JP2007257695A - 磁気テープの製造方法及び装置 - Google Patents

Abstract

【課題】幅方向のヤング率が６．９ＧＰａ以上の支持体を用いて、信頼性の高い磁気テープを製造する磁気テープの製造方法及び装置を提供する。
【解決手段】製造装置１０は、上下対に配置される回転上刃２６と回転下刃２８を備える。磁気テープ原反１４は、回転下刃２８に圧接された状態で回転上刃２６と回転下刃２８との間を通過することによって、幅狭の磁気テープ１２に裁断される。回転上刃２６は、外周面２６ｃの厚み方向の長さＴが０．１５ｍｍ以下に設定される。
【選択図】 図３

Description

本発明は磁気テープの製造方法及び装置に係り、特に幅広の磁気テープ原反をスリッタで裁断して幅狭の磁気テープを製造する磁気テープの製造方法及び装置に関する。

一般に磁気テープは、強磁性粉末を結合剤（バインダー）中に分散させた磁性層が非磁性の支持体上に設けられている。この磁気テープの製造は、まず、強磁性粉末を結合剤、添加剤、有機溶剤とともに混合分散して磁性塗布液をつくり、この磁性塗布液を非磁性の支持体上に塗布した後、乾燥して幅の広い磁気テープ原反をつくる。そして、この幅広の磁気テープ原反を、スリッタと呼ばれる裁断装置で、８ｍｍ、１／２インチ、１インチ等の所要の幅に裁断することによって、幅狭の磁気テープが製造される。

特許文献１〜３に記載されるように、磁気テープ製造用の裁断装置は、上下対になった回転上刃と回転下刃によって構成されており、この回転上刃と回転下刃の間に磁気テープ原反を通過させることによって、磁気テープ原反を長手方向に裁断して幅狭の磁気テープを製造している。この裁断工程においては、磁性層のエッジ部に表れるクラックの発生を抑制するとともに、裁断側端面の凹凸形状の発生を抑制することが重要となる。これは、クラックが発生したり、裁断側端面の凹凸が大きくなったりすると、長期間の使用によって磁性層が削られて、磁性層表面への粉落ち、及び磁気ヘッドと磁性層表面との間の目詰まり等を生じ、その結果、ドロップアウトと呼ばれる読み取り不良を頻繁に発生させるためである。そこで、クラックの発生や裁断側端面面の凹凸量を抑制するために、従来から様々な対策が取られおり、各種のパラメータ（たとえばスリット速度、上下刃の噛み合い深さ、上下刃の回転速度比、支持体や磁性層の組成等）を調整することが行われている。

ところで、コンピュータのデータバックアップ等に使用される高密度磁気テープ（３００Ｇ／巻以上）は、より高い信頼性を得るために、支持体の強度を強くすることが望まれている。具体的には、支持体の幅方向のヤング率を６．９ＧＰａ以上とすることが望まれている。
特開平６−１６８４４４号公報 特開平８−２７９１４８号公報 特開平９−１５３２１２号公報

しかしながら、支持体の幅方向の強度が大きくなるほど、磁気テープ製品の走行耐久性が低下し、ドロップアウトと呼ばれる読み取り不良が生じやすくなるという問題があった。磁気テープ製品の走行耐久性が低下する原因としては、上述したクラックの発生の増加が考えられる。しかし、各種のパラメータを調整して磁気テープを製造しても、ドロップアウトの発生を完全に抑制することは困難であり、特に支持体の幅方向のヤング率が６．９ＧＰａ以上になると、従来のようなパラメータ調整だけではドロップアウトの発生を防止できないという問題があった。

本発明はこのような事情に鑑みて成されたもので、幅方向のヤング率が６．９ＧＰａ以上の支持体を用いて、信頼性の高い磁気テープを製造することのできる磁気テープの製造方法及び装置を提供することを目的とする。

請求項１に記載の発明は前記目的を達成するために、幅方向のヤング率が６．９ＧＰａ以上の帯状支持体に磁性層が形成された磁気テープを製造する製造方法であって、上下対に配置される回転上刃と回転下刃との間に、幅広の磁気テープ原反を前記回転下刃に圧接させた状態で通過させることによって、該磁気テープ原反を長手方向に裁断する裁断処理を行い、幅狭の磁気テープを製造する磁気テープの製造方法において、前記裁断処理は、外周面の厚み方向の長さが０．１５ｍｍ以下の回転上刃を用いて裁断を行うことを特徴とする。

請求項２に記載の発明は前記目的を達成するために、幅方向のヤング率が６．９ＧＰａ以上の帯状支持体に磁性層が形成された磁気テープを製造する製造装置であって、上下対に配置される回転上刃及び回転下刃を備え、前記回転上刃と回転下刃との間に幅広の磁気テープ原反を前記回転下刃に圧接した状態で通過させることによって長手方向に裁断し、幅狭の磁気テープを製造する磁気テープの製造装置において、前記回転上刃は、外周面の厚み方向の長さが０．１５ｍｍ以下であることを特徴とする。

本発明の発明者は、支持体の幅方向のヤング率が６．９ＧＰａ以上の磁気テープを製造する場合、回転上刃の外周面の厚み方向の長さが０．１５ｍｍを超えると、磁性層のクラックや裁断側端部の磁性層表面の盛り上がり部が発生し、その結果、ドロップアウトの発生率が高くなるという知見を得た。

本発明はこのような知見に基づいて成されたものであり、回転上刃の外周面の厚み方向の長さを０．１５ｍｍ以下にしたので、クラックや盛り上がり部の発生を抑制することができ、ドロップアウトの発生率を大幅に減少させることができる。

本発明によれば、回転上刃の外周面の厚み方向の長さを０．１５ｍｍ以下にしたので、クラックや盛り上がり部の発生を抑制することができ、ドロップアウトの発生率を大幅に減少させることができる。これにより、走行耐久性の面で、信頼性の高い磁気テープを製造することができる。

以下添付図面に従って本発明に係る磁気テープの製造方法及び装置の好ましい実施形態について詳説する。

図１は本発明が適用された磁気テープの製造装置を示す全体構成図である。同図に示す製造装置１０は、コンピュータバックアップ用の高密度磁気記録テープ１２を製造する装置であり、幅広の磁気テープ原反１４をスリッタ１６で長手方向に裁断することによって幅狭の複数の磁気テープ１２を製造する。本実施の形態で製造する磁気テープ１２は、非磁性の支持体上に強磁性層を形成したものであり、支持体は幅方向のヤング率が６．９ＧＰａ以上のものが用いられる。

磁気テープ原反１４は、製品となる磁気テープ１２よりも広い幅で帯状に形成されており、ハブ（巻芯）１８にロール状に巻回された状態で巻き戻し部２０に装着されている。磁気テープ原反１４は、通常、非磁性の支持体上に強磁性微粒子を含む磁性層を塗布法や真空蒸着法等により形成し、その磁性層に配向処理、乾燥処理、表面処理等を行うことによって製造される。

ロール状の磁気テープ原反１４は、フィードローラ２２を駆動することによって巻き戻し装置２０から連続的に巻き戻されて送り出される。フィードローラ２２は、磁気テープ原反１４を走行させるためのローラであり、例えば、サクションドラムが使用される。サクションドラムは、磁気テープ原反１４を表面に吸着しながら回転するドラムであり、ドラムの表面には、磁気テープ原反１４の保持力を増加させるための溝が形成される。なお、フィードローラ２２として、磁気テープ原反１４を挟圧して搬送する一対のニップローラなど、他の公知フィード手段を用いてもよい。

送り出された磁気テープ原反１４は、複数のガイドローラ２４、２４…にガイドされながらスリッタ１６に送られる。スリッタ１６の構造については後述するが、回転上刃２６と回転下刃２８とによって、磁気テープ原反１４を、１００〜５００本に裁断し、規定の幅寸法（例えば１２．６５ｍｍ、２５．４ｍｍ、３．８１ｍｍ等）の磁気テープ１２を形成するようになっている。裁断後の磁気テープ１２は、パスローラ３０に巻き掛けられた後、フィードローラ２２と同期して回転する巻取ハブ３２に巻き取られる。なお、パスローラ３０と巻取ハブ３２は上下に複数段設けられており、隣接する磁気テープ１２が異なるパスローラ３０、異なる巻取ハブ３２に巻き取られるようになっている。

図２は、本発明が適用されたスリッタ１６の構造を示す正面図である。同図に示すように、スリッタ１６は、上下対になった複数対の回転上刃２６と回転下刃２８を備える。

回転下刃２８、２８…はタングステンカーバイト等の超硬素材によって円筒状に形成されており、シャフト３４を挿通させることによって取りつけられている。シャフト３４は不図示の装置本体に回動自在に支持されており、モータ３６によって回転駆動される。回転下刃２８の回転方向と周速は特に限定するものではないが、たとえば磁気テープ原反１４の走行方向に、且つ、磁気テープ原反１４の走行速度に等しい周速で回転するように制御される。

各回転下刃２８、２８同士の間にはスペーサ３８が介在されており、このスペーサ３８によって回転下刃２８、２８…がシャフト３４の軸方向に一定の間隔で配置される。なお、回転下刃２８、２８…は、一方側の側面（図２の左側の側面）が略円形の裁断面２８ａとして作用するようになっている。回転下刃２８の裁断面２８ａは、シャフト３４の軸方向において、磁気テープ１２の幅寸法と同じ間隔で配置されている。

一方、回転上刃２６、２６…はタングステンカーバイト等の超硬素材によって薄い円盤状に形成されており、シャフト４０に取りつけられている。シャフト４０は、前述のシャフト３４に平行に配置され、装置本体に回動自在に支持されるとともに、モータ４２によって回転駆動するようになっている。回転上刃２６、２６…の回転方向と周速は特に限定するものではないが、たとえば磁気テープ原反１４の走行方向に、且つ、磁気テープ原反１４の速度よりも大きい周速で（好ましくは１．０３倍以上の周速で）回転するように制御される。

各回転上刃２６、２６同士の間には、スペーサ４４が介在されており、回転上刃２６、２６…はシャフト４０の軸方向に一定の間隔で配置される。また、回転上刃２６、２６…は、その下端部が回転下刃２８、２８同士の間に入り込むように（すなわち、側方から見てオーバーラップするように）配置されている。さらに、回転上刃２６は、その一方側の側面（図２の右側の側面）が裁断面２６ａとして、回転下刃２８の裁断面２８ａとによって裁断作用を生じるようになっている。すなわち、回転上刃２６の裁断面２６ａと、回転下刃２８の裁断面２８ａとによって、幅広の磁気テープ原反１４をその長手方向に裁断するように構成されている。

図３は、回転上刃２６の下端部分（外周部分）を示す正面断面図である。同図に示すように、回転上刃２６は、裁断面２６ａの反対側の側面２６ｄの外周部分がテーパ状になっており、回転上刃２６の刃先（外周）になるほど薄くなっている。

また、回転上刃２６は、その外周側に外周面２６ｃ（すなわち、回転軸を中心とした円周面）が形成されている。外周面２６ｃは、回転上刃２６の厚み方向における長さＴ（すなわち、磁気テープ原反１４又は磁気テープ１２の幅方向における長さ）が、０．１５ｍｍ以下、好ましくは０．１０ｍｍ以下に設定される。

なお、回転上刃２６は上述した形状に限定されるものではなく、たとえば図４に示すように、裁断面２６ａ側の外周部に一周にわたって面取りして面取り部２６ｂを形成してもよい。面取り部２６ｂの面取り量は特に限定するものではないが、たとえば外周面２６ｃ側の面取り量Ｌ１を０．５μｍ以上に設定することが好ましい。これにより、磁気テープ１２の裁断面における磁性層の突出量（具体的には支持体の最大凸部よりも突出した磁性層の最大凸部の突出量）を抑制することができる。また、面取り部２６ｂは、裁断面２６ａ側の面取り量Ｌ２を外周面２６ｃ側の面取り量Ｌ１の１０倍以上に設定することが好ましい。これにより、磁気テープ１２の幅方向の端部に磁性層のクラックが生じることを抑制することができる。

上記の如く構成されたスリッタ１６は、図１に示すように、磁気テープ原反１４が回転下刃２８に圧接するようにセットされる。すなわち、磁気テープ原反１４が回転下刃２８に所定のラップ角度で接するようになっている。このように磁気テープ原反１４を配置することによって、磁気テープ原反１４を安定して連続走行させることができる。

連続走行する磁気テープ原反１４は、回転上刃２６と回転下刃２８との間を通過した際に、回転上刃２６の裁断面２６ａと回転下刃２８の裁断面２８ａとの作用によって長手方向に裁断される。これにより、所定幅の磁気テープ１２を製造することができる。

次に上記の如く構成された磁気テープの製造装置１０の作用について図５、図６に基づいて説明する。図５は磁気テープ１２の裁断面（幅方向の端面）を示す断面図であり、図６はクラックを説明する斜視図である。

図５に示すように、支持体の幅方向の強度が大きい磁気テープ１２では、磁性層の表面又は支持体（バック層が塗布されている場合はバック層）の表面に、盛り上がり部（ハイエッジともいう）１３又は１５が形成される。ここで、盛り上がり部１３、１５の高さＨ１、Ｈ２は、端面での最大凸部Ｐ又はＱから幅方向に８μｍ以内の範囲において、最も盛り上がった部分の厚みＴ１、Ｔ２に対して、平均厚みＴ０を引いた値とする。なお、盛り上がり高さＨ１、Ｈ２の測定は、たとえばレーザーテック製レーザー顕微鏡において、１０００倍でテープのエッジ部４箇所（すなわち幅方向の両端部の磁性層面側とバック面側）を観察することによって測定される。磁気テープ１２は、盛り上がり高さＨ１、Ｈ２が大きくなるほど、製品として長期間使用した際に磁性層に削れが生じるため、ドロップアウトが発生しやすくなる。

また、磁気テープ１２は、図６に示すように幅方向の端部において磁性層にクラックと呼ばれる微小な割れが生じることがある。このクラックの発生率（単位長さあたりの個数）が増えるほど、磁気テープ１２の走行耐久性が悪くなり、長期間の使用によって磁性層の削れが生じてドロップアウトが生じやすくなる。

このため、盛り上がり高さＨ１、Ｈ２やクラック発生率を減らすことが望まれるが、支持体の幅方向の強度が強くなるにつれて、盛り上がり高さＨ１、Ｈ２やクラック発生率は増加しやすくなり、特に支持体の幅方向のヤング率が６．９ＧＰａ以上になると、各種のパラメータ（たとえばスリット速度、刃の噛み合い深さ、一対の刃の回転速度比、支持体や磁性層の組成等）を調整するだけでは、盛り上がり高さＨ１、Ｈ２やクラック発生率を減少させることができなくなる。

そこで、本実施の形態の製造装置１０は、回転上刃２６の外周側に外周面２６ｃを設けるとともに、その外周面２６ｃの厚み方向の長さＴを０．１５ｍｍ以下に設定している。このような形状の回転上刃２６を用いると、盛り上がり高さＨ１、Ｈ２やクラック発生率を大幅に減少させることができ、支持体の幅方向のヤング率が６．９ＧＰａ以上の場合であっても、盛り上がり部やクラックのない磁気テープ１２を製造することができる。

図７は、回転上刃２６の厚み方向の外周面の長さＴを変えて試験を行った結果を示している。この試験では、支持体の幅方向のヤング率が６．９ＧＰａの磁気テープ１２を製造した。そして、製造後の磁気テープ１２を、４００倍光学顕微鏡で一辺０．２ｍｍの範囲を観察し、クラックの数を数えた。また、磁気テープ１２のエッジ近傍を１０００倍レーザー顕微鏡によって観察し、盛り上がり高さを測定した。なお、図７の評価は、クラックが３個／０．２ｍｍ以下、盛り上がり量が０．０１μｍ以下を「○」、クラックと盛り上がり量が測定不能なレベルを「◎」とした。

図７から分かるように、外周面２６ｃの長さＴが０．１５ｍｍよりも大きい試験例１、２は、クラックの発生率が１０個／０．２ｍｍを超えてしまい、また、盛り上がり高さＨ１、Ｈ２も０．１０μｍを大きく超えるという結果になった。

これに対して、外周面２６ｃの長さＴが０．１５ｍｍ以下である試験例３〜５は、クラックの発生率が３個／０．２ｍｍ以下と非常に小さくなり、盛り上がり高さＨ１、Ｈ２も０．０１μｍ以下と非常に小さくなった。特に、Ｔが０．１０ｍｍ以下の試験例４、５は、クラック、盛り上がり部ともに測定不能なレベルまで抑制することができた。

このように本実施の形態によれば、回転上刃２６の厚み方向における外周面２６ｃの長さＴを０．１５ｍｍ以下に設定したので、支持体の幅方向のヤング率が６．９ＧＰａ以上の場合であっても、クラック発生率及び盛り上がり高さＨ１、Ｈ２を大幅に減少させることができる。これにより、走行耐久性やドロップアウト発生率の面で信頼性の非常に高い磁気テープ１２を製造することができる。

以下、本発明の磁気テープの構成についてさらに詳細に説明する。本発明の磁気テープは、非磁性の支持体と、この支持体上に設けられた磁性層と、必要に応じて磁性層と反対側に設けられるバックコート層（単にバック層ともいう）からなる。磁性層は強磁性微粉末と必要に応じてカーボンブラック、研磨剤、粉末状潤滑剤などの粉状成分とこの粉状成分が分散している結合剤からなり、バックコート層は、強磁性微粉末の代わりに非磁性粉末を使用する以外は、磁性層と同様のものからなる。結合剤は樹脂成分とさらに必要に応じて配合される硬化剤とにより構成されている。

まず、非磁性支持体について説明する。本発明で使用する非磁性支持体は、特に限定されないが、厚み５〜１０μｍ程度、特に６〜９μｍ程度が好ましく、幅方向のヤング率は７００ｋｇ／ｍｍ^２以上、１０００ｋｇ／ｍｍ²以上、特に１２００ｋｇ／ｍｍ² 以上が好ましい。また、長手方向のヤング率は、４００〜１２００ｋｇ／ｍｍ² 、好ましくは４５０〜１０００ｋｇ／ｍｍ²の範囲である。

素材としては、ポリエチレンテレフタレート、ポリエチレンナフタレート等のポリエステル類、ポリプロピレン等のポリオレフィン類、セルローストリアセテート、セルロースダイアセテート等のセルロース誘導体、ポリ塩化ビニル等のビニル系樹脂類、ポリカーボネート、ポリイミド、ポリアミド、ポリスルホン等のプラスチックが使用できるが、好ましくはポリエチレンテレフタレート、ポリエチレンナフタレート、ポリアミドおよびポリイミド、特に好ましくは、ポリエチレンナフタレート（ＰＥＮ）が使用される。これら支持体は塗布に先立って、コロナ放電処理、プラズマ処理、下塗処理、熱処理、除塵埃処理、金属蒸着処理、アルカリ処理を行ってもよい。これら支持体に関しては、例えば、***特許３３３８８５４Ａ明細書、特開昭５９−１１６９２６号公報、米国特許４３８８３６８号明細書；三石幸夫著、「繊維と工業」３１巻 ｐ５０〜５５、１９７５年などに記載されている。これら支持体の中心線平均表面粗さは、０．００１〜０．５μｍ（カットオフ値０．２５ｍｍ）が好ましい。

また、本発明におけるポリエチレンナフタレートは、エチレン−２，６−ナフタレンジカルボキシレートホモポリマーを始め、エチレン−２，６−ナフタレンジカルボキシレート繰り返し単位を７０重量％以上含む共重合体、これらと他種ポリマーとの混合体（但し、ＰＥＮ成分が７０重量％以上を占める）の如く本質的にＰＥＮの性質を失わないポリエステル組成物を包含する。このＰＥＮはフィルム形成能を有するポリマーである。

本発明で使用されるＰＥＮフィルムは未延伸フィルムを２軸配向させることによって、製造することができる。２軸配向は、例えば逐次２軸配向ではＰＥＮのガラス転移温度よりも高い温度、好ましくは３〜１０℃高い温度で１段目の延伸を行い、次いで１段目の延伸温度と同じ、ないし１０℃高い温度範囲で２段目の延伸を行う。延伸倍率は少なくとも１軸方向で２以上、更に好ましくは２．５以上とし、面積倍率で６倍以上さらには８倍以上とするのが好ましい。熱処理（ヒートセット）は１７０℃以上、さらに好ましくは１９０℃以上の温度で緊張下に行うのが好ましい。熱処理温度の上限は処理時間にもよるが、フィルムが安定した形状をとる温度であるのはいうまでもない。熱処理時間は数秒から数十秒、さらには３〜３０秒間が好ましい。その後、さらに（ガラス転移温度から１０℃低い温度）〜（溶融温度から４０℃低い温度）の範囲の条件で縦方向に１．０５〜２．５倍、横方向に１．０５〜２．５倍の逐次延伸を行い、再熱処理は（ガラス転移温度から５０℃低い温度）〜（溶融温度から１０℃低い温度）の範囲で行うのが好ましい。

本発明の磁性層で使用する強磁性粉末は、特に限定されないが、鉄、コバルトあるいはニッケルを含む強磁性金属粉末を用いるとその効果が顕著であって、α−Ｆｅ、Ｃｏ、Ｎｉ、Ｆｅ−Ｃｏ合金、Ｆｅ−Ｃｏ−Ｎｉ合金、Ｆｅ−Ｃｏ−Ｎｉ−Ｐ合金、Ｆｅ−Ｃｏ−Ｎｉ−Ｂ合金、Ｆｅ−Ｎｉ−Ｚｎ合金、Ｎｉ−Ｃｏ合金、Ｃｏ−Ｎｉ−Ｆｅ合金などの強磁性金属微粉末が好ましい。

これらの強磁性金属粉末の形状は特に制限はなく、通常は、針状、粒状、サイコロ状、米粒状および板状のものなどが使用される。粒子サイズは、針状の場合は、０．０５〜０．５μｍ、好ましくは０．０５〜０．３μｍ、特に好ましくは０．１０〜０．２５μｍの長軸長で、長軸長／短軸長は２／１〜２５／１、好ましくは３／１〜１５／１、特に好ましくは４／１〜１２／１であり、板状の場合は、板径は、０．０２〜０．２０μｍ、好ましくは０．０３〜０．１０μｍ、特に好ましくは０．０４〜０．０７μｍで、板径／板厚は、１／１〜３０／１、好ましくは２／１〜１０／１、特に好ましくは２．５〜７／１である。

また、これらの強磁性金属粉末の比表面積（比表面積ＳBET ）は、４７〜８０ｍ² ／ｇ、より好ましくは５３〜７０ｍ² ／ｇ、抗磁力（Ｈｃ）は、１２５０〜２５００Ｏｅ、飽和磁化（σS ）は、１００〜１８０ｅｍｕ／ｇ、好ましくは１１０〜１５０ｅｍｕ／ｇである。含水率は、０．１〜２．０重量％、ｐＨは３〜１１（５ｇ強磁性粉末／１００ｇ水）が好ましい。これらの強磁性金属粉末の表面に、後で述べる防錆剤、表面処理剤、分散剤、潤滑剤、帯電防止剤等をそれぞれの目的の為に分散に先立って溶剤中で含浸させて吸着させてもよい。

また、強磁性金属粉末として、その金属分は６０重量％以上であり、そして金属分の７０重量％以上が少なくとも１種類の強磁性金属粉末あるいは合金（例、Ｆｅ、Ｆｅ−Ｃｏ、Ｆｅ−Ｃｏ−Ｎｉ、Ｃｏ、Ｎｉ、Ｆｅ−Ｎｉ、Ｃｏ−Ｎｉ、Ｃｏ−Ｎｉ−Ｆｅ）であり、該金属分の４０重量％以下、より好ましくは２０重量％以下の範囲で他の成分（例、Ａｌ、Ｓｉ、Ｓ、Ｓｃ、Ｔｉ、Ｖ、Ｃｒ、Ｍｎ、Ｃｕ、Ｚｎ、Ｙ、Ｍｏ、Ｒｈ、Ｐｄ、Ａｇ、Ｓｎ、Ｓｂ、Ｔｅ、Ｂａ、Ｔａ、Ｗ、Ｒｅ、Ａｕ、Ｈｇ、Ｐｂ、Ｂｉ、Ｌａ、Ｃｅ、Ｐｒ、Ｎｄ、Ｂ、Ｐ）を含むことのある合金や、窒化鉄や炭化鉄等を挙げることができる。特にこの中で金属鉄の強度を補うためにＡｌ、Ｓｉ、Ｃｒを単独乃至混合して表層に設けることが望ましい。また、上記強磁性金属粉末が少量の水酸化物または酸化物、アルカリ金属元素（Ｎａ、Ｋ等）、アルカリ土類金属元素（Ｍｇ、Ｃａ、Ｓｒ）を含むものなどであってもよい。これらの強磁性金属粉末の製造方法は既に公知であり、本発明で用いる強磁性金属粉末の代表例である強磁性金属粉末についてもこれら公知の方法に従って、製造することができる。

特に、本発明において、強磁性粉末として用いられる強磁性合金粉末の製造方法の例としては、下記の方法を挙げることができる。（ａ）複合有機酸塩（主としてシュウ酸塩）を水素などの還元性気体で還元する方法、（ｂ）酸化鉄を水素などの還元性気体で還元してＦｅあるいはＦｅ−Ｃｏ粒子などを得る方法、（ｃ）金属カルボニル化合物を熱分解する方法、（ｄ）強磁性金属の水溶液に水素化ホウ素ナトリウム、次亜リン酸塩あるいはヒドラジンなどの還元剤を添加して還元する方法、（ｅ）水銀陰極を用い強磁性金属粉末を電解析出させたのち水銀と分離する方法、（ｆ）金属を低圧の不活性気体中で蒸発させて微粉末を得る方法。

また本発明に使用する強磁性粉末としては、板状六方晶のバリウムフェライトも使用できる。バリウムフェライトの粒子サイズは約０．００１〜１ミクロンの直径で厚みが直径の１／２〜１／２０である。バリウムフェライトの比重は４〜６ｇ／ccで、比表面積は１ｍ² ／ｇ〜７０ｍ² ／ｇである。また、所望により、ＦｅＯX （Ｘ＝１．３３〜１．５０）、Ｃｏ含有ＦｅＯX、等を使用することもできる。

本発明の必要に応じて設けられるバック層に使用できる非磁性粉末としては、例えば特開昭５９−１１００３８号公報に開示されているような、各種の粉末がある。即ち、カーボンブラック、グラファイト、二硫化タングステン、窒化ホウ素、二酸化ケイ素、炭酸カルシウム、酸化アルミニウム、酸化鉄、二酸化チタン、酸化マグネシウム、酸化亜鉛、酸化カルシウム、リトポン、タルク、酸化第二スズ等が挙げられる。

本発明の磁性層とバック層に使用される結合剤の樹脂成分としては、従来公知の熱可塑性樹脂、熱硬化性樹脂、反応型樹脂、電子線硬化型樹脂、紫外線硬化型樹脂、可視光線硬化型樹脂やこれらの混合物が使用される。

熱可塑性樹脂としては軟化温度が１５０℃以下、数平均分子量が１００００〜３０００００、重合度が約５０〜２０００程度のもので、より好ましくは２００〜６００程度であり、例えば塩化ビニル酢酸ビニル共重合体、塩化ビニル重合体、塩化ビニル酢酸ビニルビニルアルコール共重合体、塩化ビニル塩化ビニリデン共重合体、塩化ビニルアクリロニトリル共重合体、アクリル酸エステルアクリロニトリル共重合体、アクリル酸エステル塩化ビニリデン共重合体、アクリル酸エステルスチレン共重合体、メタクリル酸エステルアクリロニトリル共重合体、メタクリル酸エステル塩化ビニリデン共重合体、メタクリル酸エステルスチレン共重合体、ウレタンエラストマー、ナイロン−シリコン系樹脂、ニトロセルロース−ポリアミド樹脂、ポリフッカビニル、塩化ビニリデンアクリロニトリル共重合体、ブタジエンアクリロニトリル共重合体、ポリアミド樹脂、ポリビニルブチラール、セルロース誘導体（セルロースアセテートブチレート、セルロースダイアセテート、セルローストリアセテート、セルロースプロピオネート、ニトロセルロース、エチルセルロース、メチルセルロース、プロピルセルロース、メチルエチルセルロース、カルボキシメチルセルロース、アセチルセルロース等）、スチレンブタジエン共重合体、ポリエステル樹脂、ポリカーボネート樹脂、クロロビニルエーテルアクリル酸エステル共重合体、アミノ樹脂、各種の合成ゴム系の熱可塑性樹脂及びこれらの混合物等が使用される。

熱硬化性樹脂又は反応型樹脂としては塗布液の状態では２０００００以下の分子量であり、塗布、乾燥後に加熱加湿することにより、縮合、付加等の反応により分子量は無限大のものとなる。又、これらの樹脂のなかで、樹脂が熱分解するまでの間に軟化又は溶融しないものが好ましい。具体的には例えばフェノール樹脂、フェノキシ樹脂、エポキシ樹脂、ポリウレタン樹脂、ポリエステル樹脂、ポリウレタンポリカーボネート樹脂、尿素樹脂、メラミン樹脂、アルキッド樹脂、シリコン樹脂、アクリル系反応樹脂（電子線硬化樹脂）、エポキシ−ポリアミド樹脂、ニトロセルロースメラミン樹脂、高分子量ポリエステル樹脂とイソシアネートプレポリマーの混合物、メタクリル酸塩共重合体とジイソシアネートプレポリマーの混合物、ポリエステルポリオールとポリイソシアネートとの混合物、尿素ホルムアルデヒド樹脂、低分子量グリコール／高分子量ジオール／トリフェニルメタントリイソシアネートの混合物、ポリアミン樹脂、ポリイミン樹脂及びこれらの混合物等である。

これらの熱可塑性樹脂、熱硬化性樹脂、反応型樹脂は、主たる官能基以外に官能基としてカルボン酸（ＣＯＯＭ）、スルフィン酸、スルフェン酸、スルホン酸（ＳＯ3 Ｍ）、燐酸（ＰＯ（ＯＭ）（ＯＭ））、ホスホン酸、硫酸（ＯＳＯ3 Ｍ）およびこれらのエステル基等の酸性基（Ｍは、Ｈ、アルカリ金属、アルカリ土類金属、炭化水素基）、アミノ酸類、アミノスルホン酸類、アミノアルコールの硫酸または燐酸エステル類、アルキルベタイン型等の両性類基、アミノ基、イミノ基、イミド基、アミド基等また、水酸基、アルコキシル基、チオール基、アルキルチオ基、ハロゲン基（Ｆ、Ｃｌ、Ｂｒ、Ｉ）、シリル基、シロキサン基、エポキシ基、イソシアナト基、シアノ基、ニトリル基、オキソ基、アクリル基、フォスフィン基を通常１種以上６種以内含み、各々の官能基は樹脂１ｇあたり１×１０^-6当量〜１×１０^-2当量含む事が好ましい。

硬化剤としては、通常はポリイソシアネート化合物が使用される。本発明の磁性層及び或いはバック層に用いるポリイソシアネート化合物としては、トリレンジイソシアネート、４，４′−ジフェニルメタンジイソシアネート、ヘキサメチレンジイソシアネート、キシリレンジイソシアネート、ナフチレン−１，５−ジイソシアネート、ｏ−トルイジンジイソシアネート、イソホロンジイソシアネート、トリフェニルメタントリイソシアネート、イソホロンジイソシアネート等のイソシアネート類、又当該イソシアネート類とポリアルコールとの生成物、又イソシアネート類の縮合に依って生成した２〜１０量体のポリイソシアネート、またはトリイソシアネートとポリウレタンとの生成物で末端官能基がイソシアネートであるもの等を使用することができる。これらポリイソシアネート類の平均分子量は、１００〜２００００のものが好適である。これらポリイソシアネート化合物の市販されている商品名としては、コロネートＬ、コロネートＨＬ、コロネート２０３０、コロネート２０３１、ミリオネートＭＲ、ミリオネートＭＴＬ（日本ポリウレタン（株）、タケネートＤ−１０２、タケネートＤ−１１０Ｎ、タケネートＤ−２００、タケネートＤ−２０２、タケネート３００Ｓ、タケネート５００（武田薬品（株）製）、スミジュールＴ−８０、スミジュール４４Ｓ、スミジュールＰＦ、スミジュールＬ、スミジュールＮ、デスモジュールＬ、デスモジュールＩＬ、デスモジュールＮ、デスモジュールＨＬ、デスモジュールＴ６５、デスモジュール１５、デスモジュールＲ、デスモジュールＲＦ、デスモジュールＳＬ、デスモジュールＺ４２７３（住友バイエル社製）等があり、これらを単独若しくは硬化反応性の差を利用して二つ若しくはそれ以上の組み合わせによって使用することができる。又、硬化反応を促進する目的で、水酸基（ブタンジオール、ヘキサンジオール、分子量が１０００〜１００００のポリウレタン、水等）、アミノ基（モノメチルアミン、ジメチルアミン、トリメチルアミン等）を有する化合物や金属酸化物の触媒を併用する事も出来る。これらの水酸基やアミノ基を有する化合物は多官能である事が望ましい。これらのポリイソシアネートは磁性層、バック層とも結合剤樹脂とポリイソシアネートの総量１００重量部あたり２〜７０重量部で使用することが好ましく、より好ましくは５〜５０重量部である。これらの例示は、特開昭６０−１３１６２２号公報、特開昭６１−７４１３８号公報等において示されている。

これらの結合剤の単独又は組合わされたものが使われ、ほかに添加剤が加えられる。磁性層の強磁性粉末と結合剤との混合割合は重量比で強磁性粉末１００重量部に対して結合剤５〜３００重量部の範囲で使用される。バック層の粉末と結合剤の混合割合は重量比で粉末１００重量部に対して結合剤８〜４００重量部の範囲で使用される。添加剤としては、カーボンブラック、研磨剤、潤滑剤、分散剤・分散助剤、防黴剤、帯電防止剤、酸化防止剤、溶剤等が加えられる。

本発明に使用されるカーボンブラックとしてはゴム用ファーネス、ゴム用サーマル、カラー用ブラック、アセチレンブラック等を用いることができる。これらカーボンブラックはテープの帯電防止、遮光剤、摩擦係数調節剤、耐久性向上を目的として使用される。これらカーボンブラックの米国における略称の具体例をしめすと、SAF 、ISAF、IISAF 、T 、HAF 、SPF 、FF、FEF 、HMF 、GPF 、APF 、SRF 、MPF 、ECF 、SCF 、CF、FT、MT 、HCC 、HCF 、MCF 、LFF 、RCF 等があり、米国のASTM規格のD-1765-82aに分類されているものを使用することができる。本発明に使用されるこれらカーボンブラックの平均粒子サイズは5 〜1000nm( 電子顕微鏡) 、窒素吸着法比表面積は１〜８００ｍ² ／ｇ、pHは４〜１１(JIS規格K-6221-1982 法)、ジブチルフタレート(DBP) 吸油量は１０〜８００ｍＬ（ミリリットル）/100g(JIS 規格K-6221-1982 法) である。本発明に使用されるカーボンブラックのサイズは、塗布膜の表面電気抵抗を下げる目的で5 〜100nm のカーボンブラックを、また塗布膜の強度を制御するときに50〜1000nmのカーボンブラックを使用することができる。また塗布膜の表面粗さを制御する目的でスペーシングロス減少のための平滑化のためにより微粒子のカーボンブラック(100nm未満) を、粗面化して摩擦係数を下げる目的で粗粒子のカーボンブラック(100nm以上) を用いる。このようにカーボンブラックの種類と添加量は磁気記録媒体に要求される目的に応じて使い分けられる。

また、これらのカーボンブラックを、後述の分散剤などで表面処理したり、樹脂でグラフト化して使用してもよい。また、カーボンブラックを製造するときの炉の温度を2000℃以上で処理して表面の一部をグラファイト化したものも使用できる。また、特殊なカーボンブラックとして中空カーボンブラックを使用することもできる。

これらのカーボンブラックは磁性層の場合、強磁性粉末100 重量部に対して0.1 〜30重量部で用いることが望ましく、また、バック層の場合は、樹脂１００重量部に対し２０〜４００重量部で用いることが望ましい。本発明に使用できるカーボンブラックは、例えば、『カーボンブラック便覧』、カーボンブラック協会編（昭和46年発行) を参考にすることができる。これらカーボンブラックの例示は米国特許４５３９２５７号明細書、同４６１４６８５号明細書、特開昭６１−９２４２４号公報、特開昭６１−９９９２７号公報等に記載されている。

本発明に使用される研磨材は磁気記録媒体の耐久性やＶＴＲのヘッドクリーニング効果を向上させるために用いられ、一般的に研磨作用もしくは琢磨作用をもつ材料で、α−アルミナ、γ−アルミナ、α，γ−アルミナ、熔融アルミナ、炭化珪素、酸化クロム、酸化セリウム、コランダム、人造ダイヤモンド、α−酸化鉄、ザクロ石、エメリー（主成分：コランダムと磁鉄鉱）、ガーネット、珪石、窒化珪素、窒化硼素、炭化モリブデン、炭化硼素、炭化タングステン、チタンカーバイド、クオーツ、トリポリ、珪藻土、ドロマイト等で、主としてモース硬度６以上、より好ましくはモース硬度８以上の材料が１内至４種迄の組合わせで使用される。これらの研磨材は平均粒子サイズが０．００５〜５ミクロンの大きさのものが使用され、特に好ましくは０．０１〜２ミクロンである。これらの研磨材は磁性層の場合、強磁性粉末１００重量部に対して０．０１〜２０重量部の範囲で添加される。また、バック層の場合、後述する樹脂１００重量部に対して０．０１〜５重量部で用いることが望ましい。これらの具体例としては、住友化学（株）製のＡＫＰ１、ＡＫＰ１５、ＡＫＰ２０、ＡＫＰ３０、ＡＫＰ５０、ＡＫＰ８０、Ｈｉｔ５０、Ｈｉｔ１００等が挙げられる。これらについては特公昭５２−２８６４２号公報等に記載されている。

本発明に使用される粉末状潤滑剤としては、グラファイト、二硫化モリブデン、窒化硼素、弗化黒鉛、炭酸カルシウム、硫酸バリウム、酸化珪素、酸化チタン、酸化亜鉛、酸化錫、二硫化タングステン等の無機微粉末、アクリルスチレン系樹脂微粉末、ベンゾグアナミン系樹脂微粉末、メラミン系樹脂微粉末、ポリオレフィン系樹脂微粉末、ポリエステル系樹脂微粉末、ポリアミド系樹脂微粉末、ポリイミド系樹脂微粉末、ポリ弗化エチレン系樹脂微粉末等の樹脂微粉末等がある。

また有機化合物系潤滑剤としては、シリコンオイル（ジアルキルポリシロキサン、ジアルコキシポリシロキサン、フェニルポリシロキサン、フルオロアルキルポリシロキサン（信越化学製ＫＦ９６、ＫＦ６９等）、脂肪酸変性シリコンオイル、フッ素アルコール、ポリオレフィン（ポリエチレンワックス、ポリプロピレン等）、ポリグリコール（エチレングリコール、ポリエチレンオキシドワックス等）、テトラフルオロエチレンオキシドワックス、ポリテトラフルオログリコール、パーフルオロアルキルエーテル、パーフルオロ脂肪酸、パーフルオロ脂肪酸エステル、パーフルオロアルキル硫酸エステル、パーフルオロアルキルスルホン酸エステル、パーフルオロアルキルベンゼンスルホン酸エステル、パーフルオロアルキル燐酸エステル等のフッ素や珪素を導入した化合物、アルキル硫酸エステル、アルキルスルホン酸エステル、アルキルホスホン酸トリエステル、アルキルホスホン酸モノエステル、アルキルホスホン酸ジエステル、アルキル燐酸エステル、琥珀酸エステル等の有機酸および有機酸エステル化合物、トリアザインドリジン、テトラアザインデン、ベンゾトリアゾール、ベンゾジアゾール、ＥＤＴＡ等の窒素、硫黄を含む複素（ヘテロ）環化合物、炭素数１０〜４０の一塩基性脂肪酸と炭素数２〜４０個の一価のアルコールもしくは二価のアルコール、三価のアルコール、四価のアルコール、六価のアルコールのいずれか１つもしくは２つ以上とから成る脂肪酸エステル類、炭素数１０個以上の一塩基性脂肪酸と該脂肪酸の炭素数と合計して炭素数が１１〜７０個と成る一価〜六価のアルコールから成る脂肪酸エステル類、炭素数８〜４０の脂肪酸或いは脂肪酸アミド類、脂肪酸アルキルアミド類、脂肪族アルコール類も使用できる。

これら化合物の具体的な例としては、カプリル酸ブチル、カプリル酸オクチル、ラウリン酸エチル、ラウリン酸ブチル、ラウリン酸オクチル、ミリスチン酸エチル、ミリスチン酸ブチル、ミリスチン酸オクチル、ミリスチン酸２エチルヘキシル、パルミチン酸エチル、パルミチン酸ブチル、パルミチン酸オクチル、パルミチン酸２エチルヘキシル、ステアリン酸エチル、ステアリン酸ブチル、ステアリン酸イソブチル、ステアリン酸オクチル、ステアリン酸２エチルヘキシル、ステアリン酸アミル、ステアリン酸イソアミル、ステアリン酸２エチルペンチル、ステアリン酸２ヘキシルデシル、ステアリン酸イソトリデシル、ステアリン酸アミド、ステアリン酸アルキルアミド、ステアリン酸ブトキシエチル、アンヒドロソルビタンモノステアレート、アンヒドロソルビタンジステアレート、アンヒドロソルビタントリステアレート、アンヒドロソルビタンテトラステアレート、オレイルオレート、オレイルアルコール、ラウリルアルコール、モンタンワックス、カルナウバワックス等が有り単独若しくは組合わせ使用出来る。

また本発明に使用される潤滑剤としては所謂潤滑油添加剤も単独若しくは組合わせで使用出来、防錆剤として知られている酸化防止剤（アルキルフェノール、ベンゾトリアジン、テトラアザインデン、スルファミド、グアニジン、核酸、ピリジン、アミン、ヒドロキノン、ＥＤＴＡ等の金属キレート剤）、錆どめ剤（ナフテン酸、アルケニルコハク酸、燐酸、ジラウリルフォスフェート等）、油性剤（ナタネ油、ラウリルアルコール等）、極圧剤（ジベンジルスルフィド、トリクレジルフォスフェート、トリブチルホスファイト等）、清浄分散剤、粘度指数向上剤、流動点降下剤、泡どめ剤等がある。これらの潤滑剤は結合剤１００重量部に対して０．０１〜３０重量部の範囲で添加される。

本発明に使用する分散剤、分散助剤としては、カプリル酸、カプリン酸、ラウリン酸、ミリスチン酸、パルミチン酸、ステアリン酸、オレイン酸、エライジン酸、リノール酸、リノレン酸、ステアロール酸、ベヘン酸、マレイン酸、フタル酸等の炭素数２〜４０個の脂肪酸（Ｒ1 ＣＯＯＨ、Ｒ1 は炭素数１〜３９個のアルキル基、フェニル基、アラルキル基）、前記の脂肪酸のアルカリ金属（Ｌｉ、Ｎａ、Ｋ等）またはアルカリ土類金属（Ｍｇ、Ｃａ、Ｂａ等）、ＮＨ₄₊、Ｃｕ、Ｐｂ等から成る金属石鹸（オレイン酸銅）、脂肪酸アミド；レシチン（大豆油レシチン）等が使用される。この他に炭素数４〜４０の高級アルコール（ブタノール、オクチルアルコール、ミリスチルアルコール、ステアリルアルコール）及びこれらの硫酸エステル、スルホン酸、フェニルスルホン酸、アルキルスルホン酸、スルホン酸エステル、燐酸モノエステル、燐酸ジエステル、燐酸トリエステル、アルキルホスホン酸、フェニルホスホン酸、アミン化合物等も使用可能である。また、ポリエチレングリコール、ポリエチレンオキサイド、スルホ琥珀酸、スルホ琥珀酸金属塩、スルホ琥珀酸エステル等も使用可能である。これらの分散剤は通常一種類以上で用いられ、一種類の分散剤は結合剤１００重量部に対して０．００５〜２０重量部の範囲で添加される。これら分散剤の使用方法は、強磁性粉末や非磁性粉末の表面に予め被着させても良く、また分散途中で添加してもよい。このようなものは、例えば特公昭３９−２８３６９号公報、特公昭４４−１７９４５号公報、特公昭４８−１５００１号公報、米国特許３３８７９９３号明細書、同３４７００２１号明細書等に於いて示されている。

本発明に用いる防黴剤としては、２−（４−チアゾリル）−ベンズイミダゾール、Ｎ−（フルオロジクロロメチルチオ）−フタルイミド、１０，１０′−オキシビスフェノキシサルシン、２，４，５，６−テトラクロロイソフタロニトリル、Ｐ−トリルジョードメチルスルホン、トリヨードアリルアルコール、ジヒドロアセト酸、フェニルオレイン酸水銀、酸化ビス（トリブチル錫）、サリチルアニライド等がある。

このようなものは、例えば「微生物災害と防止技術」１９７２年工学図書、「化学と工業」３２，９０４（１９７９）等に於いて示されている。本発明に用いるカーボンブラック以外の帯電防止剤としてはグラファイト、変性グラファイト、カーボンブラックグラフトポリマー、酸化錫−酸化アンチモン、酸化錫、酸化チタン−酸化錫−酸化アンチモン、等の導電性粉末；サポニン等の天然界面活性剤；アルキレンオキサイド系、グリセリン系、グリシドール系、多価アルコール、多価アルコールエステル、アルキルフェノールＥＯ付加体等のノニオン界面活性剤；高級アルキルアミン類、環状アミン、ヒダントイン誘導体、アミドアミン、エステルアミド、第四級アンモニウム塩類、ピリジンそのほかの複素環類、ホスホニウムまたはスルホニウム類、等のカチオン界面活性剤；カルボン酸、スルホン酸、ホスホン酸、燐酸、硫酸エステル基、ホスホン酸エステル、燐酸エステル基などの酸性基を含むアニオン界面活性剤；アミノ酸類；アミノスルホン酸類、アミノアルコールの硫酸または燐酸エステル類、アルキルベタイン型等の両性界面活性剤等が使用される。これらの界面活性剤は単独または混合して添加しても良い。また、磁気記録媒体におけるこれらの界面活性剤の使用量は、強磁性粉末１００重量部当たり０．０１〜１０重量部である。また、バック層での使用量は結合剤１００重量部当たり０．０１〜３０重量部である。これらは帯電防止剤として用いられるものであるが、時としてそのほかの目的、例えば分散、磁気特性の改良、潤滑性の改良、塗布助剤、湿潤剤、硬化促進剤、分散促進剤として適用される場合もある。

磁性層の形成は、通常の方法に従って行うことができる。例えば、上記強磁性粉末および樹脂成分ならびに必要に応じて配合される研磨剤および硬化剤などの磁性層形成成分を溶剤とともに混練分散して磁性塗料を調製し、この磁性塗料を非磁性支持体上に塗布する方法を利用できる。本発明の分散、混練、塗布の際に使用する有機溶媒としては、任意の比率でアセトン、メチルエチルケトン、メチルイソブチルケトン、シクロヘキサノン、イソホロン、テトラヒドロフラン等のケトン系；メタノール、エタノール、プロパノール、ブタノール、イソブチルアルコール、イソプロピルアルコール、メチルシクロヘキサノールなどのアルコール系；酢酸メチル、酢酸エチル、酢酸ブチル、酢酸イソブチル、酢酸イソプロピル、乳酸エチル、酢酸グリコールモノエチルエーテル等のエステル系；ジエチルエーテル、テトラヒドロフラン、グリコールジメチルエーテル、グリコールモノエチルエーテル、ジオキサンなどのエーテル系；ベンゼン、トルエン、キシレン、クレゾール、クロルベンゼン、スチレンなどのタール系（芳香族炭化水素）；メチレンクロライド、エチレンクロライド、四塩化炭素、クロロホルム、エチレンクロルヒドリン、ジクロルベンゼン等の塩素化炭化水素、Ｎ，Ｎ−ジメチルホルムアルデヒド、ヘキサン等のものが使用できる。これらの溶媒は通常任意の比率で２種以上で用いる。また１重量％以下の量で微量の不純物（その溶媒自身の重合物、水分、原料成分等）を含んでもよい。これらの溶剤は磁性層形成塗料もしくはバック層形成塗料、下塗液の合計固形分１００重量部に対して１００〜２００００重量部で用いられる。好ましい磁性層形成塗料の固形分率は１０〜４０重量％である。また、バック層形成塗料の好ましい固形分率は５〜２０重量％である。有機溶媒の代わりに水系溶媒（水、アルコール、アセトン等）を使用することもできる。

分散、混練の方法には特に制限はなく、また各成分の添加順序（樹脂、粉体、潤滑剤、溶媒等）、分散・混練中の添加位置、分散温度（０〜８０℃）などは適宜設定することができる。磁性層形成塗料およびバック層形成塗料の調製には、通常の混練機、例えば、二本ロールミル、三本ロールミル、ボールミル、ペブルミル、トロンミル、サンドグラインダー、ゼグバリ（Ｓｚｅｇｖａｒｉ）、アトライター、高速インペラー、分散機、高速ストーンミル、高速度衝撃ミル、ディスパー、ニーダー、高速ミキサー、リボンブレンダー、コニーダー、インテンシブミキサー、タンブラー、ブレンダー、ディスパーザー、ホモジナイザー、単軸スクリュー押し出し機、二軸スクリュー押し出し機、及び超音波分散機などを用いることができる。通常分散・混練にはこれらの分散・混練機を複数備え、連続的に処理を行う。混練分散に関する技術の詳細は、Ｔ．Ｃ．ＰＡＴＴＯＮ著（テー．シー．パットン）“ Paint Flow and Pigment Dispersion" （ペイント フロー アンド ピグメント ディスパージョン）１９６４年John Wiley & Sons社発行（ジョン ウイリー アンド サンズ）や田中信一著「工業材料」２５巻３７（１９７７）などや当該書籍の引用文献に記載されている。これら分散、混練の補助材料として分散・混練を効率よく進めるため、球相当径で１０ｃｍφ〜０．０５ｍｍφの径のスチールボール、スチールビーズ、セラミックビーズ、ガラスビーズ、有機ポリマービーズを用いることができる。またこれら材料は球形に限らない。また、米国特許第２５８１４１４号及び同第２８５５１５６号などの明細書にも記載がある。本発明においても上記の書籍や当該書籍の引用文献などに記載された方法に準じて混練分散を行い磁性塗料およびバック層塗料を調製することができる。

支持体上へ前記の磁性塗料ならびにバック層塗料を塗布する方法としては、塗布液の粘度を１〜２００００センチストークス（２５℃）に調製し、エアードクターコート、ブレードコート、エアナイフコート、スクイズコート、含浸コート、リバースロールコート、トランスファーロールコート、グラビアコート、キスコート、キャストコート、スプレイコート、ロッドコート、正回転ロールコート、カーテンコート、バーコート、押出しコート、スピンコート等が利用出来、その他の方法も可能であり、これらの具体的説明は浅倉書店発行の「コーテイング工業」２５３頁〜２７７頁（昭和４６．３．２０．発行）に詳細に記載されている。

これら塗布液の塗布の順番は任意に選択でき、また所望の液の塗布の前に下塗り層あるいは支持体との密着力向上のためにコロナ放電処理を等を行っても良い。また磁性層もしくはバック層を多層で構成したいときは、同時多層塗布、逐次多層塗布等を行ってもよい。これらは、例えば、特開昭５７−１２３５３２号公報、特公昭６２−３７４５１号公報等に示されている。

このような方法により、支持体上に約１〜２００μｍほどで塗布された磁性塗料は必要により層中の強磁性粉末を直ちに２０℃〜１３０℃で多段階で乾燥しながら５００〜５０００Ｇ程で所望の方向（垂直、長手、幅、ランダム、斜め等）へ配向させる処理、すなわち磁場配向処理を施した後、形成した磁性層を０．１〜３０μｍ厚みに乾燥する。このときの支持体の搬送速度は、通常１０ｍ／分〜９００ｍ／分で行われ、複数の乾燥ゾーンで乾燥温度を２０℃〜１３０℃で制御し塗布膜の残留溶剤量を０．１〜４０ｍｇ／（１／２吋）／ｍ² とする。

また、このようにして乾燥された後、塗布層に必要によりカレンダー処理を行う。カレンダー処理には、例えばスーパーカレンダーロールなどが利用される。カレンダー処理を行うことにより、乾燥時の溶剤の除去によって生じた空孔が減少し磁性層中の強磁性粉末の充填率が向上するので、電磁変換特性の高い磁気記録媒体を得ることができる。

前記のカレンダー処理された段階では、結合剤の形成成分として硬化剤を使用した場合、磁性層に含まれる硬化剤のうち、通常９０重量％以上が未反応の状態で磁性層に含有されているので、硬化処理を行って、少なくとも硬化剤の５０重量％（特に好ましくは８０重量％以上）を反応させた後に、その次の処理を行うことが望ましい。硬化処理には、加熱硬化処理と電子線硬化処理とがあり、本発明においては、いずれの方法であっても利用することができる。この硬化処理によりカレンダー処理された磁性層に含有される未反応の硬化剤が、例えば塩化ビニル系共重合体およびポリウレタン系樹脂のような樹脂成分と三次元網状の架橋構造を形成するように反応する。加熱処理の工程自体は既に公知であり、本発明においてもこれらの方法に準じて加熱処理を行うことができる。例えば、加熱処理は、加熱時間を通常４０℃以上（好ましくは５０〜８０℃の範囲内）、加熱時間を通常２０時間以上（好ましくは２４時間〜７日間）に設定して行われる。また、電子線照射による硬化処理の工程自体も既に公知であり、本発明においてもこれらの方法に準じて硬化処理を行うことができる。

本発明においては、このように作成した磁気記録媒体をスリッター等の通常の裁断機等を使用して通常の条件で所望の形状に裁断した後、プラスチックや金属のリールに巻き取る。本発明においては、こうして作成した磁性層の表面、または磁性層の表面およびバック層の表面を、巻き取る直前ないしそれ以前の工程において磁気記録媒体（磁性層、バック層、エッジ端面、ベース面）を研磨テープによりバーニッシュ処理を行ってもよい。これらは、例えば、特開昭６３−２５９８３０号公報等に開示されている。

また、磁気記録媒体の拭き取り処理は、磁気記録媒体表面の汚れや余分な潤滑剤を除去する目的で磁気記録媒体表層を不織布などで磁性層面、バック層面、エッジ端面、バック側のベース面をワイピングすることにより行う。このようなワイピングの材料としては、例えば日本バイリーン製の各種バイリーンや東レ製のトレシー、エクセーヌやクラレ製のクラレＷＲＰシリーズ、また不織布としてナイロン製不織布、ポリエステル製不織布、レーヨン製不織布、アクリロニトリル製不織布、混紡不織布等も使用できる。その他、ティッシュペーパー、キムワイプ等も使用できる。これらは、特開平１−２０１８２４号公報等に記載されている。この拭き取り処理によって、磁性層および／またはバック層の付着物および有機物質の除去が完全に行われることになり、ドロップアウトあるいは目詰まり発生頻度が低下する。

これらの製造方法は粉体の予備処理・表面処理、混練・分散、塗布・配向・乾燥、カレンダー処理、硬化処理（熱処理、放射線照射（ＥＢ）処理）、裁断、バーニッシュ処理、拭き取り処理および巻き取りの工程を連続して行う事が望ましい。また特公昭４１−１３１８１号公報にしめされる方法はこの分野における基本的、かつ重要な技術と考えられている。但し、処理を行う順序は、上記順序に限定するものではない。

本発明に使用される強磁性粉末または非磁性粉末、結合剤、添加剤（潤滑剤、分散剤、帯電防止剤、表面処理剤、カーボンブラック、研磨材、遮光剤、酸化防止剤、防黴剤等）、溶剤及び支持体（下塗層、バック層、バック下塗を有してもよい）或いは磁気記録媒体の製法等は特公昭５６−２６８９０号公報等に記載されているものも参考にできる。

本発明に係る磁気テープの製造装置を示す構成図 スリッタの構成を示す正面図 回転上刃の外周部を示す正面断面図 図３と異なる形状の回転上刃の外周部を示す正面断面図 磁気テープの裁断面の拡大断面図 磁気テープのクラックを示す斜視図 試験結果を示す表図

符号の説明

１０…製造装置、１２…磁気テープ、１４…磁気テープ原反、１６…スリッタ、２２…フィードローラ、２６…回転上刃、２６ａ…裁断面、２６ｂ…面取り部、２６ｃ…外周面、２８…回転下刃、３６、４２…モータ

Claims (2)

1. 幅方向のヤング率が６．９ＧＰａ以上の帯状支持体に磁性層が形成された磁気テープを製造する製造方法であって、
   上下対に配置される回転上刃と回転下刃との間に、幅広の磁気テープ原反を前記回転下刃に圧接させた状態で通過させることによって、該磁気テープ原反を長手方向に裁断する裁断処理を行い、幅狭の磁気テープを製造する磁気テープの製造方法において、
   前記裁断処理は、外周面の厚み方向の長さが０．１５ｍｍ以下の回転上刃を用いて裁断を行うことを特徴とする磁気テープの製造方法。
2. 幅方向のヤング率が６．９ＧＰａ以上の帯状支持体に磁性層が形成された磁気テープを製造する製造装置であって、
   上下対に配置される回転上刃及び回転下刃を備え、前記回転上刃と回転下刃との間に幅広の磁気テープ原反を前記回転下刃に圧接した状態で通過させることによって長手方向に裁断し、幅狭の磁気テープを製造する磁気テープの製造装置において、
   前記回転上刃は、外周面の厚み方向の長さが０．１５ｍｍ以下であることを特徴とする磁気テープの製造装置。

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