JP2008010843A - メンテナンス方法、露光方法及び装置、並びにデバイス製造方法 - Google Patents
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Abstract
【解決手段】光学部材2と基板Pとの間に液体1を供給して液浸領域を形成する液浸空間形成部材30と、液浸空間に液体1を供給する液体供給機構10と、基板Pを移動する基板ステージPSTと、基準マークが形成された計測ステージMSTとを備えた露光装置において、液浸空間形成部材30を洗浄するために、計測ステージMSTと液浸空間形成部材30の間に洗浄液を供給する。露光装置は、液浸空間形成部材30を洗浄する各種の洗浄機構を備える。
【選択図】図1
Description
本発明はこのような事情に鑑み、液浸法で露光を行う露光装置の効率的なメンテナンス技術を提供することを目的とする。
以下、本発明の好ましい実施形態の一例につき図面を参照して説明する。
図1は第1実施形態の露光装置EXを示す概略構成図であり、図1において、露光装置EXは、転写用のパターンが形成されたマスクMを支持するマスクステージRSTと、露光対象の基板Pを支持する基板ステージPSTと、マスクステージRSTに支持されているマスクMを露光光ELで照明する照明光学系ILと、露光光ELで照明されたマスクMのパターン像を基板ステージPSTに支持されている基板P上の投影領域AR1に投影する投影光学系PLと、アライメント用の基準マーク等が形成されている計測ステージMSTと、露光装置EX全体の動作を統括制御する制御装置CONTと、液浸法の適用のための液浸システム(液浸機構)とを備えている。本実施形態の液浸システムは、基板P上及び計測ステージMST上に液体1を供給する液体供給機構10と、基板P上及び計測ステージMST上に供給された液体1を回収する液体回収機構20とを含む。
また、基板ステージPSTの上部には、基板Pを例えば真空吸着で保持する基板ホルダPHが固定されている。そして、基板ステージPSTは、基板ホルダPH(基板P)のZ方向の位置(フォーカス位置)及びθX,θY方向の傾斜角を制御するZステージと、このZステージを支持して移動するXYステージとを備え、このXYステージがベース54上のXY平面に平行なガイド面(投影光学系PLの像面と実質的に平行な面)上にX方向、Y方向に移動できるように例えばエアベリング(気体軸受け)を介して載置されている。基板ステージPST(Zステージ及びXYステージ)は例えばリニアモータ等の基板ステージ駆動装置PSTDにより駆動される。基板ステージ駆動装置PSTDは制御装置CONTにより制御される。本実施形態では、Z、θX及びθY方向に可動なテーブルに基板ホルダを形成しており、まとめて基板ホルダPHと呼んでいる。なお、テーブルと基板ホルダとを別々に構成し、例えば真空吸着などによって基板ホルダをテーブルに固定してもよい。また、Zステージは、例えば基板ホルダPH(テーブル)と、この基板ホルダPHをZ、θX及びθY方向に駆動するアクチュエータ(例えば、ボイスコイルモータなど)とで構成してもよい。
次に、図1の液体供給機構10は、所定の液体1を基板P上に供給するものであって、液体1を送出可能な液体供給部11と、液体供給部11にその一端部を接続する供給管12とを備えている。液体供給部11は、液体1を収容するタンク、フィルタ部、及び加圧ポンプ等を備えている。なお、液体供給機構10が、タンク、フィルタ部、加圧ポンプなどのすべてを備えている必要はなく、それらの少なくとも一部を、例えば露光装置EXが設置される工場などの設備で代用してもよい。
また、本例では液体の供給口13,14と回収口24とは同じノズル部材30に設けられているが、供給口13,14と回収口24は別の部材(ノズル部材など)に設けてもよい。例えば、供給口のみを別の部材に設けてもよいし、回収口のみを別の部材に設けてもよい。さらに、例えば国際公開第2005/122218号パンフレットに開示されているように、ノズル部材30の外側に液体回収用の第2の回収口(ノズル)を設けてもよい。さらに、図1において、供給口13及び14を異なる別の液体供給部に連通させて、供給口13及び14から互いに独立に供給量が制御できる状態で液体1を液浸領域AR2に供給するようにしてもよい。
図1において、計測ステージMSTは、Y方向に細長い長方形状でX方向(走査方向)に駆動されるXステージ181と、この上に例えばエアベアリングを介して載置されたレベリングテーブル188と、このレベリングテーブル188上に配置された計測ユニットとしての計測テーブルMTBとを備えている。一例として、計測テーブルMTBはレベリングテーブル188上にエアベアリングを介して載置されているが、計測テーブルMTBをレベリングテーブル188と一体化することも可能である。Xステージ181は、ベース54上に例えばエアベアリングを介してX方向に移動自在に載置されている。
図1において、基板P上には複数のショット領域が設定されており、本例の制御装置CONTは、投影光学系PLの光軸AX(投影領域AR1)に対して基板Pが所定経路に沿って進むように、レーザ干渉計56Bの出力をモニタしつつ基板ステージPSTを移動し、複数のショット領域を順次ステップ・アンド・スキャン方式で露光する。すなわち、露光装置EXによる走査露光時には、投影光学系PLによる矩形状の投影領域AR1にマスクMの一部のパターン像が投影され、投影光学系PLに対して、マスクMがX方向に速度Vで移動するのに同期して、基板ステージPSTを介して基板PがX方向に速度β・V(βは投影倍率)で移動する。そして、基板P上の1つのショット領域への露光終了後に、基板Pのステップ移動によって次のショット領域が走査開始位置に移動し、以下、図5に示すように、ステップ・アンド・スキャン方式で基板Pを移動しながら各ショット領域に対する走査露光処理が順次行われる。
基板P上に供給された液体1は、基板Pの動きに合わせて投影光学系PLの下を流れる。例えば、あるショット領域の露光中に基板Pが+X方向に移動しているときには、液体1は基板Pと同じ方向である+X方向に、ほぼ基板Pと同じ速度で、投影光学系PLの下を流れる。この状態で、照明光学系ILより射出されマスクMを通過した露光光ELが投影光学系PLの像面側に照射され、これによりマスクMのパターンが投影光学系PL及び液浸領域AR2の液体1を介して基板Pに露光される。制御装置CONTは、露光光ELが投影光学系PLの像面側に照射されているときに、すなわち基板Pの露光動作中に、液体供給機構10による基板P上への液体1の供給を行う。露光動作中に液体供給機構10による液体1の供給を継続することで液浸領域AR2は良好に形成される。一方、制御装置CONTは、露光光ELが投影光学系PLの像面側に照射されているときに、すなわち基板Pの露光動作中に、液体回収機構20による基板P上の液体1の回収を行う。露光動作中に(露光光ELが投影光学系PLの像面側に照射されているときに)、液体回収機構20による液体1の回収を継続的に実行することで、液浸領域AR2の拡大を抑えることができる。
なお、液浸領域AR2を、基板ステージPSTと計測ステージMSTとの間で移動する動作、及び基板Pの交換中における計測ステージMSTの計測動作の詳細は、国際公開第2005/074014号パンフレット(対応する欧州特許出願公開第1713113号明細書)、国際公開第2006/013806号パンフレットなどに開示されている。また、基板ステージと計測ステージを備えた露光装置は、例えば特開平11−135400号公報(対応する国際公開第1999/23692号パンフレット)、特開2000−164504号公報(対応する米国特許6,897,963号)に開示されている。指定国及び選択国の国内法令が許す限りにおいて、米国特許6,897,963号の開示を援用して本文の記載の一部とする。
上記の如き露光工程において、図1の基板Pと液浸領域AR2の液体1とが接触すると、基板Pの一部の成分が液体1中に溶出することがある。例えば、基板P上の感光性材料として化学増幅型レジストが使われている場合、その化学増幅型レジストは、ベース樹脂、ベース樹脂中に含まれる光酸発生剤(PAG:Photo Acid Generator)、及びクエンチャーと呼ばれるアミン系物質を含んで構成されている。そのようなレジストが液体1に接触すると、レジストの一部の成分、具体的にはPAG及びアミン系物質等が液体1中に溶出することがある。また、基板Pの基材自体(例えばシリコン基板)と液体1とが接触した場合にも、その基材を構成する物質によっては、その基材の一部の成分(シリコン等)が液体1中に溶出する可能性がある。
(A1)図7(B)に示すように、洗浄液1Aが回収口24及び供給口13,14を通してノズル部材30の内部に供給されるため、液浸法で露光を行う際にノズル部材30内に蓄積される異物の少なくとも一部を洗浄液1Aとともに除去できる。この際に、計測ステージMSTを用いて洗浄液1Aを供給しているため、基板Pが保持されている基板ステージPSTに影響を及ぼすことなく、かつ例えばベースライン量の計測時等に効率的に液体供給機構10及び液体回収機構20のメンテナンス(ひいては露光装置のメンテナンス)を行うことができる。その結果、その後の露光工程において、基板P上の液浸領域AR2の液体中の異物の量が減少するため、転写されるパターンの形状誤差等が低減され、高精度に露光を行うことができる。
(A2)また、図7(B)に示すように、洗浄液1Aは、計測ステージMST上部の計測テーブルMTB上面に設けられたプール部60からその上面にオーバフローするように供給されているため、計測テーブルMTBのZ方向の位置を変えることなく、簡単な構成でノズル部材30に洗浄液1Aを供給できる。
また、図1において、本例の計測ステージMSTにはレベリングテーブル188が設けられている。そこで、レベリングテーブル188のZ方向の駆動量を大きくして、図7(B)において、プール部60に洗浄液1Aを満たした状態で、計測テーブルMTBを上方(+Z方向)に上昇させて、プール部60の洗浄液1A内にノズル部材30の底面部を浸漬させてもよい。これによっても、供給口13,14及び回収口24(メッシュフィルタ25)を通してノズル部材30内に洗浄液1Aを供給できる。この後、必要に応じて超音波洗浄を行ってから、計測テーブルMTBを降下させることによって、ノズル部材30内の異物は除去されてプール部60内に沈澱する。なお、露光装置EXがノズル部材30の着脱機構(又は交換機構)を備えている場合、この機構によってノズル部材30を下方(−Z方向)に下降させて洗浄液1Aに浸漬させてもよい。
(A4)また、上記の洗浄工程は、洗浄液1Aを超音波で振動させる工程を含むため、ノズル部材30の洗浄効果を高めることができる。ただし、この超音波洗浄は必ずしも必要ではない。
なお、洗浄液1Aの回収は、図1の液浸露光用の液体の液体回収部21によって行うことも可能である。これによって、液体回収機構(ひいては洗浄機構)の全体を簡素化できる。
(A6)また、上記の実施形態では、液浸露光用の液体1と洗浄液1Aとは異なる種類であるため、洗浄液1Aとして溶剤等の洗浄効果の高い液体を使用することができる。
また、上述の実施形態では、可撓性を持つ配管63A,63Bを介して計測ステージMSTと洗浄液供給部62及び洗浄液回収部65とが連結されているが、例えば洗浄動作以外の動作(計測動作など)を行うときは、その配管63A,63Bによる連結を解除することとしてもよい。これにより、その計測動作時などで、その計測ステージMSTを高精度に移動(位置制御)することが可能になる。また、上述の実施形態では、計測ステージMSTに洗浄機構の少なくとも一部を設けるものとしたが、これに限らず、計測ステージMSTと異なる可動体(例えば、洗浄専用のステージなどの可動ステージ)を設けて、この可動体上で同様に洗浄を行うこととしてもよい。
次に、本発明の第2実施形態について、図8から図11を参照して説明する。図8から図11において、第1実施形態における構成要素と同一の構成要素には、同一符号を付してその説明を省略する。本実施形態では、計測テーブルMTB、及びノズル部材30の内部構造、並びに洗浄工程が第1実施形態と異なるが、露光工程は第1実施形態と同様である。計測テーブルMTB、及びノズル部材30の内部構造について、図8、及び図11を参照して説明する。
図11(A)に示すように、本実施形態のノズル部材30の回収口24内のメッシュフィルタ25の上部の空間(所定空間)には、複数の回転可能(又は振動可能でもよい)に支持された攪拌子267A,267B等が配置されている。攪拌子267A,267B等は実際には等間隔で例えば4箇所に設置されているが、以下ではこれらを攪拌子267A,267Bで代表的に示す。本例の攪拌子267A,267Bは、ロッド状の永久磁石よりなるマグネティック・スターラーである。これに対応して、計測ステージMSTの計測テーブルMTBの上部(図9参照)には、攪拌子267A,267Bを同時に非接触で回転又は振動させるためのそれぞれ複数の電磁コイルを含む駆動部268A,268B,268C,268Dが埋設されている。なお、1箇所の駆動部268Aで複数の攪拌子267A,267Bを順次駆動してもよい。
(B1)図11(B)に示すように、洗浄液201Aがノズル部材30の回収口24内の空間に供給されるため、液浸法で露光を行う際にノズル部材30内に蓄積される異物の少なくとも一部を洗浄液201Aとともに除去できる。この際に、ノズル部材30の内部で攪拌子267A,267B(又は超音波振動子等)によって洗浄液201Aを振動させているため、ノズル部材30内部を迅速に洗浄できる。このため、効率的に液体供給機構10及び液体回収機構20のメンテナンス(ひいては露光装置のメンテナンス)を行うことができる。その結果、その後の露光工程において、基板P上の液浸領域AR2の液体中の異物の量が減少するため、転写されるパターンの形状誤差等が低減され、高精度に露光を行うことができる。
(B2)また、図1の洗浄液供給部26からノズル部材30内に洗浄液201Aを供給する場合には、洗浄液201Aは、液浸法による露光時に液浸領域AR2に供給される液体1が回収される回収管22の一部及び回収流路84に沿ってノズル部材30内に供給される。このため、洗浄液201Aの供給機構(ひいては洗浄機構)を簡素化できる。
(B6)また、上記の実施形態では、液浸露光用の液体1と洗浄液201Aとは異なる種類であるため、洗浄液201Aとして溶剤等の洗浄効果の高い液体を使用することができる。
なお、洗浄液201Aとして液体1そのものを用いることも可能であり、この場合には、図1の洗浄液供給部26を図1の液体供給部11で兼用することが可能となり、液体及び洗浄液の供給機構(ひいては洗浄機構)の構成を簡素化できる。
次に、本発明の第3の実施形態につき図12及び図13を参照して説明する。この実施形態の露光装置も基本的に図1の露光装置EXと同じ構成であるが、この実施形態の露光装置ではノズル部材30を洗浄するための洗浄機構が異なっている。なお、図12及び13において、第1実施形態における構成要素と同一の構成要素には、同一符号を付してその説明を省略する。
図12は、本実施形態の計測ステージMST上の計測テーブルMTBを示す断面図であり、この図12において、計測テーブル本体159の上面(プレート101)に洗浄液を噴出するための噴出口386aが形成され、これを囲むように複数の気体の吸引口(代表的に2つの吸引口387Aa,387Baで表す)が形成されている。なお、その洗浄液を噴出する態様として本実施形態では、その洗浄液を霧状にして噴霧するものとする。なお、その洗浄液の噴出の別の態様として、その洗浄液を高圧で噴出させて高圧洗浄を行ってもよい。これらの態様を汚れの程度に応じて使い分けることも可能である。
先ず、図13(A)に示すように、投影光学系PLの先端の光学素子2を囲むように支持部材33A及び33Bによって不図示のコラム機構に支持されているノズル部材30の回収口24の底面に、計測テーブルMTB上の洗浄液の噴出口386aが移動する。
(C1)図13(B)に示すように、ノズル部材30を洗浄するために、計測テーブルMTB(計測ステージMST)側からノズル部材30の回収口24及び供給口13,14に向けて洗浄液301Bを噴出するため、ノズル部材30内に付着している異物を効率的に除去できる。このため、効率的に液体供給機構10及び液体回収機構20のメンテナンス(ひいては露光装置のメンテナンス)を行うことができる。
(C2)また、本実施形態では洗浄液が噴出された雰囲気中の気体を吸引する差動排気を用いているため、除去された異物を効率的に回収できる。
(C3)また、計測ステージMST側から洗浄液をノズル部材30の回収口24又は供給口13,14の一部に噴出しながら、図13(C)に示すようにノズル部材30と計測ステージMSTとを相対移動する工程を含むため、噴出口386aが1箇所であっても、それよりも広いノズル部材30の全面の洗浄を行うことができる。なお、複数の噴出口を計測テーブルMTBに設けてもよい。また、本実施形態ではノズル部材30の液体1の通過口(供給口と回収口との少なくとも一方を含む)を洗浄するものとしたが、この通過口以外のノズル部材30の接液領域(メッシュフィルタ25以外のノズル部材30の下面など)を洗浄してもよい。また、例えばノズル部材30の回収口を囲む下面(基板P側を向く面)に、回収口の外側に流出した液体1を捕捉する液体トラップ面(傾斜面)が形成される場合、同様にこのトラップ面を洗浄してもよい。
(C5)また、本実施形態では、液浸露光用の液体1と洗浄液301Bとは異なる種類であるため、洗浄液301Bとして溶剤等の洗浄効果の高い液体を使用することができる。なお、洗浄液301Bとして液体1そのものを用いることも可能である。また、上記洗浄時の液体の飛散などが問題なければ、必ずしも吸引装置365Aを設けなくてもよい。
ここで、上記の実施形態では、例えばメンテナンス時にノズル部材30の洗浄を行っているが、以下のようにしてノズル部材30の回収口24等の汚染状態のモニタを行い、そのモニタの結果、ノズル部材30の汚染状態が所定の許容範囲を超えた場合に、上記の実施形態の方法を用いてノズル部材30の洗浄を行うようにしてもよい。
その汚染状態のモニタを行う場合、予め図1の露光装置EXの基板カセット(不図示)内に洗浄済みの基板を格納しておく。その洗浄済みの基板は、露光装置EXにおいて液体供給装置11又は洗浄液供給部26からの液体で洗浄しておいたものでもよく、不図示のコータ・デベロッパ内で洗浄しておいたものでもよい。その洗浄済みの基板を基板ホルダPH上にロードして、液浸法による露光を行った後、アンロードする。
次に、本発明の第4実施形態について、図14から図17を参照して説明する。図14から図17においても、第1実施形態における構成要素と同一の構成要素には、同一符号を付してその説明を省略する。本実施形態では、計測テーブルMTBの内部構造、及び洗浄工程が第1実施形態と異なるが、露光工程は第1実施形態と同様である。計測テーブルMTBの構造について、図14、及び図15を参照して説明する。図15に示すように、計測テーブルMTB上にはほぼ矩形の凹部からなり、洗浄液を一時的に収容するためのプール部460が形成されている。プール部460は、図3のノズル部材30の底面よりも僅かに広い大きさであり、計測テーブルMTBには図14に示すように、プール部460内の洗浄液を回収するための洗浄液回収部465が接続されているとともに、ノズル部材30の洗浄を行うための可動のブラシ機構(清掃部材)が設けられている。
(D1)図17(B)に示すように、ノズル部材30を洗浄するために、計測ステージMST(計測テーブルMTB)側からノズル部材30の回収口24を含む領域を、可撓性を持つブラシ部材468で磨くため、回収口24に固く付着した異物を効率的に除去できる。この際に、計測ステージMST上にブラシ部材468を設けているため、基板Pが保持されている基板ステージPSTに影響を及ぼすことなく、かつ例えばベースライン量の計測時等に効率的に液体供給機構10及び液体回収機構20のメンテナンス(ひいては露光装置のメンテナンス)を行うことができる。その結果、その後の露光工程において、基板P上の液浸領域AR2の液体中の異物の量が減少するため、転写されるパターンの形状誤差等が低減され、高精度に露光を行うことができる。
(D2)また、図17(B)に示すように、ブラシ部材468とノズル部材30とを相対的に振動させているため、例えばノズル部材30に固く付着した異物も容易に除去できる。なお、ブラシ部材468を振動させる代わりに、例えばノズル部材30及び/又は計測テーブルMTBを駆動して、ノズル部材30とブラシ部材468とをZ方向に相対振動させてもよい。
(D4)また、ノズル部材30は、投影光学系PLの像面に最も近い光学素子2を囲むように配置されるとともに、ノズル部材30の回収口24にメッシュフィルタ25が設けられており、上記の洗浄工程では、メッシュフィルタ25の実質的に全面がブラシ部材468で磨かれる。従って、メッシュフィルタ25に付着した異物を効率的に除去できる。なお、本実施形態ではノズル部材30の液体1の通過口(供給口と回収口との少なくとも一方を含む)を洗浄するものとしたが、この通過口以外のノズル部材30の接液領域を洗浄してもよい。
なお、洗浄液401Aとして液体1そのものを用いることも可能であり、この場合には、図1の洗浄液供給部26を図1の液体供給部11で兼用することが可能となり、液体供給機構の構成を簡素化できる。
第4実施形態では、図17(A)に示すように、計測ステージMSTの計測テーブルMTB上の昇降可能なブラシフレーム467で支持したブラシ部材468を用いてノズル部材30の洗浄(清掃)を行っている。これとは別に、図18に示すように、自走ロボットに設けたブラシ部材でノズル部材30の洗浄を行うようにしてもよい。
図17(A)に対応する部分に同一符号を付して示す図18において、計測テーブルMTBの上面に格納用の凹部475が形成され、凹部475の中央部に支持板476が昇降軸477に支持されている。図1の制御装置CONTが、図18の駆動部478を介して昇降軸477を投影光学系PLの光軸方向(Z方向)に昇降させることで、支持板476を凹部475の底面と計測テーブルMTBの上面近傍の位置との間で移動させることができる。
このように自走ロボット479を用いてブラシ部材488とノズル部材30とを相対移動させることによっても、ノズル部材30を効率的に洗浄できる。この変形例によれば、ノズル部材30の回収口24等の形状が変更された場合でも、同じ自走ロボット479を用いてその洗浄を行うことができる。
また、図19に示すように、露光対象の基板Pと同じ外形であるがレジストの塗布されていないダミー基板CPを用意しておき、このダミー基板CPの上面にノズル部材30の下面の回収口24及び/又は供給口13,14の全面を覆う形状のブラシ部材488Aを設けておいてもよい。この例でノズル部材30の洗浄を行う際には、基板ステージPST上の基板ホルダPH上に露光対象の基板の代わりに、ダミー基板CPをロードする。この際に、基板ステージPSTのZステージを介して基板ホルダPHの上面のZ位置を最も下げた状態で、ブラシ部材488Aの上端がほぼノズル部材30の下面に接するように、ブラシ部材488Aの高さを調整しておく。
次に、本発明の第5実施形態につき図20を参照して説明する。図20において図1に対応する部分には同一符号を付してその詳細説明を省略する。
図20は、本例の露光装置の投影光学系PLの下部及び基板ステージPSTの構成を示し、この図20において、投影光学系PLの最下端の光学素子2を囲むように液浸空間形成部材としてのリング状のノズル部材530Aが設置され、液浸法による露光時には基板ホルダPH上に露光対象の基板がロードされ、図1の液体供給機構10と同様の液体供給機構から供給される液体1がノズル部材530Aの供給口13,14を介してその基板上に供給される。
次に、本発明の第6実施形態につき図21を参照して説明する。図21において図5及び図6に対応する部分には同一符号を付してその詳細説明を省略する。
図21は、本例の露光装置の基板ステージPST及び計測ステージMSTを含むステージ系を示し、この図21において、計測ステージMSTの計測テーブルMTBは、不図示の交換機構によって外部に載置されている多目的の工具テーブル696(可動体)と交換できるように構成されている。その工具テーブル696には、計測テーブルMTBと同様に、X軸の反射鏡655DX、Y軸の反射鏡655DY、移動子170と同様の移動子670A、並びに移動子166A及び166Bと同様の移動子666C及び666Dが固定されている。従って、計測テーブルMTBと工具テーブル696とを交換した場合、工具テーブル696の位置は、レーザ干渉計56C及び56BYによって計測できるとともに、工具テーブル696の移動子670Aと計測ステージMSTの固定子171とからなるY軸のリニアモータと、工具テーブル696の移動子666C及び666Dと計測ステージMSTの固定子167とからなるX軸のアクチュエータとによって、工具テーブル696の位置及び回転角を計測テーブルMTBと同様に制御することができる。
なお、本発明は、各種計測器類を基板ステージPSTに搭載した露光装置(計測ステージMSTを備えていない露光装置)にも適用することができる。また、各種計測器類はその一部のみが計測ステージMSTまたは基板ステージPSTに搭載され、残りは外部あるいは別の部材に設けるようにしてもよい。
また、本発明は、例えば国際公開第2001/035168号パンフレットに開示されているように、干渉縞を基板P上に形成することによって、基板P上にライン・アンド・スペースパターンを形成する露光装置にも適用できる。この場合も、光学部材と基板Pとの間の液体を介して基板Pに露光光が照射される。
このように本発明は上述の実施形態、及び変形例に限定されず、本発明の要旨を逸脱しない範囲で種々の構成を取り得る。
Claims (163)
- 基板ステージに保持される基板と光学部材との間を第1液体で満たして液浸空間を形成し、露光光で前記光学部材と前記第1液体とを介して前記基板を露光する露光装置のメンテナンス方法であって:
前記第1液体で前記液浸空間を形成する液浸空間形成部材と対向して、前記基板ステージとは独立して可動のステージを配置する移動工程と、
前記液浸空間形成部材と前記可動のステージとの間に第2液体を供給して前記液浸空間形成部材を洗浄する洗浄工程とを有するメンテナンス方法。 - 前記可動のステージは、計測部材を有する計測ステージを含む請求項1に記載のメンテナンス方法。
- さらに投影光学系を備え、前記光学部材が投影光学系の一部である請求項1又は2に記載のメンテナンス法。
- 前記洗浄工程では、前記液浸空間形成部材の前記第1液体の通過口が少なくとも洗浄される請求項1から3のいずれか一項に記載のメンテナンス方法。
- 前記通過口は、前記液浸空間形成部材の前記第1液体の供給口及び回収口の少なくとも一方を含む請求項4に記載のメンテナンス方法。
- 前記通過口に設けられる網目状のフィルタ部材が少なくとも洗浄される請求項4又は5に記載のメンテナンス方法。
- 前記洗浄工程では、前記液浸空間形成部材の網目状のフィルタ部材が少なくとも洗浄される請求項1から3のいずれか一項に記載のメンテナンス方法。
- 前記洗浄工程では、前記第1液体と接する前記液浸空間形成部材の少なくとも一部が前記第2液体に浸漬される請求項1から7のいずれか一項に記載のメンテナンス方法。
- 前記第2液体は、前記可動のステージの上面に設けられた凹部からその上面にオーバフローするように供給される請求項8に記載のメンテナンス方法。
- 前記洗浄工程は、前記第2液体を超音波で振動させる工程を含む請求項1から9のいずれか一項に記載のメンテナンス方法。
- 前記洗浄工程は、前記第2液体を回収する工程を含む請求項1から10のいずれか一項に記載のメンテナンス方法。
- 前記第1液体と前記第2液体とは異なる請求項1から11のいずれか一項に記載のメンテナンス方法。
- 露光光で光学部材と第1液体とを介して基板を露光する露光装置であって:
前記基板を保持する基板ステージと;
前記基板ステージに保持される前記基板と光学部材との間を第1液体で満たして液浸空間を形成する液浸空間形成部材と;
前記基板ステージとの交換で、前記液浸空間形成部材と対向して配置される可動ステージと;
前記可動ステージに少なくとも一部が設けられ、前記液浸空間形成部材との間に第2液体を供給して前記液浸空間形成部材を洗浄する洗浄機構とを有する露光装置。 - さらに投影光学系を備え、前記光学部材が投影光学系の一部である請求項13に記載の露光装置。
- 前記可動ステージは、前記基板の液浸露光に必要な情報の取得に用いられる計測部材を有する請求項13又は14に記載の露光装置。
- 前記計測部材は、前記露光光を検出するセンサと前記基板のアライメントに用いられる基準マークとの少なくとも一方を含む請求項15に記載の露光装置。
- 前記洗浄機構は、前記液浸空間形成部材の前記第1液体の通過口を少なくとも洗浄する請求項13から16のいずれか一項に記載の露光装置。
- 前記通過口は、前記液浸空間形成部材の前記第1液体の供給口及び回収口の少なくとも一方を含む請求項17に記載の露光装置。
- 前記液浸空間形成部材は、前記第1液体の通過口に設けられる網目状のフィルタ部材を有する請求項17又は18に記載の露光装置。
- 前記洗浄機構は、前記液浸空間形成部材の網目状のフィルタ部材を少なくとも洗浄する請求項13から19のいずれか一項に記載の露光装置。
- 前記可動ステージは、前記第2液体が供給される凹部を有し、前記第1液体と接する前記液浸空間形成部材の少なくとも一部が前記第2液体に浸漬される請求項13から20のいずれか一項に記載の露光装置。
- 前記洗浄機構は、前記凹部から前記可動ステージの上面にオーバフローするように前記第2液体を供給する請求項21に記載の露光装置。
- 前記凹部は、前記液浸空間形成部材の網目状のフィルタ部材の実質的に全面を覆う大きさを持つ請求項21又は22に記載の露光装置。
- 前記第1液体と前記第2液体とは異なる請求項13から23のいずれか一項に記載の露光装置。
- 前記洗浄機構は、前記第2液体を振動させる超音波発生装置を備える請求項13から24のいずれか一項に記載の露光装置。
- 前記洗浄機構は、前記第2液体を回収する回収機構を有する請求項13から25のいずれか一項に記載の露光装置。
- 請求項13から26のいずれか一項に記載の露光装置を用いて基板を露光することと;
露光した基板を現像することと;
現像した基板を加工することを含むデバイス製造方法。 - 基板ステージに保持される基板と光学部材との間を第1液体で満たして液浸空間を形成し、露光光で前記光学部材と前記第1液体とを介して前記基板を露光する露光方法であって:
前記基板ステージとの交換で、前記第1液体で前記液浸空間を形成する液浸空間形成部材と対向して可動ステージを配置する移動工程と;
前記液浸空間形成部材と前記可動ステージとの間に第2液体を供給して前記液浸空間形成部材を洗浄する洗浄工程とを有する露光方法。 - 前記光学部材が投影光学系の一部である請求項28に記載の露光方法。
- 前記洗浄工程では、少なくとも前記基板の露光中に前記第1液体と接する前記液浸空間形成部材の少なくとも一部が洗浄される請求項28又は29に記載の露光方法。
- 前記洗浄工程では、前記液浸空間形成部材の前記第1液体の通過口が少なくとも洗浄される請求項28から30のいずれか一項に記載の露光方法。
- 前記洗浄工程では、前記液浸空間形成部材の網目状のフィルタ部材が少なくとも洗浄される請求項28から31のいずれか一項に記載の露光方法。
- 前記洗浄工程では、前記液浸空間形成部材の少なくとも一部が前記第2液体に浸漬される請求項28から32のいずれか一項に記載の露光方法。
- 前記洗浄工程では、前記第2液体を超音波で振動させる請求項28から33のいずれか一項に記載の露光方法。
- 前記洗浄工程では、前記第2液体を回収する請求項28から34のいずれか一項に記載の露光方法。
- 前記第1液体と前記第2液体とは異なる請求項28から35のいずれか一項に記載の露光方法。
- 請求項28から36のいずれか一項に記載の露光方法を用いて基板を露光することと;
露光した基板を現像することと;
現像した基板を加工することを含むデバイス製造方法。 - 光学部材と基板との間を第1液体で満たして液浸空間を形成し、前記光学部材と前記第1液体とを介して露光光で前記基板を露光する露光装置のメンテナンス方法であって:
前記第1液体で前記液浸空間を形成する液浸空間形成部材の前記第1液体の通過口と連通する所定空間内で第2液体を振動させて前記液浸空間形成部材を洗浄する洗浄工程を有するメンテナンス方法。 - 前記光学部材が前記露光装置の投影光学系の一部である請求項38に記載のメンテナンス方法。
- 前記第2液体は、前記第1液体の流路の少なくとも一部を介して前記液浸空間形成部材内の前記所定空間に供給される請求項38又は39に記載のメンテナンス方法。
- 前記第2液体は、前記通過口を介して前記液浸空間形成部材内の前記所定空間に供給される請求項38から40のいずれか一項に記載のメンテナンス方法。
- 前記洗浄工程では、前記液浸空間形成部材の通過口が少なくとも洗浄される請求項38から41のいずれか一項に記載のメンテナンス方法。
- 前記通過口は、前記液浸空間形成部材の前記第1液体の供給口及び回収口の少なくとも一方を含む請求項38から42のいずれか一項に記載のメンテナンス方法。
- 前記通過口に設けられる網目状のフィルタ部材が少なくとも洗浄される請求項38から43のいずれか一項に記載のメンテナンス方法。
- 前記洗浄工程では、前記液浸空間形成部材の網目状のフィルタ部材が少なくとも洗浄される請求項38から44のいずれか一項に記載のメンテナンス方法。
- 前記第2液体は、前記第1液体の回収路と少なくとも一部が共通の経路に沿って前記液浸空間形成部材に供給される請求項38から45のいずれか一項に記載のメンテナンス方法。
- 前記第2液体は、前記光学部材に対向して配置される可動部材から前記通過口を通して前記所定空間に供給される請求項38から46のいずれか一項に記載のメンテナンス方法。
- 前記洗浄工程は、前記第2液体を回収する工程を含む請求項38から47のいずれか一項に記載のメンテナンス方法。
- 光学部材と第1液体とを介して露光光で基板を露光する露光方法であって、
請求項38から48のいずれか一項に記載のメンテナンス方法を用いる工程を有する露光方法。 - 光学部材と第1液体とを介して露光光で基板を露光する露光方法であって、
前記光学部材と前記基板との間を前記第1液体で満たして液浸空間を形成する液浸空間形成部材の前記第1液体の通過口と連通する所定空間内で第2液体を振動させて前記液浸空間形成部材を洗浄することを含む露光方法。 - 請求項49又は50に記載の露光方法を用いて基板を露光することと;
露光した基板を現像することと;
現像した基板を加工することを含むデバイス製造方法。 - 光学部材と基板との間を第1液体で満たして液浸空間を形成し、前記光学部材と前記第1液体とを介して露光光で前記基板を露光する露光装置のメンテナンス方法であって:
前記第1液体で前記液浸空間を形成する液浸空間形成部材と対向して可動体を配置する移動工程と;
前記液浸空間形成部材を洗浄するために、前記可動体から前記液浸空間形成部材の前記第1液体の通過口に向けて第2液体を噴出する洗浄工程とを有するメンテナンス方法。 - 前記光学部材が前記露光装置の投影光学系の一部である請求項52に記載のメンテナンス方法。
- 前記通過口は、前記液浸空間形成部材の前記第1液体の供給口及び回収口の少なくとも一方を含む請求項52又は53に記載のメンテナンス方法。
- 前記洗浄工程では、前記通過口に設けられる網目状のフィルタ部材が少なくとも洗浄される請求項52から54のいずれか一項に記載のメンテナンス方法。
- 前記洗浄工程では、前記液浸空間形成部材の網目状のフィルタ部材が少なくとも洗浄される請求項52から55のいずれか一項に記載のメンテナンス方法。
- 前記洗浄工程は、前記第2液体が噴出された雰囲気中の気体を吸引する工程を含む請求項52から56のいずれか一項に記載のメンテナンス方法。
- 前記洗浄工程は、前記第2液体を噴出しながら前記液浸空間形成部材と前記可動体とを相対移動する工程を含む請求項52から57のいずれか一項に記載のメンテナンス方法。
- 前記第1液体と前記第2液体とは異なる請求項52から58のいずれか一項に記載のメンテナンス方法。
- 前記基板を保持する可動体と異なる可動体が用いられる請求項52から59のいずれか一項に記載のメンテナンス方法。
- 光学部材と第1液体とを介して露光光で基板を露光する露光方法であって、
請求項52から60のいずれか一項に記載のメンテナンス方法を用いる工程を有する露光方法。 - 光学部材と第1液体とを介して露光光で基板を露光する露光方法であって、
前記光学部材と前記基板との間を前記第1液体で満たして液浸空間を形成する液浸空間形成部材に向けて、前記基板を保持する可動体と異なる可動体から第2液体を噴出して、前記液浸空間形成部材を洗浄することを含む露光方法。 - 請求項61又は62に記載の露光方法を用いて基板を露光することと;
露光した基板を現像することと;
現像した基板を加工することを含むデバイス製造方法。 - 光学部材と第1液体とを介して露光光で基板を露光する露光装置であって:
前記光学部材と前記基板との間を前記第1液体で満たして液浸空間を形成する液浸空間形成部材と;
前記液浸空間形成部材の前記第1液体の通過口と連通する所定空間内に第2液体を供給する液体供給機構と;
前記所定空間内の前記第2液体を振動させる加振装置とを備える露光装置。 - さらに投影光学系を備え、前記光学部材が投影光学系の一部である請求項64に記載の露光装置。
- 前記液体供給機構は、前記通過口を介して前記所定空間に前記第2液体を供給する請求項64又は65に記載の露光装置。
- 前記所定空間内での前記第2液体の振動によって前記通過口が少なくとも洗浄される請求項64から66のいずれか一項に記載の露光装置。
- 前記通過口は、前記液浸空間形成部材の前記第1液体の供給口及び回収口の少なくとも一方を含む請求項64から67のいずれか一項に記載の露光装置。
- 前記液浸空間形成部材は、前記通過口に網目状のフィルタ部材が設けられる請求項64から68のいずれか一項に記載の露光装置。
- 前記所定空間内での前記第2液体の振動によって前記液浸空間形成部材の網目状のフィルタ部材が少なくとも洗浄される請求項64から69のいずれか一項に記載の露光装置。
- 前記液体供給機構は、前記第1液体の回収路と少なくとも一部が共通の経路に沿って前記液浸空間形成部材に前記第2液体を供給される請求項64から70のいずれか一項に記載の露光装置。
- 前記加振装置は、前記第2液体を攪拌する攪拌装置を含む請求項64から71のいずれか一項に記載の露光装置。
- 前記攪拌装置は、前記所定空間内に配置される攪拌子と、前記光学部材と対向して配置される可動部材に設けられて前記攪拌子を駆動する駆動装置とを含む請求項72に記載の露光装置。
- 前記液体供給装置は、前記光学部材に対向して配置される可動部材から前記通過口を通して前記所定空間に前記第2液体を供給する請求項64から73のいずれか一項に記載の露光装置。
- 前記可動部材は、前記基板を保持する可動部材と異なる請求項73又は74に記載の露光装置。
- 前記加振装置は、前記第2液体中に超音波を発生する超音波発生装置を含む請求項64から75のいずれか一項に記載の露光装置。
- 前記液体供給機構は、前記第1液体の流路と少なくとも一部が共通の供給路を有する請求項64から76のいずれか一項に記載の露光装置。
- 前記第2液体を回収する液体回収機構を備える請求項64から77のいずれか一項に記載の露光装置。
- 前記液体供給装置は、前記第2液体を収容する着脱自在の容器を有する請求項64から78のいずれか一項に記載の露光装置。
- 前記第1液体と前記第2液体とは異なる請求項64から79のいずれか一項に記載の露光装置。
- 請求項64から80のいずれか一項に記載の露光装置を用いて基板を露光することと;
露光した基板を現像することと;
現像した基板を加工することを含むデバイス製造方法。 - 光学部材と第1液体とを介して露光光で基板を露光する露光装置であって:
前記光学部材と前記基板との間を前記第1液体で満たして液浸空間を形成する液浸空間形成部材と;
前記液浸空間形成部材に対向して配置される可動体と;
前記液浸空間形成部材を洗浄するために、前記可動体から前記液浸空間形成部材の前記第1液体の通過口に向けて第2液体を噴出する噴出装置とを備える露光装置。 - さらに投影光学系を備え、前記光学部材が投影光学系の一部である請求項82に記載の露光装置。
- 前記通過口は、前記液浸空間形成部材の前記第1液体の供給口及び回収口の少なくとも一方を含む請求項82又は83に記載の露光装置。
- 前記液浸空間形成部材は、前記通過口に網目状のフィルタ部材が設けられる請求項82から84のいずれか一項に記載の露光装置。
- 前記第2液体の噴出によって前記液浸空間形成部材の網目状のフィルタ部材が少なくとも洗浄される請求項82から85のいずれか一項に記載の露光装置。
- 前記可動体の上面の噴出口の近傍から気体及び液体を吸引する吸引装置を備える請求項82から86のいずれか一項に記載の露光装置。
- 前記噴出装置によって前記第2液体を噴出しながら、前記液浸空間形成部材と前記可動体とを相対移動する制御装置を備える請求項82から87のいずれか一項に記載の露光装置。
- 前記可動体は、前記基板を保持する可動体と異なる請求項82から88のいずれか一項に記載の露光装置。
- 前記第1液体と前記第2液体とは異なる請求項82から89のいずれか一項に記載の露光装置。
- 請求項82から90のいずれか一項に記載の露光装置を用いて基板を露光することと;
露光した基板を現像することと;
現像した基板を加工することを含むデバイス製造方法。 - 光学部材と基板との間を第1液体で満たして液浸空間を形成し、前記光学部材と前記第1液体とを介して露光光で前記基板を露光する露光装置のメンテナンス方法であって:
前記第1液体で前記液浸空間を形成する液浸空間形成部材と対向して可動体を配置する移動工程と;
前記可動体に設けられる可撓性を持つ清掃部材で前記液浸空間形成部材を清掃する洗浄工程とを含むメンテナンス方法。 - 前記光学部材が前記露光装置の投影光学系の一部である請求項92に記載のメンテナンス方法。
- 前記洗浄工程は、前記清掃部材と前記液浸空間形成部材とを相対的に振動させる工程を含む請求項92又は93に記載のメンテナンス方法。
- 前記洗浄工程では、前記清掃部材による前記液浸空間形成部材の清掃に洗浄液が用いられる請求項92から94のいずれか一項に記載のメンテナンス方法。
- 前記洗浄液は、前記清掃部材と前記液浸空間形成部材との少なくとも一方から供給される請求項95に記載のメンテナンス方法。
- 前記洗浄工程は、前記清掃部材による清掃工程に続いて前記液浸空間形成部材に第2液体を供給する工程を含む請求項92から96のいずれか一項に記載のメンテナンス方法。
- 前記第1液体と前記第2液体とは異なる請求項97に記載のメンテナンス方法。
- 前記清掃部材は、前記可動体上を移動可能な自走機構に設けられる請求項92から98のいずれか一項に記載のメンテナンス方法。
- 前記清掃部材は、前記基板を保持する基板ステージ上に前記基板の代わりに配置されるダミー基板の表面に設けられる請求項92から99のいずれか一項に記載のメンテナンス方法。
- 前記可動体は、前記基板を保持する基板ステージ、又は該基板ステージとは独立して可動のステージである請求項92から100のいずれか一項に記載のメンテナンス方法。
- 前記可動体は、前記基板を保持する基板ステージ、又は該基板ステージとは独立して可動のステージのアクチュエータによって駆動される請求項92から101のいずれか一項に記載のメンテナンス方法。
- 前記可動体は、前記基板ステージ又は前記可動のステージとの交換又は連結によって、前記アクチュエータによる駆動が行われる請求項102に記載のメンテナンス方法。
- 前記洗浄工程では、前記液浸空間形成部材の通過口が少なくとも清掃される請求項92から103のいずれか一項に記載のメンテナンス方法。
- 前記通過口は、前記液浸空間形成部材の前記第1液体の供給口及び回収口の少なくとも一方を含む請求項104に記載のメンテナンス方法。
- 前記洗浄工程では、前記液浸空間形成部材の網目状のフィルタ部材が少なくとも清掃される請求項92から105のいずれか一項に記載のメンテナンス方法。
- 光学部材と第1液体とを介して露光光で基板を露光する露光方法であって:
請求項92から106のいずれか一項に記載のメンテナンス方法を用いる工程を有する露光方法。 - 光学部材と第1液体とを介して露光光で基板を露光する露光方法であって、
前記光学部材と前記基板との間を前記第1液体で満たして液浸空間を形成する液浸空間形成部材と対向して可動体を配置し、前記可動体の可撓性を持つ清掃部材で前記液浸空間形成部材を清掃することを含む露光方法。 - 請求項107又は108に記載の露光方法を用いて基板を露光することと;
露光した基板を現像することと;
現像した基板を加工することを含むデバイス製造方法。 - 光学部材と基板との間を第1液体で満たして液浸空間を形成し、前記光学部材と前記第1液体とを介して露光光で前記基板を露光する露光装置のメンテナンス方法であって:
前記第1液体で前記液浸空間を形成する液浸空間形成部材と対向して可動体を配置し、前記第1液体を前記可動体上に供給する液浸工程と;
前記露光時に前記液浸空間を囲むように供給される気体を用いて、前記液浸空間形成部材を清掃する洗浄工程とを含むメンテナンス方法。 - 前記光学部材が前記露光装置の投影光学系の一部である請求項110に記載のメンテナンス方法。
- 前記洗浄工程では、前記第1液体を介して前記気体が前記液浸空間形成部材の前記第1液体の通過口に供給される請求項110又は111に記載のメンテナンス方法。
- 前記液浸工程において、前記第1液体が供給される前記可動体の表面が多孔質である請求項110から112のいずれか一項に記載のメンテナンス方法。
- 前記液浸工程において、前記基板の代わりに表面が多孔質のダミー基板を前記可動体に配置し、前記ダミー基板上に前記第1液体を供給する請求項110から113のいずれか一項に記載のメンテナンス方法。
- 前記洗浄工程では、前記液浸空間形成部材の前記第1液体の供給口及び回収口の少なくとも一方が少なくとも清掃される請求項110から114のいずれか一項に記載のメンテナンス方法。
- 前記洗浄工程では、前記液浸空間形成部材の網目状のフィルタ部材が少なくとも清掃される請求項110から116のいずれか一項に記載のメンテナンス方法。
- 前記洗浄工程では、前記第1液体と接する前記液浸空間形成部材の少なくとも一部が清掃される請求項110から116のいずれか一項に記載のメンテナンス方法。
- 光学部材と第1液体とを介して露光光で基板を露光する露光方法であって:
請求項110から117のいずれか一項に記載のメンテナンス方法を用いる工程を有する露光方法。 - 光学部材と第1液体とを介して露光光で基板を露光する露光方法であって:
前記第1液体で前記液浸空間を形成する液浸空間形成部材と対向して可動体を配置し、前記第1液体を前記可動体上に供給するとともに、前記露光時に前記液浸空間を囲むように供給される気体を用いて、前記液浸空間形成部材を清掃することを含む露光方法。 - 請求項118又は119に記載の露光方法を用いて基板を露光することと;
露光した基板を現像することと;
現像した基板を加工することを含むデバイス製造方法。 - 光学部材と基板との間を第1液体で満たして液浸空間を形成し、前記光学部材と前記第1液体とを介して露光光で前記基板を露光する露光装置であって:
前記第1液体で前記液浸空間を形成する液浸空間形成部材と;
前記光学部材に対向して配置される可動体と;
前記可動体に配置される可撓性を持つ清掃部材を有し、前記清掃部材と前記液浸空間形成部材の少なくとも一部とを接触させつつ相対移動して、前記液浸空間形成部材を洗浄する洗浄機構とを備える露光装置。 - さらに投影光学系を備え、前記光学部材が投影光学系の一部である請求項121に記載の露光装置。
- 前記洗浄機構は、前記清掃部材と前記液浸空間形成部材とを相対的に振動させる請求項121又は122に記載の露光装置。
- 前記洗浄機構は、前記液浸空間形成部材の通過口を少なくとも洗浄する請求項121から123のいずれか一項に記載の露光装置。
- 前記通過口は、前記液浸空間形成部材の前記第1液体の供給口及び回収口の少なくとも一方を含む請求項124に記載の露光装置。
- 前記洗浄機構は、前記液浸空間形成部材の網目状のフィルタ部材を少なくとも洗浄する請求項121から125のいずれか一項に記載の露光装置。
- 前記洗浄機構は、前記液浸空間形成部材と前記清掃部材との接触部に洗浄液を供給する請求項121から126のいずれか一項に記載の露光装置。
- 前記洗浄機構は、前記清掃部材と前記液浸空間形成部材との少なくとも一方から前記洗浄液を供給する請求項127に記載の露光装置。
- 前記洗浄機構は、前記液浸空間形成部材から前記清掃部材に向けて前記洗浄液を供給する請求項127に記載の露光装置。
- 前記洗浄機構は、前記清掃部材の隙間から前記液浸空間形成部材に向けて前記洗浄液を供給する請求項127又は129に記載の露光装置。
- 前記洗浄機構は、前記清掃部材と前記液浸空間形成部材との接触時、又は前記清掃部材による洗浄動作後に、前記液浸空間形成部材に第2液体を供給する請求項121から130のいずれか一項に記載の露光装置。
- 前記第1液体と前記第2液体とは異なる請求項131に記載の露光装置。
- 前記洗浄機構は、前記可動体上を前記清掃部材を保持して移動可能な自走機構を含む請求項121から132のいずれか一項に記載の露光装置。
- 前記清掃部材は、前記基板を保持する基板ステージ上に前記基板の代わりに配置されるダミー基板の表面に設けられる請求項121から133のいずれか一項に記載の露光装置。
- 前記可動体は、前記基板を保持する基板ステージ、又は該基板ステージとは独立して可動のステージである請求項121から134のいずれか一項に記載の露光装置。
- 前記可動体は、前記基板を保持する基板ステージ、又は該基板ステージとは独立して可動のステージのアクチュエータによって駆動される請求項121から135のいずれか一項に記載の露光装置。
- 前記可動体は、前記基板ステージ又は前記可動のステージとの交換又は連結によって、前記アクチュエータによる駆動が行われる請求項136に記載の露光装置。
- 請求項121から137のいずれか一項に記載の露光装置を用いて基板を露光することと;
露光した基板を現像することと;
現像した基板を加工することを含むデバイス製造方法。 - 光学部材と基板との間を第1液体で満たして液浸空間を形成し、前記光学部材と前記第1液体とを介して露光光で前記基板を露光する露光装置であって:
前記第1液体で前記液浸空間を形成する液浸空間形成部材と;
前記基板の露光時に前記液浸空間を囲むように気体を供給する気体供給機構と;
前記光学部材と対向して配置される可動体と;
前記第1液体を前記液浸空間形成部材を介して前記可動体上に供給する液体供給部と;
前記可動体上の前記第1液体が供給された領域に前記気体供給機構から前記気体を供給して前記液浸空間形成部材を洗浄する制御装置とを備える露光装置。 - さらに投影光学系を備え、前記光学部材が投影光学系の一部である請求項139に記載の露光装置。
- 前記気体供給機構は、前記第1液体を介して前記気体を前記液浸空間形成部材の前記第1液体の通過口に供給する請求項139又は140に記載の露光装置。
- 前記通過口は、前記液浸空間形成部材の前記第1液体の供給口及び回収口の少なくとも一方を含む請求項141に記載の露光装置。
- 前記通過口に網目状のフィルタ部材が設置されている請求項141又は142に記載の露光装置。
- 前記第1液体が供給される前記可動体の表面が多孔質である請求項139から143のいずれか一項に記載の露光装置。
- 前記気体供給機構は、前記気体を前記液浸空間形成部材の前記第1液体の回収口及び/又は網目状のフィルタ部材に少なくとも供給する請求項139から144のいずれか一項に記載の露光装置。
- 請求項139から145のいずれか一項に記載の露光装置を用いて基板を露光することと;
露光した基板を現像することと;
現像した基板を加工することを含むデバイス製造方法。 - 光学部材と第1液体とを介して露光光で基板を露光する露光装置のメンテナンス方法であって、
前記基板を保持する第1可動部材と異なる第2可動部材に少なくとも一部が設けられる洗浄部材によって、前記第1液体と接する接液部を洗浄することを含むメンテナンス方法。 - 前記洗浄時に第2液体を用いる請求項147に記載のメンテナンス方法。
- 前記洗浄時に前記第2液体を振動させる請求項148に記載のメンテナンス方法。
- 前記第2液体は、前記第1液体と異なる洗浄用の液体である請求項148又は149に記載のメンテナンス方法。
- 前記洗浄時に前記洗浄部材を前記接液部に接触させる請求項147から150のいずれか一項に記載のメンテナンス方法。
- 前記接液部は、前記光学部材と前記基板との間を前記第1液体で満たして液浸空間を形成するノズル部材を含む請求項147から151のいずれか一項に記載のメンテナンス方法。
- 光学部材と第1液体とを介して露光光で基板を露光する露光方法であって、
請求項147から152のいずれか一項に記載のメンテナンス方法を用いる工程を含む露光方法。 - 光学部材と第1液体とを介して露光光で基板を露光する露光方法であって、
前記基板を保持する第1可動部材と異なる第2可動部材に少なくとも一部が設けられる洗浄部材によって、前記第1液体と接する接液部を洗浄することを含む露光方法。 - 請求項153又は154に記載の露光方法を用いて基板を露光することと;
露光した基板を現像することと;
現像した基板を加工することを含むデバイス製造方法。 - 光学部材と第1液体とを介して露光光で基板を露光する露光装置であって、
前記基板を保持する第1可動部材と、
前記第1可動部材と異なる第2可動部材と、
前記第2可動部材に少なくとも一部が設けられ、前記第1液体と接する接液部を洗浄する洗浄部材とを備える露光装置。 - 前記洗浄部材は、前記洗浄時に第2液体を用いる請求項156に記載の露光装置。
- 前記洗浄部材は、前記第2液体を振動させる超音波振動子を含む請求項157に記載の露光装置。
- 前記洗浄部材は、前記洗浄時に前記接液部に接触する請求項156から158のいずれか一項に記載の露光装置。
- 前記第2可動部材はその上面に計測部材の少なくとも一部が設けられる請求項156から159のいずれか一項に記載の露光装置。
- 光学部材と第1液体とを介して露光光で基板を露光する露光装置であって、
前記光学部材と対向して配置される可動部材と、
前記可動部材に少なくとも一部が設けられ、前記第1液体と接する接液部と清掃部材を接触させつつ相対移動して前記接液部を洗浄する洗浄機構とを備える露光装置。 - 前記光学部材と前記基板との間を前記第1液体で満たして液浸空間を形成するノズル部材を備え、前記接液部は前記ノズル部材を含む請求項156から161のいずれか一項に記載の露光装置。
- 請求項156から162のいずれか一項に記載の露光装置を用いて基板を露光することと;
露光した基板を現像することと;
現像した基板を加工することを含むデバイス製造方法。
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