JP2007327089A - 被覆プラスチック製品及び被膜 - Google Patents
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- 229920003023 plastic Polymers 0.000 title claims abstract description 97
- 239000004033 plastic Substances 0.000 title claims abstract description 97
- 238000000576 coating method Methods 0.000 title claims abstract description 75
- 239000011248 coating agent Substances 0.000 title claims abstract description 74
- 239000007789 gas Substances 0.000 claims abstract description 109
- 229910052799 carbon Inorganic materials 0.000 claims abstract description 59
- OKTJSMMVPCPJKN-UHFFFAOYSA-N Carbon Chemical compound [C] OKTJSMMVPCPJKN-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims abstract description 56
- 238000004458 analytical method Methods 0.000 claims abstract description 37
- 125000004435 hydrogen atom Chemical group [H]* 0.000 claims abstract description 34
- 238000000034 method Methods 0.000 claims abstract description 32
- 125000004429 atom Chemical group 0.000 claims abstract description 30
- 125000004432 carbon atom Chemical group C* 0.000 claims abstract description 28
- 238000005011 time of flight secondary ion mass spectroscopy Methods 0.000 claims abstract description 22
- 150000001450 anions Chemical class 0.000 claims abstract description 15
- 238000010137 moulding (plastic) Methods 0.000 claims abstract description 4
- 239000011261 inert gas Substances 0.000 claims description 33
- 229920000139 polyethylene terephthalate Polymers 0.000 claims description 28
- 239000005020 polyethylene terephthalate Substances 0.000 claims description 28
- 238000005259 measurement Methods 0.000 claims description 25
- 229920005989 resin Polymers 0.000 claims description 25
- 239000011347 resin Substances 0.000 claims description 25
- 238000002042 time-of-flight secondary ion mass spectrometry Methods 0.000 claims description 21
- 150000002500 ions Chemical class 0.000 claims description 20
- 239000000203 mixture Substances 0.000 claims description 20
- 239000000470 constituent Substances 0.000 claims description 19
- 238000000113 differential scanning calorimetry Methods 0.000 claims description 15
- 238000005268 plasma chemical vapour deposition Methods 0.000 claims description 15
- 150000001721 carbon Chemical group 0.000 claims description 14
- 239000012299 nitrogen atmosphere Substances 0.000 claims description 14
- XLYOFNOQVPJJNP-UHFFFAOYSA-N water Substances O XLYOFNOQVPJJNP-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 14
- HSFWRNGVRCDJHI-UHFFFAOYSA-N alpha-acetylene Natural products C#C HSFWRNGVRCDJHI-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 10
- 125000002534 ethynyl group Chemical group [H]C#C* 0.000 claims description 10
- -1 polyethylene terephthalate Polymers 0.000 claims description 9
- 239000000758 substrate Substances 0.000 claims description 9
- 238000010438 heat treatment Methods 0.000 claims description 8
- 229910021398 atomic carbon Inorganic materials 0.000 claims description 7
- 239000010410 layer Substances 0.000 claims description 5
- 238000004806 packaging method and process Methods 0.000 claims description 5
- 239000000835 fiber Substances 0.000 claims description 4
- 239000002356 single layer Substances 0.000 claims description 2
- 230000004888 barrier function Effects 0.000 abstract description 11
- 238000000151 deposition Methods 0.000 abstract description 3
- 230000006378 damage Effects 0.000 abstract description 2
- 230000035939 shock Effects 0.000 abstract 1
- 239000010408 film Substances 0.000 description 65
- 230000000052 comparative effect Effects 0.000 description 16
- 230000015572 biosynthetic process Effects 0.000 description 13
- IJGRMHOSHXDMSA-UHFFFAOYSA-N Atomic nitrogen Chemical compound N#N IJGRMHOSHXDMSA-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 12
- QVGXLLKOCUKJST-UHFFFAOYSA-N atomic oxygen Chemical compound [O] QVGXLLKOCUKJST-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 10
- 150000002430 hydrocarbons Chemical class 0.000 description 10
- 239000001301 oxygen Substances 0.000 description 10
- 229910052760 oxygen Inorganic materials 0.000 description 10
- 239000011521 glass Substances 0.000 description 9
- 239000000463 material Substances 0.000 description 9
- 239000003989 dielectric material Substances 0.000 description 7
- 239000012634 fragment Substances 0.000 description 7
- 229930195733 hydrocarbon Natural products 0.000 description 7
- 229910052739 hydrogen Inorganic materials 0.000 description 7
- 239000001257 hydrogen Substances 0.000 description 7
- 239000004215 Carbon black (E152) Substances 0.000 description 6
- 235000013361 beverage Nutrition 0.000 description 5
- 239000000919 ceramic Substances 0.000 description 5
- 238000004140 cleaning Methods 0.000 description 5
- 239000002184 metal Substances 0.000 description 5
- 229910052751 metal Inorganic materials 0.000 description 5
- 230000035699 permeability Effects 0.000 description 5
- 239000002994 raw material Substances 0.000 description 5
- UFHFLCQGNIYNRP-UHFFFAOYSA-N Hydrogen Chemical compound [H][H] UFHFLCQGNIYNRP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- 238000005299 abrasion Methods 0.000 description 4
- 229910001873 dinitrogen Inorganic materials 0.000 description 4
- 238000010891 electric arc Methods 0.000 description 4
- 239000012212 insulator Substances 0.000 description 4
- 229910052757 nitrogen Inorganic materials 0.000 description 4
- ZWEHNKRNPOVVGH-UHFFFAOYSA-N 2-Butanone Chemical compound CCC(C)=O ZWEHNKRNPOVVGH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- IKHGUXGNUITLKF-UHFFFAOYSA-N Acetaldehyde Natural products CC=O IKHGUXGNUITLKF-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- CSCPPACGZOOCGX-UHFFFAOYSA-N Acetone Chemical compound CC(C)=O CSCPPACGZOOCGX-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- UHOVQNZJYSORNB-UHFFFAOYSA-N Benzene Chemical compound C1=CC=CC=C1 UHOVQNZJYSORNB-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- LFQSCWFLJHTTHZ-UHFFFAOYSA-N Ethanol Chemical compound CCO LFQSCWFLJHTTHZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- WSFSSNUMVMOOMR-UHFFFAOYSA-N Formaldehyde Chemical compound O=C WSFSSNUMVMOOMR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- OKKJLVBELUTLKV-UHFFFAOYSA-N Methanol Chemical compound OC OKKJLVBELUTLKV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- YXFVVABEGXRONW-UHFFFAOYSA-N Toluene Chemical compound CC1=CC=CC=C1 YXFVVABEGXRONW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- 239000001307 helium Substances 0.000 description 3
- 229910052734 helium Inorganic materials 0.000 description 3
- SWQJXJOGLNCZEY-UHFFFAOYSA-N helium atom Chemical compound [He] SWQJXJOGLNCZEY-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- 238000004949 mass spectrometry Methods 0.000 description 3
- VLKZOEOYAKHREP-UHFFFAOYSA-N n-Hexane Chemical compound CCCCCC VLKZOEOYAKHREP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- OFBQJSOFQDEBGM-UHFFFAOYSA-N n-pentane Natural products CCCCC OFBQJSOFQDEBGM-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- YBYIRNPNPLQARY-UHFFFAOYSA-N 1H-indene Chemical compound C1=CC=C2CC=CC2=C1 YBYIRNPNPLQARY-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- XKRFYHLGVUSROY-UHFFFAOYSA-N Argon Chemical compound [Ar] XKRFYHLGVUSROY-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- KAKZBPTYRLMSJV-UHFFFAOYSA-N Butadiene Chemical compound C=CC=C KAKZBPTYRLMSJV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 229920000089 Cyclic olefin copolymer Polymers 0.000 description 2
- 239000004713 Cyclic olefin copolymer Substances 0.000 description 2
- XDTMQSROBMDMFD-UHFFFAOYSA-N Cyclohexane Chemical compound C1CCCCC1 XDTMQSROBMDMFD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- UFWIBTONFRDIAS-UHFFFAOYSA-N Naphthalene Chemical compound C1=CC=CC2=CC=CC=C21 UFWIBTONFRDIAS-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 239000004743 Polypropylene Substances 0.000 description 2
- ATUOYWHBWRKTHZ-UHFFFAOYSA-N Propane Chemical compound CCC ATUOYWHBWRKTHZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 229910052782 aluminium Inorganic materials 0.000 description 2
- XAGFODPZIPBFFR-UHFFFAOYSA-N aluminium Chemical compound [Al] XAGFODPZIPBFFR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- KDKYADYSIPSCCQ-UHFFFAOYSA-N but-1-yne Chemical compound CCC#C KDKYADYSIPSCCQ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 150000001925 cycloalkenes Chemical class 0.000 description 2
- HGCIXCUEYOPUTN-UHFFFAOYSA-N cyclohexene Chemical compound C1CCC=CC1 HGCIXCUEYOPUTN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 230000008021 deposition Effects 0.000 description 2
- UQEAIHBTYFGYIE-UHFFFAOYSA-N hexamethyldisiloxane Chemical compound C[Si](C)(C)O[Si](C)(C)C UQEAIHBTYFGYIE-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 239000012535 impurity Substances 0.000 description 2
- 150000002739 metals Chemical class 0.000 description 2
- VNWKTOKETHGBQD-UHFFFAOYSA-N methane Chemical compound C VNWKTOKETHGBQD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- YNPNZTXNASCQKK-UHFFFAOYSA-N phenanthrene Chemical compound C1=CC=C2C3=CC=CC=C3C=CC2=C1 YNPNZTXNASCQKK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 230000000717 retained effect Effects 0.000 description 2
- 238000005001 rutherford backscattering spectroscopy Methods 0.000 description 2
- 239000000523 sample Substances 0.000 description 2
- 238000001004 secondary ion mass spectrometry Methods 0.000 description 2
- 238000004544 sputter deposition Methods 0.000 description 2
- 239000000126 substance Substances 0.000 description 2
- BFKJFAAPBSQJPD-UHFFFAOYSA-N tetrafluoroethene Chemical group FC(F)=C(F)F BFKJFAAPBSQJPD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- PMJHHCWVYXUKFD-SNAWJCMRSA-N (E)-1,3-pentadiene Chemical compound C\C=C\C=C PMJHHCWVYXUKFD-SNAWJCMRSA-N 0.000 description 1
- 238000001644 13C nuclear magnetic resonance spectroscopy Methods 0.000 description 1
- WSSSPWUEQFSQQG-UHFFFAOYSA-N 4-methyl-1-pentene Chemical compound CC(C)CC=C WSSSPWUEQFSQQG-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- NLHHRLWOUZZQLW-UHFFFAOYSA-N Acrylonitrile Chemical compound C=CC#N NLHHRLWOUZZQLW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- RYGMFSIKBFXOCR-UHFFFAOYSA-N Copper Chemical compound [Cu] RYGMFSIKBFXOCR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- LVZWSLJZHVFIQJ-UHFFFAOYSA-N Cyclopropane Chemical compound C1CC1 LVZWSLJZHVFIQJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- MYMOFIZGZYHOMD-UHFFFAOYSA-N Dioxygen Chemical compound O=O MYMOFIZGZYHOMD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- OTMSDBZUPAUEDD-UHFFFAOYSA-N Ethane Chemical compound CC OTMSDBZUPAUEDD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229920000219 Ethylene vinyl alcohol Polymers 0.000 description 1
- CTQNGGLPUBDAKN-UHFFFAOYSA-N O-Xylene Chemical compound CC1=CC=CC=C1C CTQNGGLPUBDAKN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229930182556 Polyacetal Natural products 0.000 description 1
- 239000004962 Polyamide-imide Substances 0.000 description 1
- 239000004793 Polystyrene Substances 0.000 description 1
- 229920001328 Polyvinylidene chloride Polymers 0.000 description 1
- VYPSYNLAJGMNEJ-UHFFFAOYSA-N Silicium dioxide Chemical compound O=[Si]=O VYPSYNLAJGMNEJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- CDBYLPFSWZWCQE-UHFFFAOYSA-L Sodium Carbonate Chemical compound [Na+].[Na+].[O-]C([O-])=O CDBYLPFSWZWCQE-UHFFFAOYSA-L 0.000 description 1
- 230000001133 acceleration Effects 0.000 description 1
- XECAHXYUAAWDEL-UHFFFAOYSA-N acrylonitrile butadiene styrene Chemical compound C=CC=C.C=CC#N.C=CC1=CC=CC=C1 XECAHXYUAAWDEL-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000004676 acrylonitrile butadiene styrene Substances 0.000 description 1
- 229920000122 acrylonitrile butadiene styrene Polymers 0.000 description 1
- 229920001893 acrylonitrile styrene Polymers 0.000 description 1
- 239000000654 additive Substances 0.000 description 1
- 230000000996 additive effect Effects 0.000 description 1
- 150000001299 aldehydes Chemical class 0.000 description 1
- 150000001335 aliphatic alkanes Chemical class 0.000 description 1
- 150000001336 alkenes Chemical class 0.000 description 1
- 150000001345 alkine derivatives Chemical class 0.000 description 1
- PNEYBMLMFCGWSK-UHFFFAOYSA-N aluminium oxide Inorganic materials [O-2].[O-2].[O-2].[Al+3].[Al+3] PNEYBMLMFCGWSK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229910052786 argon Inorganic materials 0.000 description 1
- 150000004945 aromatic hydrocarbons Chemical class 0.000 description 1
- 239000001273 butane Substances 0.000 description 1
- 238000001460 carbon-13 nuclear magnetic resonance spectrum Methods 0.000 description 1
- 235000014171 carbonated beverage Nutrition 0.000 description 1
- 230000008859 change Effects 0.000 description 1
- 229920006026 co-polymeric resin Polymers 0.000 description 1
- 239000004020 conductor Substances 0.000 description 1
- 230000008602 contraction Effects 0.000 description 1
- 229910052802 copper Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000010949 copper Substances 0.000 description 1
- 238000005384 cross polarization magic-angle spinning Methods 0.000 description 1
- 150000001924 cycloalkanes Chemical class 0.000 description 1
- 230000007423 decrease Effects 0.000 description 1
- 238000010586 diagram Methods 0.000 description 1
- 150000001993 dienes Chemical class 0.000 description 1
- 229910001882 dioxygen Inorganic materials 0.000 description 1
- 230000000694 effects Effects 0.000 description 1
- 230000007613 environmental effect Effects 0.000 description 1
- 239000004744 fabric Substances 0.000 description 1
- 238000013467 fragmentation Methods 0.000 description 1
- 238000006062 fragmentation reaction Methods 0.000 description 1
- 229920001903 high density polyethylene Polymers 0.000 description 1
- 239000004700 high-density polyethylene Substances 0.000 description 1
- 239000012510 hollow fiber Substances 0.000 description 1
- 150000002431 hydrogen Chemical class 0.000 description 1
- 230000006872 improvement Effects 0.000 description 1
- 230000010354 integration Effects 0.000 description 1
- 229920000554 ionomer Polymers 0.000 description 1
- 150000002576 ketones Chemical class 0.000 description 1
- 239000005355 lead glass Substances 0.000 description 1
- 239000012778 molding material Substances 0.000 description 1
- IJDNQMDRQITEOD-UHFFFAOYSA-N n-butane Chemical compound CCCC IJDNQMDRQITEOD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000005022 packaging material Substances 0.000 description 1
- 239000002985 plastic film Substances 0.000 description 1
- 229920003207 poly(ethylene-2,6-naphthalate) Polymers 0.000 description 1
- 229920003229 poly(methyl methacrylate) Polymers 0.000 description 1
- 229920002492 poly(sulfone) Polymers 0.000 description 1
- 229920006122 polyamide resin Polymers 0.000 description 1
- 229920002312 polyamide-imide Polymers 0.000 description 1
- 229920001707 polybutylene terephthalate Polymers 0.000 description 1
- 229920005668 polycarbonate resin Polymers 0.000 description 1
- 239000004431 polycarbonate resin Substances 0.000 description 1
- 239000011112 polyethylene naphthalate Substances 0.000 description 1
- 229920013716 polyethylene resin Polymers 0.000 description 1
- 239000004926 polymethyl methacrylate Substances 0.000 description 1
- 229920006324 polyoxymethylene Polymers 0.000 description 1
- 229920001155 polypropylene Polymers 0.000 description 1
- 229920002223 polystyrene Polymers 0.000 description 1
- 229920005990 polystyrene resin Polymers 0.000 description 1
- 239000004800 polyvinyl chloride Substances 0.000 description 1
- 229920000915 polyvinyl chloride Polymers 0.000 description 1
- 239000005033 polyvinylidene chloride Substances 0.000 description 1
- 230000008569 process Effects 0.000 description 1
- 230000001737 promoting effect Effects 0.000 description 1
- SCUZVMOVTVSBLE-UHFFFAOYSA-N prop-2-enenitrile;styrene Chemical compound C=CC#N.C=CC1=CC=CC=C1 SCUZVMOVTVSBLE-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000001294 propane Substances 0.000 description 1
- MWWATHDPGQKSAR-UHFFFAOYSA-N propyne Chemical group CC#C MWWATHDPGQKSAR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 238000012827 research and development Methods 0.000 description 1
- 230000000630 rising effect Effects 0.000 description 1
- 229910052814 silicon oxide Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000007787 solid Substances 0.000 description 1
- 229910001220 stainless steel Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000010935 stainless steel Substances 0.000 description 1
- 239000010409 thin film Substances 0.000 description 1
- 229910021642 ultra pure water Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000012498 ultrapure water Substances 0.000 description 1
- 238000001771 vacuum deposition Methods 0.000 description 1
- 239000008096 xylene Substances 0.000 description 1
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- Chemical Vapour Deposition (AREA)
Abstract
【解決手段】本発明に係る被覆プラスチック製品は、プラスチック成形体の表面上に炭素原子と水素原子とを主構成原子として含む被膜が形成された被覆プラスチック製品である。被膜は、例えば、TOF−SIMS法の陰イオン解析において、単原子炭素のピークに対する3原子炭素のピークの強度比率(C3/C1)が0.07以上であり、かつ、DSC法の解析において、140〜150℃の間に発熱ピークの頂点が出現し、70〜80℃の間に吸熱ピークの頂点が出現する。
【選択図】図1
Description
常圧低温プラズマCVD法によって、プラスチック成形体の表面上に炭素原子と水素原子とを主構成原子として含む被膜が形成された被覆プラスチック製品については、例えば、特許文献3に開示がある。特許文献3に開示された技術では、プラズマ化させる供給ガスは、ヘリウムガス等の不活性ガスをメインガスとしている(例えば特許文献3の請求項6又は7を参照。)。常圧低温プラズマCVD法では、不活性ガスをメインガスとしなければ供給ガスのプラズマ化が難しいためである。しかし、不活性ガスをメインガスとすれば、(1)同じ膜厚でガスバリア性が低くなる、(2)原料ガスの含有量が小さいので、成膜速度が小さい(例えば特許文献3の実施例を参照すると成膜時間が1分間と非常に長い)、という問題がある。
本実施形態に係る被覆プラスチック製品は、具体的には、常圧低温プラズマCVD法によって、プラスチック成形体の表面上に炭素原子と水素原子とを主構成原子として含む被膜が形成された被覆プラスチック製品であり、前記被膜は、炭素原子源及び水素原子源となる原料ガスと不活性ガスとを(原料ガス体積%/不活性ガス体積%)が50/50〜100/0となる割合でそれぞれ含有する供給ガスを常圧下でプラズマ化することによって形成される。
分析装置:TOF−SIMS300(ION−TOF社製)
一次イオン源:Au
最表面超純水洗浄後、測定面積200μm角の領域を対象に測定。
図1に示した成膜装置を使用して、PETシートの表面に被膜を形成した。PETシートは、40mm×40mmで厚さは0.3mmである。プラズマ放電の条件は、周波数9kHz、電圧20kV、供給ガスとしてアセチレンガス流量1.0リットル/分、PETシートと電極との隙間距離1.0mm、成膜時間5秒間、放電面積40cm2、基板温度50℃とした。なお、この場合に、印加された電力密度は、0.05W/mm2であった。
プラズマ放電の条件において、周波数を35kHz、電圧24kV、供給ガスとしてアセチレンガス流量を1.0リットル/分及び窒素ガス流量を1.0リットル/分とした以外は実施例1と同様とした。なお、この場合に、印加された電力密度は、0.08W/mm2であった。
厚さ0.3mmの高密度ポリエチレンシートを準備した。
厚さ0.3mmのポリスチレンシートを準備した。
実施例1と同じPETシート(非成膜)を準備した。
プラズマ放電の条件において、周波数を3kHz、電圧15kV、供給ガスとしてアセチレンガス流量を3.0リットル/分、成膜時間10秒間とした以外は実施例1と同様とした。なお、この場合に、印加された電力密度は、0.01W/mm2であった。
プラズマ放電の条件において、周波数を9kHz、電圧20kV、供給ガスとしてアセチレンガス流量を0.75リットル/分及び窒素ガス流量を2.25リットル/分とした以外は比較例1と同様とした。なお、この場合に、印加された電力密度は、0.05W/mm2であった。
特許文献1の装置を用いて、肉厚0.3mmのPETボトルの内表面にDLC膜を高周波電源の周波数13.56MHz、その出力1200W、原料ガスをアセチレン、成膜時間2秒間の条件で、膜厚30nmのDLC膜の成膜を行なった。
比較例6において、原料ガスをアセチレンからヘキサメチルジシロキサン(HMDSO)と酸素とした以外は同様にして、酸化珪素被膜を形成した。比較例7について同様に表面の摩擦係数を計測した。
1a,空間的隙間
2,高周波印加用電極
2a,高周波印加用電極の対向側の電極表面
3,接地電極
3a,接地電極の対向側の電極表面
4,4a,4b,誘電体
5,PETシート
6,高周波電源
7,供給ガスの流路
8,供給ガス発生手段
9,排気流路
10,排気用ブロア
11,絶縁体
12,供給ガス
100,成膜装置
Claims (11)
- 常圧低温プラズマCVD法によって、プラスチック成形体の表面上に炭素原子と水素原子とを主構成原子として含む被膜が形成された被覆プラスチック製品において、
前記被膜は、炭素原子源及び水素原子源となる原料ガスと不活性ガスとを(原料ガス体積%/不活性ガス体積%)が50/50〜100/0となる割合でそれぞれ含有する供給ガスを常圧下でプラズマ化することによって形成されたことを特徴とする被覆プラスチック製品。 - 常圧低温プラズマCVD法によって、プラスチック成形体の表面上に炭素原子と水素原子とを主構成原子として含む被膜が形成された被覆プラスチック製品において、
前記被膜は、隙間をあけて対向し合う高周波印加用電極と接地電極の少なくともいずれか一方の対向側の電極表面を比誘電率3以上100以下の誘電体で覆い、前記高周波印加用電極、前記接地電極又は前記誘電体のいずれかの上に前記隙間に面してプラスチック成形体を配置し、前記隙間に、炭素原子源及び水素原子源となる原料ガスと不活性ガスとを(原料ガス体積%/不活性ガス体積%)が50/50〜100/0となる割合でそれぞれ含有する供給ガスを流速2.5〜50m/分で流し、前記高周波印加用電極に単位電極面積あたり0.02〜0.2W/mm2の高周波電力を供給して、前記供給ガスを常圧下でプラズマ化することによって形成されたことを特徴とする被覆プラスチック製品。 - 前記原料ガスがアセチレンであることを特徴とする請求項1又は2に記載の被覆プラスチック製品。
- プラスチック成形体の表面上に炭素原子と水素原子とを主構成原子として含む被膜が形成された被覆プラスチック製品において、
前記被膜は、飛行時間型二次イオン質量分析(TOF−SIMS)法の陰イオン解析において、一次イオン源Auを用いて表面を純水洗浄した後の測定での単原子炭素のピークに対する3原子炭素のピークの強度比率(C3/C1)が0.07以上であり、かつ、示差走査熱量分析(DSC)法の解析において、昇温速度10℃/min、窒素雰囲気の測定条件で140〜150℃の間に発熱ピークの頂点が出現し、70〜80℃の間に吸熱ピークの頂点が出現することを特徴とする被覆プラスチック製品。 - プラスチック成形体の表面上に炭素原子と水素原子とを主構成原子として含む被膜が形成された被覆プラスチック製品において、
前記被膜は、飛行時間型二次イオン質量分析(TOF−SIMS)法の陰イオン解析において、一次イオン源Auを用いて表面を純水洗浄した後の測定での単原子炭素のピークに対する4原子炭素のピークの強度比率(C4/C1)が0.05以上であり、かつ、示差走査熱量分析(DSC)法の解析において、昇温速度10℃/min、窒素雰囲気の測定条件で140〜150℃の間に発熱ピークの頂点が出現し、70〜80℃の間に吸熱ピークの頂点が出現することを特徴とする被覆プラスチック製品。 - プラスチック成形体の表面上に炭素原子と水素原子とを主構成原子として含む被膜が形成された被覆プラスチック製品において、
前記被膜は、飛行時間型二次イオン質量分析(TOF−SIMS)法の陰イオン解析において、一次イオン源Auを用いて表面を純水洗浄した後の測定での単原子炭素のピークに対する5原子炭素のピークの強度比率(C5/C1)が0.02以上であり、かつ、示差走査熱量分析(DSC)法の解析において、昇温速度10℃/min、窒素雰囲気の測定条件で140〜150℃の間に発熱ピークの頂点が出現し、70〜80℃の間に吸熱ピークの頂点が出現することを特徴とする被覆プラスチック製品。 - プラスチック成形体の表面上に炭素原子と水素原子とを主構成原子として含む被膜が形成された被覆プラスチック製品において、
前記被膜は、飛行時間型二次イオン質量分析(TOF−SIMS)法の陰イオン解析において、一次イオン源Auを用いて表面を純水洗浄した後の測定での単原子炭素のピークに対する3原子炭素のピークの強度比率(C3/C1)が0.07以上であり、単原子炭素のピークに対する4原子炭素のピークの強度比率(C4/C1)が0.05以上であり、単原子炭素のピークに対する5原子炭素のピークの強度比率(C5/C1)が0.02以上であり、かつ、示差走査熱量分析(DSC)法の解析において、昇温速度10℃/min、窒素雰囲気の測定条件で140〜150℃の間に発熱ピークの頂点が出現し、70〜80℃の間に吸熱ピークの頂点が出現することを特徴とする被覆プラスチック製品。 - 前記被膜は、同一組成からなる単一層、異組成からなる複数層又は連続的に組成が傾斜している傾斜組成層のいずれかであることを特徴とする請求項1、2、3、4、5、6又は7に記載の被覆プラスチック製品。
- 前記プラスチック成形体がポリエチレンテレフタレート樹脂からなることを特徴とする請求項1、2、3、4、5、6、7又は8に記載の被覆プラスチック製品。
- 包装容器、摺動部品、記録媒体、シート、繊維又はカードであることを特徴とする請求項1、2、3、4、5、6、7、8、又は9に記載の被覆プラスチック製品。
- 常圧低温プラズマCVD法によって、基体の表面上に形成された炭素原子と水素原子とを主構成原子として含む被膜において、
前記被膜は、炭素原子源及び水素原子源となる原料ガスと不活性ガスとを(原料ガス体積%/不活性ガス体積%)が50/50〜100/0となる割合でそれぞれ含有する供給ガスを常圧下でプラズマ化することによって形成されたことを特徴とする被膜。
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
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JP2006158260A JP5084182B2 (ja) | 2006-06-07 | 2006-06-07 | 被覆プラスチック製品及び被膜 |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
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JP2006158260A JP5084182B2 (ja) | 2006-06-07 | 2006-06-07 | 被覆プラスチック製品及び被膜 |
Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JP2007327089A true JP2007327089A (ja) | 2007-12-20 |
JP5084182B2 JP5084182B2 (ja) | 2012-11-28 |
Family
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Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP2006158260A Active JP5084182B2 (ja) | 2006-06-07 | 2006-06-07 | 被覆プラスチック製品及び被膜 |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JP5084182B2 (ja) |
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Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
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Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
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-
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JP5084182B2 (ja) | 2012-11-28 |
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