JP2005234309A - 光学部品の製造方法、光学部品 - Google Patents

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Abstract


【課題】接着剤の選定に制限を生じず、透過する光束に線状、あるいは点状の影が発生することを防止できる光学部品の製造方法及び光学部品を提供すること。
【解決手段】レンズ基板421及びカバーガラス基板422を加熱した後、カバーガラス基板422上面の幾何学的中心位置の一点に、接着剤Sを滴下する。その後、真空状態で、レンズ基板421及びカバーガラス基板422を当接させる。そして、接着剤Sの一部、すなわち、酸素により変質した部分SXがレンズ基板421及びカバーガラス基板422の外周部からはみ出すまで、接着剤Sを押し広げる。
【選択図】 図8

Description

本発明は、光学部品の製造方法、光学部品に関する。
従来より、対向配置される光学素子同士を接着することにより製造される光学部品が知られている。例えば、光学部品としての液晶表示装置において、表面にマイクロレンズアレイが形成されたレンズ基板(光学素子)と、カバーガラス基板(光学素子)とを接着剤により貼り合せることが知られている(例えば、特許文献1参照)。
また、液晶表示装置において、防塵基板(光学素子)と、素子基板(光学素子)等とを貼り合せることも知られている。さらには、凹レンズ(光学素子)と凸レンズ(光学素子)とを貼り合せたレンズ群を用いて、光学部品としての投写レンズを構成することも知られている。
このような光学部品において、対向配置される光学素子同士を接着する際には、接着剤の厚みを均一とする必要がある。そのため、図13に示すように、一方の光学素子100の他方の光学素子との対向面に、格子状、放射状、多数の平行線状等の線状に接着剤Sを塗布し、他方の光学素子を貼り付ける方法が採用されている。
また、一方の光学素子の他方の素子との対向面に、接着剤をスピンコートした後、他方の光学素子を貼り付ける方法も提案されている。
特開2003−005164号公報(第3〜第5頁、図1)
しかしながら、一方の光学素子の対向面に格子状、放射状、多数の平行線状等の線状に接着剤を塗布する方法で、接着剤を塗布した後、光学素子同士を貼り合せると、光学部品を透過する光束に筋状、あるいは点状の影ができてしまうという問題がある。
また、スピンコートにより接着剤を塗布する方法では、上述した問題は生じないが、スピンコートに適した粘性の低い接着剤を使用しなければならず、接着剤の選定に制限が生じる。特に近年、使用されている高屈折率、高耐熱性等の高機能接着剤は粘性の高いものが多いため、使用できなくなるという問題がある。
本発明の目的は、接着剤の選定に制限を生じず、透過する光束に線状、あるいは点状の影が発生することを防止できる光学部品の製造方法及び光学部品を提供することである。
本発明者は、上記目的を達成するために鋭意検討を重ねた結果、光学部品を透過する光束に筋状、点状の影が生じる原因として、次のようなことが考えられるとした。
近年、接着剤としては、UV硬化型接着剤が使用されることが多く、このUV硬化型接着剤は一般に嫌気性で、酸素による硬化阻害を起こす。接着剤を一方の光学素子の対向面に塗布すると、接着剤の表面で酸素による硬化阻害が進行する。そして、図14(A)に示すように、接着剤Sの表面に変質した薄い層SXが形成される。このような状態で、図14(B)に示すように、他方の光学素子101を貼り合せると、線状に塗布した接着剤Sが広がっていき、図14(C)に示すように、隣接する線状の接着剤Sと接触する。この接触部分に、酸素により変質した部分SXが集中的に溜まるのである。その後、接着剤Sの硬化を行うと、変質した部分SXは、他の部分と屈折率が異なるため、透過した光束に筋状、点状の影ができてしまうのである。
本発明の光学部品の製造方法は、以上のような知見推測に基づいて案出されたものである。
すなわち、本発明の光学部品の製造方法は、一対の対向配置された光学素子を有する光学部品の製造方法であって、一方の光学素子の他方の光学素子との対向面の基準位置の一点に、接着剤を塗布する接着剤塗布工程と、真空下において、前記他方の光学素子と、前記接着剤が塗布された前記一方の光学素子とを当接させて、接着剤の一部が一対の光学素子の光束透過範囲の外周部からはみ出すまで、接着剤を押し広げ、接着する接着工程と、前記接着剤を硬化させる硬化工程とを有することを特徴とする。
ここで、一方の光学素子の対向面の基準位置とは、例えば、光学的中心位置であってもよく、また、幾何学的中心位置であってもよい。
このような本発明によれば、接着剤塗布工程では、一方の光学素子の前記他方の光学素子との対向面の基準位置の一点に、接着剤を塗布しており、接着工程では、他方の光学素子と、接着剤が塗布された一方の光学素子とを当接させて、接着剤の一部が一対の光学素子の光束透過範囲の外周部からはみ出すまで、接着剤を押し広げている。これにより、一方の光学素子の対向面に塗布された接着剤の表面に生じた変質部分は、接着工程において、光学素子の光束透過範囲の外周部からはみ出すこととなる。そのため、一対の光学素子の光束透過範囲間には、変質した部分が残らず、光学部品を透過した光束に筋状、点状の影ができてしまうことがない。
なお、接着工程では、接着剤の一部が一対の光学素子の光束透過範囲の外周部からはみ出せばよく、例えば、光学素子の全面が光束透過範囲として使用される場合には、光学素子の外周縁から外側に接着剤の一部がはみ出せばよい。また、光学素子を接着後、光学素子の外周縁を切り落として使用する場合には、接着剤の一部は、使用される範囲(光束透過範囲)よりも外側にはみ出ていればよく、光学素子の外周縁からはみ出していなくてもよい。
また、本発明では、真空下で、一方の光学素子と、他方の光学素子とを接着させているので、接着剤中に気泡が入らず、接着剤を均一に広げることができる。
なお、本発明では、全工程を真空下で行ってもよいが、接着工程のみを真空下で行うことが好ましい。接着工程のみを真空下で行う場合は、全工程を真空下で行った場合と比較して、装置の大型化やコストの増大を抑えることができる。
さらに、本発明では、光学素子の対向面の基準位置の一点のみに接着剤を塗布しており、従来のように、スピンコートにより接着剤を塗布するものではないので、粘性の高い接着剤も使用することができる。これにより、接着剤の選定に制限を生じず、各光学部品に応じた最適な接着剤を選定することが可能となる。
本発明では、前記接着剤塗布工程の前段で、少なくとも、接着剤が塗布される一方の光学素子を加熱する加熱工程を有することが好ましい。
このような本発明によれば、少なくとも接着剤が塗布される一方の光学素子を加熱することで、接着剤を塗布した際に、接着剤が光学素子により加熱され、粘度が低下することとなる。これにより、接着工程における接着剤の広がりを良好にすることができる。
なお、他方の光学素子も加熱してもよく、他方の光学素子も加熱することで、接着剤が光学素子により、より加熱されて粘度が低下し、接着工程における接着剤の広がりを一層良好にすることができる。
さらに、本発明では、前記接着剤塗布工程の前段で、一対の光学素子の対向面を洗浄する洗浄工程を有することが好ましい。
このような本発明によれば、接着剤を塗布する前段で、光学素子の対向面を洗浄しているので、光学部品の対向面のぬれ性を高めることができ、接着工程における接着剤の広がりをさらに良好にすることができる。
また、本発明では、前記光学部品は、対向基板と、表面に画素電極が形成され、対向基板とともに、電気光学物質を挟持する素子基板とを有した液晶表示装置であり、前記対向基板は、表面に対向電極及び遮光膜が形成されたカバーガラス基板と、このカバーガラス基板の裏面側に配置され、前記カバーガラス基板との対向面にマイクロレンズアレイが形成されたレンズ基板とを有し、前記一方の光学素子は、前記カバーガラス基板であり、他方の光学素子は前記レンズ基板であり、硬化工程の後段に、カバーガラス基板の前記表面を研磨する研磨工程と、研磨されたカバーガラス基板の表面に前記対向電極及び遮光膜を形成する成膜工程と、前記カバーガラス基板の表面に対して、画素電極が形成された素子基板を貼り合わせる素子基板貼り合せ工程と、カバーガラス基板、レンズ基板、素子基板を切断する切断工程とを有することが好ましい。
このような本発明では、レンズ基板と、カバーガラス基板とを前述した方法で張り合わせているので、レンズ基板の光束透過範囲とカバーガラス基板の光束透過範囲との間に接着剤の変質した部分が残らず、液晶表示装置を透過した光束に筋状、点状の影ができてしまうことがない。
さらに、本発明では、大型のカバーガラス基板、レンズ基板、素子基板を貼り合わせた後、切断しているので、液晶表示装置の量産性を上げることができる。
さらに、本発明は、前記光学部品は、表面に対向電極及び遮光膜が形成された対向基板と、表面に画素電極が形成され、前記対向基板とともに、電気光学物質を挟持する素子基板と、対向基板及び/又は素子基板上に貼り合わされた防塵基板とを有した液晶表示装置であり、前記一方の光学素子は、防塵基板であり、前記他方の素子は、対向基板及び/又は素子基板であり、前記防塵基板と前記対向基板、及び/又は、防塵基板と素子基板とを貼り合わせた後、前記防塵基板、対向基板、素子基板を切断するものであってもよい。
ここで、防塵基板は、対向基板又は素子基板の何れか一方にのみ貼り付けられていても良く、また、対向基板、素子基板の双方に貼り付けられていてもよい。
このような本発明では、防塵基板と、対向基板及び/又は素子基板とを前述した方法で張り合わせているので、防塵基板の光束透過範囲と、対向基板及び/又は素子基板の光束透過範囲との間に接着剤の変質した部分が残らず、液晶表示装置を透過した光束に筋状、点状の影ができてしまうことがない。
さらに、本発明では、大型の対向基板、素子基板、防塵基板を貼り合わせた後、切断しているので、液晶表示装置の量産性を上げることができる。
本発明の光学部品は、上述した何れかの光学部品の製造方法により製造されたことを特徴とする。
このような本発明によれば、光学部品は、上述した何れかの製造方法により、製造されているので、透過する光束に筋状、点状の影が生じることがなく、光学的に優れたものとなる。
以下、本発明の実施形態を図面に基づいて説明する。
図1及び図2に、本発明の光学部品の製造方法により、製造された光学部品としての液晶表示装置1を示す。図1は、液晶表示装置1の平面図であり、図2は液晶表示装置1の断面図である。
この液晶表示装置1は、プロジェクタ等の光学機器に搭載されるものであり、例えば、TFT(Thin Film Transistor)型の液晶パネルである。この液晶表示装置1は薄膜トランジスタをスイッチング素子として、液晶13を電気的に制御し、入射した光束を画像情報に応じて変調し、射出する。
この液晶表示装置1は、素子基板11と、この素子基板11に対向配置された対向基板12と、素子基板11及び対向基板12間に挟持された電気光学物質である液晶13とを有している。
素子基板11は、例えば、石英、シリコン製の基板であり、素子基板11の対向基板12との対向面(液晶13が封入される側の表面)には、画素を構成する複数の透明な画素電極111がマトリクス状に配置されている。
また、素子基板11の前記対向面には、図示しないが、前記画素電極111の縦横の境界にそれぞれ沿ってデータ線、走査線、走査線およびデータ線により区画される画素単位に形成される薄膜トランジスタが設けられている。さらに、前記対向面には、データ線及び走査線に沿って各画素に対応して格子状に遮光膜が形成されている。この遮光膜によって、反射光が薄膜トランジスタのソース領域、チャネル領域、ドレイン領域に入射することが防止される。
さらに、この素子基板11の画素電極111上には、液晶13に方向性を与える配向膜(図示略)が形成されている。この配向膜は、例えばポリイミド系の高分子樹脂から構成されており、所定方向にラビング処理されている。
また、この素子基板11の前記対向面のシール部材14(後述)の外側の領域には、データ線駆動回路112及び複数の実装端子113が設けられている。このデータ線駆動回路112及び実装端子113は、素子基板11の一辺に沿って設けられている。この一辺と直交して延びる2辺には、走査線駆動回路114が形成されている。さらに、残りの一辺には、走査線駆動回路114間を接続するための複数の配線115が設けられている。
電気光学物質である液晶13は、画素毎に印加される電圧レベルにより分子集合の配向や秩序が変化することで光束を変調し、階調表示を可能にする。ノーマリーホワイトモードであれば、各画素の単位で印加された電圧に応じて入射光束に対応する透過率が減少し、ノーマリーブラックモードであれば、各画素単位で印加された電圧に応じて入射光束に対する透過率が増加され、画像信号に応じたコントラストを持つ光束を射出する。
対向基板12は、レンズ基板121と、このレンズ基板121に対向配置されたカバーガラス基板122とを有している。
レンズ基板121は、カバーガラス基板122との対向面にマイクロレンズアレイ121Aが形成されたものである。マイクロレンズアレイ121Aは、複数の小レンズとしての凹部がマトリクス状に配置されたものである。複数の小レンズは、各画素に一つずつ対応するように配置されている。これにより、光束の透過効率を向上させることができるのである。
カバーガラス基板122は、例えば、石英、シリコン製の平板状の基板であり、このカバーガラス基板122の表面、すなわち、素子基板11との対向面(液晶が封入される側の面)には、素子基板のデータ線、走査線、及び薄膜トランジスタに対向する領域、すなわち、各画素の非表示領域において、遮光膜が設けられている。この遮光膜によって、反射光が薄膜トランジスタのソース領域、チャネル領域、ドレイン領域に入射することが防止される。
この遮光膜上には、ITO膜(Indium Tin Oxides)で構成される対向電極122Aが全面に形成されている。
さらに、この対向電極122Aの表面には、液晶13に方向性を与える配向膜(図示略)が順に形成されている。この配向膜は、例えばポリイミド系の高分子樹脂から構成されており、所定方向にラビング処理されている。
また、このカバーガラス基板122の素子基板11との対向面には、表示領域を区画する縁としての遮光膜122Bが矩形枠状に設けられている。この遮光膜122Bの外側の領域には、対向基板12の輪郭形状に略一致するように液晶13を封入するシール部材14が矩形枠状に配置され、対向基板12と素子基板11とを相互に固着している。
このような対向基板12の隅部の少なくとも一箇所においては、素子基板11と対向基板12との間を電気的に導通するための導通材(図示略)が設置されている。
このようなカバーガラス基板122は、裏面(液晶が封入される側の面と反対側の面)が接着剤Sにより、レンズ基板121に貼り合わされている。この接着剤Sは、紫外線硬化型のエポキシ系の接着剤である。この接着剤Sの屈折率は、硬化時に、例えば、1.590である。なお、本実施形態では、接着剤Sとして紫外線硬化型の接着剤を例示したが、これに限らず、熱硬化性の接着剤を使用してもよい。
以上のような構造の液晶表示装置1は、以下のような方法で製造される。
まず、大型のレンズ基板421と、大型のカバーガラス基板422とを接着剤Sにより貼り合せる(図8参照)。なお、ここで言う大型のレンズ基板421とは、切断することで、複数枚のレンズ基板121が得られる大きさのものをいう。また、大型のカバーガラス基板422も同様で、切断することで、複数枚のカバーガラス基板122が得られる大きさのものを言う。レンズ基板421、カバーガラス基板422の径は、例えば、8インチ〜12インチ程度である。
ここで、図3に大型のレンズ基板421と、カバーガラス基板422とを接着するための製造装置3を示す。
この製造装置3は、大型のレンズ基板421及びカバーガラス基板422を加熱する2台のホットプレート31A,31Bと、この2台のホットプレート31A,31Bが設置された設置台32と、チャンバー33と、レンズ基板421及びカバーガラス基板422を前記チャンバー33内に搬送する搬送手段34と、接着剤Sを塗布するシリンジ35とを有する。
シリンジ35は接着剤Sを滴下するものであり、シリンジ35内の接着剤Sは常温となっている。
搬送手段34は、レンズ基板421、カバーガラス基板422を吸着する吸着プレート341を有しており、図示しない保持手段により、レンズ基板421、カバーガラス基板422を保持し、吸着プレート341上に設置する。そして、吸着プレート341に吸着されたレンズ基板421、カバーガラス基板422をチャンバー33内に搬送する。
チャンバー33は、真空チャンバーであり、内部の空気を真空ポンプ等で引くことで、内部が真空に維持される。
このチャンバー33内には、加圧プレート331と、この加圧プレート331に対向配置されたホットプレート332とが設置されている。ホットプレート332の上面には、複数本、例えば、4本の可動ピン332Aが設置されている。この可動ピン332Aは、ホットプレート332上面から突没可能となっている。
加圧プレート331は、ホットプレート332上に設置されたレンズ基板421及びカバーガラス基板422を加圧するものである。この加圧プレート331は、加圧プレート331に接続された駆動手段331Aにより、ホットプレート332に対して、接近・離間可能となっている。また、加圧プレート331は、加熱機能をも有しており、加圧すると同時に、レンズ基板421及びカバーガラス基板422を加熱する。
このような製造装置3を用いて、レンズ基板421とカバーガラス基板422とは以下の手順で貼り合わされる。
まず、レンズ基板421及びカバーガラス基板422を、硫酸等を用いて洗浄する(洗浄工程、処理S1)。
洗浄工程が終了した後、レンズ基板421をホットプレート31A上に設置する。
なお、洗浄からレンズ基板421とカバーガラス基板422とを貼りあわせるまでの間隔は24時間以内が望ましい。これ以上放置すると、接触角が上がり、濡れ性が低下する。
また、カバーガラス基板422をホットプレート31B上に設置する。そして、カバーガラス基板422及びレンズ基板421を、例えば、30℃以上、70℃以下、好ましくは、50℃前後に加熱する(加熱工程、処理S2)。
次に、カバーガラス基板422上面(レンズ基板421との対向面)の基準位置、すなわち、カバーガラス基板422上面の幾何学的中心位置の一点に、シリンジ35から接着剤Sを滴下する(接着剤塗布工程、処理S3)。
接着剤Sの滴下量は、例えば、カバーガラス基板422一枚に対し、0.5gである。滴下された接着剤Sは直径30mm程度の大きさとなる。
なお、接着剤Sの滴下量は、前述した量に限らず、レンズ基板421とカバーガラス基板422との間の寸法や、レンズ基板421やカバーガラス基板422の大きさ等に応じて適宜設定することが好ましい。
また、図4に示すように、予めカバーガラス基板422上面の外周部には、ビーズ状のギャップ材422Aを等間隔で設置しておく。例えば、径が7μm程度のギャップ材422Aを10個配置する。
カバーガラス基板422上に滴下された接着剤Sは、酸素との反応が進行し、表面に変質した部分SXが形成されることとなる(図5参照)。
次に、接着剤Sが塗布されたカバーガラス基板422を、搬送手段34の吸着プレート341に吸着させ、図5に示すように、チャンバー33のホットプレート332上に設置する。なお、このホットプレート332も30℃以上、70℃以下、好ましくは、50℃前後に加熱されている。
さらに、搬送手段34の吸着プレート341にレンズ基板421を吸着させ、チャンバー33内に搬送する。そして、図6に示すように、レンズ基板421をホットプレート332上面から突出した可動ピン332A上に設置する。なお、このとき、レンズ基板421のマイクロレンズアレイが形成された面をカバーガラス基板422に対向させて設置する。
次に、チャンバー33内を真空状態とする。具体的には、30〜500秒程度、図示しない真空ポンプを駆動して、チャンバー33内の空気を排出する。
そして、図7に示すように、加圧プレート331を下降させて、レンズ基板421及びカバーガラス基板422を加圧プレート331及びホットプレート332で挟持する。この際、可動ピン332Aは、ホットプレート332内部に没入する。
さらに、接着剤Sの一部、すなわち、酸素により変質した部分SXがレンズ基板421及びカバーガラス基板422の光束透過範囲の外周部の外側にはみ出すまで、接着剤Sを押し広げる。本実施形態では、レンズ基板421及びカバーガラス基板422の全面が光束透過範囲となるので、レンズ基板421及びカバーガラス基板422の外周縁から外側にはみ出すまで、接着剤Sを押し広げる(接着工程、処理S4)。
ここで、加圧プレート331から、レンズ基板421及びカバーガラス基板422に対して加えられる圧力は、例えば0.1kg/cm以上、2.0kg/cm以下であり、特に好ましくは、0.5kg/cmである。
また、加圧プレート331及びホットプレート332により、レンズ基板421及びカバーガラス基板422を挟持する時間は、60秒以上、180秒以下が好ましい。
その後、チャンバー33内から、接着されたレンズ基板421及びカバーガラス基板422を取り出し、UVを照射して、接着剤Sを硬化させる(硬化工程、処理S5)。これにより、図8及び図9(A)に示すように、大型の対向基板42が完成する。
次に、以上のようにして完成した対向基板42のカバーガラス基板422の表面(レンズ基板421との対向面と反対側の面)を研磨する。これにより、カバーガラス基板422の厚さ寸法を30μm〜40μm程度とする。そして、カバーガラス基板422に対向電極122A及び遮光膜をスパッタリング法や、真空蒸着法等により、形成する(成膜工程、処理S6)。
一方で、予め大型の素子基板41を製造しておき、液晶13をシール部材14の内側に滴下する。そして、図9(B)に示すように、減圧下で、大型の素子基板41に大型の対向基板42を重ね合わせ、シール部材14を硬化させる(素子基板貼り合せ工程、処理S7)。
なお、本実施形態では、液晶13をシール部材14の内側に滴下し、素子基板41に大型の対向基板42を重ね合わせる滴下方式を採用したが、これに限らず、予め素子基板41及び対向基板42を貼り合せておき、シール部材14に小さな孔を形成し、この孔から液晶13を注入する注入方式を採用してもよい。
その後、図9(C)に示すように、大型のレンズ基板421、カバーガラス基板422、素子基板41を切断し、液晶表示装置1を得る(切断工程、処理S8)。
切断の方法は、特に限定されず、例えば、予めレンズ基板421、カバーガラス基板422、素子基板41にクラックを形成しておき、クラックを成長させて切断する方法(スクライブ・ブレイク法等)で切断してもよく、ディスク状の刃や砥石を回転させて、或いはワイヤー状の刃を高速移動させて切断する、ダイシング法で切断してもよい。
従って、本実施形態によれば、以下の効果を奏することができる。
(1)接着剤塗布工程では、カバーガラス基板422上面(レンズ基板421との対向面)の幾何学的中心位置、一点に、シリンジ35から接着剤Sを滴下しており、接着工程では、加圧プレート331とホットプレート332とで、レンズ基板421及びカバーガラス基板422を挟持して、接着剤Sの一部(変質した部分SX)がレンズ基板421及びカバーガラス基板422の外周部からはみ出すまで、接着剤Sを押し広げている。そのため、レンズ基板421及びカバーガラス基板422間には、接着剤Sの変質した部分SXが残らず、対向基板42を透過した光束に筋状、点状の影ができてしまうことがない。これにより、透過した光束に筋状、点状の影が生じない液晶表示装置1を得ることができる。
(2)また、接着剤塗布工程でカバーガラス基板422の上面(レンズ基板421との対向面)の幾何学的中心位置に接着剤Sを滴下しているため、接着工程で接着剤Sを押し広げる際に、幾何学的中心位置から外周部に向かって、接着剤Sを均一に押し広げることができる。これにより、接着剤Sの変質した部分SXをレンズ基板421及びカバーガラス基板422の外周部から、確実にはみ出させることができる。
(3)さらに、接着工程では、真空下で、レンズ基板421及びカバーガラス基板422を接着させているので、接着剤S中に気泡が混入することなく、接着剤Sを均一に広げることができる。
(4)また、本実施形態の接着剤塗布工程では、カバーガラス基板422上面(レンズ基板421との対向面)の幾何学的中心位置の一点のみに接着剤Sを塗布しており、従来のように、スピンコートにより接着剤Sを塗布するものではないので、粘性の高い接着剤Sも使用することができる。これにより、接着剤Sの選定に制限を生じず、液晶表示装置1に応じた最適な接着剤Sを選定することが可能となる。
(5)さらに、本実施形態では、接着剤Sを滴下する前段で、カバーガラス基板422をホットプレート31Bにより加熱している。そのため、接着剤Sをカバーガラス基板422上に滴下した際に、接着剤Sがカバーガラス基板422により加熱され、粘度が低下することとなる。これにより、接着工程における接着剤Sの広がりを良好にすることができる。
これに加え、本実施形態では、レンズ基板421もホットプレート31Aで加熱しているため、レンズ基板421からの熱によっても、接着剤Sが加熱され、粘度が低下し、接着工程における接着剤Sの広がりをより良好にすることができる。
また、チャンバー33内でも、レンズ基板421及びカバーガラス基板422はホットプレート332、加圧プレート331により加熱されているので、より一層、接着剤Sの粘度を低下させることができる。
(6)さらに、カバーガラス基板422及びレンズ基板421の加熱温度を70℃以下としているため、必要以上に接着剤Sの粘性が低下してしまうことがなく、接着剤Sを取り扱いやすいものとしている。また、カバーガラス基板422及びレンズ基板421の加熱温度を30℃以上としているので、接着剤Sの粘性を充分に低下させることができ、接着工程における接着剤Sの広がりをより良好にすることができる。
(7)また、本実施形態では、接着剤塗布工程の前段で、レンズ基板421及びカバーガラス基板422を硫酸等で洗浄しているため、レンズ基板421及びカバーガラス基板422のぬれ性を高めることができ、接着工程における接着剤Sの広がりを良好にすることができる。
(8)さらに、本実施形態では、大型のカバーガラス基板422、レンズ基板421、素子基板41を貼り合わせた後、切断することで液晶表示装置1を製造しているため、液晶表示装置1を一つずつ製造する場合に比べ、液晶表示装置1の量産性を上げることができる。
(9)また、本実施形態では、カバーガラス基板422の外周部にギャップ材422Aを配置しているので、カバーガラス基板422及びレンズ基板421間の間隔を一定に保持することができ、これにより、接着剤Sによる層を均一な厚みとすることができる。
なお、本発明は前述の実施形態に限定されるものではなく、本発明の目的を達成できる範囲での変形、改良等は本発明に含まれるものである。
例えば、前記実施形態では、対向基板42のカバーガラス基板422及びレンズ基板421を貼り合せていたが、これには限られない。図10に示すように、例えば、対向基板12と、防塵基板15Aとを貼り合せる際に、前述したような接着方法を利用しても良い。また、素子基板11と防塵基板15Bとを貼り合せる際に、前述したような接着方法を利用しても良い。このようにすることで、接着剤Sの表面に生じた変質部分が、レンズ基板121及び防塵基板15Aの光束透過範囲の外周部、素子基板11及び防塵基板15Bの光束透過範囲の外周部から、はみ出すこととなる。これにより、液晶表示装置1’を透過した光束に筋状、点状の影ができてしまうことがない。
なお、このような液晶表示装置1’を製造する際も、前記実施形態の液晶表示装置1と同様に、大型の対向基板42、素子基板41に、大型の防塵基板を貼り付けた後、切断することが好ましい。このようにすることで、液晶表示装置1’の生産性を向上させることができる。
さらに、光学部品としての投写レンズを構成するレンズ(光学素子)同士を前述した接着方法で接着してもよい。より詳細に説明すると、例えば、図11及び図12に示すように、投写レンズ5は、内部に所定の光路が設定された樹脂製等の鏡筒51と、この鏡筒51内の光路の照明光軸上に順次配置される複数のレンズとしてのレンズ群52とを備える。
レンズ群52は、投写側(図12中の右側)から順に、1群レンズ521、2群レンズ522、3群レンズ523、および4群レンズ524の合計4つのレンズの群として構成されている。
1群レンズ521は、あおり方向に拡大投写するための凹レンズであり、非球面レンズとして形成されている。2群レンズ522は、光束を調整する凸レンズである。3群レンズ523は、凹レンズ523Aに対して、この凹レンズ523Aよりも小さな寸法を有し入射側が非球面レンズとされた凸レンズ523Bが貼り合わされたバルサムレンズである。4群レンズ524は、画像光をのみこむ凸レンズであり、球面レンズとして形成されている。このようなレンズ群52のうちの3群レンズ523の凹レンズ523Aと凸レンズ523Bとを前述したような接着方法で接着し、製造してもよい。このようにすることで、凹レンズ523Aの光束透過範囲と凸レンズ523Bの光束透過範囲との間に接着剤Sの変質した部分SXが残らず、鮮明な投写画像を形成できる投写レンズ5とすることができる。
さらに、プロジェクタ等の光学機器に搭載される一対のレンズアレイ(光学部品)、例えば、光源ランプから射出される光束を複数の部分光束に分割する第一レンズアレイ(光学素子)と、第1レンズアレイの各小レンズの像を結像させる機能を有する第二レンズアレイ(光学素子)とを上述したような接着方法で接着し、製造してもよい。
また、前記実施形態では、接着剤塗布工程の前段で、レンズ基板421及びカバーガラス基板422を洗浄していたが、洗浄工程は省略してもよい。例えば、レンズ基板421やカバーガラス基板422表面に酸化膜等が形成されていないような状態の場合には、洗浄工程を省略することができる。このようにすることで、液晶表示装置1の製造を簡略化することができる。
さらに、前記実施形態では、接着工程の前段で、レンズ基板421及びカバーガラス基板422の双方を加熱していたが、何れか一方のみを加熱してもよい。このようにすることで、ホットプレートの数を減らすことができ、製造装置にかかるコストを低減させることができる。
また、前記実施形態では、接着剤Sは直接加熱されていなかったが、接着剤Sを直接加熱した後、カバーガラス基板422上に塗布してもよい。このようにすることで、接着剤Sの粘度を確実に低下させることができる。
さらに、前記実施形態では、カバーガラス基板422上に接着剤Sを滴下したが、これに限らず、レンズ基板421上に接着剤Sを滴下してもよい。
また、前記実施形態では、大型のカバーガラス基板422、レンズ基板421、素子基板41を貼り合わせた後、切断することで、液晶表示装置1を製造したが、これに限らず、液晶表示装置1の大きさに対応した小型のカバーガラス基板、レンズ基板、素子基板を用い、液晶表示装置1を一つずつ製造してもよい。
さらに、前記実施形態では、接着工程において、カバーガラス基板422、レンズ基板421の外周縁から接着剤Sの一部がはみ出すまで、接着剤Sを押し広げていたが、これに限らず、例えば、カバーガラス基板、レンズ基板の中央部のみが光束透過範囲として使用される場合には、接着剤の一部がこの光束透過範囲の外周部にはみ出すまで、接着剤を押し広げればよい。
本発明は、光学部品、例えば液晶表示装置の製造に利用することができる。
本発明の液晶表示装置を示す平面図。 前記液晶表示装置を示す断面図。 前記液晶表示装置を製造するための製造装置を示す模式図。 前記液晶表示装置のカバーガラス基板を示す平面図。 前記製造装置によるカバーガラス基板とレンズ基板とを接着する工程を説明する模式図。 前記製造装置によるカバーガラス基板とレンズ基板とを接着する工程を説明する模式図。 前記製造装置によるカバーガラス基板とレンズ基板とを接着する工程を説明する模式図。 前記カバーガラス基板とレンズ基板とが接着された状態を示す図。 液晶表示装置の製造工程を示す模式図。 液晶表示装置の変形例を示す断面図。 本発明の変形例である投写レンズを示す斜視図。 前記投写レンズの断面図。 本発明の従来例を示す平面図。 本発明の従来例を説明する模式図。
符号の説明
1…液晶表示装置(光学部品)、5…投写レンズ(光学部品)、11…素子基板、12…対向基板、13…液晶、15A…防塵基板(光学素子)、15B…防塵基板(光学素子)、41…素子基板、42…対向基板、121…レンズ基板(光学素子)、122…カバーガラス基板(光学素子)、421…レンズ基板(光学素子)、422…カバーガラス基板(光学素子)、523B…凸レンズ(光学素子)、523A…凹レンズ(光学素子)、S…接着剤。

Claims (6)

  1. 一対の対向配置された光学素子を有する光学部品の製造方法であって、
    一方の光学素子の他方の光学素子との対向面の基準位置の一点に、接着剤を塗布する接着剤塗布工程と、
    真空下において、前記他方の光学素子と、前記接着剤が塗布された前記一方の光学素子とを当接させて、接着剤の一部が一対の光学素子の光束透過範囲の外周部からはみ出すまで、接着剤を押し広げ、接着する接着工程と、
    前記接着剤を硬化させる硬化工程とを有することを特徴とする光学部品の製造方法。
  2. 請求項1に記載の光学部品の製造方法において、
    前記接着剤塗布工程の前段で、少なくとも、接着剤が塗布される一方の光学素子を加熱する加熱工程を有することを特徴とする光学部品の製造方法。
  3. 請求項1又は2に記載の光学部品の製造方法において、
    前記接着剤塗布工程の前段で、一対の光学素子の対向面を洗浄する洗浄工程を有することを特徴とする光学部品の製造方法。
  4. 請求項1から3の何れかに記載の光学部品の製造方法において、
    前記光学部品は、対向基板と、
    表面に画素電極が形成され、対向基板とともに、電気光学物質を挟持する素子基板とを有した液晶表示装置であり、
    前記対向基板は、表面に対向電極及び遮光膜が形成されたカバーガラス基板と、このカバーガラス基板の裏面側に配置され、前記カバーガラス基板との対向面にマイクロレンズアレイが形成されたレンズ基板とを有し、
    前記一方の光学素子は、前記カバーガラス基板であり、他方の光学素子は前記レンズ基板であり、
    硬化工程の後段に、カバーガラス基板の前記表面を研磨する研磨工程と、
    研磨されたカバーガラス基板の表面に前記対向電極及び遮光膜を形成する成膜工程と、
    前記カバーガラス基板の表面に対して、画素電極が形成された素子基板を貼り合わせる素子基板貼り合せ工程と、
    カバーガラス基板、レンズ基板、素子基板を切断する切断工程とを有することを特徴とする光学部品の製造方法。
  5. 請求項1から3の何れかに記載の光学部品の製造方法において、
    前記光学部品は、表面に対向電極及び遮光膜が形成された対向基板と、
    表面に画素電極が形成され、前記対向基板とともに、電気光学物質を挟持する素子基板と、対向基板及び/又は素子基板上に貼り合わされた防塵基板とを有した液晶表示装置であり、
    前記一方の光学素子は、防塵基板であり、前記他方の素子は、対向基板及び/又は素子基板であり、
    前記防塵基板と前記対向基板、及び/又は、防塵基板と素子基板とを貼り合わせた後、前記防塵基板、対向基板、素子基板を切断することを特徴とする光学部品の製造方法。
  6. 請求項1から5の何れかに記載の光学部品の製造方法により製造されたことを特徴とする光学部品。
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