JP2008065197A - 液晶表示装置およびその製造方法 - Google Patents

Abstract

【課題】カラーフィルタ基板側に位相差膜を内蔵した液晶表示装置において、位相差膜の損傷などを防止し、信頼性を向上させる。
【解決手段】一対の基板と、前記一対の基板間に挟持される液晶とを有する液晶表示パネルを備え、前記液晶表示パネルは、複数のサブピクセルを有し、前記複数のサブピクセルの各サブピクセルは、透過部と反射部とを有し、前記一対の基板の中の一方の基板は、前記各サブピクセルの前記反射部に対応する部分に形成された拡散反射層と、前記拡散反射層上に形成された配向膜と、前記配向膜上で前記拡散反射層が形成された領域に形成された位相差膜と、前記位相差膜上に形成されたカラーフィルタと、前記カラーフィルタ上に形成された平坦化膜を有する。
【選択図】図１−１

Description

本発明は、液晶表示装置に係り、特に、カラーフィルタ基板側に位相差膜を内蔵した半透過型液晶表示装置に関する。

１サブピクセル内に、透過部と反射部を有する半透過型液晶表示装置が携帯機器用のディスプレイとして使用されている。
図１８、図１９は、従来のＩＰＳ方式の半透過型液晶表示装置の１サブピクセルの概略構成を示す要部断面図である。
これらの図において、ＳＵＢ１は、アクティブ素子を構成する薄膜トランジスタ、画素電極、対向電極（いずれも図示せず）等が形成されるガラス基板（ＴＦＴ基板ともいう）、ＳＵＢ２は、カラーフィルタ、ブラックマトリクス等が形成されるガラス基板（カラーフィルタ基板ともいう）、ＭＲはギャップ調整層、ＲＡＬは、表面に凹凸が形成された拡散反射層、ＳＰＡは柱状スペーサ、ＰＯＬ１，ＰＯＬ２は偏光板、ＲＥＴ１，ＲＥＴ２は位相差板である。
また、３０は透過部、３１は反射部であり、ギャップ調整層（ＭＲ）により、反射部３１のセルギャップ長は、透過部３０のセルギャップ長の約半分に設定してある。これは、反射部３１は往復２回光が通過するため、透過部３０と反射部３１とで光路長をおおよそ一致させるためである。

図１８に示す半透過型液晶表示装置ではギャップ調整層（ＭＲ）がガラス基板（ＳＵＢ２）側に形成され、図１９に示す半透過型液晶表示装置ではギャップ調整層（ＭＲ）がガラス基板（ＳＵＢ１）側に形成される点で異なっている。なお、図１８、図１９に示す半透過型液晶表示装置では、ガラス基板（ＳＵＢ２）の主表面側が観察側となっている。
従来のＩＰＳ方式の半透過型液晶表示装置では、図１８、図１９に示すように、位相差板（ＲＥＴ１，ＲＥＴ２）を内蔵する位相差板内蔵型偏光板（ＰＯＬ１，ＰＯＬ２）を使用しているため、透過部３０を透過する光にも位相差板（ＲＥＴ１，ＲＥＴ２）が影響し、光学特性に悪影響を及ぼし、透過部３０と反射部３１の光学特性の両立が困難であるという問題がある。
前述の問題点を解消するために、ガラス基板（ＳＵＢ２）側の反射部３１にのみ内蔵位相差板を内蔵したＩＰＳ方式の半透過型液晶表示装置が知られている。（下記特許文献１参照）

なお、本願発明に関連する先行技術文献としては以下のものがある。
特開２００５-３３８２５６号公報

従来、ＩＰＳ方式の半透過型液晶表示装置では、位相差板内蔵型偏光板を用いていたため、透過部にも位相差板が存在し光学特性に悪影響を及ぼし、透過部３０と反射部３１の光学特性の両立が困難であるという問題があったが、前述の特許文献１に記載されている半透過型液晶表示装置では、ガラス基板（ＳＵＢ２）側に内蔵位相差板が内蔵されているため、透過部と反射部の光学特性の両立を図ることが可能である。
しかしながら、前述の特許文献１に記載の構成では、以降の製造プロセスにより、内蔵位相差板が損傷を受け、半透過型液晶表示装置の信頼性が損なわれることが想定される。
さらに、ガラス基板（ＳＵＢ１）側に拡散反射層を形成すると、凹凸の表面形状からセルギャップ長が不均一となり表示特性を低下させるという問題があった。
本発明は、前記従来技術の問題点を解決するためになされたものであり、本発明の目的は、カラーフィルタ基板側に位相差膜を内蔵した液晶表示装置において、位相差膜の損傷などを防止し、信頼性を向上させることが可能となる技術を提供することにある。
また、本発明の他の目的は、カラーフィルタ基板側に位相差膜を内蔵した液晶表示装置において、拡散反射層をカラーフィルタ基板側に形成することにより、表示特性の低下を防止することが可能となる技術を提供することにある。
本発明の前記ならびにその他の目的と新規な特徴は、本明細書の記述及び添付図面によって明らかにする。

本願において開示される発明のうち、代表的なものの概要を簡単に説明すれば、下記の通りである。
（１）一対の基板と、前記一対の基板間に挟持される液晶とを有する液晶表示パネルを備え、前記液晶表示パネルは、複数のサブピクセルを有し、前記複数のサブピクセルの各サブピクセルは、透過部と反射部とを有する液晶表示装置において、前記一対の基板の中の一方の基板は、前記各サブピクセルの前記反射部に対応する部分に形成された拡散反射層を有し、前記一対の基板の中の他方の基板は、画素電極を有し、前記他方の基板の前記液晶と反対側の面が表示面である。

（２）一対の基板と、前記一対の基板間に挟持される液晶とを有する液晶表示パネルを備え、前記液晶表示パネルは、複数のサブピクセルを有し、前記複数のサブピクセルの各サブピクセルは、透過部と反射部とを有する液晶表示装置において、前記一対の基板の中の一方の基板は、前記各サブピクセルの前記反射部に対応する部分に形成された拡散反射層と、前記拡散反射層上に形成された配向膜と、前記配向膜上で前記拡散反射層が形成された領域に形成された位相差膜と、前記位相差膜上に形成されたカラーフィルタと、前記カラーフィルタ上に形成された平坦化膜を有する。
（３）（２）において、前記配向膜は、前記拡散反射層が形成された領域にのみ形成される。
（４）（２）または（３）において、前記平坦化膜に形成されるギャップ調整層を有する。

（５）一対の基板と、前記一対の基板間に挟持される液晶とを有する液晶表示パネルを備え、前記液晶表示パネルは、複数のサブピクセルを有し、前記複数のサブピクセルの各サブピクセルは、透過部と反射部とを有する液晶表示装置において、前記一対の基板の中の一方の基板は、前記各サブピクセルの前記反射部に対応する部分に形成された拡散反射層と、前記拡散反射層上に形成されたカラーフィルタと、前記カラーフィルタ上に形成された配向膜と、前記配向膜上で前記拡散反射層が形成された領域に形成された位相差膜と、前記位相差膜上に形成された保護膜を有する。
（６）（５）において、前記カラーフィルタ上に形成された平坦化膜を有し、前記配向膜は、前記平坦化膜上に形成される。
（７）（５）または（６）において、前記配向膜は、前記拡散反射層が形成される部分にのみ形成される。

（８）（６）または（７）において、前記平坦化膜は、前記配向膜を兼用する。
（９）（５）ないし（８）の何れかにおいて、前記保護膜上に形成されるギャップ調整層を有する。
（１０）（４）または（９）において、前記ギャップ調整層上に形成される柱状スペーサを有する。
（１１）（１）ないし（１０）の何れかにおいて、前記位相差膜は、高分子液晶材料で構成される。
（１２）（２）ないし（１１）の何れかにおいて、前記一対の基板の中の他方の基板は、画素電極と対向電極とを有し、前記他方の基板の前記液晶と反対側の面が表示面である。
（１３）（１２）において、前記対向電極上には層間絶縁膜が形成され、前記画素電極は、前記層間絶縁膜上に形成される。

（１４）一対の基板と、前記一対の基板間に挟持される液晶とを有する液晶表示パネルを備え、前記液晶表示パネルは、複数のサブピクセルを有し、前記複数のサブピクセルの各サブピクセルは、透過部と反射部とを有し、前記一対の基板の中の一方の基板は、前記各サブピクセルの前記反射部に対応する部分に形成された拡散反射層と、前記拡散反射層上に形成された配向膜と、前記配向膜上で前記拡散反射層が形成された領域に形成された位相差膜とを有する液晶表示装置の製造方法において、パターンニングされた前記拡散反射層を形成する工程と、前記拡散反射層上に配向膜を形成する工程と、前記配向膜上にポジ型の位相差膜用レジストを形成し、前記拡散反射層側から光を照射し、光が照射された露光部を除去することにより、パターンニングされた位相差膜を形成する工程とを有する。

本願において開示される発明のうち代表的なものによって得られる効果を簡単に説明すれば、下記の通りである。
（１）本発明によれば、カラーフィルタ基板側に位相差膜を内蔵した液晶表示装置において、位相差膜の損傷などを防止し、信頼性を向上させることが可能となる。
（２）本発明によれば、カラーフィルタ基板側に位相差膜を内蔵した液晶表示装置において、拡散反射層をカラーフィルタ基板側に形成することにより、表示特性の低下を防止することが可能となる。

以下、図面を参照して本発明の実施例を詳細に説明する。
なお、実施例を説明するための全図において、同一機能を有するものは同一符号を付け、その繰り返しの説明は省略する。
図１−１は、本発明の実施例の半透過型液晶表示装置の１サブピクセルの断面構造を示す要部断面図である。図１−２は、本発明の実施例の半透過型液晶表示装置の電極構造を説明するための平面図である。
本実施例の半透過型液晶表示装置では、液晶層（ＬＣ）を挟んで、一対のガラス基板（ＳＵＢ１，ＳＵＢ２）が設けられる。本実施例の半透過型液晶表示装置では、ガラス基板（ＳＵＢ１）の主表面側が観察側となっている。
ガラス基板（ＳＵＢ１；ＴＦＴガラス基板ともいう。）の液晶層側には、ガラス基板（ＳＵＢ１）から液晶層（ＬＣ）に向かって順に、絶縁膜（ＰＡＳ４）、ゲート絶縁膜（ＧＩ）、走査線（ゲート線ともいう、図示せず。）（ＧＬ）、層間絶縁膜（ＰＡＳ３）、映像線（ソース線またはドレイン線ともいう、図示せず。）（ＤＬ）、層間絶縁膜（ＰＡＳ１）、対向電極（ＣＯＭ；共通電極ともいう）、層間絶縁膜（ＰＡＳ２）、画素電極（ＰＩＸ）、配向膜（ＡＬ１）が形成される。なお、ガラス基板（ＳＵＢ１）の外側には偏光板（ＰＯＬ１）が形成される。

ガラス基板（ＳＵＢ２；カラーフィルタ基板ともいう。）の液晶層側には、ガラス基板（ＳＵＢ２）から液晶層（ＬＣ）に向かって順に、拡散反射層（ＲＡＬ）、内蔵位相差膜用の配向膜（ＡＬ）、内蔵位相差膜（ＲＥＴ）、赤・緑・青のカラーフィルタ（ＦＩＲ）、平坦化膜（ＯＣ）、ギャップ調整層（ＭＲ）、配向膜（ＡＬ２）が形成される。なお、ガラス基板（ＳＵＢ２）の外側には偏光板（ＰＯＬ２）が形成される。
また、図１−２に示すように、対向電極（ＣＯＭ）は面状に形成され、さらに、画素電極（ＰＩＸ）と対向電極（ＣＯＭ）とが、層間絶縁膜（ＰＡＳ２）を介して重畳しており、画素電極（ＰＩＸ）および対向電極（ＣＯＭ）は、例えば、ＩＴＯ（Indium Tin Oxide）等の透明導電膜で構成される。これによって保持容量を形成している。尚、層間絶縁膜（ＰＡＳ２）は、１層に限定されず、２層以上であっても良い。
本実施例では、拡散反射層（ＲＡＬ）がガラス基板（ＳＵＢ２）側に形成される。この拡散反射層（ＲＡＬ）が形成される領域が反射部３１であり、反射部３１では、ガラス基板（ＳＵＢ１）側から入射した光が、拡散反射層（ＲＡＬ）により、入射した方向とは違う方向に拡散して反射される。
また、拡散反射層（ＲＡＬ）が形成されない領域が透過部３０であり、ガラス基板（ＳＵＢ２）の裏側に配置されるバックライトからの照射光が、透過部３０を通って、ガラス基板（ＳＵＢ１）の主表面側から出射される。

拡散反射層（ＲＡＬ）は、例えば、アルミニウム（Ａｌ）の金属膜、あるいは、下層のモリブデン（Ｍｏ）と、上層のアルミニウム（Ａｌ）の２層構造であってもよい。
本実施例の半透過型液晶表示装置でも、画素電極（ＰＩＸ）と平面状の対向電極（ＣＯＭ）とが、層間絶縁膜（ＰＡＳ２）を介して積層されており、画素電極（ＰＩＸ）と対向電極（ＣＯＭ）との間に形成されるアーチ状の電気力線が液晶層（ＬＣ）を貫くように分布することにより液晶層（ＬＣ）を配向変化させる。
本実施例では、ガラス基板（ＳＵＢ１）と、ガラス基板（ＳＵＢ２）とは、柱状スペーサ（ＳＰＡ）により所定のギャップ長に設定されているが、反射部３１のセルギャップ長は、ギャップ調整層（ＭＲ）により、透過部３０のセルギャップ長の約半分に設定される。これは、反射部３１は往復２回光が通過するため、透過部３０と反射部３１とで光路長をおおよそ一致させるためである。
透過部３０では、液晶層（ＬＣ）の複屈折性を利用して光の明暗を表示するのに対して、反射部３１では、液晶表示パネルの内部に配置された内蔵位相差膜（ＲＥＴ）と液晶層（ＬＣ）の複屈折性を利用して光の明暗を表示する。

図２−１は、図１−１に示すガラス基板（ＳＵＢ２）側の構成のみを示す図である。図２−２は、図１−１に示すガラス基板（ＳＵＢ２）の製造方法を説明するための図である。
本実施例において、図１に示すガラス基板（ＳＵＢ２）は、例えば、以下の方法により形成される。
図２−２（ａ）に示すように、ガラス基板（ＳＵＢ２）上に拡散反射層（ＲＡＬ）を形成する。この拡散反射層（ＲＡＬ）は、例えば、公知のホトエッチング手法を用いて形成される。
次に、この拡散反射層（ＲＡＬ）上に、内蔵位相差膜用の配向膜（ＡＬ）を形成し、この配向膜（ＡＬ）に対して、ラビング法により配向処理を施す。ここで、配向膜（ＡＬ）は、内蔵位相差膜（ＲＥＴ）の遅相軸方向を定める機能を有する。
次に、配向膜（ＡＬ）上にポジ型の位相差膜用レジストを形成し、拡散反射層（ＲＡＬ）の下側から光（紫外光）を照射し、紫外光が照射された露光部を有機溶剤に溶出させて現像することにより、図２−２（ｂ）に示すように、拡散反射層（ＲＡＬ）と同じパターンにパターンニングされた内蔵位相差膜（ＲＥＴ）を形成する。

即ち、光反応性のアクリル基を分子末端に有する液晶と反応開始剤を含む有機溶媒を配向膜（ＡＬ）上に塗布し、加熱して有機溶媒を除く。この時点で、光反応性液晶は配向膜（ＡＬ）の配向処理方向を向いて配向している。次に、拡散反射層（ＲＡＬ）のパターンを利用し、拡散反射層（ＲＡＬ）により紫外光が照射されなかった部分を残すことにより、内蔵位相差膜（ＲＥＴ）を形成する。
続いて、カラーフィルタ（ＦＩＲ）、平坦化膜（ＯＣ）、ギャップ調整層（ＭＲ）、配向膜（ＡＬ２）が形成する。
なお、前述の有機溶剤としては、アセトン、シクロヘキサノン、シクロペンタノン、シクロヘプタノン、プロピレングリコールメチルエーテルアセテート及びメタノール、エタノール、プロパノール、ブタノール等の低級アルコールを単独、または組み合わせて使用することができる。特に、シクロヘキサノン、シクロペンタノン、プロピレングリコールメチルエーテルアセテートが好ましい。

以上説明したように、本実施例では、ガラス基板（ＳＵＢ２）側に拡散反射層（ＲＡＬ）を形成し、ガラス基板（ＳＵＢ１）側を表示面としたので、セルギャップヘの影響を排除することができ、ギャップ均一化が可能となり、光学特性を向上させることが可能となる。
また、拡散反射層（ＲＡＬ）のパターンを利用して、反射部３１にのみ選択的に内蔵位相差膜（ＲＥＴ）を形成することができるので、透過部３０の透過特性と、反射部３１の反射効率の両立を実現することが可能となる。
即ち、本実施例では、透過部３０と反射部３１の光学特性の両立が可能となり、さらに、位相差板（ＲＥＴ１，ＲＥＴ２）を偏光板（ＰＯＬ１，ＰＯＬ２）に内蔵する必要がなくなるため、製品の厚みを低減することが可能となる。
また、内蔵位相差膜（ＲＥＴ）と配向膜（ＡＬ）上に、カラーフィルタ（ＦＩＲ）と、平坦化膜（ＯＣ）が形成されるので、内蔵位相差膜（ＲＥＴ）の耐食とともに、例えば、柱状スペーサ（ＳＰＡ）を形成する際の露光のプロセス中でのＵＶ又はＤＵＶ照射による配向膜の着色、分解防止効果を、既存の膜を利用して得ることが可能である。
また、ポジ型の位相差膜用レジストと組み合わせて背面露光を行うことにより、拡散反射層（ＲＡＬ）のパターンを利用して、マスクレスで内蔵位相差膜（ＲＥＴ）を形成することができるので、少量多品種生産における低コスト化を図ることが可能である。
さらに、ガラス基板（ＳＵＢ１）側を表示面となし、ガラス基板（ＳＵＢ１）側の電極に反射防止処理を施すなどの手法で、電極パターンを遮光膜（ＢＭ）として利用することにより、遮光のための遮光膜（ＢＭ）を形成する必要がなくなるので、遮光膜（ＢＭ）レス化が可能である。

図３は、図２−１に示すガラス基板（ＳＵＢ２）側の変形例１の構成を示す図である。
図３に示す変形例１は、実施例の構造において、ギャップ調整層（ＭＲ）を省略したものである。製品構造上または材料選択、例えば、内蔵位相差膜（ＲＥＴ）のギャップ長に合わせた設計等により、反射部３１のギャップ長を調整する必要がない場合には、ギャップ調整層（ＭＲ）が不要となり、ギャップ調整層（ＭＲ）を省略することができ、図３に示す変形例１では、省プロセス化が図ることができる。
図４は、図２−１に示すガラス基板（ＳＵＢ２）側の変形例２の構成を示す図である。図４に示す変形例２は、実施例の構造において、配向膜（ＡＬ）を反射部３１のみに形成したものである。これにより、変形例２では、透過特性を向上させることが可能となる。
図５は、図２−１に示すガラス基板（ＳＵＢ２）側の変形例３の構成を示す図である。図５に示す変形例３は、反射部３１のギャップを調整する必要がない場合の簡略化構造であり、変形例２の構造において、ギャップ調整層（ＭＲ）を省略したものである。

図６は、図２−１に示すガラス基板（ＳＵＢ２）側の変形例４の構成を示す図である。図６に示す変形例４は、内蔵位相差膜（ＲＥＴ）を形成する前に、カラーフィルタ（ＦＩＲ）と、平坦化膜（ＯＣ）を形成する。次に、配向膜（ＡＬ）と、内蔵位相差膜（ＲＥＴ）とを形成した後、配向膜（ＡＬ）および内蔵位相差膜（ＲＥＴ）上に透明樹脂保護層（ＰＯＣ）を形成する。また、透明樹脂保護層（ＰＯＣ）上にギャップ調整層（ＭＲ）を形成し、さらに、ギャップ調整層（ＭＲ）上に柱状スペーサ（ＳＰＡ）を形成したものである。
変形例４では、内蔵位相差膜（ＲＥＴ）により、カラーフィルタ（ＦＩＲ）の形成に制約が生じる場合、実施例と同等の特性を確保する上で有効であるが、プロセスメリットは失われる。
図７は、図２−１に示すガラス基板（ＳＵＢ２）側の変形例５の構成を示す図である。図７に示す変形例５は、反射部３１のギャップを調整する必要がない場合の簡略化構造であり、変形例４の構造において、ギャップ調整層（ＭＲ）を省略したものである。

図８は、図２−１に示すガラス基板（ＳＵＢ２）側の変形例６の構成を示す図である。図８に示す変形例６は、変形例４でのプロセスメリット低下軽減構造であり、変形例４の構造において、平坦化膜（ＯＣ）を取り除いたものである。カラーフィルタ（ＦＩＲ）を形成した後の膜面が平坦な場合、平坦化膜（ＯＣ）を取り除くことが可能であり、これにより、変形例６では、省プロセス化を図るとともに、積層構造の簡略化により光学特性を向上させることができる。
図９は、図２−１に示すガラス基板（ＳＵＢ２）側の変形例７の構成を示す図である。図９に示す変形例７は、反射部３１のギャップを調整する必要がない場合の簡略化構造であり、変形例６の構造において、ギャップ調整層（ＭＲ）を省略したものである。
図１０は、図２−１に示すガラス基板（ＳＵＢ２）側の変形例８の構成を示す図である。図１０に示す変形例８は、変形例４の構造において、配向膜（ＡＬ）を反射部３１のみに形成したものである。これにより、変形例８では、透過特性を向上させることが可能となる。
図１１は、図２−１に示すガラス基板（ＳＵＢ２）側の変形例９の構成を示す図である。図１１に示す変形例９は、反射部３１のギャップを調整する必要がない場合の簡略化構造であり、変形例８の構造において、ギャップ調整層（ＭＲ）を省略したものである。

図１２は、図２−１に示すガラス基板（ＳＵＢ２）側の変形例１０の構成を示す図である。図１２に示す変形例１０は、変形例８の構造において、平坦化膜（ＯＣ）を取り除いたものである。これにより、変形例１０では、省プロセス化を図るとともに、積層構造の簡略化により光学特性を向上させることができる。
図１３は、図２−１に示すガラス基板（ＳＵＢ２）側の変形例１１の構成を示す図である。図１３に示す変形例１１は、反射部３１のギャップを調整する必要がない場合の簡略化構造であり、変形例１０の構造において、ギャップ調整層（ＭＲ）を省略したものである。
図１４は、図２−１に示すガラス基板（ＳＵＢ２）側の変形例１２の構成を示す図である。図１４に示す変形例１２は、変形例４でのプロセスメリット低下軽減構造であり、変形例４の構造において、配向可能な平坦化膜（ＯＣ）を用いることにより、配向膜（ＡＬ）を不要としたものである。これにより、変形例１２では、省プロセス化を図ると同時に、着色要因である配向膜（ＡＬ）を排除することで特性を向上させることが可能となる。

図１５は、図２−１に示すガラス基板（ＳＵＢ２）側の変形例１３の構成を示す図である。図１５に示す変形例１３は、反射部３１のギャップを調整する必要がない場合の簡略化構造であり、変形例１２の構造において、ギャップ調整層（ＭＲ）を省略したものである。
図１６は、図２−１に示すガラス基板（ＳＵＢ２）側の変形例１４の構成を示す図である。図１６に示す変形例１４は、変形例１２の構造において、保護の必要な反射部３１にのみに、保護膜（ＰＯＣ）を形成したものである。これにより、変形例１４では、透過部３０の積層構造を減らすことができるため、特性向上が期待できる。
図１７は、図２−１に示すガラス基板（ＳＵＢ２）側の変形例１５の構成を示す図である。図１７に示す変形例１５は、反射部３１のギャップを調整する必要がない場合の簡略化構造であり、変形例１４の構造において、ギャップ調整層（ＭＲ）を省略したものである。

以上説明したように、本実施例によれば、ガラス基板（ＳＵＢ２）側に内蔵位相差膜（ＲＥＴ）を内蔵し、ガラス基板（ＳＵＢ１）の主表面側が観察側となる半透過型液晶表示装置において、拡散反射層（ＲＡＬ）をガラス基板（ＳＵＢ２）側に形成することにより、表示特性の低下を防止することが可能となる。
また、本実施例によれば、ガラス基板（ＳＵＢ２）側に内蔵位相差膜（ＲＥＴ）を内蔵し、ガラス基板（ＳＵＢ１）の主表面側が観察側となる半透過型液晶表示装置において、内蔵位相差膜（ＲＥＴ）の損傷などを防止し、信頼性を向上させることが可能となる。
なお、前述までの説明では、本発明を、ＩＰＳ方式の半透過型液晶表示装置に適用した実施例について説明したが、本発明は、これに限定されず、例えば、ＥＣＢ方式の半透過型液晶表示装置、あるいは、ＶＡ方式の半透過型液晶表示装置にも適用可能である。
以上、本発明者によってなされた発明を、前記実施例に基づき具体的に説明したが、本発明は、前記実施例に限定されるものではなく、その要旨を逸脱しない範囲において種々変更可能であることは勿論である。

本発明の実施例の半透過型液晶表示装置の１サブピクセルの断面構造を示す要部断面図である。 本発明の実施例の半透過型液晶表示装置の電極構造を説明するための平面図である。 図１−１に示すガラス基板（ＳＵＢ２）側の構成のみを示す図である。 図１−１に示すガラス基板（ＳＵＢ２）の製造方法を説明するための図である。 図２−１に示すガラス基板（ＳＵＢ２）側の変形例１の構成を示す図である。 図２−１に示すガラス基板（ＳＵＢ２）側の変形例２の構成を示す図である。 図２−１に示すガラス基板（ＳＵＢ２）側の変形例３の構成を示す図である。 図２−１に示すガラス基板（ＳＵＢ２）側の変形例４の構成を示す図である。 図２−１に示すガラス基板（ＳＵＢ２）側の変形例５の構成を示す図である。 図２−１に示すガラス基板（ＳＵＢ２）側の変形例６の構成を示す図である。 図２−１に示すガラス基板（ＳＵＢ２）側の変形例７の構成を示す図である。 図２−１に示すガラス基板（ＳＵＢ２）側の変形例８の構成を示す図である。 図２−１に示すガラス基板（ＳＵＢ２）側の変形例９の構成を示す図である。 図２−１に示すガラス基板（ＳＵＢ２）側の変形例１０の構成を示す図である。 図２−１に示すガラス基板（ＳＵＢ２）側の変形例１１の構成を示す図である。 図２−１に示すガラス基板（ＳＵＢ２）側の変形例１２の構成を示す図である。 図２−１に示すガラス基板（ＳＵＢ２）側の変形例１３の構成を示す図である。 図２−１に示すガラス基板（ＳＵＢ２）側の変形例１４の構成を示す図である。 図２−１に示すガラス基板（ＳＵＢ２）側の変形例１５の構成を示す図である。 従来のＩＰＳ方式の半透過型液晶表示装置の１サブピクセルの概略構成を示す要部断面図である。 従来のＩＰＳ方式の半透過型液晶表示装置の１サブピクセルの概略構成を示す要部断面図である。

符号の説明

３０ 透過部
３１ 反射部
ＧＩ ゲート絶縁膜
ＭＲ ギャップ調整層
ＲＡＬ 拡散反射層
ＲＥＴ 内蔵位相差膜
ＲＥＴ１，ＲＥＴ２ 位相差板
ＣＯＭ 対向電極
ＳＵＢ１，ＳＵＢ２ ガラス基板
ＦＩＲ カラーフィルタ
ＯＣ 平坦化膜
ＡＬ，ＡＬ１，ＡＬ２ 配向膜
ＰＯＣ 透明樹脂保護膜
ＳＰＡ 柱状スペーサ
ＰＯＬ１，ＰＯＬ２ 偏光板

Claims (14)

1. 一対の基板と、前記一対の基板間に挟持される液晶とを有する液晶表示パネルを備え、
   前記液晶表示パネルは、複数のサブピクセルを有し、
   前記複数のサブピクセルの各サブピクセルは、透過部と反射部とを有し、
   前記一対の基板の中の一方の基板は、前記各サブピクセルの前記反射部に対応する部分に形成された拡散反射層を有し、
   前記一対の基板の中の他方の基板は、画素電極を有し、
   前記他方の基板の前記液晶と反対側の面が表示面であることを特徴とする液晶表示装置。
2. 一対の基板と、前記一対の基板間に挟持される液晶とを有する液晶表示パネルを備え、
   前記液晶表示パネルは、複数のサブピクセルを有し、
   前記複数のサブピクセルの各サブピクセルは、透過部と反射部とを有し、
   前記一対の基板の中の一方の基板は、前記各サブピクセルの前記反射部に対応する部分に形成された拡散反射層と、
   前記拡散反射層上に形成された配向膜と、
   前記配向膜上で前記拡散反射層が形成された領域に形成された位相差膜と、
   前記位相差膜上に形成されたカラーフィルタと、
   前記カラーフィルタ上に形成された平坦化膜を有することを特徴とする液晶表示装置。
3. 前記配向膜は、前記拡散反射層が形成された領域にのみ形成されることを特徴とする請求項２に記載の液晶表示装置。
4. 前記平坦化膜に形成されるギャップ調整層を有することを特徴とする請求項２または請求項３に記載の液晶表示装置。
5. 一対の基板と、前記一対の基板間に挟持される液晶とを有する液晶表示パネルを備え、
   前記液晶表示パネルは、複数のサブピクセルを有し、
   前記複数のサブピクセルの各サブピクセルは、透過部と反射部とを有し、
   前記一対の基板の中の一方の基板は、前記各サブピクセルの前記反射部に対応する部分に形成された拡散反射層と、
   前記拡散反射層上に形成されたカラーフィルタと、
   前記カラーフィルタ上に形成された配向膜と、
   前記配向膜上で前記拡散反射層が形成された領域に形成された位相差膜と、
   前記位相差膜上に形成された保護膜を有することを特徴とする液晶表示装置。
6. 前記カラーフィルタ上に形成された平坦化膜を有し、
   前記配向膜は、前記平坦化膜上に形成されることを特徴とする請求項５に記載の液晶表示装置。
7. 前記配向膜は、前記拡散反射層が形成される部分にのみ形成されることを特徴とする請求項５または請求項６に記載の液晶表示装置。
8. 前記平坦化膜は、前記配向膜を兼用することを特徴とする請求項６または請求項７に記載の液晶表示装置。
9. 前記保護膜上に形成されるギャップ調整層を有することを特徴とする請求項５ないし請求項８のいずれか１項に記載の液晶表示装置。
10. 前記ギャップ調整層上に形成される柱状スペーサを有することを特徴とする請求項４または請求項９に記載の液晶表示装置。
11. 前記位相差膜は、高分子液晶材料で構成されることを特徴とする請求項１ないし請求項１０のいずれか１項に記載の液晶表示装置。
12. 前記一対の基板の中の他方の基板は、画素電極と対向電極とを有し、
    前記他方の基板の前記液晶と反対側の面が表示面であることを特徴とする請求項２ないし請求項１１のいずれか１項に記載の液晶表示装置。
13. 前記対向電極上には層間絶縁膜が形成され、
    前記画素電極は、前記層間絶縁膜上に形成されることを特徴とする請求項１２に記載の液晶表示装置。
14. 一対の基板と、前記一対の基板間に挟持される液晶とを有する液晶表示パネルを備え、
    前記液晶表示パネルは、複数のサブピクセルを有し、
    前記複数のサブピクセルの各サブピクセルは、透過部と反射部とを有し、
    前記一対の基板の中の一方の基板は、前記各サブピクセルの前記反射部に対応する部分に形成された拡散反射層と、
    前記拡散反射層上に形成された配向膜と、
    前記配向膜上で前記拡散反射層が形成された領域に形成された位相差膜とを有する液晶表示装置の製造方法において、
    パターンニングされた前記拡散反射層を形成する工程と、
    前記拡散反射層上に配向膜を形成する工程と、
    前記配向膜上にポジ型の位相差膜用レジストを形成し、前記拡散反射層側から光を照射し、光が照射された露光部を除去することにより、パターンニングされた位相差膜を形成する工程とを有することを特徴とする液晶表示装置の製造方法。

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