JP2007528607A5 - - Google Patents
Download PDFInfo
- Publication number
- JP2007528607A5 JP2007528607A5 JP2007502838A JP2007502838A JP2007528607A5 JP 2007528607 A5 JP2007528607 A5 JP 2007528607A5 JP 2007502838 A JP2007502838 A JP 2007502838A JP 2007502838 A JP2007502838 A JP 2007502838A JP 2007528607 A5 JP2007528607 A5 JP 2007528607A5
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- target
- start site
- plasma
- path
- image
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Granted
Links
- 210000002381 Plasma Anatomy 0.000 claims 16
- 238000003384 imaging method Methods 0.000 claims 10
- 238000004458 analytical method Methods 0.000 claims 5
- 238000001514 detection method Methods 0.000 claims 4
- 238000006073 displacement reaction Methods 0.000 claims 3
- 238000000926 separation method Methods 0.000 claims 3
- 230000000875 corresponding Effects 0.000 claims 2
- 230000000977 initiatory Effects 0.000 claims 2
Claims (11)
- プラズマ開始ターゲットを送出するようになったターゲット送出システムと、望ましいプラズマ開始サイトを定める焦点を有するEUV光集光光学器械とを含むレーザ生成プラズマ(LPP)極紫外線(EUV)光源制御システムであって、
ターゲット追跡及びフィードバックシステム、
を含み、
前記ターゲット追跡及びフィードバックシステムは、
ターゲットストリーム進路の画像を出力として供給する少なくとも1つの撮像装置と、 望ましいプラズマ開始サイトと交差する望ましいストリーム進路からの前記ターゲットストリーム進路にほぼ垂直な少なくとも1つ軸線における該ターゲットストリーム進路の位置の誤差を検出するストリーム進路誤差検出器と、
を含む、
ことを特徴とするシステム。 - 前記ターゲット進路に照準し、かつ前記ターゲット進路内の選択スポットを通るターゲットの通過を検出する少なくとも1つのターゲット横断検出器、
を更に含むことを特徴とする請求項1に記載の機器。 - 前記少なくとも1つのターゲット横断検出器は、少なくとも第1のターゲット横断検出器及び第2のターゲット横断検出器である、
ことを更に含むことを特徴とする請求項2に記載の機器。 - 駆動レーザ出力パルスが、前記ターゲット進路に沿って前記望ましいプラズマ開始サイトへのほぼその最も近い接近時に選択プラズマ開始サイトで前記プラズマ開始ターゲットと交差するために、前記ターゲット横断検出器の出力を利用して駆動レーザトリガのタイミングを判断する駆動レーザトリガ機構、
を更に含むことを特徴とする請求項2に記載の機器。 - 前記ターゲット進路に照準し、それぞれのターゲットに対してプラズマ開始サイトの該ターゲット進路に沿った位置を検出するプラズマ開始検出器、
を更に含むことを特徴とする請求項1に記載の機器。 - 中間焦点に形成された開口を照らして前記少なくとも1つの撮像装置に該開口を撮像する中間焦点照明器、
を更に含むことを特徴とする請求項1に記載の機器。 - 前記少なくとも1つの撮像装置は、少なくとも2つの撮像装置であり、各々が、該少なくとも2つの撮像装置のそれぞれのものにおける画像の分析に基づいて、前記中間焦点の画像の垂直中心軸からの前記ターゲット進路の分離に関連する誤差信号を供給する、
ことを更に含むことを特徴とする請求項6に記載の機器。 - ターゲット送出フィードバック及び制御システム、
を更に含み、
前記ターゲット送出フィードバック及び制御システムは、
ターゲット送出ユニットと、
少なくとも第1の撮像装置内の画像の分析から導出された第1の変位誤差信号に対応する軸線において、及び少なくとも第2の撮像装置内の画像の分析から導出された第2の変位誤差信号に対応する軸線において前記ターゲット送出機構を変位させるターゲット送出変位制御機構と、
を含む、
ことを特徴とする請求項7に記載の機器。 - EUV出力光エネルギ検出機構、
を更に含み、
前記EUV出力光エネルギ検出機構は、
前記中間焦点に到達するEUV光エネルギを測定するために配置され、各々がそれぞれの検出器によって検出したEUV光エネルギの量を表す出力信号を供給する複数のEUV光エネルギ検出器と、
各EUV光エネルギ検出器の出力を受信し、かつ前記それぞれのEUV光エネルギ検出器の前記出力信号のそれぞれの値の比較に基づいてEUV光エネルギ誤差信号を判断するEUV光エネルギ誤差信号発生器と、
を含む、
ことを特徴とする請求項8に記載の機器。 - 開始サイト誤差検出機構、
を更に含み、
前記開始サイト誤差検出機構は、
画像データを供給する前記少なくとも2つの撮像装置の1つ、
を含み、
前記画像データから、前記少なくとも2つの撮像装置の前記それぞれのものにおける該画像データの分析に基づく望ましいプラズマ開始サイトからの実際のプラズマ開始サイトの第1の軸線における分離と、該それぞれの撮像装置における該画像の分析に基づく前記中間焦点の前記画像の水平中心軸からの該プラズマ開始サイトの該第1の軸線と直交する第2の軸線における分離とに関連する第1の誤差信号を判断することができる、
ことを特徴とする請求項9に記載の機器。 - 移動プラズマ形成ターゲットを送出するターゲット送出システムと望ましいプラズマ開始サイトを定める焦点を有するEUV光集光光学器械とを含む制御システムを使用する段階を含む、レーザ生成プラズマ(LPP)極紫外線(EUV)光を生成する方法であって、
ターゲット追跡及びフィードバック方法を利用する段階、
を含み、
前記方法は、
少なくとも1つの撮像装置を用いて、ターゲットストリーム進路の画像を準備する段階と、
ストリーム進路誤差検出器を用いて、望ましいプラズマ開始サイトと交差する望ましいストリーム進路からの前記ターゲットストリーム進路にほぼ垂直な少なくとも1つの軸線内の該ターゲットストリーム進路の位置の誤差を検出する段階と、
を含む、
ことを特徴とする方法。
Applications Claiming Priority (7)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
US10/798,740 | 2004-03-10 | ||
US10/798,740 US7217940B2 (en) | 2003-04-08 | 2004-03-10 | Collector for EUV light source |
US10/803,526 | 2004-03-17 | ||
US10/803,526 US7087914B2 (en) | 2004-03-17 | 2004-03-17 | High repetition rate laser produced plasma EUV light source |
US10/900,839 US7164144B2 (en) | 2004-03-10 | 2004-07-27 | EUV light source |
US10/900,839 | 2004-07-27 | ||
PCT/US2005/005935 WO2005091879A2 (en) | 2004-03-10 | 2005-02-24 | Euv light source |
Publications (3)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JP2007528607A JP2007528607A (ja) | 2007-10-11 |
JP2007528607A5 true JP2007528607A5 (ja) | 2008-04-10 |
JP4917014B2 JP4917014B2 (ja) | 2012-04-18 |
Family
ID=34922843
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP2007502838A Active JP4917014B2 (ja) | 2004-03-10 | 2005-02-24 | Euv光源 |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JP4917014B2 (ja) |
Families Citing this family (24)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
US7193229B2 (en) * | 2004-12-28 | 2007-03-20 | Asml Netherlands B.V. | Lithographic apparatus, illumination system and method for mitigating debris particles |
US8071963B2 (en) * | 2006-12-27 | 2011-12-06 | Asml Netherlands B.V. | Debris mitigation system and lithographic apparatus |
US7960701B2 (en) | 2007-12-20 | 2011-06-14 | Cymer, Inc. | EUV light source components and methods for producing, using and refurbishing same |
JP5534647B2 (ja) * | 2008-02-28 | 2014-07-02 | ギガフォトン株式会社 | 極端紫外光源装置 |
US7872245B2 (en) * | 2008-03-17 | 2011-01-18 | Cymer, Inc. | Systems and methods for target material delivery in a laser produced plasma EUV light source |
JP5603135B2 (ja) * | 2009-05-21 | 2014-10-08 | ギガフォトン株式会社 | チャンバ装置におけるターゲット軌道を計測及び制御する装置及び方法 |
JP5670174B2 (ja) * | 2010-03-18 | 2015-02-18 | ギガフォトン株式会社 | チャンバ装置および極端紫外光生成装置 |
JP2013065804A (ja) | 2010-12-20 | 2013-04-11 | Gigaphoton Inc | レーザ装置およびそれを備える極端紫外光生成システム |
JP2012199512A (ja) * | 2011-03-10 | 2012-10-18 | Gigaphoton Inc | 極端紫外光生成装置及び極端紫外光生成方法 |
US8993976B2 (en) * | 2011-08-19 | 2015-03-31 | Asml Netherlands B.V. | Energy sensors for light beam alignment |
JP5275424B2 (ja) * | 2011-08-31 | 2013-08-28 | ギガフォトン株式会社 | 極端紫外光源装置 |
JP5275425B2 (ja) * | 2011-08-31 | 2013-08-28 | ギガフォトン株式会社 | 極端紫外光源装置 |
JP6021454B2 (ja) * | 2011-10-05 | 2016-11-09 | ギガフォトン株式会社 | 極端紫外光生成装置および極端紫外光生成方法 |
KR20140071490A (ko) * | 2011-10-07 | 2014-06-11 | 에이에스엠엘 네델란즈 비.브이. | 방사선 소스 |
WO2013083335A2 (en) * | 2011-12-06 | 2013-06-13 | Asml Netherlands B.V. | Radiation source |
JP6291477B2 (ja) * | 2012-04-23 | 2018-03-14 | エーエスエムエル ネザーランズ ビー.ブイ. | リソグラフィ装置用の汚染トラップ |
WO2015029137A1 (ja) * | 2013-08-27 | 2015-03-05 | ギガフォトン株式会社 | 極端紫外光生成装置及び極端紫外光生成システム |
JP6513025B2 (ja) | 2013-09-17 | 2019-05-15 | ギガフォトン株式会社 | 極端紫外光生成装置 |
WO2016147255A1 (ja) | 2015-03-13 | 2016-09-22 | ギガフォトン株式会社 | ターゲット撮像装置及び極端紫外光生成装置 |
TWI739755B (zh) * | 2015-08-12 | 2021-09-21 | 荷蘭商Asml荷蘭公司 | 極紫外線光源中之目標擴張率控制 |
WO2017077614A1 (ja) | 2015-11-05 | 2017-05-11 | ギガフォトン株式会社 | 極端紫外光生成装置 |
WO2017154111A1 (ja) * | 2016-03-08 | 2017-09-14 | ギガフォトン株式会社 | 極端紫外光生成装置 |
US9778022B1 (en) * | 2016-09-14 | 2017-10-03 | Asml Netherlands B.V. | Determining moving properties of a target in an extreme ultraviolet light source |
US10314154B1 (en) * | 2017-11-29 | 2019-06-04 | Taiwan Semiconductor Manufacturing Co., Ltd. | System and method for extreme ultraviolet source control |
Family Cites Families (4)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP4273572B2 (ja) * | 1999-05-25 | 2009-06-03 | 株式会社ニコン | X線発生装置及びこれを有するx線露光装置及びx線の発生方法 |
JP2001108799A (ja) * | 1999-10-08 | 2001-04-20 | Nikon Corp | X線発生装置、x線露光装置及び半導体デバイスの製造方法 |
US6792076B2 (en) * | 2002-05-28 | 2004-09-14 | Northrop Grumman Corporation | Target steering system for EUV droplet generators |
JP4088485B2 (ja) * | 2002-07-04 | 2008-05-21 | オムロンレーザーフロント株式会社 | 光波発生装置及び光波発生方法 |
-
2005
- 2005-02-24 JP JP2007502838A patent/JP4917014B2/ja active Active
Similar Documents
Publication | Publication Date | Title |
---|---|---|
JP2007528607A5 (ja) | ||
US9497840B2 (en) | System and method for creating and utilizing dual laser curtains from a single laser in an LPP EUV light source | |
WO2005091879A3 (en) | Euv light source | |
US8809823B1 (en) | System and method for controlling droplet timing and steering in an LPP EUV light source | |
US9241395B2 (en) | System and method for controlling droplet timing in an LPP EUV light source | |
US9167679B2 (en) | Beam position control for an extreme ultraviolet light source | |
TWI789364B (zh) | 以極紫外(euv)光源量測目標之移動性質之方法及euv光源裝置 | |
JP6689255B2 (ja) | ターゲット撮像装置、極端紫外光生成装置及び極端紫外光生成システム | |
KR102482288B1 (ko) | 극자외 광원에 대한 계측 시스템 | |
TWI713563B (zh) | 用於在lpp euv光源下控制源雷射發射之系統、方法及非暫時性機器可讀媒體 | |
TWI821839B (zh) | 量測目標之移動屬性的方法及光學設備 | |
JP6374481B2 (ja) | 極端紫外線光源のビーム位置制御を行うシステム又は方法 | |
WO2017126301A1 (ja) | 極端紫外光生成装置 | |
WO2015166524A1 (ja) | 極端紫外光生成装置 |