JP2007269903A - Polymeric material composition - Google Patents

Polymeric material composition Download PDF

Info

Publication number
JP2007269903A
JP2007269903A JP2006095273A JP2006095273A JP2007269903A JP 2007269903 A JP2007269903 A JP 2007269903A JP 2006095273 A JP2006095273 A JP 2006095273A JP 2006095273 A JP2006095273 A JP 2006095273A JP 2007269903 A JP2007269903 A JP 2007269903A
Authority
JP
Japan
Prior art keywords
group
carbon atoms
groups
acid
butyl
Prior art date
Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
Pending
Application number
JP2006095273A
Other languages
Japanese (ja)
Inventor
Yoshinori Negishi
由典 根岸
Takashi Ayabe
敬士 綾部
Masato Suzuki
正人 鈴木
Etsuo Hida
悦男 飛田
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
Adeka Corp
Original Assignee
Adeka Corp
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by Adeka Corp filed Critical Adeka Corp
Priority to JP2006095273A priority Critical patent/JP2007269903A/en
Priority to KR1020087024598A priority patent/KR20090007698A/en
Priority to US12/294,726 priority patent/US20100174015A1/en
Priority to CNA2007800115959A priority patent/CN101410446A/en
Priority to EP07739754A priority patent/EP2006324A4/en
Priority to PCT/JP2007/056316 priority patent/WO2007114112A1/en
Publication of JP2007269903A publication Critical patent/JP2007269903A/en
Pending legal-status Critical Current

Links

Landscapes

  • Compositions Of Macromolecular Compounds (AREA)

Abstract

<P>PROBLEM TO BE SOLVED: To provide a polymeric material composition excellent in heat resistance and compatibility and also widely improving weatherproof property. <P>SOLUTION: This polymeric material composition is provided by containing a polymeric material and a triazine-based compound expressed by general formula (I). <P>COPYRIGHT: (C)2008,JPO&INPIT

Description

本発明は、特定の構造を有するトリアジン系化合物を含有する高分子材料組成物に関する。   The present invention relates to a polymer material composition containing a triazine compound having a specific structure.

ポリエチレン、ポリプロピレン、スチレン系樹脂、ポリ塩化ビニル、ポリカーボネート、ポリエステル等の高分子材料や有機顔料または染料は、光の作用により劣化し、変色あるいは機械的強度の低下等を引き起こして長期の使用に耐えられない場合がある。   Polymer materials such as polyethylene, polypropylene, styrenic resin, polyvinyl chloride, polycarbonate, polyester, and organic pigments or dyes deteriorate due to the action of light, causing discoloration or lowering of mechanical strength, and withstand long-term use. It may not be possible.

これに対し、これら有機材料の劣化を防止したり、透過光の波長をコントロールするために、従来から種々の紫外線吸収剤が用いられており、これら紫外線吸収剤としては、ベンゾフェノン系、ベンゾトリアゾール系、2,4,6−トリアリールトリアジン系およびシアノアクリレート系の紫外線吸収剤が用いられている。   On the other hand, in order to prevent the deterioration of these organic materials and to control the wavelength of transmitted light, various ultraviolet absorbers have been conventionally used. As these ultraviolet absorbers, benzophenone series, benzotriazole series are used. 2,4,6-triaryltriazine-based and cyanoacrylate-based ultraviolet absorbers are used.

これら紫外線吸収剤は、その構造の違いに由来して各々異なる紫外線吸収スペクトルを示し、有機材料との相溶性や揮散性も異なるため、用途に応じて使い分けられている。特に保護層に用いられる薄膜状物においては、高度の紫外線遮蔽効果が要求されるため、紫外線吸収剤の添加量を多くする必要があり、基材層との相溶性に優れ、揮散性が小さく、吸光係数の大きな紫外線吸収剤が求められる。   These ultraviolet absorbers have different ultraviolet absorption spectra due to the difference in structure, and have different compatibility and volatility with organic materials, so that they are properly used depending on the application. Especially for thin films used for protective layers, a high level of UV shielding effect is required, so it is necessary to increase the amount of UV absorber added, and it has excellent compatibility with the base material layer and low volatility. Therefore, an ultraviolet absorber having a large extinction coefficient is required.

2,4,6−トリアリールトリアジン系紫外線吸収剤は、従来から高分子材料に添加、使用されてきたが、2,4,6−トリアリールトリアジン系紫外線吸収剤化合物のなかでも、特に、アリール基のオルト位にヒドロキシ基を有した、2,4,6−トリス(2−ヒドロキシアリール)トリアジン系化合物は、高い吸光係数と有機材料を着色しない吸収波長を有すること、さらには耐熱性に優れること、写真材料や高分子材料への使用が報告されている(特許文献1、2)。   2,4,6-Triaryltriazine-based UV absorbers have been conventionally added to and used in polymer materials. Among 2,4,6-triaryltriazine-based UV absorber compounds, in particular, aryl The 2,4,6-tris (2-hydroxyaryl) triazine compound having a hydroxy group at the ortho position of the group has a high extinction coefficient and an absorption wavelength that does not color the organic material, and is excellent in heat resistance. In addition, use in photographic materials and polymer materials has been reported (Patent Documents 1 and 2).

しかし、この2,4,6−トリス(2−ヒドロキシアリール)トリアジン系紫外線吸収剤においても、ポリカーボネートやポリオレフィン等の高分子材料に対する相溶性が充分ではなく、耐熱性や耐候性も、満足できるものではなかった。   However, this 2,4,6-tris (2-hydroxyaryl) triazine-based UV absorber is not sufficiently compatible with a polymer material such as polycarbonate or polyolefin, and is satisfactory in heat resistance and weather resistance. It wasn't.

また、特許文献3,4には、本発明に係るトリアジン系化合物が開示されているが、これは光学記録材料と光学フィルム用途に関するものとして例を挙げたものであり、本発明のトリアジン系化合物の構造を限定したものではない。さらには、本発明で使用されるトリアジン系化合物が、耐熱性や高分子材料との相溶性に優れ、高分子材料に優れた耐候性を付与するという効果を有することは何ら記載されていない。
特開平5−232630号公報 特開平11−71356号公報 特開2004−160883号公報 WO2005/109052号公報
Patent Documents 3 and 4 disclose the triazine-based compound according to the present invention. This is an example of the optical recording material and the optical film, and the triazine-based compound of the present invention. The structure is not limited. Furthermore, there is no description that the triazine compound used in the present invention has an effect of being excellent in heat resistance and compatibility with a polymer material and imparting excellent weather resistance to the polymer material.
JP-A-5-232630 JP-A-11-71356 JP 2004-160883 A WO2005 / 109052 publication

上述のように、高分子材料の耐候性や耐熱性を改良する技術については、未だ十分なものはなかった。そこで本発明の目的は、耐熱性と相溶性に優れ、さらに耐候性が大幅に向上した高分子材料組成物を提供することにある。   As described above, there has not yet been sufficient technology for improving the weather resistance and heat resistance of polymer materials. Accordingly, an object of the present invention is to provide a polymer material composition which is excellent in heat resistance and compatibility and further has significantly improved weather resistance.

本発明者らは、上記課題を解決すべく鋭意検討した結果、特定の構造を有する2,4,6−トリス(2−ヒドロキシアリール)トリアジン系化合物に着目し、これを用いた高分子材料組成物により上記目的を達成しうることを見出して、本発明を完成するに至った。   As a result of intensive studies to solve the above problems, the present inventors have focused on 2,4,6-tris (2-hydroxyaryl) triazine-based compounds having a specific structure, and polymer material compositions using the compounds It has been found that the above object can be achieved by a product, and the present invention has been completed.

すなわち本発明は、高分子材料と、下記一般式(I)、

Figure 2007269903
(式中、R1〜R3は、各々独立に、炭素原子数1〜18の直鎖または分岐のアルキル基、炭素原子数3〜8のシクロアルキル基、炭素原子数3〜8のアルケニル基、炭素原子数6〜18のアリール基、アルキルアリール基またはアリールアルキル基を表す。但し、これらアルキル基、シクロアルキル基、アルケニル基、アリール基、アルキルアリール基またはアリールアルキル基は、ヒドロキシ基、ハロゲン原子、シアノ基、ニトロ基、炭素原子数1〜18のアルキル基またはアルコキシ基で置換されていてもよく、酸素原子、硫黄原子、カルボニル基、エステル基、アミド基またはイミノ基で中断されていてもよく、これらの置換及び中断は組み合わされていてもよい。R4〜R6は、各々独立に、炭素原子数1〜8の直鎖または分岐のアルキル基、または炭素原子数3〜8のアルケニル基を表す。R7〜R9は、各々独立に、水素原子、ハロゲン原子、炭素原子数1〜8の直鎖または分岐のアルキル基、または炭素原子数3〜8のアルケニル基を表す。)で表されるトリアジン系化合物とを含有することを特徴とする高分子材料組成物である。 That is, the present invention includes a polymer material, the following general formula (I),
Figure 2007269903
(Wherein R 1 to R 3 are each independently a linear or branched alkyl group having 1 to 18 carbon atoms, a cycloalkyl group having 3 to 8 carbon atoms, or an alkenyl group having 3 to 8 carbon atoms. Represents an aryl group having 6 to 18 carbon atoms, an alkylaryl group or an arylalkyl group, provided that these alkyl group, cycloalkyl group, alkenyl group, aryl group, alkylaryl group or arylalkyl group are a hydroxy group, a halogen atom, Optionally substituted with atoms, cyano groups, nitro groups, alkyl groups of 1 to 18 carbon atoms or alkoxy groups, interrupted by oxygen atoms, sulfur atoms, carbonyl groups, ester groups, amide groups or imino groups. These substitutions and interruptions may be combined, and each of R 4 to R 6 independently represents a linear or branched atom having 1 to 8 carbon atoms. R 7 to R 9 each independently represent a hydrogen atom, a halogen atom, a linear or branched alkyl group having 1 to 8 carbon atoms, or a carbon atom. And a triazine-based compound represented by (3 to 8) alkenyl group.

本発明の高分子材料組成物は、好適には、前記一般式(I)中のR4、R5、R6がメチル基であるトリアジン系化合物を含有する。 The polymer material composition of the present invention preferably contains a triazine compound in which R 4 , R 5 and R 6 in the general formula (I) are methyl groups.

また、本発明の高分子材料組成物において、前記高分子材料は、好適にはポリカーボネート樹脂である。   In the polymer material composition of the present invention, the polymer material is preferably a polycarbonate resin.

本発明によれば、上記構成としたことにより、加工時の着色が小さく、耐熱性に優れ、さらには耐候性にも優れた高分子材料組成物を実現することが可能となった。   According to the present invention, it is possible to realize a polymer material composition that is small in coloration during processing, excellent in heat resistance, and also excellent in weather resistance due to the above configuration.

以下、本発明の好適な実施の形態について詳細に説明する。
本発明で用いられるトリアジン系化合物は、下記一般式(I)で表される。

Figure 2007269903
(式中、R1〜R3は、各々独立に、炭素原子数1〜18の直鎖または分岐のアルキル基、炭素原子数3〜8のシクロアルキル基、炭素原子数3〜8のアルケニル基、炭素原子数6〜18のアリール基、アルキルアリール基またはアリールアルキル基を表す。但し、これらアルキル基、シクロアルキル基、アルケニル基、アリール基、アルキルアリール基またはアリールアルキル基は、ヒドロキシ基、ハロゲン原子、シアノ基、ニトロ基、炭素原子数1〜18のアルキル基またはアルコキシ基で置換されていてもよく、酸素原子、硫黄原子、カルボニル基、エステル基、アミド基またはイミノ基で中断されていてもよく、これらの置換及び中断は組み合わされていてもよい。R4〜R6は、各々独立に、炭素原子数1〜8の直鎖または分岐のアルキル基、または炭素原子数3〜8のアルケニル基を表す。R7〜R9は、各々独立に、水素原子、ハロゲン原子、炭素原子数1〜8の直鎖または分岐のアルキル基、または炭素原子数3〜8のアルケニル基を表す。) Hereinafter, preferred embodiments of the present invention will be described in detail.
The triazine compound used in the present invention is represented by the following general formula (I).
Figure 2007269903
(Wherein R 1 to R 3 are each independently a linear or branched alkyl group having 1 to 18 carbon atoms, a cycloalkyl group having 3 to 8 carbon atoms, or an alkenyl group having 3 to 8 carbon atoms. Represents an aryl group having 6 to 18 carbon atoms, an alkylaryl group or an arylalkyl group, provided that these alkyl group, cycloalkyl group, alkenyl group, aryl group, alkylaryl group or arylalkyl group are a hydroxy group, a halogen atom, Optionally substituted with atoms, cyano groups, nitro groups, alkyl groups of 1 to 18 carbon atoms or alkoxy groups, interrupted by oxygen atoms, sulfur atoms, carbonyl groups, ester groups, amide groups or imino groups. These substitutions and interruptions may be combined, and each of R 4 to R 6 independently represents a linear or branched atom having 1 to 8 carbon atoms. R 7 to R 9 each independently represent a hydrogen atom, a halogen atom, a linear or branched alkyl group having 1 to 8 carbon atoms, or a carbon atom. Represents an alkenyl group having 3 to 8 atoms.)

本発明に係る上記一般式(I)で表されるトリアジン系化合物において、R1〜R3で表される炭素数18以下の直鎖または分岐のアルキル基としては、メチル、エチル、プロピル、イソプロピル、ブチル、第二ブチル、第三ブチル、イソブチル、アミル、イソアミル、第三アミル、ヘキシル、ヘプチル、2−ヘプチル、イソヘプチル、第三ヘプチル、n−オクチル、イソオクチル、第三オクチル、2−エチルヘキシル、ノニル、イソノニル、デシル、ウンデシル、ドデシル、トリデシル、テトラデシル、ペンタデシル、ヘキサデシル、へプタデシル、オクタデシル等が挙げられ、置換や中断を有するものとしては、クロロメチル、ジクロロメチル、トリクロロメチル、2−ヒドロキシエチル、2−ヒドロキシプロピル、3−ヒドロキシプロピル、2−メトキシエチル、2−エトキシエチル、2−ブトキシエチル、2−メトキシプロピル、3−メトキシプロピル、2,3−ジヒドロキシプロピル、2−ヒドロキシ−3−メトキシプロピル、2,3−ジメトキシプロピル、2−(2−メトキシエトキシ)エチル等が挙げられる。 In the triazine-based compound represented by the general formula (I) according to the present invention, the linear or branched alkyl group having 18 or less carbon atoms represented by R 1 to R 3 may be methyl, ethyl, propyl, isopropyl Butyl, sec-butyl, tert-butyl, isobutyl, amyl, isoamyl, tert-amyl, hexyl, heptyl, 2-heptyl, isoheptyl, tert-heptyl, n-octyl, isooctyl, tert-octyl, 2-ethylhexyl, nonyl , Isononyl, decyl, undecyl, dodecyl, tridecyl, tetradecyl, pentadecyl, hexadecyl, heptadecyl, octadecyl, etc., and those having substitution or interruption include chloromethyl, dichloromethyl, trichloromethyl, 2-hydroxyethyl, 2 -Hydroxypropyl, 3-hydroxypro 2-methoxyethyl, 2-ethoxyethyl, 2-butoxyethyl, 2-methoxypropyl, 3-methoxypropyl, 2,3-dihydroxypropyl, 2-hydroxy-3-methoxypropyl, 2,3-dimethoxypropyl, 2- (2-methoxyethoxy) ethyl and the like can be mentioned.

1〜R3で表される炭素原子数3〜8のシクロアルキル基としては、シクロプロピル、シクロペンチル、シクロヘキシル、シクロヘプチル、シクロオクチルなどが挙げられる。 Examples of the cycloalkyl group having 3 to 8 carbon atoms represented by R 1 to R 3 include cyclopropyl, cyclopentyl, cyclohexyl, cycloheptyl, cyclooctyl and the like.

1〜R3で表される炭素原子数3〜8のアルケニル基としては、直鎖および分岐のプロペニル、ブテニル、ペンテニル、ヘキセニル、ヘプテニル、オクテニルが不飽和結合の位置によらず挙げられる。 Examples of the alkenyl group having 3 to 8 carbon atoms represented by R 1 to R 3 include linear and branched propenyl, butenyl, pentenyl, hexenyl, heptenyl and octenyl regardless of the position of the unsaturated bond.

1〜R3で表される炭素原子数6〜18のアリール基またはアルキルアリール基としては、フェニル、ナフチル、2−メチルフェニル、3−メチルフェニル、4−メチルフェニル、4−ビニルフェニル、3−イソプロピルフェニル、4−イソプロピルフェニル、4−ブチルフェニル、4−イソブチルフェニル、4−第三ブチルフェニル、4−ヘキシルフェニル、4−シクロヘキシルフェニル、4−オクチルフェニル、4−(2−エチルヘキシル)フェニル、2,3−ジメチルフェニル、2,4−ジメチルフェニル、2,5−ジメチルフェニル、2,6−ジメチルフェニル、3,4−ジメチルフェニル、3,5−ジメチルフェニル、2,4−ジ第三ブチルフェニル、2,5−ジ第三ブチルフェニル、2,6−ジ−第三ブチルフェニル、2,4−ジ第三ペンチルフェニル、2,5−ジ第三アミルフェニル、2,5−ジ第三オクチルフェニル、ビフェニル、2,4,5−トリメチルフェニル等が挙げられる。R1〜R3で表される炭素数6〜18のアリールアルキル基としては、ベンジル、フェネチル、2−フェニルプロパン−2−イル、ジフェニルメチル等が挙げられる。 Examples of the aryl group or alkylaryl group having 6 to 18 carbon atoms represented by R 1 to R 3 include phenyl, naphthyl, 2-methylphenyl, 3-methylphenyl, 4-methylphenyl, 4-vinylphenyl, 3 -Isopropylphenyl, 4-isopropylphenyl, 4-butylphenyl, 4-isobutylphenyl, 4-tert-butylphenyl, 4-hexylphenyl, 4-cyclohexylphenyl, 4-octylphenyl, 4- (2-ethylhexyl) phenyl, 2,3-dimethylphenyl, 2,4-dimethylphenyl, 2,5-dimethylphenyl, 2,6-dimethylphenyl, 3,4-dimethylphenyl, 3,5-dimethylphenyl, 2,4-ditert-butyl Phenyl, 2,5-di-tert-butylphenyl, 2,6-di-tert-butylphenyl, 2,4 Di-tert-pentylphenyl, 2,5-di-tert-amyl phenyl, 2,5-di-tert-octylphenyl, biphenyl, 2,4,5-trimethylphenyl, and the like. Examples of the arylalkyl group having 6 to 18 carbon atoms represented by R 1 to R 3 include benzyl, phenethyl, 2-phenylpropan-2-yl, diphenylmethyl and the like.

また、R4〜R6で表される炭素原子数1〜8の直鎖または分岐のアルキル基としては、メチル、エチル、プロピル、イソプロピル、ブチル、第二ブチル、第三ブチル、イソブチル、アミル、第三アミル、オクチル、第三オクチル等が挙げられる。 Examples of the linear or branched alkyl group having 1 to 8 carbon atoms represented by R 4 to R 6 include methyl, ethyl, propyl, isopropyl, butyl, secondary butyl, tertiary butyl, isobutyl, amyl, Third amyl, octyl, third octyl and the like can be mentioned.

4〜R6で表される炭素原子数3〜8のアルケニル基としては、直鎖および分岐のプロペニル、ブテニル、ペンテニル、ヘキセニル、ヘプテニル、オクテニルが不飽和結合の位置によらず挙げられる。 Examples of the alkenyl group having 3 to 8 carbon atoms represented by R 4 to R 6 include linear and branched propenyl, butenyl, pentenyl, hexenyl, heptenyl and octenyl regardless of the position of the unsaturated bond.

また、R7〜R9で表される炭素原子数1〜8の直鎖または分岐のアルキル基としては、メチル、エチル、プロピル、イソプロピル、ブチル、第二ブチル、第三ブチル、イソブチル、アミル、第三アミル、オクチル、第三オクチル等が挙げられる。 Examples of the linear or branched alkyl group having 1 to 8 carbon atoms represented by R 7 to R 9 include methyl, ethyl, propyl, isopropyl, butyl, secondary butyl, tertiary butyl, isobutyl, amyl, Third amyl, octyl, third octyl and the like can be mentioned.

7〜R9で表される炭素原子数3〜8のアルケニル基としては、直鎖および分岐のプロペニル、ブテニル、ペンテニル、ヘキセニル、ヘプテニル、オクテニルが不飽和結合の位置によらず挙げられる。 Examples of the alkenyl group having 3 to 8 carbon atoms represented by R 7 to R 9 include linear and branched propenyl, butenyl, pentenyl, hexenyl, heptenyl and octenyl regardless of the position of the unsaturated bond.

上記一般式(I)で表されるトリアジン系化合物の中でも、下記一般式(II)で表されるものが、製造が容易であり、低コストであるので好ましい。

Figure 2007269903
(式中、R10〜R12は、炭素原子数1〜12の直鎖または分岐のアルキル基、または炭素原子数3〜8のシクロアルキル基を表す。) Among the triazine compounds represented by the general formula (I), those represented by the following general formula (II) are preferable because they are easy to produce and low in cost.
Figure 2007269903
(Wherein, R 10 to R 12 represents a linear or branched alkyl group or a cycloalkyl group having 3 to 8 carbon atoms, having 1 to 12 carbon atoms.)

上記一般式(II)で表されるトリアジン系化合物において、R10〜R12で表される炭素原子数1〜12の直鎖または分岐のアルキル基としては、メチル、エチル、プロピル、イソプロピル、ブチル、第二ブチル、第三ブチル、イソブチル、アミル、イソアミル、第三アミル、ヘキシル、ヘプチル、2−ヘプチル、イソヘプチル、第三ヘプチル、n−オクチル、イソオクチル、第三オクチル、2−エチルヘキシル、ノニル、イソノニル、デシル、ウンデシル、ドデシルなどが挙げられる。 In the triazine compound represented by the general formula (II), the linear or branched alkyl group having 1 to 12 carbon atoms represented by R 10 to R 12 may be methyl, ethyl, propyl, isopropyl, butyl , Sec-butyl, tert-butyl, isobutyl, amyl, isoamyl, tert-amyl, hexyl, heptyl, 2-heptyl, isoheptyl, tert-heptyl, n-octyl, isooctyl, tert-octyl, 2-ethylhexyl, nonyl, isononyl , Decyl, undecyl, dodecyl and the like.

10〜R12で表される炭素原子数3〜8のシクロアルキル基としては、シクロプロピル、シクロペンチル、シクロヘキシル、シクロヘプチル、シクロオクチルなどが挙げられる。 Examples of the cycloalkyl group having 3 to 8 carbon atoms represented by R 10 to R 12 include cyclopropyl, cyclopentyl, cyclohexyl, cycloheptyl, cyclooctyl and the like.

本発明で用いられる上記一般式(I)または(II)で表されるトリアジン系化合物の具体例としては、以下に示す化合物No.1〜14が挙げられる。なお、下記化学式において、Meはメチル基、Etはエチル基、Prはプロピル基、iPrはイソプロピル基、Buはブチル基、Amはアミル基、iAmはイソアミル基、cyHxはシクロヘキシル基を表す。

Figure 2007269903
Figure 2007269903
Specific examples of the triazine-based compound represented by the general formula (I) or (II) used in the present invention include the following compound Nos. 1-14 are mentioned. In the following chemical formula, Me represents a methyl group, Et represents an ethyl group, Pr represents a propyl group, iPr represents an isopropyl group, Bu represents a butyl group, Am represents an amyl group, iAm represents an isoamyl group, and cyHx represents a cyclohexyl group.
Figure 2007269903
Figure 2007269903

前記一般式(I)で表されるトリアジン系化合物の合成方法は、特に制限を受けることはなく、トリアジン構造を有する化合物の合成に通常用いられる合成方法を適用することができる。例えば、塩化シアヌルにフェノール誘導体またはレゾルシノール誘導体を、三塩化アルミニウムを用いて付加反応させる方法が挙げられる。R1〜R9で表される置換基は、トリアジン構造を形成した後に導入してもよく、トリアジン構造を形成する前に、フェノール誘導体又はレゾルシノール誘導体に導入してもよい。 The method for synthesizing the triazine compound represented by the general formula (I) is not particularly limited, and a synthesis method usually used for the synthesis of a compound having a triazine structure can be applied. For example, a method of adding a phenol derivative or a resorcinol derivative to cyanuric chloride using aluminum trichloride is mentioned. The substituents represented by R 1 to R 9 may be introduced after forming the triazine structure, or may be introduced into the phenol derivative or resorcinol derivative before forming the triazine structure.

例えば、R1〜R3の置換基を導入する場合は、塩化シアヌルと、フェノール誘導体またはレゾルシノール誘導体とで、トリアジン環を有する中間体を合成後、該中間体のアリール基のパラ位の水酸基と、R1〜R3の置換基を有するカルボン酸誘導体(カルボン酸、カルボン酸クロライド、カルボン酸エステル、カルボン酸塩)とを反応させ、エステル結合を形成することにより、R1〜R3の置換基を導入すればよい。 For example, when the substituents R 1 to R 3 are introduced, an intermediate having a triazine ring is synthesized with cyanuric chloride and a phenol derivative or a resorcinol derivative, and then the hydroxyl group at the para position of the aryl group of the intermediate is synthesized. , By reacting with a carboxylic acid derivative having a substituent of R 1 to R 3 (carboxylic acid, carboxylic acid chloride, carboxylic acid ester, carboxylate) to form an ester bond, substitution of R 1 to R 3 A group may be introduced.

特に、2−メチルレゾルシノールを原料として製造される前記一般式(II)で表されるトリアジン系化合物は、合成が容易であり、低コストであるため好ましい。   In particular, the triazine compound represented by the general formula (II) produced using 2-methylresorcinol as a raw material is preferable because it is easy to synthesize and is low in cost.

次に、本発明で使用される高分子材料について説明する。   Next, the polymer material used in the present invention will be described.

高分子材料としては、熱可塑性樹脂、熱硬化性樹脂、エラストマーなどが例示できる。熱可塑性樹脂としては、高密度、低密度または直鎖状低密度ポリエチレン、ポリプロピレン、ポリブテン−1、ポリ−3−メチルペンテン等のα−オレフィン重合体またはエチレン−酢酸ビニル共重合体、エチレン−プロピレン共重合体等のポリオレフィン及びこれらの共重合体、ポリ塩化ビニル、ポリ塩化ビニリデン、塩素化ポリエチレン、塩素化ポリプロピレン、ポリフッ化ビニリデン、塩化ゴム、塩化ビニル−酢酸ビニル共重合体、塩化ビニル−エチレン共重合体、塩化ビニル−塩化ビニリデン共重合体、塩化ビニル−塩化ビニリデン−酢酸ビニル三元共重合体、塩化ビニル−アクリル酸エステル共重合体、塩化ビニル−マレイン酸エステル共重合体、塩化ビニル−シクロヘキシルマレイミド共重合体等の含ハロゲン樹脂、石油樹脂、クマロン樹脂、ポリスチレン、ポリ酢酸ビニル、アクリル樹脂、スチレン及び/又はα−メチルスチレンと他の単量体(例えば、無水マレイン酸、フェニルマレイミド、メタクリル酸メチル、ブタジエン、アクリロニトリル等)との共重合体(例えば、アクリロニトリルスチレン共重合体(AS)樹脂、アクリロニトリルブタジエンスチレン共重合体(ABS)樹脂、メチルメタクリレートブタジエンスチレン共重合体(MBS)樹脂、耐熱ABS樹脂等)、ポリメチルメタクリレート、ポリビニルアルコール、ポリビニルホルマール、ポリビニルブチラール、ポリエチレンテレフタレート及びポリテトラメチレンテレフタレート等の直鎖ポリエステル、ポリフェニレンオキサイド、ポリカプロラクタム及びポリヘキサメチレンアジパミド等のポリアミド、ポリカーボネート、分岐ポリカーボネート、ポリアセタール、ポリフェニレンサルファイド、ポリウレタン、繊維素系樹脂等の熱可塑性合成樹脂及びこれらのブレンド物が例示できる。熱硬化性樹脂としては、フェノール樹脂、ユリア樹脂、メラミン樹脂、エポキシ樹脂、不飽和ポリカステル樹脂等の熱硬化性樹脂が例示できる。更にエラストマーとしては、イソプレンゴム、ブタジエンゴム、アクリロニトリル−ブタジエン共重合ゴム、スチレン−ブタジエン共重合ゴム等が例示できる。   Examples of the polymer material include thermoplastic resins, thermosetting resins, and elastomers. Examples of the thermoplastic resin include high-density, low-density or linear low-density polyethylene, polypropylene, polybutene-1, poly-3-methylpentene, and other α-olefin polymers or ethylene-vinyl acetate copolymers, ethylene-propylene. Polyolefins such as copolymers and copolymers thereof, polyvinyl chloride, polyvinylidene chloride, chlorinated polyethylene, chlorinated polypropylene, polyvinylidene fluoride, chlorinated rubber, vinyl chloride-vinyl acetate copolymer, vinyl chloride-ethylene copolymer Polymer, vinyl chloride-vinylidene chloride copolymer, vinyl chloride-vinylidene chloride-vinyl acetate terpolymer, vinyl chloride-acrylic acid ester copolymer, vinyl chloride-maleic acid ester copolymer, vinyl chloride-cyclohexyl Halogen-containing resins such as maleimide copolymers, petroleum resins, Copolymer of malon resin, polystyrene, polyvinyl acetate, acrylic resin, styrene and / or α-methylstyrene and other monomers (for example, maleic anhydride, phenylmaleimide, methyl methacrylate, butadiene, acrylonitrile, etc.) (For example, acrylonitrile styrene copolymer (AS) resin, acrylonitrile butadiene styrene copolymer (ABS) resin, methyl methacrylate butadiene styrene copolymer (MBS) resin, heat resistant ABS resin, etc.)), polymethyl methacrylate, polyvinyl alcohol, polyvinyl Formal, polyvinyl butyral, linear polyester such as polyethylene terephthalate and polytetramethylene terephthalate, polyphenylene oxide, polycaprolactam and polyhexamethylene adipamide Polyamide, polycarbonate, branched polycarbonate, polyacetal, polyphenylene sulfide, polyurethane, thermoplastic synthetic resin and blends thereof, such as cellulose resins can be exemplified. Examples of the thermosetting resin include thermosetting resins such as phenol resin, urea resin, melamine resin, epoxy resin, and unsaturated polycastel resin. Further, examples of the elastomer include isoprene rubber, butadiene rubber, acrylonitrile-butadiene copolymer rubber, and styrene-butadiene copolymer rubber.

さらに、ポリ乳酸等の植物由来の樹脂または生分解性樹脂も挙げられる。   Furthermore, plant-derived resins or biodegradable resins such as polylactic acid are also included.

上記高分子材料の中でも、ヘテロ原子を有する高分子材料は、前記一般式(I)で表されるトリアジン系化合物との相溶性に優れるので好ましい。ヘテロ原子を有する高分子材料としては、例えば、ポリカーボネート、分岐ポリカーボネート、ポリエチレンテレフタレートおよびポリテトラメチレンテレフタレート等の直鎖ポリエステル、ポリカプロラクトンおよびポリヘキサメチレンアジパミド等のポリアミド、ポリフェニレンオキサイド、ポリフェニレンサルファイド、ポリ(メタ)アクリル酸メチルおよびポリ(メタ)アクリル酸ブチルなどのポリ(メタ)アクリル酸エステルが挙げられる。これらの中で、ポリカーボネート、ポリエチレンテレフタレート、ポリフェニレンオキサイド等の主鎖上にヘテロ原子または芳香環を有する高分子材料が特に好ましく、ポリカーボネート樹脂が最も好ましい。   Among the above polymer materials, a polymer material having a hetero atom is preferable because it is excellent in compatibility with the triazine compound represented by the general formula (I). Examples of the polymer material having a hetero atom include polycarbonate, branched polycarbonate, linear polyester such as polyethylene terephthalate and polytetramethylene terephthalate, polyamide such as polycaprolactone and polyhexamethylene adipamide, polyphenylene oxide, polyphenylene sulfide, and polyphenylene sulfide. Examples include poly (meth) acrylic acid esters such as methyl (meth) acrylate and poly (meth) butyl acrylate. Among these, a polymer material having a hetero atom or an aromatic ring on the main chain, such as polycarbonate, polyethylene terephthalate, and polyphenylene oxide, is particularly preferable, and a polycarbonate resin is most preferable.

これら高分子材料は、単独の他、2種以上を組み合わせて用いることができる。組み合わせとしては、ポリカーボネート/ABS、ポリカーボネート/ポリエステルなどの複合化や、ポリカーボネートのフィルムに本発明で使用する上記一般式(I)で表される特定のトリアジン系化合物を添加したポリカーボネートまたはポリ(メタ)アクリル酸エステルをラミネートして、積層フィルム等として用いることができる。   These polymer materials can be used alone or in combination of two or more. Examples of combinations include polycarbonate / ABS, polycarbonate / polyester, and the like, and polycarbonate or poly (meth) in which a specific triazine compound represented by the above general formula (I) used in the present invention is added to a polycarbonate film. An acrylic ester can be laminated and used as a laminated film or the like.

本発明の高分子材料組成物は、高分子材料100質量部に対し、上記一般式(I)で表されるトリアジン系化合物を0.001〜10質量部、特には0.005〜10質量部添加したものであることが好ましい。この範囲で、十分に耐候性が改善され、かつ着色性が改善されるからである。   In the polymer material composition of the present invention, 0.001 to 10 parts by mass, particularly 0.005 to 10 parts by mass of the triazine compound represented by the above general formula (I) with respect to 100 parts by mass of the polymer material It is preferable that it is added. This is because within this range, the weather resistance is sufficiently improved and the colorability is improved.

本発明で使用する前記一般式(I)で表されるトリアジン系化合物の高分子材料への適用方法は特に限定されるものではなく、添加する際の形態は粉末でもエマルジョンやサスペンジョンなどの水分散体でもよく、有機溶剤により溶液としてもよい。ただし、重合時の添加や、加工時の温度などにより(メタ)アクリロイル基が反応する条件での添加は、得られる高分子材料組成物の加工時の着色が大きくなるので実用的でない。   The application method to the polymer material of the triazine-based compound represented by the general formula (I) used in the present invention is not particularly limited, and the form when added is a powder or an aqueous dispersion such as an emulsion or a suspension. It may be a body or a solution with an organic solvent. However, the addition during polymerization or the addition under conditions where the (meth) acryloyl group reacts depending on the temperature during processing is impractical because the resulting polymer material composition becomes more colored during processing.

本発明の高分子材料組成物においては、前記一般式(I)で表されるトリアジン系化合物以外に、必要に応じて他の汎用の酸化防止剤、安定剤等の添加剤を併用することができる。これらの添加剤として特に好ましいものとしては、フェノール系、硫黄系、ホスファイト系等の酸化防止剤、ヒンダードアミン系の光安定剤(HALS)が挙げられ、特に、2,2,6,6−テトラメチルピペリジン化合物に代表されるヒンダードアミン系の光安定剤(HALS)は、本発明に係るトリアジン系化合物と相乗効果を奏するので好ましい。   In the polymer material composition of the present invention, in addition to the triazine compound represented by the general formula (I), other general-purpose antioxidants, stabilizers, and other additives may be used in combination as necessary. it can. Particularly preferred as these additives are phenol-based, sulfur-based, phosphite-based antioxidants, hindered amine-based light stabilizers (HALS), and in particular 2,2,6,6-tetra A hindered amine light stabilizer (HALS) typified by a methylpiperidine compound is preferable because it exhibits a synergistic effect with the triazine compound according to the present invention.

上記HALSとしては、下記一般式(III)で表される化合物、塩化シアヌル縮合型HALS、高分子量型HALS等が挙げられる。

Figure 2007269903
(式(III)中、mは、1〜6の整数を表し、Aは、水素原子、炭素数1〜18のm価の炭化水素基、m価のアシル基またはm価のカルバモイル基を表し、Bは、酸素原子、−NH−又は炭素数1〜8のアルキル基Reを有する−NRe−を表し、Yは、水素原子、オキシラジカル(・O)、炭素数1〜18のアルコキシ基、炭素数1〜8のアルキル基またはヒドロキシル基を表し、Zは、メチン、または炭素数1〜8のアルキル基Rfを有する下記一般式(IV)、
Figure 2007269903
で表される基を表す。) Examples of the HALS include compounds represented by the following general formula (III), cyanuric chloride condensed HALS, and high molecular weight HALS.
Figure 2007269903
(In formula (III), m represents an integer of 1 to 6, and A represents a hydrogen atom, an m-valent hydrocarbon group having 1 to 18 carbon atoms, an m-valent acyl group, or an m-valent carbamoyl group. , B represents an oxygen atom, —NH— or —NRe— having an alkyl group Re having 1 to 8 carbon atoms, Y represents a hydrogen atom, an oxy radical (• O), an alkoxy group having 1 to 18 carbon atoms, Represents an alkyl group having 1 to 8 carbon atoms or a hydroxyl group, and Z represents methine or the following general formula (IV) having an alkyl group Rf having 1 to 8 carbon atoms,
Figure 2007269903
Represents a group represented by )

上記一般式(III)において、Aで表されるm価の炭素数1〜18の炭化水素基としては、メタン、エタン、プロパン、ブタン、第二ブタン、第三ブタン、イソブタン、ペンタン、イソペンタン、第三ペンタン、ヘキサン、シクロヘキサン、ヘプタン、イソヘプタン、第三ヘプタン、n−オクタン、イソオクタン、第三オクタン、2−エチルヘキサン、ノナン、イソノナン、デカン、ドデカン、トリデカン、テトラデカン、ペンタデカン、ヘキサデカン、ヘプタデカン、オクタデカン等の炭化水素化合物から誘導される基(アルキル基、アルカンジないしヘキサイル基)が挙げられる。   In the general formula (III), examples of the m-valent hydrocarbon group having 1 to 18 carbon atoms represented by A include methane, ethane, propane, butane, second butane, third butane, isobutane, pentane, isopentane, Tertiary pentane, hexane, cyclohexane, heptane, isoheptane, tertiary heptane, n-octane, isooctane, tertiary octane, 2-ethylhexane, nonane, isononane, decane, dodecane, tridecane, tetradecane, pentadecane, hexadecane, heptadecane, octadecane And groups derived from hydrocarbon compounds such as alkyl groups (alkanedi or hexayl groups).

上記一般式(III)において、Aで表されるm価のアシル基は、カルボン酸から誘導される基、m価カルボン酸から誘導される基、又は、n価カルボン酸から誘導され且つカルボキシル基がm個残存している(n−m)個のエステル基を含有するアルキルエステルから誘導される基である(カルボン酸、m価カルボン酸及び上記アルキルエステルを、アシル誘導体化合物という)。   In the general formula (III), the m-valent acyl group represented by A is a group derived from a carboxylic acid, a group derived from an m-valent carboxylic acid, or a carboxyl group derived from an n-valent carboxylic acid. Is a group derived from an alkyl ester containing m remaining (nm) ester groups (the carboxylic acid, m-valent carboxylic acid and the alkyl ester are referred to as acyl derivative compounds).

かかるアシル誘導体化合物としては、酢酸、安息香酸、4−トリフルオロメチル安息香酸、サリチル酸、アクリル酸、メタクリル酸、シュウ酸、マロン酸、スクシン酸、グルタル酸、アジピン酸、ピメリン酸、スベリン酸、アゼライン酸、セバシン酸、ドデカン二酸、2−メチルコハク酸、2−メチルアジピン酸、3−メチルアジピン酸、3−メチルペンタン二酸、2−メチルオクタン二酸、3,8−ジメチルデカン二酸、3,7−ジメチルデカン二酸、水添ダイマー酸、ダイマー酸、フタル酸、テレフタル酸、イソフタル酸、ナフタレンジカルボン酸、シクロヘキサンジカルボン酸、トリメリト酸、ピロメリット酸、トリメシン酸、プロパン−1,2,3−トリカルボン酸、プロパン−1,2,3−トリカルボン酸モノ又はジアルキルエステル、ペンタン−1,3,5−トリカルボン酸、ペンタン−1,3,5−トリカルボン酸モノ又はジアルキルエステル、ブタン−1,2,3,4−テトラカルボン酸、ブタン−1,2,3,4−テトラカルボン酸モノないしトリアルキルエステル、ペンタン−1,2,3,4,5−ペンタカルボン酸、ペンタン−1,2,3,4,5−ペンタカルボン酸モノないしテトラアルキルエステル、ヘキサン−1,2,3,4,5,6−ヘキサカルボン酸、ヘキサン−1,2,3,4,5,6−ヘキサカルボン酸モノないしペンタアルキルエステル等が挙げられる。   Examples of the acyl derivative compound include acetic acid, benzoic acid, 4-trifluoromethylbenzoic acid, salicylic acid, acrylic acid, methacrylic acid, oxalic acid, malonic acid, succinic acid, glutaric acid, adipic acid, pimelic acid, suberic acid, and azelain. Acid, sebacic acid, dodecanedioic acid, 2-methylsuccinic acid, 2-methyladipic acid, 3-methyladipic acid, 3-methylpentanedioic acid, 2-methyloctanedioic acid, 3,8-dimethyldecanedioic acid, 3 , 7-dimethyldecanedioic acid, hydrogenated dimer acid, dimer acid, phthalic acid, terephthalic acid, isophthalic acid, naphthalenedicarboxylic acid, cyclohexanedicarboxylic acid, trimellitic acid, pyromellitic acid, trimesic acid, propane-1,2,3 -Tricarboxylic acid, propane-1,2,3-tricarboxylic acid mono- or dialkyl ester , Pentane-1,3,5-tricarboxylic acid, pentane-1,3,5-tricarboxylic acid mono- or dialkyl ester, butane-1,2,3,4-tetracarboxylic acid, butane-1,2,3 4-tetracarboxylic acid mono to trialkyl ester, pentane-1,2,3,4,5-pentacarboxylic acid, pentane-1,2,3,4,5-pentacarboxylic acid mono to tetraalkyl ester, hexane- Examples include 1,2,3,4,5,6-hexacarboxylic acid and hexane-1,2,3,4,5,6-hexacarboxylic acid mono- or pentaalkyl ester.

上記一般式(III)において、Aで表されるm価のカルバモイル基は、イソシアネート化合物から誘導されるモノアルキルカルバモイル基又はジアルキルカルバモイル基である。   In the general formula (III), the m-valent carbamoyl group represented by A is a monoalkylcarbamoyl group or a dialkylcarbamoyl group derived from an isocyanate compound.

モノアルキルカルバモイル基を誘導するイソシアネート化合物としては、トリレンジイソシアネート、ジフェニルメタン−4,4’−ジイソシアネート、p−フェニレンジイソシアネート、キシリレンジイソシアネート、1,5−ナフチレンジイソシアネート、3,3’−ジメチルジフェニル−4,4’−ジイソシアネート、ジアニシジンジイソシアネート、テトラメチルキシリレンジイソシアネート、イソホロンジイソシアネート、ジシクロヘキシルメタン−4,4’−ジイソシアネート、トランス−1,4−シクロヘキシルジイソシアネート、ノルボルネンジイソシアネート、1,6−ヘキサメチレンジイソシアネート、2,2,4(2,2,4)−トリメチルヘキサメチレンジイソシアネート、リシンジイソシアネート、トリフェニルメタントリイソシアネート、1−メチルベンゾール−2,4,6−トリイソシアネート、ジメチルトリフェニルメタンテトライソシアネート等が挙げられる。   Examples of the isocyanate compound from which the monoalkylcarbamoyl group is derived include tolylene diisocyanate, diphenylmethane-4,4′-diisocyanate, p-phenylene diisocyanate, xylylene diisocyanate, 1,5-naphthylene diisocyanate, 3,3′-dimethyldiphenyl- 4,4′-diisocyanate, dianisidine diisocyanate, tetramethylxylylene diisocyanate, isophorone diisocyanate, dicyclohexylmethane-4,4′-diisocyanate, trans-1,4-cyclohexyl diisocyanate, norbornene diisocyanate, 1,6-hexamethylene diisocyanate, 2,2,4 (2,2,4) -trimethylhexamethylene diisocyanate, lysine diisocyanate, triphenyl Tan triisocyanate, 1-methyl-benzol-2,4,6-triisocyanate, dimethyl triphenylmethane tetra isocyanate.

ジアルキルカルバモイル基としては、ジエチルカルバモイル基、ジブチルカルバモイル基、ジヘキシルカルバモイル基、ジオクチルカルバモイル基等が挙げられる。   Examples of the dialkylcarbamoyl group include a diethylcarbamoyl group, a dibutylcarbamoyl group, a dihexylcarbamoyl group, a dioctylcarbamoyl group, and the like.

上記の炭素数1〜18のm価の炭化水素基、上記のm価のアシル基及び上記のm価のカルバモイル基は、ハロゲン原子、水酸基、アルキル基、アルコキシ基、ニトロ基、シアノ基等で置換されていてもよい。   The m-valent hydrocarbon group having 1 to 18 carbon atoms, the m-valent acyl group, and the m-valent carbamoyl group are halogen atoms, hydroxyl groups, alkyl groups, alkoxy groups, nitro groups, cyano groups, and the like. May be substituted.

上記一般式(III)において、Bで表される基が有する、Reで表される炭素数1〜8のアルキル基としては、メチル、エチル、プロピル、イソプロピル、ブチル、第二ブチル、第三ブチル、イソブチル、アミル、イソアミル、第三アミル、ヘキシル、シクロヘキシル、ヘプチル、イソヘプチル、第三ヘプチル、1−エチルペンチル、n−オクチル、イソオクチル、第三オクチル、2−エチルヘキシル等が挙げられる。   In the above general formula (III), the group represented by B has 1 to 8 carbon atoms represented by Re as methyl, ethyl, propyl, isopropyl, butyl, sec-butyl, tert-butyl. , Isobutyl, amyl, isoamyl, tertiary amyl, hexyl, cyclohexyl, heptyl, isoheptyl, tertiary heptyl, 1-ethylpentyl, n-octyl, isooctyl, tertiary octyl, 2-ethylhexyl and the like.

上記一般式(III)において、Yで表される炭素数1〜18のアルコキシ基としては、メトキシ、エトキシ、プロポキシ、イソプロポキシ、ブトキシ、第二ブチルオキシ、第三ブチルオキシ、イソブチルオキシ、アミルオキシ、イソアミルオキシ、ヘキシルオキシ、ヘプチルオキシ、オクチルオキシ、2−エチルヘキシルオキシ、ノニルオキシ、イソノニルオキシ、デシルオキシ、ドデシルオキシ、トリデシルオキシ、テトラデシルオキシ、ペンタデシルオキシ、ヘキサデシルオキシ、ペプタデシルオキシ、オクタデシルオキシ等が挙げられる。Yで表される炭素数1〜8のアルキル基としては、上記Reと同様の基が挙げられる。   In the general formula (III), the alkoxy group having 1 to 18 carbon atoms represented by Y is methoxy, ethoxy, propoxy, isopropoxy, butoxy, sec-butyloxy, tert-butyloxy, isobutyloxy, amyloxy, isoamyloxy Hexyloxy, heptyloxy, octyloxy, 2-ethylhexyloxy, nonyloxy, isononyloxy, decyloxy, dodecyloxy, tridecyloxy, tetradecyloxy, pentadecyloxy, hexadecyloxy, peptadecyloxy, octadecyloxy, etc. Is mentioned. Examples of the alkyl group having 1 to 8 carbon atoms represented by Y include the same groups as those described above for Re.

上記一般式(III)におけるZを表す上記一般式(IV)中のRfで表される炭素数1〜8のアルキル基としては、上記Reと同様の基が挙げられる。   Examples of the alkyl group having 1 to 8 carbon atoms represented by Rf in the general formula (IV) representing Z in the general formula (III) include the same groups as those described above for Re.

上記一般式(III)で表される化合物の具体例としては、例えば、2,2,6,6−テトラメチル−4−ピペリジルステアレート、1,2,2,6,6−ペンタメチル−4−ピペリジルステアレート、2,2,6,6−テトラメチル−4−ピペリジルベンゾエート、ビス(2,2,6,6−テトラメチル−4−ピペリジル)セバケート、ビス(1,2,2,6,6−ペンタメチル−4−ピペリジル)セバケート、ビス(1−オクトキシ−2,2,6,6−テトラメチル−4−ピペリジル)セバケート、1,2,2,6,6−ペンタメチル−4−ピペリジルメタクリレート、2,2,6,6−テトラメチル−ピペリジルメタクリレート、テトラキス(2,2,6,6−テトラメチル−4−ピペリジル)−1,2,3,4−ブタンテトラカルボキシレート、テトラキス(1,2,2,6,6−ペンタメチル−4−ピペリジル)−1,2,3,4−ブタンテトラカルボキシレート、ビス(2,2,6,6−テトラメチル−4−ピペリジル)・ビス(トリデシル)−1,2,3,4−ブタンテトラカルボキシレート、ビス(1,2,2,6,6−ペンタメチル−4−ピペリジル)・ビス(トリデシル)−1,2,3,4−ブタンテトラカルボキシレート、ビス(1,2,2,6,6−ペンタメチル−4−ピペリジル)−2−ブチル−2−(3,5−ジ第三ブチル−4−ヒドロキシベンジル)マロネート、3,9−ビス〔1,1−ジメチル−2−[トリス(2,2,6,6−テトラメチル−4−ピペリジルオキシカルボニルオキシ)ブチルカルボニルオキシ]エチル〕−2,4,8,10−テトラオキサスピロ〔5.5〕ウンデカン、3,9−ビス〔1,1−ジメチル−2−[トリス(1,2,2,6,6−ペンタメチル−4−ピペリジルオキシカルボニルオキシ)ブチルカルボニルオキシ]エチル〕−2,4,8,10−テトラオキサスピロ〔5.5〕ウンデカン等が挙げられる。   Specific examples of the compound represented by the general formula (III) include, for example, 2,2,6,6-tetramethyl-4-piperidyl stearate, 1,2,2,6,6-pentamethyl-4- Piperidyl stearate, 2,2,6,6-tetramethyl-4-piperidylbenzoate, bis (2,2,6,6-tetramethyl-4-piperidyl) sebacate, bis (1,2,2,6,6) -Pentamethyl-4-piperidyl) sebacate, bis (1-octoxy-2,2,6,6-tetramethyl-4-piperidyl) sebacate, 1,2,2,6,6-pentamethyl-4-piperidyl methacrylate, 2 , 2,6,6-tetramethyl-piperidyl methacrylate, tetrakis (2,2,6,6-tetramethyl-4-piperidyl) -1,2,3,4-butanetetracarbo Silate, tetrakis (1,2,2,6,6-pentamethyl-4-piperidyl) -1,2,3,4-butanetetracarboxylate, bis (2,2,6,6-tetramethyl-4-piperidyl) ) .Bis (tridecyl) -1,2,3,4-butanetetracarboxylate, bis (1,2,2,6,6-pentamethyl-4-piperidyl) .bis (tridecyl) -1,2,3 4-butanetetracarboxylate, bis (1,2,2,6,6-pentamethyl-4-piperidyl) -2-butyl-2- (3,5-ditert-butyl-4-hydroxybenzyl) malonate, 3 , 9-bis [1,1-dimethyl-2- [tris (2,2,6,6-tetramethyl-4-piperidyloxycarbonyloxy) butylcarbonyloxy] ethyl] -2,4,8,10- Traoxaspiro [5.5] undecane, 3,9-bis [1,1-dimethyl-2- [tris (1,2,2,6,6-pentamethyl-4-piperidyloxycarbonyloxy) butylcarbonyloxy] Ethyl] -2,4,8,10-tetraoxaspiro [5.5] undecane and the like.

本発明の高分子材料組成物において用いることができる上記塩化シアヌル縮合型HALSとしては、1,6−ビス(2,2,6,6−テトラメチル−4−ピペリジルアミノ)ヘキサン/2,4−ジクロロ−6−モルホリノ−s−トリアジン重縮合物、1,6−ビス(2,2,6,6−テトラメチル−4−ピペリジルアミノ)ヘキサン/2,4−ジクロロ−6−第三オクチルアミノ−s−トリアジン重縮合物、1,5,8,12−テトラキス[2,4−ビス(N−ブチル−N−(2,2,6,6−テトラメチル−4−ピペリジル)アミノ)−s−トリアジン−6−イル]−1,5,8,12−テトラアザドデカン、1,5,8,12−テトラキス[2,4−ビス(N−ブチル−N−(1,2,2,6,6−ペンタメチル−4−ピペリジル)アミノ)−s−トリアジン−6−イル]−1,5,8,12−テトラアザドデカン、1,6,11−トリス[2,4−ビス(N−ブチル−N−(2,2,6,6−テトラメチル−4−ピペリジル)アミノ)−s−トリアジン−6−イルアミノ]ウンデカン、1,6,11−トリス[2,4−ビス(N−ブチル−N−(1,2,2,6,6−ペンタメチル−4−ピペリジル)アミノ)−s−トリアジン−6−イルアミノ]ウンデカン等が挙げられる。   Examples of the cyanuric chloride condensed HALS that can be used in the polymer material composition of the present invention include 1,6-bis (2,2,6,6-tetramethyl-4-piperidylamino) hexane / 2,4- Dichloro-6-morpholino-s-triazine polycondensate, 1,6-bis (2,2,6,6-tetramethyl-4-piperidylamino) hexane / 2,4-dichloro-6-tert-octylamino- s-triazine polycondensate, 1,5,8,12-tetrakis [2,4-bis (N-butyl-N- (2,2,6,6-tetramethyl-4-piperidyl) amino) -s- Triazin-6-yl] -1,5,8,12-tetraazadodecane, 1,5,8,12-tetrakis [2,4-bis (N-butyl-N- (1,2,2,6, 6-pentamethyl-4-piperidyl) amino ) -S-triazin-6-yl] -1,5,8,12-tetraazadodecane, 1,6,11-tris [2,4-bis (N-butyl-N- (2,2,6,6) 6-tetramethyl-4-piperidyl) amino) -s-triazin-6-ylamino] undecane, 1,6,11-tris [2,4-bis (N-butyl-N- (1,2,2,6) , 6-pentamethyl-4-piperidyl) amino) -s-triazin-6-ylamino] undecane and the like.

本発明の高分子材料組成物において用いることができる上記高分子量型HALSとしては、1−(2−ヒドロキシエチル)−2,2,6,6−テトラメチル−4−ピペリジノール/コハク酸ジエチル重縮合物、1,6−ビス(2,2,6,6−テトラメチル−4−ピペリジルアミノ)ヘキサン/ジブロモエタン重縮合物等が挙げられる。   Examples of the high molecular weight HALS that can be used in the polymer material composition of the present invention include 1- (2-hydroxyethyl) -2,2,6,6-tetramethyl-4-piperidinol / diethyl succinate polycondensation. And 1,6-bis (2,2,6,6-tetramethyl-4-piperidylamino) hexane / dibromoethane polycondensate.

本発明の高分子材料組成物において用いることができる上記ホスファイト系抗酸化剤としては、例えば、トリフェニルホスファイト、トリス(2,4−ジ第三ブチルフェニル)ホスファイト、トリス(2,5−ジ第三ブチルフェニル)ホスファイト、トリス(ノニルフェニル)ホスファイト、トリス(ジノニルフェニル)ホスファイト、トリス(モノ、ジ混合ノニルフェニル)ホスファイト、ジフェニルアシッドホスファイト、2,2’−メチレンビス(4,6−ジ第三ブチルフェニル)オクチルホスファイト、ジフェニルデシルホスファイト、ジフェニルオクチルホスファイト、ジ(ノニルフェニル)ペンタエリスリトールジホスファイト、フェニルジイソデシルホスファイト、トリブチルホスファイト、トリス(2−エチルヘキシル)ホスファイト、トリデシルホスファイト、トリラウリルホスファイト、ジブチルアシッドホスファイト、ジラウリルアシッドホスファイト、トリラウリルトリチオホスファイト、ビス(ネオペンチルグリコール)・1,4−シクロヘキサンジメチルジホスファイト、ビス(2,4−ジ第三ブチルフェニル)ペンタエリスリトールジホスファイト、ビス(2,5−ジ第三ブチルフェニル)ペンタエリスリトールジホスファイト、ビス(2,6−ジ第三ブチル−4−メチルフェニル)ペンタエリスリトールジホスファイト、ビス(2,4−ジクミルフェニル)ペンタエリスリトールジホスファイト、ジステアリルペンタエリスリトールジホスファイト、テトラ(C12−15混合アルキル)−4,4’−イソプロピリデンジフェニルホスファイト、ビス[2,2’−メチレンビス(4,6−ジアミルフェニル)]・イソプロピリデンジフェニルホスファイト、テトラトリデシル・4,4’−ブチリデンビス(2−第三ブチル−5−メチルフェノール)ジホスファイト、ヘキサ(トリデシル)・1,1,3−トリス(2−メチル−5−第三ブチル−4−ヒドロキシフェニル)ブタン・トリホスファイト、テトラキス(2,4−ジ第三ブチルフェニル)ビフェニレンジホスホナイト、トリス(2−〔(2,4,7,9−テトラキス第三ブチルジベンゾ〔d,f〕〔1,3,2〕ジオキサホスフェピン−6−イル)オキシ〕エチル)アミン、9,10−ジハイドロ−9−オキサ−10−ホスファフェナンスレン−10−オキサイド、2−ブチル−2−エチルプロパンジオール・2,4,6−トリ第三ブチルフェノールモノホスファイト等が挙げられる。   Examples of the phosphite antioxidant that can be used in the polymer material composition of the present invention include triphenyl phosphite, tris (2,4-ditert-butylphenyl) phosphite, and tris (2,5 -Di-tert-butylphenyl) phosphite, tris (nonylphenyl) phosphite, tris (dinonylphenyl) phosphite, tris (mono, dimixed nonylphenyl) phosphite, diphenyl acid phosphite, 2,2'-methylenebis (4,6-ditert-butylphenyl) octyl phosphite, diphenyl decyl phosphite, diphenyl octyl phosphite, di (nonylphenyl) pentaerythritol diphosphite, phenyl diisodecyl phosphite, tributyl phosphite, tris (2-ethylhexyl) ) Phyto, tridecyl phosphite, trilauryl phosphite, dibutyl acid phosphite, dilauryl acid phosphite, trilauryl trithiophosphite, bis (neopentyl glycol) 1,4-cyclohexanedimethyl diphosphite, bis (2, 4-ditert-butylphenyl) pentaerythritol diphosphite, bis (2,5-ditert-butylphenyl) pentaerythritol diphosphite, bis (2,6-ditert-butyl-4-methylphenyl) pentaerythritol Diphosphite, bis (2,4-dicumylphenyl) pentaerythritol diphosphite, distearyl pentaerythritol diphosphite, tetra (C12-15 mixed alkyl) -4,4'-isopropylidene diphenyl phosphite, [2,2'-methylenebis (4,6-diamilphenyl)]-isopropylidene diphenyl phosphite, tetratridecyl 4,4'-butylidenebis (2-tert-butyl-5-methylphenol) diphosphite, hexa (Tridecyl) · 1,1,3-tris (2-methyl-5-tert-butyl-4-hydroxyphenyl) butane triphosphite, tetrakis (2,4-ditert-butylphenyl) biphenylene diphosphonite, tris (2-[(2,4,7,9-tetrakis tert-butyldibenzo [d, f] [1,3,2] dioxaphosphin-6-yl) oxy] ethyl) amine, 9,10- Dihydro-9-oxa-10-phosphaphenanthrene-10-oxide, 2-butyl-2-ethylpropanediol, 2,4,6-tri And tributylphenol monophosphite.

本発明の高分子材料組成物において用いることができる上記フェノール系抗酸化剤としては、例えば、2,6−ジ第三ブチル−p−クレゾール、2,6−ジフェニル−4−オクタデシロキシフェノール、ステアリル(3,5−ジ第三ブチル−4−ヒドロキシフェニル)プロピオネート、ジステアリル(3,5−ジ第三ブチル−4−ヒドロキシベンジル)ホスホネート、トリデシル・3,5−ジ第三ブチル−4−ヒドロキシベンジルチオアセテート、チオジエチレンビス[(3,5−ジ第三ブチル−4−ヒドロキシフェニル)プロピオネート]、4,4’−チオビス(6−第三ブチル−m−クレゾール)、2−オクチルチオ−4,6−ジ(3,5−ジ第三ブチル−4−ヒドロキシフェノキシ)−s−トリアジン、2,2’−メチレンビス(4−メチル−6−第三ブチルフェノール)、ビス[3,3−ビス(4−ヒドロキシ−3−第三ブチルフェニル)ブチリックアシッド]グリコールエステル、4,4’−ブチリデンビス(2,6−ジ第三ブチルフェノール)、4,4’−ブチリデンビス(6−第三ブチル−3−メチルフェノール)、2,2’−エチリデンビス(4,6−ジ第三ブチルフェノール)、1,1,3−トリス(2−メチル−4−ヒドロキシ−5−第三ブチルフェニル)ブタン、ビス[2−第三ブチル−4−メチル−6−(2−ヒドロキシ−3−第三ブチル−5−メチルベンジル)フェニル]テレフタレート、1,3,5−トリス(2,6−ジメチル−3−ヒドロキシ−4−第三ブチルベンジル)イソシアヌレート、1,3,5−トリス(3,5−ジ第三ブチル−4−ヒドロキシベンジル)イソシアヌレート、1,3,5−トリス(3,5−ジ第三ブチル−4−ヒドロキシベンジル)−2,4,6−トリメチルベンゼン、1,3,5−トリス[(3,5−ジ第三ブチル−4−ヒドロキシフェニル)プロピオニルオキシエチル]イソシアヌレート、テトラキス[メチレン−3−(3’,5’−ジ第三ブチル−4’−ヒドロキシフェニル)プロピオネート]メタン、2−第三ブチル−4−メチル−6−(2−アクロイルオキシ−3−第三ブチル−5−メチルベンジル)フェノール、3,9−ビス[2−(3−第三ブチル−4−ヒドロキシ−5−メチルヒドロシンナモイルオキシ)−1,1−ジメチルエチル]−2,4,8,10−テトラオキサスピロ[5.5]ウンデカン、トリエチレングリコールビス[β−(3−第三ブチル−4−ヒドロキシ−5−メチルフェニル)プロピオネート]等が挙げられる。   Examples of the phenol-based antioxidant that can be used in the polymer material composition of the present invention include 2,6-ditert-butyl-p-cresol, 2,6-diphenyl-4-octadecyloxyphenol, Stearyl (3,5-ditert-butyl-4-hydroxyphenyl) propionate, distearyl (3,5-ditert-butyl-4-hydroxybenzyl) phosphonate, tridecyl 3,5-ditert-butyl-4- Hydroxybenzylthioacetate, thiodiethylenebis [(3,5-ditert-butyl-4-hydroxyphenyl) propionate], 4,4′-thiobis (6-tert-butyl-m-cresol), 2-octylthio-4 , 6-Di (3,5-ditert-butyl-4-hydroxyphenoxy) -s-triazine, 2,2′-methylenebis (4- Til-6-tert-butylphenol), bis [3,3-bis (4-hydroxy-3-tert-butylphenyl) butyric acid] glycol ester, 4,4′-butylidenebis (2,6-ditert-butylphenol) ), 4,4′-butylidenebis (6-tert-butyl-3-methylphenol), 2,2′-ethylidenebis (4,6-ditert-butylphenol), 1,1,3-tris (2-methyl) -4-hydroxy-5-tert-butylphenyl) butane, bis [2-tert-butyl-4-methyl-6- (2-hydroxy-3-tert-butyl-5-methylbenzyl) phenyl] terephthalate, 1, 3,5-tris (2,6-dimethyl-3-hydroxy-4-tert-butylbenzyl) isocyanurate, 1,3,5-tris (3,5-ditert-butyl-4-hydride Xylbenzyl) isocyanurate, 1,3,5-tris (3,5-ditert-butyl-4-hydroxybenzyl) -2,4,6-trimethylbenzene, 1,3,5-tris [(3,5- Ditertiarybutyl-4-hydroxyphenyl) propionyloxyethyl] isocyanurate, tetrakis [methylene-3- (3 ′, 5′-ditertiarybutyl-4′-hydroxyphenyl) propionate] methane, 2-tertiarybutyl -4-methyl-6- (2-acryloyloxy-3-tert-butyl-5-methylbenzyl) phenol, 3,9-bis [2- (3-tert-butyl-4-hydroxy-5-methylhydro) Cinnamoyloxy) -1,1-dimethylethyl] -2,4,8,10-tetraoxaspiro [5.5] undecane, triethylene glycol bis [β- (3-th Butyl-4-hydroxy-5-methylphenyl) propionate] and the like.

本発明の高分子材料組成物において用いることができる上記硫黄系抗酸化剤としては、例えば、チオジプロピオン酸の、ジラウリルエステル、ジミリスチルエステル、ミリスチルステアリルエステル、ジステアリルエステル等のジアルキルチオジプロピオネート類、ペンタエリスリトールテトラ(β−ドデシルメルカプトプロピオネート)等のポリオールのβ−アルキルメルカプトプロピオン酸エステル類が挙げられる。   Examples of the sulfur-based antioxidant that can be used in the polymer material composition of the present invention include dialkylthiodiprote such as dilauryl ester, dimyristyl ester, myristyl stearyl ester, and distearyl ester of thiodipropionic acid. Examples thereof include β-alkyl mercaptopropionic acid esters of polyols such as pinates and pentaerythritol tetra (β-dodecyl mercaptopropionate).

また、本発明の高分子材料組成物には、さらに必要に応じて、本発明の効果を損なわない範囲で、前記一般式(I)で表されるトリアジン系化合物以外の従来公知の紫外線吸収剤を用いることもできる。   Further, the polymer material composition of the present invention further includes, as necessary, conventionally known ultraviolet absorbers other than the triazine compound represented by the general formula (I) within a range not impairing the effects of the present invention. Can also be used.

本発明の高分子材料組成物において用いることができる紫外線吸収剤としては、例えば、2,4−ジヒドロキシベンゾフェノン、2−ヒドロキシ−4−メトキシベンゾフェノン、2−ヒドロキシ−4−オクトキシベンゾフェノン、5,5’−メチレンビス(2−ヒドロキシ−4−メトキシベンゾフェノン)等の2−ヒドロキシベンゾフェノン類;2−(2−ヒドロキシ−5−メチルフェニル)ベンゾトリアゾール、2−(2−ヒドロキシ−5−第三オクチルフェニル)ベンゾトリアゾール、2−(2−ヒドロキシ−3,5−ジ第三ブチルフェニル)−5−クロロベンゾトリアゾール、2−(2−ヒドロキシ−3−第三ブチル−5−メチルフェニル)−5−クロロベンゾトリアゾール、2−(2−ヒドロキシ−3,5−ジクミルフェニル)ベンゾトリアゾール、2,2’−メチレンビス(4−第三オクチル−6−ベンゾトリアゾリルフェノール)、2−(2−ヒドロキシ−3−第三ブチル−5−カルボキシフェニル)ベンゾトリアゾールのポリエチレングリコールエステル、2−〔2−ヒドロキシ−3−(2−アクリロイルオキシエチル)−5−メチルフェニル〕ベンゾトリアゾール、2−〔2−ヒドロキシ−3−(2−メタクリロイルオキシエチル)−5−第三ブチルフェニル〕ベンゾトリアゾール、2−〔2−ヒドロキシ−3−(2−メタクリロイルオキシエチル)−5−第三オクチルフェニル〕ベンゾトリアゾール、2−〔2−ヒドロキシ−3−(2−メタクリロイルオキシエチル)−5−第三ブチルフェニル〕−5−クロロベンゾトリアゾール、2−〔2−ヒドロキシ−5−(2−メタクリロイルオキシエチル)フェニル〕ベンゾトリアゾール、2−〔2−ヒドロキシ−3−第三ブチル−5−(2−メタクリロイルオキシエチル)フェニル〕ベンゾトリアゾール、2−〔2−ヒドロキシ−3−第三アミル−5−(2−メタクリロイルオキシエチル)フェニル〕ベンゾトリアゾール、2−〔2−ヒドロキシ−3−第三ブチル−5−(3−メタクリロイルオキシプロピル)フェニル〕−5−クロロベンゾトリアゾール、2−〔2−ヒドロキシ−4−(2−メタクリロイルオキシメチル)フェニル〕ベンゾトリアゾール、2−〔2−ヒドロキシ−4−(3−メタクリロイルオキシ−2−ヒドロキシプロピル)フェニル〕ベンゾトリアゾール、2−〔2−ヒドロキシ−4−(3−メタクリロイルオキシプロピル)フェニル〕ベンゾトリアゾール等の2−(2−ヒドロキシフェニル)ベンゾトリアゾール類;2−(2−ヒドロキシ−4−メトキシフェニル)−4,6−ジフェニル−1,3,5−トリアジン、2−(2−ヒドロキシ−4−ヘキシロキシフェニル)−4,6−ジフェニル−1,3,5−トリアジン、2−(2−ヒドロキシ−4−オクトキシフェニル)−4,6−ビス(2,4−ジメチルフェニル)−1,3,5−トリアジン、2−〔2−ヒドロキシ−4−(3−C12〜13混合アルコキシ−2−ヒドロキシプロポキシ)フェニル〕−4,6−ビス(2,4−ジメチルフェニル)−1,3,5−トリアジン、2−〔2−ヒドロキシ−4−(2−アクリロイルオキシエトキシ)フェニル〕−4,6−ビス(4−メチルフェニル)−1,3,5−トリアジン、2−(2,4−ジヒドロキシ−3−アリルフェニル)−4,6−ビス(2,4−ジメチルフェニル)−1,3,5−トリアジン、2,4,6−トリス(2−ヒドロキシ−3−メチル−4−ヘキシロキシフェニル)−1,3,5−トリアジン等の2−(2−ヒドロキシフェニル)−4,6−ジアリール−1,3,5−トリアジン類;フェニルサリシレート、レゾルシノールモノベンゾエート、2,4−ジ第三ブチルフェニル−3,5−ジ第三ブチル−4−ヒドロキシベンゾエート、オクチル(3,5−ジ第三ブチル−4−ヒドロキシ)ベンゾエート、ドデシル(3,5−ジ第三ブチル−4−ヒドロキシ)ベンゾエート、テトラデシル(3,5−ジ第三ブチル−4−ヒドロキシ)ベンゾエート、ヘキサデシル(3,5−ジ第三ブチル−4−ヒドロキシ)ベンゾエート、オクタデシル(3,5−ジ第三ブチル−4−ヒドロキシ)ベンゾエート、ベヘニル(3,5−ジ第三ブチル−4−ヒドロキシ)ベンゾエート等のベンゾエート類;2−エチル−2’−エトキシオキザニリド、2−エトキシ−4’−ドデシルオキザニリド等の置換オキザニリド類;エチル−α−シアノ−β,β−ジフェニルアクリレート、メチル−2−シアノ−3−メチル−3−(p−メトキシフェニル)アクリレート等のシアノアクリレート類;ニッケル、クロム等の各種金属の金属塩又は金属キレート等が挙げられる。   Examples of the ultraviolet absorber that can be used in the polymer material composition of the present invention include 2,4-dihydroxybenzophenone, 2-hydroxy-4-methoxybenzophenone, 2-hydroxy-4-octoxybenzophenone, and 5,5. 2-hydroxybenzophenones such as' -methylenebis (2-hydroxy-4-methoxybenzophenone); 2- (2-hydroxy-5-methylphenyl) benzotriazole, 2- (2-hydroxy-5-tert-octylphenyl) Benzotriazole, 2- (2-hydroxy-3,5-ditert-butylphenyl) -5-chlorobenzotriazole, 2- (2-hydroxy-3-tert-butyl-5-methylphenyl) -5-chlorobenzo Triazole, 2- (2-hydroxy-3,5-dicumylphenyl) ben Polyethylene glycol ester of triazole, 2,2′-methylenebis (4-tert-octyl-6-benzotriazolylphenol), 2- (2-hydroxy-3-tert-butyl-5-carboxyphenyl) benzotriazole, 2 -[2-hydroxy-3- (2-acryloyloxyethyl) -5-methylphenyl] benzotriazole, 2- [2-hydroxy-3- (2-methacryloyloxyethyl) -5-tert-butylphenyl] benzotriazole 2- [2-hydroxy-3- (2-methacryloyloxyethyl) -5-tert-octylphenyl] benzotriazole, 2- [2-hydroxy-3- (2-methacryloyloxyethyl) -5-tert-butyl Phenyl] -5-chlorobenzotriazole, 2- [2-hydroxy-5- 2-methacryloyloxyethyl) phenyl] benzotriazole, 2- [2-hydroxy-3-tert-butyl-5- (2-methacryloyloxyethyl) phenyl] benzotriazole, 2- [2-hydroxy-3-tert-amyl -5- (2-methacryloyloxyethyl) phenyl] benzotriazole, 2- [2-hydroxy-3-tert-butyl-5- (3-methacryloyloxypropyl) phenyl] -5-chlorobenzotriazole, 2- [2 -Hydroxy-4- (2-methacryloyloxymethyl) phenyl] benzotriazole, 2- [2-hydroxy-4- (3-methacryloyloxy-2-hydroxypropyl) phenyl] benzotriazole, 2- [2-hydroxy-4 -(3-Methacryloyloxypropyl) phenyl] 2- (2-hydroxyphenyl) benzotriazoles such as nzotriazole; 2- (2-hydroxy-4-methoxyphenyl) -4,6-diphenyl-1,3,5-triazine, 2- (2-hydroxy -4-hexyloxyphenyl) -4,6-diphenyl-1,3,5-triazine, 2- (2-hydroxy-4-octoxyphenyl) -4,6-bis (2,4-dimethylphenyl)- 1,3,5-triazine, 2- [2-hydroxy-4- (3-C12-13mixed alkoxy-2-hydroxypropoxy) phenyl] -4,6-bis (2,4-dimethylphenyl) -1, 3,5-triazine, 2- [2-hydroxy-4- (2-acryloyloxyethoxy) phenyl] -4,6-bis (4-methylphenyl) -1,3,5-triazine, -(2,4-dihydroxy-3-allylphenyl) -4,6-bis (2,4-dimethylphenyl) -1,3,5-triazine, 2,4,6-tris (2-hydroxy-3- 2- (2-hydroxyphenyl) -4,6-diaryl-1,3,5-triazines such as methyl-4-hexyloxyphenyl) -1,3,5-triazine; phenyl salicylate, resorcinol monobenzoate, 2 , 4-Di-tert-butylphenyl-3,5-di-tert-butyl-4-hydroxybenzoate, octyl (3,5-di-tert-butyl-4-hydroxy) benzoate, dodecyl (3,5-di-tert-butyl) -4-hydroxy) benzoate, tetradecyl (3,5-ditert-butyl-4-hydroxy) benzoate, hexadecyl (3,5-ditert-butyl-4-hydro) B) Benzoates such as benzoate, octadecyl (3,5-ditert-butyl-4-hydroxy) benzoate, behenyl (3,5-ditert-butyl-4-hydroxy) benzoate; 2-ethyl-2′-ethoxy Substituted oxanilides such as oxanilide and 2-ethoxy-4′-dodecyloxanilide; ethyl-α-cyano-β, β-diphenylacrylate, methyl-2-cyano-3-methyl-3- (p-methoxy) Cyanoacrylates such as phenyl) acrylate; metal salts or metal chelates of various metals such as nickel and chromium.

その他必要に応じて、本発明の高分子材料組成物には、カチオン系界面活性剤、アニオン系界面活性剤、ノニオン系界面活性剤、両性界面活性剤等からなる帯電防止剤;ハロゲン系化合物、リン酸エステル系化合物、リン酸アミド系化合物、メラミン系化合物、ポリリン酸のメラミン塩化合物、フッ素樹脂又は金属酸化物等の難燃剤;炭化水素系、脂肪酸系、脂肪族アルコール系、脂肪族エステル系、脂肪族アマイド系、金属石けん系等の滑剤;重金属不活性剤;ハイドロタルサイト;有機カルボン酸;染料顔料等の着色剤;ポリオレフィンパウダー等の加工助剤;フュームドシリカ、微粒子シリカ、けい石、珪藻土類、クレー、カオリン、シリカゲル、珪酸カルシウム、セリサイト、カオリナイト、フリント、長石粉、蛭石、アタパルジャイト、タルク、マイカ、ミネソタイト、パイロフィライト等の珪酸系添加剤;炭酸カルシウム等の充填剤;造核剤;有機錫化合物;ステアリン酸マグネシウム、ステアリン酸カルシウム、ステアリン酸亜鉛等の脂肪族有機酸金属塩;可塑剤;エポキシ化合物;発泡剤等の添加剤を配合することができる。   In addition, if necessary, the polymer material composition of the present invention includes an antistatic agent comprising a cationic surfactant, an anionic surfactant, a nonionic surfactant, an amphoteric surfactant, and the like; a halogen compound, Phosphoric ester compounds, phosphoric acid amide compounds, melamine compounds, melamine salt compounds of polyphosphoric acid, flame retardants such as fluororesin or metal oxides; hydrocarbons, fatty acids, aliphatic alcohols, aliphatic esters Lubricants such as aliphatic amides and metal soaps; heavy metal deactivators; hydrotalcite; organic carboxylic acids; colorants such as dye pigments; processing aids such as polyolefin powder; fumed silica, fine particle silica, silica , Diatomaceous earth, clay, kaolin, silica gel, calcium silicate, sericite, kaolinite, flint, feldspar powder, meteorite, attapulja Silicate additives such as talc, mica, minesotite, pyrophyllite; fillers such as calcium carbonate; nucleating agents; organic tin compounds; aliphatic organic acid metals such as magnesium stearate, calcium stearate, zinc stearate Additives such as salt; plasticizer; epoxy compound; foaming agent can be blended.

本発明の高分子材料組成物の用途としては、特に制限されるものではないが、その形態としては、成形品、薄膜状物などが挙げられ、特に、薄膜状物が有効であり、薄膜状のものであれば、合成樹脂フィルム、シート、塗料の他、不織布や織物などに用いられる繊維であってもよい。   The use of the polymer material composition of the present invention is not particularly limited, but examples of the form thereof include a molded product, a thin film, and the like. As long as it is a thing, the fiber used for a nonwoven fabric, a textile fabric, etc. other than a synthetic resin film, a sheet | seat, a coating material may be sufficient.

また、具体的な用途としては、バンパー、ダッシュボード、インスツルメントパネル等の自動車用樹脂部品;冷蔵庫、洗濯機、掃除機等の家電製品用樹脂部品;食器、バケツ、入浴用品等の家庭用品;コネクター等の接続用樹脂部品;玩具等の雑貨品;医療用パック、注射器、カテーテル、医療用チューブ等の医療用成形品;壁材、床材、窓枠、壁紙等の建材;電線被覆材;ハウス、トンネル等の農業用資材;ラップ、トレイ等の食品包装材等の、フィルム及びシートを含む成形品;繊維;塗料;コーティング材等が挙げられる。   Specific applications include resin parts for automobiles such as bumpers, dashboards, and instrument panels; resin parts for household appliances such as refrigerators, washing machines, and vacuum cleaners; household items such as tableware, buckets, and bath products Resin parts for connection such as connectors; miscellaneous goods such as toys; medical molded products such as medical packs, syringes, catheters, and medical tubes; building materials such as wall materials, flooring materials, window frames, and wallpaper; Agricultural materials such as houses and tunnels; molded products including films and sheets such as food packaging materials such as wraps and trays; fibers; paints; coating materials and the like.

以下、実施例及び比較例をもって本発明を更に詳細に説明する。しかし、本発明は以下の実施例によって何ら制限を受けるものではない。   Hereinafter, the present invention will be described in more detail with reference to examples and comparative examples. However, the present invention is not limited by the following examples.

(合成例1)化合物No.7の合成
(1)中間体Aの合成
下記式で表される中間体Aを合成した。すなわち、反応フラスコに塩化シアヌル65.0mmol、2−メチルレゾルシノール278mmol、及びクロロベンゼン80mlを仕込み、三塩化アルミニウム84.5mmolを徐々に加え、80℃で2時間反応させた。反応系を25℃に冷却し、6mol/リットルの塩酸水溶液を14ml滴下し、1時間撹拌した。得られた結晶を濾取し、水洗した後、ジメチルホルムアミド溶媒を用いて再結晶を行い、中間体Aの結晶を収率68.0%で得た。

Figure 2007269903
(Synthesis Example 1) Compound No. 1 Synthesis of 7 (1) Synthesis of Intermediate A Intermediate A represented by the following formula was synthesized. That is, 65.0 mmol of cyanuric chloride, 278 mmol of 2-methylresorcinol, and 80 ml of chlorobenzene were charged into a reaction flask, and 84.5 mmol of aluminum trichloride was gradually added, followed by reaction at 80 ° C. for 2 hours. The reaction system was cooled to 25 ° C., 14 ml of a 6 mol / liter hydrochloric acid aqueous solution was dropped, and the mixture was stirred for 1 hour. The obtained crystals were collected by filtration, washed with water, and recrystallized using a dimethylformamide solvent to obtain Intermediate A crystals in a yield of 68.0%.
Figure 2007269903

(2)化合物No.7の合成

Figure 2007269903
メカニカルスターラー、ジムロート、温度計および窒素送入手段を備えた100mLの四つ口丸底フラスコに、先に得られた中間体Aである2,4,6−トリ(3−メチル−2,4−ジヒドロキシフェニル)−1,3,5−トリアジン5.0g(11.1×10-3mol)、トリエチルアミン(TEA)6.78g(33.5×10-3mol)、及びキシレン18gを仕込んだ。その後、80℃まで昇温し、2−エチルヘキサン酸クロライド5.42g(33.5×10-3mol)を30分かけて滴下した。反応率をHPLC(カラム;(株)センシュー科学製PEGASIL ODS、展開溶媒;テトラヒドロフラン(THF):水=3:1)により確認し、6時間80℃で反応させた。原料の消失を確認した後、反応混合物を冷却し、1N HClで中和を行った。有機相を水で2回洗浄し、無水硫酸マグネシウムで乾燥させた後、溶媒を減圧下で除去した。それをヘキサンに分散させてろ過を行い、得られたろ液から溶媒を除去することにより、目的化合物(化合物No.7)を6.4g、収率70%で得た。 (2) Compound No. Synthesis of 7
Figure 2007269903
To a 100 mL four-necked round bottom flask equipped with a mechanical stirrer, a Dimroth, a thermometer, and a nitrogen inlet means, 2,4,6-tri (3-methyl-2,4, which was the intermediate A obtained earlier, was added. -Dihydroxyphenyl) -1,3,5-triazine (5.0 g, 11.1 × 10 −3 mol), triethylamine (TEA), 6.78 g (33.5 × 10 −3 mol), and xylene (18 g) were charged. . Thereafter, the temperature was raised to 80 ° C., and 5.42 g (33.5 × 10 −3 mol) of 2-ethylhexanoic acid chloride was added dropwise over 30 minutes. The reaction rate was confirmed by HPLC (column; PEGASIL ODS manufactured by Senshu Kagaku Co., Ltd., developing solvent; tetrahydrofuran (THF): water = 3: 1), and reacted at 80 ° C. for 6 hours. After confirming the disappearance of the raw materials, the reaction mixture was cooled and neutralized with 1N HCl. The organic phase was washed twice with water and dried over anhydrous magnesium sulfate, and then the solvent was removed under reduced pressure. It was dispersed in hexane and filtered, and the solvent was removed from the obtained filtrate to obtain 6.4 g of the target compound (Compound No. 7) in a yield of 70%.

得られた化合物について、各種分析を行った。分析結果を以下に示す。
融点:74.0℃
赤外吸収スペクトル(KBr,cm-1):3433,2963,2932,2862,1759,1605,1539,1435,1308,1103
1H−NMR(90MHz,CDCl3,ppm):13.29(s,−OH),8.40(d,Ph),6.73(d,Ph),2.58(quin),2.24(s,−CH3),2.17−0.95(m)

Figure 2007269903
Various analyzes were performed about the obtained compound. The analysis results are shown below.
Melting point: 74.0 ° C
Infrared absorption spectrum (KBr, cm −1 ): 3433, 2963, 2932, 2862, 1759, 1605, 1539, 1435, 1308, 1103
1 H-NMR (90 MHz, CDCl 3 , ppm): 13.29 (s, —OH), 8.40 (d, Ph), 6.73 (d, Ph), 2.58 (quin), 2. 24 (s, -CH 3), 2.17-0.95 (m)
Figure 2007269903

(実施例1および比較例1,2)
(試料(キャストフィルム)作製)
120℃で6時間乾燥させたポリカーボネート樹脂(三菱エンジニアリングプラスチックス株式会社製:ユーピロンS−3000F)を1.25g、上記化合物No.7を6.25mg(0.5phr)、それぞれ25mlメスフラスコに入れ、ジクロロメタンを標線まで加えた。1時間ほど室温で放置し溶解した後、この溶液を4mlホールピペットでシャーレ(直径:60mm)に入れ、30分間室温で乾燥させた。乾燥後、シャーレからフィルムをはがし取ることで、実施例1の50μm厚のPCフィルムを得た。
(Example 1 and Comparative Examples 1 and 2)
(Sample (cast film) production)
1.25 g of a polycarbonate resin (Mitsubishi Engineering Plastics Co., Ltd .: Iupilon S-3000F) dried at 120 ° C. for 6 hours, 7.25 mg (0.5 phr) of 7 was placed in each 25 ml volumetric flask, and dichloromethane was added up to the marked line. After being left at room temperature for about 1 hour for dissolution, this solution was placed in a petri dish (diameter: 60 mm) with a 4 ml hole pipette and dried at room temperature for 30 minutes. After drying, the PC film having a thickness of 50 μm of Example 1 was obtained by peeling off the film from the petri dish.

また、上記化合物No.7に代えて下記比較化合物1を用いた以外は実施例1と同様にして、比較例1のPCフィルムを得た。さらに、上記化合物No.7を用いない以外は実施例1と同様にして、比較例2のPCフィルムを得た。

Figure 2007269903
In addition, the above compound No. A PC film of Comparative Example 1 was obtained in the same manner as in Example 1 except that the following Comparative Compound 1 was used instead of 7. Furthermore, the above compound No. A PC film of Comparative Example 2 was obtained in the same manner as Example 1 except that 7 was not used.
Figure 2007269903

(耐候性試験方法)
上記実施例および比較例のPCフィルムについて、スガ試験機株式会社製 サンシャインウェザーメーター(83℃)水スプレーあり、および、ATLAS社製 キセノンウェーザーメーター(65℃)水スプレーあり(条件同一:連続照射、水スプレー時間 120分中18分)で、120時間毎の黄色度をスガ試験機株式会社製 多光源分光測色計により測定した。
(Weather resistance test method)
About the PC film of the said Example and comparative example, there is a sunshine weather meter (83 degreeC) water spray by Suga Test Instruments Co., Ltd., and a xenon weather meter (65 degreeC) water spray made by ATLAS (same conditions: continuous irradiation) The water spray time was 18 minutes out of 120 minutes), and the yellowness every 120 hours was measured with a multi-light source spectrocolorimeter manufactured by Suga Test Instruments Co., Ltd.

サンシャインウェザーメーターでの耐候性試験ではフィルムの透過により黄色度の測定を行い、色差(ΔE)を表1に、黄色度の差(ΔY.I.)を表2に示した。また、キセノンウェーザーメーターでは反射により黄色度の測定を行い、色差(ΔE)を表3に、黄色度の差(ΔY.I.)を表4に示した。   In the weather resistance test with a sunshine weather meter, the yellowness was measured by the transmission of the film. The color difference (ΔE) was shown in Table 1, and the difference in yellowness (ΔYI) was shown in Table 2. The xenon weather meter measured yellowness by reflection, and Table 3 shows the color difference (ΔE) and Table 4 shows the difference in yellowness (ΔYI).

Figure 2007269903
Figure 2007269903

Figure 2007269903
Figure 2007269903

Figure 2007269903
Figure 2007269903

Figure 2007269903
Figure 2007269903

Claims (3)

高分子材料と、下記一般式(I)、
Figure 2007269903
(式中、R1〜R3は、各々独立に、炭素原子数1〜18の直鎖または分岐のアルキル基、炭素原子数3〜8のシクロアルキル基、炭素原子数3〜8のアルケニル基、炭素原子数6〜18のアリール基、アルキルアリール基またはアリールアルキル基を表す。但し、これらアルキル基、シクロアルキル基、アルケニル基、アリール基、アルキルアリール基またはアリールアルキル基は、ヒドロキシ基、ハロゲン原子、シアノ基、ニトロ基、炭素原子数1〜18のアルキル基またはアルコキシ基で置換されていてもよく、酸素原子、硫黄原子、カルボニル基、エステル基、アミド基またはイミノ基で中断されていてもよく、これらの置換及び中断は組み合わされていてもよい。R4〜R6は、各々独立に、炭素原子数1〜8の直鎖または分岐のアルキル基、または炭素原子数3〜8のアルケニル基を表す。R7〜R9は、各々独立に、水素原子、ハロゲン原子、炭素原子数1〜8の直鎖または分岐のアルキル基、または炭素原子数3〜8のアルケニル基を表す。)で表されるトリアジン系化合物とを含有することを特徴とする高分子材料組成物。
A polymer material, the following general formula (I),
Figure 2007269903
(Wherein R 1 to R 3 are each independently a linear or branched alkyl group having 1 to 18 carbon atoms, a cycloalkyl group having 3 to 8 carbon atoms, or an alkenyl group having 3 to 8 carbon atoms. Represents an aryl group having 6 to 18 carbon atoms, an alkylaryl group or an arylalkyl group, provided that these alkyl group, cycloalkyl group, alkenyl group, aryl group, alkylaryl group or arylalkyl group are a hydroxy group, a halogen atom, Optionally substituted with atoms, cyano groups, nitro groups, alkyl groups of 1 to 18 carbon atoms or alkoxy groups, interrupted by oxygen atoms, sulfur atoms, carbonyl groups, ester groups, amide groups or imino groups. These substitutions and interruptions may be combined, and each of R 4 to R 6 independently represents a linear or branched atom having 1 to 8 carbon atoms. R 7 to R 9 each independently represent a hydrogen atom, a halogen atom, a linear or branched alkyl group having 1 to 8 carbon atoms, or a carbon atom. And a triazine-based compound represented by the formula (1): an alkenyl group having 3 to 8 atoms.
前記一般式(I)中のR4、R5、R6がメチル基であるトリアジン系化合物を含有する請求項1記載の高分子材料組成物。 The polymer material composition according to claim 1, comprising a triazine compound in which R 4 , R 5 and R 6 in the general formula (I) are methyl groups. 前記高分子材料がポリカーボネート樹脂である請求項1または2記載の高分子材料組成物。   The polymer material composition according to claim 1 or 2, wherein the polymer material is a polycarbonate resin.
JP2006095273A 2006-03-30 2006-03-30 Polymeric material composition Pending JP2007269903A (en)

Priority Applications (6)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP2006095273A JP2007269903A (en) 2006-03-30 2006-03-30 Polymeric material composition
KR1020087024598A KR20090007698A (en) 2006-03-30 2007-03-27 Polymeric material composition
US12/294,726 US20100174015A1 (en) 2006-03-30 2007-03-27 Polymeric material composition
CNA2007800115959A CN101410446A (en) 2006-03-30 2007-03-27 Polymeric material composition
EP07739754A EP2006324A4 (en) 2006-03-30 2007-03-27 Polymer material composition
PCT/JP2007/056316 WO2007114112A1 (en) 2006-03-30 2007-03-27 Polymer material composition

Applications Claiming Priority (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP2006095273A JP2007269903A (en) 2006-03-30 2006-03-30 Polymeric material composition

Publications (1)

Publication Number Publication Date
JP2007269903A true JP2007269903A (en) 2007-10-18

Family

ID=38673033

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
JP2006095273A Pending JP2007269903A (en) 2006-03-30 2006-03-30 Polymeric material composition

Country Status (2)

Country Link
JP (1) JP2007269903A (en)
CN (1) CN101410446A (en)

Cited By (2)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2009185291A (en) * 2009-02-18 2009-08-20 Adeka Corp Ultraviolet absorbing agent composition with improved heat resistance, and synthetic resin composition containing the same
JP2011219746A (en) * 2010-03-26 2011-11-04 Mitsubishi Chemicals Corp Polycarbonate resin composition and molded article

Families Citing this family (3)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
CN105785718A (en) * 2015-01-09 2016-07-20 三星显示有限公司 Photosensitive Resin Composition, Color Conversion Panel Using The Same And Display Device
CN110615769A (en) * 2018-06-19 2019-12-27 吴飞鹏 Triazine derivative, modified triazine derivative and preparation method
CN114130946A (en) * 2021-11-29 2022-03-04 江苏丽莎环保科技有限公司 Copolymer for casting and preparation method thereof

Citations (4)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US3249608A (en) * 1963-07-26 1966-05-03 Ciba Ltd Hydroxyphenyl-1, 3, 5-triazines
JP2004352728A (en) * 1993-02-03 2004-12-16 Ciba Specialty Chem Holding Inc Electrodeposition coat/base coat/clear coat polishing material stabilized by s-triazine ultraviolet absorber
WO2005109052A1 (en) * 2004-05-12 2005-11-17 Adeka Corporation Optical film
JP2006045389A (en) * 2004-08-05 2006-02-16 Asahi Denka Kogyo Kk Light-diffusible polycarbonate resin composition and translucent molded object

Patent Citations (4)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US3249608A (en) * 1963-07-26 1966-05-03 Ciba Ltd Hydroxyphenyl-1, 3, 5-triazines
JP2004352728A (en) * 1993-02-03 2004-12-16 Ciba Specialty Chem Holding Inc Electrodeposition coat/base coat/clear coat polishing material stabilized by s-triazine ultraviolet absorber
WO2005109052A1 (en) * 2004-05-12 2005-11-17 Adeka Corporation Optical film
JP2006045389A (en) * 2004-08-05 2006-02-16 Asahi Denka Kogyo Kk Light-diffusible polycarbonate resin composition and translucent molded object

Cited By (3)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2009185291A (en) * 2009-02-18 2009-08-20 Adeka Corp Ultraviolet absorbing agent composition with improved heat resistance, and synthetic resin composition containing the same
JP2011219746A (en) * 2010-03-26 2011-11-04 Mitsubishi Chemicals Corp Polycarbonate resin composition and molded article
US10308760B2 (en) 2010-03-26 2019-06-04 Mitsubishi Chemical Corporation Polycarbonate resin composition and molded article

Also Published As

Publication number Publication date
CN101410446A (en) 2009-04-15

Similar Documents

Publication Publication Date Title
EP1731508B1 (en) Weakly basic hindered amines having carbonate skeletons, synthetic resin compositions, and coating compositions
JP4070157B2 (en) Triazine compounds and UV absorbers
BR9803109B1 (en) &#34;n, n &#39;, n&#34;&#39; - tris ({2,4-bis [(1-hydroxycarboxy-2,2,6,6-tetramethylpipe ridin-4-yl) alkylamino] -s-triazin-6-yl} 3,3&#39;-ethylenediimin odipropylamines, composition stabilized against thermal, oxidative or light-induced degradation, mixing and process for preparing said mixture.
KR20080102186A (en) Modified waxes, a process for their preparation, and their use
JP2007269903A (en) Polymeric material composition
US20100174015A1 (en) Polymeric material composition
JP4070156B2 (en) Triazine compounds and ultraviolet absorbers
JP2003313444A (en) Particulate crystal nucleating agent composition and crystalline polymer composition containing the same
US7125920B2 (en) Ultraviolet absorber for synthetic resin and synthetic resin composition containing the same
JP4868651B2 (en) Thermoplastic resin composition
JP2003531897A (en) Method for producing sterically hindered aryloxyamine
JP4014184B2 (en) Polymer material composition
JP2003335968A (en) Nucleating agent composition and crystalline polymer composition containing the same
JP2007269904A (en) Polymeric material composition
JP4033446B2 (en) UV absorber for synthetic resin, synthetic resin composition containing the same, and resin molded product
JPWO2016021315A1 (en) Antioxidant for thermoplastic resin and thermoplastic resin composition containing the same
JPH0952916A (en) Ultraviolet light absorbing composition
JP3932144B2 (en) Triazine compound, ultraviolet absorber comprising the same, and polymer material composition containing the same
JP3821470B2 (en) UV absorber for synthetic resin, synthetic resin composition containing the same, and resin molded product
JP2001302926A (en) Resin composition for molding
JP2003082159A (en) Flame-retardant for synthetic resin
JP4789649B2 (en) Nucleator
JPH1017556A (en) Triazine-based compound, ultraviolet absorber consisting thereof and composition containing the same
JP3736814B2 (en) Triazine compound and ultraviolet absorber comprising the same
JP3555709B2 (en) Ultraviolet absorber and organic material to which it is added

Legal Events

Date Code Title Description
A621 Written request for application examination

Effective date: 20081209

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A621

A131 Notification of reasons for refusal

Effective date: 20120420

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A131

A02 Decision of refusal

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A02

Effective date: 20120817