JP2007171730A - Reticle cleaning device - Google Patents
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Abstract
Description
本発明は、レチクルクリーニング装置に関し、例えば、半導体集積回路装置(以下、ICという。)が作り込まれる半導体ウエハ(以下、ウエハという。)に所望のパターンを転写する露光工程において使用されるレチクル(ホトマスク)をクリーニングするのに利用して有効なものに関する。 The present invention relates to a reticle cleaning apparatus, for example, a reticle (for example) used in an exposure process for transferring a desired pattern onto a semiconductor wafer (hereinafter referred to as a wafer) on which a semiconductor integrated circuit device (hereinafter referred to as an IC) is fabricated. It relates to an effective one for cleaning a photomask.
ICの高集積化やパターンの微細化が進んだ今日、ICの製造方法におけるパターンをウエハに転写する露光工程においては、縮小投影露光装置(以下、ステッパという。)が多く使用されている。
このステッパが使用される場合には、ウエハに転写すべきパターンが5倍〜10倍に拡大されて形成されたレチクル(拡大ホトマスク)が、使用される。
レチクルは所望のパターンの一部を拡大したホトマスクであるために、同一のICを製造するのに複数種類のレチクルが使用されることになる。
しかも、最近のICの生産形態は多品種少量生産が進んでいるために、その生産ラインで使用されるレチクルの種類および枚数は膨大なものとなる。
他方、きわめて高価であるステッパは膨大なレチクルの種類毎に一台ずつ用意することはできないために、レチクルのステッパに対する交換が頻繁に実施されることになる。
With the progress of high IC integration and pattern miniaturization, a reduction projection exposure apparatus (hereinafter referred to as a stepper) is often used in an exposure process for transferring a pattern onto a wafer in an IC manufacturing method.
When this stepper is used, a reticle (enlarged photomask) formed by enlarging the pattern to be transferred to the wafer 5 to 10 times is used.
Since the reticle is a photomask obtained by enlarging a part of a desired pattern, a plurality of types of reticles are used to manufacture the same IC.
In addition, since the recent IC production forms are being produced in a variety of small quantities, the types and number of reticles used in the production line are enormous.
On the other hand, since a very expensive stepper cannot be prepared for each type of enormous reticle, the exchange of the reticle with the stepper is frequently performed.
ところで、レチクルの上に塵埃(パーティクル)等の異物が付着すると、異物がウエハにステッパによって繰り返し投影されて転写されることになるために、所謂全チップ(全製品)不良が発生してしまい、ICの生産に甚大な損失が発生してしまう。
そこで、レチクルをレチクルケースに収納して搬送することにより、レチクルに異物が付着するのを防止することが、従来から実施されている。
また、異物がレチクルに万一付着した場合のために、レチクルに窒素ガスやイオン化された気体を吹きかけてレチクルに付着した異物を剥離させるとともに、剥離した異物を気体と一緒に吸引するクリーニング技術が、提案されている(例えば、特許文献1、特許文献2参照)。
Therefore, it has been conventionally practiced to prevent foreign matter from adhering to the reticle by storing the reticle in a reticle case and transporting the reticle.
In addition, in the unlikely event that a foreign object adheres to the reticle, a cleaning technology that blows nitrogen gas or ionized gas onto the reticle to peel off the foreign object attached to the reticle and sucks the removed foreign object together with the gas is available. Have been proposed (see, for example,
しかしながら、従来のレチクルクリーニング技術では、レチクルに付着した異物を確実に除去することができないという問題点がある。 However, the conventional reticle cleaning technique has a problem in that foreign matter adhering to the reticle cannot be reliably removed.
本発明の目的は、レチクルに付着した異物に確実に除去することができるレチクルクリーニング装置を提供することにある。 An object of the present invention is to provide a reticle cleaning device that can reliably remove foreign matter adhering to a reticle.
本発明のうち代表的なものの概要を説明すれば、次の通りである。
(1)レチクルに付着した異物を除去するレチクルクリーニング装置であって、
クリーニング室において垂直状態に保持された前記レチクルに気体を噴射する噴射手段と、前記レチクルに噴射した前記気体を前記異物と共に吸引する吸引手段とを備えていることを特徴とするレチクルクリーニング装置。
(2)前記噴射手段および前記吸引手段と前記レチクルとは、相対的に平行移動するように構成されていることを特徴とする前記(1)に記載のレチクルクリーニング装置。
(3)前記噴射手段および前記吸引手段は、前記レチクルの両面を同時にクリーニングするように構成されていることを特徴とする前記(1)または(2)に記載のレチクルクリーニング装置。
(4)前記クリーニング室の雰囲気がイオナイザによって静電気的に中和されるとともに、前記クリーニング室にクリーンエアがダウンブローに供給されることを特徴とする前記(1)または(2)に記載のレチクルクリーニング装置。
The outline of typical ones of the present invention will be described as follows.
(1) A reticle cleaning device for removing foreign matter adhering to a reticle,
A reticle cleaning apparatus comprising: an injection unit that injects a gas onto the reticle held in a vertical state in a cleaning chamber; and a suction unit that sucks the gas injected into the reticle together with the foreign matter.
(2) The reticle cleaning apparatus according to (1), wherein the ejection unit, the suction unit, and the reticle are configured to move relatively in parallel.
(3) The reticle cleaning apparatus according to (1) or (2), wherein the ejection unit and the suction unit are configured to simultaneously clean both surfaces of the reticle.
(4) The reticle according to (1) or (2), wherein the atmosphere in the cleaning chamber is electrostatically neutralized by an ionizer, and clean air is supplied to the cleaning chamber in a down blow. Cleaning device.
前記(1)によれば、クリーニング室において垂直状態に保持されたレチクルに気体を噴射するとともに、レチクルに噴射した気体を異物と共に吸引するので、レチクルに付着した異物を確実に除去することができる。
前記(2)によれば、噴射手段および吸引手段がレチクルの全面をスキャニングすることができるので、レチクルの全面の異物を確実に除去することができる。
前記(3)によれば、レチクルの両面を同時にクリーニングすることにより、クリーニングの作業性を向上させることができ、クリーニング時間を短縮することができる。
前記(4)によれば、クリーニング室の雰囲気が中和されることにより、レチクルに付着した異物を気体の噴射によって確実に剥離させることができる。
また、万一、異物が吸引手段によって直ちに回収されない場合でも、剥離した異物をダウンブローによってレチクル以外に吹き流すことができる。
According to the above (1), the gas is injected onto the reticle held in the vertical state in the cleaning chamber, and the gas injected onto the reticle is sucked together with the foreign matter, so that the foreign matter attached to the reticle can be reliably removed. .
According to the above (2), since the ejection unit and the suction unit can scan the entire surface of the reticle, foreign substances on the entire surface of the reticle can be reliably removed.
According to the above (3), the cleaning workability can be improved and the cleaning time can be shortened by simultaneously cleaning both surfaces of the reticle.
According to said (4), the foreign material adhering to a reticle can be reliably peeled by gas injection by neutralizing the atmosphere of a cleaning chamber.
Also, even if the foreign matter is not immediately collected by the suction means, the peeled foreign matter can be blown out to other than the reticle by down blowing.
以下、本発明の一実施の形態を図面に即して説明する。 Hereinafter, an embodiment of the present invention will be described with reference to the drawings.
図1に示されているように、本実施の形態に係るレチクルクリーニング装置10は、大略直方体の箱形状に形成された筐体11を備えている。
筐体11の四方の側壁のうち三方の側壁における上側の略半分の領域には、筐体11の内部を外部から覗くための覗き部12が形成されている。覗き部12は帯電防止機能を有する透明の樹脂またはガラスが使用されて構築されている。
筐体11の側壁の下側の略半分の領域には、ステンレス製のパンチング板(パンチング孔の図示は省略)からなる下側カバー13が張られている。
筐体11の一側壁(以下、正面壁とする。)における下側カバー13の上端の中央部には、操作盤14が前向きに突設されており、操作盤14にはタッチパネル付きのディスプレイ15と、操作用ハンドルとしてのジョイステック16と、緊急停止ボタン17とが配設されている。
As shown in FIG. 1, a
A
A
An
図2〜図4に示されているように、筐体11の内部空間20は略中央高さに水平に架設されたベース板21によって上下に仕切られている。筐体11の内部空間20における上側半分の空間によってクリーニング室22が形成されており、下側半分の空間によって機械室23が形成されている。
図4に示されているように、クリーニング室22の底壁であるベース板21の一部には、多数個のパンチング孔21aが開設されている。
また、機械室23の底壁には通風口23aが大きく開設されている。
As shown in FIGS. 2 to 4, the
As shown in FIG. 4, a large number of
In addition, a large ventilation opening 23 a is formed in the bottom wall of the
筐体11の上にはクリーンユニット24が設置されており、クリーンユニット24はクリーニング室22内にクリーンエア(図示せず)を垂直方向下向きに吹き出すように構成されている。
クリーンユニット24から吹き出されたクリーンエアはクリーニング室22を層流状態で流下し、ベース板21のパンチング孔21a等を流通して機械室23に流れ込み、機械室23から通風口23aを通ってクリーンルーム(図示せず)の床下の排気ダクトに排気される。
このように、クリーニング室22内にクリーンエアをダウンブローに流すことにより、クリーニング室22内や機械室23内の雰囲気が巻き上がったり澱んだりする現象を防止することができるため、クリーニング室22を常に清浄に維持することができる。
A
Clean air blown out from the
In this way, by flowing clean air down through the
クリーニング室22内のクリーンユニット24の下方にはイオナイザ25が水平に架設されており、イオナイザ25はクリーニング室22内の雰囲気を静電気的に中和することにより、帯電を防止して静電気の吸引力の発生を抑止する。
An
図1に示されているように、クリーニング室22の左側の側壁には、レチクルケースを出し入れするレチクルケース出し入れ口(以下、出し入れ口という。)18が開口されており、クリーニング室22内の出し入れ口18に隣接する位置には、レチクル出し入れ装置30が設置されている。
As shown in FIG. 1, a reticle case loading / unloading port (hereinafter referred to as loading / unloading port) 18 through which a reticle case is loaded / unloaded is opened on the left side wall of the
次に、主として図5および図6に基づいてレチクル出し入れ装置30を説明する。
レチクル出し入れ装置30は図5に示された二つの機種のレチクルケースからレチクル1を出し入れすることができるように構成されている。
図5の上側に示された第一の機種のレチクルケース(以下、第一種ケースという。)2は、略正方形の皿形状に形成された本体3と、本体3に被せられる蓋体4とを備えており、本体3の底面および蓋体4の天井面にはレチクル1を上下から押さえる押さえ5が複数本、突設されている。
図5の下側に示された第二の機種のレチクルケース(以下、第二種ケースという。)6は、直方体の箱形状に形成された本体7を備えており、本体7の一側壁には蓋体8が上端辺において回動自在に枢支されて開閉自在に取り付けられている。本体7の底面にはレチクル1を下から支持する支柱9が複数本、突設されている。
Next, the reticle loading / unloading
The reticle loading /
A reticle case (hereinafter referred to as a first type case) 2 of the first model shown on the upper side of FIG. 5 includes a
A reticle case (hereinafter referred to as “second type case”) 6 of the second model shown on the lower side of FIG. 5 includes a
図5および図6に示されているように、レチクル出し入れ装置30は機枠31を備えている。
機枠31の上には第一種ケース2を水平に保持する第一種ケース受け32が設置されており、第一種ケース受け32には第一種ケース2が手作業でレチクルケース出し入れ口18に対して抜き差しして着脱されるようになっている。
機枠31の一対の側面には一対のエアシリンダ装置33、33がそれぞれ垂直方向上向きに設置されている。両エアシリンダ装置33、33のピストンロッドの上端には、一対の昇降台34、34がそれぞれ水平に支持されている。両昇降台34、34の上には一対のストッパ解除エアシリンダ装置35、35がそれぞれ設置されており、両ストッパ解除エアシリンダ装置35、35は第一種ケース受け32に保持された第一種ケース2の蓋体4の係合部に下側からそれぞれ係合し、かつ、ストッパを解除するようになっている。
したがって、第一種ケース受け32に保持された第一種ケース2は蓋体4を両エアシリンダ装置33、33によって昇降されることにより、開閉されるようになっている。
As shown in FIGS. 5 and 6, the reticle loading /
A first
A pair of
Therefore, the
図5および図6に示されているように、機枠31の中間高さ位置には第二種ケース6を水平に保持する第二種ケース受け36が設置されており、第二種ケース受け36には第二種ケース6が手作業でレチクルケース出し入れ口18に対して抜き差しして着脱されるようになっている。
機枠31の一側面にはロータリーアクチュエータ37が第二種ケース受け36側に向いて水平に設置されている。ロータリーアクチュエータ37の回転軸には係合爪38が突設されており、係合爪38は第二種ケース受け36に保持された第二種ケース6の蓋体8の係合部に係合するようになっている。したがって、第二種ケース受け36に保持された第二種ケース6は蓋体8をロータリーアクチュエータ37によって回動されることにより、開閉されるようになっている。
また、機枠31の第二種ケース受け36側の側面には、第二種ケース6を押さえる第二種ケース押さえ39が設置されている。
As shown in FIG. 5 and FIG. 6, a second
A
A second
図2〜図4に示されているように、クリーニング室22内におけるレチクル出し入れ装置30の左側には、図7や図8に示されたレチクル移載装置40が設置されている。
As shown in FIGS. 2 to 4, the
次に、レチクル移載装置40について主として図7および図8に基づいて説明する。
レチクル移載装置40はX軸リニアアクチュエータ41を備えており、X軸リニアアクチュエータ41は機械室23内において左右方向に延在するように水平に架設されている(図2および図3参照)。X軸リニアアクチュエータ41のスライダ41aにはZ軸リニアアクチュエータ42が機械室23内において垂直に据え付けられている。
本実施の形態において、X軸リニアアクチュエータ41およびZ軸リニアアクチュエータ42には、電動モータ駆動の送りねじ軸装置がそれぞれ使用されているが、エアシリンダ装置等の他のアクチュエータを使用してもよい。
Z軸リニアアクチュエータ42の昇降台42aには昇降バー43が垂直に取り付けられており、昇降バー43はZ軸リニアアクチュエータ42によって昇降され、かつ、X軸リニアアクチュエータ41によって左右方向に水平移動されるようになっている。
Next, the
The
In this embodiment, each of the X-axis
A
昇降バー43はベース21に開設された挿通孔21bを挿通してクリーニング室22内に突き出されている(図2および図3参照)。クリーニング室22内の昇降バー43の上端部には受けアーム44が前後方向に延在するように水平に支持されている。
受けアーム44の上には一対の支持バー45、45が左右方向に延在するように水平に支持されており、両支持バー45、45はレチクル1の左右側縁部が載るようになっている。すなわち、レチクル1は所定の寸法だけはみ出た状態で両支持バー45、45に載るように設定されている。
両支持バー45、45の上には複数の突起部45aが突設されており、各突起部45aはレチクル1の下面に小面積で接触することにより、接触によるレチクル1への汚染を防止している。
各突起部45aには吸引口(図示せず)が開設されている。各吸引口は真空源に接続されており、突起部45aに載せられたレチクル1を真空吸着保持することにより、脱落を防止している。
The elevating
A pair of support bars 45, 45 are horizontally supported on the receiving
A plurality of
Each
図2〜図4に示されているように、クリーニング室22内の中央部には、レチクル1を保持して姿勢を変更するレチクル姿勢変更装置50が設置されている。
As shown in FIGS. 2 to 4, a reticle
次に、レチクル姿勢変更装置50について主として図9および図10に基づいて説明する。
レチクル姿勢変更装置50は垂直軸モータ51を備えており、垂直軸モータ51は機械室23内においてベース21の下面に垂直に据え付けられている。垂直軸モータ51の回転軸には原動側プーリー52が固定されている。
ベース21の中央部には取付孔21cが開設されており、取付孔21cには軸受53によって垂直回転軸54が回転自在に支承されている。垂直回転軸54の下端部には従動側プーリー55が固定されており、従動側プーリー55と原動側プーリー52との間にはタイミングベルト56が張設されている。したがって、垂直回転軸54は垂直軸モータ51によって回転駆動されるようになっている。
Next, the reticle
The reticle
A mounting hole 21c is formed at the center of the
クリーニング室22内における垂直回転軸54の上端部にはアーム57の一端部が固定されており、アーム57は垂直回転軸54によって旋回されるようになっている。アーム57の自由端部には水平軸モータ58が水平方向外向きに据え付けられている。水平軸モータ58の回転軸には原動側プーリー59が固定されている。
アーム57の自由端部には垂直バー60が垂直方向上向きに立脚されており、垂直バー60の上端部には水平回転軸61が回転自在に支承されている。水平回転軸61の一端部には従動側プーリー62が固定されており、従動側プーリー62と原動側プーリー59との間にはタイミングベルト63が張設されている。したがって、水平回転軸61は水平軸モータ58によって回転駆動されるようになっている。
水平軸モータ58はカバー64によって被覆されており、原動側プーリー59や従動側プーリー62およびタイミングベルト63はカバー65によって被覆されている。
One end of an
A
The horizontal shaft motor 58 is covered with a
水平回転軸61の他端部にはホルダ66が軸芯と直交して固定されており、ホルダ66の両端部には一対のグリップ67、67が互いに接近かつ離脱自在に支承されている。両グリップ67、67はホルダ66に設置されたチャッキング装置68によって対称形に開閉駆動されるように構成されており、チャッキング装置68の閉じる作動により、レチクル1を両脇から挟み込んで保持するようになっている。
このように、一対のグリップ67、67がレチクル1を両側から挟んで保持することにより、保持によるレチクル1の表面の汚染を防止している。
ちなみに、チャッキング装置68はエアシリンダ装置やピニオン・ラック機構およびスプリング等が使用されて、両グリップ67、67を対称形に開閉作動するように構成されている。
ホルダ66およびチャッキング装置68はカバー69によって被覆されている。
A
In this manner, the pair of
Incidentally, the chucking
The
図2〜図4に示されているように、クリーニング室22内の中央部には、レチクル1に付着した異物を除去する異物除去装置70がレチクル姿勢変更装置50に近接して設置されている。
As shown in FIGS. 2 to 4, a foreign
次に、異物除去装置70について主として図11、図12および図13に基づいて説明する。
異物除去装置70はX軸リニアアクチュエータ71を備えており、X軸リニアアクチュエータ71は機械室23内において左右方向に延在するように水平に架設されている(図2および図3参照)。X軸リニアアクチュエータ71のスライダ71aにはZ軸リニアアクチュエータ72が機械室23内において垂直に据え付けられている。
本実施の形態において、X軸リニアアクチュエータ71およびZ軸リニアアクチュエータ72には送りねじ軸装置がそれぞれ使用されているが、エアシリンダ装置等の他のアクチュエータを使用してもよい。
Z軸リニアアクチュエータ72の昇降台72aには昇降バー73が垂直に取り付けられており、昇降バー73はZ軸リニアアクチュエータ72によって昇降され、かつ、X軸リニアアクチュエータ71によって左右方向に水平移動されるようになっている。
Next, the foreign
The foreign
In this embodiment, a feed screw shaft device is used for each of the X-axis
An elevating
昇降バー73はベース21に開設された挿通孔21dを挿通してクリーニング室22内に突き出されている。クリーニング室22内の昇降バー73の上端部には、側面視が略正方形の取付板74が前後方向に延在するように垂直に固定されている。
The elevating
取付板74の上端部には前後で一対の窒素ガス供給管75、75が、互いに対向する位置にて左右方向に延在するように水平に片持ち支持されている。両窒素ガス供給管75、75の先端側には噴射手段としての噴射ノズル76が複数個ずつ(図示例では、4個ずつ)、横一列に並べられて取り付けられている。両窒素ガス供給管75、75の噴射ノズル76群同士は、窒素ガスを互いに向かい合う斜め下方向に対称形に噴射するようにそれぞれ構成されている。
両窒素ガス供給管75、75の固定端には窒素ガス供給チューブ77、77がそれぞれ接続されており、窒素ガス供給チューブ77、77は窒素ガス供給源(図示せず)にそれぞれ接続されるようになっている。
A pair of nitrogen
Nitrogen
取付板74の下端部には吸引手段としての排気ダクト78が前後で一対、互いに対向する位置にて左右方向に延在するように水平に片持ち支持されている。両排気ダクト78、78には窒素ガスを吸引する吸引口79、79がそれぞれ略全長にわたって一連に開設されている。
前後の排気ダクト78、78は前後の窒素ガス供給管75、75と上下で対になっている。すなわち、前側の窒素ガス供給管75の噴射ノズル76群からレチクル1に向かって噴射されてレチクル1で反射した窒素ガスを前側の排気ダクト78の吸引口79が吸引するようになっており、後側の窒素ガス供給管75の噴射ノズル76群からレチクル1に向かって噴射されてレチクル1で反射した窒素ガスを後側の排気ダクト78の吸引口79が吸引するようになっている。
両排気ダクト78、78の固定端には排気チューブ80、80がそれぞれ接続されており、排気チューブ80、80は送風機等の負圧源(図示せず)にそれぞれ接続されるようになっている。
A pair of
The front and
図1〜図4に示されているように、筐体11の前端部にはレチクル1に付着した異物を手動で除去する手動式異物除去装置81がクリーニング室22の内外にわたって設置されている。
As shown in FIGS. 1 to 4, a manual foreign
次に、手動式異物除去装置81について主として図14および図15に基づいて説明する。
手動式異物除去装置81は支持台82を備えており、支持台82はクリーニング室22外においてベース21の上に据え付けられている。支持台82の中央部には回転軸83が垂直に配されて回転自在に支承されており、回転軸83の上端部には長方形の箱形状のガイドレール84が水平に固定されている。ガイドレール84にはスライダ85が長手方向に摺動自在に支承されている。
Next, the manual foreign
The manual foreign
スライダ85には細長い噴射ノズル86の一端部が固定されており、噴射ノズル86の他端部はクリーニング室22内に挿入されている。噴射ノズル86には窒素ガスを供給するための窒素ガス供給チューブ87が接続されている。
また、スライダ85にはロッド88の一端部が平面視において噴射ノズル86と一直線になるように配されて固定されており、ロッド88の他端には球形状の握り89が固定されている。
One end of an
Further, one end of a
支持台82の一端部にはエアシリンダ装置90が垂直方向上向きに設置されており、エアシリンダ装置90は位置決めピン91を昇降駆動するようになっている。ガイドレール84の位置決めピン91と対向する位置には位置決めリング92が固定されており、位置決めリング92の内径には位置決めピン91が嵌入するように構成されている。
An
図2〜図4に示されているように、クリーニング室22内の後端部の左側寄りの位置には、スタンド93が垂直に立脚されており、スタンド93の上端部には照明装置94がクリーニング室22内の略中央部を照らすように設置されている。
照明装置94には排気ダクト95の一端部が接続されており、排気ダクト95の他端部はクリーニング室22外に引き出されている。排気ダクト95の引き出し端は送風機等の排気装置(図示せず)に接続されるようになっている。
排気ダクト95は照明装置94を空冷するためのファン(図示せず)から発生する塵埃を外部に排出するように構成されている。
As shown in FIGS. 2 to 4, a
One end of an
The
なお、レチクル出し入れ装置30、レチクル移載装置40、レチクル姿勢変更装置50、異物除去装置70および手動式異物除去装置81における各種の駆動装置(アクチュエータやエアシリンダ装置)は、パーソナルコンピュータ等によって構成されたコントローラ(図示せず)によってシーケンス制御されるように構成されているとともに、適宜に配設された各種の位置センサ(ホトセンサやリミットスイッチ等)の検出に基づいて自動的に制御されるように構成されている。
Note that various drive devices (actuators and air cylinder devices) in the reticle loading /
次に、以上の構成に係るレチクルクリーニング装置10の使用方法および作用ならびに効果を、クリーニング室22内のレイアウトを示す図16を参照して説明する。
Next, the usage method, operation, and effect of the
予め、クリーンユニット24からクリーンエアがクリーニング室22内に層流状態でダウンブローされるとともに、クリーニング室22内の雰囲気がイオナイザ25によって静電気的に中和される。
In advance, clean air from the
クリーニング室22内の雰囲気が安定した状態で、クリーニングすべきレチクル1を収納したレチクルケースがレチクルケース出し入れ口18からクリーニング室22内に挿入されて、レチクル出し入れ装置30に手作業によってセットされる。
この際、レチクル1が適用されるステッパの機種に対応したレチクルケースがレチクル出し入れ装置30にセットされることになる。
ここでは、第二種ケース6が第二種ケース受け36にセットされるものとする。
In a state where the atmosphere in the
At this time, a reticle case corresponding to the type of stepper to which the
Here, it is assumed that the
操作盤14のディスプレイ15に表示された起動のボタンを作業者が押すと、レチクル出し入れ装置30のロータリーアクチュエータ37が作動して、係合爪38が第二種ケース6の蓋体8を回動させて第二種ケース6のレチクル出し入れ口を開放する。
When the operator presses the start button displayed on the
第二種ケース6のレチクル出し入れ口が開放すると、レチクル移載装置40のX軸リニアアクチュエータ41が左方向に前進作動して、一対の支持バー45、45を第二種ケース6内のレチクル1の下方に挿入する。
続いて、Z軸リニアアクチュエータ42が作動して一対の支持バー45、45が第二種ケース6内のレチクル1を掬い取る。
両支持バー45、45が第二種ケース6内のレチクル1を掬い取ると、突起部45aの吸引口に負圧が供給され、レチクル1が両支持バー45、45に真空吸着保持される。
この状態で、X軸リニアアクチュエータ41が後退作動して、レチクル1をクリーニング室22内の中央部の所定の位置に搬送する。
When the reticle loading / unloading port of the
Subsequently, the Z-axis
When both the support bars 45, 45 scoop the
In this state, the X-axis
レチクル1が所定の位置に搬送されると、レチクル姿勢変更装置50のチャッキング装置68が作動して、両支持バー45、45に保持されたレチクル1を一対のグリップ67、67が両脇から挟み込んで保持する。
レチクル1がレチクル姿勢変更装置50の両グリップ67、67によって保持されると、レチクル移載装置40のZ軸リニアアクチュエータ42が作動して、両支持バー45、45を両グリップ67、67に干渉しない位置まで下降させる。
続いて、レチクル姿勢変更装置50の水平軸モータ58が作動して、水平回転軸61を90度回動させることにより、図11や図13に示されているように、レチクル1を水平姿勢から垂直姿勢に変更する。
When the
When the
Subsequently, the horizontal axis motor 58 of the reticle
次いで、異物除去装置70のZ軸リニアアクチュエータ72が作動して昇降バー73を上昇させ、図11および図12に想像線で示されているように、窒素ガス供給管75および排気ダクト78をレチクル1の上方に上昇させる。
Next, the Z-axis
続いて、図13に示されているように、異物除去装置70のX軸リニアアクチュエータ71が往復作動して窒素ガス供給管75および排気ダクト78を左右方向に往復動させながら、異物除去装置70のZ軸リニアアクチュエータ72が作動して窒素ガス供給管75および排気ダクト78を下降させる。
この往復動および下降中に、窒素ガスが窒素ガス供給管75の噴射ノズル76からレチクル1の表面に向けて噴射されるとともに、レチクル1で反射した窒素ガスが排気ダクト78の吸引口79から吸引される。
Subsequently, as shown in FIG. 13, the X-axis
During this reciprocation and lowering, nitrogen gas is injected from the
レチクル1の表面に付着した異物は、この窒素ガスのレチクル1の表面への噴射によって強制的に剥離されるとともに、排気ダクト78の吸引口79によって吸引されて直ちに捕捉されるので、クリーニング室22内に飛散することはない。
万一、レチクル1から剥離した異物が排気ダクト78の吸引口79によって直ちに吸引されなくても、クリーニング室22内にはクリーンエアがダウンブローされているので、異物は流下されてクリーニング室22内から排出されて行く。
また、クリーニング室22内はイオナイザ25によって中和されているので、レチクル1の表面に付着した異物は、窒素ガスの噴射によって確実に剥離させることができる。
さらに、窒素ガス供給管75および排気ダクト78は前後に一組ずつ配設されているので、レチクル1の両面を同時にクリーニングすることができる。
しかも、窒素ガス供給管75および排気ダクト78は左右方向に往復動されているので、レチクル1の全面の異物を確実にクリーニングすることができる。
また、レチクル1の表面のクリーニングは窒素ガスの噴射によって実行されるので、レチクル1の表面にペリクル1a(図8の想像線参照)が張設されている場合であっても、ペリクルを損傷することなく、安全にクリーニングすることができる。
The foreign matter adhering to the surface of the
Even if the foreign matter peeled off from the
Further, since the inside of the cleaning
Further, since the nitrogen
Moreover, since the nitrogen
Further, since the cleaning of the surface of the
異物除去装置70によるクリーニングが終了すると、レチクル姿勢変更装置50の水平軸モータ58が作動して、水平回転軸61を90度回動させることにより、レチクル1を垂直姿勢から水平姿勢に戻す。
次いで、照明装置94によってレチクル1が照明される。
この照明下で、レチクル姿勢変更装置50がジョイステック16の操作によって制御されることにより、レチクル1の姿勢が適宜に変更される。
レチクル1の表面に異物が残存していた場合には、この姿勢変更時のレチクル1への照明具合によって異物での乱反射が発生するために、残存した異物は目視によって容易に発見することができる。
万一、レチクル1の表面に異物が残存していた場合には、手動式異物除去装置81によって窒素ガスを発見した異物に噴射して除去する。
When the cleaning by the foreign
Next, the
Under this illumination, the reticle
If foreign matter remains on the surface of the
In the unlikely event that foreign matter remains on the surface of the
クリーニング状況の確認作業が終了すると、前述とは逆の作動により、レチクル移載装置40がレチクル姿勢変更装置50からレチクル1を受け取って、レチクル出し入れ装置30に搬送し、レチクル出し入れ装置30で待機している元の第二種ケース6内に挿入して戻す。
When the confirmation of the cleaning status is completed, the
なお、本発明は前記実施の形態に限定されるものではなく、その要旨を逸脱しない範囲で種々に変更が可能であることはいうまでもない。 Needless to say, the present invention is not limited to the above-described embodiment, and various modifications can be made without departing from the scope of the invention.
例えば、レチクル出し入れ装置30は第一種ケース2と第二種ケース6とを取り扱えるように構成するに限らず、第一種ケース2と第二種ケース6とのいずれかを取り扱えるように構成してもよい。
For example, the reticle loading /
異物除去装置によってレチクルを確実にクリーニングすることができるので、照明装置や手動異物除去装置は省略してもよい。 Since the reticle can be reliably cleaned by the foreign matter removing device, the illumination device and the manual foreign matter removing device may be omitted.
1…レチクル(拡大ホトマスク)、2…第一種ケース(第一機種のレチクルケース)、3…本体、4…蓋体、5…押さえ、6…第二種ケース(第二機種のレチクルケース)、7…本体、8…蓋体、9…支柱、10…レチクルクリーニング装置、11…筐体、12…覗き部、13…下側カバー、14…操作盤、15…ディスプレイ、16…ジョイステック、17…緊急停止ボタン、18…レチクルケース出し入れ口、20…筐体の内部空間、21…ベース板、21a…パンチング孔、21b…挿通孔、21c…取付孔、21d…挿通孔、22…クリーニング室、23…機械室、23a…通風口、24…クリーンユニット、25…イオナイザ、30…レチクル出し入れ装置、31…機枠、32…第一種ケース受け、33…エアシリンダ装置、34…昇降台、35…ストッパ解除エアシリンダ装置、36…第二種ケース受け、37…ロータリーアクチュエータ、38…係合爪、39…第二種ケース押さえ、40…レチクル移載装置、41…X軸リニアアクチュエータ、41a…スライダ、42…Z軸リニアアクチュエータ、42a…昇降台、43…昇降バー、44…受けアーム、45…支持バー、45a…突起部、50…レチクル姿勢変更装置、51…垂直軸モータ、52…原動側プーリー、53…軸受、54…垂直回転軸、55…従動側プーリー、56…タイミングベルト、57…アーム、58…水平軸モータ、59…原動側プーリー、60…垂直バー、61…水平回転軸、62…従動側プーリー、63…タイミングベルト、64、65、69…カバー、66…ホルダ、67…グリップ、68…チャッキング装置、70…異物除去装置、71…X軸リニアアクチュエータ、71a…スライダ、72…Z軸リニアアクチュエータ、72a…昇降台、73…昇降バー、74…取付板、75…窒素ガス供給管、76…噴射ノズル(噴射手段)、77…窒素ガス供給チューブ、78…排気ダクト(吸引手段)、79…吸引口、80…排気チューブ、81…手動式異物除去装置、82…支持台、83…回転軸、84…ガイドレール、85…スライダ、86…噴射ノズル、87…窒素ガス供給チューブ、88…ロッド、89…握り、90…エアシリンダ装置、91…位置決めピン、92…位置決めリング、93…スタンド、94…照明装置、95…排気ダクト。
DESCRIPTION OF
Claims (4)
クリーニング室において垂直状態に保持された前記レチクルに気体を噴射する噴射手段と、前記レチクルに噴射した前記気体を前記異物と共に吸引する吸引手段とを備えていることを特徴とするレチクルクリーニング装置。 A reticle cleaning device that removes foreign matter adhering to a reticle,
A reticle cleaning apparatus comprising: an injection unit that injects a gas onto the reticle held in a vertical state in a cleaning chamber; and a suction unit that sucks the gas injected into the reticle together with the foreign matter.
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Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
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JP2005371490A JP2007171730A (en) | 2005-12-26 | 2005-12-26 | Reticle cleaning device |
Applications Claiming Priority (1)
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JP2005371490A JP2007171730A (en) | 2005-12-26 | 2005-12-26 | Reticle cleaning device |
Publications (1)
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Cited By (3)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP2010005600A (en) * | 2008-06-30 | 2010-01-14 | Sunx Ltd | Dust removing apparatus |
KR20190134224A (en) * | 2018-05-25 | 2019-12-04 | (주)오로스 테크놀로지 | Apparatus for removing contaminant from pellicle |
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-
2005
- 2005-12-26 JP JP2005371490A patent/JP2007171730A/en not_active Withdrawn
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