JP2007266545A - 基板処理装置 - Google Patents
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Abstract
【課題】処理液の供給を少なくとも2段分のカーテン状にして行うことでカーテンの基板の表面での処理液の供給の不均一の発生確率を極力低減させ、かつ処理液の供給量の増大によって処理液の置換性能を向上させる。
【解決手段】処理チャンバ12内で搬送路上を搬送される基板Bに対して処理を行う基板処理装置で、搬送路の上方位置に配設される入口ノズル部20を備る。入口ノズル部20は、第1、第2部材20A,20Bらなる第1のノズル部と、第2、第3部材20B,20Cからなる第2のノズル部を一体で有する。第1、第2ノズル部の吐出口2012a,2022aからはそれぞれ基板の幅方向にカーテン状でリンス液の吐出を行う。
【選択図】図2
【解決手段】処理チャンバ12内で搬送路上を搬送される基板Bに対して処理を行う基板処理装置で、搬送路の上方位置に配設される入口ノズル部20を備る。入口ノズル部20は、第1、第2部材20A,20Bらなる第1のノズル部と、第2、第3部材20B,20Cからなる第2のノズル部を一体で有する。第1、第2ノズル部の吐出口2012a,2022aからはそれぞれ基板の幅方向にカーテン状でリンス液の吐出を行う。
【選択図】図2
Description
本発明は、液晶表示デバイス(LCD)、プラズマ表示デバイス(PDP)、半導体デバイス、プリント基板、有機EL(electroluminescence)基板、FED(Field emission display)基板等の製造プロセスにおいて、LCD又はPDP用ガラス基板、半導体基板、プリント基板、有機EL基板、FED基板等に対して各種の処理、例えば洗浄処理を行う基板処理装置に関する。
特許文献1には、エッチング処理後の基板表面に対するリンス処理を可能とする基板処理装置が記載されている。すなわち、処理チャンバ12の入口側開口14の近傍上方にスリット状の入口ノズル20が配設されており、基板Wが水洗処理部10の処理チャンバ12内へ搬入されてくると、入口ノズル20からリンス液がカーテン状にして供給され、基板Wが更に搬送方向下流側に搬送されると、基板Wが処理チャンバ12内から搬出されるまで上部スプレイノズル22からリンス液が基板Wの上面に供給されるようになっている。このように、処理チャンバ12の入り口付近でスリット状の入口ノズル20から直下の基板表面に所要のリンス液がカーテン状に供給されることで短時間でリンス液への置換が行われ、その後に上部スプレイノズル22からリンス液の供給が行われるようにしたことで、前処理で使用された処理液の残存による、基板表面に形成された配線パターンの形状や線幅の均一性悪化を防止するようにしている。
特開2004−273984号
入口ノズル20をスリット状とすることでリンス液をカーテン状に吐出することができる一方、基板幅方向に均一の吐出量を確保するためには、スリットの隙間を0.数mmという狭隘にすることが望まれる。
しかしながら、スリットの隙間寸法を狭隘にすると、スリットの一部に異物が詰まったり、付着したりし易くなる。異物が詰ったりすると、その部分からリンス液が吐出されないため、リンス液のカーテンに割れが生じることとなる。この割れは基板の表面の幅方向にリンス液の供給の不均一を生じ、従って基板の幅方向に対して処理むらを生じ、均一処理が果たせなくなる。
本発明は、上記事情に鑑みてなされたもので、処理液の供給を少なくとも2個分のカーテン状にして行うことでカーテンの基板の表面での処理液の供給の不均一の発生確率を極力低減させ、かつ処理液の供給量の増大によって処理液の置換性能を向上させる基板処理装置を提供することを目的とする。
請求項1に記載の発明は、処理槽内で搬送路上を搬送される基板に処理液を供給して所定の処理を行う基板処理装置において、前記搬送路の上方位置に配設され、搬送中の基板に処理液を供給する処理液供給手段を備え、前記処理液供給手段は、少なくとも第1の処理液供給手段と第2の処理液供給手段とを備え、前記第1、第2の処理液供給手段は、それぞれ前記搬送路の幅方向にカーテン状を有する処理液を吐出する長尺の第1、第2の吐出口を有してなることを特徴とするものである。
この構成によれば、長尺の第1、第2の吐出口からそれぞれカーテン状で処理液が基板の幅方向上面に均一に供給される。また、一方の処理液の吐出口に異物が詰まる等して、そのカーテンの対応する箇所に割れが生じたとしても、他方の処理液のカーテンの同一箇所に割れが生じる可能性は極力低減するので、基板の表面での処理液の供給の不均一の発生確率が極力低減され、かつ処理液の供給量の増大によって処理液の置換性能及び置換品質が向上する。
請求項2に記載の発明は、請求項1記載の基板処理装置において、前記第1、第2の吐出口は、基板搬送方向に向けられていることを特徴とする。この構成によれば、処理液が基板に落下した後、搬送方向に流れるので、搬送方向のさらに下流側での処理液が上流側に逆流することが抑制されるため、処理液の置換が好適に行われる。
請求項3に記載の発明は、請求項1又は2に記載の基板処理装置において、前記第1、第2の処理液供給手段は、積層構造で一体構成されていることを特徴とする。この構成によれば、1個の処理液供給手段の位置や角度を調整するだけで第1、第2の処理液供給手段が同時に設定されるので、調整等の操作が容易となる。
請求項4に記載の発明は、請求項1〜3のいずれかに記載の基板処理装置において、前記第1、第2の処理液供給手段の第1、第2の吐出口は水平方向に対して20°傾斜されていることを特徴とする。この構成によれば、第1、第2の吐出口からの処理液は基板の表面の略同一箇所に落下される。従って、より均質な処理液の置換が可能となる。
請求項5に記載の発明は、請求項1〜4のいずれかに記載の基板処理装置において、前記第1、第2の処理液供給手段を上下方向に位置調節する調節部材を備えていることを特徴とする。この構成によれば、第1、第2の吐出口からの処理液は基板の表面の略同一箇所に落下されるように調整が可能となる。従って、より均質な処理液の置換が可能となる。
請求項1に記載の発明によれば、基板の表面での処理液の供給の不均一の発生確率を極力低減でき、かつ処理液の供給量の増大によって処理液の置換性能及び置換品質を向上できる。
請求項2に記載の発明によれば、基板に落下した処理液を搬送方向に流すようにしたので、搬送方向のさらに下流側での処理液が上流側に逆流することを抑制でき、処理液の置換を好適に行わせることができる。
請求項3に記載の発明によれば、1個の処理液供給手段の位置や角度を調整するだけで第1、第2の処理液供給手段が同時に設定されるので、調整等の操作を容易にできる。
請求項4に記載の発明によれば、第1、第2の吐出口からの処理液を基板の表面の略同一箇所に落下させるため、より均質な処理液の置換ができる。
請求項5に記載の発明によれば、第1、第2の吐出口からの処理液を基板の表面の略同一箇所に落下せる調整が可能となるため、より均質な処理液の置換ができる。
図1は、本発明に係る基板処理装置の一実施形態を概略構成で示す側断面図である。図1では、基板処理装置が水洗処理部に適用された例を示している。水洗処理部10は、前工程(図1の左方)であるエッチング処理槽に隣接配置されている。このエッチング処理槽は、エッチング用の薬液(以降、エッチング液という)を基板表面に供給して、現像処理によってパターン形成されたレジスト膜よりも下層の露出部分を除去するものである。
水洗処理部10は、エッチング用薬液等を洗い流すと共に、新たなリンス液(例えば、純水等からなる。前工程で基板Bに供給された処理液とは異なる液であればよい。)に置換するものである。
水洗処理部10は、基板Bの出入りのための入口側開口14及び出口側開口16を有する処理チャンバ12を備える。処理チャンバ12の内部には、基板Bを水平姿勢、又は基板搬送方向(図1の矢印方向)に直交する方向(幅方向)に所要角度だけ傾斜させた姿勢で支持して搬送する互いに平行配置された複数のローラコンベア18が入口側開口14から出口側開口16に向けて配設されている。複数のローラコンベア18は基板搬送路を構成している。
処理チャンバ12の入口側開口14付近には、入口ノズル部(処理液供給手段)20が配設されている。入口ノズル部20は支持部22によって処理チャンバ12の側壁適所に固定されている。入口ノズル部20は、基板搬送路の幅方向に長尺のスリット状に形成された吐出口を有し、前工程で処理された基板Bの上面にリンス液をカーテン状にして供給するものである。入口ノズル部20は、基板Bにリンス液を所要量供給して、前工程で基板Bの表面に付与されたエッチング液を短時間でリンス液に置換するものである。上部スプレイノズル部24は入口ノズル部20よりも下流側であって、ローラコンベア18の上方で基板搬送路に沿って所要個数だけ設けられている。
入口ノズル部20及び上部スプレイノズル24には、リンス液供給配管26、28がそれぞれ接続されている。リンス液供給配管26、28は、それぞれ配管32aを介してポンプ34の吐出口側に接続されている。リンス液供給配管26、28の適所には、開閉制御弁V1、V2がそれぞれ設けられている。ポンプ34の吸込口側は、配管32bを介して、純水2が貯留された貯水槽36の底部に接続されている。処理チャンバ12の底部には、液流出管42が設けられている。液流出管42は、回収用配管44と排液用配管46とに分岐している。回収用配管44の先端流出口は、貯水槽36内へ導入されている。また、排液用配管46を通って使用済みのリンス液が廃棄される。回収用配管44及び排液用配管46には、開閉制御弁V4、V5がそれぞれ設けられている。貯水槽36には純水供給用配管52が取り付けられており、図略の純水供給源から純水が貯水槽36内に適宜供給される。
図2は、入口ノズル部20の内部構造を示す図で、(A)は入口ノズル部20の内部構造を示す側断面図、(B)は入口ノズル部20の内部構造を示す平面図である。入口ノズル部20は、それぞれ同寸法で、長尺状の直方体形状を有する第1〜第3部材20A〜20Cから構成されている。第1〜第3部材20A〜20Cは積層状態で一体化されている。第1、第2部材20A,20Bには、互いに対向する部位の一部適所が長手方向に切り欠かれた内部空間としてのリンス液貯留部201が形成され、かつ第1部材20Aには、リンス液貯留部201の長手方向の所定の複数箇所から、図2(B)では4箇所から上方へ連通するリンス液注入路2011が穿設されている。第1部材20Aと第2部材20Bとで形成されたリンス液貯留部201の一方側(図2では右方)には、該リンス液貯留部201から一方端面(以下、吐出面という)に亘って微小寸法の隙間を有する吐出路2012が形成され、その先端である吐出口2012aはスリット形状を有する。
第2、第3部材20B,20Cには、互いに対向する部位の一部適所であって、リンス液貯留部201と少なくともずらした位置に、長手方向に切り欠かれた内部空間としてのリンス液貯留部202が形成され、かつ第1部材20Aと第2部材20Bには、リンス液貯留部202の長手方向の所定の複数箇所から、図2(B)では4箇所から上方へ連通するリンス液注入路2021が穿設されている。第2部材20Bと第3部材20Cとで形成されたリンス液貯留部202の一方側(図2では右方)には、該リンス液貯留部202から一方端面に亘って微小寸法の隙間を有する吐出路2022が形成され、その先端である吐出口2022aはスリット形状を有する。リンス液注入路2011,2021はリンス液供給配管26に連通されている。
吐出路2012,2022の隙間寸法は、0.数mm、リンス液のカーテン形状の確保と吐出液量とを考慮すれば好ましくは0.2〜0.4mmに設定されている。図2(B)のハッチング部は密着面であり、この部位で第1〜第3部材20A〜20Cを貫いてボルト締め等、あるいは接着剤等の締結手段を講じることで、さらには、第1、第2部材20A,20B間、及び第2、第3部材20B,20C間の複数の適所位置に微小形状のスペーサを介在させることで、吐出路2012,2022の隙間寸法がより高精度で一定に維持されている。
入口ノズル部20は、第2部材が所要の厚み、ここでは1cmとされており、従って、吐出面には2個のスリット状の吐出口2012a,2022aが約1cmを置いて互いに平行に形成されていることになる。
図3は、入口ノズル部20を処理チャンバ12内の所定位置に位置決め固定する支持部22の一実施形態を示す側面図である。支持部22は、処理チャンバ12内の側壁適所に連結され、水平に延び、その適所に所定径の貫通孔221aが穿設された板状の固定具221と、貫通孔221aに貫通され、下半部に雄ねじが螺設され、かつ頂部に摘み222aを有するボルト部材222と、内壁に雌ねじが螺刻され、ボルト部材222の下端側から螺設されたナット223と、ナット223の下面側に固設され、該ナット223の内径より少なくとも大きな内径が穿設され、あるいは同じ雌ねじが螺刻された貫通孔224aを有すると共に、下方への延設部224bを有する連結具224とを備えている。ガイド225は固定具221の適所から垂設され、横断面視で所要の隙間を有するようにコ字状に形成されたものである。ガイド225のコ字状の隙間に連結具224の適所が上下方向にスライド可能に嵌合されることで、ボルト部材222の回転操作に対して、ナット223及び連結具224が回動することなく(回動が規制される結果)、専ら昇降移動のみを行うようにしている。ボルト部材222の上半部は、単なる円形の棒状で、固定具221の貫通孔221aは、上半部が円形の棒状に形成されているボルト部材222の軸受けとして機能するものである。一方、ボルト部材222の下半部は、ナット223及び連結具224と螺設されており、これにより、ナット223及び連結具224の昇降が、ボルト部材222の下半部に螺刻された雄ねじの寸法範囲内で可能とされている。
連結具224の延設部224bには入口ノズル部20が所定の姿勢で取り付けられている。これによって、入口ノズル部20は処理チャンバ12内での位置が決めがなされている。入口ノズル部20は吐出口2012a,2022aが搬送路上で下流側に向けられており、かつ吐出面が水平方向に対して所定角度だけ、ここでは約20°傾斜されている。この傾斜角度によって、基板B上に供給されたリンス液が、前工程から持ち込まれるエッチング液が効果的に洗い流されてリンス液との置換が行われる。
また、摘み222aを回動操作して、入口ノズル部20、すなわち吐出口2012a,2022aの搬送路からの高さを調整することで、図3に示すように、吐出口2012a,2022aのそれぞれから吐出されるリンス液が搬送路上の略同一位置に落下させるようにしている。これによって、処理液の置換効率が高められる。また、2個の吐出口2012a,2022aからそれぞれ所要量のリンス液を供給することで、吐出口が1個の場合に比して約2倍のリンス液を同一箇所に供給することができるので、これによっても処理液の置換効率が高められる。
このように入口ノズル部20に2個の吐出口を設けることで、1方の吐出口に異物が詰まる等してリンス液のカーテンの一部に割れが生じたとしても、他方の吐出口からのリンス液のカーテンの同一位置に割れ生じる確率は指数分の1となる。従って、2個のカーテンによって基板B表面の搬送方向の略同一位置に、かつ基板の幅方向に可及的に割れのない状態でリンス液の供給が可能となるため、処理液の置換むらが発生する可能性を極力抑制できる。
なお、本発明は、以下の変形態様が採用可能である。
(1)本実施形態では、1個の入口ノズル部20に2個の吐出口を一体的に形成したが、1個の吐出口を有する入口ノズル部を、別個に基板搬送方向に所定間隔を置いて、連続的に2個、あるいは所定個数並設する態様としてもよい。この態様においても、前記所定間隔の他、各入口ノズル部の吐出面の水平面に対する傾斜角度、搬送路からの高さを調整することで、搬送路の略同一位置にリンス液を落下させるようにすることができる。
(2)本実施形態では、1個の入口ノズル部20に2個の吐出口を一体的に形成したが、図2に示す構成に、さらに第4,第5の部材を、積層していくことで、吐出口を3個、4個、またそれ以上に増設することが可能となる。
(3)本実施形態では、図2に示すリンス液注入路2011,2021をリンス液貯留部201,202の上面側に形成したが、側面側や後面側に形成してもよい。
(4)本実施形態では、図3に示すように、入口ノズル部20自体を所定角度傾斜されたが、吐出口を所定角度だけ下方に向けてリンス液が吐出される構造、形状を採用してもよい。
10 推薦処理部(基板処理装置)
12 処理チャンバ(処理槽)
20 入口ノズル部
20A 第1部材(第1の処理液供給手段の一部)
20B 第2部材(第1、第2の処理液供給手段の一部)
20C 第3部材(第2の処理液供給手段の一部)
2012a 吐出口(第1の吐出口)
2022a 吐出口(第2の吐出口)
22 支持部(調整部材)
12 処理チャンバ(処理槽)
20 入口ノズル部
20A 第1部材(第1の処理液供給手段の一部)
20B 第2部材(第1、第2の処理液供給手段の一部)
20C 第3部材(第2の処理液供給手段の一部)
2012a 吐出口(第1の吐出口)
2022a 吐出口(第2の吐出口)
22 支持部(調整部材)
Claims (5)
- 処理槽内で搬送路上を搬送される基板に処理液を供給して所定の処理を行う基板処理装置において、前記搬送路の上方位置に配設され、搬送中の基板に処理液を供給する処理液供給手段を備え、前記処理液供給手段は、少なくとも第1の処理液供給手段と第2の処理液供給手段とを備え、前記第1、第2の処理液供給手段は、それぞれ前記搬送路の幅方向にカーテン状を有する処理液を吐出する長尺の第1、第2の吐出口を有してなることを特徴とする基板処理装置。
- 前記第1、第2の吐出口は、基板搬送方向に向けられていることを特徴とする請求項1記載の基板処理装置。
- 前記第1、第2の処理液供給手段は、積層構造で一体構成されていることを特徴とする請求項1又は2に記載の基板処理装置。
- 前記第1、第2の処理液供給手段の第1、第2の吐出口は水平方向に対して略20°傾斜されていることを特徴とする請求項1〜3のいずれかに記載の基板処理装置。
- 前記第1、第2の処理液供給手段を上下方向に位置調節する調節部材を備えていることを特徴とする請求項1〜4のいずれかに記載の基板処理装置。
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