JP2007171730A

JP2007171730A - Reticle cleaning device

Info

Publication number: JP2007171730A
Application number: JP2005371490A
Authority: JP
Inventors: Takeshi Someya; 武志染谷; Yasuo Toyoda; 康夫豊田; Yasushi Kobayashi; 泰小林
Original assignee: Itoki Corp
Current assignee: Itoki Corp
Priority date: 2005-12-26
Filing date: 2005-12-26
Publication date: 2007-07-05

Abstract

<P>PROBLEM TO BE SOLVED: To provide a reticle cleaning device that can reliably remove foreign matter depositing on a reticle. <P>SOLUTION: The reticle cleaning device to reliably remove foreign matter depositing on a reticle is equipped with a plurality of spray nozzles 76 to spray nitrogen gas to a reticle 1 which is held in a vertical state by a reticle posture changing device 50 in a cleaning chamber 22, and an exhaust duct 78 to suck and exhaust the nitrogen gas sprayed to the reticle 1 with the foreign matter. During cleaning, the spray nozzles 76 and the exhaust duct 78 descend while reciprocally horizontally moving. As the nitrogen gas is sprayed to the reticle held in a vertical state while the nitrogen gas sprayed to the reticle is sucked with the foreign matter, the foreign matter depositing on the reticle can be reliably removed as well as prevented from splashing. As the entire surface of the reticle is scanned with the spray nozzles and the exhaust duct, foreign matter on the entire surface of the reticle can be reliably removed. <P>COPYRIGHT: (C)2007,JPO&INPIT

Description

本発明は、レチクルクリーニング装置に関し、例えば、半導体集積回路装置（以下、ＩＣという。）が作り込まれる半導体ウエハ（以下、ウエハという。）に所望のパターンを転写する露光工程において使用されるレチクル（ホトマスク）をクリーニングするのに利用して有効なものに関する。 The present invention relates to a reticle cleaning apparatus, for example, a reticle (for example) used in an exposure process for transferring a desired pattern onto a semiconductor wafer (hereinafter referred to as a wafer) on which a semiconductor integrated circuit device (hereinafter referred to as an IC) is fabricated. It relates to an effective one for cleaning a photomask.

ＩＣの高集積化やパターンの微細化が進んだ今日、ＩＣの製造方法におけるパターンをウエハに転写する露光工程においては、縮小投影露光装置（以下、ステッパという。）が多く使用されている。
このステッパが使用される場合には、ウエハに転写すべきパターンが５倍〜１０倍に拡大されて形成されたレチクル（拡大ホトマスク）が、使用される。
レチクルは所望のパターンの一部を拡大したホトマスクであるために、同一のＩＣを製造するのに複数種類のレチクルが使用されることになる。
しかも、最近のＩＣの生産形態は多品種少量生産が進んでいるために、その生産ラインで使用されるレチクルの種類および枚数は膨大なものとなる。
他方、きわめて高価であるステッパは膨大なレチクルの種類毎に一台ずつ用意することはできないために、レチクルのステッパに対する交換が頻繁に実施されることになる。 With the progress of high IC integration and pattern miniaturization, a reduction projection exposure apparatus (hereinafter referred to as a stepper) is often used in an exposure process for transferring a pattern onto a wafer in an IC manufacturing method.
When this stepper is used, a reticle (enlarged photomask) formed by enlarging the pattern to be transferred to the wafer 5 to 10 times is used.
Since the reticle is a photomask obtained by enlarging a part of a desired pattern, a plurality of types of reticles are used to manufacture the same IC.
In addition, since the recent IC production forms are being produced in a variety of small quantities, the types and number of reticles used in the production line are enormous.
On the other hand, since a very expensive stepper cannot be prepared for each type of enormous reticle, the exchange of the reticle with the stepper is frequently performed.

ところで、レチクルの上に塵埃（パーティクル）等の異物が付着すると、異物がウエハにステッパによって繰り返し投影されて転写されることになるために、所謂全チップ（全製品）不良が発生してしまい、ＩＣの生産に甚大な損失が発生してしまう。
そこで、レチクルをレチクルケースに収納して搬送することにより、レチクルに異物が付着するのを防止することが、従来から実施されている。
また、異物がレチクルに万一付着した場合のために、レチクルに窒素ガスやイオン化された気体を吹きかけてレチクルに付着した異物を剥離させるとともに、剥離した異物を気体と一緒に吸引するクリーニング技術が、提案されている（例えば、特許文献１、特許文献２参照）。
特開平６−１６３３４４公報特表２００４−５１９０１２公報 By the way, when foreign matter such as dust (particles) adheres to the reticle, the foreign matter is repeatedly projected and transferred by the stepper on the wafer, so that a so-called all chip (all products) defect occurs. An enormous loss occurs in IC production.
Therefore, it has been conventionally practiced to prevent foreign matter from adhering to the reticle by storing the reticle in a reticle case and transporting the reticle.
In addition, in the unlikely event that a foreign object adheres to the reticle, a cleaning technology that blows nitrogen gas or ionized gas onto the reticle to peel off the foreign object attached to the reticle and sucks the removed foreign object together with the gas is available. Have been proposed (see, for example, Patent Document 1 and Patent Document 2).
JP-A-6-163344 JP-T-2004-519912

しかしながら、従来のレチクルクリーニング技術では、レチクルに付着した異物を確実に除去することができないという問題点がある。 However, the conventional reticle cleaning technique has a problem in that foreign matter adhering to the reticle cannot be reliably removed.

本発明の目的は、レチクルに付着した異物に確実に除去することができるレチクルクリーニング装置を提供することにある。 An object of the present invention is to provide a reticle cleaning device that can reliably remove foreign matter adhering to a reticle.

本発明のうち代表的なものの概要を説明すれば、次の通りである。
（１）レチクルに付着した異物を除去するレチクルクリーニング装置であって、
クリーニング室において垂直状態に保持された前記レチクルに気体を噴射する噴射手段と、前記レチクルに噴射した前記気体を前記異物と共に吸引する吸引手段とを備えていることを特徴とするレチクルクリーニング装置。
（２）前記噴射手段および前記吸引手段と前記レチクルとは、相対的に平行移動するように構成されていることを特徴とする前記（１）に記載のレチクルクリーニング装置。
（３）前記噴射手段および前記吸引手段は、前記レチクルの両面を同時にクリーニングするように構成されていることを特徴とする前記（１）または（２）に記載のレチクルクリーニング装置。
（４）前記クリーニング室の雰囲気がイオナイザによって静電気的に中和されるとともに、前記クリーニング室にクリーンエアがダウンブローに供給されることを特徴とする前記（１）または（２）に記載のレチクルクリーニング装置。 The outline of typical ones of the present invention will be described as follows.
(1) A reticle cleaning device for removing foreign matter adhering to a reticle,
A reticle cleaning apparatus comprising: an injection unit that injects a gas onto the reticle held in a vertical state in a cleaning chamber; and a suction unit that sucks the gas injected into the reticle together with the foreign matter.
(2) The reticle cleaning apparatus according to (1), wherein the ejection unit, the suction unit, and the reticle are configured to move relatively in parallel.
(3) The reticle cleaning apparatus according to (1) or (2), wherein the ejection unit and the suction unit are configured to simultaneously clean both surfaces of the reticle.
(4) The reticle according to (1) or (2), wherein the atmosphere in the cleaning chamber is electrostatically neutralized by an ionizer, and clean air is supplied to the cleaning chamber in a down blow. Cleaning device.

前記（１）によれば、クリーニング室において垂直状態に保持されたレチクルに気体を噴射するとともに、レチクルに噴射した気体を異物と共に吸引するので、レチクルに付着した異物を確実に除去することができる。
前記（２）によれば、噴射手段および吸引手段がレチクルの全面をスキャニングすることができるので、レチクルの全面の異物を確実に除去することができる。
前記（３）によれば、レチクルの両面を同時にクリーニングすることにより、クリーニングの作業性を向上させることができ、クリーニング時間を短縮することができる。
前記（４）によれば、クリーニング室の雰囲気が中和されることにより、レチクルに付着した異物を気体の噴射によって確実に剥離させることができる。
また、万一、異物が吸引手段によって直ちに回収されない場合でも、剥離した異物をダウンブローによってレチクル以外に吹き流すことができる。 According to the above (1), the gas is injected onto the reticle held in the vertical state in the cleaning chamber, and the gas injected onto the reticle is sucked together with the foreign matter, so that the foreign matter attached to the reticle can be reliably removed. .
According to the above (2), since the ejection unit and the suction unit can scan the entire surface of the reticle, foreign substances on the entire surface of the reticle can be reliably removed.
According to the above (3), the cleaning workability can be improved and the cleaning time can be shortened by simultaneously cleaning both surfaces of the reticle.
According to said (4), the foreign material adhering to a reticle can be reliably peeled by gas injection by neutralizing the atmosphere of a cleaning chamber.
Also, even if the foreign matter is not immediately collected by the suction means, the peeled foreign matter can be blown out to other than the reticle by down blowing.

以下、本発明の一実施の形態を図面に即して説明する。 Hereinafter, an embodiment of the present invention will be described with reference to the drawings.

図１に示されているように、本実施の形態に係るレチクルクリーニング装置１０は、大略直方体の箱形状に形成された筐体１１を備えている。
筐体１１の四方の側壁のうち三方の側壁における上側の略半分の領域には、筐体１１の内部を外部から覗くための覗き部１２が形成されている。覗き部１２は帯電防止機能を有する透明の樹脂またはガラスが使用されて構築されている。
筐体１１の側壁の下側の略半分の領域には、ステンレス製のパンチング板（パンチング孔の図示は省略）からなる下側カバー１３が張られている。
筐体１１の一側壁（以下、正面壁とする。）における下側カバー１３の上端の中央部には、操作盤１４が前向きに突設されており、操作盤１４にはタッチパネル付きのディスプレイ１５と、操作用ハンドルとしてのジョイステック１６と、緊急停止ボタン１７とが配設されている。 As shown in FIG. 1, a reticle cleaning apparatus 10 according to the present embodiment includes a housing 11 formed in a substantially rectangular parallelepiped box shape.
A peeping portion 12 for peeping into the inside of the housing 11 from the outside is formed in a substantially half region on the upper side of the three side walls of the four side walls of the housing 11. The peeping part 12 is constructed using a transparent resin or glass having an antistatic function.
A lower cover 13 made of a stainless punching plate (illustration of punching holes is omitted) is stretched in a substantially half region below the side wall of the housing 11.
An operation panel 14 projects forward from the center of the upper end of the lower cover 13 on one side wall (hereinafter referred to as a front wall) of the housing 11, and the operation panel 14 has a display 15 with a touch panel. A joystick 16 as an operation handle and an emergency stop button 17 are provided.

図２〜図４に示されているように、筐体１１の内部空間２０は略中央高さに水平に架設されたベース板２１によって上下に仕切られている。筐体１１の内部空間２０における上側半分の空間によってクリーニング室２２が形成されており、下側半分の空間によって機械室２３が形成されている。
図４に示されているように、クリーニング室２２の底壁であるベース板２１の一部には、多数個のパンチング孔２１ａが開設されている。
また、機械室２３の底壁には通風口２３ａが大きく開設されている。 As shown in FIGS. 2 to 4, the internal space 20 of the housing 11 is divided into upper and lower parts by a base plate 21 laid horizontally at a substantially central height. A cleaning chamber 22 is formed by the upper half space in the internal space 20 of the housing 11, and a machine chamber 23 is formed by the lower half space.
As shown in FIG. 4, a large number of punching holes 21 a are formed in a part of the base plate 21 that is the bottom wall of the cleaning chamber 22.
In addition, a large ventilation opening 23 a is formed in the bottom wall of the machine room 23.

筐体１１の上にはクリーンユニット２４が設置されており、クリーンユニット２４はクリーニング室２２内にクリーンエア（図示せず）を垂直方向下向きに吹き出すように構成されている。
クリーンユニット２４から吹き出されたクリーンエアはクリーニング室２２を層流状態で流下し、ベース板２１のパンチング孔２１ａ等を流通して機械室２３に流れ込み、機械室２３から通風口２３ａを通ってクリーンルーム（図示せず）の床下の排気ダクトに排気される。
このように、クリーニング室２２内にクリーンエアをダウンブローに流すことにより、クリーニング室２２内や機械室２３内の雰囲気が巻き上がったり澱んだりする現象を防止することができるため、クリーニング室２２を常に清浄に維持することができる。 A clean unit 24 is installed on the housing 11, and the clean unit 24 is configured to blow clean air (not shown) downward in the vertical direction into the cleaning chamber 22.
Clean air blown out from the clean unit 24 flows down through the cleaning chamber 22 in a laminar state, flows through the punching holes 21a of the base plate 21 and the like, flows into the machine chamber 23, and passes through the ventilation port 23a from the machine chamber 23 to the clean room. It is exhausted to an exhaust duct under the floor (not shown).
In this way, by flowing clean air down through the cleaning chamber 22, it is possible to prevent a phenomenon in which the atmosphere in the cleaning chamber 22 or the machine chamber 23 is rolled up or stagnated. It can be kept clean.

クリーニング室２２内のクリーンユニット２４の下方にはイオナイザ２５が水平に架設されており、イオナイザ２５はクリーニング室２２内の雰囲気を静電気的に中和することにより、帯電を防止して静電気の吸引力の発生を抑止する。 An ionizer 25 is installed horizontally below the clean unit 24 in the cleaning chamber 22, and the ionizer 25 neutralizes the atmosphere in the cleaning chamber 22 electrostatically, thereby preventing charging and electrostatic attraction. Is suppressed.

図１に示されているように、クリーニング室２２の左側の側壁には、レチクルケースを出し入れするレチクルケース出し入れ口（以下、出し入れ口という。）１８が開口されており、クリーニング室２２内の出し入れ口１８に隣接する位置には、レチクル出し入れ装置３０が設置されている。 As shown in FIG. 1, a reticle case loading / unloading port (hereinafter referred to as loading / unloading port) 18 through which a reticle case is loaded / unloaded is opened on the left side wall of the cleaning chamber 22. A reticle loading / unloading device 30 is installed at a position adjacent to the mouth 18.

次に、主として図５および図６に基づいてレチクル出し入れ装置３０を説明する。
レチクル出し入れ装置３０は図５に示された二つの機種のレチクルケースからレチクル１を出し入れすることができるように構成されている。
図５の上側に示された第一の機種のレチクルケース（以下、第一種ケースという。）２は、略正方形の皿形状に形成された本体３と、本体３に被せられる蓋体４とを備えており、本体３の底面および蓋体４の天井面にはレチクル１を上下から押さえる押さえ５が複数本、突設されている。
図５の下側に示された第二の機種のレチクルケース（以下、第二種ケースという。）６は、直方体の箱形状に形成された本体７を備えており、本体７の一側壁には蓋体８が上端辺において回動自在に枢支されて開閉自在に取り付けられている。本体７の底面にはレチクル１を下から支持する支柱９が複数本、突設されている。 Next, the reticle loading / unloading apparatus 30 will be described mainly with reference to FIGS.
The reticle loading / unloading device 30 is configured to allow the reticle 1 to be loaded / unloaded from the two types of reticle cases shown in FIG.
A reticle case (hereinafter referred to as a first type case) 2 of the first model shown on the upper side of FIG. 5 includes a main body 3 formed in a substantially square dish shape, and a lid body 4 that covers the main body 3. A plurality of pressers 5 for pressing the reticle 1 from above and below are projected from the bottom surface of the main body 3 and the ceiling surface of the lid body 4.
A reticle case (hereinafter referred to as “second type case”) 6 of the second model shown on the lower side of FIG. 5 includes a main body 7 formed in a rectangular parallelepiped box shape. The lid 8 is pivotally supported at the upper end side so as to be freely opened and closed. Plural support columns 9 are provided on the bottom surface of the main body 7 to support the reticle 1 from below.

図５および図６に示されているように、レチクル出し入れ装置３０は機枠３１を備えている。
機枠３１の上には第一種ケース２を水平に保持する第一種ケース受け３２が設置されており、第一種ケース受け３２には第一種ケース２が手作業でレチクルケース出し入れ口１８に対して抜き差しして着脱されるようになっている。
機枠３１の一対の側面には一対のエアシリンダ装置３３、３３がそれぞれ垂直方向上向きに設置されている。両エアシリンダ装置３３、３３のピストンロッドの上端には、一対の昇降台３４、３４がそれぞれ水平に支持されている。両昇降台３４、３４の上には一対のストッパ解除エアシリンダ装置３５、３５がそれぞれ設置されており、両ストッパ解除エアシリンダ装置３５、３５は第一種ケース受け３２に保持された第一種ケース２の蓋体４の係合部に下側からそれぞれ係合し、かつ、ストッパを解除するようになっている。
したがって、第一種ケース受け３２に保持された第一種ケース２は蓋体４を両エアシリンダ装置３３、３３によって昇降されることにより、開閉されるようになっている。 As shown in FIGS. 5 and 6, the reticle loading / unloading device 30 includes a machine casing 31.
A first type case receiver 32 that holds the first type case 2 horizontally is installed on the machine frame 31, and the first type case 2 is manually inserted into and out of the reticle case. It is designed to be attached to and detached from 18.
A pair of air cylinder devices 33 and 33 are installed on the pair of side surfaces of the machine casing 31 in the vertical direction. A pair of elevating platforms 34 and 34 are respectively supported horizontally at the upper ends of the piston rods of both air cylinder devices 33 and 33. A pair of stopper release air cylinder devices 35, 35 are respectively installed on the lifting platforms 34, 34, and both stopper release air cylinder devices 35, 35 are the first type held by the first type case receiver 32. The case 2 is engaged with the engaging portion of the lid 4 from below, and the stopper is released.
Therefore, the first type case 2 held by the first type case receiver 32 is opened and closed by raising and lowering the lid body 4 by both the air cylinder devices 33 and 33.

図５および図６に示されているように、機枠３１の中間高さ位置には第二種ケース６を水平に保持する第二種ケース受け３６が設置されており、第二種ケース受け３６には第二種ケース６が手作業でレチクルケース出し入れ口１８に対して抜き差しして着脱されるようになっている。
機枠３１の一側面にはロータリーアクチュエータ３７が第二種ケース受け３６側に向いて水平に設置されている。ロータリーアクチュエータ３７の回転軸には係合爪３８が突設されており、係合爪３８は第二種ケース受け３６に保持された第二種ケース６の蓋体８の係合部に係合するようになっている。したがって、第二種ケース受け３６に保持された第二種ケース６は蓋体８をロータリーアクチュエータ３７によって回動されることにより、開閉されるようになっている。
また、機枠３１の第二種ケース受け３６側の側面には、第二種ケース６を押さえる第二種ケース押さえ３９が設置されている。 As shown in FIG. 5 and FIG. 6, a second type case receiver 36 that holds the second type case 6 horizontally is installed at an intermediate height position of the machine casing 31. The second type case 6 is attached to and detached from the reticle case loading / unloading port 18 by 36.
A rotary actuator 37 is horizontally installed on one side of the machine frame 31 toward the second-type case receiver 36 side. An engaging claw 38 projects from the rotating shaft of the rotary actuator 37, and the engaging claw 38 engages with the engaging portion of the lid 8 of the second type case 6 held by the second type case receiver 36. It is supposed to be. Accordingly, the second type case 6 held by the second type case receiver 36 is opened and closed by rotating the lid 8 by the rotary actuator 37.
A second type case holder 39 that holds the second type case 6 is installed on the side surface of the machine casing 31 on the second type case receiver 36 side.

図２〜図４に示されているように、クリーニング室２２内におけるレチクル出し入れ装置３０の左側には、図７や図８に示されたレチクル移載装置４０が設置されている。 As shown in FIGS. 2 to 4, the reticle transfer device 40 shown in FIGS. 7 and 8 is installed on the left side of the reticle loading / unloading device 30 in the cleaning chamber 22.

次に、レチクル移載装置４０について主として図７および図８に基づいて説明する。
レチクル移載装置４０はＸ軸リニアアクチュエータ４１を備えており、Ｘ軸リニアアクチュエータ４１は機械室２３内において左右方向に延在するように水平に架設されている（図２および図３参照）。Ｘ軸リニアアクチュエータ４１のスライダ４１ａにはＺ軸リニアアクチュエータ４２が機械室２３内において垂直に据え付けられている。
本実施の形態において、Ｘ軸リニアアクチュエータ４１およびＺ軸リニアアクチュエータ４２には、電動モータ駆動の送りねじ軸装置がそれぞれ使用されているが、エアシリンダ装置等の他のアクチュエータを使用してもよい。
Ｚ軸リニアアクチュエータ４２の昇降台４２ａには昇降バー４３が垂直に取り付けられており、昇降バー４３はＺ軸リニアアクチュエータ４２によって昇降され、かつ、Ｘ軸リニアアクチュエータ４１によって左右方向に水平移動されるようになっている。 Next, the reticle transfer device 40 will be described mainly with reference to FIGS.
The reticle transfer device 40 includes an X-axis linear actuator 41. The X-axis linear actuator 41 is installed horizontally so as to extend in the left-right direction in the machine chamber 23 (see FIGS. 2 and 3). A Z-axis linear actuator 42 is vertically installed in the machine chamber 23 on the slider 41 a of the X-axis linear actuator 41.
In this embodiment, each of the X-axis linear actuator 41 and the Z-axis linear actuator 42 uses an electric motor-driven feed screw shaft device, but other actuators such as an air cylinder device may be used. .
A lift bar 43 is vertically attached to a lift 42a of the Z-axis linear actuator 42. The lift bar 43 is lifted and lowered by the Z-axis linear actuator 42 and horizontally moved by the X-axis linear actuator 41 in the left-right direction. It is like that.

昇降バー４３はベース２１に開設された挿通孔２１ｂを挿通してクリーニング室２２内に突き出されている（図２および図３参照）。クリーニング室２２内の昇降バー４３の上端部には受けアーム４４が前後方向に延在するように水平に支持されている。
受けアーム４４の上には一対の支持バー４５、４５が左右方向に延在するように水平に支持されており、両支持バー４５、４５はレチクル１の左右側縁部が載るようになっている。すなわち、レチクル１は所定の寸法だけはみ出た状態で両支持バー４５、４５に載るように設定されている。
両支持バー４５、４５の上には複数の突起部４５ａが突設されており、各突起部４５ａはレチクル１の下面に小面積で接触することにより、接触によるレチクル１への汚染を防止している。
各突起部４５ａには吸引口（図示せず）が開設されている。各吸引口は真空源に接続されており、突起部４５ａに載せられたレチクル１を真空吸着保持することにより、脱落を防止している。 The elevating bar 43 is inserted into the cleaning chamber 22 through the insertion hole 21b provided in the base 21 (see FIGS. 2 and 3). A receiving arm 44 is supported horizontally at the upper end of the lift bar 43 in the cleaning chamber 22 so as to extend in the front-rear direction.
A pair of support bars 45, 45 are horizontally supported on the receiving arm 44 so as to extend in the left-right direction, and both support bars 45, 45 are placed on the left and right side edges of the reticle 1. Yes. That is, the reticle 1 is set so as to be placed on both the support bars 45 and 45 in a state where the reticle 1 protrudes by a predetermined dimension.
A plurality of protrusions 45a are provided on both support bars 45, 45, and each protrusion 45a contacts the lower surface of the reticle 1 with a small area to prevent contamination of the reticle 1 due to contact. ing.
Each protrusion 45a has a suction port (not shown). Each suction port is connected to a vacuum source, and the reticle 1 placed on the protrusion 45a is vacuum-sucked and held to prevent it from falling off.

図２〜図４に示されているように、クリーニング室２２内の中央部には、レチクル１を保持して姿勢を変更するレチクル姿勢変更装置５０が設置されている。 As shown in FIGS. 2 to 4, a reticle posture changing device 50 that holds the reticle 1 and changes the posture is installed at the center of the cleaning chamber 22.

次に、レチクル姿勢変更装置５０について主として図９および図１０に基づいて説明する。
レチクル姿勢変更装置５０は垂直軸モータ５１を備えており、垂直軸モータ５１は機械室２３内においてベース２１の下面に垂直に据え付けられている。垂直軸モータ５１の回転軸には原動側プーリー５２が固定されている。
ベース２１の中央部には取付孔２１ｃが開設されており、取付孔２１ｃには軸受５３によって垂直回転軸５４が回転自在に支承されている。垂直回転軸５４の下端部には従動側プーリー５５が固定されており、従動側プーリー５５と原動側プーリー５２との間にはタイミングベルト５６が張設されている。したがって、垂直回転軸５４は垂直軸モータ５１によって回転駆動されるようになっている。 Next, the reticle attitude changing device 50 will be described mainly with reference to FIGS.
The reticle attitude changing device 50 includes a vertical axis motor 51, and the vertical axis motor 51 is vertically installed on the lower surface of the base 21 in the machine room 23. A driving pulley 52 is fixed to the rotating shaft of the vertical shaft motor 51.
A mounting hole 21c is formed at the center of the base 21, and a vertical rotation shaft 54 is rotatably supported by a bearing 53 in the mounting hole 21c. A driven pulley 55 is fixed to the lower end portion of the vertical rotating shaft 54, and a timing belt 56 is stretched between the driven pulley 55 and the driving pulley 52. Accordingly, the vertical rotation shaft 54 is rotationally driven by the vertical shaft motor 51.

クリーニング室２２内における垂直回転軸５４の上端部にはアーム５７の一端部が固定されており、アーム５７は垂直回転軸５４によって旋回されるようになっている。アーム５７の自由端部には水平軸モータ５８が水平方向外向きに据え付けられている。水平軸モータ５８の回転軸には原動側プーリー５９が固定されている。
アーム５７の自由端部には垂直バー６０が垂直方向上向きに立脚されており、垂直バー６０の上端部には水平回転軸６１が回転自在に支承されている。水平回転軸６１の一端部には従動側プーリー６２が固定されており、従動側プーリー６２と原動側プーリー５９との間にはタイミングベルト６３が張設されている。したがって、水平回転軸６１は水平軸モータ５８によって回転駆動されるようになっている。
水平軸モータ５８はカバー６４によって被覆されており、原動側プーリー５９や従動側プーリー６２およびタイミングベルト６３はカバー６５によって被覆されている。 One end of an arm 57 is fixed to the upper end of the vertical rotation shaft 54 in the cleaning chamber 22, and the arm 57 is swung by the vertical rotation shaft 54. A horizontal shaft motor 58 is installed on the free end of the arm 57 outward in the horizontal direction. A driving pulley 59 is fixed to the rotating shaft of the horizontal shaft motor 58.
A vertical bar 60 is erected vertically upward at the free end of the arm 57, and a horizontal rotation shaft 61 is rotatably supported at the upper end of the vertical bar 60. A driven pulley 62 is fixed to one end portion of the horizontal rotating shaft 61, and a timing belt 63 is stretched between the driven pulley 62 and the driving pulley 59. Accordingly, the horizontal rotation shaft 61 is driven to rotate by the horizontal shaft motor 58.
The horizontal shaft motor 58 is covered with a cover 64, and the driving pulley 59, the driven pulley 62 and the timing belt 63 are covered with a cover 65.

水平回転軸６１の他端部にはホルダ６６が軸芯と直交して固定されており、ホルダ６６の両端部には一対のグリップ６７、６７が互いに接近かつ離脱自在に支承されている。両グリップ６７、６７はホルダ６６に設置されたチャッキング装置６８によって対称形に開閉駆動されるように構成されており、チャッキング装置６８の閉じる作動により、レチクル１を両脇から挟み込んで保持するようになっている。
このように、一対のグリップ６７、６７がレチクル１を両側から挟んで保持することにより、保持によるレチクル１の表面の汚染を防止している。
ちなみに、チャッキング装置６８はエアシリンダ装置やピニオン・ラック機構およびスプリング等が使用されて、両グリップ６７、６７を対称形に開閉作動するように構成されている。
ホルダ６６およびチャッキング装置６８はカバー６９によって被覆されている。 A holder 66 is fixed to the other end of the horizontal rotating shaft 61 so as to be orthogonal to the axis, and a pair of grips 67, 67 are supported on both ends of the holder 66 so as to be close to and detachable from each other. Both grips 67 and 67 are configured to be opened / closed symmetrically by a chucking device 68 installed on a holder 66, and the reticle 1 is sandwiched and held from both sides by the closing operation of the chucking device 68. It is like that.
In this manner, the pair of grips 67 and 67 hold the reticle 1 from both sides to prevent contamination of the surface of the reticle 1 due to the holding.
Incidentally, the chucking device 68 is configured to open and close the grips 67 and 67 symmetrically by using an air cylinder device, a pinion / rack mechanism, and a spring.
The holder 66 and the chucking device 68 are covered with a cover 69.

図２〜図４に示されているように、クリーニング室２２内の中央部には、レチクル１に付着した異物を除去する異物除去装置７０がレチクル姿勢変更装置５０に近接して設置されている。 As shown in FIGS. 2 to 4, a foreign matter removing device 70 for removing foreign matter attached to the reticle 1 is installed in the vicinity of the reticle posture changing device 50 in the center of the cleaning chamber 22. .

次に、異物除去装置７０について主として図１１、図１２および図１３に基づいて説明する。
異物除去装置７０はＸ軸リニアアクチュエータ７１を備えており、Ｘ軸リニアアクチュエータ７１は機械室２３内において左右方向に延在するように水平に架設されている（図２および図３参照）。Ｘ軸リニアアクチュエータ７１のスライダ７１ａにはＺ軸リニアアクチュエータ７２が機械室２３内において垂直に据え付けられている。
本実施の形態において、Ｘ軸リニアアクチュエータ７１およびＺ軸リニアアクチュエータ７２には送りねじ軸装置がそれぞれ使用されているが、エアシリンダ装置等の他のアクチュエータを使用してもよい。
Ｚ軸リニアアクチュエータ７２の昇降台７２ａには昇降バー７３が垂直に取り付けられており、昇降バー７３はＺ軸リニアアクチュエータ７２によって昇降され、かつ、Ｘ軸リニアアクチュエータ７１によって左右方向に水平移動されるようになっている。 Next, the foreign matter removing apparatus 70 will be described mainly with reference to FIGS. 11, 12, and 13.
The foreign matter removing device 70 includes an X-axis linear actuator 71, and the X-axis linear actuator 71 is installed horizontally so as to extend in the left-right direction in the machine chamber 23 (see FIGS. 2 and 3). A Z-axis linear actuator 72 is vertically installed in the machine chamber 23 on the slider 71 a of the X-axis linear actuator 71.
In this embodiment, a feed screw shaft device is used for each of the X-axis linear actuator 71 and the Z-axis linear actuator 72, but other actuators such as an air cylinder device may be used.
An elevating bar 73 is vertically attached to an elevating platform 72a of the Z-axis linear actuator 72. The elevating bar 73 is moved up and down by the Z-axis linear actuator 72 and horizontally moved by the X-axis linear actuator 71 in the horizontal direction. It is like that.

昇降バー７３はベース２１に開設された挿通孔２１ｄを挿通してクリーニング室２２内に突き出されている。クリーニング室２２内の昇降バー７３の上端部には、側面視が略正方形の取付板７４が前後方向に延在するように垂直に固定されている。 The elevating bar 73 is inserted into the cleaning chamber 22 through the insertion hole 21 d provided in the base 21. A mounting plate 74 having a substantially square side view is vertically fixed to the upper end portion of the lifting bar 73 in the cleaning chamber 22 so as to extend in the front-rear direction.

取付板７４の上端部には前後で一対の窒素ガス供給管７５、７５が、互いに対向する位置にて左右方向に延在するように水平に片持ち支持されている。両窒素ガス供給管７５、７５の先端側には噴射手段としての噴射ノズル７６が複数個ずつ（図示例では、４個ずつ）、横一列に並べられて取り付けられている。両窒素ガス供給管７５、７５の噴射ノズル７６群同士は、窒素ガスを互いに向かい合う斜め下方向に対称形に噴射するようにそれぞれ構成されている。
両窒素ガス供給管７５、７５の固定端には窒素ガス供給チューブ７７、７７がそれぞれ接続されており、窒素ガス供給チューブ７７、７７は窒素ガス供給源（図示せず）にそれぞれ接続されるようになっている。 A pair of nitrogen gas supply pipes 75, 75 are cantilevered horizontally at the upper end of the mounting plate 74 so as to extend in the left-right direction at positions facing each other. A plurality of injection nozzles 76 (four in the illustrated example) as an injection means are arranged in a horizontal row on the tip side of both the nitrogen gas supply pipes 75, 75. The groups of spray nozzles 76 of both the nitrogen gas supply pipes 75 and 75 are configured to spray the nitrogen gas symmetrically in a diagonally downward direction facing each other.
Nitrogen gas supply tubes 77 and 77 are connected to the fixed ends of both nitrogen gas supply pipes 75 and 75, respectively. The nitrogen gas supply tubes 77 and 77 are connected to a nitrogen gas supply source (not shown), respectively. It has become.

取付板７４の下端部には吸引手段としての排気ダクト７８が前後で一対、互いに対向する位置にて左右方向に延在するように水平に片持ち支持されている。両排気ダクト７８、７８には窒素ガスを吸引する吸引口７９、７９がそれぞれ略全長にわたって一連に開設されている。
前後の排気ダクト７８、７８は前後の窒素ガス供給管７５、７５と上下で対になっている。すなわち、前側の窒素ガス供給管７５の噴射ノズル７６群からレチクル１に向かって噴射されてレチクル１で反射した窒素ガスを前側の排気ダクト７８の吸引口７９が吸引するようになっており、後側の窒素ガス供給管７５の噴射ノズル７６群からレチクル１に向かって噴射されてレチクル１で反射した窒素ガスを後側の排気ダクト７８の吸引口７９が吸引するようになっている。
両排気ダクト７８、７８の固定端には排気チューブ８０、８０がそれぞれ接続されており、排気チューブ８０、８０は送風機等の負圧源（図示せず）にそれぞれ接続されるようになっている。 A pair of exhaust ducts 78 as suction means are supported at the lower end of the mounting plate 74 in a cantilevered manner so as to extend in the left-right direction at positions facing each other. Both exhaust ducts 78, 78 are provided with a series of suction ports 79, 79 for sucking nitrogen gas over substantially the entire length.
The front and rear exhaust ducts 78 and 78 are paired with the front and rear nitrogen gas supply pipes 75 and 75 in the vertical direction. That is, the suction port 79 of the front exhaust duct 78 sucks the nitrogen gas injected from the group of injection nozzles 76 of the front nitrogen gas supply pipe 75 toward the reticle 1 and reflected by the reticle 1, and the rear The suction port 79 of the rear exhaust duct 78 sucks the nitrogen gas that is jetted from the group of jet nozzles 76 of the side nitrogen gas supply pipe 75 toward the reticle 1 and reflected by the reticle 1.
Exhaust tubes 80 and 80 are connected to the fixed ends of the exhaust ducts 78 and 78, respectively, and the exhaust tubes 80 and 80 are connected to a negative pressure source (not shown) such as a blower. .

図１〜図４に示されているように、筐体１１の前端部にはレチクル１に付着した異物を手動で除去する手動式異物除去装置８１がクリーニング室２２の内外にわたって設置されている。 As shown in FIGS. 1 to 4, a manual foreign matter removing device 81 that manually removes foreign matter adhering to the reticle 1 is installed at the front end of the housing 11 across the inside and outside of the cleaning chamber 22.

次に、手動式異物除去装置８１について主として図１４および図１５に基づいて説明する。
手動式異物除去装置８１は支持台８２を備えており、支持台８２はクリーニング室２２外においてベース２１の上に据え付けられている。支持台８２の中央部には回転軸８３が垂直に配されて回転自在に支承されており、回転軸８３の上端部には長方形の箱形状のガイドレール８４が水平に固定されている。ガイドレール８４にはスライダ８５が長手方向に摺動自在に支承されている。 Next, the manual foreign matter removing apparatus 81 will be described mainly with reference to FIGS.
The manual foreign matter removing apparatus 81 includes a support table 82, and the support table 82 is installed on the base 21 outside the cleaning chamber 22. A rotation shaft 83 is vertically arranged at the center of the support base 82 and is rotatably supported. A rectangular box-shaped guide rail 84 is horizontally fixed to the upper end of the rotation shaft 83. A slider 85 is supported on the guide rail 84 so as to be slidable in the longitudinal direction.

スライダ８５には細長い噴射ノズル８６の一端部が固定されており、噴射ノズル８６の他端部はクリーニング室２２内に挿入されている。噴射ノズル８６には窒素ガスを供給するための窒素ガス供給チューブ８７が接続されている。
また、スライダ８５にはロッド８８の一端部が平面視において噴射ノズル８６と一直線になるように配されて固定されており、ロッド８８の他端には球形状の握り８９が固定されている。 One end of an elongated injection nozzle 86 is fixed to the slider 85, and the other end of the injection nozzle 86 is inserted into the cleaning chamber 22. A nitrogen gas supply tube 87 for supplying nitrogen gas is connected to the injection nozzle 86.
Further, one end of a rod 88 is arranged and fixed to the slider 85 so as to be aligned with the injection nozzle 86 in plan view, and a spherical grip 89 is fixed to the other end of the rod 88.

支持台８２の一端部にはエアシリンダ装置９０が垂直方向上向きに設置されており、エアシリンダ装置９０は位置決めピン９１を昇降駆動するようになっている。ガイドレール８４の位置決めピン９１と対向する位置には位置決めリング９２が固定されており、位置決めリング９２の内径には位置決めピン９１が嵌入するように構成されている。 An air cylinder device 90 is installed at one end of the support base 82 in the vertical direction upward, and the air cylinder device 90 drives the positioning pin 91 up and down. A positioning ring 92 is fixed at a position facing the positioning pin 91 of the guide rail 84, and the positioning pin 91 is configured to fit into the inner diameter of the positioning ring 92.

図２〜図４に示されているように、クリーニング室２２内の後端部の左側寄りの位置には、スタンド９３が垂直に立脚されており、スタンド９３の上端部には照明装置９４がクリーニング室２２内の略中央部を照らすように設置されている。
照明装置９４には排気ダクト９５の一端部が接続されており、排気ダクト９５の他端部はクリーニング室２２外に引き出されている。排気ダクト９５の引き出し端は送風機等の排気装置（図示せず）に接続されるようになっている。
排気ダクト９５は照明装置９４を空冷するためのファン（図示せず）から発生する塵埃を外部に排出するように構成されている。 As shown in FIGS. 2 to 4, a stand 93 is vertically erected on the left side of the rear end portion in the cleaning chamber 22, and an illumination device 94 is provided on the upper end portion of the stand 93. It is installed so as to illuminate a substantially central portion in the cleaning chamber 22.
One end of an exhaust duct 95 is connected to the lighting device 94, and the other end of the exhaust duct 95 is drawn out of the cleaning chamber 22. The leading end of the exhaust duct 95 is connected to an exhaust device (not shown) such as a blower.
The exhaust duct 95 is configured to discharge dust generated from a fan (not shown) for air-cooling the lighting device 94 to the outside.

なお、レチクル出し入れ装置３０、レチクル移載装置４０、レチクル姿勢変更装置５０、異物除去装置７０および手動式異物除去装置８１における各種の駆動装置（アクチュエータやエアシリンダ装置）は、パーソナルコンピュータ等によって構成されたコントローラ（図示せず）によってシーケンス制御されるように構成されているとともに、適宜に配設された各種の位置センサ（ホトセンサやリミットスイッチ等）の検出に基づいて自動的に制御されるように構成されている。 Note that various drive devices (actuators and air cylinder devices) in the reticle loading / unloading device 30, reticle transfer device 40, reticle attitude changing device 50, foreign matter removing device 70, and manual foreign matter removing device 81 are configured by a personal computer or the like. The controller is configured to be sequence-controlled by a controller (not shown), and is automatically controlled based on detection of various position sensors (photosensors, limit switches, etc.) arranged as appropriate. It is configured.

次に、以上の構成に係るレチクルクリーニング装置１０の使用方法および作用ならびに効果を、クリーニング室２２内のレイアウトを示す図１６を参照して説明する。 Next, the usage method, operation, and effect of the reticle cleaning apparatus 10 according to the above configuration will be described with reference to FIG. 16 showing the layout in the cleaning chamber 22.

予め、クリーンユニット２４からクリーンエアがクリーニング室２２内に層流状態でダウンブローされるとともに、クリーニング室２２内の雰囲気がイオナイザ２５によって静電気的に中和される。 In advance, clean air from the clean unit 24 is blown down into the cleaning chamber 22 in a laminar flow state, and the atmosphere in the cleaning chamber 22 is electrostatically neutralized by the ionizer 25.

クリーニング室２２内の雰囲気が安定した状態で、クリーニングすべきレチクル１を収納したレチクルケースがレチクルケース出し入れ口１８からクリーニング室２２内に挿入されて、レチクル出し入れ装置３０に手作業によってセットされる。
この際、レチクル１が適用されるステッパの機種に対応したレチクルケースがレチクル出し入れ装置３０にセットされることになる。
ここでは、第二種ケース６が第二種ケース受け３６にセットされるものとする。 In a state where the atmosphere in the cleaning chamber 22 is stable, a reticle case containing the reticle 1 to be cleaned is inserted into the cleaning chamber 22 from the reticle case loading / unloading port 18 and set in the reticle loading / unloading device 30 by hand.
At this time, a reticle case corresponding to the type of stepper to which the reticle 1 is applied is set in the reticle loading / unloading device 30.
Here, it is assumed that the second type case 6 is set in the second type case receiver 36.

操作盤１４のディスプレイ１５に表示された起動のボタンを作業者が押すと、レチクル出し入れ装置３０のロータリーアクチュエータ３７が作動して、係合爪３８が第二種ケース６の蓋体８を回動させて第二種ケース６のレチクル出し入れ口を開放する。 When the operator presses the start button displayed on the display 15 of the operation panel 14, the rotary actuator 37 of the reticle loading / unloading device 30 is activated, and the engaging claw 38 rotates the lid 8 of the second type case 6. Then, the reticle entrance / exit of the second type case 6 is opened.

第二種ケース６のレチクル出し入れ口が開放すると、レチクル移載装置４０のＸ軸リニアアクチュエータ４１が左方向に前進作動して、一対の支持バー４５、４５を第二種ケース６内のレチクル１の下方に挿入する。
続いて、Ｚ軸リニアアクチュエータ４２が作動して一対の支持バー４５、４５が第二種ケース６内のレチクル１を掬い取る。
両支持バー４５、４５が第二種ケース６内のレチクル１を掬い取ると、突起部４５ａの吸引口に負圧が供給され、レチクル１が両支持バー４５、４５に真空吸着保持される。
この状態で、Ｘ軸リニアアクチュエータ４１が後退作動して、レチクル１をクリーニング室２２内の中央部の所定の位置に搬送する。 When the reticle loading / unloading port of the second type case 6 is opened, the X-axis linear actuator 41 of the reticle transfer device 40 moves forward in the left direction, and the pair of support bars 45 and 45 are moved to the reticle 1 in the second type case 6. Insert below.
Subsequently, the Z-axis linear actuator 42 is operated, and the pair of support bars 45, 45 scoop the reticle 1 in the second type case 6.
When both the support bars 45, 45 scoop the reticle 1 in the second type case 6, negative pressure is supplied to the suction port of the protrusion 45 a, and the reticle 1 is vacuum-held by the both support bars 45, 45.
In this state, the X-axis linear actuator 41 is moved backward to transport the reticle 1 to a predetermined position in the center of the cleaning chamber 22.

レチクル１が所定の位置に搬送されると、レチクル姿勢変更装置５０のチャッキング装置６８が作動して、両支持バー４５、４５に保持されたレチクル１を一対のグリップ６７、６７が両脇から挟み込んで保持する。
レチクル１がレチクル姿勢変更装置５０の両グリップ６７、６７によって保持されると、レチクル移載装置４０のＺ軸リニアアクチュエータ４２が作動して、両支持バー４５、４５を両グリップ６７、６７に干渉しない位置まで下降させる。
続いて、レチクル姿勢変更装置５０の水平軸モータ５８が作動して、水平回転軸６１を９０度回動させることにより、図１１や図１３に示されているように、レチクル１を水平姿勢から垂直姿勢に変更する。 When the reticle 1 is transported to a predetermined position, the chucking device 68 of the reticle posture changing device 50 is activated, and the pair of grips 67, 67 are moved from both sides of the reticle 1 held by the support bars 45, 45. Hold it in place.
When the reticle 1 is held by both grips 67 and 67 of the reticle attitude changing device 50, the Z-axis linear actuator 42 of the reticle transfer device 40 is operated to interfere the both support bars 45 and 45 with both the grips 67 and 67. Lower to a position where it will not.
Subsequently, the horizontal axis motor 58 of the reticle attitude changing device 50 is operated to rotate the horizontal rotating shaft 61 by 90 degrees, so that the reticle 1 is moved from the horizontal attitude as shown in FIGS. Change to vertical posture.

次いで、異物除去装置７０のＺ軸リニアアクチュエータ７２が作動して昇降バー７３を上昇させ、図１１および図１２に想像線で示されているように、窒素ガス供給管７５および排気ダクト７８をレチクル１の上方に上昇させる。 Next, the Z-axis linear actuator 72 of the foreign substance removing device 70 is operated to raise the elevating bar 73, and the nitrogen gas supply pipe 75 and the exhaust duct 78 are moved to the reticle as shown in phantom lines in FIGS. 11 and 12. Raise above 1.

続いて、図１３に示されているように、異物除去装置７０のＸ軸リニアアクチュエータ７１が往復作動して窒素ガス供給管７５および排気ダクト７８を左右方向に往復動させながら、異物除去装置７０のＺ軸リニアアクチュエータ７２が作動して窒素ガス供給管７５および排気ダクト７８を下降させる。
この往復動および下降中に、窒素ガスが窒素ガス供給管７５の噴射ノズル７６からレチクル１の表面に向けて噴射されるとともに、レチクル１で反射した窒素ガスが排気ダクト７８の吸引口７９から吸引される。 Subsequently, as shown in FIG. 13, the X-axis linear actuator 71 of the foreign matter removing device 70 is reciprocated to reciprocate the nitrogen gas supply pipe 75 and the exhaust duct 78 in the left-right direction, and the foreign matter removing device 70. The Z-axis linear actuator 72 is operated to lower the nitrogen gas supply pipe 75 and the exhaust duct 78.
During this reciprocation and lowering, nitrogen gas is injected from the injection nozzle 76 of the nitrogen gas supply pipe 75 toward the surface of the reticle 1, and the nitrogen gas reflected by the reticle 1 is sucked from the suction port 79 of the exhaust duct 78. Is done.

レチクル１の表面に付着した異物は、この窒素ガスのレチクル１の表面への噴射によって強制的に剥離されるとともに、排気ダクト７８の吸引口７９によって吸引されて直ちに捕捉されるので、クリーニング室２２内に飛散することはない。
万一、レチクル１から剥離した異物が排気ダクト７８の吸引口７９によって直ちに吸引されなくても、クリーニング室２２内にはクリーンエアがダウンブローされているので、異物は流下されてクリーニング室２２内から排出されて行く。
また、クリーニング室２２内はイオナイザ２５によって中和されているので、レチクル１の表面に付着した異物は、窒素ガスの噴射によって確実に剥離させることができる。
さらに、窒素ガス供給管７５および排気ダクト７８は前後に一組ずつ配設されているので、レチクル１の両面を同時にクリーニングすることができる。
しかも、窒素ガス供給管７５および排気ダクト７８は左右方向に往復動されているので、レチクル１の全面の異物を確実にクリーニングすることができる。
また、レチクル１の表面のクリーニングは窒素ガスの噴射によって実行されるので、レチクル１の表面にペリクル１ａ（図８の想像線参照）が張設されている場合であっても、ペリクルを損傷することなく、安全にクリーニングすることができる。 The foreign matter adhering to the surface of the reticle 1 is forcibly separated by the injection of this nitrogen gas onto the surface of the reticle 1, and is sucked and immediately captured by the suction port 79 of the exhaust duct 78. It will not scatter inside.
Even if the foreign matter peeled off from the reticle 1 is not immediately sucked by the suction port 79 of the exhaust duct 78, the clean air is blown down into the cleaning chamber 22, so that the foreign matter flows down into the cleaning chamber 22. Going to be discharged from.
Further, since the inside of the cleaning chamber 22 is neutralized by the ionizer 25, the foreign matter adhering to the surface of the reticle 1 can be reliably peeled off by jetting nitrogen gas.
Further, since the nitrogen gas supply pipe 75 and the exhaust duct 78 are arranged one by one in the front and rear, both surfaces of the reticle 1 can be cleaned simultaneously.
Moreover, since the nitrogen gas supply pipe 75 and the exhaust duct 78 are reciprocated in the left-right direction, foreign matter on the entire surface of the reticle 1 can be reliably cleaned.
Further, since the cleaning of the surface of the reticle 1 is executed by jetting nitrogen gas, the pellicle is damaged even when the pellicle 1a (see the imaginary line in FIG. 8) is stretched on the surface of the reticle 1. And can be cleaned safely.

異物除去装置７０によるクリーニングが終了すると、レチクル姿勢変更装置５０の水平軸モータ５８が作動して、水平回転軸６１を９０度回動させることにより、レチクル１を垂直姿勢から水平姿勢に戻す。
次いで、照明装置９４によってレチクル１が照明される。
この照明下で、レチクル姿勢変更装置５０がジョイステック１６の操作によって制御されることにより、レチクル１の姿勢が適宜に変更される。
レチクル１の表面に異物が残存していた場合には、この姿勢変更時のレチクル１への照明具合によって異物での乱反射が発生するために、残存した異物は目視によって容易に発見することができる。
万一、レチクル１の表面に異物が残存していた場合には、手動式異物除去装置８１によって窒素ガスを発見した異物に噴射して除去する。 When the cleaning by the foreign substance removing device 70 is completed, the horizontal axis motor 58 of the reticle posture changing device 50 is operated to rotate the horizontal rotation shaft 61 by 90 degrees, thereby returning the reticle 1 from the vertical posture to the horizontal posture.
Next, the reticle 1 is illuminated by the illumination device 94.
Under this illumination, the reticle attitude changing device 50 is controlled by the operation of the joystick 16, whereby the attitude of the reticle 1 is appropriately changed.
If foreign matter remains on the surface of the reticle 1, irregular reflection is caused by the foreign matter due to the lighting condition of the reticle 1 when the posture is changed, so that the remaining foreign matter can be easily found visually. .
In the unlikely event that foreign matter remains on the surface of the reticle 1, the manual foreign matter removing device 81 ejects nitrogen gas to the found foreign matter and removes it.

クリーニング状況の確認作業が終了すると、前述とは逆の作動により、レチクル移載装置４０がレチクル姿勢変更装置５０からレチクル１を受け取って、レチクル出し入れ装置３０に搬送し、レチクル出し入れ装置３０で待機している元の第二種ケース６内に挿入して戻す。 When the confirmation of the cleaning status is completed, the reticle transfer device 40 receives the reticle 1 from the reticle attitude changing device 50, transports it to the reticle loading / unloading device 30 and waits at the reticle loading / unloading device 30. Insert it back into the original second type case 6.

なお、本発明は前記実施の形態に限定されるものではなく、その要旨を逸脱しない範囲で種々に変更が可能であることはいうまでもない。 Needless to say, the present invention is not limited to the above-described embodiment, and various modifications can be made without departing from the scope of the invention.

例えば、レチクル出し入れ装置３０は第一種ケース２と第二種ケース６とを取り扱えるように構成するに限らず、第一種ケース２と第二種ケース６とのいずれかを取り扱えるように構成してもよい。 For example, the reticle loading / unloading device 30 is configured not only to handle the first type case 2 and the second type case 6 but also to handle either the first type case 2 or the second type case 6. May be.

異物除去装置によってレチクルを確実にクリーニングすることができるので、照明装置や手動異物除去装置は省略してもよい。 Since the reticle can be reliably cleaned by the foreign matter removing device, the illumination device and the manual foreign matter removing device may be omitted.

本発明の一実施の形態であるレチクルクリーニング装置の外観を示す斜視図である。It is a perspective view which shows the external appearance of the reticle cleaning apparatus which is one embodiment of this invention. その正面断面図である。It is the front sectional drawing. その側面断面図である。FIG. その平面断面図である。FIG. レチクル出し入れ装置を示す斜視図である。It is a perspective view which shows a reticle taking-in / out apparatus. （ａ）はその正面図、（ｂ）はその平面図、（ｃ）はその側面図である。(A) is the front view, (b) is the top view, and (c) is the side view. レチクル移載装置を示し、（ａ）は平面図、（ｂ）は正面図である。The reticle transfer device is shown, wherein (a) is a plan view and (b) is a front view. 同じく、側面図である。Similarly, it is a side view. レチクル姿勢変更装置を示しており、（ａ）は正面断面図、（ｂ）は一部切断平面図である。1 shows a reticle attitude changing device, where (a) is a front sectional view and (b) is a partially cut plan view. 同じく、（ａ）は側面図、（ｂ）は（ａ）のｂ−ｂ矢視図である。Similarly, (a) is a side view and (b) is a bb arrow view of (a). 異物除去装置を示す正面図である。It is a front view which shows a foreign material removal apparatus. 同じく側面断面図である。It is side surface sectional drawing similarly. 同じく斜視図である。It is a perspective view similarly. 手動式異物除去装置を示しており、（ａ）は正面図、（ｂ）は平面図、（ｃ）は側面断面図である。The manual foreign material removal apparatus is shown, (a) is a front view, (b) is a top view, (c) is a side sectional view. 同じく斜視図である。It is a perspective view similarly. 全体のレイアウトを示す斜視図である。It is a perspective view which shows the whole layout.

符号の説明Explanation of symbols

１…レチクル（拡大ホトマスク）、２…第一種ケース（第一機種のレチクルケース）、３…本体、４…蓋体、５…押さえ、６…第二種ケース（第二機種のレチクルケース）、７…本体、８…蓋体、９…支柱、１０…レチクルクリーニング装置、１１…筐体、１２…覗き部、１３…下側カバー、１４…操作盤、１５…ディスプレイ、１６…ジョイステック、１７…緊急停止ボタン、１８…レチクルケース出し入れ口、２０…筐体の内部空間、２１…ベース板、２１ａ…パンチング孔、２１ｂ…挿通孔、２１ｃ…取付孔、２１ｄ…挿通孔、２２…クリーニング室、２３…機械室、２３ａ…通風口、２４…クリーンユニット、２５…イオナイザ、３０…レチクル出し入れ装置、３１…機枠、３２…第一種ケース受け、３３…エアシリンダ装置、３４…昇降台、３５…ストッパ解除エアシリンダ装置、３６…第二種ケース受け、３７…ロータリーアクチュエータ、３８…係合爪、３９…第二種ケース押さえ、４０…レチクル移載装置、４１…Ｘ軸リニアアクチュエータ、４１ａ…スライダ、４２…Ｚ軸リニアアクチュエータ、４２ａ…昇降台、４３…昇降バー、４４…受けアーム、４５…支持バー、４５ａ…突起部、５０…レチクル姿勢変更装置、５１…垂直軸モータ、５２…原動側プーリー、５３…軸受、５４…垂直回転軸、５５…従動側プーリー、５６…タイミングベルト、５７…アーム、５８…水平軸モータ、５９…原動側プーリー、６０…垂直バー、６１…水平回転軸、６２…従動側プーリー、６３…タイミングベルト、６４、６５、６９…カバー、６６…ホルダ、６７…グリップ、６８…チャッキング装置、７０…異物除去装置、７１…Ｘ軸リニアアクチュエータ、７１ａ…スライダ、７２…Ｚ軸リニアアクチュエータ、７２ａ…昇降台、７３…昇降バー、７４…取付板、７５…窒素ガス供給管、７６…噴射ノズル（噴射手段）、７７…窒素ガス供給チューブ、７８…排気ダクト（吸引手段）、７９…吸引口、８０…排気チューブ、８１…手動式異物除去装置、８２…支持台、８３…回転軸、８４…ガイドレール、８５…スライダ、８６…噴射ノズル、８７…窒素ガス供給チューブ、８８…ロッド、８９…握り、９０…エアシリンダ装置、９１…位置決めピン、９２…位置決めリング、９３…スタンド、９４…照明装置、９５…排気ダクト。 DESCRIPTION OF SYMBOLS 1 ... Reticle (enlarged photomask), 2 ... First type case (first type reticle case), 3 ... Main body, 4 ... Lid, 5 ... Presser, 6 ... Second type case (second type reticle case) , 7 ... Main body, 8 ... Cover, 9 ... Post, 10 ... Reticle cleaning device, 11 ... Housing, 12 ... Peeping part, 13 ... Lower cover, 14 ... Control panel, 15 ... Display, 16 ... Joystick DESCRIPTION OF SYMBOLS 17 ... Emergency stop button, 18 ... Reticle case entrance / exit, 20 ... Internal space of housing | casing, 21 ... Base board, 21a ... Punching hole, 21b ... Insertion hole, 21c ... Mounting hole, 21d ... Insertion hole, 22 ... Cleaning chamber 23 ... Machine room, 23a ... Ventilation port, 24 ... Clean unit, 25 ... Ionizer, 30 ... Reticle take-in / out device, 31 ... Machine frame, 32 ... First class case receiver, 33 ... Air cylinder device, 34 Elevator, 35 ... Stopper release air cylinder device, 36 ... Second type case receiver, 37 ... Rotary actuator, 38 ... Engagement claw, 39 ... Second type case holder, 40 ... Reticle transfer device, 41 ... X-axis linear Actuator, 41a ... Slider, 42 ... Z-axis linear actuator, 42a ... Elevating table, 43 ... Elevating bar, 44 ... Receiving arm, 45 ... Support bar, 45a ... Projection, 50 ... Reticle attitude changing device, 51 ... Vertical axis motor , 52 ... Driving pulley, 53 ... Bearing, 54 ... Vertical rotating shaft, 55 ... Driven pulley, 56 ... Timing belt, 57 ... Arm, 58 ... Horizontal shaft motor, 59 ... Driving pulley, 60 ... Vertical bar, 61 ... Horizontal rotating shaft, 62 ... Drive-side pulley, 63 ... Timing belt, 64, 65, 69 ... Cover, 66 ... Holder, 67 ... Grip 68 ... Chucking device, 70 ... Foreign matter removing device, 71 ... X-axis linear actuator, 71a ... Slider, 72 ... Z-axis linear actuator, 72a ... Lifting platform, 73 ... Lift bar, 74 ... Mounting plate, 75 ... Nitrogen gas supply Pipe 76, injection nozzle (injection means), 77 ... nitrogen gas supply tube, 78 ... exhaust duct (suction means), 79 ... suction port, 80 ... exhaust tube, 81 ... manual foreign matter removing device, 82 ... support base, DESCRIPTION OF SYMBOLS 83 ... Rotating shaft, 84 ... Guide rail, 85 ... Slider, 86 ... Injection nozzle, 87 ... Nitrogen gas supply tube, 88 ... Rod, 89 ... Grip, 90 ... Air cylinder apparatus, 91 ... Positioning pin, 92 ... Positioning ring, 93 ... Stand, 94 ... Lighting device, 95 ... Exhaust duct.

Claims

レチクルに付着した異物を除去するレチクルクリーニング装置であって、
クリーニング室において垂直状態に保持された前記レチクルに気体を噴射する噴射手段と、前記レチクルに噴射した前記気体を前記異物と共に吸引する吸引手段とを備えていることを特徴とするレチクルクリーニング装置。 A reticle cleaning device that removes foreign matter adhering to a reticle,
A reticle cleaning apparatus comprising: an injection unit that injects a gas onto the reticle held in a vertical state in a cleaning chamber; and a suction unit that sucks the gas injected into the reticle together with the foreign matter.

前記噴射手段および前記吸引手段と前記レチクルとは、相対的に平行移動するように構成されていることを特徴とする請求項１に記載のレチクルクリーニング装置。 The reticle cleaning apparatus according to claim 1, wherein the ejection unit, the suction unit, and the reticle are configured to relatively move in parallel.

前記噴射手段および前記吸引手段は、前記レチクルの両面を同時にクリーニングするように構成されていることを特徴とする請求項１または２に記載のレチクルクリーニング装置。 The reticle cleaning apparatus according to claim 1, wherein the ejection unit and the suction unit are configured to simultaneously clean both surfaces of the reticle.

前記クリーニング室の雰囲気がイオナイザによって静電気的に中和されるとともに、前記クリーニング室にクリーンエアがダウンブローに供給されることを特徴とする請求項１、２または３に記載のレチクルクリーニング装置。 4. The reticle cleaning apparatus according to claim 1, wherein the atmosphere of the cleaning chamber is electrostatically neutralized by an ionizer, and clean air is supplied to the cleaning chamber in a down blow.