JP2007325223A - Solid-state imaging device and imaging apparatus - Google Patents

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JP2007325223A JP2006156464A JP2006156464A JP2007325223A JP 2007325223 A JP2007325223 A JP 2007325223A JP 2006156464 A JP2006156464 A JP 2006156464A JP 2006156464 A JP2006156464 A JP 2006156464A JP 2007325223 A JP2007325223 A JP 2007325223A
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Ikuo Mizuno
郁夫 水野
Ichiro Murakami
一朗 村上
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Matsushita Electric Industrial Co Ltd
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Abstract

<P>PROBLEM TO BE SOLVED: To provide a solid-state imaging device and an imaging apparatus using the same in which the state of an electric charge discharged from a charge transfer unit to a drain region can be accurately recognized and appropriate overflow barrier potential can be easily set. <P>SOLUTION: The solid-state imaging device 1 comprises: a plurality of photodetectors 2; a vertical CCD 3 and a horizontal CCD 4 for transferring signal charges read from the photodetectors 2; a barrier region 6 which is adjacent to the horizontal CCD 4 and in which only surplus charges of the horizontal CCD are passed; and a drain region 7 which is adjacent to the barrier region 6 and in which the surplus charges passed through the barrier region 6 are discharged. Such a solid-state imaging device 1 further comprises a detection unit 11 connected to the drain region 6. Variations of charges in the drain region 7 are detected by the detection unit 11. In accordance with the variations of charges detected by the detection unit 11, a barrier potential controller 30 connected to the detection unit 11 then regulates the potential of the barrier region 6. <P>COPYRIGHT: (C)2008,JPO&INPIT

Description

本発明は、固体撮像装置、特にはCCD(Charge Coupled Device)型の固体撮像素子、及びそれを備えた撮像装置に関する。   The present invention relates to a solid-state imaging device, in particular, a CCD (Charge Coupled Device) type solid-state imaging device, and an imaging device including the same.

近年、CCD型固体撮像素子に代表される固体撮像素子は、デジタルスチルカメラやデジタルビデオカメラ等の撮像装置の撮像素子として広く利用されており、その需要は益々増加している。また、撮像装置における高機能化、小型化、低消費電力化の求めに伴い、固体撮像素子においては、高画素化、微細化、低消費電力化が求められている。   In recent years, solid-state image sensors represented by CCD solid-state image sensors have been widely used as image sensors for image pickup apparatuses such as digital still cameras and digital video cameras, and the demand thereof has been increasing. In addition, with the demand for higher functionality, smaller size, and lower power consumption in imaging devices, solid-state imaging devices are required to have higher pixels, smaller dimensions, and lower power consumption.

ここで、従来からの固体撮像素子(例えば、特許文献1参照。)の構成について、図9を用いて説明する。図9は、従来からの固体撮像素子の概略構成を示す平面図である。また、図9においては、一例としてCCD型固体撮像素子が示されている。図9に示すように、固体撮像素子は半導体基板201を備えている。   Here, the configuration of a conventional solid-state imaging device (see, for example, Patent Document 1) will be described with reference to FIG. FIG. 9 is a plan view showing a schematic configuration of a conventional solid-state imaging device. FIG. 9 shows a CCD solid-state imaging device as an example. As shown in FIG. 9, the solid-state imaging device includes a semiconductor substrate 201.

図9の例では、半導体基板201には、2次元状に配列された複数の受光部202と、受光部202の垂直方向の列に沿って列毎に配置された垂直電荷転送部(垂直CCD)203と、受光部202の最終行に隣接するように設けられた水平電荷転送部(水平CCD)204とが設けられている。   In the example of FIG. 9, the semiconductor substrate 201 includes a plurality of light receiving units 202 arranged in a two-dimensional manner, and a vertical charge transfer unit (vertical CCD) arranged for each column along a column in the vertical direction of the light receiving unit 202. ) 203 and a horizontal charge transfer unit (horizontal CCD) 204 provided adjacent to the last row of the light receiving unit 202.

受光部202は、フォトダイオードであり、受光した光の強度に応じて電荷を蓄積する。また、一つの受光部202と、それと隣接する垂直CCD203の一部分とで、一つの画素210が構成されている。受光部202に蓄積された電荷は、垂直CCD203によって読み出され、垂直方向に転送される。そして、電荷は、水平CCD204に送られた後、水平方向に転送され、出力アンプ205を介して外部に出力される。   The light receiving unit 202 is a photodiode and accumulates electric charges according to the intensity of received light. In addition, one pixel 210 is configured by one light receiving unit 202 and a part of the vertical CCD 203 adjacent thereto. The charges accumulated in the light receiving unit 202 are read out by the vertical CCD 203 and transferred in the vertical direction. The electric charge is sent to the horizontal CCD 204 and then transferred in the horizontal direction and output to the outside through the output amplifier 205.

また、図9に示すように、水平CCD204の垂直CCD203に隣接していない側には、バリア領域206を介してドレイン領域207が設けられている。バリア領域206は、電位障壁であり、垂直CCD203から転送された電荷のうち水平CCD204の最大電荷蓄積容量を超えた分(余剰電荷)のみを通過させ、余剰電荷をドレイン領域207に排出する。   As shown in FIG. 9, a drain region 207 is provided via a barrier region 206 on the side of the horizontal CCD 204 that is not adjacent to the vertical CCD 203. The barrier region 206 is a potential barrier, passes only the portion of the charge transferred from the vertical CCD 203 that exceeds the maximum charge storage capacity of the horizontal CCD 204 (surplus charge), and discharges the surplus charge to the drain region 207.

また、複数の受光部202が設けられた受光領域の周辺領域であって、水平CCD204の後段を含む領域には、暗電流の補正のためオプティカルブラック(光学的黒画素)208が設けられている。なお、図9においては、オプティカルブラック208には、ハッチングが施されている。   Further, an optical black (optical black pixel) 208 is provided in a peripheral region of the light receiving region where the plurality of light receiving units 202 are provided and includes a rear stage of the horizontal CCD 204 for correcting dark current. . In FIG. 9, the optical black 208 is hatched.

次に、図10及び図11を用いて水平CCD204及びドレイン領域207の構成について詳細に説明する。図10は、図9に示した固体撮像素子の一部を拡大して示す平面図である。図10に示すように、垂直CCD203及び水平CCD204は、それぞれ電荷の転送経路となるチャネル領域と2層構造の転送電極とで構成されている。図10においては、2層構造の転送電極のうち、下層に位置する第1層の転送電極にはハッチングが施されている。   Next, the configuration of the horizontal CCD 204 and the drain region 207 will be described in detail with reference to FIGS. 10 is an enlarged plan view showing a part of the solid-state imaging device shown in FIG. As shown in FIG. 10, each of the vertical CCD 203 and the horizontal CCD 204 includes a channel region serving as a charge transfer path and a transfer electrode having a two-layer structure. In FIG. 10, the transfer electrode of the 1st layer located in the lower layer among the transfer electrodes of 2 layer structure is hatched.

具体的には、垂直CCD203は、垂直方向に延びるチャネル領域211aと、第1層の垂直転送電極212と、第2層の垂直転送電極213とで構成されている。また、垂直CCD03では、4相駆動によって電荷の転送が行われている。   Specifically, the vertical CCD 203 includes a channel region 211 a extending in the vertical direction, a first layer vertical transfer electrode 212, and a second layer vertical transfer electrode 213. In the vertical CCD 03, charges are transferred by four-phase driving.

水平CCD204は、水平方向に延びるチャネル領域211bと、第1層の水平転送電極214と、第2層の水平転送電極215とで構成されている。水平CCD204においては、2相駆動によって電荷の転送が行われている。また、2相駆動が採用されているため、チャネル領域211bにおいては、第1層の水平電極214の直下に位置する部分に電荷が蓄積される。第1層の水平転送電極214の直下に位置しない部分には、電位障壁となるバリア領域216が形成されている。   The horizontal CCD 204 includes a channel region 211b extending in the horizontal direction, a first horizontal transfer electrode 214, and a second horizontal transfer electrode 215. In the horizontal CCD 204, charges are transferred by two-phase driving. In addition, since two-phase driving is employed, in the channel region 211b, charges are accumulated in a portion located immediately below the horizontal electrode 214 of the first layer. A barrier region 216 serving as a potential barrier is formed in a portion not directly below the first layer horizontal transfer electrode 214.

図11(a)は、図10に示された固体撮像素子の一部を切断線A−A´に沿って切断して得られた断面図であり、図11(b)は、図11(a)に示された各部の電位を示す図である。図11(a)に示すように、ドレイン領域207には、外部から一定電圧が印加され、これによりバリア領域206の電位(オーバーフローバリア電位)Φ1が設定される。このとき、図11(b)に示すように、オーバーフローバリア電位Φ1は、水平CCDのバリア領域216(図10参照)の電位Φ2より大きくなるように(Φ1>Φ2)設定される。更に、オーバーフローバリア電位Φ1は、フェルミ電位Φ3と、熱電子放出に基づいた電位障壁値△Φαとの差(Φ3−△Φα)より小さくなるようにも(Φ1<(Φ3−△Φα))設定される。   FIG. 11A is a cross-sectional view obtained by cutting a part of the solid-state imaging device shown in FIG. 10 along the cutting line AA ′, and FIG. It is a figure which shows the electric potential of each part shown by a). As shown in FIG. 11A, a constant voltage is applied to the drain region 207 from the outside, whereby the potential (overflow barrier potential) Φ1 of the barrier region 206 is set. At this time, as shown in FIG. 11B, the overflow barrier potential Φ1 is set to be larger than the potential Φ2 of the barrier region 216 (see FIG. 10) of the horizontal CCD (Φ1> Φ2). Further, the overflow barrier potential Φ1 is set to be smaller than the difference (Φ3-ΔΦα) between the Fermi potential Φ3 and the potential barrier value ΔΦα based on thermionic emission (Φ1 <(Φ3-ΔΦα)). Is done.

また、フェルミ電位Φ3とは、水平CCD204が、設定された電荷量(必要電荷蓄積容量:Qhccd)を蓄積する為に必要な電位をいう。更に、熱電子放出に基づいた電位障壁値△Φαとは、チャネル領域211bにおける電位障壁(フェルミ電位障壁)による電位差と熱電子放出によるオーバーフロー開始電位との差をいう。通常、電位障壁値△Φαの値は、バリア領域216の長さや、バリア領域216の不純物濃度に応じて、0.4V〜0.6V程度となる。   The Fermi potential Φ3 is a potential necessary for the horizontal CCD 204 to accumulate a set charge amount (necessary charge storage capacity: Qhccd). Further, the potential barrier value ΔΦα based on thermionic emission refers to the difference between the potential difference due to the potential barrier (Fermi potential barrier) in the channel region 211b and the overflow start potential due to thermionic emission. Usually, the value of the potential barrier value ΔΦα is about 0.4 V to 0.6 V depending on the length of the barrier region 216 and the impurity concentration of the barrier region 216.

また、オーバーフローバリア電位Φ1が水平CCDのバリア領域216の電位Φ2より大きく設定されるのは、オーバーフローバリア電位Φ1が電位Φ2以下であると、オプティカルブラック208(図9参照)へと過剰に電荷が溢れ出すからである。この場合、黒レベル浮き上がり現象といった不具合が発生してしまう。   The overflow barrier potential Φ1 is set to be larger than the potential Φ2 of the horizontal CCD barrier region 216. If the overflow barrier potential Φ1 is equal to or lower than the potential Φ2, excessive charge is applied to the optical black 208 (see FIG. 9). Because it overflows. In this case, a problem such as a black level floating phenomenon occurs.

更に、オーバーフローバリア電位Φ1が、フェルミ電位Φ3と電位障壁値△Φαとの差(Φ3−△Φα)より小さく設定されるのは、オーバーフローバリア電位Φ1が上記差(Φ3−△Φα)以上であると、必要な電荷までドレイン領域207に排出されてしまうからである。この場合、水平CCD204の電荷蓄積容量が減少し、飽和ムラが発生しやすくなり、その上、電荷蓄積容量の減少をゲインの増加で補う必要があるため、画像ムラといった不具合が発生してしまう。   Furthermore, the overflow barrier potential Φ1 is set smaller than the difference (Φ3-ΔΦα) between the Fermi potential Φ3 and the potential barrier value ΔΦα because the overflow barrier potential Φ1 is equal to or greater than the difference (Φ3-ΔΦα). This is because necessary charges are discharged to the drain region 207. In this case, the charge storage capacity of the horizontal CCD 204 is reduced and saturation unevenness is likely to occur. In addition, since it is necessary to compensate for the decrease in charge storage capacity by increasing the gain, problems such as image unevenness occur.

このようにオーバーフローバリア電位Φ1が最適な値に設定されることにより、余剰電荷のみがドレイン領域207に排出される。但し、オーバーフローバリア電位Φ1の最適な値は、拡散領域の製造ばらつき等により素子毎に異なる値となる。このため、図9〜図11に示した固体撮像装置の水平CCD204の設計においては、オーバーフローバリア電位Φ1の最適値が最大限にばらついても、常に、Φ2<Φ1<(Φ3−△Φα)が満たされるように、十分な余裕を持たせた設計を行う必要がある。   Thus, by setting the overflow barrier potential Φ1 to an optimum value, only surplus charges are discharged to the drain region 207. However, the optimum value of the overflow barrier potential Φ1 varies from element to element due to manufacturing variations in the diffusion region. For this reason, in the design of the horizontal CCD 204 of the solid-state imaging device shown in FIGS. 9 to 11, even if the optimum value of the overflow barrier potential Φ1 varies to the maximum, Φ2 <Φ1 <(Φ3-ΔΦα) is always satisfied. It is necessary to design with sufficient margin so that it can be satisfied.

しかし、近年の画素数の増加や画素サイズの微細化により、水平CCD204の設計だけで、オーバーフローバリア電位Φ1の変動に対応することは困難になってきている。よって、十分な余裕を持たせた設計ができなくても、常に、Φ2<Φ1<(Φ3−△Φα)が満たされるようにするため、素子毎に、製造後にドレイン領域207に印加する電圧の値を調整して、オーバーフローバリア電位Φ1を適切な値に設定することが求められている。   However, due to the recent increase in the number of pixels and miniaturization of the pixel size, it has become difficult to cope with the fluctuation of the overflow barrier potential Φ1 only by designing the horizontal CCD 204. Therefore, in order to always satisfy Φ2 <Φ1 <(Φ3−ΔΦα) even if a design with sufficient margin cannot be made, the voltage applied to the drain region 207 after manufacture is determined for each element. It is required to adjust the value to set the overflow barrier potential Φ1 to an appropriate value.

ところで、従来から、固体撮像素子においては、各受光部における余剰電荷の溢れによるブルーミングを抑制するため、半導体基板にバイアス電圧を印加し、これによって受光部における過剰電荷を排出している(例えば、特許文献2参照。)。また、このときも、適切な電荷量を排出するため、バイアス電圧の電位が調整される。   By the way, conventionally, in a solid-state imaging device, a bias voltage is applied to the semiconductor substrate in order to suppress blooming due to excess charge overflow in each light receiving unit, thereby discharging excess charge in the light receiving unit (for example, (See Patent Document 2). Also at this time, the potential of the bias voltage is adjusted in order to discharge an appropriate amount of charge.

具体的には、特許文献2に開示の固体撮像素子では、水平CCDから離れた位置にあるオプティカルブラックの一部分に定電流源が接続され、光入力無しで蓄積電荷を読み出すことが可能な画素(ダミーホワイト部)が形成されている。ダミーホワイト部に蓄積された電荷も、垂直CCDによって読み出され、垂直方向に転送された後、水平CCDによって水平方向に転送される。その後、受光部に蓄積された電荷と同様に、ダミーホワイト部に蓄積された電荷も、出力アンプによって、電荷量に応じた信号に変換されて出力される。   Specifically, in the solid-state imaging device disclosed in Patent Document 2, a constant current source is connected to a part of optical black located at a position away from the horizontal CCD, and a pixel that can read accumulated charges without light input ( A dummy white portion) is formed. The electric charge accumulated in the dummy white portion is also read out by the vertical CCD, transferred in the vertical direction, and then transferred in the horizontal direction by the horizontal CCD. Thereafter, similarly to the charge accumulated in the light receiving portion, the charge accumulated in the dummy white portion is also converted into a signal corresponding to the amount of charge by the output amplifier and output.

そして、固体撮像素子を備える撮像装置の制御装置は、ダミーホワイト部から読み出され、出力アンプから出力された出力信号に基づいて、受光部の飽和レベルを検出し、検出した飽和レベルに応じて、半導体基板に印加するバイアス電圧を設定する。この結果、受光部における過剰電荷の排出が適切に調整される。   Then, the control device of the imaging device including the solid-state imaging device detects the saturation level of the light receiving unit based on the output signal read from the dummy white unit and output from the output amplifier, and according to the detected saturation level The bias voltage applied to the semiconductor substrate is set. As a result, excessive charge discharge in the light receiving unit is appropriately adjusted.

従って、上記の原理を水平CCD204に適用すれば、オーバーフローバリア電位Φ1を適切な値に設定できると考えられる。具体的には、オプティカルブラックによって遮光された水平CCD204の一部分をダミーホワイト部とし、この部分に電流を供給すれば良い。この場合、ダミーホワイト部に蓄積された電荷は、出力アンプから信号として出力されるので、制御装置は、この信号に基づいて、水平CCD204の飽和レベルを検出する。そして、制御装置は、検出した飽和レベルに基づいて、ドレイン領域207に印加する電圧の電位を調整して、バリア領域206の電位Φ1を適切な値に設定する。
特公平7−112059号公報 特開2002−77735号公報
Therefore, if the above principle is applied to the horizontal CCD 204, it is considered that the overflow barrier potential Φ1 can be set to an appropriate value. Specifically, a part of the horizontal CCD 204 that is shielded from light by the optical black may be a dummy white part, and current may be supplied to this part. In this case, since the charge accumulated in the dummy white portion is output as a signal from the output amplifier, the control device detects the saturation level of the horizontal CCD 204 based on this signal. Then, the control device adjusts the potential of the voltage applied to the drain region 207 based on the detected saturation level, and sets the potential Φ1 of the barrier region 206 to an appropriate value.
Japanese Examined Patent Publication No.7-112059 JP 2002-77735 A

しかしながら、特許文献2に開示の技術を水平CCD204に適用した場合、ダミーホワイト部に蓄積された電荷は、水平CCD204による読出及び転送によって損失を受ける。更に、ダミーホワイト部に蓄積された電荷は、出力アンプによって信号に変換される際に、アンプノイズによる影響を受け、劣化する。このため、ダミーホワイト部に蓄積された電荷を精度良く検出するのは難しく、この結果、オーバーフローバリア電位Φ1を適切な値に設定するのも困難となる。   However, when the technique disclosed in Patent Document 2 is applied to the horizontal CCD 204, the charge accumulated in the dummy white portion is lost due to reading and transfer by the horizontal CCD 204. Furthermore, the charges accumulated in the dummy white portion are affected by amplifier noise and deteriorated when converted into signals by the output amplifier. For this reason, it is difficult to accurately detect the charge accumulated in the dummy white portion, and as a result, it is difficult to set the overflow barrier potential Φ1 to an appropriate value.

本発明の目的は、上記問題を解消し、電荷転送部からドレイン領域に排出される電荷の状態を正確に把握でき、且つ、適切なオーバーフローバリア電位を簡単に設定できる固体撮像素子及びそれを用いた撮像装置を提供することにある。   An object of the present invention is to solve the above-described problems, to accurately grasp the state of charge discharged from the charge transfer unit to the drain region, and to use a solid-state imaging device capable of easily setting an appropriate overflow barrier potential. It is to provide an image pickup apparatus.

上記目的を達成するため、本発明における撮像装置は、固体撮像素子と制御装置とを備える撮像装置であって、前記固体撮像素子は、複数の受光部と、前記複数の受光部から読み出した信号電荷を転送する電荷転送部と、前記電荷転送部に隣接し、且つ、前記電荷転送部の余剰電荷のみを通過させるバリア領域と、前記バリア領域に隣接し、且つ、前記バリア領域を通過した前記余剰電荷を排出するドレイン領域と、検出部とを備え、前記検出部は、前記ドレイン領域に接続され、且つ、前記ドレイン領域における電荷の変動を検出し、前記制御装置は、前記検出部によって検出された前記電荷の変動に応じて、前記バリア領域の電位を調整することを特徴とする。   In order to achieve the above object, an imaging apparatus according to the present invention is an imaging apparatus including a solid-state imaging device and a control device, and the solid-state imaging device includes a plurality of light receiving units and signals read from the plurality of light receiving units. A charge transfer unit that transfers charges; a barrier region that is adjacent to the charge transfer unit and that allows only surplus charges of the charge transfer unit to pass; and that is adjacent to the barrier region and that has passed through the barrier region. A drain region for discharging surplus charge; and a detection unit, wherein the detection unit is connected to the drain region and detects a change in charge in the drain region, and the control device detects by the detection unit The potential of the barrier region is adjusted according to the fluctuation of the electric charge.

また、上記目的を達成するため、本発明における固体撮像装置は、複数の受光部と、前記複数の受光部から読み出した信号電荷を転送する電荷転送部と、前記電荷転送部に隣接し、且つ、前記電荷転送部の余剰電荷のみを通過させるバリア領域と、前記バリア領域に隣接し、且つ、前記バリア領域を通過した前記余剰電荷を排出するドレイン領域とを備えた固体撮像素子であって、前記ドレイン領域に接続された検出部を更に備え、前記検出部は、前記ドレイン領域における電荷の変動を検出することを特徴とする。   In order to achieve the above object, a solid-state imaging device according to the present invention includes a plurality of light receiving units, a charge transfer unit that transfers signal charges read from the plurality of light receiving units, and adjacent to the charge transfer unit. A solid-state imaging device comprising a barrier region that allows only surplus charges of the charge transfer unit to pass therethrough, and a drain region that is adjacent to the barrier region and that drains the surplus charges that have passed through the barrier region, The apparatus further includes a detection unit connected to the drain region, and the detection unit detects a change in charge in the drain region.

更に、上記目的を達成するため、本発明におけるプログラムは、上記本発明における固体撮像素子の駆動をコンピュータに実行させるためのプログラムであって、(a)前記検出部によって検出された前記電荷の変動を特定するステップと、(b)上記(a)のステップで特定された前記電荷の変動に応じて、前記バリア領域の電位を調整するステップとを前記コンピュータに実行させることを特徴とする。   Furthermore, in order to achieve the above object, a program according to the present invention is a program for causing a computer to drive the solid-state imaging device according to the present invention, and (a) fluctuation of the electric charge detected by the detection unit. And (b) adjusting the potential of the barrier region in accordance with the fluctuation of the electric charge specified in the step (a).

以上のように本発明において、固体撮像素子は、ドレイン領域における電荷の変動を検出する検出部を備えている。検出部は、ドレイン領域に接続されており、電荷の変動をドレイン領域から直接検出している。つまり、本発明においては、バリア領域の電位(オーバーフローバリア電位Φ1)を設定するための情報は、従来例と異なり、電荷転送部による転送や出力アンプによる信号変換等を経ることなく取得される。よって、本発明によれば、電荷転送部からドレイン領域に排出される電荷の状態を正確に把握でき、この結果、素子毎に適切なオーバーフローバリア電位を簡単に設定できる。   As described above, in the present invention, the solid-state imaging device includes a detection unit that detects a change in charge in the drain region. The detection unit is connected to the drain region and directly detects a change in charge from the drain region. That is, in the present invention, the information for setting the potential of the barrier region (overflow barrier potential Φ1) is acquired without passing through the transfer by the charge transfer unit, the signal conversion by the output amplifier, or the like, unlike the conventional example. Therefore, according to the present invention, it is possible to accurately grasp the state of charge discharged from the charge transfer unit to the drain region, and as a result, an appropriate overflow barrier potential can be easily set for each element.

本発明における撮像装置は、固体撮像素子と制御装置とを備える撮像装置であって、前記固体撮像素子は、複数の受光部と、前記複数の受光部から読み出した信号電荷を転送する電荷転送部と、前記電荷転送部に隣接し、且つ、前記電荷転送部の余剰電荷のみを通過させるバリア領域と、前記バリア領域に隣接し、且つ、前記バリア領域を通過した前記余剰電荷を排出するドレイン領域と、検出部とを備え、前記検出部は、前記ドレイン領域に接続され、且つ、前記ドレイン領域における電荷の変動を検出し、前記制御装置は、前記検出部によって検出された前記電荷の変動に応じて、前記バリア領域の電位を調整することを特徴とする。   The imaging device according to the present invention is an imaging device including a solid-state imaging device and a control device, and the solid-state imaging device includes a plurality of light receiving units and a charge transfer unit that transfers signal charges read from the plurality of light receiving units. A barrier region that is adjacent to the charge transfer unit and allows only surplus charges of the charge transfer unit to pass therethrough, and a drain region that is adjacent to the barrier region and discharges the excess charge that has passed through the barrier region And a detector, wherein the detector is connected to the drain region and detects a change in charge in the drain region, and the control device detects the change in the charge detected by the detector. Accordingly, the potential of the barrier region is adjusted.

上記本発明における撮像装置は、前記複数の受光部、前記電荷転送部、前記バリア領域、前記ドレイン領域、及び前記検出部が、同一の半導体基板に形成され、前記複数の受光部が、垂直方向及び水平方向に沿って2次元状に配列され、前記電荷転送部が、前記受光部の垂直方向の列に沿って配置され、且つ、前記受光部から信号電荷を読み出して垂直方向に転送する垂直電荷転送部と、前記垂直電荷転送部によって転送された信号電荷を受け取って水平方向に転送する水平電荷転送部とを備え、前記ドレイン領域が、前記水平電荷転送部の前記受光部側の反対側に、水平方向に沿って形成され、前記バリア領域が、前記水平電荷転送部と前記ドレイン領域との間に、水平方向に沿って形成され、前記制御装置が、前記検出部によって検出された前記電荷の変動に応じて、前記固体撮像素子の外部から前記ドレイン領域に印加される電圧を設定し、これによって前記バリア領域の電位を調整する態様とすることができる。   In the imaging device according to the present invention, the plurality of light receiving units, the charge transfer unit, the barrier region, the drain region, and the detection unit are formed on the same semiconductor substrate, and the plurality of light receiving units are arranged in a vertical direction. The charge transfer units are arranged along a vertical column of the light receiving units, and read out the signal charges from the light receiving units and transfer them in the vertical direction. A charge transfer unit; and a horizontal charge transfer unit that receives and transfers the signal charge transferred by the vertical charge transfer unit in the horizontal direction, and the drain region is opposite to the light receiving unit side of the horizontal charge transfer unit The barrier region is formed along the horizontal direction between the horizontal charge transfer unit and the drain region, and the control device detects the detection unit by the detection unit. Wherein in accordance with a variation in the charge was, set the voltage applied to the drain region from the outside of the solid-state imaging device, whereby it is possible to mode of adjusting the potential of the barrier region.

上記態様においては、前記検出部が、入力回路と差分回路とを備え、前記入力回路は、遮光された前記水平電荷転送部の一部分と、前記遮光された水平電荷転送部のチャネル領域に接続された入力端子とを備え、前記差分回路は、前記ドレイン領域に接続されており、且つ、前記入力端子から前記入力回路に電流が供給されたときの前記ドレイン領域における電流の変動量を、前記電荷の変動として検出するのが好ましい。   In the above aspect, the detection unit includes an input circuit and a difference circuit, and the input circuit is connected to a part of the shielded horizontal charge transfer unit and a channel region of the shielded horizontal charge transfer unit. The differential circuit is connected to the drain region, and the amount of change in the current in the drain region when current is supplied from the input terminal to the input circuit is calculated as the charge amount. Preferably, it is detected as a fluctuation of

この場合、水平電荷転送部の有効領域には何ら影響を与えることなく、検出部を配置できる。更に、この場合は、簡単な構成で、ドレイン領域における電荷の変動を検出でき、コストの増加を抑制できる。   In this case, the detection unit can be arranged without affecting the effective area of the horizontal charge transfer unit. Furthermore, in this case, with a simple configuration, fluctuations in charge in the drain region can be detected, and an increase in cost can be suppressed.

また、上記態様において、前記検出部が、入力回路と差分回路とを備え、前記入力回路は、遮光された前記水平電荷転送部の一部分と、前記遮光された水平電荷転送部のチャネル領域に接続された入力端子とを備え、前記差分回路は、前記ドレイン領域及び前記バリア領域に接続されており、且つ、前記入力端子から前記入力回路に電流が供給されたときの前記バリア領域における電位の変動量を、前記電荷の変動として検出するのも好ましい。更に、前記検出部が、入力回路と差分回路とを備え、前記入力回路は、遮光された前記水平電荷転送部の一部分と、前記遮光された水平電荷転送部のチャネル領域に接続された入力端子とを備え、前記差分回路は、前記ドレイン領域及び前記バリア領域に接続されており、且つ、前記入力端子から前記入力回路に電流が供給されたときの前記バリア領域における容量の変動量を、前記電荷の変動として検出するのも好ましい。   In the above aspect, the detection unit includes an input circuit and a difference circuit, and the input circuit is connected to a part of the shielded horizontal charge transfer unit and a channel region of the shielded horizontal charge transfer unit. The difference circuit is connected to the drain region and the barrier region, and the potential variation in the barrier region when current is supplied from the input terminal to the input circuit It is also preferred to detect the quantity as a change in the charge. Further, the detection unit includes an input circuit and a difference circuit, and the input circuit is connected to a part of the horizontal charge transfer unit shielded from light and a channel region of the shielded horizontal charge transfer unit. The differential circuit is connected to the drain region and the barrier region, and the amount of variation in capacitance in the barrier region when current is supplied from the input terminal to the input circuit, It is also preferable to detect it as a change in charge.

これらの場合も、水平電荷転送部の有効領域には何ら影響を与えることなく、検出部を配置できる。更に、簡単な構成で、ドレイン領域における電荷の変動を検出でき、コストの増加を抑制できる。   In these cases, the detection unit can be arranged without affecting the effective area of the horizontal charge transfer unit. Furthermore, with a simple configuration, fluctuations in charge in the drain region can be detected, and an increase in cost can be suppressed.

更に、上記の三つの場合においては、前記遮光された前記水平電荷転送部の一部分が、前記水平電荷転送部における転送方向の逆方向の側の端部であり、前記差分回路が、前記入力回路に隣接した位置に配置されているのが好ましい。このようにすることにより、検出部が水平電荷転送部の有効領域に何らかの影響を与えるのを抑制することができる。   Further, in the above three cases, a part of the shielded horizontal charge transfer unit is an end of the horizontal charge transfer unit on the side opposite to the transfer direction, and the difference circuit is the input circuit. It is preferable that it is arrange | positioned in the position adjacent to. By doing in this way, it can suppress that a detection part has some influence on the effective area | region of a horizontal charge transfer part.

また、上記態様においては、前記バリア領域の電位をΦ1、前記水平電荷転送部の前記チャネル領域において電位障壁となっている領域の電位をΦ2、前記水平電荷転送部が設定電荷量を前記チャネル領域に蓄積するために必要な電位をΦ3、前記水平電荷転送部の前記チャネル領域における電位障壁による電位差と熱電子放出によるオーバーフロー開始電位との差を△Φαとしたときに、前記制御装置が、前記バリア領域の電位Φ1が下記式(1)を満たすように、前記ドレイン領域に印加される電圧を設定するのが好ましい。この場合は、オプティカルブラックへと電荷が過剰に溢れ出したり、必要以上に電荷がドレイン領域に排出されたりするのを抑制できる。   In the above aspect, the potential of the barrier region is Φ1, the potential of the region that is a potential barrier in the channel region of the horizontal charge transfer unit is Φ2, and the horizontal charge transfer unit sets the set charge amount to the channel region. When the potential required for storage in the channel region of the horizontal charge transfer unit is Φ3, and the difference between the potential difference due to the potential barrier in the channel region and the overflow start potential due to thermionic emission is ΔΦα, the control device The voltage applied to the drain region is preferably set so that the potential Φ1 of the barrier region satisfies the following formula (1). In this case, it is possible to prevent the electric charge from overflowing excessively into the optical black or discharging the electric charge to the drain region more than necessary.

(数3)
Φ2<Φ1<Φ3−△Φα・・・・・(1)
(Equation 3)
Φ2 <Φ1 <Φ3-ΔΦα (1)

また、本発明における固体撮像装置は、複数の受光部と、前記複数の受光部から読み出した信号電荷を転送する電荷転送部と、前記電荷転送部に隣接し、且つ、前記電荷転送部の余剰電荷のみを通過させるバリア領域と、前記バリア領域に隣接し、且つ、前記バリア領域を通過した前記余剰電荷を排出するドレイン領域とを備えた固体撮像素子であって、前記ドレイン領域に接続された検出部を更に備え、前記検出部は、前記ドレイン領域における電荷の変動を検出することを特徴とする。   In addition, the solid-state imaging device according to the present invention includes a plurality of light receiving units, a charge transfer unit that transfers signal charges read from the plurality of light receiving units, an adjacent to the charge transfer unit, and a surplus of the charge transfer unit. A solid-state imaging device comprising: a barrier region that allows only charges to pass; and a drain region that is adjacent to the barrier region and that drains the excess charge that has passed through the barrier region, and is connected to the drain region A detector is further provided, and the detector detects a change in charge in the drain region.

上記固体撮像素子は、前記複数の受光部、前記電荷転送部、前記バリア領域、前記ドレイン領域、及び前記検出部が、同一の半導体基板に形成され、前記複数の受光部が、垂直方向及び水平方向に沿って2次元状に配列され、前記電荷転送部が、前記受光部の垂直方向の列に沿って配置され、且つ、前記受光部から信号電荷を読み出して垂直方向に転送する垂直電荷転送部と、前記垂直電荷転送部によって転送された信号電荷を受け取って水平方向に転送する水平電荷転送部とを備え、前記ドレイン領域が、前記水平電荷転送部の前記受光部側の反対側に、水平方向に沿って形成され、前記バリア領域が、前記水平電荷転送部と前記ドレイン領域との間に、水平方向に沿って形成され、前記固体撮像素子の外部から前記ドレイン領域に印加される電圧の大きさによって、前記バリア領域の電位が調整される態様とすることができる。   In the solid-state imaging device, the plurality of light receiving units, the charge transfer unit, the barrier region, the drain region, and the detection unit are formed on the same semiconductor substrate, and the plurality of light receiving units are arranged in a vertical direction and a horizontal direction. Vertical charge transfer arranged in a two-dimensional manner along the direction, the charge transfer unit being arranged along a vertical column of the light receiving unit, and reading the signal charge from the light receiving unit and transferring it in the vertical direction And a horizontal charge transfer unit that receives the signal charge transferred by the vertical charge transfer unit and transfers it in the horizontal direction, the drain region on the opposite side of the horizontal charge transfer unit to the light receiving unit side, The barrier region is formed along the horizontal direction between the horizontal charge transfer unit and the drain region, and is applied to the drain region from the outside of the solid-state imaging device. That the magnitude of the voltage, the potential of the barrier region can be a manner to be adjusted.

上記態様においては、前記検出部が、入力回路と差分回路とを備え、前記入力回路は、遮光された前記水平電荷転送部の一部分と、前記遮光された水平電荷転送部のチャネル領域に接続された入力端子とを備え、前記差分回路は、前記ドレイン領域に接続されており、且つ、前記入力端子から前記入力回路に電流が供給されたときの前記ドレイン領域における電流の変動量を、前記電荷の変動として検出するのが好ましい。この場合は、簡単な構成で、ドレイン領域における電荷の変動が検出されるため、コストの増加を抑制できる。   In the above aspect, the detection unit includes an input circuit and a difference circuit, and the input circuit is connected to a part of the shielded horizontal charge transfer unit and a channel region of the shielded horizontal charge transfer unit. The differential circuit is connected to the drain region, and the amount of change in the current in the drain region when current is supplied from the input terminal to the input circuit is calculated as the charge amount. Preferably, it is detected as a fluctuation of In this case, since the fluctuation of the charge in the drain region is detected with a simple configuration, an increase in cost can be suppressed.

更に、上記の場合においては、前記遮光された前記水平電荷転送部の一部分が、前記水平電荷転送部における転送方向の逆方向の側の端部であり、前記差分回路が、前記入力回路に隣接した位置に配置されているのが好ましい。このようにすることにより、検出部が水平電荷転送部の有効領域に何らかの影響を与えるのを抑制することができる。   Furthermore, in the above case, a part of the shielded horizontal charge transfer unit is an end of the horizontal charge transfer unit on the side opposite to the transfer direction, and the difference circuit is adjacent to the input circuit. It is preferable to arrange in the position. By doing in this way, it can suppress that a detection part has some influence on the effective area | region of a horizontal charge transfer part.

更に、上記態様では、前記ドレイン領域に外部から印加される電圧の値を設定するドレイン電圧設定回路を更に備えていることもできる。この場合、前記ドレイン電圧設定回路は、直列に接続された複数の抵抗素子と、前記複数の抵抗素子それぞれ毎に設けられ、各抵抗素子に並列に接続された短絡配線とを備えているのが好ましい。このような構成とすることにより、オーバーフローバリア電位を簡単に設定値に保持することができる。   Further, the above aspect may further include a drain voltage setting circuit that sets a value of a voltage applied from the outside to the drain region. In this case, the drain voltage setting circuit includes a plurality of resistance elements connected in series and a short-circuit wiring provided for each of the plurality of resistance elements and connected in parallel to the resistance elements. preferable. With such a configuration, the overflow barrier potential can be easily held at the set value.

また、本発明におけるプログラムは、上記本発明における固体撮像素子の駆動をコンピュータに実行させるためのプログラムであって、(a)前記検出部によって検出された前記電荷の変動を特定するステップと、(b)上記(a)のステップで特定された前記電荷の変動に応じて、前記バリア領域の電位を調整するステップとを前記コンピュータに実行させることを特徴とする。   A program according to the present invention is a program for causing a computer to drive the solid-state imaging device according to the present invention, wherein (a) identifying the fluctuation of the charge detected by the detection unit; b) causing the computer to execute a step of adjusting the potential of the barrier region in accordance with the fluctuation of the charge specified in the step (a).

上記本発明におけるプログラムにおいては、前記固体撮像素子が上記請求項8〜13のいずれかに記載の固体撮像素子であって、前記固体撮像素子の外部から前記ドレイン領域に印加される電圧の大きさによって、前記バリア領域の電位が調整されており、前記バリア領域の電位をΦ1、前記水平電荷転送部の前記チャネル領域において電位障壁となっている領域の電位をΦ2、前記水平電荷転送部が設定電荷量を前記チャネル領域に蓄積するために必要な電位をΦ3、前記水平電荷転送部の前記チャネル領域における電位障壁による電位差と熱電子放出によるオーバーフロー開始電位との差を△Φαとしたときに、前記(b)のステップにおいて、前記バリア領域の電位Φ1が下記式(1)を満たすように、前記ドレイン領域に印加される電圧が設定されるのが好ましい。この場合は、オプティカルブラックへと電荷が過剰に溢れ出したり、必要以上に電荷がドレイン領域に排出されたりするのを抑制できる。   In the program according to the present invention, the solid-state imaging device is the solid-state imaging device according to any one of claims 8 to 13, and a magnitude of a voltage applied to the drain region from the outside of the solid-state imaging device. The potential of the barrier region is adjusted by Φ1, the potential of the barrier region in the channel region of the horizontal charge transfer unit is set to Φ2, and the horizontal charge transfer unit sets the potential of the barrier region When the potential necessary for accumulating the charge amount in the channel region is Φ3, and the difference between the potential difference due to the potential barrier in the channel region of the horizontal charge transfer unit and the overflow start potential due to thermionic emission is ΔΦα, In the step (b), the voltage applied to the drain region so that the potential Φ1 of the barrier region satisfies the following formula (1): Preferably set. In this case, it is possible to prevent the electric charge from overflowing excessively into the optical black or discharging the electric charge to the drain region more than necessary.

(数4)
Φ2<Φ1<Φ3−△Φα・・・・・(1)
(Equation 4)
Φ2 <Φ1 <Φ3-ΔΦα (1)

(実施の形態)
以下、本発明の実施の形態における固体撮像素子及び撮像装置について、図1〜図5を参照しながら説明する。最初に、本実施の形態における固体撮像素子の概略構成について図1を用いて説明する。図1は、本発明の実施の形態における固体撮像素子の概略構成を示す平面図である。
(Embodiment)
Hereinafter, a solid-state imaging device and an imaging apparatus according to an embodiment of the present invention will be described with reference to FIGS. First, a schematic configuration of the solid-state imaging device in the present embodiment will be described with reference to FIG. FIG. 1 is a plan view showing a schematic configuration of a solid-state imaging device according to an embodiment of the present invention.

図1に示すように、固体撮像素子1は、複数の受光部2と、信号電荷を転送する電荷転送部と、電荷転送部の余剰電荷のみを通過させるバリア領域6と、バリア領域6を通過した余剰電荷を排出するドレイン領域7とを備えている。本実施の形態において、固体撮像素子1は、背景技術において図9に示した固体撮像素子(以下「従来例」という。)と同様に、CCD型固体撮像素子である。本実施の形態においても、受光部2、電荷転送部、バリア領域6、ドレイン領域7は、同一の半導体基板10に形成されている。   As shown in FIG. 1, the solid-state imaging device 1 passes through a plurality of light receiving units 2, a charge transfer unit that transfers signal charges, a barrier region 6 that allows only surplus charges of the charge transfer unit to pass, and a barrier region 6. And a drain region 7 for discharging the surplus charge. In the present embodiment, the solid-state imaging device 1 is a CCD solid-state imaging device, similar to the solid-state imaging device shown in FIG. 9 in the background art (hereinafter referred to as “conventional example”). Also in the present embodiment, the light receiving portion 2, the charge transfer portion, the barrier region 6, and the drain region 7 are formed on the same semiconductor substrate 10.

また、従来例と同様に、複数の受光部2は、垂直方向及び水平方向に沿って2次元状に配列され、電荷転送部は、垂直電荷転送部(垂直CCD)3と水平電荷転送部(水平CCD)4とを備えている。更に、一つの受光部2と、それと隣接する垂直CCD3の一部分とで、一つの画素9が構成されている。受光部2に蓄積された電荷は、垂直CCD3によって読み出され、水平CCD4に送られた後、水平方向に転送され、出力アンプ5を介して外部に出力される。図1中の矢印は画素の転送方向を示している。   Similarly to the conventional example, the plurality of light receiving units 2 are two-dimensionally arranged in the vertical direction and the horizontal direction, and the charge transfer unit includes a vertical charge transfer unit (vertical CCD) 3 and a horizontal charge transfer unit ( Horizontal CCD) 4. Further, one pixel 9 is constituted by one light receiving unit 2 and a part of the vertical CCD 3 adjacent thereto. The charges accumulated in the light receiving unit 2 are read by the vertical CCD 3, sent to the horizontal CCD 4, transferred in the horizontal direction, and output to the outside through the output amplifier 5. An arrow in FIG. 1 indicates a pixel transfer direction.

更に、従来例と同様に、本実施の形態においても、ドレイン領域7は、水平CCD4の受光部2側の反対側に、水平方向に沿って形成されている。バリア領域6は、水平CCD4とドレイン領域7との間に、水平方向に沿って形成されている。更に、ドレイン領域7には、外部から一定電圧が印加され、これによりバリア領域6の電位(オーバーフローバリア電位)Φ1が設定される。複数の受光部2が設けられた受光領域の周辺領域であって、水平CCD4の後段を含む領域には、オプティカルブラック(光学的黒画素)8も設けられている。図1においても、オプティカルブラック8にはハッチングが施されている。   Further, similarly to the conventional example, also in the present embodiment, the drain region 7 is formed along the horizontal direction on the opposite side of the horizontal CCD 4 from the light receiving unit 2 side. The barrier region 6 is formed along the horizontal direction between the horizontal CCD 4 and the drain region 7. Furthermore, a constant voltage is applied to the drain region 7 from the outside, thereby setting the potential of the barrier region 6 (overflow barrier potential) Φ1. An optical black (optical black pixel) 8 is also provided in a peripheral region of the light receiving region in which the plurality of light receiving units 2 are provided and including a subsequent stage of the horizontal CCD 4. Also in FIG. 1, the optical black 8 is hatched.

このように、図1に示す固体撮像素子1は、従来例と同様の構成を備えているが、次の点で従来例と異なっている。図1に示すように、固体撮像素子1は、検出部11を備えている。検出部11は、ドレイン領域7に接続され、ドレイン領域7における電荷の変動を検出する。また、検出部11は、固体撮像素子の外部に備えられたバリア電位制御装置30に接続されており、バリア電位制御装置30に対して、検出した電荷の変動を特定する信号を出力する。   As described above, the solid-state imaging device 1 shown in FIG. 1 has the same configuration as the conventional example, but differs from the conventional example in the following points. As shown in FIG. 1, the solid-state imaging device 1 includes a detection unit 11. The detection unit 11 is connected to the drain region 7 and detects a change in charge in the drain region 7. The detection unit 11 is connected to a barrier potential control device 30 provided outside the solid-state imaging device, and outputs a signal specifying the detected charge fluctuation to the barrier potential control device 30.

本実施の形態では、検出部11は、図3を用いて後述するように、ドレイン領域7における電流の変動量△Iを検出することによって、電荷の変動を検出している。また、検出部11は、入力回路12と、差分回路13とを備え、固体撮像素子1が形成された半導体基板10に形成されている。入力回路12には、入力端子14が接続されている。   In the present embodiment, as will be described later with reference to FIG. 3, the detection unit 11 detects a change in charge by detecting a current fluctuation amount ΔI in the drain region 7. The detection unit 11 includes an input circuit 12 and a difference circuit 13 and is formed on the semiconductor substrate 10 on which the solid-state imaging device 1 is formed. An input terminal 14 is connected to the input circuit 12.

また、バリア電位制御装置30は、検出部11が信号を出力すると、信号によって特定される電荷の変動に応じて、バリア領域6のオーバーフローバリア電位Φ1を調整する。本実施の形態では、バリア電位制御装置30は、ドレイン領域7に印加される電圧の大きさをドレイン電圧調整回路31で調整することによって、オーバーフローバリア電位Φ1を調整している。また、バリア電位制御装置30は、図4を用いて後述するように、撮像装置のシステムコントローラの一部を構成している。   In addition, when the detection unit 11 outputs a signal, the barrier potential control device 30 adjusts the overflow barrier potential Φ1 of the barrier region 6 according to the change in the charge specified by the signal. In the present embodiment, the barrier potential control device 30 adjusts the overflow barrier potential Φ 1 by adjusting the magnitude of the voltage applied to the drain region 7 by the drain voltage adjusting circuit 31. The barrier potential control device 30 constitutes a part of the system controller of the imaging device, as will be described later with reference to FIG.

ここで、固体撮像素子に設けられた検出部11の具体的構成について図2及び図3を用いて説明する。図2は、図1に示した固体撮像素子の検出部近傍を拡大して示す平面図である。図3は、図1に示した固体撮像素子の検出部の回路構成を示す回路図である。なお、図2においては、検出部11を構成する差分回路13については図示を省略している。   Here, a specific configuration of the detection unit 11 provided in the solid-state imaging device will be described with reference to FIGS. FIG. 2 is an enlarged plan view showing the vicinity of the detection unit of the solid-state imaging device shown in FIG. FIG. 3 is a circuit diagram showing a circuit configuration of a detection unit of the solid-state imaging device shown in FIG. In FIG. 2, the difference circuit 13 configuring the detection unit 11 is not illustrated.

図2に示すように、検出部11を構成する入力回路11は、水平CCD4のオプティカルブラック8によって遮光された部分と、入力端子14とを備えている。本実施の形態では、入力端子14は、半導体基板10(図1参照)に設けられた拡散領域14aと、拡散領域14aに接続された金属配線14bとで形成されている。拡散領域14aは、水平CCD4の遮光された部分のチャネル領域17に接続されていている。   As shown in FIG. 2, the input circuit 11 configuring the detection unit 11 includes a portion shielded from light by the optical black 8 of the horizontal CCD 4 and an input terminal 14. In the present embodiment, the input terminal 14 is formed of a diffusion region 14a provided in the semiconductor substrate 10 (see FIG. 1) and a metal wiring 14b connected to the diffusion region 14a. The diffusion region 14 a is connected to the channel region 17 in the shaded portion of the horizontal CCD 4.

また、入力端子14は、固体撮像素子1の外部に設けられた電流供給回路32に接続されている。電流供給回路32は、バリア電位制御装置30(図1参照)の指示に応じて、入力端子14を介して入力回路12に電流を供給する。また、水平CCD4の遮光された部分に対して垂直方向において隣接するバリア領域6の一部分及びドレイン領域7の一部分も、入力回路11を構成している。このドレイン領域の一部分は、拡散領域21によって、図3に示す差分回路13に接続される。   Further, the input terminal 14 is connected to a current supply circuit 32 provided outside the solid-state imaging device 1. The current supply circuit 32 supplies current to the input circuit 12 via the input terminal 14 in response to an instruction from the barrier potential control device 30 (see FIG. 1). Further, a part of the barrier region 6 and a part of the drain region 7 which are adjacent to the light-shielded portion of the horizontal CCD 4 in the vertical direction also constitute the input circuit 11. A part of this drain region is connected to the differential circuit 13 shown in FIG.

このような構成により、図3に示すように、入力回路12はトランジスタ素子として機能する。このトラジスタ素子においては、バリア領域6がトランジスタ素子のチャネルとなる。よって、電流供給回路32から供給された電流は、バリア領域6の電位に応じて、ドレイン領域7へと送られ、更に、差分回路13に送られる。   With such a configuration, as shown in FIG. 3, the input circuit 12 functions as a transistor element. In this transistor element, the barrier region 6 becomes a channel of the transistor element. Therefore, the current supplied from the current supply circuit 32 is sent to the drain region 7 according to the potential of the barrier region 6, and further sent to the difference circuit 13.

図3に示すように、本実施の形態では、差分回路13は、2値間の変動量を検出する回路であり、主に記憶素子(メモリ)22と演算増幅素子(オペアンプ)23とを備えている。メモリ22は、入力回路12から送られてきた電流の電流値を単位時間毎に記憶する。また、メモリ22は、現時点の電流と電流値が同レベルの電流I2と、現時点より単位時間前の電流と電流値が同レベルの電流I1とを、オペアンプ23に向けて出力する。電流I2はオペアンプの正の入力端子に入力され、電流I1はオペアンプ23の負の入力端子に入力される。 As shown in FIG. 3, in the present embodiment, the difference circuit 13 is a circuit that detects a fluctuation amount between two values, and mainly includes a storage element (memory) 22 and an operational amplification element (op-amp) 23. ing. The memory 22 stores the current value of the current sent from the input circuit 12 for each unit time. Further, the memory 22 outputs to the operational amplifier 23 the current I 2 having the same level as the current current and the current I 1 having the same level as the current and unit time before the current time. The current I 2 is input to the positive input terminal of the operational amplifier, and the current I 1 is input to the negative input terminal of the operational amplifier 23.

そして、オペアンプ23は、二つの入力端子の電位差に応じた電圧信号を生成する。このとき、電圧信号の電圧レベルV0(=V2−V1)は、電流I2と電流I1との電流値の差、即ち、ドレイン領域7における単位時間当たりの電流の変動量△Iに応じて変動する。オペアンプ23が生成した信号は、ドレイン領域7における電荷の変動(電流の変動量△I)を特定する信号として、バリア電位制御装置30(図1参照)へと出力される。 The operational amplifier 23 generates a voltage signal corresponding to the potential difference between the two input terminals. At this time, the voltage level V 0 (= V 2 −V 1 ) of the voltage signal is the difference between the current values of the current I 2 and the current I 1 , that is, the current fluctuation amount ΔI per unit time in the drain region 7. Fluctuates depending on The signal generated by the operational amplifier 23 is output to the barrier potential control device 30 (see FIG. 1) as a signal for specifying charge fluctuation (current fluctuation amount ΔI) in the drain region 7.

差分回路13が信号を出力すると、バリア電位制御装置30は、オペアンプ23が生成した信号から、ドレイン領域7における電流の変動量△Iを特定する。更に、バリア電位制御装置30は、特定した電流の変動量△Iに基づいて、ドレイン領域7に印加される電圧を設定して、オーバーフローバリア電位Φ1を調整する。バリア電位制御装置30における処理については、図5を用いて後述する。   When the difference circuit 13 outputs a signal, the barrier potential control device 30 specifies the current fluctuation amount ΔI in the drain region 7 from the signal generated by the operational amplifier 23. Further, the barrier potential control device 30 adjusts the overflow barrier potential Φ1 by setting a voltage applied to the drain region 7 based on the specified current fluctuation amount ΔI. The processing in the barrier potential control device 30 will be described later with reference to FIG.

なお、図2に示す固体撮像素子1おいて、入力回路11以外の部分は、従来例と同様に構成されている。具体的には、垂直CCD3は、垂直方向に延びるチャネル領域(図示せず)と、第1層の垂直転送電極18と、第2層の垂直転送電極19とで構成されている。また、水平CCD4は、水平方向に延びるチャネル領域17と、第1層の水平転送電極15と、第2層の水平転送電極16とで構成されている。   In the solid-state imaging device 1 shown in FIG. 2, the portions other than the input circuit 11 are configured in the same manner as in the conventional example. Specifically, the vertical CCD 3 includes a channel region (not shown) extending in the vertical direction, a first layer vertical transfer electrode 18, and a second layer vertical transfer electrode 19. The horizontal CCD 4 includes a channel region 17 extending in the horizontal direction, a first horizontal transfer electrode 15, and a second horizontal transfer electrode 16.

更に、水平CCD4においては、従来例と同様に、2相駆動が採用されているため、チャネル領域17において、第1層の水平転送電極15の直下に位置しない部分には、電位障壁となるバリア領域20が形成されている。また、図2において、バリア領域20、下層に位置する第1層の垂直転送電極18及び同じく第1層の水平転送電極15にはハッチングが施されている。   Further, since the horizontal CCD 4 employs two-phase driving as in the conventional example, a barrier that becomes a potential barrier is provided in a portion of the channel region 17 that is not located immediately below the horizontal transfer electrode 15 of the first layer. Region 20 is formed. In FIG. 2, the barrier region 20, the first layer vertical transfer electrode 18 located in the lower layer, and the first layer horizontal transfer electrode 15 are also hatched.

ここで、本実施の形態における撮像装置の構成について図4を用いて説明する。図4は、本発明の実施の形態における撮像装置の概略構成を示すブロック図である。なお、図4に示された固体撮像素子1は、図1に示したものと同様のものである。   Here, the configuration of the imaging device in this embodiment will be described with reference to FIG. FIG. 4 is a block diagram showing a schematic configuration of the imaging apparatus according to the embodiment of the present invention. The solid-state imaging device 1 shown in FIG. 4 is the same as that shown in FIG.

図4に示すように、本実施の形態における撮像装置は、図1〜図3に示した本実施の形態における固体撮像素子1を備えている。また、本実施の形態における撮像装置は、デジタルスチルカメラであり、固体撮像素子1に加え、撮像レンズ系34、絞り調整機構36、及び赤外光除去用のローパスフィルタ38といった光学系部品や、補助光源(フラッシュ)37も備えている。更に、撮像装置には、撮像レンズ系34の焦点調整のために、撮像レンズ系34を前後方向に移動させるモータ35が備えられている。   As shown in FIG. 4, the imaging apparatus in the present embodiment includes the solid-state imaging device 1 in the present embodiment shown in FIGS. The imaging device in the present embodiment is a digital still camera, and in addition to the solid-state imaging device 1, optical system components such as an imaging lens system 34, an aperture adjustment mechanism 36, and a low-pass filter 38 for removing infrared light, An auxiliary light source (flash) 37 is also provided. Further, the imaging apparatus is provided with a motor 35 that moves the imaging lens system 34 in the front-rear direction in order to adjust the focus of the imaging lens system 34.

また、撮像装置は、CPUを備えたシステムコントローラ33と、各部を駆動するドライバ回路とを更に備えている。図4の例では、ドライバ回路として、レンズドライバ39、露出制御ドライバ40、及びCCDドライバ43が備えられている。また、システムコントローラ33には、各種の初期値等などが記録されたROM44や、操作スイッチ(SW)48が接続されている。   The imaging apparatus further includes a system controller 33 including a CPU and a driver circuit that drives each unit. In the example of FIG. 4, a lens driver 39, an exposure control driver 40, and a CCD driver 43 are provided as driver circuits. The system controller 33 is connected to a ROM 44 in which various initial values and the like are recorded, and an operation switch (SW) 48.

システムコントローラ33は、撮像装置の各部を統括的に制御している。具体的には、システムコントローラ33は、撮像レンズ系34の焦点を被写体(図示せず)に合わせるため、モータ35の起動及び停止を行うレンズドライバ39に指示を送信する。レンズドライバ39は、システムコントローラ33の指示通りにモータ35を稼動させる。同様に、システムコントローラ33は、露出量が適切な値となるように露出制御ドライバ40に指示を送信する。露出制御ドライバ40は、システムコントローラ33の指示に合わせて、絞り調整機構の開度調整や補助光源37の点灯を行う。   The system controller 33 comprehensively controls each unit of the imaging apparatus. Specifically, the system controller 33 transmits an instruction to a lens driver 39 that starts and stops the motor 35 in order to focus the imaging lens system 34 on a subject (not shown). The lens driver 39 operates the motor 35 as instructed by the system controller 33. Similarly, the system controller 33 transmits an instruction to the exposure control driver 40 so that the exposure amount becomes an appropriate value. The exposure control driver 40 adjusts the aperture of the aperture adjustment mechanism and turns on the auxiliary light source 37 in accordance with an instruction from the system controller 33.

また、システムコントローラ33は、固体撮像素子1に撮像を行わせるため、CCDドライバ43に指示を送信する。CCDドライバ43は、指示に応じて、固体撮像素子1に露光(電荷蓄積)を行わせ、そして垂直CCDや水平CCDに駆動パルスを供給して電荷転送を行わせる。垂直CCD及び水平CCDによって転送された電荷は、出力アンプによって増幅され、撮像データとして出力される。   Further, the system controller 33 transmits an instruction to the CCD driver 43 in order to cause the solid-state imaging device 1 to perform imaging. In response to the instruction, the CCD driver 43 causes the solid-state imaging device 1 to perform exposure (charge accumulation) and supply a drive pulse to the vertical CCD or horizontal CCD to perform charge transfer. The charges transferred by the vertical CCD and horizontal CCD are amplified by an output amplifier and output as imaging data.

また、本実施の形態では、システムコントローラ33が、図1に示したバリア電位制御装置30として機能し、CCDドライバ43が、図1に示した電流供給回路32及びドレイン電圧調整回路31として機能する。よって、システムコントローラ33は、図3に示した差分回路13が出力した信号から、ドレイン領域7における電流の変動量△Iを特定し、これに基づいて、ドレイン領域7に印加される電圧を設定して、オーバーフローバリア電位Φ1を調整する。このとき、入力回路12(図2及び図3参照)への電流の供給、及びドレイン領域7に印加される電圧の調整は、CCDドライバ43によって行われる。   In this embodiment, the system controller 33 functions as the barrier potential control device 30 shown in FIG. 1, and the CCD driver 43 functions as the current supply circuit 32 and the drain voltage adjustment circuit 31 shown in FIG. . Therefore, the system controller 33 specifies the current fluctuation amount ΔI in the drain region 7 from the signal output from the difference circuit 13 shown in FIG. 3, and sets the voltage applied to the drain region 7 based on this. Then, the overflow barrier potential Φ1 is adjusted. At this time, supply of current to the input circuit 12 (see FIGS. 2 and 3) and adjustment of the voltage applied to the drain region 7 are performed by the CCD driver 43.

また、撮像装置は、固体撮像素子1から出力された撮像データを処理するため、プリプロセス回路41、デジタルプロセス回路42、カードインターフェース(I/F)46、メモリカード47及び液晶ディスプレイ45を更に備えている。   The image pickup apparatus further includes a preprocess circuit 41, a digital process circuit 42, a card interface (I / F) 46, a memory card 47, and a liquid crystal display 45 in order to process image pickup data output from the solid-state image pickup device 1. ing.

固体撮像素子1が出力した撮像データは、先ず、プリプロセス回路41に入力され、それによってデジタル信号に変換される。そして、デジタル信号に変換された撮像データは、デジタルプロセス回路42に入力される。デジタルプロセス回路42は、入力された撮像データに対して、色信号生成処理、マトリックス変換処理といった各種のデジタル画像処理を行い、最終の撮像データを生成する。   The imaging data output from the solid-state imaging device 1 is first input to the preprocess circuit 41 and thereby converted into a digital signal. Then, the imaging data converted into the digital signal is input to the digital process circuit 42. The digital process circuit 42 performs various kinds of digital image processing such as color signal generation processing and matrix conversion processing on the input imaging data to generate final imaging data.

また、デジタルプロセス回路42によってデジタル処理された撮像データは、カードインターフェース46を介して、メモリカード47に入力され、メモリカード47に記憶される。また、撮像データは、液晶ディスプレイ45にも入力され、撮像画像として表示される。更に、液晶ディスプレイ45には、撮像画像だけでなく、撮影者が行った各種操作の状態や、撮像装置の動作状況等といった種々の情報も表示される。   Further, the imaging data digitally processed by the digital process circuit 42 is input to the memory card 47 via the card interface 46 and stored in the memory card 47. Further, the imaging data is also input to the liquid crystal display 45 and displayed as a captured image. Further, the liquid crystal display 45 displays not only the captured image but also various information such as the state of various operations performed by the photographer and the operation status of the imaging apparatus.

次に、図5を用いて、バリア電位制御装置30の動作について説明する。図5は、図1及び図4に示したバリア電位制御装置で行われる処理を示す流れ図である。なお、以下の説明においては、適宜、図1〜図4を参酌する。   Next, the operation of the barrier potential control device 30 will be described with reference to FIG. FIG. 5 is a flowchart showing processing performed in the barrier potential control apparatus shown in FIGS. 1 and 4. In the following description, FIGS. 1 to 4 are referred to as appropriate.

最初に、図5に示すように、システムコントローラ33内に構築されたバリア電位制御装置30(図1及び図4参照)は、ドレイン領域7に印加する電圧(ドレイン電圧)Vofdの初期値を設定する(ステップS1)。本実施の形態1では、バリア電位制御装置30は、オーバーフローバリア電位Φ1が、フェルミ電位Φ3と、熱電子放出に基づいた電位障壁値△Φαとの差(Φ3−△Φα)より大きくなるように(Φ1>(Φ3−△Φα))、ドレイン電圧Vofdの初期値を設定する。 First, as shown in FIG. 5, the barrier potential control device 30 (see FIGS. 1 and 4) constructed in the system controller 33 sets the initial value of the voltage (drain voltage) V ofd applied to the drain region 7. Set (step S1). In the first embodiment, the barrier potential control device 30 causes the overflow barrier potential Φ1 to be larger than the difference (Φ3-ΔΦα) between the Fermi potential Φ3 and the potential barrier value ΔΦα based on thermionic emission. (Φ1> (Φ3-ΔΦα)), the initial value of the drain voltage V ofd is set.

なお、本実施の形態では、Φ1>(Φ3−△Φα)を満たすドレイン電圧Vofdの初期値は、予め、ROM44(図4参照)に格納されている。バリア電位制御装置30は、ROM44から初期値を読み出し、CCDドライバ43に構築されたドレイン電圧調整回路31(図1及び図4参照)に対して、読み出したドレイン電圧をドレイン領域7(図1参照)に印加するよう指示を与える。 In the present embodiment, the initial value of the drain voltage V ofd that satisfies Φ1> (Φ3-ΔΦα) is stored in advance in the ROM 44 (see FIG. 4). The barrier potential control device 30 reads the initial value from the ROM 44 and sends the read drain voltage to the drain region 7 (see FIG. 1) with respect to the drain voltage adjustment circuit 31 (see FIGS. 1 and 4) built in the CCD driver 43. ) To apply.

次に、バリア電位制御装置30は、CCDドライバ43に指示を送り、CCDドライバ43に構築された電流供給回路32から、入力回路12の入力端子14(図1〜図3参照)に規定の電流を供給させる(ステップS2)。なお、ステップS2において供給する電流の電流値I[A]は、例えば、水平設定電荷量をQ、画素行1段あたりの転送時間をT1とすると、下記式(2)によって表すことができる。また、下記式(2)において、q=1.602×10-19[C]である。 Next, the barrier potential control device 30 sends an instruction to the CCD driver 43, and the current supplied from the current supply circuit 32 constructed in the CCD driver 43 to the input terminal 14 (see FIGS. 1 to 3) of the input circuit 12. Is supplied (step S2). Note that the current value I [A] of the current supplied in step S2 can be expressed by the following equation (2), for example, where Q is the horizontal set charge amount and T1 is the transfer time per pixel row. In the following formula (2), q = 1.602 × 10 −19 [C].

(数5)
I=q*Q/t1・・・・・(2)
(Equation 5)
I = q * Q / t1 (2)

次いで、バリア電位制御装置30は、差分回路13(図1及び図3参照)が出力した電圧信号から、ドレイン領域7(図1参照)における電流の変動量△Iを特定する。そして、△Iと予め設定された第1基準変動量△Iqmaxとの差(△I−△Iqmax)を求め、求めた差が0(ゼロ)より小さいかどうかを判定する(ステップS3)。 Next, the barrier potential control device 30 specifies the current fluctuation amount ΔI in the drain region 7 (see FIG. 1) from the voltage signal output from the difference circuit 13 (see FIGS. 1 and 3). Then, a difference ( ΔI−ΔI qmax ) between ΔI and a preset first reference fluctuation amount ΔI qmax is obtained, and it is determined whether or not the obtained difference is smaller than 0 (zero) (step S3). .

本実施の形態では、第1基準変動量△Iqmaxは、オーバーフローバリア電位Φ1が(Φ3−△Φα)よりも大きい状態(Φ1>(Φ3−△Φα))から、(Φ3−△Φα)よりも小さい状態(Φ1<(Φ3−△Φα))へと遷移したときの、ドレイン領域7における電流の変動量△Iに設定されている。言い換えると、Φ1=(Φ3−△Φα)となったときのドレイン領域7における変動量△Iが、第1基準変動量△Iqmaxに設定されている。 In the present embodiment, the first reference fluctuation amount ΔI qmax is obtained from the state (Φ1> (Φ3-ΔΦα)) where the overflow barrier potential Φ1 is larger than (Φ3-ΔΦα), and from (Φ3-ΔΦα). Is also set to the current fluctuation amount ΔI in the drain region 7 when transitioning to a smaller state (Φ1 <(Φ3-ΔΦα)). In other words, the fluctuation amount ΔI in the drain region 7 when Φ1 = (Φ3-ΔΦα) is set to the first reference fluctuation amount ΔI qmax .

更に、第1基準変動量△Iqmaxも、ROM44に予め格納されており、バリア電位制御装置30は、ROMから第1基準変動量△Iqmaxを読み出し、読み出した値を用いてステップS3を実行する。なお、第1基準変動量△Iqmaxの値は、予め実験を行うことによって決定できる。仕様が同一の固体撮像素子に対しては同一の値が適用される。 Further, the first reference fluctuation amount ΔI qmax is also stored in the ROM 44 in advance, and the barrier potential control device 30 reads the first reference fluctuation amount ΔI qmax from the ROM, and executes Step S3 using the read value. To do. The value of the first reference fluctuation amount ΔI qmax can be determined by conducting an experiment in advance. The same value is applied to solid-state image sensors having the same specifications.

ステップS3の判定の結果、差(△I−△Iqmax)が0(ゼロ)より小さい場合(△I−△Iqmax<0)は、バリア電位制御装置30は、後述のステップS4を実行する。一方、ステップS3の判定の結果、差(△I−△Iqmax)が0(ゼロ)以上である場合(△I−△Iqmax≧0)は、バリア電位制御装置30は、ドレイン電圧調整回路31に、ドレイン電圧Vofdの値を設定量(α)だけ減少させる(ステップS5)。 If the difference ( ΔI−ΔI qmax ) is smaller than 0 (zero) as a result of the determination in step S3 ( ΔI−ΔI qmax <0), the barrier potential control device 30 executes step S4 described later. . On the other hand, when the difference ( ΔI−ΔI qmax ) is equal to or greater than 0 (zero) as a result of the determination in step S3 ( ΔI−ΔI qmax ≧ 0), the barrier potential control device 30 includes a drain voltage adjustment circuit. In 31, the value of the drain voltage V ofd is decreased by a set amount (α) (step S5).

このように、本実施の形態では、バリア電位制御装置30は、△I−△Iqmaxが負の値となるまで、即ち、オーバーフローバリア電位Φ1が(Φ3−△Φα)より小さくなる(Φ1<(Φ3−△Φα))まで、ステップS2、S3、S5を繰り返す。 Thus, in this embodiment, the barrier potential control device 30, until △ I- △ I qmax is a negative value, i.e., the overflow barrier potential .phi.1 is smaller than (Φ3- △ Φα) (Φ1 < Steps S2, S3, and S5 are repeated until (Φ3-ΔΦα)).

次に、ステップS4においては、バリア電位制御装置30は、ドレイン領域7における電流の変動量△Iと、第2基準変動量△Iofとの差(△I−△Iof)を求め、求めた差が0(ゼロ)より大きいかどうかを判定する。本実施の形態では、第2基準変動量△Iofは、オーバーフローバリア電位Φ1が水平CCD4のバリア領域20(図2参照)の電位Φ2と等しくなったときの、ドレイン領域7における電流の変動量△Iに設定されている。なお、第2基準変動量△Iqfの値も、予め実験を行うことによって決定できる。この場合も、仕様が同一の固体撮像素子に対しては同一の値が適用される。 Next, in step S4, the barrier potential control device 30 obtains and finds the difference (ΔI−ΔI of ) between the current fluctuation amount ΔI in the drain region 7 and the second reference fluctuation amount ΔI of . Whether the difference is greater than 0 (zero). In this embodiment, the second reference variation amount △ I of the when the overflow barrier potential Φ1 becomes equal to the potential Φ2 of the barrier region 20 of the horizontal CCD 4 (see FIG. 2), the amount of variation of the current in the drain region 7 ΔI is set. Note that the value of the second reference fluctuation amount ΔI qf can also be determined by conducting an experiment in advance. Also in this case, the same value is applied to solid-state image sensors having the same specifications.

ステップS4の判定の結果、△I−△Iofが0(ゼロ)より大きい場合(△I−△Iof>0)は、Φ1>Φ2と判断できる。ステップS2、ステップS3及びステップS5により、Φ1<(Φ3−△Φα)が満たされているから、この場合は、下記式(1)が成立する。 A result of the determination in step S4, △ I- △ I of the 0 (zero) is greater than (△ I- △ I of> 0 ) is, .phi.1> .phi.2 it can be determined. In step S2, step S3, and step S5, Φ1 <(Φ3-ΔΦα) is satisfied. In this case, the following expression (1) is established.

(数6)
Φ2<Φ1<Φ3−△Φα・・・・・(1)
(Equation 6)
Φ2 <Φ1 <Φ3-ΔΦα (1)

そして、バリア電位制御装置30は、オーバーフローバリア電位Φ1が適切な値に設定されていると判断し、電流供給回路32から入力端子14への電流供給を停止する。その後、バリア電位制御装置30は、一定時間の経過後、ステップS2からの処理を再度実行する。この結果、オーバーフローバリア電位Φ1は、常に適切な値に設定される。   Then, the barrier potential control device 30 determines that the overflow barrier potential Φ1 is set to an appropriate value, and stops the current supply from the current supply circuit 32 to the input terminal 14. Thereafter, the barrier potential control device 30 executes the processing from step S2 again after a predetermined time has elapsed. As a result, the overflow barrier potential Φ1 is always set to an appropriate value.

一方、△I−△Iofが0(ゼロ)以下である場合(△I−△Iof≦0)は、Φ1≦Φ2と判断できる。この場合は、バリア電位制御装置30は、固体撮像素子1(図1及び図4参照)に問題が生じていると判定し、処理を中止する。また、バリア電位制御装置30は、液晶ディスプレイ45に問題が生じている旨を表示させ、撮影者に通知を行なう。 On the other hand, when ΔI−ΔI of is 0 (zero) or less (ΔI−ΔI of ≦ 0), it can be determined that φ1 ≦ Φ2. In this case, the barrier potential control device 30 determines that there is a problem with the solid-state imaging device 1 (see FIGS. 1 and 4), and stops the processing. Further, the barrier potential control device 30 displays on the liquid crystal display 45 that a problem has occurred and notifies the photographer.

このように、本実施の形態では、検出部11によってドレイン領域7における電荷の変動が直接検出されており、更に、直接検出された情報に基づいてオーバーフロー電位Φ1が調整される。よって、本実施の形態によれば、従来例に比べて、適切なオーバーフローバリア電位Φ1を簡単に設定できる。   As described above, in the present embodiment, the fluctuation of the charge in the drain region 7 is directly detected by the detection unit 11, and the overflow potential Φ1 is adjusted based on the directly detected information. Therefore, according to the present embodiment, it is possible to easily set an appropriate overflow barrier potential Φ1 as compared with the conventional example.

また、本実施の形態では、バリア電位制御装置30は、自動的にオーバーフロー電位Φ1を調整するため、水平CCD4からドレイン領域7に排出される電荷量は、常に適切な値となる。つまり、本実施の形態では、オプティカルブラック8(図1参照)への過剰な電荷漏れによる黒レベル浮き上がり現象や、水平CCD4の飽和ムラによる画像ムラが、自動的に抑制され、撮像画像の画質の向上が図られる。   In the present embodiment, since the barrier potential control device 30 automatically adjusts the overflow potential Φ1, the amount of charge discharged from the horizontal CCD 4 to the drain region 7 is always an appropriate value. That is, in the present embodiment, the black level floating phenomenon due to excessive charge leakage to the optical black 8 (see FIG. 1) and the image unevenness due to the saturation unevenness of the horizontal CCD 4 are automatically suppressed, and the image quality of the captured image is reduced. Improvement is achieved.

また、上述したように、本実施の形態においては、バリア電位制御装置30は、システムコントローラ33に構築されている。具体的には、バリア電位制御装置30の構築は、システムコントローラ33として機能しているコンピュータに、図5に示すステップS1〜S5を具現化させるプログラムをインストールし、これを実行させることによって、実現できる。この場合、システムコントローラ33のCPUは、バリア電位制御装置30として機能することとなる。   Further, as described above, in this embodiment, the barrier potential control device 30 is constructed in the system controller 33. Specifically, the construction of the barrier potential control device 30 is realized by installing and executing a program that realizes steps S1 to S5 shown in FIG. 5 on a computer functioning as the system controller 33. it can. In this case, the CPU of the system controller 33 functions as the barrier potential control device 30.

また、図1〜図5に示した例は、常時、バリア電位制御装置30が、オーバーフローバリア電位Φ1を調整する態様であるが、本発明は、この態様に限定されるものではない。例えば、工場出荷前に、外部の装置によってバリア電位を調整し、調整後にバリア電位を固定する態様であっても良い。この態様について図6及び図7を用いて説明する。   Moreover, although the example shown in FIGS. 1-5 is a mode in which the barrier potential control device 30 always adjusts the overflow barrier potential Φ1, the present invention is not limited to this mode. For example, the barrier potential may be adjusted by an external device before factory shipment, and the barrier potential may be fixed after the adjustment. This aspect will be described with reference to FIGS.

図6は、本発明の実施の形態における固体撮像素子の他の例を示す平面図である。図7は、図6に示した固体撮像素子に設けられたドレイン電圧設定回路の一例を示す回路図である。   FIG. 6 is a plan view showing another example of the solid-state imaging device according to the embodiment of the present invention. FIG. 7 is a circuit diagram showing an example of a drain voltage setting circuit provided in the solid-state imaging device shown in FIG.

図6の例においても、図1〜図5の例と同様に、バリア電位制御装置30は、電流供給回路32から入力端子14に規定の電流を供給し、ドレイン領域7の電流の変動量△Iに基づいて、ドレイン電圧調整回路31によってドレイン電圧Vofdを設定する。 Also in the example of FIG. 6, as in the examples of FIGS. 1 to 5, the barrier potential control device 30 supplies a specified current from the current supply circuit 32 to the input terminal 14, and the fluctuation amount Δ of the current in the drain region 7. Based on I, the drain voltage adjustment circuit 31 sets the drain voltage V ofd .

但し、図6の例においては、図1〜図5の例と異なり、バリア電位制御装置30、電流供給回路32、及びドレイン電圧調整回路31は、撮像装置の一部を構成しておらず、撮像装置とは別の検査装置50を構成している。   However, in the example of FIG. 6, unlike the examples of FIGS. 1 to 5, the barrier potential control device 30, the current supply circuit 32, and the drain voltage adjustment circuit 31 do not constitute a part of the imaging device. An inspection apparatus 50 different from the imaging apparatus is configured.

更に、図6の例では、固体撮像素子1は、ドレイン電圧設定回路24を備えている。ドレイン電圧設定回路24は、固体撮像素子1から検査装置50が分離された後、固体撮像素子1のドレイン領域7に、バリア電位制御装置30が設定した電圧が印加されるように、外部から印加される電圧を調整する。   Further, in the example of FIG. 6, the solid-state imaging device 1 includes a drain voltage setting circuit 24. The drain voltage setting circuit 24 is externally applied so that the voltage set by the barrier potential control device 30 is applied to the drain region 7 of the solid-state imaging device 1 after the inspection device 50 is separated from the solid-state imaging device 1. To adjust the voltage.

ここで、検査装置50によるオーバーフローバリア電位Φ1の調整について説明する。図6の例においては、先ず、検査作業者によって、検査装置50が固体撮像素子1に接続される。具体的には、検査装置50の電流供給回路32が入力端子14に、バリア電池制御装置30が差分回路13に接続され、そして、ドレイン電圧調整回路31がドレイン電圧設定回路24を介してドレイン領域7に接続される。また、接続には、検査装置50に備えられたプローブ針が用いられる。   Here, adjustment of the overflow barrier potential Φ1 by the inspection apparatus 50 will be described. In the example of FIG. 6, first, the inspection device 50 is connected to the solid-state imaging device 1 by the inspection operator. Specifically, the current supply circuit 32 of the inspection device 50 is connected to the input terminal 14, the barrier battery control device 30 is connected to the difference circuit 13, and the drain voltage adjustment circuit 31 is connected to the drain region via the drain voltage setting circuit 24. 7 is connected. For the connection, a probe needle provided in the inspection apparatus 50 is used.

その後、図6の例においても、検査装置50のバリア電位制御装置30によって、図5に示したステップS1〜S5が実行される。但し、図6の例では、ステップS3において、差(△I−△Iqmax)が0(ゼロ)より小さい場合、バリア電位制御装置30は、検査装置50の分離後も、現在のドレイン電圧Vofdが印加されるように、ドレイン電圧設定回路24を調整する。 Thereafter, also in the example of FIG. 6, steps S <b> 1 to S <b> 5 shown in FIG. 5 are executed by the barrier potential control device 30 of the inspection device 50. However, in the example of FIG. 6, when the difference ( ΔI−ΔI qmax ) is smaller than 0 (zero) in step S <b> 3 , the barrier potential control device 30 keeps the current drain voltage V after the separation of the inspection device 50. The drain voltage setting circuit 24 is adjusted so that ofd is applied.

具体的には、図7に示すように、ドレイン電圧設定回路24は、直列に接続された複数の抵抗素子R1〜Rn(n:自然数)と、複数の抵抗素子R1〜Rnそれぞれ毎に設けられ、各抵抗素子に並列に接続された短絡配線S1〜Snとを備えている。短絡配線S1〜Snのうちの幾つかを切断すれば、切断した短絡配線の数に応じて、VinとVoutの間の抵抗値を変動させることができ、Voutの値を変化させることができる。   Specifically, as shown in FIG. 7, the drain voltage setting circuit 24 is provided for each of the plurality of resistance elements R1 to Rn (n: natural number) connected in series and each of the plurality of resistance elements R1 to Rn. And short-circuit wirings S1 to Sn connected in parallel to the respective resistance elements. If some of the short-circuit lines S1 to Sn are cut, the resistance value between Vin and Vout can be changed according to the number of cut-off short-circuit lines, and the value of Vout can be changed.

よって、バリア電位制御装置30は、検査装置50を固体撮像素子1から分離した後に、ドレイン領域7に印加される電圧の大きさが、現時点のドレイン電圧Vofdの値となるように、短絡配線S1〜Snを切断して抵抗値を調整する。短絡配線S1〜Snの切断方法としては、バリア電位制御装置30からの過大電流の供給等が挙げられる。 Therefore, the barrier potential control device 30, after separating the inspection device 50 from the solid-state imaging device 1, short-circuit wiring so that the magnitude of the voltage applied to the drain region 7 becomes the value of the current drain voltage V ofd. S1-Sn is cut | disconnected and resistance value is adjusted. As a method for cutting the short-circuit wirings S <b> 1 to Sn, supply of excessive current from the barrier potential control device 30 can be cited.

また、図6の例では、ステップS4において、△I−△Iofが0(ゼロ)より大きい場合(△I−△Iof>0)は、検査装置50は処理を終了する。一方、△I−△Iofが0(ゼロ)以下である場合(△I−△Iof≦0)は、検査装置50は、固体撮像素子1が不良品であると判定し、処理を終了する。なお、これらの処理の終了後、検査作業者は、プローブ針を非接触にして、検査装置50と固体撮像素子1との接続を解除する。 In the example of FIG. 6, if ΔI−ΔI of is larger than 0 (zero) in step S4 (ΔI−ΔI of > 0), the inspection apparatus 50 ends the process. On the other hand, when ΔI−ΔI of is 0 (zero) or less (ΔI−ΔI of ≦ 0), the inspection apparatus 50 determines that the solid-state imaging device 1 is a defective product and ends the processing. To do. In addition, after completion | finish of these processes, an inspection operator makes a probe needle | hook non-contact, and cancels | releases connection with the inspection apparatus 50 and the solid-state image sensor 1.

このように、図6の例によれば、図1〜図5に示した例と異なり、常時、オーバーフローバリア電位Φ1を調整することはできないが、オーバーフローバリア電位Φ1の調整が、固体撮像素子1の使用前に1度だけ行えば良い固体撮像素子に対して有効となる。また、図6の例では、検出部11は、固体撮像素子1及び撮像装置の両方に対して電気的に分離されたのと同じ状態となる。よって、検出部11が生じさせる寄生容量が、固体撮像素子1に悪影響を与えるのを抑制できる。   As described above, according to the example of FIG. 6, unlike the example shown in FIGS. 1 to 5, the overflow barrier potential Φ1 cannot always be adjusted. This is effective for a solid-state imaging device that only needs to be performed once before use. Moreover, in the example of FIG. 6, the detection part 11 will be in the same state as having been electrically isolate | separated with respect to both the solid-state image sensor 1 and an imaging device. Therefore, it is possible to suppress the parasitic capacitance generated by the detection unit 11 from adversely affecting the solid-state imaging device 1.

なお、図6に示す固体撮像素子1に搭載するドレイン電圧設定回路24は、図7に示す例に限定されるものではない。但し、図7に示す例とした場合は、複雑な回路素子を必要とすることなく、ドレイン電圧を調整することができる。また、図7に示す例とした場合は、固体撮像素子の製造工程において、新たな工程を追加することなく、ドレイン電圧設定回路25を構成することができ、コストの増加を抑制できる。更に、図7に示すドレイン電圧設定回路24は、構成が簡単であるため、レイアウトの自由度が高いという利点も備えている。   The drain voltage setting circuit 24 mounted on the solid-state imaging device 1 shown in FIG. 6 is not limited to the example shown in FIG. However, in the example shown in FIG. 7, the drain voltage can be adjusted without requiring a complicated circuit element. In the case of the example shown in FIG. 7, the drain voltage setting circuit 25 can be configured without adding a new process in the manufacturing process of the solid-state imaging device, and an increase in cost can be suppressed. Furthermore, since the drain voltage setting circuit 24 shown in FIG. 7 has a simple configuration, it has an advantage that the degree of freedom in layout is high.

また、図1〜図5に示した例では、検出部11の全部は、固体撮像素子を構成している半導体基板に設けられているが、本発明はこれに限定されるものではない。例えば、差分回路13が固体撮像装置の外部に設けられている態様であっても良い。   Moreover, in the example shown in FIGS. 1-5, although all the detection parts 11 are provided in the semiconductor substrate which comprises the solid-state image sensor, this invention is not limited to this. For example, the aspect in which the difference circuit 13 is provided outside the solid-state imaging device may be used.

図8は、本発明の実施の形態における撮像装置の他の例を示すブロック図である。図8に示す例では、検出部11(図1参照)を構成する差分回路13は、固体撮像素子1の外部に設けられている。この例によれば、図1〜図5に示した例に比べて、固体撮像素子1のチップ面積の増加を抑制できる。   FIG. 8 is a block diagram illustrating another example of the imaging device according to the embodiment of the present invention. In the example shown in FIG. 8, the difference circuit 13 configuring the detection unit 11 (see FIG. 1) is provided outside the solid-state imaging device 1. According to this example, an increase in the chip area of the solid-state imaging device 1 can be suppressed as compared with the examples shown in FIGS.

なお、図8に示す撮像装置は、差分回路13が固体撮像素子1の外部に設けられている点を除き、図4に示した撮像装置と同様に構成されている。また、図8の例において、差分回路13は、CCDドライバ43に搭載することもできる。更に、図8の例においても、入力回路(図1〜図3参照)は、固体撮像素子1を構成する半導体基板(図1参照)に設けられている。   The imaging apparatus shown in FIG. 8 is configured in the same manner as the imaging apparatus shown in FIG. 4 except that the difference circuit 13 is provided outside the solid-state imaging device 1. In the example of FIG. 8, the difference circuit 13 can be mounted on the CCD driver 43. Further, also in the example of FIG. 8, the input circuit (see FIGS. 1 to 3) is provided on a semiconductor substrate (see FIG. 1) constituting the solid-state imaging device 1.

図1〜図8に示した本実施の形態は、撮像装置がデジタルスチルカメラである例について説明しているが、本発明はこれに限定されるものではない。本発明においては、撮像装置は、デジタルスチルカメラ以外の撮像装置、例えば、デジタルビデオカメラ(ムービー)や、撮像機能を備えた携帯電話に代表される携帯端末装置等であっても良い。   Although the present embodiment illustrated in FIGS. 1 to 8 describes an example in which the imaging apparatus is a digital still camera, the present invention is not limited to this. In the present invention, the imaging device may be an imaging device other than a digital still camera, such as a digital video camera (movie), a mobile terminal device represented by a mobile phone having an imaging function, or the like.

本発明の固体撮像素子によれば、オーバーフローバリア電位を適切な値に設定できるため、画質の優れた撮像画像を得ることができる。よって、本発明の固体撮像素子、及びそれを用いた撮像装置は、デジタルスチルカメラや、デジタルビデオカメラ、更には携帯端末装置に有効であり、産業上の利用可能性を有するものである。   According to the solid-state imaging device of the present invention, since the overflow barrier potential can be set to an appropriate value, a captured image with excellent image quality can be obtained. Therefore, the solid-state imaging device of the present invention and an imaging device using the same are effective for digital still cameras, digital video cameras, and portable terminal devices, and have industrial applicability.

図1は、本発明の実施の形態における固体撮像素子の概略構成を示す平面図である。FIG. 1 is a plan view showing a schematic configuration of a solid-state imaging device according to an embodiment of the present invention. 図2は、図1に示した固体撮像素子の検出部近傍を拡大して示す平面図である。FIG. 2 is an enlarged plan view showing the vicinity of the detection unit of the solid-state imaging device shown in FIG. 図3は、図1に示した固体撮像素子の検出部の回路構成を示す回路図である。FIG. 3 is a circuit diagram showing a circuit configuration of a detection unit of the solid-state imaging device shown in FIG. 図4は、本発明の実施の形態における撮像装置の概略構成を示すブロック図である。FIG. 4 is a block diagram showing a schematic configuration of the imaging apparatus according to the embodiment of the present invention. 図5は、図1及び図4に示したバリア電位制御装置で行われる処理を示す流れ図である。FIG. 5 is a flowchart showing processing performed in the barrier potential control apparatus shown in FIGS. 1 and 4. 図6は、本発明の実施の形態における固体撮像素子の他の例を示す平面図である。FIG. 6 is a plan view showing another example of the solid-state imaging device according to the embodiment of the present invention. 図7は、図6に示した固体撮像素子に設けられたドレイン電圧設定回路の一例を示す回路図である。FIG. 7 is a circuit diagram showing an example of a drain voltage setting circuit provided in the solid-state imaging device shown in FIG. 図8は、本発明の実施の形態における撮像装置の他の例を示すブロック図である。FIG. 8 is a block diagram illustrating another example of the imaging device according to the embodiment of the present invention. 図9は、従来からの固体撮像素子の概略構成を示す平面図である。FIG. 9 is a plan view showing a schematic configuration of a conventional solid-state imaging device. 図10は、図9に示した固体撮像素子の一部を拡大して示す平面図である。10 is an enlarged plan view showing a part of the solid-state imaging device shown in FIG. 図11(a)は、図10に示された固体撮像素子の一部を切断線A−A´に沿って切断して得られた断面図であり、図11(b)は、図11(a)に示された各部の電位を示す図である。FIG. 11A is a cross-sectional view obtained by cutting a part of the solid-state imaging device shown in FIG. 10 along the cutting line AA ′, and FIG. It is a figure which shows the electric potential of each part shown by a).

符号の説明Explanation of symbols

1 固体撮像素子
2 受光部
3 垂直電荷転送部(垂直CCD)
4 水平電荷転送部(水平CCD)
5 出力アンプ
6 バリア領域
7 ドレイン領域
8 オプティカルブラック
9 単位画素
10 半導体基板
11 検出部
12 入力回路
13 差分回路
14 入力端子
14a 拡散領域
14b 金属配線
15 第1層の水平転送電極
16 第2層の水平転送電極
17 チャネル領域
18 第1層の垂直転送電極
19 第2層の垂直転送電極
20 チャネル領域17に設けられたバリア領域
21 拡散領域
22 メモリ
23 オペアンプ
24 ドレイン電圧設定回路
30 バリア電位制御装置
31 ドレイン電圧調整回路
32 電流供給回路
33 システムコントローラ
34 撮像レンズ系
35 モータ
36 絞り調整機構
37 補助光源
38 ローパスフィルタ
39 レンズドライバ
40 露出制御ドライバ
41 プリプロセス回路
42 デジタルプロセス回路
43 CCDドライバ
44 ROM
45 液晶ディスプレイ
46 カードインターフェース(I/F)
47 メモリカード
48 操作スイッチ
DESCRIPTION OF SYMBOLS 1 Solid-state image sensor 2 Light-receiving part 3 Vertical charge transfer part (vertical CCD)
4 Horizontal charge transfer unit (horizontal CCD)
DESCRIPTION OF SYMBOLS 5 Output amplifier 6 Barrier area | region 7 Drain area | region 8 Optical black 9 Unit pixel 10 Semiconductor substrate 11 Detection part 12 Input circuit 13 Difference circuit 14 Input terminal 14a Diffusion area | region 14b Metal wiring 15 1st layer horizontal transfer electrode 16 2nd layer horizontal Transfer electrode 17 Channel region 18 First layer vertical transfer electrode 19 Second layer vertical transfer electrode 20 Barrier region provided in channel region 17 Diffusion region 22 Memory 23 Operational amplifier 24 Drain voltage setting circuit 30 Barrier potential control device 31 Drain Voltage adjustment circuit 32 Current supply circuit 33 System controller 34 Imaging lens system 35 Motor 36 Aperture adjustment mechanism 37 Auxiliary light source 38 Low pass filter 39 Lens driver 40 Exposure control driver 41 Preprocess circuit 42 Digital process circuit 43 CD driver 44 ROM
45 LCD 46 Card interface (I / F)
47 Memory card 48 Operation switch

Claims (15)

固体撮像素子と制御装置とを備える撮像装置であって、
前記固体撮像素子は、複数の受光部と、前記複数の受光部から読み出した信号電荷を転送する電荷転送部と、前記電荷転送部に隣接し、且つ、前記電荷転送部の余剰電荷のみを通過させるバリア領域と、前記バリア領域に隣接し、且つ、前記バリア領域を通過した前記余剰電荷を排出するドレイン領域と、検出部とを備え、
前記検出部は、前記ドレイン領域に接続され、且つ、前記ドレイン領域における電荷の変動を検出し、
前記制御装置は、前記検出部によって検出された前記電荷の変動に応じて、前記バリア領域の電位を調整することを特徴とする撮像装置。
An imaging device comprising a solid-state imaging device and a control device,
The solid-state imaging device includes a plurality of light receiving units, a charge transfer unit that transfers signal charges read from the plurality of light receiving units, and is adjacent to the charge transfer unit and passes only surplus charges of the charge transfer unit. A barrier region to be discharged, a drain region that is adjacent to the barrier region and that discharges the surplus charges that have passed through the barrier region, and a detection unit,
The detector is connected to the drain region and detects a change in charge in the drain region;
The image pickup apparatus, wherein the control device adjusts a potential of the barrier region according to a change in the charge detected by the detection unit.
前記複数の受光部、前記電荷転送部、前記バリア領域、前記ドレイン領域、及び前記検出部が、同一の半導体基板に形成され、
前記複数の受光部が、垂直方向及び水平方向に沿って2次元状に配列され、
前記電荷転送部が、前記受光部の垂直方向の列に沿って配置され、且つ、前記受光部から信号電荷を読み出して垂直方向に転送する垂直電荷転送部と、前記垂直電荷転送部によって転送された信号電荷を受け取って水平方向に転送する水平電荷転送部とを備え、
前記ドレイン領域が、前記水平電荷転送部の前記受光部側の反対側に、水平方向に沿って形成され、
前記バリア領域が、前記水平電荷転送部と前記ドレイン領域との間に、水平方向に沿って形成され、
前記制御装置が、前記検出部によって検出された前記電荷の変動に応じて、前記固体撮像素子の外部から前記ドレイン領域に印加される電圧を設定し、これによって前記バリア領域の電位を調整する請求項1に記載の撮像装置。
The plurality of light receiving units, the charge transfer unit, the barrier region, the drain region, and the detection unit are formed on the same semiconductor substrate,
The plurality of light receiving units are arranged two-dimensionally along a vertical direction and a horizontal direction,
The charge transfer unit is disposed along a vertical column of the light receiving units, and reads the signal charges from the light receiving unit and transfers them in the vertical direction, and is transferred by the vertical charge transfer unit. A horizontal charge transfer unit that receives the transferred signal charge and transfers it horizontally.
The drain region is formed along the horizontal direction on the opposite side of the horizontal charge transfer unit to the light receiving unit side,
The barrier region is formed along the horizontal direction between the horizontal charge transfer unit and the drain region,
The control device sets a voltage applied to the drain region from the outside of the solid-state imaging device in accordance with a change in the electric charge detected by the detection unit, and thereby adjusts the potential of the barrier region. Item 2. The imaging device according to Item 1.
前記検出部が、入力回路と差分回路とを備え、
前記入力回路は、遮光された前記水平電荷転送部の一部分と、前記遮光された水平電荷転送部のチャネル領域に接続された入力端子とを備え、
前記差分回路は、前記ドレイン領域に接続されており、且つ、前記入力端子から前記入力回路に電流が供給されたときの前記ドレイン領域における電流の変動量を、前記電荷の変動として検出する請求項2に記載の撮像装置。
The detection unit includes an input circuit and a difference circuit,
The input circuit includes a part of the horizontal charge transfer unit shielded from light and an input terminal connected to a channel region of the shielded horizontal charge transfer unit,
The difference circuit is connected to the drain region, and detects a fluctuation amount of a current in the drain region when a current is supplied from the input terminal to the input circuit as a fluctuation of the charge. 2. The imaging device according to 2.
前記検出部が、入力回路と差分回路とを備え、
前記入力回路は、遮光された前記水平電荷転送部の一部分と、前記遮光された水平電荷転送部のチャネル領域に接続された入力端子とを備え、
前記差分回路は、前記ドレイン領域及び前記バリア領域に接続されており、且つ、前記入力端子から前記入力回路に電流が供給されたときの前記バリア領域における電位の変動量を、前記電荷の変動として検出する請求項2に記載の撮像装置。
The detection unit includes an input circuit and a difference circuit,
The input circuit includes a part of the horizontal charge transfer unit shielded from light and an input terminal connected to a channel region of the shielded horizontal charge transfer unit,
The difference circuit is connected to the drain region and the barrier region, and the amount of change in potential in the barrier region when a current is supplied from the input terminal to the input circuit is defined as the change in charge. The imaging device according to claim 2 to detect.
前記検出部が、入力回路と差分回路とを備え、
前記入力回路は、遮光された前記水平電荷転送部の一部分と、前記遮光された水平電荷転送部のチャネル領域に接続された入力端子とを備え、
前記差分回路は、前記ドレイン領域及び前記バリア領域に接続されており、且つ、前記入力端子から前記入力回路に電流が供給されたときの前記バリア領域における容量の変動量を、前記電荷の変動として検出する請求項2に記載の撮像装置。
The detection unit includes an input circuit and a difference circuit,
The input circuit includes a part of the horizontal charge transfer unit shielded from light and an input terminal connected to a channel region of the shielded horizontal charge transfer unit,
The difference circuit is connected to the drain region and the barrier region, and the amount of change in capacitance in the barrier region when current is supplied from the input terminal to the input circuit is defined as the change in charge. The imaging device according to claim 2 to detect.
前記遮光された前記水平電荷転送部の一部分が、前記水平電荷転送部における転送方向の逆方向の側の端部であり、
前記差分回路が、前記入力回路に隣接した位置に配置されている請求項3〜5のいずれかに記載の撮像装置。
A part of the horizontal charge transfer unit that is shielded from light is an end portion on a side opposite to a transfer direction in the horizontal charge transfer unit,
The imaging device according to claim 3, wherein the difference circuit is disposed at a position adjacent to the input circuit.
前記バリア領域の電位をΦ1、前記水平電荷転送部の前記チャネル領域において電位障壁となっている領域の電位をΦ2、前記水平電荷転送部が設定電荷量を前記チャネル領域に蓄積するために必要な電位をΦ3、前記水平電荷転送部の前記チャネル領域における電位障壁による電位差と熱電子放出によるオーバーフロー開始電位との差を△Φαとしたときに、
前記制御装置が、前記バリア領域の電位Φ1が下記式(1)を満たすように、前記ドレイン領域に印加される電圧を設定する請求項2に記載の撮像装置。
(数1)
Φ2<Φ1<Φ3−△Φα・・・・・(1)
The potential of the barrier region is Φ1, the potential of a region that is a potential barrier in the channel region of the horizontal charge transfer unit is Φ2, and the horizontal charge transfer unit is necessary to accumulate a set charge amount in the channel region. When the potential is Φ3, and the difference between the potential difference due to the potential barrier in the channel region of the horizontal charge transfer unit and the overflow start potential due to thermionic emission is ΔΦα,
The imaging device according to claim 2, wherein the control device sets a voltage applied to the drain region so that a potential Φ1 of the barrier region satisfies the following formula (1).
(Equation 1)
Φ2 <Φ1 <Φ3-ΔΦα (1)
複数の受光部と、前記複数の受光部から読み出した信号電荷を転送する電荷転送部と、前記電荷転送部に隣接し、且つ、前記電荷転送部の余剰電荷のみを通過させるバリア領域と、前記バリア領域に隣接し、且つ、前記バリア領域を通過した前記余剰電荷を排出するドレイン領域とを備えた固体撮像素子であって、
前記ドレイン領域に接続された検出部を更に備え、
前記検出部は、前記ドレイン領域における電荷の変動を検出することを特徴とする固体撮像素子。
A plurality of light receiving portions, a charge transfer portion for transferring signal charges read from the plurality of light receiving portions, a barrier region adjacent to the charge transfer portion and allowing only surplus charges of the charge transfer portion to pass through, A solid-state imaging device including a drain region adjacent to the barrier region and discharging the surplus charge that has passed through the barrier region;
A detector connected to the drain region;
The solid-state imaging device, wherein the detection unit detects a change in charge in the drain region.
前記複数の受光部、前記電荷転送部、前記バリア領域、前記ドレイン領域、及び前記検出部が、同一の半導体基板に形成され、
前記複数の受光部が、垂直方向及び水平方向に沿って2次元状に配列され、
前記電荷転送部が、前記受光部の垂直方向の列に沿って配置され、且つ、前記受光部から信号電荷を読み出して垂直方向に転送する垂直電荷転送部と、前記垂直電荷転送部によって転送された信号電荷を受け取って水平方向に転送する水平電荷転送部とを備え、
前記ドレイン領域が、前記水平電荷転送部の前記受光部側の反対側に、水平方向に沿って形成され、
前記バリア領域が、前記水平電荷転送部と前記ドレイン領域との間に、水平方向に沿って形成され、
前記固体撮像素子の外部から前記ドレイン領域に印加される電圧の大きさによって、前記バリア領域の電位が調整される請求項8に記載の固体撮像素子。
The plurality of light receiving units, the charge transfer unit, the barrier region, the drain region, and the detection unit are formed on the same semiconductor substrate,
The plurality of light receiving units are arranged two-dimensionally along a vertical direction and a horizontal direction,
The charge transfer unit is disposed along a vertical column of the light receiving units, and reads the signal charges from the light receiving unit and transfers them in the vertical direction, and is transferred by the vertical charge transfer unit. A horizontal charge transfer unit that receives the transferred signal charge and transfers it horizontally.
The drain region is formed along the horizontal direction on the opposite side of the horizontal charge transfer unit to the light receiving unit side,
The barrier region is formed along the horizontal direction between the horizontal charge transfer unit and the drain region,
The solid-state imaging device according to claim 8, wherein the potential of the barrier region is adjusted by the magnitude of a voltage applied to the drain region from the outside of the solid-state imaging device.
前記検出部が、入力回路と差分回路とを備え、
前記入力回路は、遮光された前記水平電荷転送部の一部分と、前記遮光された水平電荷転送部のチャネル領域に接続された入力端子とを備え、
前記差分回路は、前記ドレイン領域に接続されており、且つ、前記入力端子から前記入力回路に電流が供給されたときの前記ドレイン領域における電流の変動量を、前記電荷の変動として検出する請求項9に記載の固体撮像素子。
The detection unit includes an input circuit and a difference circuit,
The input circuit includes a part of the horizontal charge transfer unit shielded from light and an input terminal connected to a channel region of the shielded horizontal charge transfer unit,
The difference circuit is connected to the drain region, and detects a fluctuation amount of a current in the drain region when a current is supplied from the input terminal to the input circuit as a fluctuation of the charge. 9. The solid-state image sensor according to 9.
前記遮光された前記水平電荷転送部の一部分が、前記水平電荷転送部における転送方向の逆方向の側の端部であり、
前記差分回路が、前記入力回路に隣接した位置に配置されている請求項10に記載の固体撮像素子。
A part of the horizontal charge transfer unit that is shielded from light is an end portion on a side opposite to a transfer direction in the horizontal charge transfer unit,
The solid-state imaging device according to claim 10, wherein the difference circuit is disposed at a position adjacent to the input circuit.
前記ドレイン領域に外部から印加される電圧の値を設定するドレイン電圧設定回路を更に備えている請求項10に記載に固体撮像素子。   The solid-state imaging device according to claim 10, further comprising a drain voltage setting circuit that sets a value of a voltage applied to the drain region from the outside. 前記ドレイン電圧設定回路が、直列に接続された複数の抵抗素子と、前記複数の抵抗素子それぞれ毎に設けられ、各抵抗素子に並列に接続された短絡配線とを備えている請求項12に記載の固体撮像素子。   The drain voltage setting circuit includes a plurality of resistance elements connected in series and a short-circuit wiring provided for each of the plurality of resistance elements and connected in parallel to each resistance element. Solid-state image sensor. 上記請求項8〜13のいずれかに記載の固体撮像素子の駆動をコンピュータに実行させるためのプログラムであって、
(a)前記検出部によって検出された前記電荷の変動を特定するステップと、
(b)上記(a)のステップで特定された前記電荷の変動に応じて、前記バリア領域の電位を調整するステップとを前記コンピュータに実行させることを特徴とするプログラム。
A program for causing a computer to drive the solid-state imaging device according to any one of claims 8 to 13,
(A) identifying a change in the charge detected by the detection unit;
(B) causing the computer to execute a step of adjusting the potential of the barrier region in accordance with the fluctuation of the electric charge specified in the step (a).
前記固体撮像素子が上記請求項9〜13のいずれかに記載の固体撮像素子であって、前記固体撮像素子の外部から前記ドレイン領域に印加される電圧の大きさによって、前記バリア領域の電位が調整されており、
前記バリア領域の電位をΦ1、前記水平電荷転送部の前記チャネル領域において電位障壁となっている領域の電位をΦ2、前記水平電荷転送部が設定電荷量を前記チャネル領域に蓄積するために必要な電位をΦ3、前記水平電荷転送部の前記チャネル領域における電位障壁による電位差と熱電子放出によるオーバーフロー開始電位との差を△Φαとしたときに、
前記(b)のステップにおいて、前記バリア領域の電位Φ1が下記式(1)を満たすように、前記ドレイン領域に印加される電圧が設定される請求項14に記載のプログラム。
(数2)
Φ2<Φ1<Φ3−△Φα・・・・・(1)
The solid-state image pickup device according to any one of claims 9 to 13, wherein the potential of the barrier region depends on the magnitude of a voltage applied to the drain region from the outside of the solid-state image pickup device. Has been adjusted,
The potential of the barrier region is Φ1, the potential of a region that is a potential barrier in the channel region of the horizontal charge transfer unit is Φ2, and the horizontal charge transfer unit is necessary to accumulate a set charge amount in the channel region. When the potential is Φ3, and the difference between the potential difference due to the potential barrier in the channel region of the horizontal charge transfer unit and the overflow start potential due to thermionic emission is ΔΦα,
The program according to claim 14, wherein in the step (b), a voltage applied to the drain region is set so that the potential Φ1 of the barrier region satisfies the following formula (1).
(Equation 2)
Φ2 <Φ1 <Φ3-ΔΦα (1)
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