JP2007233283A - 反射型回折格子 - Google Patents
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Abstract
【解決手段】母型となる回折格子20の格子面に蒸着によりアルミニウム薄膜33を形成し、レプリカ基板31の表面に該回折格子20の格子溝パターンをアルミニウム薄膜33と共に反転転写することで作製されるレプリカ回折格子30において、該レプリカ基板31の少なくとも裏面(格子溝パターンが転写される面とは逆側の面)31bを粗面とする。これにより、レプリカ回折格子の格子面の一部にアルミニウム薄膜33で被覆されていない領域があった場合でも、該領域から基板31の内部に侵入し前記裏面31bに入射する光の反射率を低下させ、迷光を低減することができる。
【選択図】図3
Description
まず、BK7光学ガラスから成る基板11(約60mm×60mm×11.3mm)を光学研磨した後、超音波洗浄によって表面を清浄する。なお、基板11は光学研磨が可能であってフォトレジストを塗布することが可能であればその種類を問わないが、上記BK7以外に、例えば、パイレックス(登録商標)ガラス、石英ガラス等を用いることができる。次に、基板11の表面にフォトレジスト層12を形成する(図1(a))。フォトレジストは、ホログラフィック露光が可能なものであればいかなるものであってもよく、例えばMP1800シリーズ(シプレイ社製)や、OFPR5000(東京応化社製)等を利用することができる。本実施例ではMP1805を3000rpmで40秒間スピンコートした後、コンベクション・オーブンで90℃、30分間ベーキングし、厚さ0.3μmのフォトレジスト層12とする。
以上の工程により完成したマスター回折格子10にシリコングリース等の離型剤を蒸着して離型剤層14を形成し(図2(a))、その後に、真空蒸着によってアルミニウム薄膜23を形成する(図2(b))。このアルミニウム薄膜23は後にネガ回折格子の格子面を被覆するものであり、ここでは膜厚を約0.2μmとする。次いで、ネガ用基板21となるフロートガラス板(約60mm×60mm×11.3mm)を洗浄し、接着剤(熱硬化型エポキシ樹脂)22を略均一厚に塗布する(図2(c))。そして、この接着剤22を介してネガ用基板21と先の図2(b)の状態にあるマスター回折格子10とを貼り合わせ、適度な圧力で押しつける。それによって、接着剤22はアルミニウム薄膜23の断面鋸歯形状の溝を埋めるように広がる(図2(d))。
まず、レプリカ回折格子の基板(レプリカ基板)31となるフロートガラス板(約60mm×60mm×11.3mm)を用意し(図3(c))、メッシュサイズが#600〜#1000の砥粒を使用した砂かけ加工により該基板の表面(格子溝パターンが転写される側の面)31a及び側面(周面)31cの全体を粗面とする(図3(d))。このとき、これらの面の中心線平均粗さが4μm〜20μmとなるようにすることが望ましい。なお、レプリカ基板を粗面化処理する方法は、このような砂かけ加工に限定されるものではなく、例えば、ブラスト加工や薬液処理などいかなる手法を用いてもよい。
11…基板
12…フォトレジスト
13…アルミニウム薄膜
14…離型剤層
20…ネガ回折格子
21…ネガ用基板
22…接着剤
23…アルミニウム薄膜
24…離型剤層
30…レプリカ回折格子
31…レプリカ基板
32…接着剤
33…アルミニウム薄膜
Claims (5)
- 透光性基板の一方の面に金属薄膜で被覆された格子溝パターンを有する反射型回折格子において、該基板の他方の面を粗面としたことを特徴とする反射型回折格子。
- 上記反射型回折格子が、母型となる回折格子の格子溝パターンを透光性レプリカ基板の一方の面に転写して成るレプリカ回折格子であって、前記レプリカ基板の他方の面を粗面としたことを特徴とする請求項1に記載の反射型光学素子。
- 更に、上記基板又はレプリカ基板の周面を粗面としたことを特徴とする請求項1又は2に記載の反射型回折格子。
- 上記粗面の中心線平均粗さが4μm〜20μmであることを特徴とする請求項1〜3のいずれかに記載の反射型回折格子。
- 母型となる回折格子の格子溝パターンを透光性レプリカ基板の一方の面に転写することによりレプリカ回折格子を製造する方法において、
a) 母型となる回折格子の格子面に離型剤層を介して金属薄膜層を形成する工程と、
b) 前記レプリカ基板の少なくとも前記格子溝パターンが転写されない側の面を粗面化する工程と、
c) 前記金属薄膜層と前記レプリカ基板とを接着剤を介して密着させた後に前記離型剤層を境に両者を剥離させる工程と、
を有することを特徴とするレプリカ回折格子の製造方法。
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