JP2008033076A - 液晶表示素子の製造方法及びその製造装置 - Google Patents
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Abstract
【解決手段】表示エリア12を有する画素電極基板4の表面に配向膜14を形成し、透明電極16を有する透明電極基板6の表面に配向膜18を形成し、両基板をシール接着剤20により接合することにより液晶LCを封止してなる液晶表示素子の製造装置において、真空雰囲気と大気圧雰囲気とを選択的に実現できて内部に搬送ロボット54を有する搬送室42と、真空中にて画素電極基板と透明電極基板の表面にそれぞれ配向膜を形成する成膜室46と、配向膜が形成された画素電極基板、或いは透明電極基板にシール接着剤を塗布し、シール接着剤で囲まれたエリアに液晶を滴下するシール接着剤・液晶処理室48と、真空中にて両基板を互いに貼り合わせる貼り合わせ室50とを備える。
【選択図】図1
Description
次に、この画素電極基板4を隣の液晶室26へ搬送し、この中にて真空中で液晶ディスペンサ28を用いて表示エリア内に所定量の液晶LCを滴下させる。
図1は本発明に係る液晶表示素子の製造装置を示す概略構成図、図2は成膜室内の構造を示す概略構成図である。尚、図5〜図8に示した構成部分と同一構成部分については、同一参照符号を付す。
このように、両基板4、6の貼り合わせ接合が完了したならば、この貼り合わせ室50内にN2 等の不活性ガスを導入して真空度を徐々に緩和する方向へコントロールし、最終的に大気圧状態とする。これにより、貼り合わされた基板における各表示エリアのセルギャップは調整されて所望する値となる(S7)。このように、両基板4、6に配向膜14、18を形成した後から両基板4、6を貼り合わせするまでは、上記両基板4、6を大気圧雰囲気中に晒すことなく、常に真空雰囲気状態中に存在するようにし、配向膜14、18の表面に水分や不純物等が付着しないようにする。
そして、大気圧状態になされた上記貼り合わせ室50から貼り合わせられた基板4、6を、大気圧復帰された搬送室42を介してシール硬化室52内へ搬送する(S9)。そして、このシール硬化室52内で紫外線照射ランプ36を用いて紫外線を照射することにより上記シール接着剤20を硬化させる(S10)。これにより、両基板4、6は、表示エリア内に液晶LCを封止した状態で強固に一体的に結合されることになる。
このようにして、シール接着剤20を硬化したならば、この貼り合わせ基板4、6を、真空状態、或いは大気圧状態の搬送室42を介して先の基板ロード室44内へ搬送して戻すことにより(S11)、処理が終了する。
また、上記の製造方法で作製された液晶表示素子は、液晶LCの配向特性が均一で画像として評価した場合、駆動時の明暗ムラや明るさの経時変化がほとんど無く、リアプロジェクションディスプレイに搭載した場合は、各素子において明るさの経時変化がないため、画像調整としてのγ(ガンマ)調整工程が簡便になり、また色度の経時変化がなく寿命の長い映像デバイスを供することができる。
更には、ここでは反射型の液晶表示素子を例にとって説明したが、これに限定されず、透過型の液晶表示素子にも本発明を適用することができる。
Claims (2)
- 複数の画素電極を配列してなる表示エリアを少なくとも1つ有する画素電極基板の表面に配向膜を形成し、共通な透明電極を有する透明電極基板の表面に配向膜を形成し、
前記画素電極と前記透明電極とを対向させて間に液晶を介在させて前記両基板をシール接着剤により接合することにより前記液晶を封止してなる液晶表示素子の製造方法において、
真空中にて前記画素電極基板及び透明電極基板の表面に前記配向膜をそれぞれ形成する配向膜形成工程と、
前記配向膜形成工程後に、真空中にて前記画素電極基板の表示エリアを囲むようにして、或いは前記表示エリアに対応する前記透明電極基板の対応エリアを囲むようにして前記シール接着剤を塗布する接着剤塗布工程と、
前記接着剤塗布工程後に、前記シール接着剤で囲まれたエリアに前記液晶を滴下する液晶滴下工程と、
前記液晶滴下工程後に、真空中にて前記両基板を互いに貼り合わせる貼り合わせ工程と、
を有すると共に、前記配向膜形成工程から前記貼り合わせ工程までを真空を保持した状態で行なうことを特徴とする液晶表示素子の製造方法。 - 複数の画素電極を配列してなる表示エリアを少なくとも1つ有する画素電極基板の表面に配向膜を形成し、共通な透明電極を有する透明電極基板の表面に配向膜を形成し、
前記画素電極と前記透明電極とを対向させて間に液晶を介在させて前記両基板をシール接着剤により接合することにより前記液晶を封止してなる液晶表示素子の製造装置において、
必要に応じて真空雰囲気と大気圧雰囲気とを選択的に実現できて内部に基板搬送用の搬送ロボットを有する搬送室と、
前記搬送室に連結されて真空中にて前記画素電極基板と前記透明電極基板の表面にそれぞれ配向膜を形成する成膜室と、
前記搬送室に連結されて真空中にて前記配向膜が形成された前記画素電極基板、或いは前記透明電極基板にシール接着剤を塗布すると共に、前記シール接着剤で囲まれたエリアに液晶を滴下するシール接着剤・液晶処理室と、
前記搬送室に連結されて真空中にて前記両基板を互いに貼り合わせる貼り合わせ室と、
を備えたことを特徴とする液晶表示素子の製造装置。
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