 μm and the pitch width (distance between the centers of the pads) between the conductor pads 21a and 21b is 300 μm, the gap D1 is 50 μm. In the 50 μm gap D1, the conductor wiring cannot be formed because it is too narrow.

一方、裏面側の導体パッド21a及び導体パッド21bは、パッド径を導体パッド21よりも小さくできるため、例えばφ100μmとすることができる。これにより、導体パッド22aと導体パッド22bの間隙部D1は200μmとすることが可能となる。この200μmの間隙部D2においては、例えば、ライン/スペース=50μm/50μmの導体配線20を設けることが可能となる。   On the other hand, the conductor pad 21a and the conductor pad 21b on the back surface side can have a diameter smaller than that of the conductor pad 21, and can be, for example, φ100 μm. As a result, the gap D1 between the conductor pad 22a and the conductor pad 22b can be set to 200 μm. In the gap portion D2 of 200 μm, for example, the conductor wiring 20 of line / space = 50 μm / 50 μm can be provided.

この図7(a)に示されるプリント配線板は、導体パッド21a,21bに電極パッドのピッチ幅が0.3mm(=300μm)ピッチ幅であるCSPが容易に実装できるものであり、加えて、導体パッド21a,21bは裏面の導体パッド22a,22bに接続され、導体パッド22a,22bの間隙部D2に設けられた導体配線20を利用することで、回路配線部を高密度に形成することができる。さらに、この図7(a)に示されるプリント配線板は、骨格が両面銅張積層板からなるために、薄型化の特性を有するプリント配線板として利用できる。   In the printed wiring board shown in FIG. 7A, a CSP having a pitch width of electrode pads of 0.3 mm (= 300 μm) can be easily mounted on the conductor pads 21a and 21b. The conductor pads 21a and 21b are connected to the conductor pads 22a and 22b on the back surface, and by using the conductor wiring 20 provided in the gap portion D2 between the conductor pads 22a and 22b, the circuit wiring portion can be formed with high density. it can. Further, the printed wiring board shown in FIG. 7A can be used as a printed wiring board having a thinning characteristic because the skeleton is made of a double-sided copper-clad laminate.

また、製品としてのプリント配線板としては、図7(a)に示されるプリント配線板の構造体に、所望の形状のソルダーレジスト23を設けることにより得られ、図7(b)に示されるプリント配線板の構造体となる。   Moreover, as a printed wiring board as a product, it is obtained by providing a solder resist 23 having a desired shape on the structure of the printed wiring board shown in FIG. 7A, and the printed wiring board shown in FIG. It becomes a structure of a wiring board.

さらに、上記図7(a)に示されるプリント配線板をコア部材とし、当該プリント配線板の表裏の面にビルドアップ材を積層プレスなどによる熱圧着にて貼り付け、多層構造のプリント板として使用しても良い。この多層構造のプリント板はビルドアップ材を設けた後に、従来の製造方法を使用して、BVH(ブラインドビアホール)を設け、表層には回路配線を形成して使用する。   Furthermore, the printed wiring board shown in FIG. 7A is used as a core member, and a build-up material is attached to the front and back surfaces of the printed wiring board by thermocompression using a lamination press or the like, and used as a printed board having a multilayer structure. You may do it. This multilayer printed board is provided with a build-up material and then a BVH (blind via hole) using a conventional manufacturing method and a circuit wiring is formed on the surface layer.

本発明プリント配線板の第1の製造方法を示す概略断面工程説明図。BRIEF DESCRIPTION OF THE DRAWINGS FIG. 図1に引き続く概略断面工程説明図。FIG. 2 is a schematic cross-sectional process explanatory diagram subsequent to FIG. 1. 図2に引き続く概略断面工程説明図。FIG. 3 is a schematic cross-sectional process explanatory diagram subsequent to FIG. 2. 本発明プリント配線板の概略断面説明図。The schematic cross-section explanatory drawing of this invention printed wiring board. 本発明プリント配線板の第2の製造方法を示す概略断面工程説明図。The schematic cross-sectional process explanatory drawing which shows the 2nd manufacturing method of this invention printed wiring board. 図5に引き続く概略断面工程説明図。FIG. 6 is a schematic cross-sectional process explanatory diagram subsequent to FIG. 5. 図6に引き続く概略断面工程説明図。FIG. 7 is a schematic cross-sectional process explanatory diagram subsequent to FIG. 6. 従来プリント配線板の第1の例を示す概略断面説明図。The schematic cross-section explanatory drawing which shows the 1st example of the conventional printed wiring board. 従来プリント配線板の第2の例を示す概略断面説明図。The schematic cross-section explanatory drawing which shows the 2nd example of the conventional printed wiring board. 従来プリント配線板の第3の例を示す概略断面説明図。The schematic cross-section explanatory drawing which shows the 3rd example of the conventional printed wiring board. 従来プリント配線板の第4の例を示す概略断面説明図。Schematic cross-sectional explanatory drawing which shows the 4th example of the conventional printed wiring board.

符号の説明Explanation of symbols

1:両面銅張積層板
2:ガラスクロス
3,3a,3b:樹脂
4,4a,4b:銅箔
10:絶縁樹脂
11a,11b:第1の接続ビア
12a,12b:第2の接続ビア
13:銅めっき
15:封止樹脂
18:銅めっき
20:導体配線
21a,21b:導体パッド
22a,22b:導体パッド
23:ソルダーレジスト
25:ビルドアップ材
31:銅めっき
33:銅めっき
D1:隣接する導体パッド21a,21bの間隙部
D2:隣接する導体パッド22a,22bの間隙部
1: Double-sided copper-clad laminate 2: Glass cloth 3, 3a, 3b: Resin 4, 4a, 4b: Copper foil 10: Insulating resin 11a, 11b: First connection via 12a, 12b: Second connection via 13: Copper plating 15: Sealing resin 18: Copper plating 20: Conductor wiring 21a, 21b: Conductor pad 22a, 22b: Conductor pad 23: Solder resist 25: Build-up material 31: Copper plating 33: Copper plating D1: Adjacent conductor pad Gap D2 between 21a and 21b: Gap between adjacent conductor pads 22a and 22b

Claims (15)

プリント配線板の一方の面から設けられた第1の接続ビアと、他方の面から設けられた第2の接続ビアとが、それぞれの底部にて接続している層間接続ビアにより表裏の導体が接続されているプリント配線板において、当該一方の面部に第1の接続ビアを含む導体パッドが複数配置されていると共に、他方の面部に第2の接続ビアを含む導体パッドが複数配置され、かつ当該一方の面部に配置された隣接する第1の接続ビアを含む導体パッド間のピッチ幅と、当該他方の面部に配置された隣接する第2の接続ビアを含む導体パッド間の少なくとも一つのピッチ幅とが異なることを特徴とするプリント配線板。   The first and second connection vias provided from one surface of the printed wiring board and the second connection via provided from the other surface are connected to each other by the interlayer connection vias connected at the bottom. In the connected printed wiring board, a plurality of conductor pads including the first connection via are disposed on the one surface portion, and a plurality of conductor pads including the second connection via are disposed on the other surface portion, and A pitch width between conductor pads including adjacent first connection vias disposed on the one surface portion, and at least one pitch between conductor pads including adjacent second connection vias disposed on the other surface portion A printed wiring board characterized by having a different width. 前記第1の接続ビアの底部が、前記第2の接続ビアの底部よりも大きな面積を備え、かつ当該第2の接続ビアの底部が、当該第1の接続ビアの底部内の任意の箇所に接続されていることを特徴とする請求項1に記載のプリント配線板。   The bottom portion of the first connection via has a larger area than the bottom portion of the second connection via, and the bottom portion of the second connection via is located at an arbitrary position within the bottom portion of the first connection via. The printed wiring board according to claim 1, wherein the printed wiring board is connected. 前記隣接する第1の接続ビアを含む導体パッド間のピッチ幅が0.3mm以下であり、かつ当該ピッチ幅は、前記隣接する第2の接続ビアを含む導体パッド間の少なくとも一つのピッチ幅よりも狭いことを特徴とする請求項1又は2に記載のプリント配線板。   A pitch width between conductor pads including the adjacent first connection via is 0.3 mm or less, and the pitch width is greater than at least one pitch width between conductor pads including the adjacent second connection via. The printed wiring board according to claim 1, wherein the printed wiring board is narrow. 前記隣接する第2の接続ビアを含む導体パッド間の少なくとも一つの間隙部が、前記隣接する第1の接続ビアを含む導体パッド間の間隙部よりも広いことを特徴とする請求項1〜3の何れか1項に記載のプリント配線板。   The at least one gap between conductor pads including the adjacent second connection via is wider than the gap between conductor pads including the adjacent first connection via. The printed wiring board according to any one of the above. 前記隣接する第2の接続ビアを含む導体パッド間の少なくとも一つの間隙部に、導体配線が設けられていることを特徴とする請求項1〜4の何れか1項に記載のプリント配線板。   5. The printed wiring board according to claim 1, wherein a conductor wiring is provided in at least one gap between conductor pads including the adjacent second connection vias. 6. 前記導体配線が、ライン/スペース=50μm/50μm以下の導体配線であることを特徴とする請求項5に記載のプリント配線板。   The printed wiring board according to claim 5, wherein the conductor wiring is a conductor wiring of line / space = 50 μm / 50 μm or less. 請求項1〜6の何れか1項に記載のプリント配線板をコア部材として備えていることを特徴とする多層プリント配線板。   A multilayer printed wiring board comprising the printed wiring board according to claim 1 as a core member. 内部に補強材が設けられた両面銅張積層板の一方の面から第1の接続ビアを設ける工程と、他方の面から第2の接続ビアを設ける工程と、当該第1及び第2の接続ビアをそれぞれの底部にて接続して表裏の導体を接続する層間接続ビアを形成する工程とを備えたプリント配線板の製造方法において、前記第1の接続ビアを両面銅張積層板の一方の面から内部に設けられた補強材までの層間部に設け、かつ前記第2の接続ビアを前記両面銅張積層板の他方の面から内部に設けられた補強材を貫通して、前記第1の接続ビアの底部に達するまでの層間部に設けることを特徴とするプリント配線板の製造方法。   A step of providing a first connection via from one side of a double-sided copper clad laminate provided with a reinforcing material therein, a step of providing a second connection via from the other side, and the first and second connections And a step of forming an interlayer connection via for connecting the front and back conductors by connecting vias at their bottoms, wherein the first connection via is one of the double-sided copper-clad laminates. The first connecting via is provided in an interlayer portion from the surface to the reinforcing material provided inside, and the second connection via passes through the reinforcing material provided inside from the other surface of the double-sided copper-clad laminate, A method of manufacturing a printed wiring board, characterized in that the printed wiring board is provided in an interlayer portion up to the bottom of the connection via. 前記第1の接続ビア及び第2の接続ビアを設ける前に、当該ビアの形成位置における表面の銅箔をエッチング除去する工程を備えていることを特徴とした請求項8に記載のプリント配線板の製造方法。   9. The printed wiring board according to claim 8, further comprising a step of etching and removing a copper foil on a surface at a position where the via is formed before providing the first connection via and the second connection via. Manufacturing method. 前記第1の接続ビア及び第2の接続ビアを設ける加工を、レーザ加工により行なうことを特徴とする請求項8又は9に記載のプリント配線板の製造方法。   The method for manufacturing a printed wiring board according to claim 8 or 9, wherein the process of providing the first connection via and the second connection via is performed by laser processing. 前記両面銅張積層板の内部に設けられた補強材が、ガラスクロスであることを特徴とする請求項8〜10の何れか1項に記載のプリント配線板の製造方法。   The method for manufacturing a printed wiring board according to any one of claims 8 to 10, wherein the reinforcing material provided inside the double-sided copper-clad laminate is a glass cloth. 前記第1の接続ビアの底部を、前記第2の接続ビアの底部より大きな面積で設けることを特徴とする請求項8〜11の何れか1項に記載のプリント配線板の製造方法。   12. The method of manufacturing a printed wiring board according to claim 8, wherein the bottom portion of the first connection via is provided in a larger area than the bottom portion of the second connection via. 更に、前記一方の面部に第1の接続ビアを含む導体パッドを複数形成する工程と、前記他方の面部に第2の接続ビアを含む導体パッドを複数形成する工程とを備えていることを特徴とする請求項8〜12の何れか1項に記載のプリント配線板の製造方法。   And a step of forming a plurality of conductor pads including a first connection via on the one surface portion, and a step of forming a plurality of conductor pads including a second connection via on the other surface portion. The manufacturing method of the printed wiring board of any one of Claims 8-12. 前記隣接する第2の接続ビアを含む導体パッド間の間隙部の少なくとも一つを、前記隣接する第1の接続ビアを含む導体パッド間の間隙部よりも広く形成することを特徴とする請求項13に記載のプリント配線板の製造方法。   The at least one gap between the conductor pads including the adjacent second connection via is formed wider than the gap between the conductor pads including the adjacent first connection via. A method for producing a printed wiring board according to 13. 更に、前記隣接する第2の接続ビアを含む導体パッド間の少なくとも一つの間隙部に導体配線を設ける工程を備えていることを特徴とする請求項13又は14に記載のプリント配線板の製造方法。   The method of manufacturing a printed wiring board according to claim 13 or 14, further comprising a step of providing a conductor wiring in at least one gap between the conductor pads including the adjacent second connection vias. .
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