JP2007258145A - 有機el素子の製造方法および有機el素子 - Google Patents
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Abstract
【解決手段】凸部パターンが隣接する凸部パターンに対して独立して基材上に形成されている樹脂凸版を用い、前記インキを凸版印刷法により第一電極上方に印刷することで有機エレクトロルミネッセンス素子を製造する。
【選択図】図4
Description
載の有機EL素子の製造方法とした。
像条件により制御可能である。例えば、ネガ型の感光性樹脂を塗布し、露光・現像した後、ポストベークして、隔壁を得るときに、隔壁端部の形状を順テーパー形状としたい場合には、この現像条件である現像液の種類、濃度、温度、あるいは現像時間を制御すればよい。現像条件を穏やかなものとすれば、隔壁端部は順テーパー形状となり、現像条件を過酷にすれば、隔壁端部は逆テーパー形状となる。
ルフルオレン)(PDAF)、ポリスピロなどの高分子発光材料であってもよい。PPV前駆体、PPP前駆体などの高分子前駆体が挙げられる。また、その他既存の発光材料を用いることもできる。
や酸素によって容易に劣化してしまうため通常は外部と遮断するための封止体を設ける。
300mm角のガラス基板上に、スパッタ法を用いてITO膜を形成し、フォトリソ法と酸溶液によるエッチングでITO膜をパターニングした。陽極である第一電極のラインパターンは、線幅40μm、スペース20μmで、ラインが1950ライン形成されるパターンとした。その上に、スピンコーターを用いて正孔輸送層としてポリ(3,4)エチ
レンジオキシチオフェン/ポリスチレンスルホン酸(PEDOT/PSS)を100nm膜厚で成膜した。さらにこの成膜されたPEDOT/PSS薄膜を減圧下100℃で1時間乾燥することで、被転写基板を作製した。
赤色、緑色、青色(RGB)の3色からなる以下の有機発光インキを調製した。
赤色発光インク(R):ポリフルオレン系誘導体のトルエン1質量%溶液(住友化学社製赤色発光材料 商品名Red1100)。
緑色発光インク(G):ポリフルオレン系誘導体のトルエン1質量%溶液(住友化学社製緑色発光材料 商品名Green1300)。
青色発光インク(B):ポリフルオレン系誘導体のトルエン1質量%溶液(住友化学社製青色発光材料 商品名Blue1100)。
実施例1における有機発光層を形成するための印刷に用いる樹脂凸版は、厚さ0.3mmのポリアミド系の感光性樹脂層とポリエチレンテレフタレート板製の基材(縦弾性係数0.76GPa、熱膨張係数1.0×10-4/K)で構成される版材を用い、これを画線部に光が透過するマスクすなわちネガマスクを用いてUV露光後、水で現像して、凸部を独立パターン形成した樹脂凸版を使用した。この樹脂凸版を前述した印刷装置に取り付けて有機発光層の印刷を行った。
上記の独立パターンが形成された樹脂凸版を凸版印刷機に装着し、RGBそれぞれの有機発光インキの印刷を被印刷基板に対しておこなった。印刷したパターンの位置精度は±10μm以内だった。ストライプ状に有機発光層が形成された基板を150℃で5時間乾燥した後、基板上にカルシウムとアルミニウムからなる陰極(第二電極)を画素電極のラインパターンと直交するようなラインパターンで積層形成した。最後にこれらの有機EL構成体をガラスキャップと接着剤を用いて密閉封止し、有機EL素子パネルを作製した。電圧を印加し発光状態の確認を行ったところ、良好な発光が得られた。
比較例1における有機発光層を形成するための印刷に用いる凸版は、厚さ2mmのポリアミド系の感光性樹脂層とポリエチレンテレフタレート板製の基材で構成される樹脂版を用い、これを画線部に光が透過するマスクすなわちネガマスクを用いてUV露光後、水で現像してパターン形成し、レリーフ深度が100μmの樹脂凸版を作製した。この樹脂凸版を前述した印刷装置に取り付けて、有機発光層の印刷を行った。印刷したパターンの位置精度は±200μm以内となってしまい、十分な位置精度を得ることができなかったため、有機発光インキが隔壁をまたいで異なる発光色を有する有機発光層に侵入してしまい、混色が生じていた。
比較例2における有機発光層を形成するための印刷に用いる凸版は、厚さ2mmのポリアミド系の感光性樹脂層とスチール板製の基材(縦弾性係数196GPa、熱膨張係数17.3×10-6/K)で構成される樹脂版を用い、これを画線部に光が透過するマスクすなわちネガマスクを用いてUV露光後、水で現像してパターン形成し、レリーフ深度が100μmの樹脂凸版を作製した。この樹脂凸版を前述した印刷装置に取り付けて、有機発光層の印刷を行った。印刷したパターンの位置精度は±50μm以内となってしまい、十分な位置精度を得ることができなかったため、混色が生じ、また、パネル両端部分に色抜けが生じていた。
2:第一電極
3:正孔輸送層
41:赤色(R)有機発光層
42:緑色(G)有機発光層
43:青色(B)有機発光層
7、7x、7y:隔壁
111:支持体
112:活性層
113:ゲート絶縁膜
114:ゲート電極
115:層間絶縁膜
116:ドレイン電極
117:平坦化層
118:コンタクトホール
119:データ線
120:TFT
200:基材
201:凸部パターンを有する樹脂層
202:凸部パターン
202a:感光性樹脂(未硬化)
202b:感光性樹脂からなる凸部パターン
204:ガラス
205:遮光部
206:フォトマスク
207:活性エネルギー線
h:凸部パターン厚み
10:インクタンク
12:インキチャンバー
14:アニロックスロール
14a:インキ
16:凸版
18:版胴
20:ステージ
24:被印刷基板
Claims (9)
- 少なくとも基板と、当該基板に支持された第一電極と、有機発光層と、第二の電極を具備する有機エレクトロルミネッセンス素子であって、該有機発光層を形成する有機発光材料若しくは発光補助層を形成する発光補助材料を溶媒に溶解、または分散させたインキを用い、基材上に樹脂からなる凸部パターンを有する樹脂凸版を用いる凸版印刷法により前記第一電極の上方に印刷して有機発光層若しくは発光補助層の少なくとも1層を形成する有機エレクトロルミネッセンス素子の製造方法において、該凸部パターンが隣接する凸部パターンに対して独立して基材上に形成されている樹脂凸版を用い、前記インキを凸版印刷法により第一電極上に印刷し、有機発光層若しくは発光補助層を形成することを特徴とする有機エレクトロルミネッセンス素子の製造方法。
- 前記樹脂凸版を構成する基材が、金属からなることを特徴とする請求項1記載の有機エレクトロルミネッセンス素子の製造方法。
- 前記樹脂凸版を構成する凸部パターンの厚みが、0.01mm以上1mm以下であることを特徴とする請求項1または請求項2のいずれかに記載の有機エレクトロルミネッセンス素子の製造方法。
- 前記樹脂凸版を構成する基材が、縦弾性係数70GPa以上250GPa以下の物質からなることを特徴とする請求項1乃至3のいずれかに記載に有機エレクトロルミネッセンス素子の製造方法。
- 前記樹脂凸版を構成する基材が、熱膨張係数0.1×10-6/K以上20.0×10-6/K以下の物質からなることを特徴とする請求項1乃至4のいずれかに記載の有機エレクトロルミネッセンス素子の製造方法。
- 前記樹脂凸版を構成する基材が、熱膨張係数0.5×10-6/K以上5.5×10-6/K以下の物質からなることを特徴とする請求項1乃至4のいずれかに記載の有機エレクトロルミネッセンス素子の製造方法。
- 前記樹脂凸版を構成する凸部パターンを形成する樹脂材料が、水溶性であることを特徴とする請求項1乃至6のいずれかに記載の有機エレクトロルミネッセンス素子の製造方法。
- 前記樹脂凸版を構成する凸部パターンを形成する樹脂材料が、感光性樹脂からなることを特徴とする請求項1乃至7のいずれかに記載の有機エレクトロルミネッセンス素子の製造方法。
- 少なくとも基板と、当該基板に支持されたパターン状の第一電極と、発光層と、第二の電極を具備する有機EL素子において、有機EL素子を構成する有機発光層が、請求項1乃至請求項8のいずれか1項記載の製造方法によって形成されていることを特徴とする有機エレクトロルミネッセンス素子。
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JP2001155858A (ja) * | 1999-11-24 | 2001-06-08 | Sharp Corp | 有機el素子の製造方法 |
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