JP2007322474A - Liquid crystal display device - Google Patents

Abstract

<P>PROBLEM TO BE SOLVED: To keep uniformity of the film thickness of an alignment layer in a display area of a liquid crystal display panel and to suppress the layer from wet spreading outside the display area. <P>SOLUTION: A liquid crystal display device has a display panel in which an annular sealing material is disposed between a pair of substrates, a liquid crystal material is sealed in a space enclosed by the pair of substrates and the sealing material, and a display area to display a video or an image is formed in an area where, in a plan view, the liquid crystal material overlaps the pair of substrates. One of the pair of substrates has a plurality of scanning signal lines and a plurality of video signal lines and has an alignment layer on the surface opposing to the other substrate, and moreover, the substrate having the plurality of scanning signal lines and the plurality of video signal lines has a step portion protruding toward the other substrate, in an almost annular area inside the area enclosed by the sealing material and outside the display area, wherein an ITO film is disposed on the surface of the step portion. <P>COPYRIGHT: (C)2008,JPO&INPIT

Description

本発明は、液晶表示装置に関し、特に、配向膜の塗布領域の制御に適用して有効な技術に関するものである。   The present invention relates to a liquid crystal display device, and more particularly to a technique effective when applied to control of a coating region of an alignment film.

従来、映像や画像を表示する表示装置には、一対の基板の間に液晶材料を封入した液晶表示パネルを用いた液晶表示装置がある。   Conventionally, there is a liquid crystal display device using a liquid crystal display panel in which a liquid crystal material is sealed between a pair of substrates.

前記液晶表示パネルは、一対の基板のうちの一方の基板に、たとえば、複数本の走査信号線、複数本の映像信号線が形成されている。そして、２本の隣接する走査信号線と２本の隣接する映像信号線で囲まれた領域が１つの画素領域に相当し、各画素領域に対してＴＦＴ素子や画素電極などが配置されている。この基板は、一般に、ＴＦＴ基板と呼ばれる。また、前記ＴＦＴ基板と対をなす他方の基板は、一般に、対向基板と呼ばれる。   In the liquid crystal display panel, for example, a plurality of scanning signal lines and a plurality of video signal lines are formed on one of a pair of substrates. A region surrounded by two adjacent scanning signal lines and two adjacent video signal lines corresponds to one pixel region, and a TFT element, a pixel electrode, or the like is arranged in each pixel region. . This substrate is generally called a TFT substrate. The other substrate paired with the TFT substrate is generally called a counter substrate.

また、前記液晶表示パネルが、たとえば、ＴＮ方式やＶＡ方式のような縦電界方式と呼ばれる駆動方式の場合、前記ＴＦＴ基板の前記画素電極と対向する対向電極（共通電極とも呼ばれる）は、前記対向基板に設けられる。また、前記液晶表示パネルが、たとえば、ＩＰＳ方式のような横電界方式と呼ばれる駆動方式の場合、前記対向電極は、前記ＴＦＴ基板に設けられる。   In addition, when the liquid crystal display panel is a driving method called a vertical electric field method such as a TN method or a VA method, a counter electrode (also referred to as a common electrode) facing the pixel electrode of the TFT substrate is Provided on the substrate. Further, when the liquid crystal display panel is of a driving method called a lateral electric field method such as an IPS method, the counter electrode is provided on the TFT substrate.

また、前記液晶表示パネルがＲＧＢ方式のカラー液晶表示パネルの場合、映像や画像の１画素（１ドット）は、３つのサブ画素からなり、前記対向基板には、サブ画素毎に赤色（Ｒ）のカラーフィルタ、緑色（Ｇ）のカラーフィルタ、青色（Ｂ）のカラーフィルタが配置される。   When the liquid crystal display panel is an RGB color liquid crystal display panel, one pixel (one dot) of an image or an image is composed of three sub-pixels, and the counter substrate has red (R) for each sub-pixel. Color filter, green (G) color filter, and blue (B) color filter are arranged.

また、前記ＴＦＴ基板および前記対向基板は、前記画素電極と前記対向電極の電位差がない状態における液晶分子の向き（配向）や、前記画素電極と前記対向電極の間に電位差が生じたときの液晶分子の配列や傾きを制御するための配向膜が設けられている。   In addition, the TFT substrate and the counter substrate are liquid crystal when a potential difference is generated between the pixel electrode and the counter electrode, and the orientation (orientation) of liquid crystal molecules in a state where there is no potential difference between the pixel electrode and the counter electrode. An alignment film for controlling the arrangement and inclination of molecules is provided.

前記配向膜は、各基板の液晶材料（液晶層）との界面に設けられており、たとえば、前記画素領域の集合からなる表示領域全体を覆うように形成されたポリイミドなどの樹脂膜の表面にラビング処理を行って形成している。   The alignment film is provided at the interface with the liquid crystal material (liquid crystal layer) of each substrate. For example, the alignment film is formed on the surface of a resin film such as polyimide formed so as to cover the entire display area including the set of pixel areas. It is formed by rubbing treatment.

また、前記各基板の表面に形成する樹脂膜は、従来、たとえば、フレキソ印刷法と呼ばれる方法で形成していたが、近年は、インクジェット印刷法を用いて形成する方法が提案されている（たとえば、特許文献１を参照。）。前記インクジェット印刷法には、基板上に直接描画ができ、非接触プロセスによる低汚染、溶液消費量の低減、段取り時間の短縮などの種々の利点がある。
特開２００１−３３７３１６号公報 In addition, the resin film formed on the surface of each substrate has been conventionally formed by, for example, a method called a flexographic printing method, but recently, a method of forming by using an inkjet printing method has been proposed (for example, , See Patent Document 1). The ink jet printing method has various advantages such as direct drawing on a substrate, low contamination due to a non-contact process, reduction in solution consumption, and reduction in setup time.
JP 2001-337316 A

しかしながら、前記インクジェット印刷法で配向膜を形成する場合、その周辺における寸法制御および形状制御が困難であることが指摘されている。すなわち、インクジェット印刷法で樹脂膜の材料を基板上に印刷した場合、印刷領域の制御が難しいという問題があった。   However, it has been pointed out that when an alignment film is formed by the ink jet printing method, it is difficult to control the dimensions and shape in the periphery. That is, when the resin film material is printed on the substrate by the inkjet printing method, there is a problem that it is difficult to control the print area.

このような問題は、たとえば、インクジェット印刷法で用いる材料の粘度が、前記フレキソ印刷法などで用いられる材料の粘度に比べて低いことが原因とされている。   Such a problem is caused, for example, by the fact that the viscosity of the material used in the ink jet printing method is lower than the viscosity of the material used in the flexographic printing method or the like.

そのため、たとえば、走査信号線、映像信号線、ＴＦＴ素子、画素電極などが形成されたＴＦＴ基板の表面に、インクジェット印刷法で配向膜を形成すると、たとえば、印刷した材料が濡れ広がり、シール材を形成する領域まで到達してしまうことがある。このように、配向膜がシール材を形成する領域まで到達してしまうと、たとえば、シール材とＴＦＴ基板（配向膜）との密着性が不十分で液晶材料が漏れたりするという問題がある。   Therefore, for example, when an alignment film is formed on the surface of a TFT substrate on which scanning signal lines, video signal lines, TFT elements, pixel electrodes, etc. are formed by an ink jet printing method, for example, the printed material is spread and the sealing material is used. The region to be formed may be reached. Thus, if the alignment film reaches the region where the sealing material is formed, for example, there is a problem that the liquid crystal material leaks due to insufficient adhesion between the sealing material and the TFT substrate (alignment film).

前記インクジェット印刷法で配向膜を形成するときに、印刷した材料がシール材を形成する領域まで濡れ広がらないようにする方法としては、たとえば、印刷した材料の濡れ広がりの量を考慮して、あらかじめ印刷する領域を小さくする方法が考えられる。しかしながら、この方法では、表示領域内で印刷した材料の膜厚にばらつきが生じやすいという問題がある。   When forming the alignment film by the inkjet printing method, as a method for preventing the printed material from getting wet to the area where the sealing material is formed, for example, considering the amount of wet spreading of the printed material in advance, A method for reducing the printing area is conceivable. However, this method has a problem that the film thickness of the material printed in the display area is likely to vary.

また、その他にも、たとえば、印刷する材料の粘度を高くして濡れ広がりを抑制する方法が考えられる。しかしながら、この方法では、印刷時の射出不良により材料が塗布されない領域が発生しやすいという問題がある。   In addition, for example, a method of suppressing wetting and spreading by increasing the viscosity of the material to be printed is conceivable. However, this method has a problem that a region where no material is applied is likely to occur due to defective injection during printing.

本発明の目的は、たとえば、液晶表示パネルの配向膜の、表示領域内における膜厚の均一性を維持し、かつ、表示領域の外側での濡れ広がりを抑制することが可能な技術を提供することにある。   An object of the present invention is to provide a technique capable of, for example, maintaining the uniformity of the film thickness in the display region of the alignment film of the liquid crystal display panel and suppressing the wetting and spreading outside the display region. There is.

本発明の前記ならびにその他の目的と新規な特徴は、本明細書の記述および添付図面によって明らかになるであろう。   The above and other objects and novel features of the present invention will be apparent from the description of this specification and the accompanying drawings.

本願において開示される発明のうち、代表的なものの概略を説明すれば、以下の通りである。   The outline of typical inventions among the inventions disclosed in the present application will be described as follows.

（１）一対の基板の間に環状のシール材が配置され、前記一対の基板と前記シール材で囲まれた空間に液晶材料が封入されており、平面でみて前記一対の基板および液晶材料が重なる領域に映像または画像を表示する表示領域が形成された表示パネルを有する液晶表示装置であって、前記一対の基板のうちの一方の基板は、複数本の走査信号線と、複数本の映像信号線とを有し、かつ、他方の基板と対向する面の表面に配向膜を有し、前記複数本の走査信号線および前記複数本の映像信号線を有する基板は、前記シール材で囲まれる領域の内側であり、かつ、前記表示領域の外側である概略環状の領域に、前記他方の基板側に突出した段差部を有し、前記段差部は、その表面にＩＴＯ膜が配置されている液晶表示装置。   (1) An annular sealing material is disposed between a pair of substrates, and a liquid crystal material is enclosed in a space surrounded by the pair of substrates and the sealing material. A liquid crystal display device having a display panel in which a display area for displaying an image or an image is formed in an overlapping area, wherein one of the pair of substrates includes a plurality of scanning signal lines and a plurality of images. A substrate having a signal line and having an alignment film on a surface facing the other substrate, and the substrate having the plurality of scanning signal lines and the plurality of video signal lines is surrounded by the sealing material. A stepped portion protruding toward the other substrate in a substantially annular region that is inside the display region and outside the display region, and the stepped portion has an ITO film disposed on a surface thereof. Liquid crystal display device.

（２）前記（１）の液晶表示装置において、前記段差部は、前記シール材の延在方向に沿った方向に長尺な段差が、シール材の延在方向と直交する方向に複数個配置されている液晶表示装置。   (2) In the liquid crystal display device according to (1), a plurality of the stepped portions are arranged in a direction perpendicular to the extending direction of the sealing material. Liquid crystal display device.

（３）前記（２）に記載の液晶表示装置において、前記段差部は、前記シール材の延在方向に沿った方向に長尺な段差が、シール材の延在方向に複数個配置されている液晶表示装置。   (3) In the liquid crystal display device according to (2), the stepped portion includes a plurality of steps that are long in a direction along the extending direction of the sealing material. Liquid crystal display device.

（４）前記（３）に記載の液晶表示装置において、前記シール材の延在方向と直交する方向で隣接する２つの段差は、前記各段差が前記シール材の延在方向で隣接する段差との間隙の、前記シール材の延在方向でみた位置が異なる液晶表示装置。   (4) In the liquid crystal display device according to (3), two steps that are adjacent in a direction orthogonal to the extending direction of the seal material are different from the steps in which each step is adjacent in the extending direction of the seal material. A liquid crystal display device in which the positions of the gaps are different in the extending direction of the sealing material.

（５）前記（１）から（４）のいずれかの液晶表示装置において、前記段差部は、前記複数本の走査信号線が配置された方向に延在するシール材に沿って設けられている液晶表示装置。   (5) In the liquid crystal display device according to any one of (1) to (4), the stepped portion is provided along a sealing material extending in a direction in which the plurality of scanning signal lines are arranged. Liquid crystal display device.

（６）前記（１）から（５）のいずれかの液晶表示装置において、前記段差部は、前記複数本の映像信号線が配置された方向に延在するシール材に沿って設けられている液晶表示装置。   (6) In the liquid crystal display device according to any one of (1) to (5), the step portion is provided along a sealing material extending in a direction in which the plurality of video signal lines are arranged. Liquid crystal display device.

（７）前記（１）から（６）のいずれかの液晶表示装置において、前記複数本の走査信号線および前記複数本の映像信号線を有する基板は、２本の隣接する走査信号線と２本の隣接する映像信号線で囲まれた領域を１つの画素領域とし、各画素領域に対してＴＦＴ素子および画素電極が配置されており、前記段差部は、前記走査信号線、前記映像信号線、前記ＴＦＴ素子の半導体層のいずれか、または前記ＴＦＴ素子のゲート絶縁膜と同じ材料で形成された段差形成層を有する液晶表示装置。   (7) In the liquid crystal display device according to any one of (1) to (6), the substrate having the plurality of scanning signal lines and the plurality of video signal lines includes two adjacent scanning signal lines and 2 A region surrounded by adjacent video signal lines is defined as one pixel region, a TFT element and a pixel electrode are disposed for each pixel region, and the step portion includes the scanning signal line and the video signal line. A liquid crystal display device having a step forming layer formed of the same material as any of the semiconductor layers of the TFT element or the gate insulating film of the TFT element.

（８）前記（１）から（７）のいずれかの液晶表示装置において、前記段差部を有する基板に設けられた前記配向膜の外周は、前記段差部の段差のうち、前記シール材に最も近い段差よりも内側にある液晶表示装置。   (8) In the liquid crystal display device according to any one of (1) to (7), the outer periphery of the alignment film provided on the substrate having the stepped portion is the most of the stepped portion of the stepped portion. A liquid crystal display device located inside the closest step.

本発明の液晶表示装置は、液晶材料を封入する一対の基板のうちの、複数本の走査信号線および複数本の映像信号線が設けられた基板（以下、ＴＦＴ基板と呼ぶ。）の、シール材がシール材で囲まれる領域の内側であり、かつ、前記表示領域の外側である概略環状の領域に、前記他方の基板側に突出した段差部を有し、前記段差部は、その表面にＩＴＯ膜が配置されていることを主要な特徴とする。このようにすることで、たとえば、インクジェット印刷法を用いて配向膜を形成するときに、表示領域の外側における印刷材料の濡れ広がりを、前記段差部の段差で堰き止めることができ、前記シール材が形成される領域まで広がるのを防ぐことができる。またこのとき、前記配向膜の形成に用いる印刷材料は、画素電極などに用いられるＩＴＯとの濡れ性が低いので、前記段差部の表面にＩＴＯ膜を設けておくことで、印刷材料（配向膜）の濡れ広がりを抑制できる。そのため、表示領域内における膜厚の均一性を維持し、かつ、表示領域の外側での濡れ広がりを抑制することができる。   The liquid crystal display device of the present invention is a seal of a substrate (hereinafter referred to as a TFT substrate) provided with a plurality of scanning signal lines and a plurality of video signal lines, out of a pair of substrates enclosing a liquid crystal material. A step portion protruding toward the other substrate is provided in a substantially annular region inside the region surrounded by the sealing material and outside the display region, and the step portion is formed on the surface of the step portion. The main feature is that an ITO film is disposed. By doing so, for example, when forming an alignment film using an ink jet printing method, wetting and spreading of the printing material outside the display region can be blocked by the step of the step portion, and the sealing material Can be prevented from spreading to the region where the film is formed. At this time, since the printing material used for forming the alignment film has low wettability with ITO used for pixel electrodes or the like, the printing material (alignment film) is provided by providing an ITO film on the surface of the stepped portion. ) Can be prevented from spreading. Therefore, the uniformity of the film thickness within the display area can be maintained, and wetting and spreading outside the display area can be suppressed.

また、前記段差部は、前記シール材の延在方向に沿った方向に長尺な段差を、シール材の延在方向と直交する方向、言い換えると印刷した材料が濡れ広がる方向に対して複数個配置することが望ましい。このようにすることで、印刷材料の濡れ広がりを前記段差部で確実に堰き止めることができる。   Further, the stepped portion includes a plurality of stepped portions extending in a direction along the extending direction of the sealing material in a direction perpendicular to the extending direction of the sealing material, in other words, a direction in which the printed material spreads wet. It is desirable to arrange. In this way, wetting and spreading of the printing material can be reliably dammed by the stepped portion.

またこのとき、前記段差部は、前記シール材の延在方向に沿った方向に長尺な段差を、シール材の延在方向に複数個配置することが望ましい。このようにすることで、たとえば、段差を形成するための段差形成層の剥がれなどによる不良で印刷材料が段差部を越えてシール材を形成する領域まで濡れ広がるのを防ぐことができる。   Further, at this time, it is desirable that the stepped portion has a plurality of steps that are long in a direction along the extending direction of the sealing material in the extending direction of the sealing material. By doing so, for example, it is possible to prevent the printing material from spreading over the step portion to the region where the sealing material is formed due to a defect such as peeling of the step forming layer for forming the step.

またこのとき、前記シール材の延在方向と直交する方向で隣接する２つの段差は、前記各段差が前記シール材の延在方向で隣接する段差との間隙の、前記シール材の延在方向でみた位置をずらすことが望ましい。このようにすることで、前記印刷材料が、前記シール材の延在方向で隣接する２つの段差の間隙から外側に濡れ広がるのを防ぐことができる。   Further, at this time, the two steps adjacent in the direction orthogonal to the extending direction of the sealing material are the extending direction of the sealing material in the gap between the step and the adjacent step in the extending direction of the sealing material. It is desirable to shift the position seen. By doing in this way, it can prevent that the said printing material spreads outside from the gap | interval of two level | step differences adjacent in the extension direction of the said sealing material.

また、本発明の液晶表示装置では、前記段差部は、たとえば、複数本の走査信号線が配置された方向に延在するシール材、言い換えるとＴＦＴ基板の走査信号線の一端が集線された辺およびその辺と対向する辺に沿って延在するシール材と表示領域の間の領域のみに設けてもよいし、複数本の映像信号線が配置された方向に延在するシール材、言い換えるとＴＦＴ基板の映像信号線の一端が集線された辺およびその辺と対向するに沿って延在するシール材と表示領域の間の領域のみに設けてもよい。また、どちらか一方に限らず、両方に設けてもよい。   In the liquid crystal display device of the present invention, the stepped portion may be, for example, a sealing material extending in a direction in which a plurality of scanning signal lines are arranged, in other words, a side where one end of the scanning signal lines of the TFT substrate is concentrated. And may be provided only in a region between the display region and the sealant extending along the side opposite to the side, or in other words, the sealant extending in the direction in which a plurality of video signal lines are arranged, in other words One end of the video signal line of the TFT substrate may be provided only in the area between the display line and the side where the lines are concentrated and the side opposite to the side. Moreover, you may provide in not only one but both.

また、本発明の液晶表示装置では、前記段差部のＩＴＯ膜は、ＴＦＴ基板を製造する過程における画素電極を形成する工程で形成することが望ましい。そのため、前記段差は、前記画素電極を形成する工程よりも前に形成しておくことが望ましい。このとき、前記段差は、たとえば、前記走査信号線、前記映像信号線、前記ＴＦＴ素子の半導体層、前記ＴＦＴ素子のゲート絶縁膜のいずれかを形成する工程で形成された段差形成層によって構成することが望ましい。   In the liquid crystal display device of the present invention, it is preferable that the ITO film of the step portion is formed in a process of forming a pixel electrode in the process of manufacturing a TFT substrate. Therefore, the step is preferably formed before the step of forming the pixel electrode. At this time, the step is constituted by, for example, a step forming layer formed in the step of forming any one of the scanning signal line, the video signal line, the semiconductor layer of the TFT element, and the gate insulating film of the TFT element. It is desirable.

なお、本発明の液晶表示装置は、ＴＦＴ基板に設けた前記段差部によって、配向膜の濡れ広がりを抑制するものであり、前記配向膜の外周が、前記段差部の段差のうち、前記シール材に最も近い段差よりも内側にあることが望ましい。   The liquid crystal display device of the present invention suppresses the wetting and spreading of the alignment film by the step portion provided on the TFT substrate, and the outer periphery of the alignment film is the sealing material among the steps of the step portion. It is desirable that it is inside the step closest to.

以下、本発明について、図面を参照して実施の形態（実施例）とともに詳細に説明する。
なお、実施例を説明するための全図において、同一機能を有するものは、同一符号を付け、その繰り返しの説明は省略する。 Hereinafter, the present invention will be described in detail together with embodiments (examples) with reference to the drawings.
In all the drawings for explaining the embodiments, parts having the same function are given the same reference numerals and their repeated explanation is omitted.

図１および図２は、本発明に関わる液晶表示パネルの概略構成を示すための模式図である。
図１は、液晶表示パネルを観察者側からみた模式平面図である。図２は、図１のＡ−Ａ’線における液晶表示パネルの模式断面図である。 1 and 2 are schematic views for showing a schematic configuration of a liquid crystal display panel according to the present invention.
FIG. 1 is a schematic plan view of a liquid crystal display panel as viewed from the observer side. FIG. 2 is a schematic cross-sectional view of the liquid crystal display panel taken along line AA ′ of FIG.

本発明の表示装置は、たとえば、図１および図２に示すように、一対の基板１，２の間に環状のシール材３が配置され、一対の基板１，２とシール材３で囲まれた空間に液晶材料４が封入された液晶表示パネルを有する液晶表示装置である。このとき、映像または画像を表示する表示領域ＤＡは、平面でみて一対の基板１，２および液晶材料４が重なる領域に形成されている。   In the display device of the present invention, for example, as shown in FIGS. 1 and 2, an annular sealing material 3 is disposed between a pair of substrates 1 and 2, and is surrounded by the pair of substrates 1 and 2 and the sealing material 3. The liquid crystal display device has a liquid crystal display panel in which the liquid crystal material 4 is sealed in the open space. At this time, the display area DA for displaying a video or an image is formed in an area where the pair of substrates 1 and 2 and the liquid crystal material 4 overlap each other when seen in a plan view.

また、一対の基板１，２は平面でみた外形寸法が異なり、液晶表示装置が、たとえば、テレビやＰＣ（Ｐｅｒｓｏｎａｌ Ｃｏｍｐｕｔｅｒ）向けのディスプレイなどの大型の表示装置の場合、ｘ方向に平行な２辺のうちの１辺と、ｙ方向に平行な２辺のうちの１辺が平面でみて重なるように配置されている。   The pair of substrates 1 and 2 have different external dimensions in plan view, and the liquid crystal display device is, for example, a large display device such as a display for a television or a PC (Personal Computer), two sides parallel to the x direction. Are arranged so that one side of the two and one of the two sides parallel to the y direction overlap each other when seen in a plane.

また、一対の基板のうちの大きいほうの基板１は、主にＴＦＴ基板と呼ばれ、たとえば、図示は省略するが、ｘ方向に延在する複数本の走査信号線や、ｙ方向に延在する複数本の映像信号線が設けられている。また、ＴＦＴ基板１は、２本の隣接する走査信号線と２本の隣接する映像信号線で囲まれた領域が１つの画素領域に相当し、各画素領域に対してＴＦＴ素子や画素電極が配置されている。   The larger substrate 1 of the pair of substrates is mainly called a TFT substrate. For example, although not shown, a plurality of scanning signal lines extending in the x direction or extending in the y direction are used. A plurality of video signal lines are provided. In the TFT substrate 1, an area surrounded by two adjacent scanning signal lines and two adjacent video signal lines corresponds to one pixel area, and a TFT element and a pixel electrode are provided for each pixel area. Has been placed.

また、一対の基板のうちの小さいほうの基板２は、主に対向基板と呼ばれる。前記液晶表示パネルがＲＧＢ方式のカラー液晶表示パネルの場合、映像や画像の１画素（１ドット）は、３つのサブ画素からなり、対向基板２には、サブ画素毎に赤色（Ｒ）のカラーフィルタ、緑色（Ｇ）のカラーフィルタ、青色（Ｂ）のカラーフィルタが配置される。   The smaller substrate 2 of the pair of substrates is mainly called a counter substrate. When the liquid crystal display panel is an RGB color liquid crystal display panel, one pixel (one dot) of an image or image is composed of three sub-pixels, and the counter substrate 2 has a red (R) color for each sub-pixel. A filter, a green (G) color filter, and a blue (B) color filter are arranged.

また、前記液晶表示パネルが、たとえば、ＴＮ方式やＶＡ方式のような縦電界方式と呼ばれる駆動方式の場合、ＴＦＴ基板１の前記画素電極と対向する対向電極（共通電極とも呼ばれる）は、対向基板２に設けられる。また、前記液晶表示パネルが、たとえば、ＩＰＳ方式のような横電界方式と呼ばれる駆動方式の場合、前記対向電極は、ＴＦＴ基板１に設けられる。   Further, when the liquid crystal display panel is a driving method called a vertical electric field method such as a TN method or a VA method, a counter electrode (also referred to as a common electrode) facing the pixel electrode of the TFT substrate 1 is a counter substrate. 2 is provided. Further, when the liquid crystal display panel is of a driving method called a lateral electric field method such as an IPS method, the counter electrode is provided on the TFT substrate 1.

また、ＴＦＴ基板１のｙ方向に平行な２辺１ａ，１ｂのうち、対向基板２の辺と重ならないほうの辺１ａは、たとえば、各走査信号線に走査信号を入力するためのドライバＩＣ、または該ドライバＩＣが実装されたＣＯＦまたはＴＣＰなどが接続される辺である。また、各走査信号線は、各画素領域に対して配置されたＴＦＴ素子のゲートと接続されている。そのため、以下の説明では、走査信号を入力するためのドライバＩＣ、または該ドライバＩＣが実装されたＣＯＦまたはＴＣＰなどが接続される辺１ａをゲート辺と呼び、ゲート辺と平行なもう一方の辺１ｂを反ゲート辺と呼ぶ。   Of the two sides 1a and 1b parallel to the y direction of the TFT substrate 1, the side 1a that does not overlap the side of the counter substrate 2 is, for example, a driver IC for inputting a scanning signal to each scanning signal line, Alternatively, it is a side to which COF or TCP on which the driver IC is mounted is connected. Each scanning signal line is connected to the gate of a TFT element arranged for each pixel region. Therefore, in the following description, the side 1a to which the driver IC for inputting the scanning signal or the COF or TCP on which the driver IC is mounted is connected is referred to as a gate side, and the other side parallel to the gate side. 1b is called an anti-gate side.

また、ＴＦＴ基板１のｘ方向に平行な２辺１ｃ，１ｄのうち、対向基板２の辺と重ならないほうの辺１ｃは、たとえば、各映像信号線に映像信号（階調信号とも呼ばれる）を入力するためのドライバＩＣ、または該ドライバＩＣが実装されたＣＯＦまたはＴＣＰなどが接続される辺である。また、各映像信号線は、各画素領域に対して配置されたＴＦＴ素子のドレインと接続されている。そのため、以下の説明では、映像信号を入力するためのドライバＩＣ、または該ドライバＩＣが実装されたＣＯＦまたはＴＣＰなどが接続される辺１ｃをドレイン辺と呼び、ドレイン辺と平行なもう一方の辺１ｄを反ドレイン辺と呼ぶ。   Of the two sides 1c and 1d that are parallel to the x direction of the TFT substrate 1, the side 1c that does not overlap the side of the counter substrate 2 has, for example, a video signal (also called a gradation signal) applied to each video signal line. This is a side to which a driver IC for input or COF or TCP on which the driver IC is mounted is connected. Each video signal line is connected to the drain of the TFT element arranged for each pixel region. Therefore, in the following description, the driver IC for inputting a video signal, or the side 1c to which the COF or TCP on which the driver IC is mounted is connected is called a drain side, and the other side parallel to the drain side. 1d is called an anti-drain side.

以下、図１および図２に示したような構成の液晶表示パネルを例に挙げ、本発明の特徴および作用効果について説明する。   Hereinafter, the features and effects of the present invention will be described with reference to the liquid crystal display panel having the configuration shown in FIGS. 1 and 2 as an example.

図３乃至図６は、本発明による一実施例の液晶表示パネルの概略構成を示す模式図である。
図３は、図１の液晶表示パネルを、対向基板を取り除いてみた模式平面図である。図４は、図３の領域ＡＲ１を拡大した模式平面図である。図５は、図４のＢ−Ｂ’線における模式断面図である。図６は、図４のＣ−Ｃ’線における模式断面図である。なお、図３および図４において、ｘ方向およびｙ方向はそれぞれ、図１に示したｘ方向およびｙ方向と一致しているとする。 3 to 6 are schematic views showing a schematic configuration of a liquid crystal display panel according to an embodiment of the present invention.
FIG. 3 is a schematic plan view of the liquid crystal display panel of FIG. 1 with the counter substrate removed. FIG. 4 is an enlarged schematic plan view of the area AR1 in FIG. FIG. 5 is a schematic cross-sectional view taken along the line BB ′ of FIG. 6 is a schematic cross-sectional view taken along the line CC ′ of FIG. 3 and FIG. 4, it is assumed that the x direction and the y direction coincide with the x direction and the y direction shown in FIG. 1, respectively.

本実施例の液晶表示パネルにおいて、ＴＦＴ基板１は、図３および図４に示すように、観察者側からみてシール材３が形成された領域の内側であり、かつ、表示領域ＤＡの外側である領域に、ゲート辺１ａおよび反ゲート辺１ｃの近傍に延在するシール材３の延在方向に沿った段差部５が設けられている。このとき、段差部５の段差は、たとえば、図５および図６に示すように、ＴＦＴ基板１のガラス基板ＳＵＢの上に形成された第１の絶縁層ＰＡＳ１と第２の絶縁層ＰＡＳ２の間に設けられた段差形成層５０１によって形成されている。本実施例では、段差形成層５０１は、アモルファスシリコン（ａ−Ｓｉ）で形成されている。   In the liquid crystal display panel of the present embodiment, as shown in FIGS. 3 and 4, the TFT substrate 1 is inside the area where the sealing material 3 is formed as viewed from the observer side and outside the display area DA. In a certain region, a step portion 5 is provided along the extending direction of the sealing material 3 extending in the vicinity of the gate side 1a and the counter-gate side 1c. At this time, as shown in FIGS. 5 and 6, for example, the step of the step portion 5 is formed between the first insulating layer PAS1 and the second insulating layer PAS2 formed on the glass substrate SUB of the TFT substrate 1. The step forming layer 501 is provided. In this embodiment, the step forming layer 501 is formed of amorphous silicon (a-Si).

また、ガラス基板ＳＵＢと第１の絶縁層ＰＡＳ１の間には、図６に示すように、複数本の走査信号線ＧＬが形成されている。   In addition, a plurality of scanning signal lines GL are formed between the glass substrate SUB and the first insulating layer PAS1, as shown in FIG.

またこのとき、段差部５は、図４に示すように、複数本の走査信号線ＧＬが配置された方向（ｙ方向）に長尺な段差形成層５０１をｙ方向に複数個並べて形成された段差が、走査信号線ＧＬの延在方向（ｘ方向）に３つ並んでいる。   At this time, as shown in FIG. 4, the step portion 5 is formed by arranging a plurality of step forming layers 501 that are long in the direction (y direction) in which the plurality of scanning signal lines GL are arranged in the y direction. Three steps are arranged in the extending direction (x direction) of the scanning signal line GL.

また、段差部５の第２の絶縁層ＰＡＳ２の上（表面）には、たとえば、画素電極の形成に用いられるＩＴＯ膜６が形成されている。このとき、ＩＴＯ膜６は、３つの段差を覆い、かつ、シール材３を形成する領域にはかからないように形成する。   Further, on the second insulating layer PAS2 (surface) of the stepped portion 5, for example, an ITO film 6 used for forming a pixel electrode is formed. At this time, the ITO film 6 is formed so as to cover the three steps and not to cover the region where the sealing material 3 is formed.

また、ＴＦＴ基板１は、ＩＴＯ膜６が形成された面の最表面に、表示領域ＤＡの全域を覆う配向膜７が形成されている。このとき、前記配向膜７の外周は、図４に示した表示領域ＤＡの外周とシール材３を形成する領域の間の領域ＢＺの間にあればよく、たとえば、図５に示すように、表示領域ＤＡに最も近い段差の上にある。   The TFT substrate 1 has an alignment film 7 that covers the entire display area DA on the outermost surface of the surface on which the ITO film 6 is formed. At this time, the outer circumference of the alignment film 7 may be between the outer circumference of the display area DA shown in FIG. 4 and the area BZ between the areas where the sealing material 3 is formed. For example, as shown in FIG. It is on the step closest to the display area DA.

図７は、本実施例の液晶表示パネルの作用効果を説明するための模式断面図である。なお、図７は、図５と同じ断面を示している図である。   FIG. 7 is a schematic cross-sectional view for explaining the function and effect of the liquid crystal display panel of this embodiment. FIG. 7 shows the same cross section as FIG.

本実施例の液晶表示パネルにおけるＴＦＴ基板１を形成するときには、ガラス基板ＳＵＢの上に薄膜を成膜する工程と、成膜した薄膜をエッチングして所望の薄膜パターンを形成する工程とを繰り返し、走査信号線ＧＬ、映像信号線ＤＬ、ＴＦＴ素子、画素電極、第１の絶縁層ＰＡＳ１、第２の絶縁層ＰＡＳ２などを形成していく。このとき、第１の絶縁層ＰＡＳ１を形成する工程と第２の絶縁層ＰＡＳ２を形成する工程の間で段差形成層５０１を形成し、第２の絶縁層ＰＡＳ２を形成した後ＩＴＯ膜６を形成すると、たとえば、図４乃至図６に示したような段差部５が形成される。そしてその後、ＴＦＴ基板１の表示領域ＤＡの全域を覆う配向膜７が形成される。   When forming the TFT substrate 1 in the liquid crystal display panel of this embodiment, a process of forming a thin film on the glass substrate SUB and a process of etching the formed thin film to form a desired thin film pattern are repeated. The scanning signal line GL, the video signal line DL, the TFT element, the pixel electrode, the first insulating layer PAS1, the second insulating layer PAS2, and the like are formed. At this time, the step forming layer 501 is formed between the step of forming the first insulating layer PAS1 and the step of forming the second insulating layer PAS2, and the ITO film 6 is formed after forming the second insulating layer PAS2. Then, for example, the stepped portion 5 as shown in FIGS. 4 to 6 is formed. Thereafter, an alignment film 7 covering the entire display area DA of the TFT substrate 1 is formed.

このとき、前記配向膜７を形成する工程は、たとえば、インクジェット印刷法を用いて、配向膜７の形成に用いる材料７’を印刷し、その印刷した材料７’を焼成する。このとき、ＴＦＴ基板１に印刷された材料７’の外周部分は、たとえば、図７に示すように、印刷された領域の外側、すなわちシール材３を形成する領域がある方向に濡れ広がる。しかしながら、本実施例のＴＦＴ基板１では、インクジェット印刷法で配向膜の材料７’を印刷する領域の外側であり、かつ、シール材３を形成する領域の内側である領域に突出する段差部５が設けられている。そのため、濡れ広がろうとする配向膜の材料７’は、たとえば、図５に示したように、段差形成層５０１により形成される段差によって堰き止められる。   At this time, in the step of forming the alignment film 7, for example, the material 7 ′ used for forming the alignment film 7 is printed using an ink jet printing method, and the printed material 7 ′ is baked. At this time, the outer peripheral portion of the material 7 ′ printed on the TFT substrate 1 wets and spreads in the direction of the outside of the printed region, that is, the region where the sealing material 3 is formed as shown in FIG. 7, for example. However, in the TFT substrate 1 of the present embodiment, the step portion 5 that protrudes outside the region where the alignment film material 7 ′ is printed by the ink jet printing method and inside the region where the sealing material 3 is formed. Is provided. Therefore, the alignment film material 7 ′ to be spread and wetted is blocked by a step formed by the step forming layer 501, for example, as shown in FIG. 5.

また、印刷された配向膜の材料７’は、たとえば、図５に示したように、段差を乗り越えてシール材３を形成する領域に広がろうとするが、配向膜の材料７’はＩＴＯ膜６に対する濡れ性が低い。そのため、たとえば、３つの段差を設けておけば、シール材３を形成する領域に最も近い段差よりも内側で濡れ広がりを止めることができる。なお、図３乃至図６では、走査信号線ＧＬの延在方向、すなわち配向膜の材料７’が濡れ広がる方向に３つの段差を設けているが、これに限らず、１つまたは２つでもよいし、４つ以上であってもよいことはもちろんである。   In addition, the printed alignment film material 7 ′, for example, as shown in FIG. 5, tries to spread over the step to the region where the sealing material 3 is formed, but the alignment film material 7 ′ is an ITO film. 6 has low wettability. Therefore, for example, if three steps are provided, wetting and spreading can be stopped inside the step closest to the region where the sealing material 3 is formed. 3 to 6, three steps are provided in the extending direction of the scanning signal line GL, that is, the direction in which the alignment film material 7 ′ spreads out. However, the present invention is not limited to this, and one or two steps may be provided. Of course, it may be four or more.

図８は、本実施例のＴＦＴ基板における段差形成層の配置方法の一例を示す模式平面図である。また、図９は、本実施例のＴＦＴ基板における段差形成層の配置方法の別の例を示す模式平面図である。なお、図８および図９において、ｘ方向およびｙ方向はそれぞれ、図１に示したｘ方向およびｙ方向と一致しているとする。   FIG. 8 is a schematic plan view showing an example of a method for arranging a step forming layer in the TFT substrate of this embodiment. FIG. 9 is a schematic plan view showing another example of the method of arranging the step forming layer in the TFT substrate of this example. 8 and 9, it is assumed that the x direction and the y direction coincide with the x direction and the y direction shown in FIG. 1, respectively.

本実施例のＴＦＴ基板１に設ける段差形成層５０１は、たとえば、走査信号線ＧＬの配置方向（ｙ方向）に並べた複数個の段差形成層５０１からなる段差形成層列を、走査信号線ＧＬの延在方向（ｘ方向）に３つ並べている。このとき、前記段差形成層列は、１つの段差形成層５０１で構成することも可能であるが、１つの段差形成層５０１にした場合、ある箇所で剥がれが生じると、段差形成層５０１全体が剥がれてしまう可能性が高い。そのため、たとえば、図７に示すように、ｘ方向の寸法がＸＬでｙ方向の寸法がＹＬの段差形成層５０１を、間隔ΔＹで並べることが望ましい。   For example, the step forming layer 501 provided on the TFT substrate 1 of the present embodiment includes a step signal forming layer array composed of a plurality of step forming layers 501 arranged in the arrangement direction (y direction) of the scanning signal lines GL. Are arranged in the extending direction (x direction). At this time, the step forming layer row can be formed of one step forming layer 501, but when one step forming layer 501 is formed, if peeling occurs at a certain position, the entire step forming layer 501 There is a high possibility of peeling. Therefore, for example, as shown in FIG. 7, it is desirable to arrange the step forming layers 501 whose dimensions in the x direction are XL and whose dimensions in the y direction are YL at an interval ΔY.

またこのとき、ｘ方向に並んだ３つの段差形成層列において、それぞれ段差形成層列の段差形成層５０１の端部のｙ方向でみた位置が同じ位置であると、その間隙を通って印刷した配向膜の材料７’がシール材３を形成する領域側に濡れ広がってしまう可能性が高い。そのため、たとえば、図８に示すように、２つの隣接する段差形成層列でみたときに、それぞれの段差形成層列の段差形成層５０１の端部のｙ方向でみた位置が、段差形成層５０１のピッチＹｐの半分（Ｙｐ／２）だけずれるように配置することが望ましい。   Also, at this time, in the three step forming layer rows arranged in the x direction, the positions of the end portions of the step forming layer 501 in the step forming layer row that are viewed in the y direction are the same positions, and printing is performed through the gaps. There is a high possibility that the alignment film material 7 ′ wets and spreads to the region where the sealing material 3 is formed. Therefore, for example, as shown in FIG. 8, when viewed in two adjacent step forming layer sequences, the position of the end portion of the step forming layer 501 in each step forming layer sequence in the y direction is the step forming layer 501. It is desirable to arrange them so as to be shifted by half of the pitch Yp (Yp / 2).

また、各段差形成層５０１の寸法は、たとえば、ｘ方向の寸法ＸＬを８０μｍ、ｙ方向の寸法ＹＬを９９０μｍにする。また、ｙ方向で隣接する段差形成層５０１の間隔ΔＹは、たとえば、１０μｍにする。このようにすると、ｙ方向で隣接する段差形成層５０１のピッチＹｐは１．０ｍｍになるので、隣接する段差形成層列における段差形成層５０１の端部の位置は、０．５ｍｍずらせばよい。また、ｘ方向で隣接する段差形成層５０１のピッチＸｐは、たとえば、１７０．２５μｍにする。   Further, the dimension of each step forming layer 501 is, for example, a dimension XL in the x direction of 80 μm and a dimension YL in the y direction of 990 μm. Further, the interval ΔY between the step forming layers 501 adjacent in the y direction is set to 10 μm, for example. In this way, since the pitch Yp of the step forming layers 501 adjacent in the y direction is 1.0 mm, the position of the end of the step forming layer 501 in the adjacent step forming layer sequence may be shifted by 0.5 mm. Further, the pitch Xp of the step forming layers 501 adjacent in the x direction is set to 170.25 μm, for example.

また、図８には、２つの隣接する段差形成層列でみたときに、それぞれの段差形成層列の段差形成層５０１の端部のｙ方向でみた位置が、段差形成層５０１のピッチＹｐの半分だけずれるように配置した例を挙げたが、これに限らず、たとえば、図９に示すように、それぞれの段差形成層列の段差形成層５の端部のｙ方向でみた位置が、段差形成層５０１のピッチＹｐの１／３だけずれるように配置してもよい。またさらに、図８や図９に示したような配置方法に限らず、種々の配置方法を適用できることはもちろんである。   Further, in FIG. 8, when viewed in two adjacent step forming layer sequences, the positions of the end portions of the step forming layers 501 in the respective step forming layer sequences in the y direction are the pitches Yp of the step forming layers 501. Although an example in which they are arranged so as to be shifted by half has been given, the present invention is not limited to this. For example, as shown in FIG. 9, the positions of the end portions of the step forming layers 5 in the respective step forming layer rows in the y direction You may arrange | position so that it may shift | deviate by 1/3 of the pitch Yp of the formation layer 501. FIG. Furthermore, it is needless to say that various arrangement methods can be applied without being limited to the arrangement methods as shown in FIGS.

図１０は、本実施例のＴＦＴ基板における段差形成層の配置方法を別の観点で示した模式平面図である。なお、図１０において、ｘ方向およびｙ方向はそれぞれ、図１に示したｘ方向およびｙ方向と一致しているとする。   FIG. 10 is a schematic plan view showing another method of arranging the step forming layer in the TFT substrate of this embodiment. In FIG. 10, it is assumed that the x direction and the y direction coincide with the x direction and the y direction shown in FIG. 1, respectively.

これまでの説明において、本実施例のＴＦＴ基板の走査信号線ＧＬは、たとえば、図４に示したように、ゲート辺の近傍にある接続端子部ＧＰから表示領域ＤＡに向かって直線状に延在しており、表示領域ＤＡの近傍で画素の寸法に合わせて折れ曲がっている形状としている。しかしながら、実際のＴＦＴ基板１では、接続端子部ＧＰから表示領域ＤＡの外周までの各走査信号線ＧＬの配線長が等しくなるように、たとえば、図１０に示すように、ラーメンパターンと呼ばれる蛇行したパターンにするのが一般的である。この場合、各段差形成層５０１のｘ方向の位置は、たとえば、平面でみて段差形成層５０１と重なるラーメンパターンが、ｘ方向でみた中心線Ｍに対して線対称になるような位置にすることが望ましい。   In the above description, the scanning signal line GL of the TFT substrate of the present embodiment extends linearly from the connection terminal portion GP near the gate side toward the display area DA, for example, as shown in FIG. The shape is bent in accordance with the dimensions of the pixels in the vicinity of the display area DA. However, in the actual TFT substrate 1, the scanning signal lines GL from the connection terminal portion GP to the outer periphery of the display area DA are meandered so as to be equal to each other, for example, as shown in FIG. It is common to use a pattern. In this case, the position of each step forming layer 501 in the x direction is, for example, a position where the ramen pattern overlapping the step forming layer 501 in a plan view is symmetric with respect to the center line M in the x direction. Is desirable.

図１１乃至図１３は、本実施例の液晶表示パネルにおけるＴＦＴ基板の１画素の構成例を示す模式図である。
図１１は、ＴＦＴ基板を観察者側からみたときの１画素の構成例を示す模式平面図である。図１２は、図１１のＤ−Ｄ’線における模式断面図である。図１３は、図１１のＥ−Ｅ’線における模式断面図である。 FIG. 11 to FIG. 13 are schematic views showing a configuration example of one pixel of the TFT substrate in the liquid crystal display panel of this embodiment.
FIG. 11 is a schematic plan view showing a configuration example of one pixel when the TFT substrate is viewed from the observer side. 12 is a schematic cross-sectional view taken along the line DD ′ of FIG. 13 is a schematic cross-sectional view taken along the line EE ′ of FIG.

本実施例の液晶表示パネルにおいて、ＴＦＴ基板１は、１画素の構成がある特定の構成のものに限定されるわけではなく、従来より一般に知られている種々の構成のＴＦＴ基板に適用することができる。そこで、液晶表示パネルが、ＩＰＳ方式と呼ばれる横電界駆動方式の場合を例に挙げ、ＴＦＴ基板の１画素の構成例について説明する。   In the liquid crystal display panel of the present embodiment, the TFT substrate 1 is not limited to a specific configuration having a single pixel configuration, and is applied to TFT substrates having various configurations generally known in the past. Can do. Thus, a configuration example of one pixel of the TFT substrate will be described by taking a case where the liquid crystal display panel is a lateral electric field driving method called an IPS method as an example.

ＩＰＳ方式の液晶表示パネルの場合、ＴＦＴ基板１に画素電極および対向電極が設けられている。また、ＩＰＳ方式には、たとえば、平面でみた形状がくし歯状の画素電極および対向電極を同じ層、すなわち同じ絶縁層の上に配置したものと、絶縁層を介して平行に配置したものがある。このうち、絶縁層を介して画素電極と対向電極を並行に配置したＩＰＳ方式の場合、ＴＦＴ基板の１画素の構成は、たとえば、図１１乃至図１３に示すような構成になっている。   In the case of an IPS liquid crystal display panel, the TFT substrate 1 is provided with a pixel electrode and a counter electrode. Further, in the IPS system, for example, there are a pixel electrode having a comb-like shape in plan view and a counter electrode arranged on the same layer, that is, the same insulating layer, and a pixel electrode arranged in parallel via the insulating layer. . Among these, in the case of the IPS system in which the pixel electrode and the counter electrode are arranged in parallel via the insulating layer, the configuration of one pixel of the TFT substrate is, for example, a configuration as shown in FIGS.

まず、ＴＦＴ基板１のガラス基板ＳＵＢの表面には、ｘ方向に延在する複数本の走査信号線ＧＬ、各走査信号線ＧＬと並行して配置された共通信号線ＣＬ、共通信号線ＣＬと接続した対向電極ＣＴが設けられている。またこのとき、各走査信号線ＧＬからみて、共通信号線ＣＬが配置された方向と反対側には、対向電極ＣＴに接続された導電パッドＣＰが設けられている。   First, on the surface of the glass substrate SUB of the TFT substrate 1, a plurality of scanning signal lines GL extending in the x direction, a common signal line CL arranged in parallel with each scanning signal line GL, a common signal line CL, A connected counter electrode CT is provided. At this time, a conductive pad CP connected to the counter electrode CT is provided on the side opposite to the direction in which the common signal line CL is disposed when viewed from each scanning signal line GL.

そして、走査信号線ＧＬ、対向電極ＣＴなどの上には、第１の絶縁層ＰＡＳ１を介して半導体層ＳＣ、映像信号線ＤＬ、ドレイン電極ＳＤ１、ソース電極ＳＤ２が設けられている。このとき、半導体層ＳＣは、たとえば、アモルファスシリコン（ａ−Ｓｉ）で形成されており、ＴＦＴ素子のチャネル層として機能するものの他に、たとえば、走査信号線ＧＬと映像信号線ＤＬが立体的に交差する箇所における走査信号線ＧＬと映像信号線ＤＬの短絡を防ぐためのものなどが形成されている。またこのとき、ＴＦＴ素子のチャネル層として機能する半導体層ＳＣは、走査信号線ＧＬの上に第１の絶縁層ＰＡＳ１を介して設けられており、走査信号線ＧＬと半導体層ＳＣの間に介在する第１の絶縁膜ＰＡＳ１が、ＴＦＴ素子のゲート絶縁膜として機能する。   A semiconductor layer SC, a video signal line DL, a drain electrode SD1, and a source electrode SD2 are provided on the scanning signal line GL, the counter electrode CT, and the like via a first insulating layer PAS1. At this time, the semiconductor layer SC is formed of, for example, amorphous silicon (a-Si), and in addition to the one that functions as a channel layer of the TFT element, for example, the scanning signal line GL and the video signal line DL are three-dimensionally formed. In order to prevent a short circuit between the scanning signal line GL and the video signal line DL at the intersection, a line is formed. At this time, the semiconductor layer SC functioning as the channel layer of the TFT element is provided on the scanning signal line GL via the first insulating layer PAS1, and is interposed between the scanning signal line GL and the semiconductor layer SC. The first insulating film PAS1 functions as a gate insulating film of the TFT element.

また、映像信号線ＤＬは、ｙ方向に延在する信号線であり、その一部が分岐してＴＦＴ素子のチャネル層として機能する半導体層ＳＣ上に設けられている。この映像信号線ＤＬから分岐した部分がドレイン電極ＳＤ１である。   The video signal line DL is a signal line extending in the y direction, and a part of the video signal line DL is provided on the semiconductor layer SC that branches and functions as a channel layer of the TFT element. A portion branched from the video signal line DL is a drain electrode SD1.

そして、半導体層ＳＣ、映像信号線ＤＬなどの上には、第２の絶縁層ＰＡＳ２を介して画素電極ＰＸおよびブリッジ配線ＢＲが設けられている。画素電極ＰＸは、スルーホールＴＨ１によりソース電極ＳＤ２と電気的に接続されている。また、画素電極ＰＸは、平面でみて対向電極ＣＴと重なる領域に複数本のスリット（開口部）ＳＬが設けられている。   A pixel electrode PX and a bridge wiring BR are provided on the semiconductor layer SC, the video signal line DL, etc. via a second insulating layer PAS2. The pixel electrode PX is electrically connected to the source electrode SD2 through the through hole TH1. In addition, the pixel electrode PX is provided with a plurality of slits (openings) SL in a region overlapping the counter electrode CT when viewed in plan.

また、ブリッジ配線ＢＲは、１本の走査信号線ＧＬを挟んで配置される２つの対向電極ＣＴを電気的に接続する配線であり、スルーホールＴＨ２，ＴＨ３により、走査信号線を挟んで配置される共通信号線ＣＬおよび導電パッドＣＰと電気的に接続されている。   The bridge wiring BR is a wiring for electrically connecting two counter electrodes CT arranged with one scanning signal line GL interposed therebetween, and is arranged with the scanning signal line interposed between the through holes TH2 and TH3. The common signal line CL and the conductive pad CP are electrically connected.

１画素の構成が図１１乃至図１３に示したような構成のＴＦＴ基板１の場合、第１の絶縁層ＰＡＳ１を形成する工程と、第２の絶縁層ＰＡＳ２を形成する工程の間に、半導体層ＳＣを形成する工程がある。そのため、半導体層ＳＣを形成する工程において、第１の絶縁層ＰＡＳ１の表面全面に成膜したａ−Ｓｉ膜をエッチングするときに、ＴＦＴ素子のチャネル層として機能するもの、走査信号線と映像信号線の短絡を防ぐためのものと一緒に、段差形成層５０１を形成することができる。つまり、本実施例のＴＦＴ基板１は、従来の段差部がないＴＦＴ基板と同じ手順で形成することができる。   In the case where the configuration of one pixel is the TFT substrate 1 having the configuration as shown in FIGS. 11 to 13, the semiconductor layer is formed between the step of forming the first insulating layer PAS1 and the step of forming the second insulating layer PAS2. There is a step of forming the layer SC. Therefore, when the a-Si film formed over the entire surface of the first insulating layer PAS1 is etched in the step of forming the semiconductor layer SC, the one that functions as the channel layer of the TFT element, the scanning signal line and the video signal The step forming layer 501 can be formed together with the one for preventing the short circuit of the line. That is, the TFT substrate 1 of this embodiment can be formed by the same procedure as a conventional TFT substrate having no stepped portion.

以上説明したように、本実施例の液晶表示パネルによれば、ＴＦＴ基板１の配向膜７を形成するときに、表示領域ＤＡ内における膜厚の均一性を維持し、かつ、表示領域ＤＡの外側での濡れ広がりを抑制することできる。そのため、たとえば、インクジェット印刷法を用いても、所望の印刷領域に容易に配向膜を形成することができる。   As described above, according to the liquid crystal display panel of this embodiment, when the alignment film 7 of the TFT substrate 1 is formed, the uniformity of the film thickness in the display area DA is maintained, and the display area DA The spread of wetting on the outside can be suppressed. Therefore, for example, an alignment film can be easily formed in a desired printing region even when an ink jet printing method is used.

また、本実施例のＴＦＴ基板１は、たとえば、表示領域ＤＡ（画素領域）に形成するＴＦＴ素子の半導体層ＳＣを形成する工程で、同時に段差形成層５０１を形成することができるので、製造工程が増えることはなく、ＴＦＴ基板１の製造コストの上昇を防ぐことができる。   Further, the TFT substrate 1 of the present embodiment can form the step forming layer 501 at the same time in the step of forming the semiconductor layer SC of the TFT element formed in the display area DA (pixel area). The manufacturing cost of the TFT substrate 1 can be prevented from increasing.

図１４は、前記実施例の液晶表示パネルの第１の変形例を説明するための模式図である。   FIG. 14 is a schematic diagram for explaining a first modification of the liquid crystal display panel of the embodiment.

前記実施例では、図３に示したように、ゲート辺１ａおよび反ゲート辺１ｂのみに段差部５を設けた場合を例に挙げたが、これに限らず、たとえば、図１４に示すように、ドレイン辺１ｃおよび反ドレイン辺１ｄに沿った段差部５を設けてもよいことはもちろんである。   In the above embodiment, as shown in FIG. 3, the step 5 is provided only on the gate side 1a and the anti-gate side 1b. However, the present invention is not limited to this. For example, as shown in FIG. Of course, the step portion 5 along the drain side 1c and the anti-drain side 1d may be provided.

各辺に段差部５を設けるか否かは、表示領域ＤＡの外周端からシール材３までの距離と、配向膜７を形成するときに印刷する材料７’の濡れ広がりの量によって決めればよい。すなわち、表示領域ＤＡの外周端からシール材３までの距離が十分に大きく、印刷した材料が濡れ広がってもシール材３を形成する領域まで到達しないような辺には段差部５を設ける必要はない。しかしながら、近年の液晶表示装置は、狭額縁化により表示領域ＤＡの外側の領域が狭くなる傾向にあり、表示領域ＤＡの外周端からシール材３までの距離を十分に取ることが難しくなってきている。そのため、図３または図１４に示したような段差部５を設けることで、印刷した配向膜の材料７’の濡れ広がりを抑制することで、液晶表示装置の狭額縁化もできると考えられる。   Whether or not the step portions 5 are provided on each side may be determined by the distance from the outer peripheral edge of the display area DA to the sealing material 3 and the amount of wetting and spreading of the material 7 ′ to be printed when the alignment film 7 is formed. . That is, it is necessary to provide the step portion 5 on the side where the distance from the outer peripheral edge of the display area DA to the sealing material 3 is sufficiently large and does not reach the area where the sealing material 3 is formed even if the printed material spreads wet. Absent. However, in recent liquid crystal display devices, the area outside the display area DA tends to be narrowed due to the narrowing of the frame, and it is difficult to take a sufficient distance from the outer peripheral edge of the display area DA to the sealing material 3. Yes. For this reason, it is considered that the frame portion of the liquid crystal display device can be narrowed by providing the step portion 5 as shown in FIG. 3 or FIG. 14 and suppressing the wetting and spreading of the printed alignment film material 7 ′.

図１５は、前記実施例の液晶表示パネルの第２の変形例を説明するための模式図である。   FIG. 15 is a schematic diagram for explaining a second modification of the liquid crystal display panel of the embodiment.

前記実施例では、たとえば、図５に示したように、半導体層ＳＣ（ａ−Ｓｉ）で段差形成層５０１を形成し、ＴＦＴ基板１の表面に段差を形成している。しかしながら、本発明は、このような構成に限らず、たとえば、図１５に示すように、半導体層５０１ａと導体層５０１ｂによって段差形成層５０１を形成してもよい。この場合、導体層５０１ｂは、たとえば、映像信号線ＤＬなどを形成する導体膜をエッチングするときに、同時に形成すればよい。このようにすれば、半導体層５０１ａのみの場合に比べて、段差の高さΔＨが高くなるので、濡れ広がる配向膜の材料７’を堰き止める効果がより高くなると考えられる。   In the embodiment, for example, as shown in FIG. 5, the step forming layer 501 is formed of the semiconductor layer SC (a-Si), and the step is formed on the surface of the TFT substrate 1. However, the present invention is not limited to such a configuration. For example, as shown in FIG. 15, a step forming layer 501 may be formed by a semiconductor layer 501a and a conductor layer 501b. In this case, the conductor layer 501b may be formed at the same time when the conductor film forming the video signal line DL or the like is etched, for example. In this case, the step height ΔH is higher than in the case of only the semiconductor layer 501a, and therefore, it is considered that the effect of blocking the alignment film material 7 'that spreads wet is further enhanced.

図１６は、前記実施例の液晶表示パネルの第３の変形例を説明するための模式図である。   FIG. 16 is a schematic diagram for explaining a third modification of the liquid crystal display panel of the embodiment.

前記実施例では、たとえば、図５に示したように、半導体層ＳＣ（ａ−Ｓｉ）で段差形成層５０１を形成し、ＴＦＴ基板１の表面に段差を形成している。しかしながら、本発明は、このような構成に限らず、たとえば、図１６に示すように、第２の絶縁層ＰＡＳ２の上に第３の絶縁層５０２を形成し、これを段差形成層としてもよい。この場合、たとえば、第２の絶縁層ＰＡＳ２を形成する工程と、画素電極ＰＸを形成する工程の間に、第３の絶縁層５０２を形成する工程を新たに追加することになるが、半導体層ＳＣや映像信号線ＤＬなどと同時に形成する場合に比べて、段差の高さの自由度が増し、濡れ広がる配向膜の材料７’を堰き止める効果がより高くなると考えられる。   In the embodiment, for example, as shown in FIG. 5, the step forming layer 501 is formed of the semiconductor layer SC (a-Si), and the step is formed on the surface of the TFT substrate 1. However, the present invention is not limited to such a configuration. For example, as shown in FIG. 16, a third insulating layer 502 may be formed on the second insulating layer PAS2, and this may be used as a step forming layer. . In this case, for example, a step of forming the third insulating layer 502 is newly added between the step of forming the second insulating layer PAS2 and the step of forming the pixel electrode PX. Compared to the case of forming simultaneously with the SC, the video signal line DL, etc., it is considered that the degree of freedom of the height of the step is increased, and the effect of blocking the alignment film material 7 ′ that spreads wet is enhanced.

図１７は、前記実施例の液晶表示パネルの第４の変形例を説明するための模式図である。   FIG. 17 is a schematic diagram for explaining a fourth modification of the liquid crystal display panel of the embodiment.

前記実施例では、たとえば、図５および図６に示したように、段差部５の段差全体を覆うようにＩＴＯ膜６を形成している。しかしながら、本発明は、このような構成に限らず、たとえば、図１７に示すように、段差の上部のみにＩＴＯ膜６を設けてもよい。この場合、ｘ方向に並んだ段差の間に形成される凹部は、全体をＩＴＯ膜６で覆った場合よりも深くなり、濡れ広がる配向膜の材料７’が段差を乗り越えにくくなると考えられる。また、段差を乗り越えて広がろうとする場合も、段差の上部に設けたＩＴＯ膜６に対する濡れ性が低いので、広がりを抑制できる。また、図１７に示した場合も、段差形成層５０１は、半導体層に限らず、映像信号線ＤＬを形成する導体膜と同じ導体層であってもよいし、半導体層および導体層を積層していてもよいことはもちろんである。またさらに、第３の絶縁層５０２で形成してもよいことはもちろんである。   In the embodiment, for example, as shown in FIGS. 5 and 6, the ITO film 6 is formed so as to cover the entire step of the step portion 5. However, the present invention is not limited to such a configuration. For example, as shown in FIG. 17, the ITO film 6 may be provided only on the upper part of the step. In this case, it is considered that the recess formed between the steps arranged in the x direction becomes deeper than when the whole is covered with the ITO film 6, and the alignment film material 7 ′ that spreads wet hardly gets over the step. In addition, when trying to spread over the step, the wetting with respect to the ITO film 6 provided on the top of the step is low, so that the spread can be suppressed. Also in the case shown in FIG. 17, the step forming layer 501 is not limited to the semiconductor layer, but may be the same conductor layer as the conductor film forming the video signal line DL, or the semiconductor layer and the conductor layer are laminated. Of course it may be. Of course, the third insulating layer 502 may be used.

以上、本発明を、前記実施例に基づき具体的に説明したが、本発明は、前記実施例に限定されるものではなく、その要旨を逸脱しない範囲において、種々変更可能であることはもちろんである。   The present invention has been specifically described above based on the above-described embodiments. However, the present invention is not limited to the above-described embodiments, and various modifications can be made without departing from the scope of the present invention. is there.

たとえば、前記実施例では、ＴＦＴ基板の１画素の構成の一例として、図１１乃至図１３に示したような横電界駆動方式の構成を挙げたが、これに限らず、ＴＮ方式やＶＡ方式などの縦電界駆動方式の構成であってもよいことはもちろんである。   For example, in the above embodiment, as an example of the configuration of one pixel of the TFT substrate, the configuration of the lateral electric field driving method as shown in FIGS. 11 to 13 is given, but not limited to this, the TN method, VA method, etc. Of course, the configuration of the vertical electric field driving method may be used.

液晶表示パネルを観察者側からみた模式平面図である。It is the model top view which looked at the liquid crystal display panel from the observer side. 図１のＡ−Ａ’線における液晶表示パネルの模式断面図である。FIG. 2 is a schematic cross-sectional view of a liquid crystal display panel taken along line A-A ′ in FIG. 1. 本発明による一実施例の液晶表示パネルの概略構成を示す模式図であり、図１の液晶表示パネルを、対向基板を取り除いてみた模式平面図である。FIG. 2 is a schematic diagram illustrating a schematic configuration of a liquid crystal display panel according to an embodiment of the present invention, and is a schematic plan view of the liquid crystal display panel of FIG. 1 with a counter substrate removed. 図３の領域ＡＲ１を拡大した模式平面図である。It is the model top view to which area | region AR1 of FIG. 3 was expanded. 図４のＢ−Ｂ’線における模式断面図である。It is a schematic cross section in the B-B 'line of FIG. 図４のＣ−Ｃ’線における模式断面図である。It is a schematic cross section in the C-C 'line of FIG. 本実施例の液晶表示パネルの作用効果を説明するための模式断面図である。It is a schematic cross section for demonstrating the effect of the liquid crystal display panel of a present Example. 本実施例のＴＦＴ基板における段差形成層の配置方法の一例を示す模式平面図である。It is a schematic plan view which shows an example of the arrangement method of the level | step difference formation layer in the TFT substrate of a present Example. 本実施例のＴＦＴ基板における段差形成層の配置方法の別の例を示す模式平面図である。It is a schematic plan view which shows another example of the arrangement method of the level | step difference formation layer in the TFT substrate of a present Example. 本実施例のＴＦＴ基板における段差形成層の配置方法を別の観点で示した模式平面図である。It is the model top view which showed the arrangement | positioning method of the level | step difference formation layer in the TFT substrate of a present Example from another viewpoint. ＴＦＴ基板を観察者側からみたときの１画素の構成例を示す模式平面図である。It is a schematic top view which shows the structural example of 1 pixel when a TFT substrate is seen from an observer side. 図１１のＤ−Ｄ’線における模式断面図である。It is a schematic cross section in the D-D 'line | wire of FIG. 図１１のＥ−Ｅ’線における模式断面図である。It is a schematic cross section in the E-E 'line of FIG. 前記実施例の液晶表示パネルの第１の変形例を説明するための模式図である。It is a schematic diagram for demonstrating the 1st modification of the liquid crystal display panel of the said Example. 前記実施例の液晶表示パネルの第２の変形例を説明するための模式図である。It is a schematic diagram for demonstrating the 2nd modification of the liquid crystal display panel of the said Example. 前記実施例の液晶表示パネルの第３の変形例を説明するための模式図である。It is a schematic diagram for demonstrating the 3rd modification of the liquid crystal display panel of the said Example. 前記実施例の液晶表示パネルの第４の変形例を説明するための模式図である。It is a schematic diagram for demonstrating the 4th modification of the liquid crystal display panel of the said Example.

符号の説明Explanation of symbols

１…ＴＦＴ基板
１ａ…ゲート辺
１ｂ…反ゲート辺
１ｃ…ドレイン辺
１ｄ…反ドレイン辺
ＳＵＢ…ガラス基板
ＧＬ…走査信号線
ＣＬ…共通信号線
ＣＴ…対向電極
ＣＰ…導電パッド
ＰＡＳ１…第１の絶縁層
ＰＡＳ２…第２の絶縁層
ＳＣ…半導体層（チャネル層）
ＤＬ…映像信号線
ＳＤ１…ドレイン電極
ＳＤ２…ソース電極
ＰＸ…画素電極
ＳＬ…スリット
ＢＲ…ブリッジ配線
ＴＨ１，ＴＨ２，ＴＨ３…スルーホール
２…対向基板
３…シール材
４…液晶材料
５…段差部
５０１…段差形成層
５０１ａ…半導体層
５０１ｂ…導体層
５０２…第３の絶縁層
６…ＩＴＯ膜
７…配向膜 DESCRIPTION OF SYMBOLS 1 ... TFT substrate 1a ... Gate side 1b ... Anti-gate side 1c ... Drain side 1d ... Anti-drain side SUB ... Glass substrate GL ... Scanning signal line CL ... Common signal line CT ... Counter electrode CP ... Conductive pad PAS1 ... First insulation Layer PAS2 ... Second insulating layer SC ... Semiconductor layer (channel layer)
DL ... Video signal line SD1 ... Drain electrode SD2 ... Source electrode PX ... Pixel electrode SL ... Slit BR ... Bridge wiring TH1, TH2, TH3 ... Through hole 2 ... Counter substrate 3 ... Seal material 4 ... Liquid crystal material 5 ... Step 501 ... Step forming layer 501a ... Semiconductor layer 501b ... Conductor layer 502 ... Third insulating layer 6 ... ITO film 7 ... Alignment film

Claims (8)

一対の基板の間に環状のシール材が配置され、前記一対の基板と前記シール材で囲まれた空間に液晶材料が封入されており、平面でみて前記一対の基板および液晶材料が重なる領域に映像または画像を表示する表示領域が形成された表示パネルを有する液晶表示装置であって、
前記一対の基板のうちの一方の基板は、複数本の走査信号線と、複数本の映像信号線とを有し、かつ、他方の基板と対向する面の表面に配向膜を有し、
前記複数本の走査信号線および前記複数本の映像信号線を有する基板は、前記シール材で囲まれる領域の内側であり、かつ、前記表示領域の外側である概略環状の領域に、前記他方の基板側に突出した段差部を有し、
前記段差部は、その表面にＩＴＯ膜が配置されていることを特徴とする液晶表示装置。 An annular sealing material is disposed between a pair of substrates, a liquid crystal material is sealed in a space surrounded by the pair of substrates and the sealing material, and a region where the pair of substrates and the liquid crystal material overlap in a plan view. A liquid crystal display device having a display panel in which a display area for displaying a video or an image is formed,
One of the pair of substrates has a plurality of scanning signal lines and a plurality of video signal lines, and has an alignment film on a surface facing the other substrate,
The substrate having the plurality of scanning signal lines and the plurality of video signal lines is located inside the region surrounded by the sealing material and in the substantially annular region outside the display region, Has a stepped part protruding to the substrate side,
The stepped portion has a surface on which an ITO film is disposed. 前記段差部は、前記シール材の延在方向に沿った方向に長尺な段差が、シール材の延在方向と直交する方向に複数個配置されていることを特徴とする請求項１に記載の液晶表示装置。   2. The stepped portion includes a plurality of steps that are long in a direction along the extending direction of the sealing material and are arranged in a direction orthogonal to the extending direction of the sealing material. Liquid crystal display device. 前記段差部は、前記シール材の延在方向に沿った方向に長尺な段差が、シール材の延在方向に複数個配置されていることを特徴とする請求項２に記載の液晶表示装置。   3. The liquid crystal display device according to claim 2, wherein the stepped portion includes a plurality of steps that are long in a direction along the extending direction of the sealing material in the extending direction of the sealing material. . 前記シール材の延在方向と直交する方向で隣接する２つの段差は、前記各段差が前記シール材の延在方向で隣接する段差との間隙の、前記シール材の延在方向でみた位置が異なることを特徴とする請求項３に記載の液晶表示装置。   Two steps adjacent to each other in a direction orthogonal to the extending direction of the sealing material are the positions of the gaps between the steps that are adjacent to each other in the extending direction of the sealing material in the extending direction of the sealing material. The liquid crystal display device according to claim 3, which is different. 前記段差部は、前記複数本の走査信号線が配置された方向と直交する方向に延在するシール材に沿って設けられていることを特徴とする請求項１乃至請求項４のいずれか１項に記載の液晶表示装置。   The said level | step-difference part is provided along the sealing material extended in the direction orthogonal to the direction where the said several scanning signal line is arrange | positioned, The any one of Claim 1 thru | or 4 characterized by the above-mentioned. The liquid crystal display device according to item. 前記段差部は、前記複数本の映像信号線が配置された方向と直交する方向に延在するシール材に沿って設けられていることを特徴とする請求項１乃至請求項５のいずれか１項に記載の液晶表示装置。   The said level | step-difference part is provided along the sealing material extended in the direction orthogonal to the direction where the said several video signal line is arrange | positioned, The any one of Claim 1 thru | or 5 characterized by the above-mentioned. The liquid crystal display device according to item. 前記複数本の走査信号線および前記複数本の映像信号線を有する基板は、２本の隣接する走査信号線と２本の隣接する映像信号線で囲まれた領域を１つの画素領域とし、各画素領域に対してＴＦＴ素子および画素電極が配置されており、
前記段差部は、前記走査信号線、前記映像信号線、前記ＴＦＴ素子の半導体層のいずれか、または前記ＴＦＴ素子のゲート絶縁膜と同じ材料で形成された段差形成層を有することを特徴とする請求項１乃至請求項６のいずれか１項に記載の液晶表示装置。 In the substrate having the plurality of scanning signal lines and the plurality of video signal lines, a region surrounded by two adjacent scanning signal lines and two adjacent video signal lines is defined as one pixel region. A TFT element and a pixel electrode are arranged with respect to the pixel region,
The step portion includes any one of the scanning signal line, the video signal line, the semiconductor layer of the TFT element, or a step forming layer formed of the same material as the gate insulating film of the TFT element. The liquid crystal display device according to claim 1. 前記段差部を有する基板に設けられた前記配向膜の外周は、前記段差部の段差のうち、前記シール材に最も近い段差よりも内側にあることを特徴とする請求項１乃至請求項７のいずれか１項に記載の液晶表示装置。   8. The outer periphery of the alignment film provided on the substrate having the stepped portion is on the inner side of the stepped portion of the stepped portion that is closest to the sealing material. The liquid crystal display device according to any one of the above.

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