JP2007225839A - 光学機能フィルムの製造方法、光学機能フィルム、偏光板、光学素子および画像表示装置 - Google Patents

Abstract

【課題】 光学特性に優れた光学機能フィルムを作製するにあたり、非液晶材料を含む塗工液をダイコーターにより塗工した場合であっても、形成された光学機能フィルムにおいて外観不良を低減することを一の課題とする。
【解決手段】 上流側ダイリップと下流側ダイリップとを備えたダイコーターのスロットから非液晶材料を含有する塗工液を吐出し、回転ロール表面に沿って搬送される基材フィルム上に該塗工液を塗工することにより光学機能層を形成する、光学機能フィルムの製造方法であって、前記上流側ダイリップよりも上流側雰囲気の気圧をＰ_U[Pa]、前記下流側ダイリップよりも下流側雰囲気の気圧をＰ_D[Pa]とした場合に、該Ｐ_UおよびＰ_Dが、下記数式（１）および数式（２）を満たすことを特徴とする。
Ｐ_D−Ｐ_U＜５０００ （１）
４００≦Ｐ_D−Ｐ_U−Ｐ_V≦２５００ （２）
【選択図】 図３

Description

本発明は、光学機能フィルムの製造方法と光学機能フィルム、並びに該光学機能フィルムを備えた偏光板、光学素子および画像表示装置に関する。

近年、テレビやパソコン等の画像表示装置として、薄型軽量、低消費電力といった優れた利点を有する液晶表示装置が多用されている。該液晶表示装置には、主たる構成要素である液晶層以外にも、偏光、光学補償、反射防止等といった種々の光学機能を発揮する樹脂層を備えた光学機能フィルムが用いられている。
しかし、光学機能フィルムを構成する樹脂層に厚みのムラがあると、透過光に干渉ムラが生じて光学機能フィルムの機能を低下させ、ひいては画像表示装置（例えば、液晶表示装置等）の表示機能を低下させることとなる。

従来、この種の光学機能フィルムは、スロットダイコーターやグラビアコーター等を用いた様々の塗工方式（例えば、特許文献１）により、樹脂を溶媒に溶解させてなる塗工液を基材フィルム上に塗布し、乾燥等の工程を施すことによって製造されている。
特開昭６２−１４０６７２号公報

さらに、近年の光学機能フィルムの高性能化に伴い、光学機能を付与する樹脂層についても薄層化と厚みの均一化が重要な要求事項となってきているが、従来の薄膜コーティング技術においては、塗工液の粘度を数十ｍＰａ・ｓｅｃ以下の低粘度にしてレベリング効果等を発揮させ、厚みの均一化を図っているにすぎない。

しかしながら、透明性、配向性及び延伸性に極めて優れる点で近年注目されつつあるポリイミド等の非液晶材料においては、該非液晶材料を含む塗工液を従来のダイコーターを用いた方法で塗工しようとする場合、非液晶材料を含有する塗工液の粘度を低下させることは困難であり、該非液晶材料特有の外観不良が発生するという問題もある。

そこで本発明は、光学特性に優れた光学機能フィルムを作製するにあたり、非液晶材料を含む塗工液をダイコーターにより塗工した場合であっても、形成された光学機能フィルムにおいて外観不良を低減することを一の課題とする。

上記課題を解決するべく、本発明は、上流側ダイリップと下流側ダイリップとを備えたダイコーターのスロットから非液晶材料を含有する塗工液を吐出し、回転ロール表面に沿って搬送される基材フィルム上に該塗工液を塗工することにより光学機能層を形成する、光学機能フィルムの製造方法であって、
前記上流側ダイリップよりも上流側雰囲気の気圧をＰ_U[Pa]、
前記下流側ダイリップよりも下流側雰囲気の気圧をＰ_D[Pa]とした場合に、
該Ｐ_UおよびＰ_Dが、下記数式（１）および数式（２）を満たすことを特徴とする光学機能フィルムの製造方法を提供する。
Ｐ_D−Ｐ_U＜５０００ （１）
４００≦Ｐ_D−Ｐ_U−Ｐ_V≦２５００ （２）
ここで、Ｐ_Vは、下記数式（３）により算出される理論下限バキューム圧[Pa]、

μは、塗布時の液温における塗布液の粘度[Pa・s]、
σは、塗工時の液温における塗布液の表面張力[N／m]、
θは、塗工時の液温における塗布液の上流側ダイリップに対する静的接触角[°]、
νは、ν＝73・Ｕ^0.22σ^0.11μ^0.18として算出される塗布液の基材フィルムに対する動的接触角[°]（ただし、180°を超える場合は180°とする）、
Ｕは、基材フィルムの搬送速度[m/s]、
Ｌは、下流側ダイリップのリップランドの流れ方向長さ[m]、
Ｌ_Dは、基材フィルムの進行方向断面において、上流側ダイリップのスロット面の延長線と基材フィルム表面との交点をａとし、該ａと回転ロールの中心軸とを結ぶ線を基準線とした場合に、上流側ダイリップ先端と該基準線との最短距離[m]、
Ｒは、回転ロールの半径[m]、
Ｈ∞は、塗布後、乾燥前の塗工膜の厚み[m]、
Ｈ(Ｘ)は、下流側ダイリップの下流側先端を原点とし、そこから上流側にＸ[m]離れた位置での下流側ダイリップと基材フィルムとの距離[m]、
Ｈ_Gは、Ｈ(Ｘ)の最小値[m]、
Ｃａ＝μＵ／σ、
φ＝sin^-1(Ｌ_D／Ｒ)、を示す。

また、本発明は、前記光学機能フィルムの製造方法によって製造されたことを特徴とする光学機能フィルム、該光学機能フィルムが備えられてなる偏光板、光学素子及び画像表示装置を提供するものである。

尚、本発明において、上流側ダイリップとは、ダイコーターを構成する一対のダイリップのうち、基材フィルムの搬送方向（本明細書において、流れ方向ともいう）における上流側（即ち、塗工前の基材フィルムが送られてくる側）に配置されたダイリップをいい、下流側ダイリップとは、基材フィルムの搬送方向における下流側（即ち、塗工後の基材フィルムが次工程へと送られて行く側）に配置されたダイリップをいう。
また、リップランドとは、ダイリップ先端面をいい、スロット面とは、塗工液が吐出されるダイリップのスロットを構成する面をいう。

本発明によれば、該Ｐ_UおよびＰ_Dが、前記数式（１）および数式（２）を満たすようにして非液晶材料含有塗工液を吐出させることにより、非液晶材料含有塗工液が基材フィルム上に極めてムラなく塗布されることとなる。

本発明に係る光学機能フィルムの製造方法によれば、従来、ダイコーターでは外観不良が生じやすかった非液晶材料含有塗工液を均一な厚みで且つ薄層状に塗工することが可能となり、外観不良の少ないフィルムを作製することができる。
また、本発明に係る偏光板、光学素子及び画像表示装置は、上記のような光学機能フィルムが備えられたことにより、優れた光学機能を有するものとなる。

本発明は、ダイコーターを用いて非液晶材料を含有する塗工液を基材フィルム上に塗工する方法である。本発明に係る方法は、例えば、図１にその概略を示したような塗工装置を用いて行われる。
具体的には、該塗工装置１は、基材フィルム２を搬送するための回転ドラム６と、該回転ドラム６に沿って搬送される基材フィルム２に塗工液３を塗布するためのダイコーター４と、該基材フィルム２の流れ方向上流側の気圧Ｐ_U（以下、上流側気圧ともいう）を大気圧（即ち、下流側気圧Ｐ_D）よりも負圧にするためのバキュームボックス５とを備えてなる。

該バキュームボックス５は、吸引ファン（図示せず）に接続された排気ダクトによってその内部の気体が吸引されるように構成されており、前記基材フィルム２と該バキュームボックス５先端との隙間、スロットダイ４と該バキュームボックス５先端との隙間、および吸引ファンの吸引風量等によって前記上流側気圧Ｐ_Uが所定の負圧状態となるように制御される。

一方、ダイコーター４は、基材フィルム２の流れ方向上流側に配置された上流側ダイリップ４１と、同じく流れ方向下流側に配置された下流側ダイリップ４２とを備えてなり、該上流側ダイリップ４１と該下流側ダイリップ４２との隙間（スロット）から塗工液を吐出し、該塗工液を基材フィルム上に塗工するものである。

図２は、上記のような構成の塗工装置１を用いて塗工液３を基材フィルム２上に塗工する場合において、前記上流側気圧Ｐ_Uと下流側気圧Ｐ_Dとの差圧ΔＰ（ΔＰ＝Ｐ_D−Ｐ_Uとする）を変化させた際の、塗工液３の塗工状況を概念的に示した図である。

図２（ａ）に示すように、差圧ΔＰが小さい場合、即ち、上流側におけるバキューム圧が小さい場合には、塗工液３が基材フィルム２上に安定して塗工されず、塗膜を形成することが困難となる。差圧ΔＰを徐々に大きくすると、図２（ｂ）〜（ｄ）に示すような状態となり、塗工液は安定して基材フィルム２上に塗工される。
さらに差圧ΔＰを大きくすると、例えば、図２（ｅ）に示すように、塗工液が上流側ダイリップ４１を伝ってバキュームボックス側へと垂れたり、或いは基材フィルム２の搬送状態が安定せず、塗工膜に悪影響を及ぼすという問題がある。

ところで、ダイコーターを用いて一般的な樹脂含有塗工液を基材フィルム上に塗布する従来の塗工方法においては、低粘度の塗工液を調製することが比較的容易であるため、塗工厚みを大きくすることによって塗工状態を安定化させることができ、しかも塗工液のセルフレベリング作用によって膜厚バラツキの少ない塗膜を形成することが可能である。
これに対し、非液晶材料を含有する塗工液は、従来ダイコーターを用いて塗工されていた一般的な樹脂塗工液と比較して極めて高粘度であり、セルフレベリング作用による膜厚バラツキの低減効果は発揮されにくい。しかも、高粘度であるために、基材フィルム上へ塗工液を安定的に塗工することが極めて困難であり、実際には、図２（ｂ）〜（ｄ）に示したような安定的塗工状態を保つことは容易ではない。

これに対し、本発明に係る光学機能フィルムの製造方法においては、前記Ｐ_UおよびＰ_Dが、下記数式（１）および（２）を満たすように制御する。
Ｐ_D−Ｐ_U＜５０００ （１）
４００≦Ｐ_D−Ｐ_U−Ｐ_V≦２５００ （２）
ここで、Ｐ_Vは、前記図２（ｂ）に示したように、塗工液が安定的に基材フィルム上に塗布されるために必要とされるであろう圧力を理論的に求めたもの、即ち、理論下限バキューム圧[Pa]である。

該理論下限バキューム圧Ｐ_Vは、下記数式（３）により算出することができる。

ここで、μは、塗布時の液温における塗布液の粘度[Pa・s]、
σは、塗工時の液温における塗布液の表面張力[N／m]、
θは、塗工時の液温における塗布液の上流側ダイリップに対する静的接触角[°]、
νは、ν＝73・Ｕ^0.22σ^0.11μ^0.18として算出される塗布液の基材フィルムに対する動的接触角[°]（ただし、180°を超える場合は180°とする）、
Ｕは、基材フィルムの搬送速度[m/s]、
Ｌは、図３に示す如く、下流側ダイリップのリップランドの流れ方向長さ[m]、
Ｌ_Dは、基材フィルムの進行方向断面において、上流側ダイリップのスロット面の延長線と基材フィルム表面との交点をａとし、該ａと回転ロールの中心軸とを結ぶ線を基準線とした場合に、上流側ダイリップ先端と該基準線との最短距離[m]、
Ｒは、回転ロールの半径[m]、
Ｈ∞は、図３に示す如く、塗布後、乾燥前の塗工膜の厚み[m]、
Ｈ(Ｘ)は、図３に示す如く、下流側ダイの下流側先端を原点とし、そこから上流側にＸ[m]離れた位置での下流側ダイと基材フィルムとの距離[m]、
Ｈ_Gは、Ｈ(Ｘ)の最小値[m]、
Ｃａ＝μＵ／σ、
φ＝sin^-1(Ｌ_D／Ｒ)、を示すものである。

上記物性値のうち、μは、共軸二重円筒形式の回転粘度計を用いて測定されるものであり、塗布液がせん断速度依存性のある非ニュートン流体の場合には、特にせん断速度がＵ／Ｈ_Gの際の粘度をいうものとする。
また、σは、ペンダントドロップ法を利用した表面張力計によって測定されるものであり、θは、θ／２法を利用した接触角計によって測定されるものである。

前記数式（１）および数式（２）に示したように、本発明に係る光学機能フィルムの製造方法によれば、ΔＰ（即ちＰ_D−Ｐ_U）の上限値を５０００[Pa]とするとともに、理論下限バキューム圧Ｐ_V[Pa]よりも４００[Pa]だけ余分に負圧とした状態をΔＰ（即ちＰ_D−Ｐ_U）の下限値とし、理論下限バキューム圧Ｐ_V[Pa]よりも２５００[Pa]だけ余分に負圧とした状態をΔＰ（即ちＰ_D−Ｐ_U）の上限値とすることにより、非液晶材料を含有する塗工液を用した場合であっても、従来のダイコーターによる塗工方法を採用しつつ、流れ方向のスジムラを低減し、外観不良の低減された光学機能フィルムを製造することができる。

尚、本発明において使用するダイコーターとしては、種々のダイリップ形状のものを使用することができる。即ち、例えば、図４に示したように、上流側および下流側の何れか一方、或いは両方のダイリップにおいて、スロット面の先端部を面取り加工したものを用いてもよい。面取り加工する際の曲率半径Ｒとしては、０．２〜１．０ｍｍの範囲内とすることが好ましい。

また、ダイコーターのスロット面は、回転ロールの外周面に対して直角に配置されている必要はなく、例えば図５に示すように、上流側又は下流側へ傾斜するように配置されていてもよい。

ここで、本発明の方法に用いる非液晶材料としては、面内配向性が高く、有機溶剤に可溶なポリアミド、ポリイミド、ポリエステル、ポリエーテルケトン、ポリアミドイミド、ポリエステルイミドを例示することができ、ポリイミドが特にが好ましい。ポリイミドの具体例としては、例えば、特表２０００−５１１２９６号公報に開示された、９,９-ビス(アミノアリール)フルオレンと芳香族テトラカルボン酸二無水物との縮合重合生成物を含み、下記化学式（１）に示す繰り返し単位を１つ以上含むポリマーを好適に使用できる。

前記式（１）中、Ｒ³〜Ｒ⁶は、水素、ハロゲン、フェニル基、１〜４個のハロゲン原子又は炭素数１〜１０のアルキル基で置換されたフェニル基、及び炭素数１〜１０のアルキル基からなる群からそれぞれ独立に選択される少なくとも一種類の置換基である。好ましくはＲ³〜Ｒ⁶は、ハロゲン、フェニル基、１〜４個のハロゲン原子又は炭素数１〜１０のアルキル基で置換されたフェニル基、及び炭素数１〜１０のアルキル基からなる群からそれぞれ独立に選択される少なくとも一種類の置換基である。

前記式（１）中、Ｚは、例えば、炭素数６〜２０の４価芳香族基であり、好ましくは、ピロメリット基、多環式芳香族基、多環式芳香族基の誘導体、又は、下記式（２）で表される基である。

前記式(２)中、Z’は、例えば、共有結合、C(R⁷) ₂基、CO基、O原子、S原子、SO₂基、Si(C₂H₅)₂基、又は、NR⁸基であり、複数の場合、それぞれ同一であるか又は異なる。
また、wは、１〜１０までの整数を表す。R⁷は、それぞれ独立に、水素又はC(R⁹)₃である。R⁸は、水素、炭素数１〜２０のアルキル基、又は炭素数６〜２０のアリール基であり、複数の場合、それぞれ同一であるか又は異なる。R⁹は、それぞれ独立に、水素、フッ素、又は塩素である。

前記多環式芳香族基としては、例えば、ナフタレン、フルオレン、ベンゾフルオレン又はアントラセンから誘導される４価の基を挙げることができる。また、前記多環式芳香族基の置換誘導体としては、例えば、炭素数１〜１０のアルキル基、そのフッ素化誘導体、及びFやCl等のハロゲンからなる群から選択される少なくとも一つの基で置換された前記多環式芳香族基を挙げることができる。

この他にも、例えば、特表平８−５１１８１２号公報に記載された、繰り返し単位が下記一般式(３)又は(４)で示されるホモポリマーや、繰り返し単位が下記一般式(５)で示されるポリイミド等を挙げることができる。尚、下記式(５)のポリイミドは、下記式(３)のホモポリマーの好ましい態様である。

前記一般式(３)〜(５)中、G及びG’は、例えば、共有結合、CH₂基、C(CH₃)₂基、C(CF₃)₂基、C(CX₃)₂基(ここで、Xは、ハロゲンである。)、CO基、O原子、S原子、SO₂基、Si(CH₂CH₃)₂基、及び、N(CH₃)基からなる群から、それぞれ独立して選択される基を表し、それぞれ同一でも異なってもよい。

前記式(３)及び式(５)中、Lは、置換基であり、d及びeは、その置換数を表す。Lは、例えば、ハロゲン、炭素数１〜３のアルキル基、炭素数１〜３のハロゲン化アルキル基、フェニル基、又は、置換フェニル基であり、複数の場合、それぞれ同一であるか又は異なる。前記置換フェニル基としては、例えば、ハロゲン、炭素数１〜３のアルキル基、及び炭素数１〜３のハロゲン化アルキル基からなる群から選択される少なくとも一種類の置換基を有する置換フェニル基を挙げることができる。また、前記ハロゲンとしては、例えば、フッ素、塩素、臭素又はヨウ素を挙げることができる。dは、０〜２までの整数であり、eは、０〜３までの整数である。

前記式(３)〜(５)中、Qは置換基であり、fはその置換数を表す。Qとしては、例えば、水素、ハロゲン、アルキル基、置換アルキル基、ニトロ基、シアノ基、チオアルキル基、アルコキシ基、アリール基、置換アリール基、アルキルエステル基、及び置換アルキルエステル基からなる群から選択される原子又は基であって、Qが複数の場合、それぞれ同一であるか又は異なる。前記ハロゲンとしては、例えば、フッ素、塩素、臭素及びヨウ素を挙げることができる。前記置換アルキル基としては、例えば、ハロゲン化アルキル基を挙げることができる。
また前記置換アリール基としては、例えば、ハロゲン化アリール基を挙げることができる。fは、０〜４までの整数であり、g及びhは、それぞれ０〜３及び１〜３までの整数である。また、g及びhは、１より大きいことが好ましい。

前記式(４)中、R¹⁰及びR¹¹は、水素、ハロゲン、フェニル基、置換フェニル基、アルキル基、及び置換アルキル基からなる群から、それぞれ独立に選択される基である。
その中でも、R¹⁰及びR¹¹は、それぞれ独立に、ハロゲン化アルキル基であることが好ましい。

前記式(５)中、M¹及びM²は、同一であるか又は異なり、例えば、ハロゲン、炭素数１〜３のアルキル基、炭素数１〜３のハロゲン化アルキル基、フェニル基、又は、置換フェニル基である。
前記ハロゲンとしては、例えば、フッ素、塩素、臭素及びヨウ素を挙げることができる。
また、前記置換フェニル基としては、例えば、ハロゲン、炭素数１〜３のアルキル基、及び炭素数１〜３のハロゲン化アルキル基からなる群から選択される少なくとも一種類の置換基を有する置換フェニル基を挙げることができる。

前記式(３)に示すポリイミドの具体例としては、例えば、下記式(６)で表されるもの等を挙げることができる。

さらに、前記ポリイミドとしては、例えば、前述のような骨格(繰り返し単位)以外の酸二無水物やジアミンを、適宜共重合させたコポリマーを挙げることができる。

前記酸二無水物としては、例えば、芳香族テトラカルボン酸二無水物を挙げることができる。
前記芳香族テトラカルボン酸二無水物としては、例えば、ピロメリット酸二無水物、ベンゾフェノンテトラカルボン酸二無水物、ナフタレンテトラカルボン酸二無水物、複素環式芳香族テトラカルボン酸二無水物、2,2'−置換ビフェニルテトラカルボン酸二無水物等を挙げることができる。

前記ピロメリット酸二無水物としては、例えば、ピロメリット酸二無水物、3,6-ジフェニルピロメリット酸二無水物、3,6-ビス(トリフルオロメチル)ピロメリット酸二無水物、3,6-ジブロモピロメリット酸二無水物、3,6-ジクロロピロメリット酸二無水物等を挙げることができる。前記ベンゾフェノンテトラカルボン酸二無水物としては、例えば、3,3',4,4'-ベンゾフェノンテトラカルボン酸二無水物、2,3,3',4'-ベンゾフェノンテトラカルボン酸二無水物、2,2',3,3'-ベンゾフェノンテトラカルボン酸二無水物等を挙げることができる。前記ナフタレンテトラカルボン酸二無水物としては、例えば、2,3,6,7-ナフタレン-テトラカルボン酸二無水物、1,2,5,6-ナフタレン-テトラカルボン酸二無水物、2,6-ジクロロ-ナフタレン-1,4,5,8-テトラカルボン酸二無水物等を挙げることができる。前記複素環式芳香族テトラカルボン酸二無水物としては、例えば、チオフェン-2,3,4,5-テトラカルボン酸二無水物、ピラジン-2,3,5,6-テトラカルボン酸二無水物、ピリジン-2,3,5,6-テトラカルボン酸二無水物等を挙げることができる。
前記2,2'-置換ビフェニルテトラカルボン酸二無水物としては、例えば、2,2'-ジブロモ-4,4',5,5'-ビフェニルテトラカルボン酸二無水物、2,2'-ジクロロ-4,4',5,5'-ビフェニルテトラカルボン酸二無水物、2,2'-ビス(トリフルオロメチル)-4,4',5,5'-ビフェニルテトラカルボン酸二無水物等を挙げることができる。

また、前記芳香族テトラカルボン酸二無水物のその他の例としては、3,3',4,4'-ビフェニルテトラカルボン酸二無水物、ビス(2,3-ジカルボキシフェニル)メタン二無水物、ビス(2,5,6-トリフルオロ-3,4-ジカルボキシフェニル)メタン二無水物、2,2-ビス(3,4-ジカルボキシフェニル)-1,1,1,3,3,3-ヘキサフルオロプロパン二無水物、4,4'-(3,4-ジカルボキシフェニル)-2,2-ジフェニルプロパン二無水物、ビス(3,4-ジカルボキシフェニル)エーテル二無水物、4,4'-オキシジフタル酸二無水物、ビス(3,4-ジカルボキシフェニル)スルホン酸二無水物(3,3',4,4'-ジフェニルスルホンテトラカルボン酸二無水物)、4,4'-［4,4'-イソプロピリデン-ジ(p-フェニレンオキシ)］ビス(フタル酸無水物)、N,N-(3,4-ジカルボキシフェニル)-N-メチルアミン二無水物、ビス(3,4-ジカルボキシフェニル)ジエチルシラン二無水物等を挙げることができる。

これらの中でも、前記芳香族テトラカルボン酸二無水物としては、2,2'-置換ビフェニルテトラカルボン酸二無水物が好ましく、より好ましくは、2,2'-ビス(トリハロメチル)-4,4',5,5'-ビフェニルテトラカルボン酸二無水物であり、さらに好ましくは、2,2'-ビス(トリフルオロメチル)-4,4',5,5'-ビフェニルテトラカルボン酸二無水物である。

前記ジアミンとしては、例えば、芳香族ジアミンを挙げることができ、具体例としては、ベンゼンジアミン、ジアミノベンゾフェノン、ナフタレンジアミン、複素環式芳香族ジアミン、及びその他の芳香族ジアミンを挙げることができる。

前記ベンゼンジアミンとしては、例えば、o-,m-及びp-フェニレンジアミン、2,4-ジアミノトルエン、1,4-ジアミノ-2-メトキシベンゼン、1,4-ジアミノ-2-フェニルベンゼン及び1,3-ジアミノ-4-クロロベンゼンのようなベンゼンジアミンから成る群から選択されるジアミン等を挙げることができる。前記ジアミノベンゾフェノンの例としては、2,2'-ジアミノベンゾフェノン、及び3,3'-ジアミノベンゾフェノン等を挙げることができる。前記ナフタレンジアミンとしては、例えば、1,8-ジアミノナフタレン、及び1,5-ジアミノナフタレン等を挙げることができる。前記複素環式芳香族ジアミンの例としては、2,6-ジアミノピリジン、2,4-ジアミノピリジン、及び2,4-ジアミノ-S-トリアジン等を挙げることができる。

また、前記芳香族ジアミンとしては、これらの他に、4,4'-ジアミノビフェニル、4,4'-ジアミノジフェニルメタン、4,4'-(9-フルオレニリデン)-ジアニリン、2,2'-ビス(トリフルオロメチル)-4,4'-ジアミノビフェニル、3,3'-ジクロロ-4,4'-ジアミノジフェニルメタン、2,2'-ジクロロ-4,4'-ジアミノビフェニル、2,2',5,5'-テトラクロロベンジジン、2,2-ビス(4-アミノフェノキシフェニル)プロパン、2,2-ビス(4-アミノフェニル)プロパン、2,2-ビス(4-アミノフェニル)-1,1,1,3,3,3-ヘキサフルオロプロパン、4,4'-ジアミノジフェニルエーテル、3,4'-ジアミノジフェニルエーテル、1,3-ビス(3-アミノフェノキシ)ベンゼン、1,3-ビス(4-アミノフェノキシ)ベンゼン、1,4-ビス(4-アミノフェノキシ)ベンゼン、4,4'-ビス(4-アミノフェノキシ)ビフェニル、4,4'-ビス(3-アミノフェノキシ)ビフェニル、2,2-ビス[4-(4-アミノフェノキシ)フェニル]プロパン、2,2-ビス[4-(4-アミノフェノキシ)フェニル)−1,1,1,3,3,3-へキサフルオロプロパン、4,4'-ジアミノジフェニルチオエーテル、4,4'-ジアミノジフェニルスルホン等を挙げることができる。

一方、該ポリイミドを溶解させる溶媒として、塗工液にはメチルイソブチルケトン（ＭＩＢＫ）を添加することが好ましい。ＭＩＢＫを用いることにより、塗工液中のポリイミド濃度を高めた場合にも十分にこれを溶解させることができ、ダイリップ先端から塗工液をスムーズに吐出させて基材フィルム上に均一な濃度分布でポリイミド膜を形成することができる。

さらに、ポリイミドを溶解しうる他の溶媒と比べてＭＩＢＫの蒸発速度は比較的遅いため、ダイリップ先端から吐出された塗工液は、ゆっくりと時間をかけて乾燥されることとなる。これにより、下流側ダイリップ先端においてポリイミドが付着又は固化することを防止でき、基材フィルムの流れ方向に沿ったスジ状の塗りムラが発生することを防止できる。

また、ＭＩＢＫは、ポリイミドに対して優れた溶解能を発揮する一方、基材フィルムとして多用されているトリアセチルセルロース（以下、「ＴＡＣ」とも称する）に対しては、殆ど溶解能を発揮することがなく、ＴＡＣ製の基材フィルムを使用する場合には、基材フィルムの侵食による外観不良を防止できるという効果もある。

塗工液中のポリイミド濃度は、５〜２０重量％とすることが好ましく、７〜１５重量％とすることがより好ましく、１０〜１３．５重量％とすることがさらに好ましい。
ポリイミド濃度をこのような範囲内とすることにより、塗工液の粘度が好ましい値となり、上述のように規定されたＤ２（下流側ダイリップ先端と基材フィルムとの距離）の場合において、基材フィルム２上に均一な濃度分布のポリイミド層５を形成することが可能となる。

前記塗工液４の具体的な粘度γとしては、好ましくは４０＜γ＜３０００ｍＰａ・ｓであり、より好ましくは１００＜γ＜１０００ｍＰａ・ｓであり、特に好ましくは１８０＜γ＜８５０ｍＰａ・ｓである。
尚、塗工液の粘度は、実施例記載の方法により測定される。

また、前記塗工液には、必要に応じて適宜、添加剤を添加することができる。添加剤としては特に限定はないが、紫外線吸収剤、劣化防止剤（例えば、酸化防止剤、過酸化物分解剤、ラジカル禁止剤、金属不活性剤、酸捕獲剤、アミン）、可塑剤、帯電防止剤等のほか、基材フィルムとの密着性を確保するためなど、任意の目的を満たす添加剤を添加することができる。

このような塗工工程を経て基材フィルム２上に塗工された塗工膜は、溶媒が蒸発した後、ポリイミド等の非液晶材料を含有した層（本明細書において、単に「非液晶層」という場合もある）となる。乾燥後の非液晶層の厚みｄは、ｄ≦３０μｍであることが好ましく、ｄ≦１０μｍであることがより好ましく、ｄ≦５μｍであることが特に好ましい。
非液晶層の厚みｄが３０μｍを越えると、乾燥工程において乾燥ムラや発泡による外観不良が生じるおそれがある。
尚、非液晶層の厚みは、基材フィルムの走行速度や塗工液の供給速度を調整することによって調整することができる。

一方、本発明において使用する基材フィルムとしては、例えば、ポリエチレンテレフタレート、ポリエチレンナフタレート等のポリエステル系ポリマー、ジアセチルセルロース、トリアセチルセルロース等のセルロース系ポリマー、ポリカーボネート系ポリマー、ポリメチルメタクリレート等のアクリル系ポリマー等の透明ポリマーからなるフィルムを挙げることができる。
また、ポリスチレン、アクリロニトリル−スチレン共重合体等のスチレン系ポリマー、ポリエチレン、ポリプロピレン、環状ないしノルボルネン構造を有するポリオレフィン、エチレン−プロピレン共重合体等のオレフィン系ポリマー、塩化ビニル系ポリマー、ナイロンや芳香族ポリアミド等のアミド系ポリマー等の透明ポリマーからなるフィルムも挙げることができる。
さらにイミド系ポリマー、スルホン系ポリマー、ポリエーテルスルホン系ポリマー、ポリエーテルエーテルケトン系ポリマー、ポリフェニレンスルフィド系ポリマー、ビニルアルコール系ポリマー、塩化ビニリデン系ポリマー、ビニルブチラール系ポリマー、アリレート系ポリマー、ポリオキシメチレン系ポリマー、エポキシ系ポリマーや前記ポリマーのブレンド物等の透明ポリマーからなるフィルムなども挙げることができる。特に光学的に複屈折の少ないものが好適に用いられる。

中でも、該基材フィルムとしては、偏光特性や耐久性などの点より、トリアセチルセルロース等のセルロース系ポリマーからなるフィルムが好ましく、特にトリアセチルセルロースフィルムが好適である。
本発明では、下流側ダイリップ先端と基材フィルムとの距離Ｄ２を５０μｍ以上とすることによって塗工液の厚みが増し、基材フィルムと溶媒との接触時間が長くなる傾向にあるが、トリアセチルセルロースフィルムを基材フィルムとして酢酸エチル等の一般的な溶媒を使用した場合、該トリアセチルセルロースフィルムに悪影響を及ぼすことが懸念される。しかしながら、塗工液の溶媒としてメチルイソブチルケトンを用いた場合には、該トリアセチルセルロースフィルムの溶解といった悪影響も回避され、外観不良の発生を防止することができる。

基材フィルムの厚さは、適宜に決定しうるが、強度や取扱性等の作業性、薄層性などの観点から１０〜５００μｍ程度が一般的であり、２０〜３００μｍが好ましく、３０〜２００μｍがより好ましい。

また、基材フィルムの塗工面には、任意の樹脂層を設けておき、該樹脂層を介して塗工液を塗工することも可能である。該樹脂層としては、前記基材フィルム上にポリウレタン系樹脂溶液（溶解液、分散液を含む）を、好ましくは直接塗布し、乾燥させることにより形成されてなる密着層が挙げられる。

前記ポリウレタン系樹脂としては、ポリエステル系ポリウレタン（変性ポリエステルウレタン、水分散系ポリエステルウレタン、溶剤系ポリエステルウレタン）、ポリエーテル系ウレタン、ポリカーボネート系ウレタン等を挙げることができる。これらのポリウレタン系樹脂は、自己乳化型又は強制乳化型のものであっても良い。これらのポリウレタンの中でもポリエステル系ポリウレタンが好ましい。
これらのポリウレタン系樹脂は、一般的にポリオールとポリイソシアネートとから製造される。

前記ポリオールとしては、ポリエステルポリオール、ポリエーテルポリオール、その他のポリオール等を挙げることができる。

前記ポリエステルポリオールは、脂肪酸とポリオールとの反応物であり、該脂肪酸としては、例えば、リシノール酸、オキシカプロン酸、オキシカプリン酸、オキシウンデカン酸、オキシリノール酸、オキシステアリン酸、オキシヘキサンデセン酸のヒドロキシ含有長鎖脂肪酸等を挙げることができる。脂肪酸と反応するポリオールとしては、エチレングリコール、プロピレングリコール、ブチレングリコール、ヘキサメチレングリコール及びジエチレングリコール等のグリコール、グリセリン、トリメチロールプロパン及びトリエタノールアミン等の３官能ポリオール、ジグリセリン及びペンタエリスリトール等の４官能ポリオール、ソルビトール等の６官能ポリオール、シュガー等の８官能ポリオール、これらのポリオールに相当するアルキレンオキサイドと脂肪族、脂環族、芳香族アミンとの付加重合物や、該アルキレンオキサイドとポリアミドポリアミンとの付加重合物等を挙げることができる。

前記ポリエーテルポリオールとしては、エチレングリコール、ジエチレングリコール、プロピレングリコール、ジプロピレングリコール、１，３−ブタンジオール、１，４−ブタンジオール、４，４’−ジヒドロキシフェニルプロパン、４，４’−ジヒドロキシフェニルメタン等の２価アルコ−ルあるいはグリセリン、１，１，１−トリメチロ−ルプロパン、１，２，５−ヘキサントリオ−ル、ペンタエリスリト−ル等の３価以上の多価アルコ−ルと、エチレンオキサイド、プロピレンオキサイド、ブチレンオキサイド、α−オレフィンオキサイド等のアルキレンオキサイドとの付加重合物等を挙げることができる。

その他のポリオ−ルとして、主鎖が炭素−炭素よりなるポリオ−ル、例えば、アクリルポリオ−ル、ポリブタジエンポリオ−ル、ポリイソプレンポリオ−ル、水素添加ポリブタジエンポリオ−ル、ＡＮ（アクリロニトリル）やＳＭ（スチレンモノマ−）を前記した炭素−炭素ポリオ−ルにグラフト重合したポリオ−ル、ポリカ−ボネ−トポリオ−ル、ＰＴＭＧ（ポリテトラメチレングリコ−ル）等を挙げることができる。

前記ポリイソシアネ−トとしては、芳香族ポリイソシアネ−ト、脂肪族ポリイソシアネ−ト、脂環式ポリイソシアネ−ト等を挙げることができる。芳香族ポリイソシアネ−トとしては、例えば、ジフェニルメタンジイソシアネ−ト（ＭＤＩ）、ポリメチレンポリフェニレンポリイソシアネ−ト（粗ＭＤＩ）、トリレンジイソシアネ−ト（ＴＤＩ）、ポリトリレンポリイソシアネ−ト（粗ＴＤＩ）、キシレンジイソシアネ−ト（ＸＤＩ）、ナフタレンジイソシアネ−ト（ＮＤＩ）等を挙げることができる。脂肪族ポリイソシアネ−トとしては、ヘキサメチレンジイソシアネ−ト（ＨＤＩ）等を挙げることができる。脂環式ポリイソシアネ−トとしては、イソホロンジイソシアネ−ト（ＩＰＤＩ）等を挙げることができる。この他に、上記ポリイソシアネ−トをカルボジイミドで変性したポリイソシアネ−ト（カルボジイミド変性ポリイソシアネ−ト）、イソシアヌレ−ト変性ポリイソシアネ−ト、ウレタンプレポリマ−（例えばポリオ−ルと過剰のポリイソシアネ−トとの反応生成物であってイソシアネ−ト基を分子末端にもつもの）等を挙げることができる。これらは単独あるいは混合物として使用してもよい。

また、溶液（溶解液、分散液を含む）の溶媒としては、水、各種有機溶媒又はこれらの混合溶媒が挙げられる。有機溶媒としては、メチルエチルケトン、イソプロピルアルコール、トルエン、Ｎ−メチルピロリドン（ＮＭＰ）、メチルイソブチルケトン等を挙げることができる。

前記ポリウレタン系樹脂を含む溶液に於けるポリウレタン系樹脂の濃度は、適宜決定されるが、基材への塗布性（異物混入、塗布時のムラやスジの虞）を考慮すると、通常、２〜５０重量％、好ましくは３〜１０重量％が好ましい。２重量％未満であると、溶液粘度が低すぎるため所定の膜厚まで１回で塗布することが困難となり、５０重量％を越えると溶液粘度が高すぎるために、塗布面が荒れるなどの不具合が発生する場合がある。

前記密着層の厚みとしては、１００ｎｍ〜１０μｍが好ましい。厚みが１００ｎｍより小さいと、十分な密着性が得られない虞があり、また、１０μｍよりも大きい場合には、薄型、軽量化という点で問題がある。更に、１０μｍを越えると、密着層それ自体が複屈折性を持つ虞があり、所望の複屈折性を呈する光学機能フィルムが得られないという虞がある。

前記ポリウレタン系樹脂を含有する溶液を前記基材フィルム上に塗布する方法としては、特に限定されず、スピンコート法、ロールコート法、ダイコート法、ブレードコート法等の従来周知の方法を採用することができる。これらの方法により前記溶液を基材フィルム上に、所望の厚さとなるように塗布した後、乾燥させることにより密着層を形成することができる。
乾燥温度は、溶媒の種類等に応じて適宜決定することができるが、通常、２０〜２００℃、好ましくは４０〜１５０℃とすることができる。乾燥は一定温度下で行っても良いし段階的に温度を上昇させて行ってもよい。
乾燥時間は、通常、１０秒乃至３０分間、好ましくは２０秒乃至２０分間とすることができる。１０秒未満であると、溶媒が多量に残って製品の信頼性に問題を生じる場合があり、３０分を越えると工業生産性に適しない。

さらに、基材フィルム上に塗工膜を形成した後は、該光学機能フィルムの用途に応じて、乾燥工程、延伸工程、他の樹脂層を積層する工程、又は各種の表面処理工程等を組み合わせることにより、目的とする光学機能フィルムを作製することができる。

一方、本発明において用いるダイリップのスロット幅は、通常０．１〜１０．０ｍｍであるが、０．１〜５．０ｍｍが好ましく、０．１〜３．０ｍｍがより好ましい。
該ダイリップのスロット幅を０．１ｍｍ以上とすれば、ダイを作製する際の加工精度の点で好ましく、また、塗工時にダイリップ先端部分の欠けが発生する虞もない。また、該ダイリップのスロット幅を１０．０ｍｍ以下とすれば、ダイリップ先端での塗工液の流れが安定化され、その結果、得られた光学機能フィルムの外観がより一層良好となる。

また、前記ダイリップに対する前記基材フィルムの走行スピードは、通常１０〜３００ｍ／ｍｉｎであり、好ましくは１０〜１００ｍ／ｍｉｎとし、より好ましくは１０〜５０ｍ／ｍｉｎとする。
基材フィルムの走行スピードを１０〜３００ｍ／ｍｉｎの範囲内とすることにより、ダイリップ先端部から吐出される塗工液が基材フィルム上に良好に塗工され、非液晶層の膜厚がさらに均一化されるという効果がある。

本発明の光学機能フィルムの製造方法によって製造された光学機能フィルムは、基材フィルムの流れ方向（即ち、長手方向）又は幅方向における厚みムラが極めて少なく、スジムラ等の外観不良が著しく低減されたものとなる。

本発明の偏光板は、上述のようにして作製された光学機能フィルムと偏光素子とが積層されたものであり、その他の構成については特に制限はない。位相差フィルムと偏光素子とは、直接貼り合わされてもよく、他の部材を介して積層されてもよい。
偏光素子としては特に制限されず、従来公知の方法により、各種フィルムに、ヨウ素や二色性染料等の二色性物質を吸着させて染色し、延伸、架橋、乾燥することによって調製したもの等が使用できる。中でも、自然光を入射させると直線偏光を透過するフィルムが好ましく、光透過率や偏光度に優れるものが好ましい。前記二色性物質を吸着させる各種フィルムとしては、例えば、ポリビニルアルコール（ＰＶＡ）系フィルム、部分ホルマール化ＰＶＡ系フィルム、エチレン・酢酸ビニル共重合体系部分ケン化フィルム、セルロース系フィルム等の親水性高分子フィルム等が挙げられ、これらの他にも、例えば、ＰＶＡの脱水処理物やポリ塩化ビニルを塩酸処理等したポリ塩化ビニル系配向フィルムなども使用できる。これらの中でも、好ましくはＰＶＡ系フィルムである。また、前記偏光素子の厚みは、通常、１〜８０μｍの範囲であるが、この範囲には限定されない。

本発明の偏光板の具体例としては、上述のようにして作製された本発明に係る光学機能フィルム（例えば、位相差フィルム）、偏光子、および透明保護フィルムが積層されてなるものを挙げることができる。

光学機能フィルムと偏光板（又は偏光子）との積層方法については特に限定されず、従来公知の方法によって行うことができる。一般には、粘着剤や接着剤等が使用でき、その種類は、位相差フィルムの材質等によって適宜決定できる。前記接着剤としては、例えば、アクリル系、ビニルアルコール系、シリコーン系、ポリエステル系、ポリウレタン系、ポリエーテル系等のポリマー製感圧接着剤や、ゴム系感圧接着剤が挙げられる。また、グルタルアルデヒド、メラミン、シュウ酸等のビニルアルコール系ポリマーの水溶性架橋剤等から構成される接着剤等も使用できる。これらの接着剤や粘着剤としては、例えば、温度や熱の影響によっても剥がれ難く、光透過率や偏光度にも優れるものが好ましい。具体的には、前記偏光素子がＰＶＡ系フィルムの場合、例えば、接着処理の安定性等の点から、ＰＶＡ系接着剤が好ましい。これらの接着剤や粘着剤は、例えば、偏光素子や透明保護フィルムの表面に塗布してもよいし、前記接着剤や粘着剤から構成されたテープやシートのような層を前記表面に配置してもよい。

本発明の画像表示装置は、画像表示装置の表示画面に、前記光学機能フィルムが配されてなるものである。画像表示装置としては、透過型や反射型の液晶表示装置、及び有機エレクトロルミネセンス装置などの任意の画像表示装置を採用することができる。

以下、本発明の実施例を挙げるが、本発明はこれらに限定されるものではない。尚、各種特性については以下の方法によって測定を行った。

（粘度の測定方法）
塗工液の粘度は、Ｈａａｋｅ社製、レオメーターＲＳ１を使用し、共軸円筒として型式２２２−１２６７および２２２−１５４９を用い、液温および気温２３℃にて測定した。

（表面張力の測定方法）
塗工液の表面張力σは、ペンダントドロップ法を利用した表面張力計として、自動接触角計（協和界面科学社製、ＣＡ−Ｖ型）を使用し、液温および気温が２３℃の状態にて測定した。

（接触角の測定方法）
塗工液と下流側ダイリップとの接触角θは、θ／２法を利用した自動接触角計（協和界面科学社製、ＣＡ−Ｖ型）を用いて測定した。

（基材フィルムの走行スピード測定方法）
基材フィルムの走行スピードは、レーザードップラー方式の速度計（日本カノマックス社製、商品名「レーザースピードシステム MODEL LS200」）を用いて測定した。

（乾燥前の被膜厚みＨ∞の測定方法）
桜エンドレス（株）製のプロマス８３Ａを用い、体積流量Ｑ[m³/s]、塗布幅Ｗ[m]、ライン速度Ｕ[m/s]を測定し、Ｈ∞＝Ｑ／（Ｗ・Ｕ）[m]に代入して計算した。

（実施例１）
メチルイソブチルケトンにポリイミド(前記式(６)、重量平均分子量Mw=140,000)を１３．５重量％溶解させ、ポリイミド溶液を調製した。該ポリイミド溶液を塗工液とし、図４に示したような構成のダイコーターおよび回転ロール（Ｌ＝８×１０^-4ｍ、Ｒ＝０．２ｍｍ、Ｌ_D＝０ｍ、下流側ダイリップ上流側端縁を曲率半径０．８ｍｍで面取り加工したもの）を用い、搬送速度１０ｍ／ｍｉｎ（０．１６７ｍ／ｓ）で走行する基材フィルム（ポリエチレンテレフタレートフィルム、厚み７５μｍ）上に該塗工液を塗布し、塗布後、１２０℃で３分間乾燥させて実施例１の試験フィルムを得た。尚、該実施例１におけるバキューム圧（Ｐ_D−Ｐ_U）は２５７０[Pa]、バキューム圧−理論下限バキューム圧（Ｐ_D−Ｐ_U−Ｐ_V）は５６０[Pa]であった。その他の物性値については、下記表１に示すとおりである。

（実施例２）
バキューム圧（Ｐ_D−Ｐ_U）を４４００[Pa]、バキューム圧−理論下限バキューム圧（Ｐ_D−Ｐ_U−Ｐ_V）を７５０[Pa]、および他の物性値を下記表１に示す値とし、実施例１と同様の方法にて実施例２の試験フィルムを得た。

（実施例３）
バキューム圧（Ｐ_D−Ｐ_U）を２７４０[Pa]、バキューム圧−理論下限バキューム圧（Ｐ_D−Ｐ_U−Ｐ_V）を７９０[Pa]、および他の物性値を下記表１に示す値とし、実施例１と同様の方法にて実施例３の試験フィルムを得た。

（実施例４）
バキューム圧（Ｐ_D−Ｐ_U）を４８４０[Pa]、バキューム圧−理論下限バキューム圧（Ｐ_D−Ｐ_U−Ｐ_V）を１１８０[Pa]、および他の物性値を下記表１に示す値とし、実施例１と同様の方法にて実施例４の試験フィルムを得た。

（実施例５）
バキューム圧（Ｐ_D−Ｐ_U）を３６１０[Pa]、バキューム圧−理論下限バキューム圧（Ｐ_D−Ｐ_U−Ｐ_V）を１６６０[Pa]、および他の物性値を下記表１に示す値とし、実施例１と同様の方法にて実施例５の試験フィルムを得た。

（比較例１）
バキューム圧（Ｐ_D−Ｐ_U）を２７０[Pa]、バキューム圧−理論下限バキューム圧（Ｐ_D−Ｐ_U−Ｐ_V）を−１０３０[Pa]、および他の物性値を下記表１に示す値とし、実施例１と同様の方法にて比較例１の試験フィルムを得た。

（比較例２）
バキューム圧（Ｐ_D−Ｐ_U）を５７０[Pa]、バキューム圧−理論下限バキューム圧（Ｐ_D−Ｐ_U−Ｐ_V）を−７３０[Pa]、および他の物性値を下記表１に示す値とし、実施例１と同様の方法にて比較例２の試験フィルムを得た。

（比較例３）
バキューム圧（Ｐ_D−Ｐ_U）を１４００[Pa]、バキューム圧−理論下限バキューム圧（Ｐ_D−Ｐ_U−Ｐ_V）を−５３０[Pa]、および他の物性値を下記表１に示す値とし、実施例１と同様の方法にて比較例３の試験フィルムを得た。

（比較例４）
バキューム圧（Ｐ_D−Ｐ_U）を９００[Pa]、バキューム圧−理論下限バキューム圧（Ｐ_D−Ｐ_U−Ｐ_V）を−２００[Pa]、および他の物性値を下記表１に示す値とし、実施例１と同様の方法にて比較例４の試験フィルムを得た。

（比較例５）
バキューム圧（Ｐ_D−Ｐ_U）を１３７０[Pa]、バキューム圧−理論下限バキューム圧（Ｐ_D−Ｐ_U−Ｐ_V）を２７０[Pa]、および他の物性値を下記表１に示す値とし、実施例１と同様の方法にて比較例５の試験フィルムを得た。

（比較例６）
バキューム圧（Ｐ_D−Ｐ_U）を５０６０[Pa]、バキューム圧−理論下限バキューム圧（Ｐ_D−Ｐ_U−Ｐ_V）を１６３０[Pa]、および他の物性値を下記表１に示す値とし、実施例１と同様の方法にて比較例６の試験フィルムを得た。

（比較例７）
バキューム圧（Ｐ_D−Ｐ_U）を６３４０[Pa]、バキューム圧−理論下限バキューム圧（Ｐ_D−Ｐ_U−Ｐ_V）を５８５０[Pa]、および他の物性値を下記表１に示す値とし、実施例１と同様の方法にて比較例７の試験フィルムを得た。

（スジムラの評価）
実施例および比較例の試験フィルムを目視により観察した。結果を図６および図７に示す。

図６および図７に示したように、実施例１〜５の試験フィルムは、スジムラが殆ど認められず、良好な外観を有するものであった。これに対し、比較例１〜５の試験フィルムでは、基材フィルムの長手方向（流れ方向）に沿ったスジ状のムラが認められた。また、比較例６および７では、基材フィルムの搬送状態が安定せず、ポリイミド層を形成することができなかった。

本発明において使用する塗工装置の一実施形態を示した概略図。 上流側気圧Ｐ_Uと下流側気圧Ｐ_Dとの差圧ΔＰを変化させた際の、塗工液の塗工状況を概念的に示した図。 ダイリップ先端の拡大図。 本発明において使用する塗工装置の他の実施形態を示した概略図。 本発明において使用する塗工装置の他の実施形態を示した概略図。 実施例および比較例の試験フィルムにおいて、バキューム圧−理論下限バキューム圧（Ｐ_D−Ｐ_U−Ｐ_V）とスジムラとの関係を示したグラフ。 実施例および比較例の試験フィルムにおいて、バキューム圧（Ｐ_D−Ｐ_U）とスジムラとの関係を示したグラフ。

符号の説明

１ 塗工装置
２ 基材フィルム
３ 塗工液
４ ダイコーター
５ バキュームボックス
６ 回転ドラム
４１ 上流側ダイリップ
４２ 下流側ダイリップ

Claims (5)

1. 上流側ダイリップと下流側ダイリップとを備えたダイコーターのスロットから非液晶材料を含有する塗工液を吐出し、回転ロール表面に沿って搬送される基材フィルム上に該塗工液を塗工することにより光学機能層を形成する、光学機能フィルムの製造方法であって、
   前記上流側ダイリップよりも上流側雰囲気の気圧をＰ_U[Pa]、
   前記下流側ダイリップよりも下流側雰囲気の気圧をＰ_D[Pa]とした場合に、
   該Ｐ_UおよびＰ_Dが、下記数式（１）および数式（２）を満たすことを特徴とする光学機能フィルムの製造方法。
   Ｐ_D−Ｐ_U＜５０００ （１）
   ４００≦Ｐ_D−Ｐ_U−Ｐ_V≦２５００ （２）
   ここで、Ｐ_Vは、下記数式（３）により算出される理論下限バキューム圧[Pa]、
   

   

   μは、塗布時の液温における塗布液の粘度[Pa・s]、
   σは、塗工時の液温における塗布液の表面張力[N／m]、
   θは、塗工時の液温における塗布液の上流側ダイリップに対する静的接触角[°]、
   νは、ν＝73・Ｕ^0.22σ^0.11μ^0.18として算出される塗布液の基材フィルムに対する動的接触角[°]（ただし、180°を超える場合は180°とする）、
   Ｕは、基材フィルムの搬送速度[m/s]、
   Ｌは、下流側ダイリップのリップランドの流れ方向長さ[m]、
   Ｌ_Dは、基材フィルムの進行方向断面において、上流側ダイリップのスロット面の延長線と基材フィルム表面との交点をａとし、該ａと回転ロールの中心軸とを結ぶ線を基準線とした場合に、上流側ダイリップ先端と該基準線との最短距離[m]、
   Ｒは、回転ロールの半径[m]、
   Ｈ∞は、塗布後、乾燥前の塗工膜の厚み[m]、
   Ｈ(Ｘ)は、下流側ダイリップの下流側先端を原点とし、そこから上流側にＸ[m]離れた位置での下流側ダイリップと基材フィルムとの距離[m]、
   Ｈ_Gは、Ｈ(Ｘ)の最小値[m]、
   Ｃａ＝μＵ／σ、
   φ＝sin^-1(Ｌ_D／Ｒ)、を示す。
2. 請求項１記載の光学機能フィルムの製造方法によって製造されたことを特徴とする光学機能フィルム。
3. 請求項２記載の光学機能フィルムが備えられてなることを特徴とする偏光板。
4. 請求項２記載の光学機能フィルムが備えられてなることを特徴とする光学素子。
5. 請求項２記載の光学機能フィルムが備えられてなることを特徴とする画像表示装置。

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