JP2007251054A - 金属の処理方法 - Google Patents
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Abstract
【解決手段】金属の表面を洗浄する際、水素を溶解させて比抵抗が1MΩ/cmを越える超純水を用いることが基本になっている。
【選択図】 図1
Description
金属の表面を洗浄する際、水素を溶解させ比抵抗が1MΩ/cmを越える超純水を用いること
を特徴とする金属の処理方法。
金属が銅、鉄、コバルト、マンガン、ニッケルの何れかであること
を特徴とする(付記1)記載の金属の処理方法。
金属が銅、鉄、コバルト、マンガン、ニッケルの何れかを含む合金であること
を特徴とする(付記1)記載の金属の処理方法。
超純水は、水素の他に0.1〜2ppmのアンモニアが添加され、酸化還元電位が0.25V(標準水素電極に於いて)以上の還元性がない純水であること を特徴とする(付記1)記載の金属の処理方法。
水素を溶解させた超純水中に金属を浸漬保管しておくこと
を特徴とする金属の処理方法。
金属が銅、鉄、コバルト、マンガン、ニッケルの何れかであること
を特徴とする(付記5)記載の金属の処理方法。
金属が銅、鉄、コバルト、マンガン、ニッケルの何れかを含む合金であること
を特徴とする(付記5)記載の金属の処理方法。
金属を浸漬保管する水素を溶解させた超純水に0.1〜2ppmのアンモニアが添加されてなること
を特徴とする(付記5)記載の金属の処理方法。
金属めっき後の後処理を行なうに際し、水素単独或いは水素+アンモニアを溶解させた水溶液を用いることを
特徴とする金属の処理方法。
Claims (5)
- 金属の表面を洗浄する際、水素を溶解させ比抵抗が1MΩ/cmを越える超純水を用いること
を特徴とする金属の処理方法。 - 金属が銅、鉄、コバルト、マンガン、ニッケルの何れかであること
を特徴とする請求項1記載の金属の処理方法。 - 超純水は、水素の他に0.1〜2ppmのアンモニアが添加され、酸化還元電位が0.25V(標準水素電極に於いて)以上の還元性がない純水であること を特徴とする請求項1記載の金属の処理方法。
- 水素を溶解させた超純水中に金属を浸漬保管しておくこと
を特徴とする金属の処理方法。 - 金属を浸漬保管する水素を溶解させた超純水に0.1〜2ppmのアンモニアが添加されてなること を特徴とする請求項4記載の金属の処理方法。
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JP2006075381A JP2007251054A (ja) | 2006-03-17 | 2006-03-17 | 金属の処理方法 |
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Cited By (1)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP2013105916A (ja) * | 2011-11-14 | 2013-05-30 | Panasonic Corp | 配線基板の製造方法及び半導体素子の製造方法 |
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Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPH11204484A (ja) * | 1998-01-08 | 1999-07-30 | Kurita Water Ind Ltd | 電子材料用洗浄水 |
JP2001300454A (ja) * | 2000-04-28 | 2001-10-30 | Matsushita Electric Ind Co Ltd | 基板の表面処理方法 |
JP2004296463A (ja) * | 2003-03-25 | 2004-10-21 | Mitsubishi Electric Corp | 洗浄方法および洗浄装置 |
-
2006
- 2006-03-17 JP JP2006075381A patent/JP2007251054A/ja active Pending
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