JP2007317333A - マスター記録媒体、磁気転写方法、及びこれにより作製された磁気記録媒体並びに磁気記録再生装置 - Google Patents
マスター記録媒体、磁気転写方法、及びこれにより作製された磁気記録媒体並びに磁気記録再生装置 Download PDFInfo
- Publication number
- JP2007317333A JP2007317333A JP2006148433A JP2006148433A JP2007317333A JP 2007317333 A JP2007317333 A JP 2007317333A JP 2006148433 A JP2006148433 A JP 2006148433A JP 2006148433 A JP2006148433 A JP 2006148433A JP 2007317333 A JP2007317333 A JP 2007317333A
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- magnetic
- master
- recording medium
- disk
- transfer
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Pending
Links
Images
Landscapes
- Magnetic Record Carriers (AREA)
Abstract
【課題】 磁気転写用マスター記録媒体の剥離性を向上させ変形を少なくする。
【解決手段】 磁気記録媒体に情報を転写するための凹凸パターンが表面に形成され、前記凹凸パターンの形成された領域と前記磁気記録媒体を密着させて、磁界を印加することにより前記凹凸パターンにより記録されている情報を前記磁気記録媒体に転写するために用いられるマスター記録媒体において、前記マスター記録媒体の凸部は、サーボ信号に関する情報が記録されたサーボフレームと、隣接するサーボフレーム間に設けられた1以上のダミーフレームからなるものであり、前記ダミーフレームは、サーボ信号に関する情報とは異なるパターンにより構成されているものであることを特徴とするマスター記録媒体を提供することにより上記課題を解決する。
【選択図】 図6
【解決手段】 磁気記録媒体に情報を転写するための凹凸パターンが表面に形成され、前記凹凸パターンの形成された領域と前記磁気記録媒体を密着させて、磁界を印加することにより前記凹凸パターンにより記録されている情報を前記磁気記録媒体に転写するために用いられるマスター記録媒体において、前記マスター記録媒体の凸部は、サーボ信号に関する情報が記録されたサーボフレームと、隣接するサーボフレーム間に設けられた1以上のダミーフレームからなるものであり、前記ダミーフレームは、サーボ信号に関する情報とは異なるパターンにより構成されているものであることを特徴とするマスター記録媒体を提供することにより上記課題を解決する。
【選択図】 図6
Description
本発明は、マスター記録媒体、磁気転写方法、及びこれにより作製された磁気記録媒体並びに磁気記録再生装置に関するものであり、特に、磁気転写媒体との剥離性の高いマスター記録媒体、このマスター記録媒体を用いた磁気転写方法、及び、この磁気転写方法により作製された磁気記録媒体並びに磁気転写方法に関するものである。
近年、磁気記録再生装置は、小型でかつ大容量を実現するために、記録密度の高密度化の傾向にあり、特に、代表的な磁気記憶装置であるハードディスクドライブの分野では、技術の進歩が急激である。
このような、磁気記録再生装置に用いられる磁気記録媒体は、情報記録領域が狭トラックで構成されており、狭いトラック幅において正確に磁気ヘッドを走査させて高いS/Nで信号を再生するために、いわゆるトラッキングサーボ技術が大きな役割を担っている。このトラッキングサーボを行うために、従来よりセクターサーボ方式が広く採用されている。
セクターサーボ方式とは、磁気ディスク等の磁気記録媒体のデータ面において、一定角度等で正しく配列されたサーボフィールドに、トラック位置決めのためのサーボ信号や、そのトラックのアドレス情報信号、再生クロック信号等のサーボ情報を記録しておき、磁気ヘッドが、このサーボフィールドを走査してサーボ情報を読み取り自らの位置を確認しつつ修正する方式である。
このサーボ情報は、磁気記録媒体の製造時にプリフォーマットとして予め磁気記録媒体に記録する必要があり、現在は専用のサーボ記録装置を用いてプリフォーマットが行われている。現在用いられているサーボ記録装置は、例えばトラックピッチの75%程度のヘッド幅を有する磁気ヘッドを備え、磁気ヘッドを磁気ディスクに近接させた状態で、磁気ディスクを回転させつつ、1/2トラック毎に磁気ディスクの外周から内周に移動させながらサーボ信号を記録する。そのため、1枚の磁気ディスクのプリフォーマット記録に長時間を要し、生産効率の点で問題があり、コストアップの要因となっている。
このため、プリフォーマットを正確にかつ効率的に行う方法として、特許文献1から4に記載されているように、サーボ情報に対応したパターンが形成されているマスター記録媒体の情報を磁気記録媒体に磁気転写する方法が開示されている。
この磁気転写は、転写用磁気ディスク等の磁気記録媒体(スレーブ媒体)に転写すべき情報に応じて凹凸パターンを有するマスター記録媒体を用い、このマスター記録媒体と磁気記録媒体とを密着させた状態で、記録用磁界を印加することにより、マスター記録媒体の凹凸パターンにより記録されている情報(例えばサーボ情報)に対応する磁気パターンを磁気記録媒体に磁気的に転写するものである。この方法では、マスター記録媒体と磁気記録媒体との相対的な位置を変化させることなく静的に記録を行うことができ、正確なプリフォーマット情報の記録が可能であり、しかも記録に要する時間も極めて短時間という利点を有している。このような磁気転写方法としては、転写される磁化情報が、磁気記録媒体に垂直に磁化され記録される垂直磁気記録と、磁気記録媒体に平行に磁化され記録される面内磁気記録の2種類存在している。
特開2002−251721号公報
特開2002−74655号公報
特開2004−79059号公報
特開2004−177783号公報
ところで、凹凸パターンの形成されたマスター記録媒体と磁気転写媒体を密着させて磁気転写を行う方法は、短時間で、かつ、高い再現性で、磁気転写媒体に記録を行うことができるという特徴を有している。この磁気転写においては、凹凸パターンの形成されたマスター記録媒体と磁気転写媒体とを所定の押圧力で密着させるが、これにより、マスター記録媒体の凹部における変形といった問題や、マスター記録媒体の情報の記録されていない領域で、潤滑剤を介し磁気記録媒体と接触してしまうため、磁気転写を行った後に、マスター記録媒体を磁気記録媒体から剥離する際の剥離性が悪くなるといった問題があった。
本発明は、上記事情に鑑みてなされたものであり、剥離性の向上と、変形を防止するためにサーボフレーム間にダミーフレームを設けたマスター記録媒体、前記マスター記録媒体を用いた磁気転写方法、前記磁気転写方法により作製される磁気記録媒体、並びに、磁気記録再生装置を提供するものである。
請求項1に記載の発明は、磁気記録媒体に情報を転写するための凹凸パターンが表面に形成され、前記凹凸パターンの形成された領域と前記磁気記録媒体を密着させて、磁界を印加することにより前記凹凸パターンにより記録されている情報を前記磁気記録媒体に転写するために用いられるマスター記録媒体において、前記マスター記録媒体の凸部は、サーボ信号に関する情報が記録されたサーボフレームと、隣接するサーボフレーム間に設けられた1以上のダミーフレームからなるものであり、前記ダミーフレームは、サーボ信号に関する情報とは異なるパターンにより構成されているものであることを特徴とするマスター記録媒体である。
請求項2に記載の発明は、前記マスター記録媒体において、前記サーボフレームと前記ダミーフレームとの間隔が、0.8〔mm〕以下であることを特徴とする請求項1に記載のマスター記録媒体である。
請求項3に記載の発明は、前記ダミーフレームが、前記隣接するサーボフレーム間に2以上設けられており、前記ダミーフレーム間の間隔が、0.8〔mm〕以下であることを特徴とする請求項2に記載のマスター記録媒体である。
請求項4に記載の発明は、情報を転写するための凹凸パターンが表面に形成されたマスター記録媒体と磁気転写媒体とを密着させる工程と、密着させた前記マスター記録媒体と前記磁気転写媒体に磁界を印加することにより、前記マスター記録媒体に前記凹凸パターンにより記録されている情報を前記磁気記録媒体に磁気転写する工程からなる磁気転写方法において、前記マスター記録媒体の凸部は、サーボ信号に関する情報が記録されたサーボフレームと、隣接するサーボフレーム間に設けられた1以上のダミーフレームからなるものであり、前記ダミーフレームは、サーボ信号に関する情報とは異なるパターンにより構成されていることを特徴とする磁気転写方法である。
請求項5に記載の発明は、前記マスター記録媒体において、前記サーボフレームと前記ダミーフレームとの間隔が、0.8〔mm〕以下であることを特徴とする請求項4に記載の磁気転写方法である。
請求項6に記載の発明は、前記ダミーフレームが、前記隣接するサーボフレーム間に2以上設けられており、前記ダミーフレーム間の間隔が、0.8〔mm〕以下であることを特徴とする請求項5に記載の磁気転写方法である。
請求項7に記載の発明は、請求項4から6のいずれかに記載の磁気転写方法により磁気転写されたことを特徴とする磁気記録媒体である。
請求項8に記載の発明は、請求項7に記載された磁気記録媒体を備えていることを特徴とする磁気記録再生装置である。
以上のように、本発明によるマスター記録媒体並びに、このマスター記録媒体を用いた磁気転写方法によれば、マスター記録媒体の変形を防ぐと共に、剥離性を向上させることができ、量産性を高めることができる。また、この製造方法により製造された磁気記録媒体並びに磁気記録再生装置は歩留まりが高く、低い不良率、故障率の磁気記録媒体並びに磁気記録再生装置を得ることができる。
以下、本発明の第1の実施の形態について説明する。
〔転写用磁気ディスク〕
図1(a)に示すように、最初に磁気記録媒体である転写用磁気ディスク60の初期磁化を行うが、まず、これに用いられる転写用磁気ディスク60について説明する。
図1(a)に示すように、最初に磁気記録媒体である転写用磁気ディスク60の初期磁化を行うが、まず、これに用いられる転写用磁気ディスク60について説明する。
転写用磁気ディスク60は円盤状の基板の表面の片面或いは、両面に垂直磁化膜からなる磁性層が形成されたものであり、具体的には、高密度ハードディスク等が挙げられる。
円盤状の基板は、ガラスやAl(アルミニウム)等の材料から構成されており、この基板上に非磁性層を形成した後、磁性層を形成する。
非磁性層は、後に形成する磁性層の垂直方向の磁気異方性を大きくする等の理由により設けられる。非磁性層に用いられる材料は、Ti(チタン)、Cr(クロム)、CrTi、CoCr、CrTa、CrMo、NiAl、Ru(ルテニウム)、Pd(パラジウム)等が好ましい。非磁性層は、スパッタリング法により上記材料を成膜することにより形成される。非磁性層の厚さは、10〜150〔nm〕であることが好ましく、20〜80〔nm〕であることが更に好ましい。
磁性層は、垂直磁化膜により形成されており、磁性層に情報が記録される。磁性層に用いられる材料は、Co(コバルト)、Co合金(CoPtCr、CoCr、CoPtCrTa、CoPtCrNbTa、CoCrB、CoNi等)、Fe、Fe合金(FeCo、FePt、FeCoNi等)等が好ましい。これらの材料は、磁束密度が大きく、成膜条件や組成を調整することにより垂直の磁気異方性を有している。磁性層は、スパッタリング法により上記材料を成膜することにより形成される。磁性層の厚さは、10〜500〔nm〕であることが好ましく、20〜200〔nm〕であることが更に好ましい。
尚、必要に応じて、基板と非磁性層との間に、軟磁性層を設ける場合がある。磁性層の垂直磁化状態を安定させ、記録再生時の感度を向上させるためである。軟磁性層の厚さは、50〜2000〔nm〕であることが好ましく、80〜400〔nm〕であることが更に好ましい。
本実施の形態では、転写用磁気ディスクの基板として、外形65〔mm〕の円盤状のガラス基板を用い、スパッタリング装置のチャンバー内にガラス基板を設置し、1.33×10−5〔Pa〕(1.0×10−7〔Torr〕)まで減圧した後、チャンバー内にAr(アルゴン)ガスを導入し、CrTiターゲットを用い、基板温度が200〔℃〕の条件の下で放電させることによりスパッタリング成膜をおこなう。これによりCrTiからなる非磁性層を60nm成膜する。
この後、上記と同様にArガスを導入し、同じチャンバー内にあるCoCrPtターゲットを用い、同じく基板温度が200〔℃〕の条件の下で放電させることによりスパッタリング成膜をおこなう。これによりCoCrPtからなる磁性層を25〔nm〕成膜する。
以上のプロセスにより、ガラス基板に、非磁性層と磁性層が成膜された転写用磁気ディスク60を作製した。
〔転写用磁気ディスクの初期磁化〕
次に、形成した転写用磁気ディスク60の初期磁化を行う。図1(a)に示すように、転写用磁気ディスク60の初期磁化(直流磁化)は、転写用磁気ディスク60に対し垂直に磁界を印加することができる不図示の磁界印加手段により初期化磁界Hiを発生させ、図2(a)に示すように、転写用磁気ディスク60の磁性層60Mについて、一方向に初期磁化Piさせる。具体的には、初期化磁界Hiとして転写用磁気ディスク60の保磁力Hc近傍の強度の磁界を発生させることにより行う。
次に、形成した転写用磁気ディスク60の初期磁化を行う。図1(a)に示すように、転写用磁気ディスク60の初期磁化(直流磁化)は、転写用磁気ディスク60に対し垂直に磁界を印加することができる不図示の磁界印加手段により初期化磁界Hiを発生させ、図2(a)に示すように、転写用磁気ディスク60の磁性層60Mについて、一方向に初期磁化Piさせる。具体的には、初期化磁界Hiとして転写用磁気ディスク60の保磁力Hc近傍の強度の磁界を発生させることにより行う。
尚、初期磁化は、転写用磁気ディスク60を磁界印加手段に対し相対的に回転させることにより行ってもよい。
〔マスターディスク〕
次に、マスター記録媒体であるマスターディスクについて説明する。
次に、マスター記録媒体であるマスターディスクについて説明する。
最初に、図3〜図5に基づきマスターディスク66の製造方法について説明する。本実施の形態では、プレス原盤を用いるため、プレス原盤の作製工程より説明する。図3(a)に示すように、表面が平滑なガラスや石英ガラスからなる円形の基板50上に、フォトレジスト層をスピンコーター等により塗布し、プリベーク後に、この円形の基板50を回転させながら、記録する信号に対応して変調したレーザ光(或いは電子ビーム)をフォトレジスト層に照射し、フォトレジスト層の略全面に所定のパターンを露光する。その後、露光した基板50を現像液に浸漬することにより、フォトレジスト層の露光された部分が除去され、基板50上の所定の領域にフォトレジスト層51が形成されたガラス原盤52が作製される。フォトレジスト層51は、後述するように、サーボマーク信号を含むサーボフレームと、サーボ信号に関する情報を含まないダミーフレームが所定の領域に設けられる。
次に、図3(b)に示すように、ガラス原盤52上のフォトレジスト層51が形成されている面の表面に、Niメッキ(電鋳)を行うことにより、表面にポジ状の凹凸パターンを有するNi原盤53を所定の厚さまで形成する。この後、このNi原盤53をガラス原盤52から剥離する。
このNi原盤53をスタンパー用のプレス原盤(金型)として用いることも可能であるが、必要に応じてこのNi原盤53に凹凸バターン上に軟磁性層、保護膜等を被覆してスタンパー用のプレス原盤(金型)とする。このように軟磁性層、保護膜等を形成することにより、その後に作製する転写用磁気ディスクの磁気特性が向上するからである。
Ni原盤53を構成する材料としては、Ni及びNi合金が主に用いられる。このNi原盤53を形成する方法としては、先に説明した無電解メッキ等によるメッキ法の他、スパッタリングやイオンプレーティングといった真空成膜法によっても作製することが可能である。また、上記真空成膜を行った後、電解メッキ等を行うことによっても作製可能である。尚、基板50上に塗布されるレジストはポジ型、ネガ型のどちらでも使用可能であるが、ポジ型とネガ型では、露光パターンが反転することに注意する必要がある。
次に、図3(c)に示すように、剥離したNi原盤53をプレス原盤として、射出成型等により樹脂基板67を作製する。樹脂基板67の樹脂材料としては、ポリカーボネート、ポリメチルメタクリレートなどのアクリル樹脂、ポリ塩化ビニル、塩化ビニル共重合体などの塩化ビニル樹脂、エポキシ樹脂、アモルファスポリオレフィン及びポリエステルなどが挙げられる。これらの樹脂材料の中では、耐湿性、寸法安定性及び価格などの点から、現在のところポリカーボネートが好ましい。
射出成型により樹脂基板67を形成した場合、成型品である樹脂基板67にバリ等が生じる場合があるが、このようなバリ等はバーニシュ又は研磨加工により除去する。
また、射出成型以外の方法により樹脂基板67を形成する方法として、紫外線硬化樹脂、電子線硬化樹脂などを使用する方法もある。この場合、プレス原盤に紫外線硬化樹脂、電子線硬化樹脂をスピンコート、バーコート等の手法により塗布した後、紫外線或いは電子線を照射することにより硬化させた後、プレス原盤より剥離することにより樹脂基板67が形成される。
以上の工程により、図3(d)に示すように、高さが、30〜150〔nm〕の突起状パターンが形成された樹脂基板67が形成される。
樹脂基板67を製造するためのNi原盤53の製造方法については、これ以外の方法であってもよい。上記以外の方法の一例を図4に基づき説明する。
表面が平滑な略円形のSi基板70上に、フォトレジストをスピンコーター等により塗布し、プリベーク後に、このSi基板70を回転させながら、記録する信号に対して変調したレーザ光(或いは電子ビーム)をフォトレジストに照射し、フォトレジストの略全面について所定のパターンを露光する。その後、露光したSi基板70を現像液に浸漬させ、フォトレジストの露光された部分を除去することにより、図4(a)に示すように、Si基板70上の所定の領域にフォトレジスト層71が形成されたものが作製される。フォトレジスト層71は、後述するように、サーボマーク信号を含むサーボフレームと、サーボ信号に関する情報を含まないダミーフレームが所定の領域に設けられる。
次に、図4(b)に示すように、Si基板70のフォトレジスト層71が形成された面について、RIE(Reactive Ion Etching)等によるドライエッチングを行う。具体的には、フォトレジスト層71が形成されたSi基板70をRIE装置の減圧チャンバー内に設置した後、RIE装置の減圧チャンバーを減圧した後、減圧チャンバー内に塩素(Cl2)ガスを導入し、RF電力を印加しプラズマを発生させることにより行った。RIEでは、フォトレジスト層71に対しSi基板70が選択的にエッチングされるため、Si基板70のフォトレジスト層71の形成されていない領域のみエッチングがなされる。
この後、Si基板70上のフォトレジスト層71を有機溶剤等により除去することにより、表面に凹凸パターンの形成されたSi基板70が作製される。この後、図4(c)に示すように、Si基板70の凹凸パターンの形成された面にスパッタリングにより金属材料等からなる導電膜を成膜し、更に、Ni電鋳を行うことにより、Ni原盤53を形成する。この後、図4(d)に示すように、Si基板70から剥離することによりNi原盤53が作製される。ここで作製されるNi原盤53は、図3(b)において作製されるNi原盤53と同様のものであり、図3(c)に示す方法と同様の方法により、射出成型により樹脂基板67の作製をすることができるものである。
次に、このように形成された樹脂基板67について、図5(a)に示すように、形成された樹脂基板67の突起状パターンの形成されている面にスピンコーター等によりフォトレジスト69を塗布し、フォトレジスト69を硬化させる。具体的には、フォトレジスト69がネガレジストである場合には、紫外線等を照射して重合させる。一方、ポジレジストである場合には、ベーキング処理を行って重合させる。フォトレジスト69はスピンコーター等では均一に広がるため、樹脂基板67の表面の突起状パターンである凸部では薄く、それ以外の凹部では厚く形成される。
この後、図5(b)に示すように、酸素ガスを導入したアッシングを行うことにより、フォトレジスト69の表面の一部を除去する。具体的には、樹脂基板67の突起状パターンの表面が露出したところで、アッシングを停止する。アッシングでは、厚さ方向に均等にレジスト69が除去されるが、樹脂基板67の突起状パターンの凸部の表面が露出しても、凹部ではレジスト69が厚く形成されているため、この領域のレジスト69は残存している。
この後、図5(c)に示すように、軟磁性体からなる磁性膜55をメッキあるいは真空蒸着等による成膜をおこなう。磁性膜55を構成する材料は、保磁力Hcが48kA/m(≒600Oe)以下の軟磁性材料により構成されていることが好ましい。具体的には、Co、Co合金(CoNi、CoNiZr、CoNbTaZr等)、Fe、Fe合金(FeCo、FeCoNi、FeNiMo、FeAlSi、FeAl、FeTaN)、Ni、Ni合金(NiFe)等が挙げられる。特に好ましいのは、磁気特性からFeCo、FeCoNiである。又、磁性膜55の厚さは、40〜320〔nm〕の範囲が好ましく、特に、100〜300〔nm〕の範囲が更に好ましい。磁性膜55は、上記材料のターゲットを用いスパッタリングや無電解メッキ等により形成される。
尚、本実施の形態で作製されたマスターディスク66に形成される磁性層68は、Niからなるものであり、内径12〔mm〕、外形32.5〔mm〕の範囲において、厚さが、150〜300〔μm〕となるように形成されている。
この後、リフトオフによりレジスト69上に形成されている磁性膜の除去をおこなう。具体的には、磁性膜55が成膜された基板67を有機溶剤等に浸漬させることにより、図5(d)に示すように、レジスト69の上に形成された磁性膜55が、レジスト69とともに除去される。
以上のプロセスにより、図6に示すように、樹脂基板67と磁性層68からなるマスターディスク66の表面には、突起状パターンであるサーボフレーム56と、ダミーフレーム57が形成される。サーボフレーム56とダミーフレーム57間のトラック方向(周方向)の間隔SF1と、ダミーフレーム間のトラック方向(周方向)の間隔SF2は、ともに、0.8〔mm〕以下で形成される。また、形成されるダミーフレーム57のトラック方向の幅DMは、サーボフレーム56のトラック方向の幅SMの半分以下である。本実施の形態では、サーボフレーム56のトラック方向の幅SMは70〔μm〕であり、ダミーフレーム57のトラック方向の幅DMは35〔μm〕である。このように、各トラックに回転中心から半径方向に線状に延びるサーボフレーム56並びにダミーフレーム57の突起状のパターンが形成されたマスターディスク66が出来上がる。尚、ダミーフレーム57は、マスターディスク66と転写用磁気ディスク60との剥離性の向上、マスターディスク66の変形防止のために設けられるものである。従って、磁気転写された転写用磁気ディスク60のサーボフレーム56と混同を生じないよう、即ち、磁気転写された転写用磁気ディスク60の再生を行った際、ダミーフレーム57の再生時の出力がサーボ信号のサーボフレーム56の再生信号よりも、充分低い値となるように形成されている。本実施の形態では、ダミーフレーム57からの再生信号出力が、サーボフレーム56からの再生信号出力の30〔%〕以下であり、この値であれば充分磁気ヘッドのサーボが可能である。
形成されるマスターディスク66には、サーボセクタ数は150であり、マスターディスク66において、サーボフレーム56が形成される範囲は、半径12.5〜32.0〔mm〕の領域であり、ダミーフレーム57が形成される範囲は、半径12〜32.5〔mm〕の領域である。
又、磁性層68の上にダイヤモンドライクカーボン等の保護膜や、更に、保護膜上に潤滑剤層を設けてもよい。後述するように、マスターディスク66は、転写用磁気ディスク60と密着させるが、密着させた際に磁性層68が傷つきやすく、マスターディスク66として使用できなくなってしまうことを防止するためである。また、潤滑剤層は、転写用磁気ディスク60との接触の際に生じる摩擦による傷の発生などを防止し、耐久性を向上させる効果がある。
具体的に、保護膜として、厚さが5〜30〔nm〕のダイヤモンドライクカーボン膜を形成し、更にその上に潤滑剤層を形成した構成が好ましい。また、磁性層68と、保護膜との密着性を強化するため、磁性層68上にSi等の密着強化層を形成し、その後に保護膜を形成してもよい。
〔密着工程〕
次に、図1(b)に示すように密着工程において、上記工程により作製したマスターディスク66の突起状パターンの形成されている面と、転写用磁気ディスク60の磁性層60Mの形成されている面とを所定の押圧力で密着させる。本実施の形態では、押圧力は、7〜9〔kg/cm2〕で密着させる。
次に、図1(b)に示すように密着工程において、上記工程により作製したマスターディスク66の突起状パターンの形成されている面と、転写用磁気ディスク60の磁性層60Mの形成されている面とを所定の押圧力で密着させる。本実施の形態では、押圧力は、7〜9〔kg/cm2〕で密着させる。
本実施の形態では、マスターディスク66のサーボフレーム56間にダミーフレーム57を設けているため、マスターディスク66であるマスター記録媒体の凹部における変形といった問題や、マスター記録媒体の情報の記録されていない領域で、潤滑剤を介し磁気記録媒体と接触してしまうため、磁気転写を行った後に、マスター記録媒体を磁気記録媒体から剥離する際の剥離性が悪くなるといった問題は発生しない。即ち、マスター記録媒体が変形した場合、マスター記録媒体の寿命を縮めると共に、変形の繰り返しにより、マスター記録媒体に形成されている凹凸の位置が微妙に変化し、所望の磁気転写が磁気記録媒体に行われないといった問題や、剥離性が悪くなり、剥離の際に磁気記録媒体の磁性層を破損するといった問題や、剥離のために長時間要し、生産性の低下といった問題、更には、これらに起因して、製造された磁気記録媒体や磁気記録再生装置の故障率や不良率が上昇するといった問題が生じやすくなるが、これらの問題が解消されるのである。
転写用磁気ディスク60には、マスターディスク66に密着させる前に、グライドヘッド、研磨体等により、表面の微少突起又は付着塵埃を除去するクリーニング処理(バーニッシング等)が必要に応じて施される。
尚、密着工程では、図1(b)に示すように、転写用磁気ディスク60の片面にマスターディスク66を密着させる場合と、両面に磁性層が形成された転写用磁気ディスク60について、両面からマスターディスク66を密着させる場合とがある。後者の場合では、両面を同時転写することができる利点がある。
〔磁気転写工程〕
次に、図1(c)に基づき磁気転写工程を説明する。
次に、図1(c)に基づき磁気転写工程を説明する。
上記密着工程により転写用磁気ディスク60とマスターディスク66とを密着させたものについて、不図示の磁界印加手段により初期化磁界Hiの向きと反対方向に記録用磁界Hdを発生させる。記録用磁界Hdを発生させることにより生じた磁束が転写用磁気ディスク60とマスターディスク66に進入することにより磁気転写が行われる。
本実施の形態では、記録用磁界Hdの大きさは、転写用磁気ディスク60の磁性層60Mを構成する磁性材料のHcと略同じ値である。
磁気転写は、転写用磁気ディスク60及びマスターディスク66を密着させたものを回転させつつ、磁界印加手段によって記録用磁界Hdを印加し、マスターディスク66に記録されている突起状のパターンからなる情報を転写用磁気ディスク60の磁性層60Mに磁気転写する。尚、この構成以外にも、磁界印加手段を回転させる機構を設け、転写用磁気ディスク60及びマスターディスク66に対し、相対的に回転させる手法であってもよい。
磁気転写工程における、転写用磁気ディスク60とマスターディスク66の断面の様子を図2(b)に示す。
図2(b)に示すように、基板67表面に突起状のパターンが形成され、その上に磁性層68が形成されたマスターディスク66と転写用磁気ディスク60とが密着した状態においては、マスターディスク66の凸領域では、マスターディスク66の磁性層68と転写用磁気ディスク60の磁性層60Mとが接触している。
このため、記録用磁界Hdを印加すると、磁束はマスターディスク66の凸領域、即ち、マスターディスク66の磁性層68と転写用磁気ディスク60の磁性層60Mと接触している領域では、記録用磁界Hdにより、マスターディスク66の磁性層68の磁化向きが記録用磁界Hdの方向に揃い、転写用磁気ディスク60の磁性層60Mに磁気情報が転写される。一方、マスターディスク66の凹領域、即ち、マスターディスク66の磁性層68が形成されていない領域では、マスターディスク66の磁性層68が存在しないため、記録用磁界Hdの印加によって、転写用磁気ディスク60の磁性層60Mの磁化向きが変わることはなく、初期磁化の状態を保ったままである。
この後、転写用磁気ディスク60をマスターディスク66から取り外す。これにより、図2(c)に示すように、転写用磁気ディスク60の磁性層60Mには、サーボ信号等の磁気パターンの情報が、初期磁化Piの反対向きの磁化となる記録磁化Pdとして記録される。尚、転写用磁気ディスク60の磁性層60Mは垂直磁化膜であることから、初期磁化Piと記録磁化Pdは境界には磁壁Dが形成される。
又、マスターディスク66の基板67に形成された突起状のパターンは、図6に示すポジパターンと反対のネガパターンであってもよい。この場合、初期化磁界Hiの方向及び記録用磁界Hdの方向を各々逆方向にすることにより、転写用磁気ディスク60の磁性層60Mに、同様の磁化パターンを磁気転写することができるからである。
尚、本実施の形態では、磁界印加手段は、電磁石の場合について説明したが、同様に磁界が発生する永久磁石を用いても良い。
〔第2の実施の形態〕
第2の実施の形態は、面内磁気転写を行う方法に関するものである。従って、転写用磁気ディスク40の磁性層40Mは、第1の実施の形態と異なり、面内磁性膜により構成されている。最初に転写用磁気ディスク40の初期磁化を行う。
第2の実施の形態は、面内磁気転写を行う方法に関するものである。従って、転写用磁気ディスク40の磁性層40Mは、第1の実施の形態と異なり、面内磁性膜により構成されている。最初に転写用磁気ディスク40の初期磁化を行う。
図7(a)に示すように、転写用磁気ディスク40の初期磁化(直流磁化)は、磁界印加手段30により行う。磁界印加手段30は、不図示の電磁石により矢印の方向に初期化磁界Hiを発生させることができるものであり、コア32による転写用磁気ディスク40の半径方向に延びるギャップ31を有している。このギャップ31より漏れる初期化磁界Hiにより、図8(a)に示すように、転写用磁気ディスク40の磁性層40Mをトラック方向(円周方向)の一方向に初期磁化を行う。具体的には、この初期磁化は、転写用磁気ディスク40の保磁力Hc以上の強度の磁界をギャップ31に発生させ、転写用磁気ディスク40を回転させることにより、転写用磁気ディスク40の全トラックの初期磁化を行う。図9に初期化磁界Hiの印加方法を示す。初期化磁界Hiは転写用磁気ディスク40のトラック40Aとほぼ平行に矢印の方向に印加する。尚、初期磁化は、転写用磁気ディスク40を回転させるのではなく、磁界印加手段30を転写用磁気ディスク40に対し相対的に回転させることにより行ってもよい。
次に、マスター記録媒体であるマスターディスクについて説明する。
マスターディスク46の形成方法は、フォトファブリケーション法や、フォトファブリケーション法により作製した原盤を用いたスタンパー法等により作製する。
以下、図10に基づき、スタンパー法によりマスターディスク46の製造方法について説明する。スタンパー法では、プレス原盤を用いるため、最初に、プレス原盤の作製工程について説明する。図10(a)に示すように、表面が平滑なガラスや石英ガラスからなる円形の基板50上に、フォトレジスト層をスピンコーター等により塗布し、プリベーク後に、この円形の基板50を回転させながら、記録する信号に対応して変調したレーザ光(或いは電子ビーム)をフォトレジスト層に照射し、フォトレジスト層の略全面に所定のパターンを露光する。その後、露光した基板50を現像液に浸漬することにより、フォトレジスト層の露光された部分が除去され、基板50上の所定の領域にフォトレジスト層51が形成されたガラス原盤52が作製される。フォトレジスト層51は、後述するように、サーボマーク信号を含むサーボフレームと、サーボ信号に関する情報を含まないダミーフレームが所定の領域に形成されるように形成される。
次に、図10(b)に示すように、ガラス原盤52上のフォトレジスト層51が形成されている面の表面に、Niメッキ(電鋳)を行うことにより、表面にポジ状の凹凸パターンを有するNi原盤53を所定の厚さまで形成する。この後、このNi原盤53をガラス原盤52から剥離する。
このNi原盤53をスタンパー用のプレス原盤(金型)として用いることも可能であるが、必要に応じてこのNi原盤53に凹凸バターン上に軟磁性層、保護膜等を被覆してスタンパー用のプレス原盤(金型)とする。このように軟磁性層、保護膜等を形成することにより、その後に作製する転写用磁気ディスクの磁気特性が向上するからである。
尚、現像後所定の領域にフォトレジスト層の形成されたガラス原盤の表面にメッキを施して、第2の原盤を作製し、第2の原盤の表面に更にNiメッキを施して、ネガ状の凹凸を有するNi原盤を作製してもよい。更に、第2の原盤の表面にメッキを施すか、低粘度の樹脂を押し付けて硬化させることにより第3の原盤を作製し、第3の原盤の表面にNiメッキを施すことにより、ポジ状の凹凸を有するNi原盤を作製してもよい。
Ni原盤53を構成する材料としては、Ni及びNi合金が主に用いられる。このNi原盤53を形成する方法としては、先に説明した無電解メッキ等によるメッキ法の他、スパッタリングやイオンプレーティングといった真空成膜法によっても作製することが可能である。また、上記真空成膜を行った後、電解メッキ等を行うことによっても作製可能である。尚、基板50上に塗布されるレジストはポジ型、ネガ型のどちらでも使用可能であるが、ポジ型とネガ型では、露光パターンが反転することに注意する必要がある。
次に、図10(c)に示すように、剥離したNi原盤53をプレス原盤として、射出成型等により樹脂基板47を作製する。樹脂基板47の樹脂材料としては、ポリカーボネート、ポリメチルメタクリレートなどのアクリル樹脂、ポリ塩化ビニル、塩化ビニル共重合体などの塩化ビニル樹脂、エポキシ樹脂、アモルファスポリオレフィン及びポリエステルなどが挙げられる。これらの樹脂材料の中では、耐湿性、寸法安定性及び価格などの点から、現在のところポリカーボネートが好ましい。
射出成型により樹脂基板47を形成した場合、成型品である樹脂基板47にバリ等が生じる場合があるが、このようなバリ等はバーニシュ又は研磨加工により除去する。
また、射出成型以外の方法により樹脂基板47を形成する方法として、紫外線硬化樹脂、電子線硬化樹脂などを使用する方法もある。この場合、プレス原盤に紫外線硬化樹脂、電子線硬化樹脂をスピンコート、バーコート等の手法により塗布した後、紫外線或いは電子線を照射することにより硬化させた後、プレス原盤より剥離することにより樹脂基板47が形成される。
以上の工程により、本実施の形態では、樹脂基板47の表面には、高さ(深さ)が、30〜150〔nm〕の突起状パターンが形成される。
この後、図10(d)に示すように、樹脂基板47の突起状パターンの形成されている面に軟磁性体からなる磁性層48の成膜をおこなう。これによりマスターディスク46が作製される。磁性層48を構成する材料は、保磁力Hcが48〔kA/m〕(≒600〔Oe〕)以下の軟磁性材料により構成されていることが好ましい。具体的には、Co、Co合金(CoNi、CoNiZr、CoNbTaZr等)、Fe、Fe合金(FeCo、FeCoNi、FeNiMo、FeAlSi、FeAl、FeTaN)、Ni、Ni合金(NiFe)等が挙げられる。特に好ましいのは、磁気特性からFeCo、FeCoNiである。又、磁性層48の厚さは、40〜320〔nm〕の範囲が好ましく、特に、100〜300〔nm〕の範囲が更に好ましい。磁性層48は、上記材料のターゲットを用いスパッタリングや無電解メッキ等により形成される。
尚、本実施の形態で作製されたマスターディスク46に形成される磁性層48は、Niからなるものであり、内径12〔mm〕、外形32.5〔mm〕の範囲において、厚さが、150〜300〔μm〕となるよう形成される。
以上のプロセスにより、図11に示すように、樹脂基板47と磁性層48からなるマスターディスク46の表面には、突起状パターンであるサーボフレーム56と、ダミーフレーム57が形成される。サーボフレーム56とダミーフレーム57間のトラック方向(周方向)の間隔SF1と、ダミーフレーム間のトラック方向(周方向)の間隔SF2は、ともに、0.8〔mm〕以下で形成される。また、形成されるダミーフレーム57のトラック方向の幅DMは、サーボフレーム56のトラック方向の幅SMの半分以下である。本実施の形態では、サーボフレーム56のトラック方向の幅SMは70〔μm〕であり、ダミーフレーム57のトラック方向の幅DMは35〔μm〕である。このように、各トラックに回転中心から半径方向に線状に延びるサーボフレーム56並びにダミーフレーム57の突起状のパターンが形成されたマスターディスク46が出来上がる。尚、ダミーフレーム57は、マスターディスク46と転写用磁気ディスク40との剥離性の向上、マスターディスク46の変形防止のために設けられるものである。従って、磁気転写された転写用磁気ディスク40のサーボフレーム56と混同を生じないよう、即ち、磁気転写された転写用磁気ディスク40の再生を行った際、ダミーフレーム57の再生時の出力がサーボ信号のサーボフレーム56の再生信号よりも、充分低い値となるように形成されている。本実施の形態では、ダミーフレーム57からの再生信号出力が、サーボフレーム56からの再生信号出力の30%以下であり、この値であれば充分磁気ヘッドのサーボが可能である。形成されるマスターディスク46には、サーボセクタ数は150であり、マスターディスク46において、サーボフレーム56が形成される範囲は、半径12.5〜32.0〔mm〕の領域であり、ダミーフレーム57が形成される範囲は、半径12〜32.5〔mm〕の領域である。
又、磁性層48の上にダイヤモンドライクカーボン等の保護膜や、更に、保護膜上に潤滑剤層を設けてもよい。後述するように、マスターディスク46は、転写用磁気ディスク40と密着させるが、密着させた際に磁性層48が傷つきやすく、マスターディスク46として使用できなくなってしまうことを防止するためである。また、潤滑剤層は、転写用磁気ディスク40との接触の際に生じる摩擦による傷の発生などを防止し、耐久性を向上させる効果がある。
具体的に、保護膜として、厚さが5〜30〔nm〕のダイヤモンドライクカーボン膜を形成し、更にその上に潤滑剤層を形成した構成が好ましい。また、磁性層48と、保護膜との密着性を強化するため、磁性層48上にSi等の密着強化層を形成し、その後に保護膜を形成してもよい。
次に、図7(b)に示すように密着工程において、上記工程により作製したマスターディスク46の突起状パターンの形成されている面と、転写用磁気ディスク40の磁性層40Mの形成されている面とを所定の押圧力で密着させる。本実施の形態では、押圧力は、7〜9〔kg/cm2〕で密着させる。
転写用磁気ディスク40には、マスターディスク46に密着させる前に、グライドヘッド、研磨体等により、表面の微少突起又は付着塵埃を除去するクリーニング処理(バーニッシング等)が必要に応じて施される。
尚、密着工程では、図7(b)に示すように、転写用磁気ディスク40の片面にマスターディスク46を密着させる場合と、両面に磁性層が形成された転写用磁気ディスク40について、両面からマスターディスク46を密着させる場合とがある。後者の場合では、両面を同時転写することができる利点がある。
次に、図7(c)に基づき磁気転写工程を説明する。
上記密着工程により転写用磁気ディスク40とマスターディスク46とを密着させたものについて、磁界印加手段30により初期磁化の向きと反対方向に磁界を発生させる。磁界を発生させることにより生じた磁束はコア32内において矢印の向きに生じ、ギャップ31より漏れた記録用磁界Hdの磁束が転写用磁気ディスク40とマスターディスク46に進入することにより磁気転写が行われる。本実施の形態では、記録用磁界Hdの大きさは、転写用磁気ディスク40の磁性層40Mを構成する磁性材料のHcと、ほぼ同じ値である。
図12は、磁気転写に用いられる磁気転写装置について、更に詳細に示したものである。磁気転写装置10は、コア32にコイル33が巻きつけられた電磁石34からなる磁界印加手段30を有するものであり、このコイル33に電流を流すことによりギャップ31に磁界が発生する構造になっている。発生する磁界の向きは、コイル33に流す電流の向きによって変えることができる。従って、磁気転写を行う場合には、磁界印加手段30のコイル33に、初期磁化したときにコイル33に流した電流の向きと逆向きの電流を流す。尚、図7では、磁界印加手段30は、密着させた転写用磁気ディスク40とマスターディスク46を介し上下に設けられており、上下に設けられた磁界印加手段30により、ギャップ31に同じ方向に磁界を発生させることができる構成のものである。
磁気転写は、転写用磁気ディスク40及びマスターディスク46を密着させたものを回転させつつ、磁界印加手段30によって記録用磁界を印加し、マスターディスク46に記録されている突起状のパターンからなる情報を転写用磁気ディスク40の磁性層40Mに磁気転写する。尚、この構成以外にも、磁界印加手段30を回転させる機構を設け、転写用磁気ディスク40及びマスターディスク46に対し、相対的に回転させる手法であってもよい。
磁気転写工程における、転写用磁気ディスク40とマスターディスク46の断面の様子を図8(b)に示す。
図8(b)に示すように、基板47表面に突起状のパターンが形成され、その上に磁性層48が形成されたマスターディスク46と転写用磁気ディスク40とが密着した状態においては、マスターディスク46の凸領域では、マスターディスク46の磁性層48と転写用磁気ディスク40の磁性層40Mとが接触している。
このため、記録用磁界Hdを印加すると、磁束は、マスターディスク46の凸領域、即ち、マスターディスク46の磁性層48と転写用磁気ディスク40の磁性層40Mと接触している領域では、磁束はマスターディスク46の磁性層48を貫くこととなる。これは、マスターディスク46に形成された磁性層48が軟磁性材料に形成されているためである。一方、マスターディスク46の凹領域、即ち、マスターディスク46の磁性層48と転写用磁気ディスク40の磁性層40Mが接触していない領域では、磁束は、マスターディスク46の磁性層48、及び転写用磁気ディスク40の磁性層40Mを貫くこととなる。
従って、記録用磁界Hdを印加することにより生じた磁束は、マスターディスク46の凹領域に対応する転写用磁気ディスク40の磁性層40Mに進入し、この領域の磁化向きを記録用磁界Hdと同一の磁化向きに反転させる。一方、マスターディスク46の凸領域では、磁束は転写用磁気ディスク40の磁性層40Mへは殆ど進入しないため、この領域において磁化向きは反転することなく、初期磁化された向きを保っている。
これにより、転写用磁気ディスク40の磁性層40Mに、マスターディスク46に設けられた突起状のパターンによる情報が、面内の磁気パターンとして記録される。
更に、この様子を立体的に示したものが図13である。図に示すように記録用磁界Hd(太矢印)を印加することにより、マスターディスク46の凸領域に接している転写用磁気ディスク40の磁性層40Mのみ記録用磁界Hdにより磁化反転し、マスターディスク46の凹領域の磁性層40Mは、反転されることなく初期磁化された状態を保ったままとなる。
この後、転写用磁気ディスク40をマスターディスク46から取り外す。これにより、図8(c)に示すように、転写用磁気ディスク40の磁性層40Mには、サーボ信号等の磁気パターンが情報として記録される。
尚、マスターディスク46の基板47に形成された突起状のパターンは、本実施の形態と逆のパターンであってもよい。この場合、初期化磁界Hiの方向及び記録用磁界Hdの方向を各々逆方向にすることにより、転写用磁気ディスク40の磁性層40Mに、同様の磁化パターンを磁気転写することができるからである。
尚、本実施の形態では、磁界印加手段30は、電磁石の場合について説明したが、同様に磁界が発生する永久磁石を用いても良い。
以下、本発明の第1の形態における実施例について表1に基づき説明する。
尚、磁気転写された再生信号の測定は、電磁変換特性測定装置(協同電子社製LS−90)により行った。この際、磁気ヘッドには、再生ヘッドギャップが0.06〔μm〕、再生トラック幅が0.14〔μm〕、記録ヘッドギャップが0.4〔μm〕、記録トラック幅が2.4μmであるMRヘッドを使用した。読み込んだ信号をスペクトロアナライザーで周波数分解し、1次信号のピーク強度を測定した。又、ダミーフレーム57有とは、サーボフレーム56間に、3本のダミーフレーム57を設けた構成のものである。従って、ダミーフレームを有しないサーボフレーム56のみからなるマスターディスク66では、半径方向に依存して、サーボフレーム56間の間隔は、0.6〜1.5〔mm〕まで変化するのに対し、ダミーフレーム57を有しているマスターディスク66では、半径方向に依存して、ダミーフレーム57間の間隔、及び、ダミーフレーム57とサーボフレーム56の間隔は、約0.15〜0.375〔mm〕まで変化する。
実施例1では、マスターディスク66上に、サーボフレーム56の他、ダミーフレーム57を有しており、マスターディスク66の磁性層68の厚さが、150〔μm〕、突起状のパターンの高さが、100〔nm〕であり、このマスターディスク66と転写用磁気ディスク60とを7〔kg/cm2〕の圧力で密着させ磁気転写を行った場合である。
この結果、マスターディスク66と転写用磁気ディスク60との剥離性は良好であり、転写用磁気ディスク60の全面において、サーボ領域におけるサーボ信号出力に対し、サーボ領域以外における平均信号出力が30〔%〕以下であった。
実施例2では、マスターディスク66上に、サーボフレーム56の他、ダミーフレーム57を有しており、マスターディスク66の磁性層68の厚さが、150〔μm〕、突起状のパターンの高さが、100〔nm〕であり、このマスターディスク66と転写用磁気ディスク60とを8〔kg/cm2〕の圧力で密着させ磁気転写を行った場合である。
この結果、マスターディスク66と転写用磁気ディスク60との剥離性は良好であり、転写用磁気ディスク60の全面において、サーボ領域におけるサーボ信号出力に対し、サーボ領域以外における平均信号出力が30〔%〕以下であった。
実施例3では、マスターディスク66上に、サーボフレーム56の他、ダミーフレーム57を有しており、マスターディスク66の磁性層68の厚さが、150〔μm〕、突起状のパターンの高さが、100〔nm〕であり、このマスターディスク66と転写用磁気ディスク60とを9〔kg/cm2〕の圧力で密着させ磁気転写を行った場合である。
この結果、マスターディスク66と転写用磁気ディスク60との剥離性は良好であり、転写用磁気ディスク60の全面において、サーボ領域におけるサーボ信号出力に対し、サーボ領域以外における平均信号出力が30〔%〕以下であった。
実施例4では、マスターディスク66上に、サーボフレーム56の他、ダミーフレーム57を有しており、マスターディスク66の磁性層68の厚さが、150〔μm〕、突起状のパターンの高さが、70〔nm〕であり、このマスターディスク66と転写用磁気ディスク60とを8〔kg/cm2〕の圧力で密着させ磁気転写を行った場合である。
この結果、マスターディスク66と転写用磁気ディスク60との剥離性は良好であり、転写用磁気ディスク60の全面において、サーボ領域におけるサーボ信号出力に対し、サーボ領域以外における平均信号出力が30〔%〕以下であった。
実施例5では、マスターディスク66上に、サーボフレーム56の他、ダミーフレーム57を有しており、マスターディスク66の磁性層68の厚さが、150〔μm〕、突起状のパターンの高さが、30〔nm〕であり、このマスターディスク66と転写用磁気ディスク60とを8〔kg/cm2〕の圧力で密着させ磁気転写を行った場合である。
この結果、マスターディスク66と転写用磁気ディスク60との剥離性は良好であり、転写用磁気ディスク60の全面において、サーボ領域におけるサーボ信号出力に対し、サーボ領域以外における平均信号出力が30〔%〕以下であった。
実施例6では、マスターディスク66上に、サーボフレーム56の他、ダミーフレーム57を有しており、マスターディスク66の磁性層68の厚さが、200〔μm〕、突起状のパターンの高さが、100〔nm〕であり、このマスターディスク66と転写用磁気ディスク60とを8〔kg/cm2〕の圧力で密着させ磁気転写を行った場合である。
この結果、マスターディスク66と転写用磁気ディスク60との剥離性は良好であり、転写用磁気ディスク60の全面において、サーボ領域におけるサーボ信号出力に対し、サーボ領域以外における平均信号出力が30〔%〕以下であった。
実施例7では、マスターディスク66上に、サーボフレーム56の他、ダミーフレーム57を有しており、マスターディスク66の磁性層68の厚さが、300〔μm〕、突起状のパターンの高さが、100〔nm〕であり、このマスターディスク66と転写用磁気ディスク60とを8〔kg/cm2〕の圧力で密着させ磁気転写を行った場合である。
この結果、マスターディスク66と転写用磁気ディスク60との剥離性は良好であり、転写用磁気ディスク60の全面において、サーボ領域におけるサーボ信号出力に対し、サーボ領域以外における平均信号出力が30〔%〕以下であった。
比較例1では、マスターディスク66上に、サーボフレーム56のみ有しており、マスターディスク66の磁性層68の厚さが、150〔μm〕、突起状のパターンの高さが、100〔nm〕であり、このマスターディスク66と転写用磁気ディスク60とを7〔kg/cm2〕の圧力で密着させ磁気転写を行った場合である。
この結果、マスターディスク66と転写用磁気ディスク60との剥離性は悪く、転写用磁気ディスク60の半径22.5〔mm〕以下の領域においてのみ、サーボ領域におけるサーボ信号出力に対し、サーボ領域以外における平均信号出力が30〔%〕以下であった。
比較例2では、マスターディスク66上に、サーボフレーム56のみ有しており、マスターディスク66の磁性層68の厚さが、150〔μm〕、突起状のパターンの高さが、100〔nm〕であり、このマスターディスク66と転写用磁気ディスク60とを8〔kg/cm2〕の圧力で密着させ磁気転写を行った場合である。
この結果、マスターディスク66と転写用磁気ディスク60との剥離性は悪く、転写用磁気ディスク60の半径20.5〔mm〕以下の領域においてのみ、サーボ領域におけるサーボ信号出力に対し、サーボ領域以外における平均信号出力が30〔%〕以下であった。
比較例3では、マスターディスク66上に、サーボフレーム56のみ有しており、マスターディスク66の磁性層68の厚さが、150〔μm〕、突起状のパターンの高さが、100〔nm〕であり、このマスターディスク66と転写用磁気ディスク60とを9〔kg/cm2〕の圧力で密着させ磁気転写を行った場合である。
この結果、マスターディスク66と転写用磁気ディスク60との剥離性は悪く、転写用磁気ディスク60の半径18.5〔mm〕以下の領域においてのみ、サーボ領域におけるサーボ信号出力に対し、サーボ領域以外における平均信号出力が30〔%〕以下であった。
比較例4では、マスターディスク66上に、サーボフレーム56のみ有しており、マスターディスク66の磁性層68の厚さが、300〔μm〕、突起状のパターンの高さが、100〔nm〕であり、このマスターディスク66と転写用磁気ディスク60とを7〔kg/cm2〕の圧力で密着させ磁気転写を行った場合である。
この結果、マスターディスク66と転写用磁気ディスク60との剥離性は、ダミーフレームを設けたものよりも劣っており、転写用磁気ディスク60の半径28.5〔mm〕以下の領域においてのみ、サーボ領域におけるサーボ信号出力に対し、サーボ領域以外における平均信号出力が30〔%〕以下であった。
以上より、本発明に係るマスターディスク66を用いた実施例1から7においては、良好な剥離性が示されると共に、転写用磁気ディスク60の全面において、サーボ領域におけるサーボ信号出力に対し、サーボ領域以外における平均信号出力が30〔%〕以下であった。これに対し、従来からあるマスターディスクを用いた比較例1から4においては、剥離性は、悪いか、実施例1から7よりも劣るものであり、転写用磁気ディスク60の一部においてのみ、サーボ領域におけるサーボ信号出力に対し、サーボ領域以外における平均信号出力が30〔%〕以下であった。
このように、本発明に係るマスターディスク66を用い、このマスターディスク66を用いた磁気転写方法により磁気転写された転写用磁気ディスク60では、上記のような効果があることが確認された。
次に、フレーム間隔の依存性について説明する。
また、図14は、上記比較例3の条件により形成した転写用磁気ディスク60において、サーボフレーム間の長さと、データ領域(サーボ信号領域以外の領域)の出力平均と、この領域におけるある値以上の信号出力の発生頻度の関係を示す。尚、図中の点線は、サーボ信号振幅の値の30〔%〕となる値を示す。ここで、ある値以上の信号出力の発生頻度とは、データ領域(サーボ領域以外の領域)における信号出力の平均値が、サーボ信号振幅の30〔%〕を超える値の信号出力の発生頻度を意味する。これより、サーボフレーム間の間隔が、0.8〔mm〕以下であれば、発生頻度は0であり、データ領域も安定していることが解る。これより、サーボフレーム間の間隔、或いは、サーボフレームとサーボフレームに代わるものの間隔が、0.8〔mm〕以下であれば、同様の効果を得ることができるものと考えられる。このことより、サーボフレームに代わるものとして、ダミーフレームを形成し、サーボフレームとダミーフレームの間隔、ダミーフレーム間の間隔が、0.8〔mm〕以下であれば、上記発生頻度を低減させることが可能である。
従って、実施例1から7、比較例1から3にも示されるように、良好な剥離性で、サーボ信号に悪影響を与えないためには、サーボフレームとダミーフレームとの間隔、及びダミーフレーム間の間隔が、0.8〔mm〕以下であることが必要となる。
このように作製された転写用磁気ディスク60をハードディスク等の磁気ディスクドライブに組み込むことにより、トラッキング精度の高いハードディスクを得ることができる。
以上、本発明に係る磁気転写に用いられるマスター記録媒体、磁気転写方法、磁気記録媒体並びに磁気記録再生装置について詳細に説明したが、本発明は、以上の例には限定されず、本発明の要旨を逸脱しない範囲において、各種の改良や変形を行うことは可能である。
10…磁気転写装置、30…磁界印加手段、31…ギャップ、32…コア、33…コイル、34…電磁石、40…転写用磁気ディスク(スレーブディスク)、40M…磁性層、46…マスターディスク、47…基板、48…磁性層、56…サーボフレーム、57…ダミーフレーム、60…転写用磁気ディスク(スレーブディスク)、60M…磁性層、66…マスターディスク、67…基板、68…磁性層、SM…サーボフレームのトラック方向幅、DM…ダミーフレームのトラック方向幅、SF1…サーボフレームとダミーフレーム間のトラック方向間隔、SF2…ダミーフレーム間のトラック方向間隔、G…磁束、Hi…初期化磁界、Hd…記録用磁界
Claims (8)
- 磁気記録媒体に情報を転写するための凹凸パターンが表面に形成され、前記凹凸パターンの形成された領域と前記磁気記録媒体を密着させて、磁界を印加することにより前記凹凸パターンにより記録されている情報を前記磁気記録媒体に転写するために用いられるマスター記録媒体において、
前記マスター記録媒体の凸部は、サーボ信号に関する情報が記録されたサーボフレームと、隣接するサーボフレーム間に設けられた1以上のダミーフレームからなるものであり、
前記ダミーフレームは、サーボ信号に関する情報とは異なるパターンにより構成されているものであることを特徴とするマスター記録媒体。 - 前記マスター記録媒体において、前記サーボフレームと前記ダミーフレームとの間隔が、0.8〔mm〕以下であることを特徴とする請求項1に記載のマスター記録媒体。
- 前記ダミーフレームが、前記隣接するサーボフレーム間に2以上設けられており、前記ダミーフレーム間の間隔が、0.8〔mm〕以下であることを特徴とする請求項2に記載のマスター記録媒体。
- 情報を転写するための凹凸パターンが表面に形成されたマスター記録媒体と磁気転写媒体とを密着させる工程と、
密着させた前記マスター記録媒体と前記磁気転写媒体に磁界を印加することにより、前記マスター記録媒体に前記凹凸パターンにより記録されている情報を前記磁気記録媒体に磁気転写する工程からなる磁気転写方法において、
前記マスター記録媒体の凸部は、サーボ信号に関する情報が記録されたサーボフレームと、隣接するサーボフレーム間に設けられた1以上のダミーフレームからなるものであり、
前記ダミーフレームは、サーボ信号に関する情報とは異なるパターンにより構成されていることを特徴とする磁気転写方法。 - 前記マスター記録媒体において、前記サーボフレームと前記ダミーフレームとの間隔が、0.8〔mm〕以下であることを特徴とする請求項4に記載の磁気転写方法。
- 前記ダミーフレームが、前記隣接するサーボフレーム間に2以上設けられており、前記ダミーフレーム間の間隔が、0.8〔mm〕以下であることを特徴とする請求項5に記載の磁気転写方法。
- 請求項4から6のいずれかに記載の磁気転写方法により磁気転写されたことを特徴とする磁気記録媒体。
- 請求項7に記載された磁気記録媒体を備えていることを特徴とする磁気記録再生装置。
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2006148433A JP2007317333A (ja) | 2006-05-29 | 2006-05-29 | マスター記録媒体、磁気転写方法、及びこれにより作製された磁気記録媒体並びに磁気記録再生装置 |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2006148433A JP2007317333A (ja) | 2006-05-29 | 2006-05-29 | マスター記録媒体、磁気転写方法、及びこれにより作製された磁気記録媒体並びに磁気記録再生装置 |
Publications (1)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JP2007317333A true JP2007317333A (ja) | 2007-12-06 |
Family
ID=38851034
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP2006148433A Pending JP2007317333A (ja) | 2006-05-29 | 2006-05-29 | マスター記録媒体、磁気転写方法、及びこれにより作製された磁気記録媒体並びに磁気記録再生装置 |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JP2007317333A (ja) |
Cited By (1)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP2010033649A (ja) * | 2008-07-28 | 2010-02-12 | Toshiba Storage Device Corp | 磁気転写用マスター体およびトラックピッチ変動測定方法 |
-
2006
- 2006-05-29 JP JP2006148433A patent/JP2007317333A/ja active Pending
Cited By (1)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP2010033649A (ja) * | 2008-07-28 | 2010-02-12 | Toshiba Storage Device Corp | 磁気転写用マスター体およびトラックピッチ変動測定方法 |
Similar Documents
Publication | Publication Date | Title |
---|---|---|
JP2008065910A (ja) | マスター記録媒体、磁気転写方法、磁気転写装置、及びこれにより作製された磁気記録媒体、磁気記録再生装置 | |
JP2008257753A (ja) | 磁気転写方法及び磁気記録媒体 | |
US7593175B2 (en) | Magnetic transfer method, magnetic transfer apparatus, magnetic recording medium and magnetic record reproduction system | |
JP2007317333A (ja) | マスター記録媒体、磁気転写方法、及びこれにより作製された磁気記録媒体並びに磁気記録再生装置 | |
JP2009245555A (ja) | 磁気転写用マスター担体の製造方法、磁気転写用マスター担体、磁気転写方法、及び磁気記録媒体 | |
JP2008010028A (ja) | 垂直磁気記録媒体の磁気転写方法、垂直磁気記録媒体及び磁気記録装置 | |
JP2007012143A (ja) | 磁気記録媒体の直流消磁方法、装置、及び磁気転写方法 | |
JP2007242165A (ja) | 垂直磁気転写用マスター媒体、垂直磁気転写方法、垂直磁気記録媒体、及び垂直磁気記録装置 | |
JP2008165884A (ja) | 磁気転写方法、マスター記録媒体、垂直磁気記録媒体及び磁気記録再生装置 | |
JP4089904B2 (ja) | 磁気記録媒体の製造方法 | |
JP4362730B2 (ja) | 磁気転写用マスター記録媒体、磁気記録媒体製造方法 | |
JP2001307324A (ja) | 磁気転写用マスター担体および磁気記録媒体 | |
JP2007299461A (ja) | サーボ信号検査方法、磁気記録媒体及び磁気記録再生装置 | |
JP2007310943A (ja) | 磁気転写用マスター担体、磁気転写方法、及びこれにより作製された磁気記録媒体、磁気記録再生装置 | |
JP4847489B2 (ja) | 磁気転写用マスター担体及びその製造方法 | |
JP2007012142A (ja) | 磁気転写方法及び装置 | |
JP2002342921A (ja) | 磁気転写用マスター担体 | |
JP2008004200A (ja) | マスター記録媒体の製造方法及び、製造されたマスター記録媒体を用いた磁気転写方法、磁気記録媒体の製造方法 | |
JP2006202401A (ja) | 磁気転写用マスターディスク、磁気記録媒体、及び磁気記録装置 | |
JP2009252341A (ja) | 磁気転写用マスター担体、磁気転写方法、及び垂直磁気記録媒体 | |
JP3964452B2 (ja) | 磁気転写用マスター担体 | |
JP2008016083A (ja) | マスター記録媒体の密着性評価方法及び密着性評価装置 | |
JP2006114104A (ja) | 磁気転写方法、磁気記録媒体、及び磁気記録装置 | |
JP2003228829A (ja) | 磁気転写方法 | |
JP2010238318A (ja) | インプリント用モールド構造体、並びにそれを用いたインプリント方法及び磁気転写方法 |
Legal Events
Date | Code | Title | Description |
---|---|---|---|
A621 | Written request for application examination |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A621 Effective date: 20090205 |
|
A131 | Notification of reasons for refusal |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A131 Effective date: 20090415 |
|
A02 | Decision of refusal |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A02 Effective date: 20090804 |