JP2007171271A - Method for manufacturing electrophotographic photoreceptor, electrophotographic photoreceptor, process cartridge, and image forming apparatus - Google Patents

Method for manufacturing electrophotographic photoreceptor, electrophotographic photoreceptor, process cartridge, and image forming apparatus Download PDF

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Abstract

<P>PROBLEM TO BE SOLVED: To provide a method for manufacturing an electrophotographic photoreceptor in which when a photosensitive layer is formed by a dip coating method, thickening of the photosensitive layer on a lower end of a substrate, blister formation, and film peeling can be prevented. <P>SOLUTION: The method for manufacturing an electrophotographic photoreceptor comprising a cylindrical conductive substrate and a photosensitive layer comprising one or more functional layers formed on the substrate, includes: a chamfer forming step of forming a chamfer on the surface side of one end of a substrate; and a photosensitive layer forming step of forming a photosensitive layer through a step of forming a functional layer by a dip coating method in which the substrate with the formed chamfer is dipped in a coating liquid for forming a functional layer from the one end side, wherein the chamfer forming step and the photosensitive layer forming step are carried out so that the value (D/W) [mm<SP>-1</SP>] is made ≤0.2, wherein W is the chamfer area [mm<SP>2</SP>] of the chamfer in a cross-sectional form when the substrate is cut in its longitudinal direction, and D is the thickness [mm] of the photosensitive layer. <P>COPYRIGHT: (C)2007,JPO&INPIT

Description

本発明は、電子写真感光体の製造方法、電子写真感光体、プロセスカートリッジ及び画像形成装置に関する。   The present invention relates to an electrophotographic photoreceptor manufacturing method, an electrophotographic photoreceptor, a process cartridge, and an image forming apparatus.

一般に、電子写真感光体（以下、場合により単に「感光体」という）は、円筒状導電性基体（以下、場合により単に「基体」という）の外周面に感光層材料を含む塗布液等を塗布し、感光層等の膜を形成させることにより製造されている。そして、塗布液の塗布方法としては、通常、塗布槽に収容された塗布液に、基体の長手方向を垂直にして基体を所定の深さまで浸漬した後、塗布液から引き上げ、次いで、引き上げた基体を乾燥する浸漬塗布法が広く採用されている。   In general, an electrophotographic photoreceptor (hereinafter simply referred to as “photoreceptor”) is coated with a coating solution containing a photosensitive layer material on the outer peripheral surface of a cylindrical conductive substrate (hereinafter simply referred to as “substrate”). However, it is manufactured by forming a film such as a photosensitive layer. As a coating method of the coating solution, the substrate is usually immersed in the coating solution stored in the coating tank so that the longitudinal direction of the substrate is vertical to a predetermined depth, and then lifted from the coating solution. A dip coating method for drying is widely used.

浸漬塗布法により塗布液の塗布を行う場合、基体表面に形成される塗膜の膜厚を上下方向（基体の引き上げ方向）に沿って均一とすることが望ましい。そこで、塗布液の溶媒として、通常、乾燥性の良好な溶媒が用いられる。しかし、速乾性の溶媒を用いても、浸漬塗布方法では塗布液の液だれが生じて基体の下端部に液溜りが形成され、塗膜の乾燥後に下端部の感光層が厚膜化してしまう。このように下端部の感光層が厚膜化した感光体を用いて画像形成を行った場合、画像形成装置内で感光層の厚膜化した部分と他の部材とが接触するという問題が生じる。特に、画像形成装置がクリーニング装置を備えるものである場合には、感光層の厚膜化した部分とクリーニング部材との接触によりクリーニングブレードの変形、欠け、めくれ、へたり等が生じたり、感光層の厚膜化した部分が剥離起点となって感光層の剥がれが生じたりといった問題が起こりやすくなる。また、このように下端部が厚膜化した感光層を有する感光体は、現像システムに対しても悪影響を及ぼすこととなる。   When the coating solution is applied by the dip coating method, it is desirable that the film thickness of the coating film formed on the substrate surface be uniform along the vertical direction (the substrate pulling direction). Therefore, a solvent having good drying properties is usually used as a solvent for the coating solution. However, even if a fast-drying solvent is used, in the dip coating method, a dripping of the coating liquid occurs, a liquid pool is formed at the lower end portion of the substrate, and the photosensitive layer at the lower end portion becomes thick after the coating film is dried. . Thus, when image formation is performed using a photosensitive member having a thick photosensitive layer at the lower end, there is a problem that the thickened portion of the photosensitive layer contacts another member in the image forming apparatus. . In particular, when the image forming apparatus includes a cleaning device, the cleaning blade may be deformed, chipped, turned, or sagged by contact between the thickened portion of the photosensitive layer and the cleaning member. The thickened part of the film becomes a starting point of peeling, and a problem such as peeling of the photosensitive layer is likely to occur. In addition, such a photoreceptor having a photosensitive layer with a thickened lower end portion also adversely affects the developing system.

そこで、これらの問題を改善するために、感光層の厚膜化した部分を、基体の下端部に設けた回転ブラシを利用して溶剤で拭き取る方法、及び溶剤を含ませたテープを用いて拭き取る方法等が提案されている（例えば、特許文献１参照）。また、感光層の下端部を厚膜化させない方法として、基体の下端部が塗布液から離れる直前に、それまでの引き上げ速度の１／３以下の速度で引き上げる方法が提案されている（例えば、特許文献２参照）。更に、感光層の下端部を厚膜化させない方法として、円筒状基体の表面側端部を角除去する方法が提案されている（例えば、特許文献３参照）。
特開昭６０−１９４４５９号公報 特開平３−２５５４５１号公報 特開平１０−１９８０５８号公報 Therefore, in order to improve these problems, a method of wiping the thickened portion of the photosensitive layer with a solvent using a rotating brush provided at the lower end portion of the substrate, and wiping with a tape containing a solvent. A method or the like has been proposed (see, for example, Patent Document 1). In addition, as a method for preventing the lower end portion of the photosensitive layer from being thickened, a method has been proposed in which the lower end portion of the substrate is pulled up at a speed equal to or lower than 1/3 of the pulling speed up to that point (for example, Patent Document 2). Further, as a method for preventing the lower end portion of the photosensitive layer from being thickened, a method for removing the corners on the surface side end portion of the cylindrical substrate has been proposed (for example, see Patent Document 3).
Japanese Patent Application Laid-Open No. 60-194459 JP-A-3-255451 JP-A-10-198058

しかしながら、上記特許文献１に記載された方法では、感光体の製造工程数が増加するという欠点がある。また、上記特許文献１に記載された方法では、感光層の厚膜化した部分を拭き取るために円筒状基体に余分な長さが必要となって装置の小型化に対応しにくいとともに、拭き取り部近傍の感光層に対して悪影響を及ぼし、感光層における画像形成に使用可能な領域が減少してしまうという欠点がある。   However, the method described in Patent Document 1 has a drawback that the number of manufacturing steps of the photoreceptor increases. Further, in the method described in Patent Document 1, an extra length is required for the cylindrical base to wipe off the thickened portion of the photosensitive layer, and it is difficult to reduce the size of the apparatus. There is a drawback in that the adjacent photosensitive layer is adversely affected, and the usable area for image formation in the photosensitive layer is reduced.

また、上記特許文献２及び３に記載された方法であっても、感光層の厚膜化を抑制する効果は必ずしも十分とはいえず、実用に供し得るためには更なる改善の余地がある。特に、膜厚の厚い塗膜を形成する場合には液溜りの発生量が増大するため、基体の下端部における感光層の厚膜化を防止することが困難になるとともに、更に下端部の感光層に気泡や膜剥がれが発生しやすくなる。   Further, even with the methods described in Patent Documents 2 and 3, the effect of suppressing the increase in the thickness of the photosensitive layer is not always sufficient, and there is room for further improvement in order to provide practical use. . In particular, when a thick coating film is formed, the amount of liquid pool increases, which makes it difficult to prevent the photosensitive layer from becoming thicker at the lower end portion of the substrate, and to further reduce the photosensitivity at the lower end portion. Bubbles and film peeling are likely to occur in the layer.

本発明は、このような実情に鑑みてなされたものであり、浸漬塗布法により感光層を形成するに際し、基体の下端部における感光層の厚膜化、気泡及び膜剥がれの発生を十分に防止することが可能な電子写真感光体の製造方法、電子写真感光体、並びにその電子写真感光体を用いたプロセスカートリッジ及び画像形成装置を提供することを目的とする。   The present invention has been made in view of such circumstances, and when forming a photosensitive layer by a dip coating method, the photosensitive layer is sufficiently thickened at the lower end of the substrate, and bubbles and film peeling are sufficiently prevented. It is an object of the present invention to provide a method for producing an electrophotographic photosensitive member, an electrophotographic photosensitive member, and a process cartridge and an image forming apparatus using the electrophotographic photosensitive member.

上記目的を達成するために、本発明は、円筒状導電性基体と、該円筒状導電性基体上に形成された１層以上の機能層からなる感光層と、を備える電子写真感光体の製造方法であって、上記円筒状導電性基体の少なくとも一端の表面側に面取り部を形成する面取り部形成工程と、上記面取り部が形成された上記円筒状導電性基体を上記一端側から上記機能層を形成するための塗布液に浸漬した後、引き上げることにより上記円筒状導電性基体上に塗膜を形成せしめ、次いで、該塗膜を乾燥することにより上記機能層を形成する工程を経て、上記感光層を形成する感光層形成工程と、を含み、上記円筒状導電性基体をその長さ方向に切断した場合の断面形状における上記面取り部の面取り面積をＷ［ｍｍ２］、上記感光層の膜厚をＤ［ｍｍ］として、（Ｄ／Ｗ）［ｍｍ−１］の値が０．２以下となるように上記面取り部形成工程及び上記感光層形成工程を行うことを特徴とする電子写真感光体の製造方法を提供する。 In order to achieve the above object, the present invention provides an electrophotographic photosensitive member comprising a cylindrical conductive substrate and a photosensitive layer comprising one or more functional layers formed on the cylindrical conductive substrate. A chamfered portion forming step of forming a chamfered portion on the surface side of at least one end of the cylindrical conductive substrate; and the cylindrical conductive substrate having the chamfered portion formed from the one end side to the functional layer. After being immersed in a coating solution for forming a coating film, the coating film is formed on the cylindrical conductive substrate by pulling up, and then the coating film is dried to form the functional layer. A photosensitive layer forming step of forming a photosensitive layer, wherein the chamfered area of the chamfered portion in a cross-sectional shape when the cylindrical conductive substrate is cut in the longitudinal direction is W [mm 2 ], The film thickness is D [mm] Te, provides (D / W) method for producing a photoreceptor value for [mm -1] is characterized in that performing the chamfer forming step and the photosensitive layer forming step such that 0.2 or less To do.

上記本発明の電子写真感光体の製造方法においては、円筒状導電性基体の一端に面取り部を形成し、且つ、その面取り部の面取り面積を、形成する感光層の膜厚に対応させて調節することにより、上記のように基体を塗布液に浸漬する浸漬塗布法により膜厚の厚い塗膜を形成する場合であっても、塗布液からの基体の引き上げ時に基体と塗布液とが離れる際のキレが向上し、基体の下端部（浸漬塗布法において塗布液にはじめに浸漬する側の端部）における感光層の厚膜化、気泡及び膜剥がれの発生を十分に防止することができる。   In the method for producing an electrophotographic photosensitive member of the present invention, a chamfered portion is formed at one end of a cylindrical conductive substrate, and the chamfered area of the chamfered portion is adjusted according to the film thickness of the photosensitive layer to be formed. Even when a thick coating film is formed by the dip coating method in which the substrate is immersed in the coating solution as described above, the substrate and the coating solution are separated when the substrate is lifted from the coating solution. As a result, the thickness of the photosensitive layer at the lower end of the substrate (the end on the side first immersed in the coating solution in the dip coating method), the generation of bubbles and film peeling can be sufficiently prevented.

ここで、上記感光層の厚膜化とは、基体の下端部における感光層表面が、それ以外の部分の感光層表面よりも出っ張ることを意味する。また、上記感光層が複数の機能層からなるものである場合、これら複数の機能層はそれぞれ上記浸漬塗布法により形成され、且つ、上記感光層の膜厚は、これら複数の機能層の膜厚を合計した値を意味する。但し、基体上に浸漬塗布法以外の方法により層が形成される場合、その層は本発明における機能層には含まないものとし、その層の膜厚は上記感光層の膜厚に含まないものとする。また、上記感光層の膜厚とは、基体の下端部以外の部分の感光層の膜厚を意味する。更に、上記面取り面積とは、基体の断面形状において、面取り部が形成されていない状態の基体表面側端部の角から面取りにより除去された部分の面積を意味する。   Here, the thickening of the photosensitive layer means that the surface of the photosensitive layer at the lower end of the substrate protrudes from the surface of the photosensitive layer at other portions. When the photosensitive layer is composed of a plurality of functional layers, the plurality of functional layers are respectively formed by the dip coating method, and the film thickness of the photosensitive layer is the film thickness of the plurality of functional layers. Means the sum of However, when a layer is formed on the substrate by a method other than the dip coating method, the layer is not included in the functional layer in the present invention, and the thickness of the layer is not included in the thickness of the photosensitive layer. And The film thickness of the photosensitive layer means the film thickness of the photosensitive layer at a portion other than the lower end of the substrate. Further, the chamfered area means an area of a portion removed by chamfering from a corner of the base surface side end portion in a state where the chamfered portion is not formed in the cross-sectional shape of the base.

また、上記面取り部形成工程において、上記面取り部の上記円筒状導電性基体の長さ方向の面取り幅をａ［ｍｍ］、上記円筒状導電性基体の厚さ方向の面取り幅をｂ［ｍｍ］として、（ａ／ｂ）の値が１．２以上となるように上記面取り部を形成することが好ましい。   In the chamfered portion forming step, the chamfered width of the cylindrical conductive substrate in the longitudinal direction of the chamfered portion is a [mm], and the chamfered width of the cylindrical conductive substrate is b [mm]. The chamfered portion is preferably formed so that the value of (a / b) is 1.2 or more.

ここで、（ａ／ｂ）の値が１．２未満となる形状で面取り部を形成した場合、基体の厚さ方向の面取り幅ｂが大きくなるため、特に感光層の膜厚を大きくした場合に、面取り部における基体の最小厚さが小さくなり、基体の機械強度が不十分となる場合がある。これに対し、上記のように（ａ／ｂ）の値が１．２以上となる形状で面取り部を形成することにより、感光層の膜厚を大きくした場合であっても、面取り部における基体の最小厚さを十分なものとすることができ、基体の機械強度を十分なものとすることができる。   Here, when the chamfered portion is formed in a shape in which the value of (a / b) is less than 1.2, the chamfer width b in the thickness direction of the substrate is increased, and therefore, particularly when the film thickness of the photosensitive layer is increased. In addition, the minimum thickness of the substrate in the chamfered portion may be reduced, and the mechanical strength of the substrate may be insufficient. On the other hand, even if the film thickness of the photosensitive layer is increased by forming the chamfered portion with a shape in which the value of (a / b) is 1.2 or more as described above, the substrate in the chamfered portion is The minimum thickness of the substrate can be sufficient, and the mechanical strength of the substrate can be sufficient.

また、上記面取り部形成工程において、上記面取り部における上記円筒状導電性基体の最小の厚さが０．３ｍｍ以上となるように上記面取り部を形成することが好ましい。かかる条件を満たすように面取り部を形成することにより、基体の機械強度を十分なものとすることができる。   In the chamfered portion forming step, the chamfered portion is preferably formed so that a minimum thickness of the cylindrical conductive substrate in the chamfered portion is 0.3 mm or more. By forming the chamfered portion so as to satisfy this condition, the mechanical strength of the substrate can be made sufficient.

また、上記感光層が電荷輸送層を機能層として含む場合には、乾燥後の電荷輸送層の膜厚と乾燥前の電荷輸送層の塗膜の膜厚との比（乾燥後の膜厚／乾燥前の膜厚）が０．１５〜０．３５となるように上記感光層形成工程を行うことが好ましい。かかる条件は、例えば塗布液の粘度や固形分濃度を調節することで満たすことができ、塗布液の液粘度は５０〜１０００ｍＰａ・ｓとすることが好ましい。   When the photosensitive layer includes a charge transport layer as a functional layer, the ratio of the thickness of the charge transport layer after drying to the thickness of the coating film of the charge transport layer before drying (film thickness after drying / The photosensitive layer forming step is preferably performed so that the film thickness before drying) is 0.15 to 0.35. Such conditions can be satisfied, for example, by adjusting the viscosity and solid content concentration of the coating liquid, and the liquid viscosity of the coating liquid is preferably 50 to 1000 mPa · s.

本発明はまた、円筒状導電性基体と、該円筒状導電性基体上に形成された１層以上の機能層からなる感光層と、を備える電子写真感光体であって、上記円筒状導電性基体は、少なくともその一端の表面側に面取り部を有しており、上記感光層は、上記面取り部を有する上記円筒状導電性基体を上記一端側から上記機能層を形成するための塗布液に浸漬した後、引き上げることにより上記円筒状導電性基体上に塗膜を形成せしめ、次いで、該塗膜を乾燥することにより上記機能層を形成する工程を経て形成されたものであり、上記円筒状導電性基体をその長さ方向に切断した場合の断面形状における上記面取り部の面取り面積をＷ［ｍｍ２］、上記感光層の膜厚をＤ［ｍｍ］として、（Ｄ／Ｗ）［ｍｍ−１］の値が０．２以下であることを特徴とする電子写真感光体を提供する。 The present invention is also an electrophotographic photoreceptor comprising a cylindrical conductive substrate and a photosensitive layer comprising one or more functional layers formed on the cylindrical conductive substrate, wherein the cylindrical conductive substrate The substrate has a chamfered portion at least on the surface side of one end thereof, and the photosensitive layer forms a coating liquid for forming the functional layer from the one end side of the cylindrical conductive substrate having the chamfered portion. After dipping, the coating film is formed on the cylindrical conductive substrate by pulling up, and then formed through a step of forming the functional layer by drying the coating film. When the conductive substrate is cut in the length direction, the chamfered area of the chamfered portion in the cross-sectional shape is W [mm 2 ], the film thickness of the photosensitive layer is D [mm], and (D / W) [mm − 1 ] is 0.2 or less. An electrophotographic photosensitive member is provided.

かかる電子写真感光体は、基体に上記面取り部が形成されているため、基体の下端部における感光層の厚膜化、気泡及び膜剥がれの発生が十分に防止されている。そのため、かかる電子写真感光体を画像形成装置に搭載した場合、感光層の下端部と他の部材との接触による不具合の発生や、画像形成装置がクリーニング装置を備える場合において、感光層の下端部とクリーニング部材とが接触して互いに損傷するといった問題が生じない。また、かかる電子写真感光体は、厚膜化、気泡及び膜剥がれの発生が十分に抑制されているため、これを用いる画像形成装置の設計上の小型化を実現することが可能となる。   In such an electrophotographic photosensitive member, since the chamfered portion is formed on the substrate, the photosensitive layer at the lower end portion of the substrate is sufficiently prevented from being thickened and from causing bubbles and film peeling. Therefore, when such an electrophotographic photosensitive member is mounted on an image forming apparatus, troubles due to contact between the lower end portion of the photosensitive layer and other members, or when the image forming apparatus includes a cleaning device, the lower end portion of the photosensitive layer is provided. There is no problem of contact between the cleaning member and the cleaning member. In addition, since the electrophotographic photosensitive member is sufficiently prevented from being thickened and generating bubbles and film peeling, it is possible to realize a reduction in design of an image forming apparatus using the electrophotographic photosensitive member.

また、上記電子写真感光体において、上記面取り部の上記円筒状導電性基体の長さ方向の面取り幅をａ［ｍｍ］、上記円筒状導電性基体の厚さ方向の面取り幅をｂ［ｍｍ］として、（ａ／ｂ）の値が１．２以上であることが好ましい。これにより、感光層の膜厚を大きくした場合であっても、面取り部における基体の最小厚さを十分に確保することができ、基体の機械強度を十分なものとすることができる。   In the electrophotographic photosensitive member, the chamfer width of the chamfered portion in the length direction of the cylindrical conductive substrate is a [mm], and the chamfer width of the cylindrical conductive substrate in the thickness direction is b [mm]. As for (a / b), it is preferable that the value is 1.2 or more. Thereby, even when the film thickness of the photosensitive layer is increased, the minimum thickness of the substrate at the chamfered portion can be sufficiently secured, and the mechanical strength of the substrate can be made sufficient.

また、上記電子写真感光体において、上記面取り部における上記円筒状導電性基体の最小の厚さが０．３ｍｍ以上であることが好ましい。これにより、基体の機械強度を十分なものとすることができる。   In the electrophotographic photoreceptor, it is preferable that a minimum thickness of the cylindrical conductive substrate in the chamfered portion is 0.3 mm or more. Thereby, the mechanical strength of the substrate can be made sufficient.

本発明はまた、上記本発明の電子写真感光体と、上記電子写真感光体を帯電させるための帯電手段、上記電子写真感光体に形成された静電潜像をトナーにより現像してトナー像を形成するための現像手段、及び、上記電子写真感光体の表面に残存したトナーを除去するためのクリーニング手段からなる群より選ばれる少なくとも一種と、を備えることを特徴とするプロセスカートリッジを提供する。   The present invention also provides the electrophotographic photosensitive member of the present invention, charging means for charging the electrophotographic photosensitive member, and developing the electrostatic latent image formed on the electrophotographic photosensitive member with toner to form a toner image. There is provided a process cartridge comprising: a developing unit for forming; and at least one selected from the group consisting of a cleaning unit for removing toner remaining on the surface of the electrophotographic photosensitive member.

本発明は更に、上記本発明の電子写真感光体と、上記電子写真感光体を帯電させるための帯電手段と、帯電した上記電子写真感光体に静電潜像を形成するための露光手段と、上記静電潜像をトナーにより現像してトナー像を形成するための現像手段と、上記トナー像を上記電子写真感光体から被転写体に転写するための転写手段と、を備えることを特徴とする画像形成装置を提供する。   The present invention further includes the electrophotographic photosensitive member of the present invention, a charging unit for charging the electrophotographic photosensitive member, an exposure unit for forming an electrostatic latent image on the charged electrophotographic photosensitive member, And developing means for developing the electrostatic latent image with toner to form a toner image, and transfer means for transferring the toner image from the electrophotographic photosensitive member to a transfer target. An image forming apparatus is provided.

本発明のプロセスカートリッジ及び画像形成装置によれば、上述した本発明の電子写真感光体を用いているため、装置の小型化を実現することができるとともに、電子写真感光体やクリーニング装置等の各部材の損傷を防ぎ、装置の長寿命化を実現することができる。   According to the process cartridge and the image forming apparatus of the present invention, since the above-described electrophotographic photosensitive member of the present invention is used, the apparatus can be reduced in size, and each of the electrophotographic photosensitive member, the cleaning device, and the like can be realized. It is possible to prevent the member from being damaged and to extend the life of the apparatus.

本発明によれば、浸漬塗布法により感光層を形成するに際し、基体の下端部における感光層の厚膜化、気泡及び膜剥がれの発生を十分に防止することが可能な電子写真感光体の製造方法、電子写真感光体、並びにその電子写真感光体を用いたプロセスカートリッジ及び画像形成装置を提供することができる。   According to the present invention, when a photosensitive layer is formed by a dip coating method, an electrophotographic photosensitive member capable of sufficiently preventing the occurrence of thickening of the photosensitive layer, bubbles, and film peeling at the lower end portion of the substrate is produced. A method, an electrophotographic photosensitive member, and a process cartridge and an image forming apparatus using the electrophotographic photosensitive member can be provided.

以下、図面を参照しながら本発明の好適な実施形態について詳細に説明する。なお、図面中、同一又は相当部分には同一符号を付し、重複する説明は省略する。また、上下左右等の位置関係は、特に断らない限り、図面に示す位置関係に基づくものとする。更に、図面の寸法比率は図示の比率に限られるものではない。   Hereinafter, preferred embodiments of the present invention will be described in detail with reference to the drawings. In the drawings, the same or corresponding parts are denoted by the same reference numerals, and redundant description is omitted. Further, the positional relationship such as up, down, left and right is based on the positional relationship shown in the drawings unless otherwise specified. Further, the dimensional ratios in the drawings are not limited to the illustrated ratios.

（電子写真感光体の製造方法及び電子写真感光体）
本発明の電子写真感光体の製造方法は、円筒状導電性基体と、該円筒状導電性基体上に形成された１層以上の機能層からなる感光層と、を備える電子写真感光体の製造方法であって、上記円筒状導電性基体の少なくとも一端の表面側に面取り部を形成する面取り部形成工程と、上記面取り部が形成された上記円筒状導電性基体を上記一端側から上記機能層を形成するための塗布液に浸漬した後、引き上げることにより上記円筒状導電性基体上に塗膜を形成せしめ、次いで、該塗膜を乾燥することにより上記機能層を形成する工程を経て、上記感光層を形成する感光層形成工程と、を含み、上記円筒状導電性基体をその長さ方向に切断した場合の断面形状における上記面取り部の面取り面積をＷ［ｍｍ２］、上記感光層の膜厚をＤ［ｍｍ］として、（Ｄ／Ｗ）［ｍｍ−１］の値が０．２以下となるように上記面取り部形成工程及び上記感光層形成工程を行うことを特徴とする方法である。 (Method for producing electrophotographic photoreceptor and electrophotographic photoreceptor)
The method for producing an electrophotographic photosensitive member of the present invention is a method for producing an electrophotographic photosensitive member comprising a cylindrical conductive substrate and a photosensitive layer comprising one or more functional layers formed on the cylindrical conductive substrate. A chamfered portion forming step of forming a chamfered portion on the surface side of at least one end of the cylindrical conductive substrate; and the cylindrical conductive substrate having the chamfered portion formed from the one end side to the functional layer. After being immersed in a coating solution for forming a coating film, the coating film is formed on the cylindrical conductive substrate by pulling up, and then the coating film is dried to form the functional layer. A photosensitive layer forming step of forming a photosensitive layer, wherein the chamfered area of the chamfered portion in a cross-sectional shape when the cylindrical conductive substrate is cut in the longitudinal direction is W [mm 2 ], The film thickness is D [mm] Te is a method which is characterized in that the (D / W) [mm -1 ] value of 0.2 or less and comprising as the chamfered portion forming step and the photosensitive layer formation step.

なお、上記機能層とは、浸漬塗布法により形成される層であって、電子写真感光体の感光層の一部又は全部を構成する層を意味する。かかる機能層には、単層型感光体の場合の単層型感光層、機能分離型感光体の場合の電荷輸送層及び電荷発生層、並びに必要に応じて設けられる下引層及び保護層等のうち、浸漬塗布法により形成される層が包含される。また、機能層を形成するための塗布液（機能層形成用塗布液）は、上記各機能層の構成材料を所定の溶剤に溶解及び／又は分散させたものである。各機能層形成用塗布液については後述する。   In addition, the said functional layer is a layer formed by the dip coating method, Comprising: The layer which comprises a part or all of the photosensitive layer of an electrophotographic photoreceptor is meant. Such functional layers include a single-layer type photosensitive layer in the case of a single-layer type photoreceptor, a charge transport layer and a charge generation layer in the case of a function-separated type photoreceptor, and an undercoat layer and a protective layer that are provided as necessary. Among these, a layer formed by a dip coating method is included. Moreover, the coating liquid for forming a functional layer (coating liquid for forming a functional layer) is obtained by dissolving and / or dispersing the constituent material of each functional layer in a predetermined solvent. Each functional layer forming coating solution will be described later.

本発明の電子写真感光体の製造方法においては、まず、円筒状導電性基体の少なくとも一端の表面側に面取り部を形成する面取り部形成工程を行う。図１〜３は、上記面取り部形成工程において面取りが施された円筒状導電性基体を、その長さ方向に切断した場合の上記一端の断面形状の例を示す部分断面図である。   In the method for producing an electrophotographic photosensitive member of the present invention, first, a chamfered portion forming step of forming a chamfered portion on the surface side of at least one end of the cylindrical conductive substrate is performed. 1 to 3 are partial cross-sectional views showing examples of the cross-sectional shape of the one end when the cylindrical conductive substrate chamfered in the chamfered portion forming step is cut in the length direction.

図１に示す円筒状導電性基体１０３の面取り部１０１は、基体１０３の下端部の表面側の角を、基体１０３表面に対して傾斜した単一の傾斜面１０１ａで面取りした形状を有している。この面取り部１０１の断面形状における面取り面積Ｗ［ｍｍ２］は、基体１０３の長さ方向の面取り幅ａ［ｍｍ］と、基体１０３の厚さ方向の面取り幅ｂ［ｍｍ］とから、例えば、Ｗ＝（ａ×ｂ）／２の計算式により求められる。 The chamfered portion 101 of the cylindrical conductive substrate 103 shown in FIG. 1 has a shape in which the corner on the surface side of the lower end portion of the substrate 103 is chamfered with a single inclined surface 101 a inclined with respect to the surface of the substrate 103. Yes. The chamfering area W [mm 2 ] in the cross-sectional shape of the chamfered portion 101 is determined from, for example, a chamfering width a [mm] in the length direction of the base 103 and a chamfering width b [mm] in the thickness direction of the base 103. It is obtained by the calculation formula of W = (a × b) / 2.

また、図２に示す円筒状導電性基体１０３の面取り部１０１は、基体１０３の下端部の表面側の角を、基体１０３表面側から連続的に、基体１０３表面に対して傾斜した傾斜面１０１ｂと、基体１０３表面と平行な平行面１０１ｃとで面取りした形状を有している。この面取り部１０１の断面形状における面取り面積Ｗ［ｍｍ２］は、基体１０３の長さ方向の面取り幅ａ［ｍｍ］と、基体１０３の厚さ方向の面取り幅ｂ［ｍｍ］と、傾斜面１０１ｂにおける基体１０３の長さ方向の面取り幅ｃ［ｍｍ］とから、例えば、Ｗ＝（ｂ×ｃ）／２＋（ａ−ｃ）×ｂの計算式により求められる。 Further, the chamfered portion 101 of the cylindrical conductive substrate 103 shown in FIG. 2 has an inclined surface 101b in which the surface side corner of the lower end portion of the substrate 103 is continuously inclined from the surface side of the substrate 103 with respect to the surface of the substrate 103. And a chamfered shape with a parallel surface 101c parallel to the surface of the substrate 103. The chamfered area W [mm 2 ] in the cross-sectional shape of the chamfered portion 101 includes a chamfer width a [mm] in the length direction of the base 103, a chamfer width b [mm] in the thickness direction of the base 103, and an inclined surface 101b. From the chamfering width c [mm] in the length direction of the base body 103, for example, it is obtained by a calculation formula of W = (b × c) / 2 + (ac) × b.

更に、図３に示す円筒状導電性基体１０３の面取り部１０１は、基体１０３の下端部の表面側の角を、基体１０３表面側から連続的に、基体１０３表面に対して傾斜した第１の傾斜面１０１ｄと、基体１０３表面と平行な平行面１０１ｅと、基体１０３表面に対して傾斜した第２の傾斜面１０１ｆとで面取りした形状を有している。この面取り部１０１の断面形状における面取り面積Ｗ［ｍｍ２］は、基体１０３の長さ方向の面取り幅ａ［ｍｍ］と、基体１０３の厚さ方向の面取り幅ｂ［ｍｍ］と、第１の傾斜面１０１ｄにおける基体１０３の長さ方向の面取り幅ｃ［ｍｍ］と、第１の傾斜面１０１ｄにおける基体１０３の厚さ方向の面取り幅ｄ［ｍｍ］と、第２の傾斜面１０１ｆにおける基体１０３の長さ方向の面取り幅ｅ［ｍｍ］とから、例えば、Ｗ＝（ｃ×ｄ）／２＋（ａ−ｃ）×ｄ＋｛（ｂ−ｄ）×ｅ｝／２の計算式により求められる。 Further, the chamfered portion 101 of the cylindrical conductive base 103 shown in FIG. 3 is a first chamfered in such a manner that the corner on the surface side of the lower end of the base 103 is continuously inclined from the surface of the base 103 with respect to the surface of the base 103. It has a chamfered shape with an inclined surface 101d, a parallel surface 101e parallel to the surface of the substrate 103, and a second inclined surface 101f inclined with respect to the surface of the substrate 103. The chamfering area W [mm 2 ] in the cross-sectional shape of the chamfered portion 101 includes a chamfering width a [mm] in the length direction of the base 103, a chamfering width b [mm] in the thickness direction of the base 103, and the first The chamfering width c [mm] in the length direction of the base body 103 on the inclined surface 101d, the chamfering width d [mm] in the thickness direction of the base body 103 on the first inclined surface 101d, and the base body 103 on the second inclined surface 101f. For example, W = (c × d) / 2 + (ac) × d + {(bd) × e} / 2.

そして、面取り部形成工程において、面取り部１０１は、その面取り面積Ｗ［ｍｍ２］と、その後の感光層形成工程において形成する感光層の膜厚（各機能層の合計の膜厚）Ｄ［ｍｍ］との比（Ｄ／Ｗ）［ｍｍ−１］の値が０．２以下となるように形成される。この（Ｄ／Ｗ）の値は、０．２以下であることが必要であるが、０．０１〜０．２であることが好ましく、０．０２〜０．１であることがより好ましい。（Ｄ／Ｗ）の値が０．２を超えると、形成する感光層の膜厚Ｄに対して面取り面積Ｗが小さくなり過ぎるため、浸漬塗布の際に発生する液溜りが面取り部１０１に収まらず、塗膜の乾燥後に感光層の厚膜化、気泡及び膜剥がれが発生してしまう。また、（Ｄ／Ｗ）の値が０．０１未満であると、面取り面積Ｗが必要以上に大きくなり、面取り部１０１が形成されている部分の基体１０３の最小厚さが小さくなることによる基体１０３の機械強度の低下を招いたり、基体１０３に余分な長さが必要となって画像形成装置の小型化を妨げる傾向がある。 In the chamfered portion forming step, the chamfered portion 101 has a chamfered area W [mm 2 ] and a photosensitive layer thickness (total thickness of each functional layer) D [mm] formed in the subsequent photosensitive layer forming step. ] (D / W) [mm −1 ] is 0.2 or less. The value of (D / W) needs to be 0.2 or less, preferably 0.01 to 0.2, and more preferably 0.02 to 0.1. If the value of (D / W) exceeds 0.2, the chamfered area W becomes too small with respect to the film thickness D of the photosensitive layer to be formed, so that a liquid pool generated during dip coating is not contained in the chamfered portion 101. In other words, after the coating film is dried, the photosensitive layer becomes thicker, bubbles and film peeling occur. Further, if the value of (D / W) is less than 0.01, the chamfered area W is unnecessarily large, and the minimum thickness of the base 103 in the portion where the chamfered portion 101 is formed becomes small. There is a tendency that the mechanical strength of the image forming apparatus 103 is lowered, or that the base 103 is required to have an extra length, which prevents the image forming apparatus from being downsized.

また、面取り部形成工程において形成する面取り部１０１の形状は、基体１０３の長さ方向の面取り幅ａと基体１０３の厚さ方向の面取り幅ｂとの比（ａ／ｂ）の値が、１．２以上となる形状であることが好ましく、１．２〜１０．０となる形状であることがより好ましく、１．２〜３．０となる形状であることが更に好ましく、１．５〜２．５となる形状であることが特に好ましい。（ａ／ｂ）の値が、１．２未満であると、基体１０３の厚さ方向の面取り幅ｂが大きくなり、特に膜厚の大きい感光層を形成する場合に、面取り部１０１における基体１０３の最小厚さが小さくなり、基体１０３の機械強度が低下する傾向にある。また、（ａ／ｂ）の値が１０．０を超えると、基体１０３の長さ方向の面取り幅ａが大きくなり、基体１０３に余分な長さが必要となるため、画像形成装置の小型化を妨げる傾向にある。   Further, the shape of the chamfered portion 101 formed in the chamfered portion forming step is such that the ratio (a / b) between the chamfered width a in the length direction of the base 103 and the chamfered width b in the thickness direction of the base 103 is 1 .2 or more is preferable, 1.2 to 10.0 is more preferable, 1.2 to 3.0 is more preferable, 1.5 to A shape of 2.5 is particularly preferable. When the value of (a / b) is less than 1.2, the chamfering width b in the thickness direction of the substrate 103 becomes large. When forming a photosensitive layer having a particularly large film thickness, the substrate 103 in the chamfered portion 101 is formed. Therefore, the mechanical strength of the substrate 103 tends to decrease. If the value of (a / b) exceeds 10.0, the chamfering width a in the length direction of the base body 103 becomes large, and an extra length is required for the base body 103, so that the size of the image forming apparatus is reduced. Tend to hinder.

また、面取り部１０１が形成されている部分の基体１０３の最小厚さは、０．３ｍｍ以上であることが好ましく、０．５ｍｍ以上であることがより好ましく、０．７ｍｍ以上であることが更に好ましい。これにより、基体１０３の機械強度を十分なものとすることができる。   Further, the minimum thickness of the base 103 at the portion where the chamfered portion 101 is formed is preferably 0.3 mm or more, more preferably 0.5 mm or more, and further preferably 0.7 mm or more. preferable. Thereby, the mechanical strength of the base 103 can be made sufficient.

面取り部１０１の形成は、公知の切削加工法や研磨加工法等により行うことができる。面取り部１０１が、図１に示すように単一の傾斜面からなる形状を有するものである場合、この面取り部１０１を形成する際の加工が容易であるという利点がある。また、面取り部１０１が、図２又は３に示すように平行面を含む形状を有するものである場合、基体１０３の厚さ方向の面取り幅ｂを小さくすることができ、基体１０３の薄膜化による機械強度の低下を十分に抑制することができる。   The chamfered portion 101 can be formed by a known cutting method or polishing method. When the chamfered portion 101 has a shape composed of a single inclined surface as shown in FIG. 1, there is an advantage that processing when the chamfered portion 101 is formed is easy. Further, when the chamfered portion 101 has a shape including a parallel surface as shown in FIG. 2 or 3, the chamfer width b in the thickness direction of the base body 103 can be reduced. A decrease in mechanical strength can be sufficiently suppressed.

なお、上記面取り部形成工程においては、円筒状導電性基体１０３の両端部に面取り部を形成してもよく、更に、基体１０３の表面側のみならず、内面側にも面取り部を形成してもよい。このように、基体１０３に複数の面取り部を形成する場合、少なくとも基体１０３の一端の表面側に形成する面取り部を上記（Ｄ／Ｗ）の値の条件、及び必要に応じて上記（ａ／ｂ）の値の条件を満たすものとすればよく、他の面取り部の形状は必ずしも限定されない。また、面取り部１０１は、曲面を含む形状を有していてもよい。更に、面取り部１０１は、図１〜３に示す形状において、角部がＲ加工された形状を有していてもよい。例えば、図１に示す形状においては、傾斜面１０１ａと基体１０３表面との接する角、及び、傾斜面１０１ａと基体１０３側面（下端面）との接する角がＲ加工された形状を有していてもよい。   In the chamfered portion forming step, chamfered portions may be formed at both ends of the cylindrical conductive substrate 103. Further, the chamfered portions are formed not only on the surface side of the substrate 103 but also on the inner surface side. Also good. As described above, when a plurality of chamfered portions are formed on the substrate 103, the chamfered portion formed at least on the surface side of one end of the substrate 103 is set to the above (D / W) value condition and, if necessary, the above (a / The shape of the other chamfered portions is not necessarily limited as long as the condition of the value of b) is satisfied. Further, the chamfered portion 101 may have a shape including a curved surface. Further, the chamfered portion 101 may have a shape in which corner portions are R-processed in the shapes shown in FIGS. For example, the shape shown in FIG. 1 has a shape in which the angle between the inclined surface 101a and the surface of the base 103 and the angle between the inclined surface 101a and the side surface (lower end surface) of the base 103 are R-processed. Also good.

本発明の電子写真感光体の製造方法においては、上記面取り部形成工程により円筒状導電性基体１０３に面取り部１０１を形成した後、その基体１０３を、面取り部１０３が形成されている一端側から機能層形成用塗布液に浸漬し、引き上げることにより基体１０３上に塗膜を形成せしめ、次いで、該塗膜を乾燥する浸漬塗布法により機能層を形成し、最終的に１層以上の上記機能層からなる感光層を形成する感光層形成工程を行う。   In the method for producing an electrophotographic photosensitive member of the present invention, after the chamfered portion 101 is formed on the cylindrical conductive substrate 103 by the chamfered portion forming step, the substrate 103 is moved from one end side where the chamfered portion 103 is formed. A functional layer is formed by a dip coating method in which a coating film is formed on the substrate 103 by dipping and pulling up in the functional layer forming coating solution, and then the coating film is dried. A photosensitive layer forming step of forming a photosensitive layer composed of layers is performed.

ここで、図４は、本発明の電子写真感光体の製造方法に使用される浸漬塗布装置の一例を示す概略構成図である。図４に示す浸漬塗布装置１００は、機能層形成用塗布液１０２が収容された塗布槽１１０、塗布槽１１０からオーバーフローする機能層形成用塗布液１０２を貯溜する貯溜槽１２０、及び円筒状導電性基体１０３を機能層形成用塗布液１０２に浸漬して引き上げるための導電性基体昇降機１３０を備える。   Here, FIG. 4 is a schematic configuration diagram showing an example of a dip coating apparatus used in the method for producing an electrophotographic photosensitive member of the present invention. A dip coating apparatus 100 shown in FIG. 4 includes a coating tank 110 in which a functional layer forming coating liquid 102 is accommodated, a storage tank 120 for storing the functional layer forming coating liquid 102 overflowing from the coating tank 110, and a cylindrical conductive material. A conductive substrate elevator 130 is provided for dipping and lifting the substrate 103 in the functional layer forming coating solution 102.

塗布槽１１０には、その上部に液受け部１１２が連続して設けられており、液受け部１１２の上部にはメッシュ状の壁面を有する中空状遮風器１１４が連続して設けられている。なお、本実施形態においては、塗布槽１１０、液受け部１１２及び遮風器１１４は、筒状である。   In the coating tank 110, a liquid receiving portion 112 is continuously provided on the upper portion thereof, and a hollow air shield 114 having a mesh-like wall surface is continuously provided on the upper portion of the liquid receiving portion 112. . In addition, in this embodiment, the application tank 110, the liquid receiving part 112, and the wind shield 114 are cylindrical.

この遮風器１１４は、外風を遮蔽すると同時に遮風器１１４内の溶剤蒸気濃度を低下させる。したがって、溶剤蒸気が遮風器１１４内にとどまることがなく、容易に溶剤蒸気濃度の制御を行うことができる。遮風器１１４としては、側面が溶剤蒸気により変質しない材質で構成されたメッシュ状のものであって、そのメッシュ開孔径は１０μｍ〜１ｍｍであることが好ましい。開孔径が、上記の範囲内にある場合には、塗布むらのない均一な膜厚の機能層を形成することができると共に、基体の下端部における液溜まり防止性をさらに向上させることができる。遮風器１１４を構成する材料としては、溶剤蒸気により変質し難い材料のものが好ましい。かかる材料としては、例えば、ポリエチレン、ポリプロピレン、ポリエチレンテレフタレート等のフィルム、アルミニウム、ステンレス鋼、紙等が挙げられる。   The wind shield 114 shields the outside wind and at the same time reduces the solvent vapor concentration in the wind shield 114. Therefore, the solvent vapor does not stay in the wind shield 114, and the solvent vapor concentration can be easily controlled. The wind shield 114 is a mesh-like material whose side surface is made of a material that is not altered by solvent vapor, and the mesh opening diameter is preferably 10 μm to 1 mm. When the aperture diameter is within the above range, a functional layer having a uniform film thickness with no coating unevenness can be formed, and the liquid pool preventing property at the lower end of the substrate can be further improved. The material constituting the wind shield 114 is preferably a material that is hardly changed by solvent vapor. Examples of such materials include films such as polyethylene, polypropylene, polyethylene terephthalate, aluminum, stainless steel, paper, and the like.

塗布槽１１０と貯溜槽１２０とは、それぞれの上部が案内管１０４で連結されており、それぞれの下部が配管１０６で連結されている。また、配管１０６にはポンプ１０８が設けられており、貯溜槽１２０中の機能層形成用塗布液１０２は、ポンプ１０８により塗布槽１１０に送液される。このように、塗布槽１１０と貯溜槽１２０とは、機能層形成用塗布液１０２が循環できる構成を有している。すなわち、浸漬塗布装置１００においては、塗布槽１１０の上部外周面からオーバーフローした機能層形成用塗布液１０２が、案内管１０４、貯溜槽１２０及び配管１０６を通って還流できるようになっている。   The upper part of the coating tank 110 and the storage tank 120 are connected by a guide pipe 104, and the lower part of each is connected by a pipe 106. The pipe 106 is provided with a pump 108, and the functional layer forming coating solution 102 in the storage tank 120 is sent to the coating tank 110 by the pump 108. Thus, the coating tank 110 and the storage tank 120 have a configuration in which the functional layer forming coating liquid 102 can be circulated. That is, in the dip coating apparatus 100, the functional layer forming coating liquid 102 overflowing from the upper outer peripheral surface of the coating tank 110 can be refluxed through the guide pipe 104, the storage tank 120, and the pipe 106.

また、導電性基体昇降機１３０は、基台１３２上に設けられた昇降機用モータ１３４と、ポールネジ付きのガイドレール１３６とを備えており、ガイドレール１３６にはアーム１３８が上下方向（基体の引き上げ方向）に移動可能に取り付けられている。このアーム１３８には、基体保持具１３９が備えられており、この基体保持具１３９によって円筒状導電性基体１０３が把持されている。   Further, the conductive substrate elevator 130 includes an elevator motor 134 provided on a base 132 and a guide rail 136 with a pole screw. An arm 138 is provided on the guide rail 136 in the vertical direction (base lifting direction). ) Is movably attached. The arm 138 is provided with a base holder 139, and the cylindrical conductive base 103 is held by the base holder 139.

上記の浸漬塗布装置１００を用いて感光層形成工程を行う際には、まず、面取り部１０１が形成された円筒状導電性基体１０３を、面取り部１０１が形成されている側の一端が塗布液１０２側となるように、基体保持具１３９に固定する。基体保持具１３９に把持された基体１０３は、アーム１３８を下方へ移動させることで、塗布液１０２中に浸漬し所定の位置で停止する。次に、アーム１３８を上方へ移動させることで、基体１０３を塗布液１０２から引き上げる。このように、導電性基体昇降機１３０の動きに伴い導電性基体１０３には塗布液１０２が塗布され、かかる導電性基体１０３を遮風器１１４の中空部内で所定時間保持することで乾燥させる。これにより、導電性基体１０３上に機能層が形成される。感光層が複数の機能層からなる場合、それぞれの機能層を上記の手順で順次形成する。以上により、１以上の機能層からなる感光層を円筒状導電性基体１０３上に形成し、電子写真感光体を得ることができる。   When performing the photosensitive layer forming process using the dip coating apparatus 100 described above, first, the cylindrical conductive substrate 103 on which the chamfered portion 101 is formed, and one end on the side on which the chamfered portion 101 is formed are coated with a coating solution. The substrate holder 139 is fixed so as to be on the 102 side. The base 103 held by the base holder 139 is immersed in the coating liquid 102 by moving the arm 138 downward, and stops at a predetermined position. Next, the base 103 is pulled up from the coating solution 102 by moving the arm 138 upward. As described above, the conductive substrate 103 is coated with the coating liquid 102 as the conductive substrate elevator 130 moves, and the conductive substrate 103 is dried by being held in the hollow portion of the wind shield 114 for a predetermined time. Thereby, a functional layer is formed on the conductive substrate 103. When the photosensitive layer is composed of a plurality of functional layers, the respective functional layers are sequentially formed by the above procedure. As described above, an electrophotographic photosensitive member can be obtained by forming a photosensitive layer composed of one or more functional layers on the cylindrical conductive substrate 103.

上記感光層形成工程を経て得られた電子写真感光体は、円筒状導電性基体１０３として、下端部に上記面取り部１０１が形成されたものを用いているため、浸漬塗布法によって機能層を形成した際の液溜りを面取り部１０１に収めることができ、得られる感光層の基体１０３下端部における厚膜化、気泡及び膜剥がれの発生が十分に抑制されたものとなる。   Since the electrophotographic photosensitive member obtained through the photosensitive layer forming step uses a cylindrical conductive substrate 103 in which the chamfered portion 101 is formed at the lower end, a functional layer is formed by a dip coating method. As a result, the liquid pool can be stored in the chamfered portion 101, and the formation of a thick film, bubbles, and film peeling at the lower end portion of the base 103 of the photosensitive layer is sufficiently suppressed.

また、上記感光層が電荷輸送層を機能層として含む場合には、乾燥後の電荷輸送層の膜厚と乾燥前の電荷輸送層の塗膜の膜厚との比（乾燥後の膜厚／乾燥前の膜厚）が０．１５〜０．３５となるように上記感光層形成工程を行うことが好ましい。かかる条件は、例えば塗布液の粘度や固形分濃度を調節することで満たすことができ、塗布液の液粘度は５０〜１０００ｍＰａ・ｓとすることが好ましい。そして、上記面取り部１０１を有する基体１０３に対して、上記の条件を満たし得る塗布液を用いて感光層形成工程を行うことにより、基体１０３の下端部における感光層の厚膜化、気泡及び膜剥がれの発生をより十分に防止することができる。   When the photosensitive layer includes a charge transport layer as a functional layer, the ratio of the thickness of the charge transport layer after drying to the thickness of the coating film of the charge transport layer before drying (film thickness after drying / The photosensitive layer forming step is preferably performed so that the film thickness before drying) is 0.15 to 0.35. Such conditions can be satisfied, for example, by adjusting the viscosity and solid content concentration of the coating liquid, and the liquid viscosity of the coating liquid is preferably 50 to 1000 mPa · s. Then, the photosensitive layer forming step is performed on the substrate 103 having the chamfered portion 101 by using a coating solution that can satisfy the above conditions, thereby increasing the thickness of the photosensitive layer, the bubbles, and the film at the lower end portion of the substrate 103. The occurrence of peeling can be more sufficiently prevented.

図５〜６は、それぞれ本発明の製造方法により製造された、本発明の電子写真感光体の好適な一実施形態を示す図であり、図５は斜視図であり、図６は図５のＩ−Ｉ方向断面図である。図５〜６に示すように、電子写真感光体２００において、円筒状導電性基体１０３の下端部（機能層形成用塗布液にはじめに浸漬した側）には面取り部１０１が形成されており、この面取り部１０１に沿って感光層１０５が形成されている。また、円筒状導電性基体１０３の上端部（基体保持具１３９に把持されていた側）は感光層１０５が形成されておらず露出している。   5 to 6 are diagrams showing a preferred embodiment of the electrophotographic photosensitive member of the present invention manufactured by the manufacturing method of the present invention, FIG. 5 is a perspective view, and FIG. It is II sectional view. As shown in FIGS. 5 to 6, in the electrophotographic photosensitive member 200, a chamfered portion 101 is formed at the lower end portion of the cylindrical conductive substrate 103 (the side first immersed in the functional layer forming coating solution). A photosensitive layer 105 is formed along the chamfered portion 101. Further, the upper end portion of the cylindrical conductive substrate 103 (the side held by the substrate holder 139) is exposed without the photosensitive layer 105 formed thereon.

電子写真感光体は、その感光層の層構成により、一つの層に電荷発生物質及び電荷輸送物質を含む単層型感光体と、電荷発生物質を含む層及び電荷輸送物質を含む層からなる積層型感光体とに大別されるが、本発明の電子写真感光体の製造方法は、それらいずれの電子写真感光体の作製にも有効である。また、本発明の電子写真感光体の製造方法は、感光層が、例えば、電荷注入を防止するために導電性基体と上記の電荷発生物質含有層との間に設けられる下引層や干渉防止層等の必要に応じて設けられる層を有している場合にも使用することができる。   The electrophotographic photosensitive member is a laminate composed of a single layer type photosensitive member containing a charge generating material and a charge transporting material in one layer, a layer containing a charge generating material and a layer containing a charge transporting material, depending on the layer structure of the photosensitive layer. The electrophotographic photosensitive member production method of the present invention is effective for the production of any of these electrophotographic photosensitive members. In addition, in the method for producing an electrophotographic photosensitive member of the present invention, the photosensitive layer is, for example, an undercoat layer or an interference prevention layer provided between the conductive substrate and the charge generation material-containing layer in order to prevent charge injection. It can be used also when it has a layer provided as needed, such as a layer.

以下、本発明の電子写真感光体について更に詳述する。本発明の電子写真感光体は、例えば、上述した本発明の電子写真感光体の製造方法によって製造されたものである。すなわち、本発明の電子写真感光体は、円筒状導電性基体と、該円筒状導電性基体上に形成された１層以上の機能層からなる感光層と、を備える電子写真感光体であって、上記円筒状導電性基体は、少なくともその一端の表面側に面取り部を有しており、上記感光層は、上記面取り部を有する上記円筒状導電性基体を上記一端側から上記機能層を形成するための塗布液に浸漬した後、引き上げることにより上記円筒状導電性基体上に塗膜を形成せしめ、次いで、該塗膜を乾燥することにより上記機能層を形成する工程を経て形成されたものであり、上記円筒状導電性基体をその長さ方向に切断した場合の断面形状における上記面取り部の面取り面積をＷ［ｍｍ２］、上記感光層の膜厚をＤ［ｍｍ］として、（Ｄ／Ｗ）［ｍｍ−１］の値が０．２以下であることを特徴とするものである。 Hereinafter, the electrophotographic photoreceptor of the present invention will be further described in detail. The electrophotographic photoreceptor of the present invention is produced, for example, by the above-described method for producing an electrophotographic photoreceptor of the present invention. That is, the electrophotographic photoreceptor of the present invention is an electrophotographic photoreceptor comprising a cylindrical conductive substrate and a photosensitive layer composed of one or more functional layers formed on the cylindrical conductive substrate. The cylindrical conductive substrate has a chamfered portion at least on the surface side of one end thereof, and the photosensitive layer forms the functional layer from the one end side of the cylindrical conductive substrate having the chamfered portion. After being immersed in a coating solution for forming, a coating film is formed on the cylindrical conductive substrate by pulling up, and then the coating film is dried and then formed through the step of forming the functional layer. Where the chamfered area of the chamfered portion in the cross-sectional shape of the cylindrical conductive substrate cut in the length direction is W [mm 2 ], and the film thickness of the photosensitive layer is D [mm] (D / W) The value of [mm −1 ] is 0. .2 or less.

図７〜１１は、本発明の電子写真感光体の好適な一実施形態を示す模式断面図である。図７に示す電子写真感光体２１０は、電荷発生層１と電荷輸送層２とが別個に設けられた機能分離型（積層型）感光体であり、円筒状導電性基体３上に下引層４、電荷発生層１、電荷輸送層２及び保護層５からなる感光層６が積層された構造を有している。図８に示す電子写真感光体２２０は、円筒状導電性基体３上に下引層４、電荷発生層１及び電荷輸送層２からなる感光層６が積層された構造を有するものである。図９に示す電子写真感光体２３０は、円筒状導電性基体３上に電荷発生層１、電荷輸送層２及び保護層５からなる感光層６が積層された構造を有するものである。図８及び９に示すように、本発明の電子写真感光体は、下引層４及び保護層５を有していなくてもよい。   7 to 11 are schematic cross-sectional views showing a preferred embodiment of the electrophotographic photosensitive member of the present invention. An electrophotographic photoreceptor 210 shown in FIG. 7 is a function-separated type (laminated type) photoreceptor in which the charge generation layer 1 and the charge transport layer 2 are separately provided, and an undercoat layer is formed on the cylindrical conductive substrate 3. 4. A photosensitive layer 6 comprising a charge generation layer 1, a charge transport layer 2 and a protective layer 5 is laminated. An electrophotographic photoreceptor 220 shown in FIG. 8 has a structure in which a photosensitive layer 6 including an undercoat layer 4, a charge generation layer 1 and a charge transport layer 2 is laminated on a cylindrical conductive substrate 3. An electrophotographic photoreceptor 230 shown in FIG. 9 has a structure in which a photosensitive layer 6 including a charge generation layer 1, a charge transport layer 2 and a protective layer 5 is laminated on a cylindrical conductive substrate 3. As shown in FIGS. 8 and 9, the electrophotographic photosensitive member of the present invention may not have the undercoat layer 4 and the protective layer 5.

図１０に示す電子写真感光体２４０は、円筒状導電性基体３上に電荷発生／電荷輸送層７が順次積層された構造を有するものであり、この電荷発生／電荷輸送層７が感光層６に相当する。図１１に示す電子写真感光体２５０は、円筒状導電性基体３上に下引層４、電荷発生／電荷輸送層７及び保護層５からなる感光層６が積層された構造を有するものである。図１０及び図１１に示すように、本発明の電子写真感光体は、電荷発生材料及び電荷輸送材料の双方を含む層（電荷発生／電荷輸送層）を備える単層型感光体であってもよい。   The electrophotographic photoreceptor 240 shown in FIG. 10 has a structure in which the charge generation / charge transport layer 7 is sequentially laminated on the cylindrical conductive substrate 3, and the charge generation / charge transport layer 7 is the photosensitive layer 6. It corresponds to. An electrophotographic photoreceptor 250 shown in FIG. 11 has a structure in which a photosensitive layer 6 including an undercoat layer 4, a charge generation / charge transport layer 7 and a protective layer 5 is laminated on a cylindrical conductive substrate 3. . As shown in FIGS. 10 and 11, the electrophotographic photoreceptor of the present invention is a single-layer photoreceptor provided with a layer (charge generation / charge transport layer) containing both a charge generation material and a charge transport material. Good.

以下、図７を参照しつつ電子写真感光体の各構成要素について詳述する。   Hereinafter, each component of the electrophotographic photosensitive member will be described in detail with reference to FIG.

円筒状導電性基体３としては、例えば、アルミニウム、銅、鉄、亜鉛、ニッケル等の金属製のもの；ポリマー製シート、紙、プラスチック、ガラス等の基体上に、アルミニウム、銅、金、銀、白金、パラジウム、チタン、ニッケル−クロム、ステンレス鋼、銅−インジウム等の金属を蒸着することで導電処理したもの；酸化インジウム、酸化錫などの導電性金属化合物を上記基体上に蒸着することで導電処理したもの；金属箔を上記基体上にラミネートすることで導電処理したもの；カーボンブラック、酸化インジウム、酸化錫−酸化アンチモン粉、金属粉、沃化銅等を結着樹脂に分散し、上記基体上に塗布することで導電処理したもの等が挙げられる。   Examples of the cylindrical conductive substrate 3 include those made of metal such as aluminum, copper, iron, zinc, and nickel; on a substrate such as polymer sheet, paper, plastic, and glass, aluminum, copper, gold, silver, Conductive treatment by depositing a metal such as platinum, palladium, titanium, nickel-chromium, stainless steel, copper-indium; conductive by depositing a conductive metal compound such as indium oxide or tin oxide on the substrate. Treated; Conductive treatment by laminating a metal foil on the substrate; Carbon black, indium oxide, tin oxide-antimony oxide powder, metal powder, copper iodide, etc. are dispersed in a binder resin, and the substrate The thing etc. which carried out the electroconductive process by apply | coating on the top are mentioned.

円筒状導電性基体３として金属パイプ基材を用いる場合、その表面は素管のままであってもよいし、予め鏡面切削、エッチング、陽極酸化、粗切削、センタレス研削、サンドブラスト、ウエットホーニング、着色処理などの表面処理が施されたものであってもよい。   When a metal pipe substrate is used as the cylindrical conductive substrate 3, the surface thereof may remain as it is, or may be mirror-cut, etched, anodized, rough cut, centerless grinding, sandblast, wet honing, coloring in advance. A surface treatment such as a treatment may be applied.

下引層４は、例えば、導電性金属酸化物及び結着樹脂を含んで構成される。導電性金属酸化物としては、１×１０２〜１×１０１１Ω・ｃｍ程度の粉体抵抗を有するものであることが好ましい。このような導電性金属酸化物を用いることにより、下引層４の抵抗値を適切なものとすることができ、十分なリーク耐性を付与することができる。上記抵抗値を有するものの中でも、酸化錫、酸化チタン、酸化亜鉛等を用いることが好ましく、酸化亜鉛を用いることが特に好ましい。なお、導電性金属酸化物の抵抗値が１×１０２Ω・ｃｍ未満であると、十分なリーク耐性が得られにくくなる傾向にあり、抵抗値が１×１０１１Ω・ｃｍを超えると、残留電位の上昇を引き起こしやすくなる傾向がある。 The undercoat layer 4 includes, for example, a conductive metal oxide and a binder resin. The conductive metal oxide preferably has a powder resistance of about 1 × 10 2 to 1 × 10 11 Ω · cm. By using such a conductive metal oxide, the resistance value of the undercoat layer 4 can be made appropriate, and sufficient leakage resistance can be imparted. Among those having the above resistance value, tin oxide, titanium oxide, zinc oxide and the like are preferably used, and zinc oxide is particularly preferably used. In addition, when the resistance value of the conductive metal oxide is less than 1 × 10 2 Ω · cm, it tends to be difficult to obtain sufficient leakage resistance. When the resistance value exceeds 1 × 10 11 Ω · cm, There is a tendency to increase the residual potential.

導電性金属酸化物は、画質濃度均一性の点から、微粒子であることが好ましい。その平均粒径は、１．０μｍ以下であることが好ましく、０．５μｍ以下であることがより好ましく、０．１μｍ以下であることが更に好ましい。   The conductive metal oxide is preferably fine particles from the viewpoint of image quality density uniformity. The average particle size is preferably 1.0 μm or less, more preferably 0.5 μm or less, and still more preferably 0.1 μm or less.

また、導電性金属酸化物は、表面処理の異なるものあるいは粒子径の異なるものなどを２種以上混合して用いることもできる。また、導電性金属酸化物微粒子としては、比表面積が１０ｍ２／ｇ以上のものが好ましく用いられる。比表面積値が１０ｍ２／ｇ以下のものは帯電性低下を招きやすく、良好な電子写真特性を得にくくなる傾向がある。 In addition, two or more kinds of conductive metal oxides having different surface treatments or different particle diameters can be used. As the conductive metal oxide fine particles, those having a specific surface area of 10 m 2 / g or more are preferably used. Those having a specific surface area value of 10 m 2 / g or less tend to cause a decrease in chargeability and tend to make it difficult to obtain good electrophotographic characteristics.

また、導電性金属酸化物には表面処理を施すことができる。表面処理剤としてはシランカップリング剤、チタネート系カップリング剤、アルミニウム系カップリング剤、界面活性材など所望の特性が得られるものであれば公知の材料から選択することができる。特にシランカップリング剤は良好な電子写真特性を与えるため好ましく用いられる。また、アミノ基を有するシランカップリング剤は下引層に良好なブロッキング性を与えるため好ましく用いられる。   Further, the conductive metal oxide can be subjected to a surface treatment. The surface treatment agent can be selected from known materials as long as desired characteristics such as a silane coupling agent, a titanate coupling agent, an aluminum coupling agent, and a surfactant can be obtained. In particular, silane coupling agents are preferably used because they give good electrophotographic characteristics. A silane coupling agent having an amino group is preferably used because it gives good blocking properties to the undercoat layer.

アミノ基を有するシランカップリング剤としては、所望の感光体特性を得られるものであればいかなる物でも用いることができるが、具体的には、γ−アミノプロピルトリエトキシシラン、Ｎ−β−（アミノエチル）−γ−アミノプロピルトリメトキシシラン、Ｎ−β−（アミノエチル）−γ−アミノプロピルメチルメトキシシラン、Ｎ，Ｎ−ビス（β−ヒドロキシエチル）−γ−アミノプロピルトリエトキシシランなどが挙げられる。なお、これらに限定されるものではない。また、シランカップリング剤は２種以上混合して使用することもできる。   Any silane coupling agent having an amino group can be used as long as the desired photoreceptor characteristics can be obtained. Specifically, γ-aminopropyltriethoxysilane, N-β- ( Aminoethyl) -γ-aminopropyltrimethoxysilane, N-β- (aminoethyl) -γ-aminopropylmethylmethoxysilane, N, N-bis (β-hydroxyethyl) -γ-aminopropyltriethoxysilane, and the like. Can be mentioned. However, the present invention is not limited to these. Moreover, 2 or more types of silane coupling agents can also be mixed and used.

上記アミノ基を有するシランカップリング剤と併用して用いることができるシランカップリング剤の例としては、ビニルトリメトキシシラン、γ−メタクリルオキシプロピル−トリス（β−メトキシエトキシ）シラン、β−（３，４−エポキシシクロヘキシル）エチルトリメトキシシラン、γ−グリシドキシプロピルトリメトキシシラン、ビニルトリアセトキシシラン、γ−メルカプトプロピルトリメトキシシラン、γ−アミノプロピルトリエトキシシラン、Ｎ−β−（アミノエチル）−γ−アミノプロピルトリメトキシシラン、Ｎ−β−（アミノエチル）−γ−アミノプロピルメチルメトキシシラン、Ｎ，Ｎ−ビス（β−ヒドロキシエチル）−γ−アミノプロピルトリエトキシシラン、γ−クロルプロピルトリメトキシシランなどが挙げられるが、これらに限定されるものではない。   Examples of the silane coupling agent that can be used in combination with the above silane coupling agent having an amino group include vinyltrimethoxysilane, γ-methacryloxypropyl-tris (β-methoxyethoxy) silane, β- (3 , 4-epoxycyclohexyl) ethyltrimethoxysilane, γ-glycidoxypropyltrimethoxysilane, vinyltriacetoxysilane, γ-mercaptopropyltrimethoxysilane, γ-aminopropyltriethoxysilane, N-β- (aminoethyl) -Γ-aminopropyltrimethoxysilane, N-β- (aminoethyl) -γ-aminopropylmethylmethoxysilane, N, N-bis (β-hydroxyethyl) -γ-aminopropyltriethoxysilane, γ-chloropropyl Examples include trimethoxysilane, The present invention is not limited to these.

導電性金属酸化物の表面処理方法は公知の方法であればいかなる方法でも使用可能であり、例えば、乾式法や湿式法等を用いることができる。乾式法により表面処理を施す場合には、導電性金属酸化物をせん断力の大きなミキサ等で攪拌しながら、直接あるいは有機溶媒に溶解させたシランカップリング剤を滴下し、乾燥空気や窒素ガスとともに噴霧させることによって均一に処理することができる。シランカップリング剤の添加あるいは噴霧は、溶剤の沸点以下の温度で行うことが好ましい。溶剤の沸点以上の温度で噴霧すると、導電性金属酸化物が均一に攪拌される前に溶剤が蒸発し、シランカップリング剤が局部的にかたまってしまい均一な表面処理ができにくい傾向がある。シランカップリング剤を添加あるいは噴霧した後、さらに１００℃以上で焼き付けを行うことができる。焼き付けは所望の電子写真特性が得られる温度、時間であれば任意の範囲で実施できる。   As the surface treatment method for the conductive metal oxide, any known method can be used. For example, a dry method or a wet method can be used. When surface treatment is performed by a dry method, a silane coupling agent dissolved directly or in an organic solvent is dropped while stirring the conductive metal oxide with a mixer having a large shearing force, etc. together with dry air or nitrogen gas By spraying, it can process uniformly. The addition or spraying of the silane coupling agent is preferably performed at a temperature below the boiling point of the solvent. When spraying at a temperature equal to or higher than the boiling point of the solvent, the solvent evaporates before the conductive metal oxide is uniformly stirred, and the silane coupling agent is locally concentrated, and there is a tendency that uniform surface treatment is difficult. After adding or spraying the silane coupling agent, baking can be performed at 100 ° C. or higher. Baking can be carried out in an arbitrary range as long as the temperature and time allow the desired electrophotographic characteristics to be obtained.

湿式法により表面処理を施す場合には、導電性金属酸化物を溶剤中で攪拌、超音波、サンドミルやアトライター、ボールミルなどを用いて分散し、シランカップリング剤溶液を添加して攪拌あるいは分散した後、溶剤を除去することで均一に処理することができる。溶剤は、ろ過あるいは蒸留により除去することができる。溶剤除去後にはさらに１００℃以上で焼き付けを行うことができる。焼き付けは所望の電子写真特性が得られる温度、時間であれば任意の範囲で実施できる。湿式法においては表面処理剤を添加する前に導電性金属酸化物に含有されている水分を除去することもでき、例えば、表面処理に用いる溶剤中で攪拌加熱しながら除去する方法、溶剤と共沸させて除去する方法等を用いることができる。   When surface treatment is performed by a wet method, the conductive metal oxide is stirred in a solvent, dispersed using an ultrasonic wave, a sand mill, an attritor, a ball mill, etc., and a silane coupling agent solution is added and stirred or dispersed. Then, it can be uniformly processed by removing the solvent. The solvent can be removed by filtration or distillation. After removing the solvent, baking can be performed at 100 ° C. or higher. Baking can be carried out in an arbitrary range as long as the temperature and time allow the desired electrophotographic characteristics to be obtained. In the wet method, moisture contained in the conductive metal oxide can be removed before adding the surface treatment agent. For example, a method of removing with stirring and heating in the solvent used for the surface treatment, and the solvent. A method of removing by boiling can be used.

導電性金属酸化物に表面処理を施す場合、シランカップリング剤の量は所望の電子写真特性が得られる量であれば任意に設定できる。   When the surface treatment is performed on the conductive metal oxide, the amount of the silane coupling agent can be arbitrarily set as long as desired electrophotographic characteristics can be obtained.

下引層４に含有される結着樹脂としては、良好な膜を形成できるもので、且つ、所望の特性が得られるものであれば公知のいかなるものでも使用可能である。かかる結着樹脂としては、例えば、ポリビニルブチラールなどのアセタール樹脂、ポリビニルアルコール樹脂、カゼイン、ポリアミド樹脂、セルロース樹脂、ゼラチン、ポリウレタン樹脂、ポリエステル樹脂、メタクリル樹脂、アクリル樹脂、ポリ塩化ビニル樹脂、ポリビニルアセテート樹脂、塩化ビニル−酢酸ビニル−無水マレイン酸樹脂、シリコーン樹脂、シリコーン−アルキッド樹脂、フェノール樹脂、フェノール−ホルムアルデヒド樹脂、メラミン樹脂、ウレタン樹脂などの公知の高分子樹脂化合物、また、電荷輸送性基を有する電荷輸送性樹脂やポリアニリン等の導電性樹脂などが挙げられる。これらの中でも、上層の塗布溶剤に不溶な樹脂が好ましく用いられ、特にフェノール樹脂、フェノール−ホルムアルデヒド樹脂、メラミン樹脂、ウレタン樹脂、エポキシ樹脂などが好ましく用いられる。   As the binder resin contained in the undercoat layer 4, any known resin can be used as long as it can form a good film and can obtain desired characteristics. Examples of the binder resin include acetal resins such as polyvinyl butyral, polyvinyl alcohol resin, casein, polyamide resin, cellulose resin, gelatin, polyurethane resin, polyester resin, methacrylic resin, acrylic resin, polyvinyl chloride resin, and polyvinyl acetate resin. , Vinyl chloride-vinyl acetate-maleic anhydride resin, silicone resin, silicone-alkyd resin, phenolic resin, phenol-formaldehyde resin, melamine resin, urethane resin and other known polymer resin compounds, and also have a charge transporting group Examples thereof include charge transporting resins and conductive resins such as polyaniline. Among these, resins that are insoluble in the upper layer coating solvent are preferably used, and phenol resins, phenol-formaldehyde resins, melamine resins, urethane resins, epoxy resins, and the like are particularly preferably used.

下引層４は、上記各構成材料を含有する下引層形成用塗布液を用いて構成される。下引層形成用塗布液中の導電性金属酸化物と結着樹脂との比率は、所望の電子写真感光体特性を得られる範囲で任意に設定できる。   The undercoat layer 4 is configured using a coating solution for forming an undercoat layer containing the above constituent materials. The ratio of the conductive metal oxide and the binder resin in the coating solution for forming the undercoat layer can be arbitrarily set as long as desired electrophotographic photosensitive member characteristics can be obtained.

下引層形成用塗布液には、電気特性向上、環境安定性向上、画質向上のために種々の添加物を用いることができる。添加物としては、クロラニル、ブロモアニル等のキノン系化合物、テトラシアノキノジメタン系化合物、２，４，７−トリニトロフルオレノン、２，４，５，７−テトラニトロ−９−フルオレノン等のフルオレノン化合物、２−（４−ビフェニル）−５−（４−ｔ−ブチルフェニル）−１，３，４−オキサジアゾールや２，５−ビス（４−ナフチル）−１，３，４−オキサジアゾール、２，５−ビス（４−ジエチルアミノフェニル）１，３，４オキサジアゾールなどのオキサジアゾール系化合物、キサントン系化合物、チオフェン化合物、３，３’，５，５’テトラ−ｔ−ブチルジフェノキノン等のジフェノキノン化合物などの電子輸送性物質、多環縮合系、アゾ系等の電子輸送性顔料、ジルコニウムキレート化合物、チタニウムキレート化合物、アルミニウムキレート化合物、チタニウムアルコキシド化合物、有機チタニウム化合物、シランカップリング剤等の公知の材料を用いることができる。シランカップリング剤は酸化亜鉛の表面処理に用いられるが、添加剤としてさらに塗布液に添加して用いることもできる。   Various additives can be used in the coating liquid for forming the undercoat layer in order to improve electrical characteristics, environmental stability, and image quality. As additives, quinone compounds such as chloranil and bromoanil, tetracyanoquinodimethane compounds, fluorenone compounds such as 2,4,7-trinitrofluorenone, 2,4,5,7-tetranitro-9-fluorenone, 2- (4-biphenyl) -5- (4-t-butylphenyl) -1,3,4-oxadiazole, 2,5-bis (4-naphthyl) -1,3,4-oxadiazole, Oxadiazole compounds such as 2,5-bis (4-diethylaminophenyl) 1,3,4 oxadiazole, xanthone compounds, thiophene compounds, 3,3 ′, 5,5′tetra-t-butyldiphenoxy Electron transporting substances such as non-diphenoquinone compounds, polycyclic condensation systems, azo-based electron transporting pigments, zirconium chelate compounds, titanium chelation Things, aluminum chelate compounds, titanium alkoxide compounds, organic titanium compounds, there can be used a known material such as a silane coupling agent. The silane coupling agent is used for the surface treatment of zinc oxide, but it can also be used as an additive added to the coating solution.

ここで用いられるシランカップリング剤の具体例としては、例えば、ビニルトリメトキシシラン、γ−メタクリルオキシプロピル−トリス（β−メトキシエトキシ）シラン、β−（３，４−エポキシシクロヘキシル）エチルトリメトキシシラン、γ−グリシドキシプロピルトリメトキシシラン、ビニルトリアセトキシシラン、γ−メルカプトプロピルトリメトキシシラン、γ−アミノプロピルトリエトキシシラン、Ｎ−β−（アミノエチル）−γ−アミノプロピルトリメトキシシラン、Ｎ−β−（アミノエチル）−γ−アミノプロピルメチルメトキシシラン、Ｎ，Ｎ−ビス（β−ヒドロキシエチル）−γ−アミノプロピルトリエトキシシラン、γ−クロルプロピルトリメトキシシランなどが挙げられる。   Specific examples of the silane coupling agent used here include, for example, vinyltrimethoxysilane, γ-methacryloxypropyl-tris (β-methoxyethoxy) silane, β- (3,4-epoxycyclohexyl) ethyltrimethoxysilane. , Γ-glycidoxypropyltrimethoxysilane, vinyltriacetoxysilane, γ-mercaptopropyltrimethoxysilane, γ-aminopropyltriethoxysilane, N-β- (aminoethyl) -γ-aminopropyltrimethoxysilane, N Examples include -β- (aminoethyl) -γ-aminopropylmethylmethoxysilane, N, N-bis (β-hydroxyethyl) -γ-aminopropyltriethoxysilane, and γ-chloropropyltrimethoxysilane.

ジルコニウムキレート化合物としては、例えば、ジルコニウムブトキシド、ジルコニウムアセト酢酸エチル、ジルコニウムトリエタノールアミン、アセチルアセトネートジルコニウムブトキシド、アセト酢酸エチルジルコニウムブトキシド、ジルコニウムアセテート、ジルコニウムオキサレート、ジルコニウムラクテート、ジルコニウムホスホネート、オクタン酸ジルコニウム、ナフテン酸ジルコニウム、ラウリン酸ジルコニウム、ステアリン酸ジルコニウム、イソステアリン酸ジルコニウム、メタクリレートジルコニウムブトキシド、ステアレートジルコニウムブトキシド、イソステアレートジルコニウムブトキシドなどが挙げられる。   Examples of the zirconium chelate compound include zirconium butoxide, zirconium zirconium acetoacetate, zirconium triethanolamine, acetylacetonate zirconium butoxide, ethyl acetoacetate butoxide, zirconium acetate, zirconium oxalate, zirconium lactate, zirconium phosphonate, zirconium octoate, Zirconium naphthenate, zirconium laurate, zirconium stearate, zirconium isostearate, methacrylate zirconium butoxide, stearate zirconium butoxide, isostearate zirconium butoxide and the like.

チタニウムキレート化合物としては、例えば、テトライソプロピルチタネート、テトラノルマルブチルチタネート、ブチルチタネートダイマー、テトラ（２−エチルヘキシル）チタネート、チタンアセチルアセトネート、ポリチタンアセチルアセトネート、チタンオクチレングリコレート、チタンラクテートアンモニウム塩、チタンラクテート、チタンラクテートエチルエステル、チタントリエタノールアミネート、ポリヒドロキシチタンステアレートなどが挙げられる。   Examples of the titanium chelate compound include tetraisopropyl titanate, tetranormal butyl titanate, butyl titanate dimer, tetra (2-ethylhexyl) titanate, titanium acetylacetonate, polytitanium acetylacetonate, titanium octylene glycolate, and titanium lactate ammonium salt. , Titanium lactate, titanium lactate ethyl ester, titanium triethanolamate, polyhydroxy titanium stearate and the like.

アルミニウムキレート化合物としては、例えば、アルミニウムイソプロピレート、モノブトキシアルミニウムジイソプロピレート、アルミニウムブチレート、ジエチルアセトアセテートアルミニウムジイソプロピレート、アルミニウムトリス（エチルアセトアセテート）などが挙げられる。   Examples of the aluminum chelate compound include aluminum isopropylate, monobutoxy aluminum diisopropylate, aluminum butyrate, diethyl acetoacetate aluminum diisopropylate, aluminum tris (ethyl acetoacetate) and the like.

これらの化合物は単独であるいは複数の化合物の混合物又は重縮合物として用いることができる。   These compounds can be used alone or as a mixture or polycondensate of a plurality of compounds.

下引層形成用塗布液を調整するための溶媒としては、公知の有機溶剤、例えば、アルコール系、芳香族系、ハロゲン化炭化水素系、ケトン系、ケトンアルコール系、エーテル系、エステル系等から任意に選択することができる。溶媒としては、例えば、メタノール、エタノール、ｎ−プロパノール、ｉｓｏ−プロパノール、ｎ−ブタノール、ベンジルアルコール、メチルセルソルブ、エチルセルソルブ、アセトン、メチルエチルケトン、シクロヘキサノン、酢酸メチル、酢酸エチル、酢酸ｎ−ブチル、ジオキサン、テトラヒドロフラン、メチレンクロライド、クロロホルム、クロルベンゼン、トルエン等の通常の有機溶剤を用いることができる。   As a solvent for adjusting the coating solution for forming the undercoat layer, known organic solvents such as alcohols, aromatics, halogenated hydrocarbons, ketones, ketone alcohols, ethers, esters, etc. Can be arbitrarily selected. Examples of the solvent include methanol, ethanol, n-propanol, iso-propanol, n-butanol, benzyl alcohol, methyl cellosolve, ethyl cellosolve, acetone, methyl ethyl ketone, cyclohexanone, methyl acetate, ethyl acetate, n-butyl acetate, Usual organic solvents such as dioxane, tetrahydrofuran, methylene chloride, chloroform, chlorobenzene, and toluene can be used.

また、これら溶剤は、単独であるいは２種以上混合して用いることができる。２種以上を混合する際、使用される溶剤としては、混合溶剤として結着樹脂を溶かす事ができる溶剤であれば、いかなるものでも使用することが可能である。   These solvents can be used alone or in admixture of two or more. When two or more kinds are mixed, any solvent can be used as long as it can dissolve the binder resin as a mixed solvent.

下引層形成用塗布液の混合／分散方法としては、ロールミル、ボールミル、振動ボールミル、アトライター、サンドミル、コロイドミル、ペイントシェーカーなどの公知の方法を用いることができる。   As a method for mixing / dispersing the coating solution for forming the undercoat layer, known methods such as a roll mill, a ball mill, a vibrating ball mill, an attritor, a sand mill, a colloid mill, and a paint shaker can be used.

下引層形成用塗布液は、浸漬塗布法により導電性基体３上に塗布される。なお、下引層形成用塗布液の塗布は、ブレードコーティング法、ワイヤーバーコーティング法、スプレーコーティング法、ビードコーティング法、エアーナイフコーティング法、カーテンコーティング法等の通常の方法を用いて行うこともできるが、これらの方法により塗布を行った場合、得られる下引層４は本発明における機能層には含まないものとする。   The undercoat layer forming coating solution is applied onto the conductive substrate 3 by a dip coating method. The coating solution for forming the undercoat layer can also be applied using a usual method such as a blade coating method, a wire bar coating method, a spray coating method, a bead coating method, an air knife coating method, or a curtain coating method. However, when coating is performed by these methods, the obtained undercoat layer 4 is not included in the functional layer in the present invention.

上記の方法で下引層形成用塗布液を塗布した後、塗膜を乾燥させて下引層４を得るが、通常、乾燥は溶剤を蒸発させ、成膜が可能な温度で行われる。特に、酸性溶液処理、ベーマイト処理を行った導電性基体３は、その欠陥隠蔽力が不十分となり易いため、下引層４を形成することが好ましい。   After the undercoat layer forming coating solution is applied by the above method, the coating film is dried to obtain the undercoat layer 4. Usually, the drying is performed at a temperature at which the solvent can be evaporated and the film can be formed. In particular, the conductive substrate 3 that has been subjected to the acid solution treatment and the boehmite treatment is preferably formed with the undercoat layer 4 because its defect concealing power tends to be insufficient.

下引層４の膜厚は、１５μｍ以上であることが好ましく、２０〜５０μｍであることがより好ましく、２０〜３０μｍであることが更に好ましい。下引層４の膜厚が１５μｍ未満であるときには、充分な耐リーク性能を得ることができず画質欠陥（色点、かぶり）が発生しやすくなる傾向にあり、５０μｍを超えると、長期使用時に残留電位が残りやすくなるため画像欠陥（ゴースト）が生じやすくなる傾向にある。   The thickness of the undercoat layer 4 is preferably 15 μm or more, more preferably 20 to 50 μm, still more preferably 20 to 30 μm. When the thickness of the undercoat layer 4 is less than 15 μm, sufficient leak resistance cannot be obtained and image quality defects (color points, fogging) tend to occur. Since residual potential tends to remain, image defects (ghosts) tend to occur.

また、モアレ像防止のために、下引層４の表面粗さを、使用される露光用レーザー波長λに対して１／４ｎ（ｎは上層の屈折率）〜１／２λの範囲内で調整することが好ましい。表面粗さの調整は、例えば下引層４への樹脂粒子の添加により行うことができる。樹脂粒子としては、シリコーン樹脂粒子、架橋型ＰＭＭＡ樹脂粒子等が挙げられる。樹脂粒子の直径は、１．０μｍ以上であることが好ましく、２．０μｍ〜５．０μｍであることがより好ましい。また、表面粗さ調整のために下引層を研磨してもよい。研磨方法としては、バフ研磨、サンドブラスト処理、ウエットホーニング処理、研削処理等を用いることができる。   In order to prevent moire images, the surface roughness of the undercoat layer 4 is adjusted within a range of 1/4 n (n is the refractive index of the upper layer) to 1/2 λ with respect to the exposure laser wavelength λ used. It is preferable to do. The surface roughness can be adjusted, for example, by adding resin particles to the undercoat layer 4. Examples of the resin particles include silicone resin particles and cross-linked PMMA resin particles. The diameter of the resin particles is preferably 1.0 μm or more, and more preferably 2.0 μm to 5.0 μm. Further, the undercoat layer may be polished for adjusting the surface roughness. As a polishing method, buffing, sand blasting, wet honing, grinding, or the like can be used.

また、電気特性向上、画質向上、画質維持性向上、電荷発生層１の接着性向上などのために、この下引層４と電荷発生層１との間に更に中間層（図示せず）を設けてもよい。中間層に用いられる結着樹脂としては、ポリビニルブチラールなどのアセタール樹脂、ポリビニルアルコール樹脂、カゼイン、ポリアミド樹脂、セルロース樹脂、ゼラチン、ポリウレタン樹脂、ポリエステル樹脂、メタクリル樹脂、アクリル樹脂、ポリ塩化ビニル樹脂、ポリビニルアセテート樹脂、塩化ビニル−酢酸ビニル−無水マレイン酸樹脂、シリコーン樹脂、シリコーン−アルキッド樹脂、フェノール−ホルムアルデヒド樹脂、メラミン樹脂などの高分子樹脂化合物のほかに、ジルコニウム、チタニウム、アルミニウム、マンガン、シリコン原子などを含有する有機金属化合物等が挙げられる。これらの化合物は単独であるいは複数の化合物の混合物又は重縮合物として用いることができる。これらの中でも、ジルコニウムもしくはシリコンを含有する有機金属化合物は、残留電位が低く環境による電位変化が少なく、また繰り返し使用による電位の変化が少ないなど性能上優れている。   Further, an intermediate layer (not shown) is further provided between the undercoat layer 4 and the charge generation layer 1 in order to improve electrical characteristics, improve image quality, improve image quality maintenance, and improve the adhesion of the charge generation layer 1. It may be provided. As the binder resin used for the intermediate layer, acetal resins such as polyvinyl butyral, polyvinyl alcohol resin, casein, polyamide resin, cellulose resin, gelatin, polyurethane resin, polyester resin, methacrylic resin, acrylic resin, polyvinyl chloride resin, polyvinyl In addition to polymer resins such as acetate resin, vinyl chloride-vinyl acetate-maleic anhydride resin, silicone resin, silicone-alkyd resin, phenol-formaldehyde resin, melamine resin, zirconium, titanium, aluminum, manganese, silicon atom, etc. An organometallic compound containing These compounds can be used alone or as a mixture or polycondensate of a plurality of compounds. Among these, organometallic compounds containing zirconium or silicon are excellent in performance, such as low residual potential, little potential change due to environment, and little potential change due to repeated use.

シリコン化合物の例としては、ビニルトリメトキシシラン、γ−メタクリルオキシプロピル−トリス（β−メトキシエトキシ）シラン、β−（３，４−エポキシシクロヘキシル）エチルトリメトキシシラン、γ−グリシドキシプロピルトリメトキシシラン、ビニルトリアセトキシシラン、γ−メルカプトプロピルトリメトキシシラン、γ−アミノプロピルトリエトキシシラン、Ｎ−β−（アミノエチル）−γ−アミノプロピルトリメトキシシラン、Ｎ−β−（アミノエチル）−γ−アミノプロピルメチルメトキシシラン、Ｎ，Ｎ−ビス（β−ヒドロキシエチル）−γ−アミノプロピルトリエトキシシラン、γ−クロルプロピルトリメトキシシラン等が挙げられる。これらの中でも特に好ましく用いられるシリコン化合物としては、ビニルトリエトキシシラン、ビニルトリス（２−メトキシエトキシシラン）、３−メタクリロキシプロピルトリメトキシシラン、３−グリシドキシプロピルトリメトキシシラン、２−（３，４−エポキシシクロヘキシル）エチルトリメトキシシラン、Ｎ−２−（アミノエチル）３−アミノプロピルトリメトキシシラン、Ｎ−２−（アミノエチル）３−アミノプロピルメチルジメトキシシラン、３−アミノプロピルトリエトキシシラン、Ｎ−フェニル−３−アミノプロピルトリメトキシシラン、３−メルカプトプロピルトリメトキシシラン、３−クロロプロピルトリメトキシシランなどのシランカップリング剤が挙げられる。   Examples of silicon compounds include vinyltrimethoxysilane, γ-methacryloxypropyl-tris (β-methoxyethoxy) silane, β- (3,4-epoxycyclohexyl) ethyltrimethoxysilane, γ-glycidoxypropyltrimethoxy. Silane, vinyltriacetoxysilane, γ-mercaptopropyltrimethoxysilane, γ-aminopropyltriethoxysilane, N-β- (aminoethyl) -γ-aminopropyltrimethoxysilane, N-β- (aminoethyl) -γ -Aminopropylmethylmethoxysilane, N, N-bis (β-hydroxyethyl) -γ-aminopropyltriethoxysilane, γ-chloropropyltrimethoxysilane and the like. Among these, particularly preferably used silicon compounds include vinyltriethoxysilane, vinyltris (2-methoxyethoxysilane), 3-methacryloxypropyltrimethoxysilane, 3-glycidoxypropyltrimethoxysilane, 2- (3, 4-epoxycyclohexyl) ethyltrimethoxysilane, N-2- (aminoethyl) 3-aminopropyltrimethoxysilane, N-2- (aminoethyl) 3-aminopropylmethyldimethoxysilane, 3-aminopropyltriethoxysilane, Examples include silane coupling agents such as N-phenyl-3-aminopropyltrimethoxysilane, 3-mercaptopropyltrimethoxysilane, and 3-chloropropyltrimethoxysilane.

有機ジルコニウム化合物の例としては、ジルコニウムブトキシド、ジルコニウムアセト酢酸エチル、ジルコニウムトリエタノールアミン、アセチルアセトネートジルコニウムブトキシド、アセト酢酸エチルジルコニウムブトキシド、ジルコニウムアセテート、ジルコニウムオキサレート、ジルコニウムラクテート、ジルコニウムホスホネート、オクタン酸ジルコニウム、ナフテン酸ジルコニウム、ラウリン酸ジルコニウム、ステアリン酸ジルコニウム、イソステアリン酸ジルコニウム、メタクリレートジルコニウムブトキシド、ステアレートジルコニウムブトキシド、イソステアレートジルコニウムブトキシドなどが挙げられる。   Examples of organic zirconium compounds include zirconium butoxide, zirconium zirconium acetoacetate, zirconium triethanolamine, acetylacetonate zirconium butoxide, ethyl acetoacetate butoxide, zirconium acetate, zirconium oxalate, zirconium lactate, zirconium phosphonate, zirconium octoate, Zirconium naphthenate, zirconium laurate, zirconium stearate, zirconium isostearate, methacrylate zirconium butoxide, stearate zirconium butoxide, isostearate zirconium butoxide and the like.

有機チタン化合物の例としては、テトライソプロピルチタネート、テトラノルマルブチルチタネート、ブチルチタネートダイマー、テトラ（２−エチルヘキシル）チタネート、チタンアセチルアセトネート、ポリチタンアセチルアセトネート、チタンオクチレングリコレート、チタンラクテートアンモニウム塩、チタンラクテート、チタンラクテートエチルエステル、チタントリエタノールアミネート、ポリヒドロキシチタンステアレートなどが挙げられる。   Examples of organic titanium compounds include tetraisopropyl titanate, tetranormal butyl titanate, butyl titanate dimer, tetra (2-ethylhexyl) titanate, titanium acetylacetonate, polytitanium acetylacetonate, titanium octylene glycolate, titanium lactate ammonium salt , Titanium lactate, titanium lactate ethyl ester, titanium triethanolamate, polyhydroxy titanium stearate and the like.

有機アルミニウム化合物の例としては、アルミニウムイソプロピレート、モノブトキシアルミニウムジイソプロピレート、アルミニウムブチレート、ジエチルアセトアセテートアルミニウムジイソプロピレート、アルミニウムトリス（エチルアセトアセテート）などが挙げられる。   Examples of the organoaluminum compound include aluminum isopropylate, monobutoxyaluminum diisopropylate, aluminum butyrate, diethyl acetoacetate aluminum diisopropylate, aluminum tris (ethyl acetoacetate) and the like.

中間層は上層の塗布性改善の他に、電気的なブロキング層の役割も果たすが、膜厚が大きすぎる場合には電気的な障壁が強くなりすぎて減感や繰り返しによる電位の上昇を引き起こす。したがって、中間層を形成する場合には、０．１〜５μｍの膜厚範囲に設定することが好ましい。   In addition to improving the coatability of the upper layer, the intermediate layer also serves as an electrical blocking layer, but if the film thickness is too large, the electrical barrier becomes too strong, causing desensitization and potential increase due to repetition. . Therefore, when forming the intermediate layer, it is preferable to set the film thickness within a range of 0.1 to 5 μm.

電荷発生層１は、電荷発生材料を含有して、又は電荷発生材料及び結着樹脂を含有して構成される。   The charge generation layer 1 includes a charge generation material or a charge generation material and a binder resin.

電荷発生材料としては、公知の電荷発生材料を特に制限なく使用することができる。電荷発生材料は、赤外光用ではフタロシアニン顔料、スクアリリウム、ビスアゾ、トリスアゾ、ペリレン、ジチオケトピロロピロール等を用いることができ、可視光用としては縮合多環顔料、ビスアゾ、ペリレン、トリゴナルセレン、色素増感した酸化亜鉛微粒子等を用いることができる。これらの中でも、特に優れた性能が得られることから、フタロシアニン系顔料を用いることが好ましい。フタロシアニン系顔料を用いることにより、特に高感度で、繰り返し安定性の優れる電子写真感光体を得ることができる。   As the charge generation material, known charge generation materials can be used without particular limitation. As the charge generation material, phthalocyanine pigments, squarylium, bisazo, trisazo, perylene, dithioketopyrrolopyrrole, etc. can be used for infrared light, and condensed polycyclic pigments, bisazo, perylene, trigonal selenium, dye sensitizers for visible light Sensed zinc oxide fine particles can be used. Among these, it is preferable to use a phthalocyanine pigment because particularly excellent performance can be obtained. By using a phthalocyanine pigment, an electrophotographic photosensitive member having particularly high sensitivity and excellent repeat stability can be obtained.

また、フタロシアニン顔料は一般に数種の結晶型を有しているが、目的にあった感度が得られる結晶型であるならば、いずれの結晶型でも用いることができる。特に好ましく用いられるフタロシアニン顔料としては、クロロガリウムフタロシアニン、ジクロロススフタロシアニン、ヒドロキシガリウムフタロシアニン、無金属フタロシアニン、オキシチタニルフタロシアニン、クロロインジウムフタロシアニン等が挙げられる。   Further, phthalocyanine pigments generally have several crystal types, but any crystal type can be used as long as it is a crystal type capable of obtaining a sensitivity suitable for the purpose. Particularly preferably used phthalocyanine pigments include chlorogallium phthalocyanine, dichlorosus phthalocyanine, hydroxygallium phthalocyanine, metal-free phthalocyanine, oxytitanyl phthalocyanine, chloroindium phthalocyanine and the like.

本発明で好ましく用いられるフタロシアニン顔料結晶は、公知の方法で製造されるフタロシアニン顔料を、自動乳鉢、遊星ミル、振動ミル、ＣＦミル、ローラーミル、サンドミル、ニーダー等で機械的に乾式粉砕するか、乾式粉砕後、溶剤と共にボールミル、乳鉢、サンドミル、ニーダー等を用いて湿式粉砕処理を行うことによって製造することができる。上記の処理において使用される溶剤は、芳香族類（トルエン、クロロベンゼン等）、アミド類（ジメチルホルムアミド、Ｎ−メチルピロリドン等）、脂肪族アルコール類（メタノール、エタノール、ブタノール等）、脂肪族多価アルコール類（エチレングリコール、グリセリン、ポリエチレングリコール等）、芳香族アルコール類（ベンジルアルコール、フェネチルアルコール等）、エステル類（酢酸エステル、酢酸ブチル等）、ケトン類（アセトン、メチルエチルケトン等）、ジメチルスルホキシド、エーテル類（ジエチルエーテル、テトラヒドロフラン等）、さらには数種の混合系、水とこれら有機溶剤の混合系が挙げられる。溶剤の使用量は、顔料結晶１質量部に対して、１〜２００質量部、好ましくは１０〜１００質量部である。処理温度は、−２０℃〜溶剤の沸点以下、好ましくは−１０〜６０℃である。   The phthalocyanine pigment crystal preferably used in the present invention is obtained by mechanically dry-pulverizing a phthalocyanine pigment produced by a known method with an automatic mortar, planetary mill, vibration mill, CF mill, roller mill, sand mill, kneader, etc. After dry grinding, it can be produced by wet grinding using a ball mill, mortar, sand mill, kneader or the like together with a solvent. Solvents used in the above treatment are aromatics (toluene, chlorobenzene, etc.), amides (dimethylformamide, N-methylpyrrolidone, etc.), aliphatic alcohols (methanol, ethanol, butanol, etc.), aliphatic polyvalents. Alcohols (ethylene glycol, glycerin, polyethylene glycol, etc.), aromatic alcohols (benzyl alcohol, phenethyl alcohol, etc.), esters (acetic ester, butyl acetate, etc.), ketones (acetone, methyl ethyl ketone, etc.), dimethyl sulfoxide, ether (Diethyl ether, tetrahydrofuran, etc.), several mixed systems, and mixed systems of water and these organic solvents. The usage-amount of a solvent is 1-200 mass parts with respect to 1 mass part of pigment crystals, Preferably it is 10-100 mass parts. The treatment temperature is −20 ° C. to the boiling point of the solvent, preferably −10 to 60 ° C.

また、粉砕の際に食塩、ぼう硝等の磨砕助剤を用いることもできる。磨砕助剤の使用量は、顔料の質量の０．５〜２０倍、好ましくは１〜１０倍である。また、公知の方法で製造されるフタロシアニン顔料結晶に対して、アシッドペースティングあるいはアシッドペースティングと上述したような乾式粉砕あるいは湿式粉砕とを組み合わせることにより、結晶制御を行うこともできる。アシッドペースティングに用いる酸としては、硫酸が好ましく、濃度７０〜１００％、好ましくは９５〜１００％のものが使用され、溶解温度は、−２０〜１００℃、好ましくは−１０〜６０℃の範囲に設定される。濃硫酸の量は、フタロシアニン顔料結晶の質量に対して、１〜１００倍、好ましくは３〜５０倍の範囲に設定される。析出させる溶剤としては、水あるいは、水と有機溶剤の混合溶剤が任意の量で用いられる。析出させる温度については特に制限はないが、発熱を防ぐために、氷等で冷却することが好ましい。   In addition, grinding aids such as sodium chloride and sodium nitrate can be used during grinding. The amount of grinding aid used is 0.5 to 20 times, preferably 1 to 10 times the mass of the pigment. Crystal control can also be performed on phthalocyanine pigment crystals produced by a known method by combining acid pasting or acid pasting and dry pulverization or wet pulverization as described above. As an acid used for acid pasting, sulfuric acid is preferable, and one having a concentration of 70 to 100%, preferably 95 to 100% is used, and a dissolution temperature is in a range of -20 to 100 ° C, preferably -10 to 60 ° C. Set to The amount of concentrated sulfuric acid is set in the range of 1 to 100 times, preferably 3 to 50 times the mass of the phthalocyanine pigment crystals. As a solvent to be precipitated, water or a mixed solvent of water and an organic solvent is used in an arbitrary amount. The temperature for precipitation is not particularly limited, but it is preferably cooled with ice or the like in order to prevent heat generation.

電荷発生層１に用いられる結着樹脂としては、広範な絶縁性樹脂から選択することができる、また、ポリ−Ｎ−ビニルカルバゾール、ポリビニルアントラセン、ポリビニルピレン、ポリシランなどの有機光導電性ポリマーから選択することもできる。好ましい結着樹脂としては、ポリビニルアセタール樹脂、ポリアリレート樹脂（ビスフェノールＡとフタル酸の重縮合体等）、ポリカーボネート樹脂、ポリエステル樹脂、フェノキシ樹脂、塩化ビニル−酢酸ビニル共重合体、ポリアミド樹脂、アクリル樹脂、ポリアクリルアミド樹脂、ポリビニルピリジン樹脂、セルロース樹脂、ウレタン樹脂、エポキシ樹脂、カゼイン、ポリビニルアルコール樹脂、ポリビニルピロリドン樹脂等の絶縁性樹脂をあげることができるが、これらに限定されるものではない。これらの結着樹脂は単独あるいは２種以上混合して用いることができる。これらの中で特にポリビニルアセタール樹脂が好ましく用いられる。   The binder resin used for the charge generation layer 1 can be selected from a wide range of insulating resins, and also selected from organic photoconductive polymers such as poly-N-vinylcarbazole, polyvinylanthracene, polyvinylpyrene, and polysilane. You can also Preferred binder resins include polyvinyl acetal resin, polyarylate resin (polycondensate of bisphenol A and phthalic acid, etc.), polycarbonate resin, polyester resin, phenoxy resin, vinyl chloride-vinyl acetate copolymer, polyamide resin, acrylic resin Insulating resin such as polyacrylamide resin, polyvinyl pyridine resin, cellulose resin, urethane resin, epoxy resin, casein, polyvinyl alcohol resin, polyvinyl pyrrolidone resin can be used, but is not limited thereto. These binder resins can be used alone or in admixture of two or more. Of these, polyvinyl acetal resin is particularly preferably used.

電荷発生材料と結着樹脂との配合比（質量比）は、１０：１〜１：１０の範囲が好ましい。   The blending ratio (mass ratio) between the charge generating material and the binder resin is preferably in the range of 10: 1 to 1:10.

電荷発生材料は電気特性の安定性向上、画質欠陥防止などのために表面処理を施すことができる。表面処理剤としてはカップリング剤などを用いることができるがこれに限定されるものではない。   The charge generation material can be subjected to a surface treatment to improve the stability of electrical characteristics and prevent image quality defects. A coupling agent or the like can be used as the surface treatment agent, but is not limited thereto.

表面処理に用いるカップリング剤の例としては、ビニルトリメトキシシラン、γ−メタクリルオキシプロピル−トリス（β−メトキシエトキシ）シラン、β−（３，４−エポキシシクロヘキシル）エチルトリメトキシシラン、γ−グリシドキシプロピルトリメトキシシラン、ビニルトリアセトキシシラン、γ−メルカプトプロピルトリメトキシシラン、γ−アミノプロピルトリエトキシシラン、Ｎ−β−（アミノエチル）−γ−アミノプロピルトリメトキシシラン、Ｎ−β−（アミノエチル）−γ−アミノプロピルメチルメトキシシラン、Ｎ，Ｎ−ビス（β−ヒドロキシエチル）−γ−アミノプロピルトリエトキシシラン、γ−クロルプロピルトリメトキシシランなどのシランカップリング剤が挙げられる。また、特に好ましく用いられるシランカップリング剤としては、ビニルトリエトキシシラン、ビニルトリス（２−メトキシエトキシシラン）、３−メタクリロキシプロピルトリメトキシシラン、３−グリシドキシプロピルトリメトキシシラン、２−（３，４−エポキシシクロヘキシル）エチルトリメトキシシラン、Ｎ−２−（アミノエチル）３−アミノプロピルトリメトキシシラン、Ｎ−２−（アミノエチル）３−アミノプロピルメチルジメトキシシラン、３−アミノプロピルトリエトキシシラン、Ｎ−フェニル−３−アミノプロピルトリメトキシシラン、３−メルカプトプロピルトリメトキシシラン、３−クロロプロピルトリメトキシシランなどのシランカップリング剤が挙げられる。   Examples of coupling agents used for the surface treatment include vinyltrimethoxysilane, γ-methacryloxypropyl-tris (β-methoxyethoxy) silane, β- (3,4-epoxycyclohexyl) ethyltrimethoxysilane, γ-glycol. Sidoxypropyltrimethoxysilane, vinyltriacetoxysilane, γ-mercaptopropyltrimethoxysilane, γ-aminopropyltriethoxysilane, N-β- (aminoethyl) -γ-aminopropyltrimethoxysilane, N-β- ( Examples include silane coupling agents such as aminoethyl) -γ-aminopropylmethylmethoxysilane, N, N-bis (β-hydroxyethyl) -γ-aminopropyltriethoxysilane, and γ-chloropropyltrimethoxysilane. Particularly preferred silane coupling agents include vinyltriethoxysilane, vinyltris (2-methoxyethoxysilane), 3-methacryloxypropyltrimethoxysilane, 3-glycidoxypropyltrimethoxysilane, 2- (3 , 4-epoxycyclohexyl) ethyltrimethoxysilane, N-2- (aminoethyl) 3-aminopropyltrimethoxysilane, N-2- (aminoethyl) 3-aminopropylmethyldimethoxysilane, 3-aminopropyltriethoxysilane And silane coupling agents such as N-phenyl-3-aminopropyltrimethoxysilane, 3-mercaptopropyltrimethoxysilane, and 3-chloropropyltrimethoxysilane.

また、表面処理剤として、ジルコニウムブトキシド、ジルコニウムアセト酢酸エチル、ジルコニウムトリエタノールアミン、アセチルアセトネートジルコニウムブトキシド、アセト酢酸エチルジルコニウムブトキシド、ジルコニウムアセテート、ジルコニウムオキサレート、ジルコニウムラクテート、ジルコニウムホスホネート、オクタン酸ジルコニウム、ナフテン酸ジルコニウム、ラウリン酸ジルコニウム、ステアリン酸ジルコニウム、イソステアリン酸ジルコニウム、メタクリレートジルコニウムブトキシド、ステアレートジルコニウムブトキシド、イソステアレートジルコニウムブトキシドなどの有機ジルコニウム化合物も用いることができる。また、テトライソプロピルチタネート、テトラノルマルブチルチタネート、ブチルチタネートダイマー、テトラ（２−エチルヘキシル）チタネート、チタンアセチルアセトネート、ポリチタンアセチルアセトネート、チタンオクチレングリコレート、チタンラクテートアンモニウム塩、チタンラクテート、チタンラクテートエチルエステル、チタントリエタノールアミネート、ポリヒドロキシチタンステアレートなどの有機チタン化合物、アルミニウムイソプロピレート、モノブトキシアルミニウムジイソプロピレート、アルミニウムブチレート、ジエチルアセトアセテートアルミニウムジイソプロピレート、アルミニウムトリス（エチルアセトアセテート）などの有機アルミニウム化合物も用いることができる。   Surface treatment agents include zirconium butoxide, zirconium zirconium acetoacetate, zirconium triethanolamine, acetylacetonate zirconium butoxide, ethyl acetoacetate butoxide, zirconium acetate, zirconium oxalate, zirconium lactate, zirconium phosphonate, zirconium octoate, naphthene. Organic zirconium compounds such as zirconium acid, zirconium laurate, zirconium stearate, zirconium isostearate, methacrylate zirconium butoxide, stearate zirconium butoxide, isostearate zirconium butoxide can also be used. Tetraisopropyl titanate, tetranormal butyl titanate, butyl titanate dimer, tetra (2-ethylhexyl) titanate, titanium acetylacetonate, polytitanium acetylacetonate, titanium octylene glycolate, titanium lactate ammonium salt, titanium lactate, titanium lactate Organic titanium compounds such as ethyl ester, titanium triethanolamate, polyhydroxy titanium stearate, aluminum isopropylate, monobutoxy aluminum diisopropylate, aluminum butyrate, diethyl acetoacetate aluminum diisopropylate, aluminum tris (ethyl acetoacetate) An organoaluminum compound such as can also be used.

更に、電荷発生層１には、電気特性向上、画質向上などのために種々の添加剤を添加することもできる。添加物としては、クロラニル、ブロモアニル、アントラキノン等のキノン系化合物、テトラシアノキノジメタン系化合物、２，４，７−トリニトロフルオレノン、２，４，５，７−テトラニトロ−９−フルオレノン等のフルオレノン化合物、２−（４−ビフェニル）−５−（４−ｔ−ブチルフェニル）−１，３，４−オキサジアゾールや２，５−ビス（４−ナフチル）−１，３，４−オキサジアゾール、２，５−ビス（４−ジエチルアミノフェニル）１，３，４オキサジアゾールなどのオキサジアゾール系化合物、キサントン系化合物、チオフェン化合物、３，３’，５，５’テトラ−ｔ−ブチルジフェノキノン等のジフェノキノン化合物などの電子輸送性物質、多環縮合系、アゾ系等の電子輸送性顔料、ジルコニウムキレート化合物、チタニウムキレート化合物、アルミニウムキレート化合物、チタニウムアルコキシド化合物、有機チタニウム化合物、シランカップリング剤等の公知の材料を用いることができる。   Furthermore, various additives can be added to the charge generation layer 1 in order to improve electrical characteristics and image quality. Additives include quinone compounds such as chloranil, bromoanil and anthraquinone, tetracyanoquinodimethane compounds, fluorenones such as 2,4,7-trinitrofluorenone and 2,4,5,7-tetranitro-9-fluorenone Compounds, 2- (4-biphenyl) -5- (4-t-butylphenyl) -1,3,4-oxadiazole and 2,5-bis (4-naphthyl) -1,3,4-oxadi Azoles, oxadiazole compounds such as 2,5-bis (4-diethylaminophenyl) 1,3,4 oxadiazole, xanthone compounds, thiophene compounds, 3,3 ′, 5,5 ′ tetra-t-butyl Electron transporting substances such as diphenoquinone compounds such as diphenoquinone, electron transporting pigments such as polycyclic condensation systems and azo systems, zirconium chelate compounds, tita Umukireto compounds, aluminum chelate compounds, titanium alkoxide compounds, organic titanium compounds, there can be used a known material such as a silane coupling agent.

シランカップリング剤の例としては、ビニルトリメトキシシラン、γ−メタクリルオキシプロピル−トリス（β−メトキシエトキシ）シラン、β−（３，４−エポキシシクロヘキシル）エチルトリメトキシシラン、γ−グリシドキシプロピルトリメトキシシラン、ビニルトリアセトキシシラン、γ−メルカプトプロピルトリメトキシシラン、γ−アミノプロピルトリエトキシシラン、Ｎ−β−（アミノエチル）−γ−アミノプロピルトリメトキシシラン、Ｎ−β−（アミノエチル）−γ−アミノプロピルメチルメトキシシラン、Ｎ，Ｎ−ビス（β−ヒドロキシエチル）−γ−アミノプロピルトリエトキシシラン、γ−クロルプロピルトリメトキシシランなどが挙げられる。   Examples of silane coupling agents include vinyltrimethoxysilane, γ-methacryloxypropyl-tris (β-methoxyethoxy) silane, β- (3,4-epoxycyclohexyl) ethyltrimethoxysilane, γ-glycidoxypropyl. Trimethoxysilane, vinyltriacetoxysilane, γ-mercaptopropyltrimethoxysilane, γ-aminopropyltriethoxysilane, N-β- (aminoethyl) -γ-aminopropyltrimethoxysilane, N-β- (aminoethyl) -Γ-aminopropylmethylmethoxysilane, N, N-bis (β-hydroxyethyl) -γ-aminopropyltriethoxysilane, γ-chloropropyltrimethoxysilane, and the like.

ジルコニウムキレート化合物の例としては、ジルコニウムブトキシド、ジルコニウムアセト酢酸エチル、ジルコニウムトリエタノールアミン、アセチルアセトネートジルコニウムブトキシド、アセト酢酸エチルジルコニウムブトキシド、ジルコニウムアセテート、ジルコニウムオキサレート、ジルコニウムラクテート、ジルコニウムホスホネート、オクタン酸ジルコニウム、ナフテン酸ジルコニウム、ラウリン酸ジルコニウム、ステアリン酸ジルコニウム、イソステアリン酸ジルコニウム、メタクリレートジルコニウムブトキシド、ステアレートジルコニウムブトキシド、イソステアレートジルコニウムブトキシドなどが挙げられる。   Examples of zirconium chelate compounds include zirconium butoxide, zirconium zirconium acetoacetate, zirconium triethanolamine, acetylacetonate zirconium butoxide, ethyl acetoacetate butoxide, zirconium acetate, zirconium oxalate, zirconium lactate, zirconium phosphonate, zirconium octoate, Zirconium naphthenate, zirconium laurate, zirconium stearate, zirconium isostearate, methacrylate zirconium butoxide, stearate zirconium butoxide, isostearate zirconium butoxide and the like.

チタニウムキレート化合物の例としては、テトライソプロピルチタネート、テトラノルマルブチルチタネート、ブチルチタネートダイマー、テトラ（２−エチルヘキシル）チタネート、チタンアセチルアセトネート、ポリチタンアセチルアセトネート、チタンオクチレングリコレート、チタンラクテートアンモニウム塩、チタンラクテート、チタンラクテートエチルエステル、チタントリエタノールアミネート、ポリヒドロキシチタンステアレートなどが挙げられる。   Examples of titanium chelate compounds include tetraisopropyl titanate, tetranormal butyl titanate, butyl titanate dimer, tetra (2-ethylhexyl) titanate, titanium acetylacetonate, polytitanium acetylacetonate, titanium octylene glycolate, titanium lactate ammonium salt , Titanium lactate, titanium lactate ethyl ester, titanium triethanolamate, polyhydroxy titanium stearate and the like.

アルミニウムキレート化合物の例としては、アルミニウムイソプロピレート、モノブトキシアルミニウムジイソプロピレート、アルミニウムブチレート、ジエチルアセトアセテートアルミニウムジイソプロピレート、アルミニウムトリス（エチルアセトアセテート）などが挙げられる。   Examples of the aluminum chelate compound include aluminum isopropylate, monobutoxy aluminum diisopropylate, aluminum butyrate, diethyl acetoacetate aluminum diisopropylate, aluminum tris (ethyl acetoacetate) and the like.

これらの化合物は単独であるいは複数の化合物の混合物又は重縮合物として用いることができる。   These compounds can be used alone or as a mixture or polycondensate of a plurality of compounds.

電荷発生層１は、上記の各構成材料を含有する電荷発生層形成用塗布液を用いて形成される。   The charge generation layer 1 is formed using a charge generation layer forming coating solution containing each of the above constituent materials.

塗布液を調整するための溶媒としては、公知の有機溶剤、例えば、アルコール系、芳香族系、ハロゲン化炭化水素系、ケトン系、ケトンアルコール系、エーテル系、エステル系等から任意に選択することができる。具体的には、例えば、メタノール、エタノール、ｎ−プロパノール、ｉｓｏ−プロパノール、ｎ−ブタノール、ベンジルアルコール、メチルセルソルブ、エチルセルソルブ、アセトン、メチルエチルケトン、シクロヘキサノン、酢酸メチル、酢酸エチル、酢酸ｎ−ブチル、ジオキサン、テトラヒドロフラン、メチレンクロライド、クロロホルム、クロルベンゼン、トルエン等の通常の有機溶剤を用いることができる。また、これらの溶剤は単独で又は２種以上を混合して用いることができる。２種以上を混合する際、使用される溶剤としては、混合溶剤として結着樹脂を溶かす事ができる溶剤であれば、いかなるものでも使用することが可能である。   The solvent for adjusting the coating solution is arbitrarily selected from known organic solvents such as alcohols, aromatics, halogenated hydrocarbons, ketones, ketone alcohols, ethers, esters, etc. Can do. Specifically, for example, methanol, ethanol, n-propanol, iso-propanol, n-butanol, benzyl alcohol, methyl cellosolve, ethyl cellosolve, acetone, methyl ethyl ketone, cyclohexanone, methyl acetate, ethyl acetate, n-butyl acetate Ordinary organic solvents such as dioxane, tetrahydrofuran, methylene chloride, chloroform, chlorobenzene, and toluene can be used. These solvents can be used alone or in admixture of two or more. When two or more kinds are mixed, any solvent can be used as long as it can dissolve the binder resin as a mixed solvent.

塗布液を分散させる方法としては、ロールミル、ボールミル、振動ボールミル、アトライター、サンドミル、コロイドミル、ペイントシェーカーなどの方法を用いることができる。この分散の際、電荷発生材料の粒子を０．５μｍ以下、好ましくは０．３μｍ以下、さらに好ましくは０．１５μｍ以下の粒子サイズにすることが、高感度、高安定性に対して有効である。   As a method for dispersing the coating solution, methods such as a roll mill, a ball mill, a vibrating ball mill, an attritor, a sand mill, a colloid mill, and a paint shaker can be used. In this dispersion, it is effective for high sensitivity and high stability that the particle size of the charge generation material is 0.5 μm or less, preferably 0.3 μm or less, more preferably 0.15 μm or less. .

電荷発生層形成用塗布液の塗布は、浸漬塗布法により行われる。なお、電荷発生層形成用塗布液の塗布は、ブレードコーティング法、ワイヤーバーコーティング法、スプレーコーティング法、ビードコーティング法、エアーナイフコーティング法、カーテンコーティング法等の通常の方法を用いて行うこともできるが、これらの方法により塗布を行った場合、得られる電荷発生層１は本発明における機能層には含まないものとする。また、電荷発生層１は、電荷発生材料を蒸着することによって形成することもできるが、この場合にも、得られる電荷発生層１は本発明における機能層には含まないものとする。   The charge generation layer forming coating solution is applied by a dip coating method. The coating solution for forming the charge generation layer can also be applied using a usual method such as a blade coating method, a wire bar coating method, a spray coating method, a bead coating method, an air knife coating method, or a curtain coating method. However, when coating is performed by these methods, the charge generation layer 1 obtained is not included in the functional layer in the present invention. The charge generation layer 1 can also be formed by vapor deposition of a charge generation material, but in this case as well, the obtained charge generation layer 1 is not included in the functional layer in the present invention.

電荷発生層１の膜厚は、０．１〜５μｍであることが好ましく、０．２〜２．０μｍであることがより好ましい。   The film thickness of the charge generation layer 1 is preferably 0.1 to 5 μm, and more preferably 0.2 to 2.0 μm.

電荷輸送層２は、電荷輸送材料及び結着樹脂を含有して、又は高分子電荷輸送材を含有して構成される。   The charge transport layer 2 includes a charge transport material and a binder resin, or includes a polymer charge transport material.

電荷輸送材料としては、公知のものを特に制限なく使用可能であるが、例えば、２，５−ビス（ｐ−ジエチルアミノフェニル）−１，３，４−オキサジアゾールなどのオキサジアゾール誘導体、１，３，５−トリフェニル−ピラゾリン、１−［ピリジル−（２）］−３−（ｐ−ジエチルアミノスチリル）−５−（ｐ−ジエチルアミノスチリル）ピラゾリンなどのピラゾリン誘導体、トリフェニルアミン、トリ（ｐ−メチル）フェニルアミン、Ｎ，Ｎ’−ビス（３，４−ジメチルフェニル）ビフェニル−４−アミン、ジベンジルアニリン、９，９−ジメチル−Ｎ，Ｎ’−ジ（ｐ−トリル）フルオレノン−２−アミンなどの芳香族第３級アミノ化合物、Ｎ，Ｎ’−ジフェニル−Ｎ，Ｎ’−ビス（３−メチルフェニル）−［１，１−ビフェニル］−４，４’−ジアミンなどの芳香族第３級ジアミノ化合物、３−（４’ジメチルアミノフェニル）−５，６−ジ−（４’−メトキシフェニル）−１，２，４−トリアジンなどの１，２，４−トリアジン誘導体、４−ジエチルアミノベンズアルデヒド−１，１−ジフェニルヒドラゾン、４−ジフェニルアミノベンズアルデヒド−１，１−ジフェニルヒドラゾン、［ｐ−（ジエチルアミノ）フェニル］（１−ナフチル）フェニルヒドラゾンなどのヒドラゾン誘導体、２−フェニル−４−スチリル−キナゾリンなどのキナゾリン誘導体、６−ヒドロキシ−２，３−ジ（ｐ−メトキシフェニル）−ベンゾフランなどのベンゾフラン誘導体、ｐ−（２，２−ジフェニルビニル）−Ｎ，Ｎ’−ジフェニルアニリンなどのα−スチルベン誘導体、エナミン誘導体、Ｎ−エチルカルバゾールなどのカルバゾール誘導体、ポリ−Ｎ−ビニルカルバゾール及びその誘導体などの正孔輸送物質等を用いることができる。また、電荷輸送材料としては、クロラニル、ブロモアニル、アントラキノン等のキノン系化合物、テトラシアノキノジメタン系化合物、２，４，７−トリニトロフルオレノン、２，４，５，７−テトラニトロ−９−フルオレノン等のフルオレノン化合物、２−（４−ビフェニル）−５−（４−ｔ−ブチルフェニル）−１，３，４−オキサジアゾールや２，５−ビス（４−ナフチル）−１，３，４−オキサジアゾール、２，５−ビス（４−ジエチルアミノフェニル）１，３，４オキサジアゾールなどのオキサジアゾール系化合物、キサントン系化合物、チオフェン化合物、３，３’，５，５’テトラ−ｔ−ブチルジフェノキノン等のジフェノキノン化合物などの電子輸送物質、あるいは以上に示した化合物からなる基を主鎖又は側鎖に有する重合体などを用いることもできる。これらの電荷輸送材料は、１種を単独で又は２種以上を組み合せて使用できる。   As the charge transport material, known materials can be used without particular limitation. For example, oxadiazole derivatives such as 2,5-bis (p-diethylaminophenyl) -1,3,4-oxadiazole, , 3,5-triphenyl-pyrazoline, pyrazoline derivatives such as 1- [pyridyl- (2)]-3- (p-diethylaminostyryl) -5- (p-diethylaminostyryl) pyrazoline, triphenylamine, tri (p -Methyl) phenylamine, N, N'-bis (3,4-dimethylphenyl) biphenyl-4-amine, dibenzylaniline, 9,9-dimethyl-N, N'-di (p-tolyl) fluorenone-2 Aromatic tertiary amino compounds such as amines, N, N′-diphenyl-N, N′-bis (3-methylphenyl)-[1,1-biphenyl]- Aromatic tertiary diamino compounds such as 4,4′-diamine, 1,3- (4′dimethylaminophenyl) -5,6-di- (4′-methoxyphenyl) -1,2,4-triazine, etc. Hydrazones such as 2,4-triazine derivatives, 4-diethylaminobenzaldehyde-1,1-diphenylhydrazone, 4-diphenylaminobenzaldehyde-1,1-diphenylhydrazone, [p- (diethylamino) phenyl] (1-naphthyl) phenylhydrazone Derivatives, quinazoline derivatives such as 2-phenyl-4-styryl-quinazoline, benzofuran derivatives such as 6-hydroxy-2,3-di (p-methoxyphenyl) -benzofuran, p- (2,2-diphenylvinyl) -N , N′-Diphenylaniline and other α-stilbene derivatives, enamine derivatives , Hole transport materials such as carbazole derivatives such as N-ethylcarbazole, poly-N-vinylcarbazole and derivatives thereof, and the like can be used. Examples of the charge transport material include quinone compounds such as chloranil, bromoanil, anthraquinone, tetracyanoquinodimethane compounds, 2,4,7-trinitrofluorenone, 2,4,5,7-tetranitro-9-fluorenone. Fluorenone compounds such as 2- (4-biphenyl) -5- (4-t-butylphenyl) -1,3,4-oxadiazole and 2,5-bis (4-naphthyl) -1,3,4 -Oxadiazole compounds such as oxadiazole, 2,5-bis (4-diethylaminophenyl) 1,3,4 oxadiazole, xanthone compounds, thiophene compounds, 3,3 ', 5,5' tetra- An electron transport material such as a diphenoquinone compound such as t-butyldiphenoquinone, or a heavy chain having a group consisting of the above compounds in the main chain or side chain. Or the like can also be used body. These charge transport materials can be used alone or in combination of two or more.

結着樹脂としては、公知のものを特に制限なく使用することができるが、電気絶縁性のフィルムを形成可能な樹脂であることが好ましい。結着樹脂としては、例えば、ポリカーボネート樹脂、ポリエステル樹脂、メタクリル樹脂、アクリル樹脂、ポリ塩化ビニル樹脂、ポリ塩化ビニリデン樹脂、ポリスチレン樹脂、ポリビニルアセテート樹脂、スチレン−ブタジエン共重合体、塩化ビニリデン−アクリロニトリル共重合体、塩化ビニル−酢酸ビニル共重合体、塩化ビニル−酢酸ビニル−無水マレイン酸共重合体、シリコーン樹脂、シリコーン−アルキッド樹脂、フェノール−ホルムアルデヒド樹脂、スチレン−アルキッド樹脂、ポリ−Ｎ−カルバゾール、ポリビニルブチラール、ポリビニルフォルマール、ポリスルホン、カゼイン、ゼラチン、ポリビニルアルコール、エチルセルロース、フェノール樹脂、ポリアミド、カルボキシーメチルセルロース、塩化ビニリデン系ポリマーワックス、ポリウレタン等が挙げられるが、これらに限定されるものではない。これらの結着樹脂は、単独で又は２種類以上を混合して用いられるが、特にポリカーボネート樹脂、ポリエステル樹脂、メタクリル樹脂、アクリル樹脂が電荷輸送材との相溶性、溶剤への溶解性、強度の点で優れ好ましく用いられる。   As the binder resin, a known resin can be used without particular limitation, but is preferably a resin capable of forming an electrically insulating film. Examples of the binder resin include polycarbonate resin, polyester resin, methacrylic resin, acrylic resin, polyvinyl chloride resin, polyvinylidene chloride resin, polystyrene resin, polyvinyl acetate resin, styrene-butadiene copolymer, vinylidene chloride-acrylonitrile copolymer. Polymer, vinyl chloride-vinyl acetate copolymer, vinyl chloride-vinyl acetate-maleic anhydride copolymer, silicone resin, silicone-alkyd resin, phenol-formaldehyde resin, styrene-alkyd resin, poly-N-carbazole, polyvinyl butyral , Polyvinyl formal, polysulfone, casein, gelatin, polyvinyl alcohol, ethyl cellulose, phenol resin, polyamide, carboxymethyl cellulose, vinylidene chloride polymer Box, Polyurethane, etc., but is not limited thereto. These binder resins may be used alone or in combination of two or more, but in particular, polycarbonate resins, polyester resins, methacrylic resins, and acrylic resins are compatible with charge transport materials, soluble in solvents, and strong. It is excellent in terms and is preferably used.

結着樹脂と電荷輸送材料との配合比（質量比）は任意に設定することができるが、１０：１〜１：５であることが好ましく、７：３〜３：７であることがより好ましく、６：４〜４：６であることが更に好ましい。なお、かかる配合比は、電気特性低下、膜強度低下に配慮しつつ決定される。   The mixing ratio (mass ratio) of the binder resin and the charge transport material can be arbitrarily set, but is preferably 10: 1 to 1: 5, and more preferably 7: 3 to 3: 7. Preferably, it is 6: 4-4: 6. Such a blending ratio is determined in consideration of a decrease in electrical characteristics and a decrease in film strength.

電荷輸送層２は、上述した電荷輸送材料及び結着樹脂を適当な溶媒に溶解させた電荷輸送層形成用塗布液を電荷発生層１上に塗布し、乾燥することによって形成することができる。電荷輸送層形成用塗布液に使用される溶媒としては、例えば、トルエン、クロロベンゼン等の芳香族炭化水素系溶剤、メタノール、エタノール、ｎ−ブタノール等の脂肪族アルコール系溶剤、アセトン、シクロヘキサノン、２−ブタノン等のケトン系溶剤、塩化メチレン、クロロホルム、塩化エチレン等のハロゲン化脂肪族炭化水素溶剤、テトラヒドロフラン、ジオキサン、エチレングリコール、ジエチルエーテル等の環状或いは直鎖状エーテル系溶剤、或いはこれらの混合溶剤などを用いることができる。これらの溶剤は、単独で又は２種以上を混合して用いることができる。   The charge transport layer 2 can be formed by applying a charge transport layer forming coating solution in which the above-described charge transport material and binder resin are dissolved in a suitable solvent on the charge generation layer 1 and drying. Examples of the solvent used in the coating solution for forming the charge transport layer include aromatic hydrocarbon solvents such as toluene and chlorobenzene, aliphatic alcohol solvents such as methanol, ethanol and n-butanol, acetone, cyclohexanone, 2- Ketone solvents such as butanone, halogenated aliphatic hydrocarbon solvents such as methylene chloride, chloroform and ethylene chloride, cyclic or linear ether solvents such as tetrahydrofuran, dioxane, ethylene glycol and diethyl ether, or mixed solvents thereof Can be used. These solvents can be used alone or in admixture of two or more.

電荷輸送層形成用塗布液の塗布は、浸漬塗布法により行われる。なお、電荷輸送層形成用塗布液の塗布は、ブレードコーティング法、ワイヤーバーコーティング法、スプレーコーティング法、ビードコーティング法、エアーナイフコーティング法、カーテンコーティング法、突き上げ塗布法、ロールコータ塗布法、グラビアコータ塗布法等の通常の方法を用いて行うこともできるが、これらの方法により塗布を行った場合、得られる電荷輸送層２は本発明における機能層には含まないものとする。   The charge transport layer forming coating solution is applied by a dip coating method. The coating solution for forming the charge transport layer is applied by blade coating method, wire bar coating method, spray coating method, bead coating method, air knife coating method, curtain coating method, push-up coating method, roll coater coating method, gravure coater. Although it can also carry out using normal methods, such as the apply | coating method, when apply | coating by these methods, the charge transport layer 2 obtained shall not be contained in the functional layer in this invention.

電荷輸送層２の膜厚は、５〜５０μｍであることが好ましく、１０〜４０μｍであることがより好ましい。   The film thickness of the charge transport layer 2 is preferably 5 to 50 μm, and more preferably 10 to 40 μm.

また、本発明では、フッ素系樹脂粒子を含有する電荷輸送層２を用いることができる。この場合、電荷輸送層２中におけるフッ素系樹脂粒子の含有量は、電荷輸送層２の固形分全量を基準として、０．１〜４０質量％であることが好ましく、１〜３０質量％であることがより好ましい。この含有量が０．１質量％未満ではフッ素系樹脂粒子の分散による改質効果が十分でない傾向にあり、一方、４０質量％を越えると光通過性が低下し、かつ、繰返し使用による残留電位の上昇が生じる傾向にある。   Moreover, in this invention, the charge transport layer 2 containing a fluorine resin particle can be used. In this case, the content of the fluororesin particles in the charge transport layer 2 is preferably 0.1 to 40% by mass, and 1 to 30% by mass based on the total solid content of the charge transport layer 2. It is more preferable. If this content is less than 0.1% by mass, the modification effect due to the dispersion of the fluorine-based resin particles tends to be insufficient. On the other hand, if it exceeds 40% by mass, the light transmission property decreases, and the residual potential due to repeated use. Tend to increase.

本発明で用いるフッ素系樹脂粒子としては、４フッ化エチレン樹脂、３フッ化塩化エチレン樹脂、６フッ化プロピレン樹脂、フッ化ビニル樹脂、フッ化ビニリデン樹脂、２フッ化２塩化エチレン樹脂及びそれらの共重合体の中から１種あるいは２種以上を適宜選択することが望ましいが、特に、４フッ化エチレン樹脂、フッ化ビニリデン樹脂を用いることが好ましい。   Examples of the fluorine resin particles used in the present invention include a tetrafluoroethylene resin, a trifluorinated ethylene resin, a hexafluoropropylene resin, a vinyl fluoride resin, a vinylidene fluoride resin, a difluorodiethylene chloride resin, and their Although it is desirable to appropriately select one or more of the copolymers, it is particularly preferable to use a tetrafluoroethylene resin or a vinylidene fluoride resin.

フッ素系樹脂粒子の一次粒径は、０．０５μｍ〜１μｍであることが好ましく、０．１μｍ〜０．５μｍであることがより好ましい。一次粒径が０．０５μｍ未満であると分散時の凝集が進みやすくなる傾向にあり、１μｍを超えると画質欠陥が発生し易くなる傾向にある。   The primary particle size of the fluorine resin particles is preferably 0.05 μm to 1 μm, and more preferably 0.1 μm to 0.5 μm. When the primary particle size is less than 0.05 μm, aggregation at the time of dispersion tends to proceed, and when it exceeds 1 μm, image quality defects tend to occur.

電荷輸送層２中にフッ素系樹脂粒子を分散させる方法としては、ロールミル、ボールミル、振動ボールミル、アトライター、サンドミル、高圧ホモジナイザー、超音波分散機、コロイドミル、高圧衝突式メディアレス分散機、高圧貫通式メディアレス分散機等の方法を用いることができる。   The method of dispersing the fluorine resin particles in the charge transport layer 2 includes a roll mill, a ball mill, a vibrating ball mill, an attritor, a sand mill, a high-pressure homogenizer, an ultrasonic disperser, a colloid mill, a high-pressure collision type medialess disperser, and a high-pressure penetration. A method such as a type medialess disperser can be used.

電荷輸送層２を形成するための塗布液の分散例としては、溶媒に溶解した結着樹脂、電荷輸送材料などの溶液中にフッ素系樹脂粒子を分散する方法が挙げられる。また、電荷輸送層形成用塗布液は、塗布液の温度を０〜５０℃に制御して分散処理を行うことで調製することが好ましい。塗布液の温度を０〜５０℃に制御する方法としては、水で冷やす、風で冷やす、冷媒で冷やす、製造工程の室温を調節する、温水で暖める、熱風で温める、ヒーターで暖める、発熱しにくい材料で塗布液製造設備を作る、放熱しやすい材料で塗布液製造設備を作る、蓄熱しやすい材料で塗布液製造設備を作るなどの方法が利用できる。塗布液の前混合方法としては、スターラー、攪拌羽による攪拌、ロールミル、サンドミル、アトライター、ボールミル、高圧ホモジナイザー、超音波分散機等の方法が利用できる。また、分散方法としては、サンドミル、アトライター、ボールミル、高圧ホモジナイザー、超音波分散機、ロールミル等の方法が利用できる。   Examples of the dispersion of the coating liquid for forming the charge transport layer 2 include a method of dispersing the fluorine resin particles in a solution of a binder resin, a charge transport material or the like dissolved in a solvent. Moreover, it is preferable to prepare the coating liquid for charge transport layer formation by controlling the temperature of the coating liquid at 0 to 50 ° C. and performing a dispersion treatment. As a method of controlling the temperature of the coating solution to 0 to 50 ° C., cool with water, cool with wind, cool with refrigerant, adjust the room temperature of the manufacturing process, warm with warm water, warm with hot air, warm with heater, generate heat Methods such as making coating liquid manufacturing equipment with difficult materials, making coating liquid manufacturing equipment with materials that easily dissipate heat, and making coating liquid manufacturing equipment with materials that easily store heat can be used. As a premixing method of the coating liquid, methods such as a stirrer, stirring with a stirring blade, a roll mill, a sand mill, an attritor, a ball mill, a high-pressure homogenizer, and an ultrasonic disperser can be used. As a dispersion method, a sand mill, an attritor, a ball mill, a high-pressure homogenizer, an ultrasonic disperser, a roll mill, or the like can be used.

また、電荷輸送層形成用塗布液の分散安定性を向上させるため、及び塗膜形成時のフッ素系樹脂粒子の凝集を防止するために、分散助剤を塗布液に少量添加することも有効である。分散助剤としては、フッ素系界面活性剤、フッ素系ポリマー、シリコーン系ポリマー、シリコーンオイル等が挙げられる。   It is also effective to add a small amount of a dispersion aid to the coating solution in order to improve the dispersion stability of the coating solution for forming the charge transport layer and to prevent aggregation of the fluororesin particles during coating film formation. is there. Examples of the dispersion aid include a fluorine-based surfactant, a fluorine-based polymer, a silicone-based polymer, and a silicone oil.

保護層５は、帯電時の電荷輸送層２の化学的変化を防止したり、感光層６の機械的強度をさらに改善する為に設けられる層である。   The protective layer 5 is a layer provided to prevent chemical change of the charge transport layer 2 during charging or to further improve the mechanical strength of the photosensitive layer 6.

この保護層５は、硬化性樹脂、電荷輸送性化合物を含む樹脂硬化膜、導電性材料を適当な結着樹脂中に含有させて形成された膜などからなる。硬化性樹脂としては公地の樹脂であれば特に制限なく使用することができるが、例えば、フェノール樹脂、ポリウレタン樹脂、メラミン樹脂、ジアリルフタレート樹脂、シロキサン樹脂等が挙げられる。   The protective layer 5 is made of a curable resin, a cured resin film containing a charge transporting compound, a film formed by containing a conductive material in an appropriate binder resin, or the like. The curable resin can be used without particular limitation as long as it is a public resin, and examples thereof include phenol resin, polyurethane resin, melamine resin, diallyl phthalate resin, and siloxane resin.

感光層６には、画像形成装置中で発生するオゾンや酸化性ガス、あるいは光、熱による電子写真感光体の劣化を防止する目的で、酸化防止剤や光安定剤などの添加剤を添加することができる。   Additives such as antioxidants and light stabilizers are added to the photosensitive layer 6 for the purpose of preventing deterioration of the electrophotographic photosensitive member due to ozone, oxidizing gas, or light or heat generated in the image forming apparatus. be able to.

酸化防止剤としては、例えば、ヒンダードフェノール、ヒンダードアミン、パラフェニレンジアミン、アリールアルカン、ハイドロキノン、スピロクロマン、スピロインダノン及びそれらの誘導体、有機硫黄化合物、有機燐化合物などが挙げられる。   Examples of the antioxidant include hindered phenol, hindered amine, paraphenylenediamine, arylalkane, hydroquinone, spirochroman, spiroidanone and their derivatives, organic sulfur compounds, and organic phosphorus compounds.

酸化防止剤の具体的な化合物例としては、フェノール系酸化防止剤では２，６−ジ−ｔ−ブチル−４−メチルフェノール、スチレン化フェノール、ｎ−オクタデシル−３−（３’，５’−ジ−ｔ−ブチル−４’−ヒドロキシフェニル）−プロピオネート、２，２’−メチレン−ビス−（４−メチル−６−ｔ−ブチルフェノール）、２−ｔ−ブチル−６−（３’−ｔ−ブチル−５’−メチル−２’−ヒドロキシベンジル）−４−メチルフェニルアクリレート、４，４’−ブチリデン−ビス−（３−メチル−６−ｔ−ブチル−フェノール）、４，４’−チオ−ビス−（３−メチル−６−ｔ−ブチルフェノール）、１，３，５−トリス（４−ｔ−ブチル−３−ヒドロキシ−２，６−ジメチルベンジル）イソシアヌレート、テトラキス−［メチレン−３−（３’，５’−ジ−ｔ−ブチル−４’−ヒドロキシ−フェニル）プロピオネート］−メタン、３，９−ビス［２−［３−（３−ｔ−ブチル−４−ヒドロキシ−５−メチルフェニル）プロピオニルオキシ］−１，１−ジメチルエチル］−２，４，８，１０−テトラオキサスピロ［５，５］ウンデカンなどが挙げられる。   Specific examples of the antioxidant include 2,6-di-tert-butyl-4-methylphenol, styrenated phenol, n-octadecyl-3- (3 ′, 5′-) for phenolic antioxidants. Di-t-butyl-4'-hydroxyphenyl) -propionate, 2,2'-methylene-bis- (4-methyl-6-t-butylphenol), 2-t-butyl-6- (3'-t- Butyl-5'-methyl-2'-hydroxybenzyl) -4-methylphenyl acrylate, 4,4'-butylidene-bis- (3-methyl-6-tert-butyl-phenol), 4,4'-thio- Bis- (3-methyl-6-tert-butylphenol), 1,3,5-tris (4-tert-butyl-3-hydroxy-2,6-dimethylbenzyl) isocyanurate, tetrakis- [methylene- -(3 ', 5'-di-t-butyl-4'-hydroxy-phenyl) propionate] -methane, 3,9-bis [2- [3- (3-t-butyl-4-hydroxy-5- Methylphenyl) propionyloxy] -1,1-dimethylethyl] -2,4,8,10-tetraoxaspiro [5,5] undecane.

ヒンダードアミン系化合物としては、ビス（２，２，６，６−テトラメチル−４−ピペリジル）セバケート、ビス（１，２，２，６，６−ペンタメチル−４−ピペリジル）セバケート、１−［２−［３−（３，５−ジ−ｔ−ブチル−４−ヒドロキシフェニル）プロピオニルオキシ］エチル］−４−［３−（３，５−ジ−ｔ−ブチル−４−ヒドロキシフェニル）プロピオニルオキシ］−２，２，６，６−テトラメチルピペリジン、８−ベンジル−７，７，９，９−テトラメチル−３−オクチル−１，３，８−トリアザスピロ［４，５］ウンデカン−２，４−ジオン、４−ベンゾイルオキシ−２，２，６，６−テトラメチルピペリジン、コハク酸ジメチル−１−（２−ヒドロキシエチル）−４−ヒドロキシ−２，２，６，６−テトラメチルピペリジン重縮合物、ポリ［｛６−（１，１，３，３−テトラメチルブチル）イミノ−１，３，５−トリアジン−２，４−ジイミル｝｛（２，２，６，６−テトラメチル−４−ピペリジル）イミノ｝ヘキサメチレン｛（２，３，６，６−テトラメチル−４−ピペリジル）イミノ｝］、２−（３，５−ジ−ｔ−ブチル−４−ヒドロキシベンジル）−２−ｎ−ブチルマロン酸ビス（１，２，２，６，６−ペンタメチル−４−ピペリジル）、Ｎ，Ｎ’−ビス（３−アミノプロピル）エチレンジアミン−２，４−ビス［Ｎ−ブチル−Ｎ−（１，２，２，６，６，−ペンタメチル−４ピペリジル）アミノ］−６−クロロ−１，３，５−トリアジン縮合物などが挙げられる。   Examples of hindered amine compounds include bis (2,2,6,6-tetramethyl-4-piperidyl) sebacate, bis (1,2,2,6,6-pentamethyl-4-piperidyl) sebacate, 1- [2- [3- (3,5-di-tert-butyl-4-hydroxyphenyl) propionyloxy] ethyl] -4- [3- (3,5-di-tert-butyl-4-hydroxyphenyl) propionyloxy]- 2,2,6,6-tetramethylpiperidine, 8-benzyl-7,7,9,9-tetramethyl-3-octyl-1,3,8-triazaspiro [4,5] undecane-2,4-dione 4-benzoyloxy-2,2,6,6-tetramethylpiperidine, dimethyl-1- (2-hydroxyethyl) -4-hydroxy-2,2,6,6-tetramethylpiperidine succinate Polycondensate, poly [{6- (1,1,3,3-tetramethylbutyl) imino-1,3,5-triazine-2,4-diimyl} {(2,2,6,6-tetra Methyl-4-piperidyl) imino} hexamethylene {(2,3,6,6-tetramethyl-4-piperidyl) imino}], 2- (3,5-di-t-butyl-4-hydroxybenzyl)- 2-n-butylmalonate bis (1,2,2,6,6-pentamethyl-4-piperidyl), N, N′-bis (3-aminopropyl) ethylenediamine-2,4-bis [N-butyl- N- (1,2,2,6,6, -pentamethyl-4piperidyl) amino] -6-chloro-1,3,5-triazine condensate and the like.

有機イオウ系酸化防止剤としては、ジラウリル−３，３’−チオジプロピオネート、ジミリスチル−３，３’−チオジプロピオネート、ジステアリル−３，３’−チオジプロピオネート、ペンタエリスリトール−テトラキス−（β−ラウリル−チオプロピオネート）、ジトリデシル−３，３’−チオジプロピオネート、２−メルカプトベンズイミダゾールなどが挙げられる。   Examples of organic sulfur antioxidants include dilauryl-3,3′-thiodipropionate, dimyristyl-3,3′-thiodipropionate, distearyl-3,3′-thiodipropionate, pentaerythritol-tetrakis. -(Β-lauryl-thiopropionate), ditridecyl-3,3′-thiodipropionate, 2-mercaptobenzimidazole and the like.

有機燐系酸化防止剤としては、トリスノニルフェニルフォスフィート、トリフェニルフォスフィート、トリス（２，４−ジ−ｔ−ブチルフェニル）−フォスフィートなどが挙げられる。   Examples of the organophosphorus antioxidant include trisnonylphenyl phosfte, triphenyl phosfte, tris (2,4-di-t-butylphenyl) -phosfte and the like.

有機硫黄系及び有機燐系酸化防止剤は２次酸化防止剤と言われ、フェノール系あるいはアミン系などの１次酸化防止剤と併用することにより相乗効果を得ることができる。   Organic sulfur-based and organic phosphorus-based antioxidants are said to be secondary antioxidants, and a synergistic effect can be obtained by using them together with primary antioxidants such as phenol-based or amine-based antioxidants.

光安定剤としては、ベンゾフェノン系、ベンゾトリアゾール系、ジチオカルバメート系、テトラメチルピペリジン系などの誘導体が挙げられる。   Examples of the light stabilizer include benzophenone, benzotriazole, dithiocarbamate, and tetramethylpiperidine derivatives.

ベンゾフェノン系光安定剤としては、２−ヒドロキシ−４−メトキシベンゾフェノン、２−ヒドロキシ−４−オクトキシベンゾフェノン、２，２’−ジ−ヒドロキシ−４−メトキシベンゾフェノンなどが挙げられる。   Examples of the benzophenone light stabilizer include 2-hydroxy-4-methoxybenzophenone, 2-hydroxy-4-octoxybenzophenone, and 2,2'-di-hydroxy-4-methoxybenzophenone.

ベンゾトリアゾール系光安定剤としては、２−（−２’−ヒドロキシ−５’メチルフェニル−）−ベンゾトリアゾール、２−［２’−ヒドロキシ−３’−（３’’，４’’，５’’，６’’−テトラ−ヒドロフタルイミド−メチル）−５’−メチルフェニル］−ベンゾトリアゾール、２−（−２’−ヒドロキシ−３’−ｔ−ブチル−５’−メチルフェニル）−５−クロロベンゾトリアゾール、２−（２’−ヒドロキシ−３’−ｔ−ブチル−５’−メチルフェニル）−５−クロロベンゾトリアゾール、２−（２’−ヒドロキシ−３’，５’−ｔ−ブチルフェニル）−ベンゾトリアゾール、２−（２’−ヒドロキシ−５’−ｔ−オクチルフェニル）−ベンゾトリアゾール、２−（２’−ヒドロキシ−３’，５’−ジ−ｔ−アミルフェニル）−ベンゾトリアゾールなどが挙げられる。   Examples of the benzotriazole light stabilizer include 2-(-2′-hydroxy-5′methylphenyl-)-benzotriazole, 2- [2′-hydroxy-3 ′-(3 ″, 4 ″, 5 ′). ', 6' '-tetra-hydrophthalimido-methyl) -5'-methylphenyl] -benzotriazole, 2-(-2'-hydroxy-3'-t-butyl-5'-methylphenyl) -5-chloro Benzotriazole, 2- (2′-hydroxy-3′-t-butyl-5′-methylphenyl) -5-chlorobenzotriazole, 2- (2′-hydroxy-3 ′, 5′-t-butylphenyl) -Benzotriazole, 2- (2'-hydroxy-5'-t-octylphenyl) -benzotriazole, 2- (2'-hydroxy-3 ', 5'-di-t-amylphenyl) -ben Triazole, and the like.

その他の化合物としては、２，４，ジ−ｔ−ブチルフェニル−３’，５’−ジ−ｔ−ブチル−４’−ヒドロキシベンゾエート、ニッケルジブチル−ジチオカルバメートなどが挙げられる。   Examples of other compounds include 2,4, di-t-butylphenyl-3 ', 5'-di-t-butyl-4'-hydroxybenzoate, nickel dibutyl-dithiocarbamate, and the like.

また、電荷輸送層２には、感度の向上、残留電位の低減、繰り返し使用時の疲労低減等を目的として、少なくとも１種の電子受容性物質を含有せしめることができる。使用可能な電子受容性物質としては、例えば、無水琥珀酸、無水マレイン酸、ジブロム無水マレイン酸、無水フタル酸、テトラブロム無水フタル酸、テトラシアノエチレン、テトラシアノキノジメタン、ｏ−ジニトロベンゼン、ｍ−ジニトロベンゼン、クロラニル、ジニトロアントラキノン、トリニトロフルオレノン、ピクリン酸、ｏ−ニトロ安息香酸、ｐ−ニトロ安息香酸、フタル酸などを挙げることができる。これらの中でも、フルオレノン系、キノン系や、Ｃｌ，ＣＮ，ＮＯ２等の電子吸引性置換基を有するベンゼン誘導体が特に好ましい。また、電荷輸送層２には、シリカやポリテトラフルオロエチレン（ＰＴＦＥ）のような微粒子を含有させることもできる。 The charge transport layer 2 may contain at least one electron accepting substance for the purpose of improving sensitivity, reducing residual potential, reducing fatigue during repeated use, and the like. Usable electron accepting materials include, for example, succinic anhydride, maleic anhydride, dibromomaleic anhydride, phthalic anhydride, tetrabromophthalic anhydride, tetracyanoethylene, tetracyanoquinodimethane, o-dinitrobenzene, m -Dinitrobenzene, chloranil, dinitroanthraquinone, trinitrofluorenone, picric acid, o-nitrobenzoic acid, p-nitrobenzoic acid, phthalic acid and the like. Among these, benzene derivatives having electron-withdrawing substituents such as fluorenone-based, quinone-based, Cl, CN, and NO 2 are particularly preferable. The charge transport layer 2 can also contain fine particles such as silica and polytetrafluoroethylene (PTFE).

以上、図７を参照しつつ電子写真感光体の各構成要素について説明したが、図１０及び１１に示す電子写真感光体のように、感光層６が電荷発生／電荷輸送層７を有する場合、電荷発生／電荷輸送層７は、電荷発生材料と結着樹脂とを含有して形成される。電荷発生材料としては機能分離型感光層における電荷発生層１に使用されるものと同様のものを、結着樹脂としては機能分離型感光層における電荷発生層１及び電荷輸送層２に用いられる結着樹脂と同様のものを用いることができる。電荷発生／電荷輸送層７中の電荷発生材料の含有量は、電荷発生／電荷輸送層７における固形分全量を基準として好ましくは１０〜８５質量％、より好ましくは２０〜５０質量％である。電荷発生／電荷輸送層７には、光電特性を改善する等の目的で電荷輸送材料や高分子電荷輸送材料を添加してもよい。その添加量は電荷発生／電荷輸送層７における固形分全量を基準として５〜５０質量％とすることが好ましい。また、塗布に用いる溶剤や塗布方法は、上記各層と同様のものを用いることができる。電荷発生／電荷輸送層７の膜厚は、５〜５０μｍ程度が好ましく、１０〜４０μｍとすることがさらに好ましい。   As described above, each component of the electrophotographic photosensitive member has been described with reference to FIG. 7, but when the photosensitive layer 6 has the charge generation / charge transport layer 7 as in the electrophotographic photosensitive member shown in FIGS. 10 and 11, The charge generation / charge transport layer 7 includes a charge generation material and a binder resin. The charge generation material is the same as that used for the charge generation layer 1 in the function separation type photosensitive layer, and the binder resin is a binder used for the charge generation layer 1 and the charge transport layer 2 in the function separation type photosensitive layer. The same resin as the resin can be used. The content of the charge generation material in the charge generation / charge transport layer 7 is preferably 10 to 85% by mass, more preferably 20 to 50% by mass, based on the total solid content in the charge generation / charge transport layer 7. A charge transport material or a polymer charge transport material may be added to the charge generation / charge transport layer 7 for the purpose of improving photoelectric characteristics. The addition amount is preferably 5 to 50% by mass based on the total solid content in the charge generation / charge transport layer 7. Moreover, the solvent and coating method used for coating can be the same as those for the above layers. The film thickness of the charge generation / charge transport layer 7 is preferably about 5 to 50 μm, and more preferably 10 to 40 μm.

（画像形成装置及びプロセスカートリッジ）
次に、本発明の電子写真感光体を搭載した画像形成装置及びプロセスカートリッジについて説明する。 (Image forming apparatus and process cartridge)
Next, an image forming apparatus and a process cartridge equipped with the electrophotographic photosensitive member of the present invention will be described.

図１２は、本発明の画像形成装置の好適な一実施形態の基本構成を概略的に示す断面図である。図１２に示す画像形成装置３００は、電子写真感光体２００と、電子写感光体２００を帯電させる非接触帯電方式の帯電手段８と、帯電手段８に接続された電源９と、帯電手段８により帯電した電子写真感光体２００を露光して静電潜像を形成させる露光手段１０と、形成された静電潜像をトナーにより現像してトナー像を形成させる現像手段１１と、トナー像を電子写真感光体２００から被転写媒体に転写する転写手段１２と、クリーニング手段１３と、除電器１４と、定着手段１５とを備える。   FIG. 12 is a cross-sectional view schematically showing a basic configuration of a preferred embodiment of the image forming apparatus of the present invention. An image forming apparatus 300 shown in FIG. 12 includes an electrophotographic photosensitive member 200, a non-contact charging type charging unit 8 that charges the electrophotographic photosensitive member 200, a power source 9 connected to the charging unit 8, and the charging unit 8. An exposure unit 10 that exposes the charged electrophotographic photosensitive member 200 to form an electrostatic latent image; a developing unit 11 that develops the formed electrostatic latent image with toner to form a toner image; and The image forming apparatus includes a transfer unit 12, a cleaning unit 13, a static eliminator 14, and a fixing unit 15 that transfer from a photographic photosensitive member 200 to a transfer medium.

また、図１３は、本発明の画像形成装置の別の実施形態の基本構成を概略的に示す断面図である。図１３に示す画像形成装置３１０は、電子写真感光体２００を接触帯電方式により帯電させる帯電手段８を備えていること以外は、図１２に示した画像形成装置３００と同様の構成を有する。このとき、帯電手段８としては、直流電圧に交流電圧を重畳した接触式の帯電手段が、優れた耐磨耗性を有するため好ましく使用できる。なお、この場合には、除電器１４が設けられていないものもある。   FIG. 13 is a cross-sectional view schematically showing a basic configuration of another embodiment of the image forming apparatus of the present invention. An image forming apparatus 310 shown in FIG. 13 has the same configuration as that of the image forming apparatus 300 shown in FIG. 12 except that the image forming apparatus 310 includes a charging unit 8 that charges the electrophotographic photoreceptor 200 by a contact charging method. At this time, as the charging means 8, a contact-type charging means in which an AC voltage is superimposed on a DC voltage can be preferably used because it has excellent wear resistance. In this case, the static eliminator 14 may not be provided.

本発明で用いられる非接触帯電方式の帯電手段８としては、コロナ放電を利用したコロトロン、スコロトロンなどが挙げられる。また、接触帯電方式の帯電手段８としては、帯電ローラーや帯電ブラシなどの接触帯電用部材を用いた帯電器が挙げられる。   Examples of the non-contact charging type charging means 8 used in the present invention include a corotron and a scorotron using corona discharge. Moreover, as the charging means 8 of the contact charging system, a charger using a contact charging member such as a charging roller or a charging brush can be cited.

接触帯電部材としては、アルミニウム、鉄、銅などの金属、ポリアセチレン、ポリピロール、ポリチオフェンなどの導電性高分子材料、ポリウレタンゴム、シリコーンゴム、エピクロロヒドリンゴム、エチレンプロピレンゴム、アクリルゴム、フッソゴム、スチレンーブタジエンゴム、ブタジエンゴム等のエラストマー材料に、カーボンブラック、沃化銅、沃化銀、硫化亜鉛、炭化けい素、金属酸化物などの金属酸化物粒子を分散したものなどを用いることができる。この金属酸化物の例としては、ＺｎＯ、ＳｎＯ２、ＴｉＯ２、Ｉｎ２Ｏ３、ＭｏＯ３等、あるいはこれらの複合酸化物が挙げられる。また、接触帯電用部材にはエラストマー材料中に過塩素酸塩を含有させて導電性を付与したものを使用しても良い。 Contact charging members include metals such as aluminum, iron and copper, conductive polymer materials such as polyacetylene, polypyrrole and polythiophene, polyurethane rubber, silicone rubber, epichlorohydrin rubber, ethylene propylene rubber, acrylic rubber, fluorine rubber, styrene A material obtained by dispersing metal oxide particles such as carbon black, copper iodide, silver iodide, zinc sulfide, silicon carbide, and metal oxide in an elastomer material such as butadiene rubber or butadiene rubber can be used. Examples of this metal oxide include ZnO, SnO 2 , TiO 2 , In 2 O 3 , MoO 3 and the like, or a composite oxide thereof. Further, as the contact charging member, a material obtained by adding perchlorate to an elastomer material and imparting conductivity may be used.

更に、接触帯電用部材の表面に被覆層を設けてもよい。被覆層を形成する材料としては、Ｎ−アルコキシメチル化ナイロン、セルロース樹脂、ビニルピリジン樹脂、フェノール樹脂、ポリウレタン、ポリビニルブチラール、メラミン等が単独、あるいは併用して用いられる。また、エマルジョン樹脂系材料、例えば、アクリル樹脂エマルジョン、ポリエステル樹脂エマルジョン、ポリウレタン、特にソープフリーのエマルジョン重合により合成されたエマルジョン樹脂を用いることもできる。これらの樹脂にはさらに抵抗率を調整するために、導電剤粒子を分散してもよいし、劣化を防止するために酸化防止剤を含有させることもできる。また、被覆層を形成する時の成膜性を向上させるために、エマルジョン樹脂にレベリング剤または界面活性剤を含有させることもできる。また、この接触帯電用部材の形状としては、ローラー型、ブレード型、ベルト型、ブラシ型、などが挙げられる。   Further, a coating layer may be provided on the surface of the contact charging member. As a material for forming the coating layer, N-alkoxymethylated nylon, cellulose resin, vinyl pyridine resin, phenol resin, polyurethane, polyvinyl butyral, melamine and the like are used alone or in combination. Also, emulsion resin-based materials such as acrylic resin emulsion, polyester resin emulsion, polyurethane, particularly emulsion resin synthesized by soap-free emulsion polymerization can be used. In these resins, in order to further adjust the resistivity, conductive agent particles may be dispersed, or an antioxidant may be contained in order to prevent deterioration. In addition, in order to improve the film formability when forming the coating layer, the emulsion resin may contain a leveling agent or a surfactant. Examples of the shape of the contact charging member include a roller type, a blade type, a belt type, and a brush type.

接触帯電用部材の電気抵抗値は、１×１０２〜１×１０１４Ωｃｍであることが好ましく、１×１０２〜１×１０１２Ωｃｍであることがより好ましい。また、この接触帯電用部材への印加電圧は、直流、交流いずれも用いることができる。また、直流＋交流（直流電圧と交流電圧とを重畳したもの）の形で印加することもできる。 Electrical resistance of the contact charging member is preferably 1 × 10 2 ~1 × 10 14 Ωcm, more preferably 1 × 10 2 ~1 × 10 12 Ωcm. Further, as the voltage applied to the contact charging member, either direct current or alternating current can be used. It can also be applied in the form of direct current + alternating current (direct voltage and alternating voltage superimposed).

露光手段１０としては、電子写真感光体２００の表面に、半導体レーザー、ＬＥＤ（ｌｉｇｈｔ ｅｍｉｔｔｉｎｇ ｄｉｏｄｅ）、液晶シャッター等の光源を所望の像様に露光できる光学系装置等を用いることができる。これらの中でも、非干渉光を露光可能な露光装置を用いると、電子写真感光体２００の導電性基体と感光層との間での干渉縞を防止することができる。   As the exposure means 10, an optical system device that can expose a light source such as a semiconductor laser, an LED (light emitting diode), and a liquid crystal shutter on the surface of the electrophotographic photoreceptor 200 in a desired image-like manner can be used. Among these, when an exposure apparatus capable of exposing non-interference light is used, interference fringes between the conductive substrate of the electrophotographic photoreceptor 200 and the photosensitive layer can be prevented.

また、露光光源としてレーザー光を用いる場合、その発振波長としては３５０〜８５０ｎｍが好ましく、短波長のものほど解像度に優れるため好ましい。   When laser light is used as the exposure light source, the oscillation wavelength is preferably 350 to 850 nm, and the shorter wavelength is preferable because the resolution is excellent.

現像手段１１としては、従来公知の現像装置等を用いることができる。また、使用される現像剤の種類及びその製造方法は特に制限されず、例えば結着樹脂と着色剤、離型剤、必要に応じて帯電制御剤等を混練、粉砕、分級する混練粉砕法、混練粉砕法にて得られた粒子を機械的衝撃力または熱エネルギーにて形状を変化させる方法、結着樹脂の重合性単量体を乳化重合させ、形成された分散液と、着色剤、離型剤、必要に応じて帯電制御剤等の分散液とを混合し、凝集、加熱融着させ、トナー粒子を得る乳化重合凝集法、結着樹脂を得るための重合性単量体と着色剤、離型剤、必要に応じて帯電制御剤等の溶液を水系溶媒に懸濁させて重合する懸濁重合法、結着樹脂と着色剤、離型剤、必要に応じて帯電制御剤等の溶液を水系溶媒に懸濁させて造粒する溶解懸濁法等が使用できる。また、上記方法で得られたトナーをコアにして、さらに凝集粒子を付着、加熱融合してコアシェル構造をもたせる製造方法など、公知の方法を使用することができるが、形状制御、粒度分布制御の観点から水系溶媒にて製造する懸濁重合法、乳化重合凝集法、溶解懸濁法が好ましく、乳化重合凝集法が特に好ましい。   As the developing means 11, a conventionally known developing device or the like can be used. Further, the type of developer used and the method for producing the same are not particularly limited. For example, a kneading and pulverizing method for kneading, pulverizing, and classifying a binder resin and a colorant, a release agent, and a charge control agent as necessary, A method of changing the shape of the particles obtained by the kneading and pulverization method by mechanical impact force or thermal energy, an emulsion polymerization of a polymerizable monomer of a binder resin, a formed dispersion, a colorant, a release agent Emulsion polymerization aggregation method to obtain a toner particle by mixing a mold agent and, if necessary, a dispersion of a charge control agent, and agglomerating and heat-fusing, a polymerizable monomer and a colorant for obtaining a binder resin A suspension polymerization method in which a solution of a release agent, if necessary, a charge control agent or the like is suspended in an aqueous solvent and polymerized, a binder resin and a colorant, a release agent, and a charge control agent if necessary A solution suspension method in which a solution is suspended in an aqueous solvent and granulated can be used. In addition, a known method such as a production method in which the toner obtained by the above method is used as a core and agglomerated particles are further adhered and heat-fused to have a core-shell structure can be used. From the viewpoint, a suspension polymerization method, an emulsion polymerization aggregation method, and a dissolution suspension method produced with an aqueous solvent are preferable, and an emulsion polymerization aggregation method is particularly preferable.

トナーは結着樹脂と着色剤、離型剤とからなり、必要であれば、シリカや帯電制御剤を用いてもよい。トナーの体積平均粒径は、２〜１２μｍであることが好ましく、３〜９μｍであることがより好ましい。また、トナーの平均形状指数（ＭＬ２／Ａ）は、高い現像、転写性、及び高画質の画像が得られることから、１００〜１４０であることが好ましく、１１５〜１４０であることがより好ましい。 The toner is composed of a binder resin, a colorant, and a release agent. If necessary, silica or a charge control agent may be used. The volume average particle size of the toner is preferably 2 to 12 μm, and more preferably 3 to 9 μm. Further, the average shape index (ML 2 / A) of the toner is preferably 100 to 140, more preferably 115 to 140, since a high development, transferability, and high quality image can be obtained. .

トナーに使用される結着樹脂としては、スチレン、クロロスチレン等のスチレン類、エチレン、プロピレン、ブチレン、イソプレン等のモノオレフィン類、酢酸ビニル、プロピオン酸ビニル、安息香酸ビニル、酪酸ビニル等のビニルエステル類、アクリル酸メチル、アクリル酸エチル、アクリル酸ブチル、アクリル酸ドデシル、アクリル酸オクチル、アクリル酸フェニル、メタクリル酸メチル、メタクリル酸エチル、メタクリル酸ブチル、メタクリル酸ドデシル等のα−メチレン脂肪族モノカルボン酸エステル類、ビニルメチルエーテル、ビニルエチルエーテル、ビニルブチルエーテル等のビニルエーテル類、ビニルメチルケトン、ビニルヘキシルケトン、ビニルイソプロペニルケトン等のビニルケトン類等の単独重合体および共重合体を例示することができ、特に代表的な結着樹脂としては、ポリスチレン、スチレン−アクリル酸アルキル共重合体、スチレン−メタクリル酸アルキル共重合体、スチレン−アクリロニトリル共重合体、スチレン−ブタジエン共重合体、スチレン−無水マレイン酸共重合体、ポリエチレン、ポリプロピレン等を挙げることができる。更に、ポリエステル、ポリウレタン、エポキシ樹脂、シリコーン樹脂、ポリアミド、変性ロジン、パラフィンワックス等を挙げることができる。   Binder resins used in the toner include styrenes such as styrene and chlorostyrene, monoolefins such as ethylene, propylene, butylene and isoprene, vinyl esters such as vinyl acetate, vinyl propionate, vinyl benzoate and vinyl butyrate. , Α-methylene aliphatic monocarboxylic such as methyl acrylate, ethyl acrylate, butyl acrylate, dodecyl acrylate, octyl acrylate, phenyl acrylate, methyl methacrylate, ethyl methacrylate, butyl methacrylate, dodecyl methacrylate Examples of homopolymers and copolymers of acid esters, vinyl ethers such as vinyl methyl ether, vinyl ethyl ether, and vinyl butyl ether, and vinyl ketones such as vinyl methyl ketone, vinyl hexyl ketone, and vinyl isopropenyl ketone Particularly typical binder resins include polystyrene, styrene-alkyl acrylate copolymer, styrene-alkyl methacrylate copolymer, styrene-acrylonitrile copolymer, styrene-butadiene copolymer, styrene. -Maleic anhydride copolymer, polyethylene, polypropylene and the like. Further examples include polyester, polyurethane, epoxy resin, silicone resin, polyamide, modified rosin, paraffin wax and the like.

また、トナーの着色剤としては、マグネタイト、フェライト等の磁性粉、カーボンブラック、アニリンブルー、カルイルブルー、クロムイエロー、ウルトラマリンブルー、デュポンオイルレッド、キノリンイエロー、メチレンブルークロリド、フタロシアニンブルー、マラカイトグリーンオキサレート、ランプブラック、ローズベンガル、Ｃ．Ｉ．ピグメント・レッド４８：１、Ｃ．Ｉ．ピグメント・レッド１２２、Ｃ．Ｉ．ピグメント・レッド５７：１、Ｃ．Ｉ．ピグメント・イエロー９７、Ｃ．Ｉ．ピグメント・イエロー１７、Ｃ．Ｉ．ピグメント・ブルー１５：１、Ｃ．Ｉ．ピグメント・ブルー１５：３等を代表的なものとして例示することができる。   In addition, toner colorants include magnetic powders such as magnetite and ferrite, carbon black, aniline blue, caryl blue, chrome yellow, ultramarine blue, DuPont oil red, quinoline yellow, methylene blue chloride, phthalocyanine blue, and malachite green oxa. Rate, lamp black, rose bengal, C.I. I. Pigment red 48: 1, C.I. I. Pigment red 122, C.I. I. Pigment red 57: 1, C.I. I. Pigment yellow 97, C.I. I. Pigment yellow 17, C.I. I. Pigment blue 15: 1, C.I. I. Pigment Blue 15: 3 can be exemplified as a representative one.

離型剤としては低分子ポリエチレン、低分子ポリプロピレン、フィッシャートロピィシュワックス、モンタンワックス、カルナバワックス、ライスワックス、キャンデリラワックス等を代表的なものとして例示することができる。   Typical examples of the release agent include low molecular weight polyethylene, low molecular weight polypropylene, Fischer tropic wax, montan wax, carnauba wax, rice wax, and candelilla wax.

また、トナーには必要に応じて帯電制御剤を添加してもよい。帯電制御剤としては、公知のものを使用することができ、例えば、アゾ系金属錯化合物、サリチル酸の金属錯化合物、極性基を含有するレジンタイプの帯電制御剤等を用いることができる。   Further, a charge control agent may be added to the toner as necessary. As the charge control agent, known ones can be used. For example, an azo metal complex compound, a metal complex compound of salicylic acid, a resin type charge control agent containing a polar group, or the like can be used.

トナーを湿式製法で製造する場合、イオン強度の制御と廃水汚染の低減の点で、水に溶解しにくい素材を使用することが好ましい。トナーは、磁性材料を内包する磁性トナーおよび磁性材料を含有しない非磁性トナーのいずれであってもよい。   When the toner is manufactured by a wet manufacturing method, it is preferable to use a material that is difficult to dissolve in water in terms of controlling ionic strength and reducing wastewater contamination. The toner may be either a magnetic toner containing a magnetic material or a non-magnetic toner containing no magnetic material.

外添剤を添加する場合、トナー及び外添剤をヘンシェルミキサーあるいはＶブレンダー等で混合することによって製造することができる。また、トナーを湿式にて製造する場合は、湿式にて外添することも可能である。   When an external additive is added, it can be produced by mixing the toner and the external additive with a Henschel mixer or a V blender. Further, when the toner is manufactured by a wet method, it can be externally added by a wet method.

本発明で用いられるトナーに添加される滑性粒子としては、グラファイト、二硫化モリブデン、滑石、脂肪酸、脂肪酸金属塩等の固体潤滑剤や、ポリプロピレン、ポリエチレン、ポリブテン等の低分子量ポリオレフィン類、加熱により軟化点を有するシリコーン類、オレイン酸アミド、エルカ酸アミド、リシノール酸アミド、ステアリン酸アミド等のような脂肪族アミド類やカルナウバワックス、ライスワックス、キャンデリラワックス、木ロウ、ホホバ油等のような植物系ワックス、ミツロウのような動物系ワックス、モンタンワックス、オゾケライト、セレシン、パラフィンワックス、マイクロクリスタリンワックス、フィッシャートロプシュワックス等のような鉱物、石油系ワックス、及びそれらの変性物が使用でき、これらは１種を単独で又は２種以上を組み合わせて用いることができる。滑性粒子の体積平均粒径は０．１〜１０μｍが好ましく、必要に応じて粉砕して粒径をそろえてもよい。トナーへの添加量はトナー１００質量部に対して０．０５〜２．０質量部であることが好ましく、０．１〜１．５質量部であることがより好ましい。   Lubricating particles added to the toner used in the present invention include solid lubricants such as graphite, molybdenum disulfide, talc, fatty acids, fatty acid metal salts, low molecular weight polyolefins such as polypropylene, polyethylene, and polybutene, and heating. Aliphatic amides such as silicones with softening point, oleic acid amide, erucic acid amide, ricinoleic acid amide, stearic acid amide, carnauba wax, rice wax, candelilla wax, wood wax, jojoba oil, etc. Plant waxes, animal waxes such as beeswax, montan waxes, ozokerites, ceresins, paraffin waxes, microcrystalline waxes, Fischer-Tropsch waxes, etc. Has one kind It can be used or in combination of two or more Germany. The volume average particle size of the lubricious particles is preferably 0.1 to 10 μm, and may be pulverized to make the particle sizes uniform as necessary. The amount added to the toner is preferably 0.05 to 2.0 parts by mass, and more preferably 0.1 to 1.5 parts by mass with respect to 100 parts by mass of the toner.

本発明で用いられるトナーには、電子写真感光体２００表面の付着物、劣化物除去の目的等で、無機微粒子、有機微粒子、該有機微粒子に無機微粒子を付着させた複合微粒子などを加えることができるが、研磨性に優れる無機微粒子が特に好ましい。無機微粒子としては、シリカ、アルミナ、チタニア、ジルコニア、チタン酸バリウム、チタン酸アルミニウム、チタン酸ストロンチウム、チタン酸マグネシウム、酸化亜鉛、酸化クロム、酸化セリウム、酸化アンチモン、酸化タングステン、酸化スズ、酸化テルル、酸化マンガン、酸化ホウ素、炭化ケイ素、炭化ホウ素、炭化チタン、窒化ケイ素、窒化チタン、窒化ホウ素等の各種無機酸化物、窒化物、ホウ化物等が好適に使用される。また、上記無機微粒子にテトラブチルチタネート、テトラオクチルチタネート、イソプロピルトリイソステアロイルチタネート、イソプロピルトリデシルベンゼンスルフォニルチタネート、ビス（ジオクチルパイロフォスフェート）オキシアセテートチタネートなどのチタンカップリング剤、γ−（２−アミノエチル）アミノプロピルトリメトキシシラン、γ−（２−アミノエチル）アミノプロピルメチルジメトキシシラン、γ−メタクリロキシプロピルトリメトキシシラン、Ｎ−β−（Ｎ−ビニルベンジルアミノエチル）γ−アミノプロピルトリメトキシシラン塩酸塩、ヘキサメチルジシラザン、メチルトリメトキシシラン、ブチルトリメトキシシラン、イソブチルトリメトキシシラン、ヘキシルトエリメトキシシラン、オクチルトリメトキシシラン、デシルトリメトキシシラン、ドデシルトリメトキシシラン、フェニルトリメトキシシラン、ｏ−メチルフェニルトリメトキシシラン、ｐ−メチルフェニルトリメトキシシラン等のシランカップリング剤などで処理を行っても良い。また、シリコーンオイル、ステアリン酸アルミニウム、ステアリン酸亜鉛、ステアリン酸カルシウム等の高級脂肪酸金属塩によって疎水化処理することも好ましい。   To the toner used in the present invention, inorganic fine particles, organic fine particles, composite fine particles obtained by adhering inorganic fine particles to the organic fine particles, and the like may be added for the purpose of removing deposits and deteriorated matters on the surface of the electrophotographic photoreceptor 200. Although it is possible, inorganic fine particles having excellent polishing properties are particularly preferable. Inorganic fine particles include silica, alumina, titania, zirconia, barium titanate, aluminum titanate, strontium titanate, magnesium titanate, zinc oxide, chromium oxide, cerium oxide, antimony oxide, tungsten oxide, tin oxide, tellurium oxide, Various inorganic oxides such as manganese oxide, boron oxide, silicon carbide, boron carbide, titanium carbide, silicon nitride, titanium nitride, and boron nitride, nitrides, borides, and the like are preferably used. Further, titanium coupling agents such as tetrabutyl titanate, tetraoctyl titanate, isopropyl triisostearoyl titanate, isopropyl tridecylbenzenesulfonyl titanate, bis (dioctyl pyrophosphate) oxyacetate titanate, γ- (2-amino) Ethyl) aminopropyltrimethoxysilane, γ- (2-aminoethyl) aminopropylmethyldimethoxysilane, γ-methacryloxypropyltrimethoxysilane, N-β- (N-vinylbenzylaminoethyl) γ-aminopropyltrimethoxysilane Hydrochloride, hexamethyldisilazane, methyltrimethoxysilane, butyltrimethoxysilane, isobutyltrimethoxysilane, hexyltrimethoxysilane, octyltrimethoxy The treatment may be performed with a silane coupling agent such as silane, decyltrimethoxysilane, dodecyltrimethoxysilane, phenyltrimethoxysilane, o-methylphenyltrimethoxysilane, and p-methylphenyltrimethoxysilane. Moreover, it is also preferable to hydrophobize with higher fatty acid metal salts, such as silicone oil, aluminum stearate, zinc stearate, calcium stearate.

有機微粒子としては、スチレン樹脂粒子、スチレンアクリル樹脂粒子、ポリエステル樹脂粒子、ウレタン樹脂粒子等を挙げることができる。   Examples of the organic fine particles include styrene resin particles, styrene acrylic resin particles, polyester resin particles, and urethane resin particles.

無機又は有機微粒子の粒子径としては、小さすぎると研磨能力に欠け、また、大きすぎると電子写真感光体２００表面に傷を発生しやすくなるため、平均粒子径で５〜１０００ｎｍであることが好ましく、５〜８００ｎｍであることがより好ましく、５〜７００ｎｍであることが特に好ましい。また、無機及び有機微粒子のトナーへの添加量は、トナー１００質量部に対し滑性粒子の添加量との和として０．６質量部以上であることが好ましい。   If the particle size of the inorganic or organic fine particles is too small, the polishing ability is insufficient, and if it is too large, the surface of the electrophotographic photosensitive member 200 is likely to be damaged. Therefore, the average particle size is preferably 5 to 1000 nm. 5 to 800 nm is more preferable, and 5 to 700 nm is particularly preferable. The addition amount of inorganic and organic fine particles to the toner is preferably 0.6 parts by mass or more as the sum of the addition amount of the slippery particles with respect to 100 parts by mass of the toner.

トナーに添加されるその他の無機酸化物としては、粉体流動性、帯電制御等の為、平均一次粒径が４０ｎｍ以下の小径無機酸化物を用い、更に付着力低減や帯電制御の為、それより大径の無機酸化物を添加することが好ましい。これらの無機酸化物微粒子は公知のものを使用できるが、精密な帯電制御を行う為にはシリカと酸化チタンとを併用することが好ましい。また、小径無機微粒子については表面処理することにより、分散性が高くなり、粉体流動性を上げる効果が大きくなる。   As other inorganic oxides added to the toner, small-diameter inorganic oxides having an average primary particle size of 40 nm or less are used for powder fluidity, charge control, etc. It is preferable to add a larger-diameter inorganic oxide. These inorganic oxide fine particles may be known ones, but it is preferable to use silica and titanium oxide in combination in order to perform precise charge control. Further, the surface treatment of the small-diameter inorganic fine particles increases the dispersibility and increases the powder flowability.

また、電子写真用カラートナーはキャリアと混合して使用されるが、キャリアとしては、鉄粉、ガラスビーズ、フェライト粉、ニッケル粉またはそれらの表面に樹脂コーティングを施したものが使用される。また、キャリアとの混合割合は、適宜設定することができる。   The color toner for electrophotography is used by mixing with a carrier. As the carrier, iron powder, glass beads, ferrite powder, nickel powder or those having a resin coating on the surface thereof are used. The mixing ratio with the carrier can be set as appropriate.

転写手段１２としては、ローラー状の接触帯電部材の他、ベルト、フィルム、ゴムブレード等を用いた接触型転写帯電器、あるいはコロナ放電を利用したスコロトロン転写帯電器やコロトロン転写帯電器等が挙げられる。   Examples of the transfer unit 12 include a roller-type contact charging member, a contact-type transfer charger using a belt, a film, a rubber blade, or the like, or a scorotron transfer charger or a corotron transfer charger using corona discharge. .

転写後の電子写真感光体２００の表面には未転写のトナーが残存し得るが、かかる残存トナーはクリーニング手段１３により除去することができる。クリーニング手段１３としては、ブレード、磁気ブラシ、導電性ファイバーブラシなどのクリーニング部材を備えるものが好ましく使用される。以下、クリーニング手段１３の一例としてブレード部材を備えるクリーニング装置について詳述する。   Untransferred toner may remain on the surface of the electrophotographic photoreceptor 200 after the transfer, but the remaining toner can be removed by the cleaning means 13. As the cleaning means 13, those provided with a cleaning member such as a blade, a magnetic brush, or a conductive fiber brush are preferably used. Hereinafter, a cleaning apparatus including a blade member as an example of the cleaning unit 13 will be described in detail.

ブレードの材料は特に限定されないが、例えばポリエチレンアジペート、ポリカプロラクトンなどのポリエステルポリオールなどのポリオールとジフェニルメタンジイソシアネートなどのイソシアネートとからなるウレタンプレポリマー、並びに１，４−ブタンジオール、トリメチロールプロパン、エチレングリコールやこれらの混合物などの架橋剤を原料とするものが、得られるブレード部材が耐磨耗性に優れ、機械的強度が大きいという点から好ましい。また、ブレード部材の構成材料であるウレタンプレポリマーとしては、例えばＮＣＯ基の含有量が４〜１０質量％程度、７０℃での粘度が１０００〜３０００ｃＰ程度のものが好ましく用いられる。   The material of the blade is not particularly limited. For example, a urethane prepolymer composed of a polyol such as a polyester polyol such as polyethylene adipate or polycaprolactone and an isocyanate such as diphenylmethane diisocyanate, 1,4-butanediol, trimethylolpropane, ethylene glycol, Those using a cross-linking agent such as a mixture thereof as a raw material are preferable because the obtained blade member is excellent in wear resistance and has high mechanical strength. Moreover, as a urethane prepolymer which is a constituent material of a blade member, for example, an NCO group content of about 4 to 10% by mass and a viscosity at 70 ° C. of about 1000 to 3000 cP are preferably used.

ブレード部材の厚さは、感光体の表面の残存トナーを除去するために十分な強度を有するような程度であればよく、特に限定されないが、通常１〜３ｍｍ程度であることが好ましい。また、例えば紫外線などを照射することによって反応硬化する接着剤などを用いて、ブレード部材と後述する取付金具とを接着せしめてクリーニングブレードを得ようとする場合、ブレード部材は、透明で、紫外線などを透過し得る厚さを有することが好ましい。また、ブレード部材のゴム硬度は、電子写真感光体２００の表面の残存トナーを除去するために十分な強度を有するような程度であればよく、特に限定されないが、通常６５〜８０（ＪＩＳ Ｋ６２５３ Ａタイプ硬度計による測定値）程度であることが好ましい。   The thickness of the blade member is not particularly limited as long as it has sufficient strength to remove the residual toner on the surface of the photoreceptor, and is usually preferably about 1 to 3 mm. For example, when an adhesive that is reactively cured by irradiating ultraviolet rays or the like is used to obtain a cleaning blade by bonding a blade member and a mounting bracket, which will be described later, the blade member is transparent, ultraviolet rays, etc. It is preferable to have a thickness that can pass through. The rubber hardness of the blade member is not particularly limited as long as it has a strength sufficient to remove residual toner on the surface of the electrophotographic photosensitive member 200, but is usually 65 to 80 (JIS K6253 A It is preferable that the measured value is about a value measured with a type hardness meter.

ブレード部材の製造の際には、例えば以下のような方法を採用することができる。まず、所望の配合量となるように調整したブレード材料の原料を、例えばアジターなどの混合撹拌装置を用いて１〜３分間程度撹拌、混合して混合液とし、これを１２０〜１６０℃程度で１００〜３００ｒｐｍ程度で回転している、例えば遠心成形機の成形ドラム型内へ注入した後、成形ドラム型の回転数を６００〜１２００ｒｐｍ程度に上げ、注入された混合液が成形ドラム型の内面に均一に拡がって注入時に巻き込まれた気泡がその表面に浮かび上がった状態のブレード材料とする。なお、ここで成形ドラム型内に注入する混合液の量は、例えば上述したような所望の厚さのブレード部材が得られるように調整すればよい。次に、成形ドラム型の回転数を６００〜１２００ｒｐｍ程度、温度を１２０〜１６０℃程度に維持しながら、上記ブレード材料が架橋硬化する前に、例えばスプレーガンなどを用いて研磨材微粒子が均一に分散された懸濁液をブレード材料に噴霧したのち、成形ドラム型を回転させながら該ブレード材料を硬化させて研磨材微粒子を少なくともクリーニング面に存在させる。上記研磨材微粒子が均一に分散された懸濁液を得るための媒体は、研磨材微粒子およびブレード材料との相互作用を呈さないものであればよく、特に限定されないが、例えばブレード材料を得る際に通常用いられている、消泡を促進する作用を呈するジメチルポリシロキサン、メチルフェニルポリシロキサン、トリフルオロプロピルメチルポリシロキサンなどのシリコーンオイルなどを用いた場合には、研磨材微粒子を均一にブレード材料表面へ移行させることができるので好ましい。上記研磨材には研磨材微粒子が均一に分散されていればよいが、該懸濁液における研磨材微粒子の配合量によってクリーニング面に存在させる研磨材微粒子の量を調整することができるので、該研磨材微粒子は、媒体１００質量部に対して１〜２０質量部程度配合されていることが好ましい。また、ブレード材料の原料中に所望量の研磨材微粒子を直接混合、分散した後、成形することもできる。   In manufacturing the blade member, for example, the following method can be employed. First, the raw material of the blade material adjusted so as to have a desired blending amount is stirred and mixed for about 1 to 3 minutes using, for example, a mixing stirrer such as agitator to obtain a mixed solution, which is about 120 to 160 ° C. Rotating at about 100 to 300 rpm, for example, after being injected into a forming drum mold of a centrifugal molding machine, the number of rotations of the forming drum mold is increased to about 600 to 1200 rpm, and the injected mixed liquid is applied to the inner surface of the forming drum mold. The blade material is in a state in which bubbles that are uniformly spread and entrained at the time of injection float on the surface. Here, the amount of the liquid mixture injected into the molding drum mold may be adjusted so that, for example, a blade member having a desired thickness as described above can be obtained. Next, while maintaining the rotational speed of the forming drum mold at about 600 to 1200 rpm and the temperature at about 120 to 160 ° C., before the blade material is cross-linked and cured, for example, the abrasive fine particles are uniformly distributed using a spray gun or the like. After spraying the dispersed suspension onto the blade material, the blade material is cured while rotating the molding drum mold so that abrasive fine particles are present at least on the cleaning surface. The medium for obtaining the suspension in which the abrasive fine particles are uniformly dispersed is not particularly limited as long as it does not exhibit an interaction between the abrasive fine particles and the blade material. For example, when obtaining the blade material When silicone oil such as dimethylpolysiloxane, methylphenylpolysiloxane, trifluoropropylmethylpolysiloxane, etc., which is normally used for foaming, promotes defoaming, is used, the abrasive particles are uniformly distributed in the blade material. This is preferable because it can be transferred to the surface. Although it is sufficient that the abrasive fine particles are uniformly dispersed in the abrasive, the amount of the abrasive fine particles to be present on the cleaning surface can be adjusted by the blending amount of the abrasive fine particles in the suspension. The abrasive fine particles are preferably blended in an amount of about 1 to 20 parts by mass with respect to 100 parts by mass of the medium. Further, the desired amount of abrasive fine particles can be directly mixed and dispersed in the raw material of the blade material, and then molded.

懸濁液をブレード材料に噴霧するにはスプレーガンなどが用いられる。かかる噴霧の際のエアー圧や噴霧量は、クリーニング面に存在させようとする研磨材微粒子の量などに応じて調整すればよいが、通常エアー圧は１〜１０ｋｇ／ｃｍ２程度、噴霧量は０．５〜５ｍｇ／ｃｍ２程度であることが好ましい。懸濁液をブレード材料に噴霧する時期は、ブレード材料が成形ドラム型内で均一に拡がった後、ブレード材料の表面に気泡が浮かび上がった状態で、該ブレード材料が硬化する前であればよく、例えば研磨材微粒子をブレード部材の内部へ含浸させる場合の目的とする深さ等によって異なるので一概には決定することができないが、成形ドラム型内へブレード材料を入れた後、通常２〜１０分間程度経過時とすることが好ましい。このようにして得られるブレード部材は、研磨材微粒子が少なくともクリーニング面に強固に付着したり、内部に浸漬しているため、引張強度、引裂強度などの物性や取付金具との接着性は低下せずに優れた耐久性を有するものである。また、遠心力によって研磨材微粒子を少なくともクリーニング面に存在せしめるので、該研磨材微粒子の懸濁液の噴霧量や噴霧する時期、成形ドラム型の回転数などを調整することによって研磨性能の程度や研磨性能の持続性をコントロールすることができる。 A spray gun or the like is used to spray the suspension onto the blade material. The air pressure and spray amount during spraying may be adjusted according to the amount of abrasive fine particles to be present on the cleaning surface. Usually, the air pressure is about 1 to 10 kg / cm 2 and the spray amount is It is preferably about 0.5 to 5 mg / cm 2 . The time when the suspension material is sprayed onto the blade material may be any time as long as the blade material spreads uniformly in the molding drum mold and before the blade material is cured in a state where air bubbles have emerged on the surface of the blade material. For example, since it varies depending on the target depth when impregnating the abrasive fine particles into the blade member, it cannot be determined unconditionally. However, after the blade material is put into the molding drum mold, it is usually 2-10. It is preferable that about a minute pass. In the blade member obtained in this way, the abrasive fine particles are firmly adhered at least to the cleaning surface or immersed therein, so that the physical properties such as tensile strength and tear strength and the adhesion to the mounting bracket are reduced. It has excellent durability. Further, since the abrasive fine particles are present at least on the cleaning surface by centrifugal force, the degree of polishing performance can be adjusted by adjusting the spray amount of the suspension of the fine abrasive particles, the timing of spraying, the rotational speed of the molding drum mold, The durability of polishing performance can be controlled.

ブレード部材は、例えばホットメルト接着剤、両面テープなどを用いるなどして取付金具と一体化させてクリーニングブレードとし、例えばＰＰＣ用、ＰＰＰ用、ＰＰＦ用などの画像形成装置に装着して用いることができる。なお、取付金具には特に限定がなく、例えば通常クリーニングブレードに用いられている剛体の金属や弾性を有する金属、プラスチック、セラミックなどからなる取付金具を用いることができるが、これらの中では、無処理の鋼板、リン酸亜鉛処理やクロメート処理などの表面処理を施した鋼板、そのほかメッキ処理を施した鋼板などからなる取付金具が、特に腐蝕などの経時変化を起こさないという点から好ましい。また、ブレード部材は単層でも良いし、複数の材質を貼り合わせた積層でも良い。   The blade member is integrated with the mounting bracket by using, for example, a hot melt adhesive, double-sided tape, etc. to form a cleaning blade, and is used by being mounted on an image forming apparatus such as for PPC, PPP, or PPF. it can. The mounting bracket is not particularly limited. For example, a mounting bracket made of a rigid metal, an elastic metal, plastic, ceramic, or the like, which is usually used for a cleaning blade, can be used. A mounting bracket made of a treated steel plate, a steel plate that has been subjected to a surface treatment such as zinc phosphate treatment or chromate treatment, or a steel plate that has been subjected to plating treatment is particularly preferred from the standpoint that it does not change over time such as corrosion. Further, the blade member may be a single layer or a laminate in which a plurality of materials are bonded together.

図１４は本発明の画像形成装置の他の実施形態の基本構成を概略的に示す断面図である。図１４に示す画像形成装置３２０はタンデム方式によりカラー画像を形成する画像形成装置であり、ハウジング４００内において４つの電子写真感光体２００ａ〜２００ｄ（例えば、電子写真感光体２００ａがイエロー、電子写真感光体２００ｂがマゼンタ、電子写真感光体２００ｃがシアン、電子写真感光体２００ｄがブラックの色からなる画像をそれぞれ形成可能である）が中間転写ベルト４０９に沿って相互に並列に配置されている。   FIG. 14 is a cross-sectional view schematically showing a basic configuration of another embodiment of the image forming apparatus of the present invention. An image forming apparatus 320 illustrated in FIG. 14 is an image forming apparatus that forms a color image by a tandem method. In the housing 400, four electrophotographic photosensitive members 200a to 200d (for example, the electrophotographic photosensitive member 200a is yellow and the electrophotographic photosensitive member is formed). The body 200b can be formed with magenta, the electrophotographic photoreceptor 200c can be formed with cyan, and the electrophotographic photoreceptor 200d can be formed with black.) Are arranged in parallel along the intermediate transfer belt 409.

ここで、画像形成装置３２０に搭載されている電子写真感光体２００ａ〜２００ｄは、それぞれ本発明の電子写真感光体である。   Here, the electrophotographic photoreceptors 200a to 200d mounted in the image forming apparatus 320 are the electrophotographic photoreceptors of the present invention.

電子写真感光体２００ａ〜２００ｄのそれぞれは所定の方向（紙面上は反時計回り）に回転可能であり、その回転方向に沿って帯電ロール４０２ａ〜４０２ｄ、現像装置４０４ａ〜４０４ｄ、１次転写ロール４１０ａ〜４１０ｄ、クリーニングブレード４１５ａ〜４１５ｄが配置されている。現像装置４０４ａ〜４０４ｄのそれぞれにはトナーカートリッジ４０５ａ〜４０５ｄに収容されたブラック、イエロー、マゼンタ、シアンの４色のトナーが供給可能であり、また、１次転写ロール４１０ａ〜４１０ｄはそれぞれ中間転写ベルト４０９を介して電子写真感光体２００ａ〜２００ｄに当接している。   Each of the electrophotographic photoreceptors 200a to 200d can be rotated in a predetermined direction (counterclockwise on the paper surface), and the charging rolls 402a to 402d, the developing devices 404a to 404d, and the primary transfer roll 410a along the rotation direction. To 410d and cleaning blades 415a to 415d are arranged. Each of the developing devices 404a to 404d can be supplied with toner of four colors of black, yellow, magenta and cyan accommodated in the toner cartridges 405a to 405d, and the primary transfer rolls 410a to 410d are respectively intermediate transfer belts. 409 is in contact with the electrophotographic photoreceptors 200a to 200d.

更に、ハウジング４００内の所定の位置にはレーザー光源（露光手段）４０３が配置されており、レーザー光源４０３から出射されたレーザー光を帯電後の電子写真感光体２００ａ〜２００ｄの表面に照射することが可能となっている。これにより、電子写真感光体２００ａ〜２００ｄの回転工程において帯電、露光、現像、１次転写、クリーニングの各工程が順次行われ、各色のトナー像が中間転写ベルト４０９上に重ねて転写される。   Further, a laser light source (exposure means) 403 is disposed at a predetermined position in the housing 400, and the laser light emitted from the laser light source 403 is applied to the surfaces of the charged electrophotographic photoreceptors 200a to 200d. Is possible. Accordingly, charging, exposure, development, primary transfer, and cleaning are sequentially performed in the rotation process of the electrophotographic photoreceptors 200a to 200d, and the toner images of the respective colors are transferred onto the intermediate transfer belt 409 in an overlapping manner.

中間転写ベルト４０９は駆動ロール４０６、バックアップロール４０８及びテンションロール４０７により所定の張力をもって支持されており、これらのロールの回転によりたわみを生じることなく回転可能となっている。また、２次転写ロール４１３は、中間転写ベルト４０９を介してバックアップロール４０８と当接するように配置されている。バックアップロール４０８と２次転写ロール４１３との間を通った中間転写ベルト４０９は、例えば駆動ロール４０６の近傍に配置されたクリーニングブレード４１６により清浄面化された後、次の画像形成プロセスに繰り返し供される。   The intermediate transfer belt 409 is supported with a predetermined tension by a drive roll 406, a backup roll 408, and a tension roll 407, and can rotate without causing deflection due to the rotation of these rolls. Further, the secondary transfer roll 413 is disposed so as to contact the backup roll 408 via the intermediate transfer belt 409. The intermediate transfer belt 409 passing between the backup roll 408 and the secondary transfer roll 413 is cleaned by, for example, a cleaning blade 416 disposed in the vicinity of the drive roll 406 and then repeatedly used for the next image forming process. Is done.

また、ハウジング４００内の所定の位置にはトレイ（被転写媒体トレイ）４１１が設けられており、トレイ４１１内の紙などの被転写媒体５００が移送ロール４１２により中間転写ベルト４０９と２次転写ロール４１３との間、さらには相互に当接する２個の定着ロール４１４の間に順次移送された後、ハウジング４００の外部に排紙される。   A tray (transfer medium tray) 411 is provided at a predetermined position in the housing 400, and the transfer medium 500 such as paper in the tray 411 is transferred to the intermediate transfer belt 409 and the secondary transfer roll by the transfer roll 412. Then, the paper is sequentially transferred between the two fixing rolls 414 that are in contact with each other and the two fixing rolls 414, and then discharged to the outside of the housing 400.

なお、上述の説明においては中間転写体として中間転写ベルト４０９を使用する場合について説明したが、中間転写体は、上記中間転写ベルト４０９のようにベルト状であってもよく、ドラム状であってもよい。ベルト状とする場合、中間転写体の基材として用いる樹脂材料としては、従来公知の樹脂を用いることができる。例えば、ポリイミド樹脂、ポリカーボネート樹脂（ＰＣ）、ポリフッ化ビニリデン（ＰＶＤＦ）、ポリアルキレンテレフタレート（ＰＡＴ）、エチレンテトラフルオロエチレン共重合体（ＥＴＦＥ）／ＰＣ、ＥＴＦＥ／ＰＡＴ、ＰＣ／ＰＡＴのブレンド材料、ポリエステル、ポリエーテルエーテルケトン、ポリアミド等の樹脂材料及びこれらを主原料としてなる樹脂材料が挙げられる。更に、樹脂材料と弾性材料とをブレンドして用いることができる。   In the above description, the case where the intermediate transfer belt 409 is used as the intermediate transfer member has been described. However, the intermediate transfer member may have a belt shape like the intermediate transfer belt 409 or a drum shape. Also good. In the case of a belt shape, a conventionally known resin can be used as the resin material used as the base material of the intermediate transfer member. For example, polyimide resin, polycarbonate resin (PC), polyvinylidene fluoride (PVDF), polyalkylene terephthalate (PAT), ethylenetetrafluoroethylene copolymer (ETFE) / PC, ETFE / PAT, PC / PAT blend material, polyester Resin materials such as polyether ether ketone and polyamide, and resin materials using these as main raw materials. Furthermore, a resin material and an elastic material can be blended and used.

弾性材料としては、ポリウレタン、塩素化ポリイソプレン、ＮＢＲ、クロロピレンゴム、ＥＰＤＭ、水素添加ポリブタジエン、ブチルゴム、シリコーンゴム等を１種類、又は２種類以上をブレンドしてなる材料を用いることができる。これらの基材に用いる樹脂材料及び弾性材料に、必要に応じて、電子伝導性を付与する導電剤やイオン伝導性を有する導電剤を１種類又は２種類以上を組み合わせて添加する。この中でも、機械的強度に優れる点で、導電剤を分散させたポリイミド樹脂を用いることが好ましい。上記の導電剤としては、カーボンブラック、金属酸化物、ポリアニリン等の導電性ポリマーを用いることができる。中間転写体として中間転写ベルト４０９のようなベルトの形状の構成を採用する場合、一般にベルトの厚さは５０〜５００μｍであることが好ましく、６０〜１５０μｍであることがより好ましいが、材料の硬度に応じて適宜選択することができる。   As an elastic material, polyurethane, chlorinated polyisoprene, NBR, chloropyrene rubber, EPDM, hydrogenated polybutadiene, butyl rubber, silicone rubber, or the like can be used, or a material obtained by blending two or more kinds can be used. If necessary, a conductive agent imparting electronic conductivity or a conductive agent having ionic conductivity is added to the resin material and elastic material used for these base materials in combination of one kind or two or more kinds. Among these, it is preferable to use a polyimide resin in which a conductive agent is dispersed from the viewpoint of excellent mechanical strength. As the conductive agent, a conductive polymer such as carbon black, metal oxide, or polyaniline can be used. When a belt-shaped configuration such as the intermediate transfer belt 409 is adopted as the intermediate transfer member, generally the thickness of the belt is preferably 50 to 500 μm, more preferably 60 to 150 μm, but the hardness of the material It can be selected as appropriate according to the conditions.

例えば、導電剤を分散させたポリイミド樹脂からなるベルトは、特開昭６３−３１１２６３号公報に記載されているように、ポリイミド前駆体であるポリアミド酸の溶液中に、導電剤として５〜２０質量％のカーボンブラックを分散させ、分散液を金属ドラム上に流延して乾燥した後、ドラムから剥離したフィルムを高温下に延伸してポリイミドフィルムを形成し、更に適当な大きさに切り出してエンドレスベルトとすることにより製造することができる。   For example, a belt made of a polyimide resin in which a conductive agent is dispersed is 5 to 20 mass as a conductive agent in a polyamic acid solution which is a polyimide precursor, as described in JP-A-63-311263. % Of carbon black is dispersed, the dispersion is cast on a metal drum and dried, and then the film peeled off from the drum is stretched at a high temperature to form a polyimide film. It can be manufactured by forming a belt.

上記フィルム成形は、一般には、導電剤を分散したポリアミド酸溶液の成膜用原液を円筒金型に注入して、例えば、１００〜２００℃に加熱しつつ５００〜２０００ｒｐｍの回転数で円筒金型を回転させながら、遠心成形法によりフィルム状に成膜し、次いで、得られたフィルムを半硬化させた状態で脱型して鉄芯に被せ、３００℃以上の高温でポリイミド化反応（ポリアミド酸の閉環反応）を進行させて本硬化させることにより行うことができる。また、成膜原液を金属シート上に均一な厚みに流延して、上記と同様に１００〜２００℃に加熱して溶媒の大半を除去し、その後３００℃以上の高温に段階的に昇温してポリイミドフィルムを形成する方法もある。また、中間転写体は表面層を有していてもよい。   The film molding is generally performed by injecting a polyamic acid solution film-forming stock solution in which a conductive agent is dispersed into a cylindrical mold and, for example, heating at 100 to 200 ° C. at a rotational speed of 500 to 2000 rpm. The film was formed into a film by a centrifugal molding method while rotating, and then the obtained film was demolded in a semi-cured state and covered with an iron core, followed by a polyimide reaction (polyamic acid at a high temperature of 300 ° C. or higher. Can be carried out by carrying out a main ring curing reaction. In addition, the stock solution is cast on a metal sheet to a uniform thickness and heated to 100 to 200 ° C. to remove most of the solvent in the same manner as described above, and then gradually raised to a high temperature of 300 ° C. or higher. There is also a method of forming a polyimide film. Further, the intermediate transfer member may have a surface layer.

また、中間転写体としてドラム形状を有する構成を採用する場合、基材としては、アルミニウム、ステンレス鋼（ＳＵＳ）、銅等で形成された円筒状基材を用いることが好ましい。この円筒状基材上に、必要に応じて弾性層を被覆し、該弾性層上に最表面層を形成することができる。   When a drum-shaped configuration is adopted as the intermediate transfer member, it is preferable to use a cylindrical substrate formed of aluminum, stainless steel (SUS), copper, or the like as the substrate. If necessary, an elastic layer can be coated on the cylindrical substrate, and an outermost surface layer can be formed on the elastic layer.

なお、本発明にかかる被転写媒体とは、電子写真感光体上に形成されたトナー像を転写する媒体であれば特に制限はない。例えば、電子写真感光体から直接、紙等の被転写媒体に転写する場合は、紙等が被転写媒体である。また、中間転写体を用いる場合には、中間転写体が被転写媒体である。   The transfer medium according to the present invention is not particularly limited as long as it is a medium that transfers a toner image formed on an electrophotographic photosensitive member. For example, when transferring directly from an electrophotographic photosensitive member to a transfer medium such as paper, paper or the like is the transfer medium. When an intermediate transfer member is used, the intermediate transfer member is a transfer medium.

更に、図１５は、本発明のプロセスカートリッジの好適な一実施形態の基本構成を概略的に示す断面図である。プロセスカートリッジ６００は、電子写真感光体２００とともに、帯電手段８、現像手段１１、クリーニング手段１３、露光のための開口部１８、及び除電器１４を取り付けレール１６を用いて組み合せて一体化したものである。そして、このプロセスカートリッジ６００は、転写手段１２と、定着手段１５と、図示しない他の構成部分とからなる画像形成装置本体に対して着脱自在としたものであり、画像形成装置本体とともに画像形成装置を構成するものである。このようなプロセスカートリッジ６００は、例えば図１２〜１４に示した画像形成装置のいずれにも適用することができる。   Further, FIG. 15 is a sectional view schematically showing a basic configuration of a preferred embodiment of the process cartridge of the present invention. The process cartridge 600 is obtained by combining the electrophotographic photosensitive member 200 with the charging unit 8, the developing unit 11, the cleaning unit 13, the opening 18 for exposure, and the static eliminator 14 using the mounting rail 16. is there. The process cartridge 600 is detachably attached to the image forming apparatus main body including the transfer unit 12, the fixing unit 15, and other components not shown. It constitutes. Such a process cartridge 600 can be applied to any of the image forming apparatuses shown in FIGS.

以下、実施例及び比較例に基づいて本発明をより具体的に説明するが、本発明は以下の実施例に限定されるものではない。   EXAMPLES Hereinafter, although this invention is demonstrated more concretely based on an Example and a comparative example, this invention is not limited to a following example.

（実施例１）
まず、外径６０ｍｍφ、長さ３５７ｍｍ、厚さ１．５ｍｍの円筒状アルミニウム基体を用意し、その一端の表面側に、図１に示すように単一の傾斜面からなる形状（形状１）を有し、基体の長さ方向の面取り幅ａが２．０ｍｍ、基体の厚さ方向の面取り幅ｂが１．０ｍｍ、である面取り部を、切削加工により形成した。 Example 1
First, a cylindrical aluminum substrate having an outer diameter of 60 mmφ, a length of 357 mm, and a thickness of 1.5 mm is prepared, and a shape (shape 1) consisting of a single inclined surface is formed on the surface side of one end as shown in FIG. A chamfered portion having a chamfer width a of 2.0 mm in the length direction of the substrate and a chamfer width b of 1.0 mm in the thickness direction of the substrate was formed by cutting.

次に、酸化亜鉛（平均粒子径７０ｎｍ、テイカ社製試作品）１００質量部をトルエン４５０質量部と攪拌混合し、これにシランカップリング剤（ＫＢＭ６０３、信越化学社製）１．２５質量部を添加し、サンドグラインダーミルにて１時間分散した。その後、トルエンを減圧蒸留にて留去し、１５０℃で２時間焼き付けを行った後、室温まで冷却し、解砕して表面処理酸化亜鉛を得た。   Next, 100 parts by mass of zinc oxide (average particle size: 70 nm, prototype manufactured by Teica) is mixed with 450 parts by mass of toluene, and 1.25 parts by mass of a silane coupling agent (KBM603, manufactured by Shin-Etsu Chemical Co., Ltd.) And added for 1 hour in a sand grinder mill. Thereafter, toluene was distilled off under reduced pressure and baked at 150 ° C. for 2 hours, then cooled to room temperature and crushed to obtain surface-treated zinc oxide.

次に、ブロック型イソシアネート（スミジュール３１７０、住友バイエルンウレタン社製）７．５質量部、ブチラール樹脂（ＢＭ−１、積水化学社製）５質量部、及びメチルエチルケトン２５質量部を３０分間攪拌混合した後、そこに表面処理酸化亜鉛３３質量部を添加して１時間攪拌混合し、１ｍｍφのガラスビーズを充填率８０％とした横型サンドミルにて１０時間の分散処理を行った。得られた分散液に、シリコーンボール（トスパール１４５、東芝シリコーン社製）２質量部を加え、１時間攪拌混合して下引層形成用塗布液を得た。得られた塗布液を浸漬塗布法により上記面取り部が形成された円筒状アルミニウム基体上に塗布し、１８０℃で４０分間乾燥して膜厚１１．５μｍの下引層を形成した。なお、浸漬塗布の際、基体の面取り部が形成されている一端側から塗布液に浸漬するようにした。   Next, 7.5 parts by mass of block type isocyanate (Sumijoule 3170, manufactured by Sumitomo Bayern Urethane Co., Ltd.), 5 parts by mass of butyral resin (BM-1, manufactured by Sekisui Chemical Co., Ltd.), and 25 parts by mass of methyl ethyl ketone were mixed with stirring for 30 minutes. Thereafter, 33 parts by mass of surface-treated zinc oxide was added thereto, and the mixture was stirred and mixed for 1 hour, followed by dispersion treatment for 10 hours in a horizontal sand mill in which 1 mmφ glass beads were filled at 80%. To the obtained dispersion, 2 parts by mass of silicone balls (Tospearl 145, manufactured by Toshiba Silicone Co., Ltd.) were added and stirred for 1 hour to obtain an undercoat layer forming coating solution. The obtained coating solution was applied onto a cylindrical aluminum substrate having the chamfered portion formed thereon by dip coating, and dried at 180 ° C. for 40 minutes to form an undercoat layer having a thickness of 11.5 μm. In the dip coating, the substrate was dipped in the coating solution from one end side where the chamfered portion of the substrate was formed.

次に、電荷発生材料として、ＣｕＫα特性Ｘ線を用いたＸ線回折スペクトルにおいて、ブラッグ角（２θ±０．２°）の７．４°及び２８．２°に強いピークを有するヒドロキシガリウムフタロシアニン１５質量部、結着樹脂としての塩化ビニル−酢酸ビニル共重合体樹脂（ＶＭＣＨ、ユニオンカーバイト社製）１０質量部、及び、酢酸ｎ−ブチル４００質量部からなる混合液をサンドミルにて４時間分散し、電荷発生層形成用塗布液を得た。得られた塗布液を浸漬塗布法により上記下引層上に塗布し、１００℃で１５分間乾燥して膜厚０．２μｍの電荷発生層を形成した。なお、浸漬塗布の際、基体の面取り部が形成されている一端側から塗布液に浸漬するようにした。   Next, in an X-ray diffraction spectrum using CuKα characteristic X-ray as a charge generation material, hydroxygallium phthalocyanine 15 having strong peaks at Bragg angles (2θ ± 0.2 °) of 7.4 ° and 28.2 ° Disperse a mixed solution consisting of 10 parts by mass of a vinyl chloride-vinyl acetate copolymer resin (VMCH, manufactured by Union Carbide) as a binder resin and 400 parts by mass of n-butyl acetate in a sand mill for 4 hours. Thus, a coating solution for forming a charge generation layer was obtained. The obtained coating solution was applied onto the undercoat layer by a dip coating method and dried at 100 ° C. for 15 minutes to form a charge generation layer having a thickness of 0.2 μm. In the dip coating, the substrate was dipped in the coating solution from one end side where the chamfered portion of the substrate was formed.

次に、電荷輸送材料として下記式（Ｉ）で示されるベンジジン系化合物１質量部、及び、結着樹脂として下記式（ＩＩ）で示される繰り返し構造単位からなるポリカーボネート樹脂１質量部（ユーピロンＺ−４００、三菱ガス化学社製）を、トルエン１質量部及びテトラヒドロフラン５質量部からなる混合溶媒と混合して、電荷輸送層形成用塗布液を得た。   Next, 1 part by mass of a benzidine-based compound represented by the following formula (I) as a charge transporting material and 1 part by mass of a polycarbonate resin comprising a repeating structural unit represented by the following formula (II) as a binder resin (Iupilon Z- 400, manufactured by Mitsubishi Gas Chemical Co., Ltd.) was mixed with a mixed solvent consisting of 1 part by mass of toluene and 5 parts by mass of tetrahydrofuran to obtain a coating solution for forming a charge transport layer.

Figure 2007171271
Figure 2007171271

Figure 2007171271
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得られた塗布液を浸漬塗布法により上記電荷発生層上に塗布し、１２０℃で６０分間乾燥して膜厚３０．３μｍの電荷発生層を形成した。なお、浸漬塗布の際、基体の面取り部が形成されている一端側から塗布液に浸漬するようにした。以上により、電子写真感光体を得た。   The obtained coating solution was applied onto the charge generation layer by a dip coating method and dried at 120 ° C. for 60 minutes to form a charge generation layer having a thickness of 30.3 μm. In the dip coating, the substrate was dipped in the coating solution from one end side where the chamfered portion of the substrate was formed. Thus, an electrophotographic photosensitive member was obtained.

（実施例２）
まず、外径６０ｍｍφ、長さ３５７ｍｍ、厚さ２．０ｍｍの円筒状アルミニウム基体を用意し、その一端の表面側に、図１に示すように単一の傾斜面からなる形状（形状１）を有し、基体の長さ方向の面取り幅ａが１．５ｍｍ、基体の厚さ方向の面取り幅ｂが０．５ｍｍ、である面取り部を、切削加工により形成した。 (Example 2)
First, a cylindrical aluminum substrate having an outer diameter of 60 mmφ, a length of 357 mm, and a thickness of 2.0 mm is prepared, and a shape (shape 1) composed of a single inclined surface is formed on the surface side of one end as shown in FIG. A chamfered portion having a chamfering width a in the length direction of the base body of 1.5 mm and a chamfering width b in the thickness direction of the base body of 0.5 mm was formed by cutting.

この円筒状アルミニウム基体を用い、下引層の膜厚を２７．５μｍ、電荷発生層の膜厚を０．２μｍ、電荷輸送層の膜厚を３７．５μｍとした以外は実施例１と同様にして、電子写真感光体を作製した。   Example 1 was used except that this cylindrical aluminum substrate was used, the thickness of the undercoat layer was 27.5 μm, the thickness of the charge generation layer was 0.2 μm, and the thickness of the charge transport layer was 37.5 μm. Thus, an electrophotographic photosensitive member was produced.

（実施例３）
まず、外径６０ｍｍφ、長さ３５７ｍｍ、厚さ２．０ｍｍの円筒状アルミニウム基体を用意し、その一端の表面側に、図１に示すように単一の傾斜面からなる形状（形状１）を有し、基体の長さ方向の面取り幅ａが２．５ｍｍ、基体の厚さ方向の面取り幅ｂが１．０ｍｍ、である面取り部を、切削加工により形成した。 (Example 3)
First, a cylindrical aluminum substrate having an outer diameter of 60 mmφ, a length of 357 mm, and a thickness of 2.0 mm is prepared, and a shape (shape 1) composed of a single inclined surface is formed on the surface side of one end as shown in FIG. A chamfered portion having a chamfering width a in the length direction of the base body of 2.5 mm and a chamfering width b in the thickness direction of the base body of 1.0 mm was formed by cutting.

この円筒状アルミニウム基体を用い、下引層の膜厚を２０．２μｍ、電荷発生層の膜厚を０．２μｍ、電荷輸送層の膜厚を３２．３μｍとした以外は実施例１と同様にして、電子写真感光体を作製した。   The same procedure as in Example 1 was performed except that this cylindrical aluminum substrate was used, the thickness of the undercoat layer was 20.2 μm, the thickness of the charge generation layer was 0.2 μm, and the thickness of the charge transport layer was 32.3 μm. Thus, an electrophotographic photosensitive member was produced.

（実施例４）
まず、外径６０ｍｍφ、長さ３５７ｍｍ、厚さ２．０ｍｍの円筒状アルミニウム基体を用意し、その一端の表面側に、図１に示すように単一の傾斜面からなる形状（形状１）を有し、基体の長さ方向の面取り幅ａが３．０ｍｍ、基体の厚さ方向の面取り幅ｂが０．５ｍｍ、である面取り部を、切削加工により形成した。 Example 4
First, a cylindrical aluminum substrate having an outer diameter of 60 mmφ, a length of 357 mm, and a thickness of 2.0 mm is prepared, and a shape (shape 1) composed of a single inclined surface is formed on the surface side of one end as shown in FIG. A chamfered portion having a chamfer width a of 3.0 mm in the length direction of the substrate and a chamfer width b of 0.5 mm in the thickness direction of the substrate was formed by cutting.

この円筒状アルミニウム基体を用い、下引層の膜厚を２６．５μｍ、電荷発生層の膜厚を０．２μｍ、電荷輸送層の膜厚を３７．５μｍとした以外は実施例１と同様にして、電子写真感光体を作製した。   Example 1 was used except that this cylindrical aluminum substrate was used, the thickness of the undercoat layer was 26.5 μm, the thickness of the charge generation layer was 0.2 μm, and the thickness of the charge transport layer was 37.5 μm. Thus, an electrophotographic photosensitive member was produced.

（実施例５）
まず、外径６０ｍｍφ、長さ３５７ｍｍ、厚さ２．０ｍｍの円筒状アルミニウム基体を用意し、その一端の表面側に、図１に示すように単一の傾斜面からなる形状（形状１）を有し、基体の長さ方向の面取り幅ａが１．５ｍｍ、基体の厚さ方向の面取り幅ｂが１．０ｍｍ、である面取り部を、切削加工により形成した。 (Example 5)
First, a cylindrical aluminum substrate having an outer diameter of 60 mmφ, a length of 357 mm, and a thickness of 2.0 mm is prepared, and a shape (shape 1) composed of a single inclined surface is formed on the surface side of one end as shown in FIG. A chamfered portion having a chamfering width a in the length direction of the substrate of 1.5 mm and a chamfering width b in the thickness direction of the substrate of 1.0 mm was formed by cutting.

この円筒状アルミニウム基体を用い、下引層の膜厚を３０．２μｍ、電荷発生層の膜厚を０．２μｍ、電荷輸送層の膜厚を３０．５μｍとした以外は実施例１と同様にして、電子写真感光体を作製した。   The same procedure as in Example 1 was conducted except that this cylindrical aluminum substrate was used, the thickness of the undercoat layer was 30.2 μm, the thickness of the charge generation layer was 0.2 μm, and the thickness of the charge transport layer was 30.5 μm. Thus, an electrophotographic photosensitive member was produced.

（実施例６）
まず、外径６０ｍｍφ、長さ３５７ｍｍ、厚さ１．０ｍｍの円筒状アルミニウム基体を用意し、その一端の表面側に、図１に示すように単一の傾斜面からなる形状（形状１）を有し、基体の長さ方向の面取り幅ａが２．０ｍｍ、基体の厚さ方向の面取り幅ｂが０．３ｍｍ、である面取り部を、切削加工により形成した。 (Example 6)
First, a cylindrical aluminum substrate having an outer diameter of 60 mmφ, a length of 357 mm, and a thickness of 1.0 mm is prepared, and a shape (shape 1) consisting of a single inclined surface is formed on the surface side of one end as shown in FIG. A chamfered portion having a chamfering width a in the length direction of the substrate of 2.0 mm and a chamfering width b in the thickness direction of the substrate of 0.3 mm was formed by cutting.

この円筒状アルミニウム基体を用い、下引層の膜厚を１８．３μｍ、電荷発生層の膜厚を０．２μｍ、電荷輸送層の膜厚を３４．５μｍとした以外は実施例１と同様にして、電子写真感光体を作製した。   Example 1 was used except that this cylindrical aluminum substrate was used, the thickness of the undercoat layer was 18.3 μm, the thickness of the charge generation layer was 0.2 μm, and the thickness of the charge transport layer was 34.5 μm. Thus, an electrophotographic photosensitive member was produced.

（実施例７）
まず、外径６０ｍｍφ、長さ３５７ｍｍ、厚さ２．０ｍｍの円筒状アルミニウム基体を用意し、その一端の表面側に、図２に示すように傾斜面及び平行面からなる形状（形状２）を有し、基体の長さ方向の面取り幅ａが１．５ｍｍ、基体の厚さ方向の面取り幅ｂが１．０ｍｍ、傾斜面における基体の長さ方向の面取り幅ｃが０．８ｍｍ、である面取り部を、切削加工により形成した。 (Example 7)
First, a cylindrical aluminum substrate having an outer diameter of 60 mmφ, a length of 357 mm, and a thickness of 2.0 mm is prepared, and a shape (shape 2) composed of an inclined surface and a parallel surface as shown in FIG. The chamfer width a in the length direction of the substrate is 1.5 mm, the chamfer width b in the thickness direction of the substrate is 1.0 mm, and the chamfer width c in the length direction of the substrate on the inclined surface is 0.8 mm. The chamfered part was formed by cutting.

この円筒状アルミニウム基体を用い、下引層の膜厚を３０．２μｍ、電荷発生層の膜厚を０．２μｍ、電荷輸送層の膜厚を３０．５μｍとした以外は実施例１と同様にして、電子写真感光体を作製した。   The same procedure as in Example 1 was conducted except that this cylindrical aluminum substrate was used, the thickness of the undercoat layer was 30.2 μm, the thickness of the charge generation layer was 0.2 μm, and the thickness of the charge transport layer was 30.5 μm. Thus, an electrophotographic photosensitive member was produced.

（実施例８）
まず、外径６０ｍｍφ、長さ３５７ｍｍ、厚さ２．０ｍｍの円筒状アルミニウム基体を用意し、その一端の表面側に、図３に示すように第１の傾斜面、平行面及び第２の傾斜面からなる形状（形状３）を有し、基体の長さ方向の面取り幅ａが１．５ｍｍ、基体の厚さ方向の面取り幅ｂが１．０ｍｍ、第１の傾斜面における基体の長さ方向の面取り幅ｃが０．８ｍｍ、第１の傾斜面における基体の厚さ方向の面取り幅ｄが０．７ｍｍ、第２の傾斜面における基体の長さ方向の面取り幅ｅが０．５ｍｍ、である面取り部を、切削加工により形成した。 (Example 8)
First, a cylindrical aluminum substrate having an outer diameter of 60 mmφ, a length of 357 mm, and a thickness of 2.0 mm is prepared, and a first inclined surface, a parallel surface, and a second inclined surface are provided on the surface side of one end thereof as shown in FIG. The substrate has a shape (shape 3) having a chamfering width a in the length direction of the substrate of 1.5 mm, a chamfering width b in the thickness direction of the substrate of 1.0 mm, and the length of the substrate on the first inclined surface. The chamfer width c in the direction of the substrate is 0.8 mm, the chamfer width d in the thickness direction of the substrate on the first inclined surface is 0.7 mm, the chamfer width e in the length direction of the substrate on the second inclined surface is 0.5 mm, The chamfered part which is is formed by cutting.

この円筒状アルミニウム基体を用い、下引層の膜厚を３０．２μｍ、電荷発生層の膜厚を０．２μｍ、電荷輸送層の膜厚を３０．５μｍとした以外は実施例１と同様にして、電子写真感光体を作製した。   The same procedure as in Example 1 was conducted except that this cylindrical aluminum substrate was used, the thickness of the undercoat layer was 30.2 μm, the thickness of the charge generation layer was 0.2 μm, and the thickness of the charge transport layer was 30.5 μm. Thus, an electrophotographic photosensitive member was produced.

（実施例９）
まず、外径６０ｍｍφ、長さ３５７ｍｍ、厚さ１．０ｍｍの円筒状アルミニウム基体を用意し、その一端の表面側に、図１に示すように単一の傾斜面からなる形状（形状１）を有し、基体の長さ方向の面取り幅ａが１．０ｍｍ、基体の厚さ方向の面取り幅ｂが１．０ｍｍ、である面取り部を、切削加工により形成した。 Example 9
First, a cylindrical aluminum substrate having an outer diameter of 60 mmφ, a length of 357 mm, and a thickness of 1.0 mm is prepared, and a shape (shape 1) consisting of a single inclined surface is formed on the surface side of one end as shown in FIG. A chamfered portion having a chamfering width a in the length direction of the substrate of 1.0 mm and a chamfering width b in the thickness direction of the substrate of 1.0 mm was formed by cutting.

この円筒状アルミニウム基体を用い、下引層の膜厚を３０．２μｍ、電荷発生層の膜厚を０．２μｍ、電荷輸送層の膜厚を３０．５μｍとした以外は実施例１と同様にして、電子写真感光体を作製した。   The same procedure as in Example 1 was conducted except that this cylindrical aluminum substrate was used, the thickness of the undercoat layer was 30.2 μm, the thickness of the charge generation layer was 0.2 μm, and the thickness of the charge transport layer was 30.5 μm. Thus, an electrophotographic photosensitive member was produced.

（実施例１０）
まず、外径６０ｍｍφ、長さ３５７ｍｍ、厚さ２．０ｍｍの円筒状アルミニウム基体を用意し、その一端の表面側に、図１に示すように単一の傾斜面からなる形状（形状１）を有し、基体の長さ方向の面取り幅ａが０．８ｍｍ、基体の厚さ方向の面取り幅ｂが０．５ｍｍ、である面取り部を、切削加工により形成した。 (Example 10)
First, a cylindrical aluminum substrate having an outer diameter of 60 mmφ, a length of 357 mm, and a thickness of 2.0 mm is prepared, and a shape (shape 1) composed of a single inclined surface is formed on the surface side of one end as shown in FIG. A chamfered portion having a chamfering width a in the length direction of the substrate of 0.8 mm and a chamfering width b in the thickness direction of the substrate of 0.5 mm was formed by cutting.

この円筒状アルミニウム基体を用い、下引層の膜厚を１２．３μｍ、電荷発生層の膜厚を０．２μｍ、電荷輸送層の膜厚を２０．２μｍとした以外は実施例１と同様にして、電子写真感光体を作製した。   The same procedure as in Example 1 was conducted except that this cylindrical aluminum substrate was used, the thickness of the undercoat layer was 12.3 μm, the thickness of the charge generation layer was 0.2 μm, and the thickness of the charge transport layer was 20.2 μm. Thus, an electrophotographic photosensitive member was produced.

（比較例１）
まず、面取り部を有しない、外径６０ｍｍφ、長さ３５７ｍｍ、厚さ１．５ｍｍの円筒状アルミニウム基体を用意した。 (Comparative Example 1)
First, a cylindrical aluminum substrate having an outer diameter of 60 mmφ, a length of 357 mm, and a thickness of 1.5 mm without a chamfered portion was prepared.

この円筒状アルミニウム基体を用い、下引層の膜厚を１０．１μｍ、電荷発生層の膜厚を０．２μｍ、電荷輸送層の膜厚を３２．２μｍとした以外は実施例１と同様にして、電子写真感光体を作製した。   Example 1 was used except that this cylindrical aluminum substrate was used, the thickness of the undercoat layer was 10.1 μm, the thickness of the charge generation layer was 0.2 μm, and the thickness of the charge transport layer was 32.2 μm. Thus, an electrophotographic photosensitive member was produced.

（比較例２）
まず、外径６０ｍｍφ、長さ３５７ｍｍ、厚さ１．０ｍｍの円筒状アルミニウム基体を用意し、その一端の表面側に、図１に示すように単一の傾斜面からなる形状（形状１）を有し、基体の長さ方向の面取り幅ａが０．５ｍｍ、基体の厚さ方向の面取り幅ｂが０．７ｍｍ、である面取り部を、切削加工により形成した。 (Comparative Example 2)
First, a cylindrical aluminum substrate having an outer diameter of 60 mmφ, a length of 357 mm, and a thickness of 1.0 mm is prepared, and a shape (shape 1) consisting of a single inclined surface is formed on the surface side of one end as shown in FIG. A chamfered portion having a chamfer width a in the length direction of the substrate of 0.5 mm and a chamfer width b in the thickness direction of the substrate of 0.7 mm was formed by cutting.

この円筒状アルミニウム基体を用い、下引層の膜厚を８．２μｍ、電荷発生層の膜厚を０．２μｍ、電荷輸送層の膜厚を３０．２μｍとした以外は実施例１と同様にして、電子写真感光体を作製した。   Example 1 was used except that this cylindrical aluminum substrate was used, the thickness of the undercoat layer was 8.2 μm, the thickness of the charge generation layer was 0.2 μm, and the thickness of the charge transport layer was 30.2 μm. Thus, an electrophotographic photosensitive member was produced.

（比較例３）
まず、外径４０ｍｍφ、長さ３５７ｍｍ、厚さ１．０ｍｍの円筒状アルミニウム基体を用意し、その一端の表面側に、図１に示すように単一の傾斜面からなる形状（形状１）を有し、基体の長さ方向の面取り幅ａが０．１ｍｍ、基体の厚さ方向の面取り幅ｂが０．１ｍｍ、である面取り部（ＪＩＳ Ｂ０７０１に規定されるＣ０．１面取り加工）を、切削加工により形成した。 (Comparative Example 3)
First, a cylindrical aluminum substrate having an outer diameter of 40 mmφ, a length of 357 mm, and a thickness of 1.0 mm is prepared, and a shape (shape 1) composed of a single inclined surface is formed on the surface side of one end as shown in FIG. A chamfered portion (C0.1 chamfering defined in JIS B0701) having a chamfering width a in the length direction of the substrate of 0.1 mm and a chamfering width b in the thickness direction of the substrate of 0.1 mm, It was formed by cutting.

この円筒状アルミニウム基体を用い、下引層の膜厚を８．１μｍ、電荷発生層の膜厚を０．２μｍ、電荷輸送層の膜厚を２８．１μｍとした以外は実施例１と同様にして、電子写真感光体を作製した。   Example 1 was used except that this cylindrical aluminum substrate was used, the thickness of the undercoat layer was 8.1 μm, the thickness of the charge generation layer was 0.2 μm, and the thickness of the charge transport layer was 28.1 μm. Thus, an electrophotographic photosensitive member was produced.

（比較例４）
まず、外径４０ｍｍφ、長さ３５７ｍｍ、厚さ１．０ｍｍの円筒状アルミニウム基体を用意し、その一端の表面側に、図１に示すように単一の傾斜面からなる形状（形状１）を有し、基体の長さ方向の面取り幅ａが０．５ｍｍ、基体の厚さ方向の面取り幅ｂが０．５ｍｍ、である面取り部（ＪＩＳ Ｂ０７０１に規定されるＣ０．５面取り加工）を、切削加工により形成した。 (Comparative Example 4)
First, a cylindrical aluminum substrate having an outer diameter of 40 mmφ, a length of 357 mm, and a thickness of 1.0 mm is prepared, and a shape (shape 1) composed of a single inclined surface is formed on the surface side of one end as shown in FIG. A chamfering portion (C0.5 chamfering process defined in JIS B0701) having a chamfering width a in the length direction of the substrate of 0.5 mm and a chamfering width b in the thickness direction of the substrate of 0.5 mm. It was formed by cutting.

この円筒状アルミニウム基体を用い、下引層の膜厚を１２．３μｍ、電荷発生層の膜厚を０．２μｍ、電荷輸送層の膜厚を２６．２μｍとした以外は実施例１と同様にして、電子写真感光体を作製した。   Example 1 was used except that this cylindrical aluminum substrate was used, the thickness of the undercoat layer was 12.3 μm, the thickness of the charge generation layer was 0.2 μm, and the thickness of the charge transport layer was 26.2 μm. Thus, an electrophotographic photosensitive member was produced.

（比較例５）
まず、外径６０ｍｍφ、長さ３５７ｍｍ、厚さ０．８ｍｍの円筒状アルミニウム基体を用意し、その一端の表面側に、図１に示すように単一の傾斜面からなる形状（形状１）を有し、基体の長さ方向の面取り幅ａが０．３ｍｍ、基体の厚さ方向の面取り幅ｂが０．３ｍｍ、である面取り部（ＪＩＳ Ｂ０７０１に規定されるＣ０．３面取り加工）を、切削加工により形成した。 (Comparative Example 5)
First, a cylindrical aluminum substrate having an outer diameter of 60 mmφ, a length of 357 mm, and a thickness of 0.8 mm is prepared, and a shape (shape 1) consisting of a single inclined surface is formed on the surface side of one end as shown in FIG. A chamfering portion (C0.3 chamfering process defined in JIS B0701) having a chamfering width a in the length direction of the substrate of 0.3 mm and a chamfering width b in the thickness direction of the substrate of 0.3 mm. It was formed by cutting.

この円筒状アルミニウム基体を用い、下引層の膜厚を１．５μｍ、電荷発生層の膜厚を０．２μｍ、電荷輸送層の膜厚を２４．３μｍとした以外は実施例１と同様にして、電子写真感光体を作製した。   The same procedure as in Example 1 was conducted except that this cylindrical aluminum substrate was used, the thickness of the undercoat layer was 1.5 μm, the thickness of the charge generation layer was 0.2 μm, and the thickness of the charge transport layer was 24.3 μm. Thus, an electrophotographic photosensitive member was produced.

（比較例６）
まず、外径６０ｍｍφ、長さ３５７ｍｍ、厚さ２．０ｍｍの円筒状アルミニウム基体を用意し、その一端の表面側に、図１に示すように単一の傾斜面からなる形状（形状１）を有し、基体の長さ方向の面取り幅ａが０．８ｍｍ、基体の厚さ方向の面取り幅ｂが０．５ｍｍ、である面取り部を、切削加工により形成した。 (Comparative Example 6)
First, a cylindrical aluminum substrate having an outer diameter of 60 mmφ, a length of 357 mm, and a thickness of 2.0 mm is prepared, and a shape (shape 1) composed of a single inclined surface is formed on the surface side of one end as shown in FIG. A chamfered portion having a chamfering width a in the length direction of the substrate of 0.8 mm and a chamfering width b in the thickness direction of the substrate of 0.5 mm was formed by cutting.

この円筒状アルミニウム基体を用い、下引層の膜厚を１２．３μｍ、電荷発生層の膜厚を０．２μｍ、電荷輸送層の膜厚を３０．２μｍとした以外は実施例１と同様にして、電子写真感光体を作製した。   The same procedure as in Example 1 was conducted except that this cylindrical aluminum substrate was used, the thickness of the undercoat layer was 12.3 μm, the thickness of the charge generation layer was 0.2 μm, and the thickness of the charge transport layer was 30.2 μm. Thus, an electrophotographic photosensitive member was produced.

（比較例７）
まず、外径６０ｍｍφ、長さ３５７ｍｍ、厚さ１．０ｍｍの円筒状アルミニウム基体を用意し、その一端の表面側に、図１に示すように単一の傾斜面からなる形状（形状１）を有し、基体の長さ方向の面取り幅ａが２．０ｍｍ、基体の厚さ方向の面取り幅ｂが０．３ｍｍ、である面取り部を、切削加工により形成した。 (Comparative Example 7)
First, a cylindrical aluminum substrate having an outer diameter of 60 mmφ, a length of 357 mm, and a thickness of 1.0 mm is prepared, and a shape (shape 1) consisting of a single inclined surface is formed on the surface side of one end as shown in FIG. A chamfered portion having a chamfering width a in the length direction of the substrate of 2.0 mm and a chamfering width b in the thickness direction of the substrate of 0.3 mm was formed by cutting.

この円筒状アルミニウム基体を用い、下引層の膜厚を３０．２μｍ、電荷発生層の膜厚を０．２μｍ、電荷輸送層の膜厚を３８．５μｍとした以外は実施例１と同様にして、電子写真感光体を作製した。   The same procedure as in Example 1 was performed except that this cylindrical aluminum substrate was used, the thickness of the undercoat layer was 30.2 μm, the thickness of the charge generation layer was 0.2 μm, and the thickness of the charge transport layer was 38.5 μm. Thus, an electrophotographic photosensitive member was produced.

［感光層の評価］
実施例１〜１０及び比較例１〜７で得られた電子写真感光体について、下引層、電荷発生層及び電荷輸送層からなる感光層の下端部（浸漬塗布法において塗布液にはじめに浸漬する側の端部）における厚膜化、気泡及び膜剥がれ（クラック）の発生状況について目視にて評価した。その結果を、各電子写真感光体における感光層の膜厚Ｄ［ｍｍ］及び面取り面積Ｗ［ｍｍ２］とともに表１に示す。 [Evaluation of photosensitive layer]
For the electrophotographic photoreceptors obtained in Examples 1 to 10 and Comparative Examples 1 to 7, the lower end portion of the photosensitive layer composed of the undercoat layer, the charge generation layer and the charge transport layer (firstly immersed in the coating solution in the dip coating method). The occurrence of thick film formation, bubbles, and film peeling (cracks) at the end portion on the side was evaluated visually. The results are shown in Table 1 together with the film thickness D [mm] and the chamfered area W [mm 2 ] of the photosensitive layer in each electrophotographic photosensitive member.

Figure 2007171271
Figure 2007171271

表１に示した結果から明らかなように、実施例１〜１０で得られた電子写真感光体は、比較例１〜７で得られた電子写真感光体と比較して、円筒状導電性基体の下端部における感光層の厚膜化、気泡及び膜剥がれの発生の全てが十分に防止されていることが確認された。   As is apparent from the results shown in Table 1, the electrophotographic photoreceptors obtained in Examples 1 to 10 are more cylindrical conductive substrates than the electrophotographic photoreceptors obtained in Comparative Examples 1 to 7. It was confirmed that all of the thickening of the photosensitive layer, the generation of bubbles and film peeling at the lower end of the film were sufficiently prevented.

以上より、本発明によれば、浸漬塗布法により感光層を形成するに際し、基体の下端部における感光層の厚膜化、気泡及び膜剥がれの発生を十分に防止することが可能な電子写真感光体の製造方法、電子写真感光体、並びにその電子写真感光体を用いたプロセスカートリッジ及び画像形成装置を提供することができることが確認された。   As described above, according to the present invention, when the photosensitive layer is formed by the dip coating method, the electrophotographic photosensitive member can sufficiently prevent the thickening of the photosensitive layer, the bubble and the film peeling at the lower end portion of the substrate. It has been confirmed that a method for producing a body, an electrophotographic photosensitive member, and a process cartridge and an image forming apparatus using the electrophotographic photosensitive member can be provided.

面取り部形成工程において面取りが施された円筒状導電性基体をその長さ方向に切断した場合の断面形状の一例を示す部分断面図である。It is a fragmentary sectional view which shows an example of the cross-sectional shape at the time of cut | disconnecting the cylindrical conductive base | substrate which the chamfered in the chamfer part formation process was performed in the length direction. 面取り部形成工程において面取りが施された円筒状導電性基体をその長さ方向に切断した場合の断面形状の他の一例を示す部分断面図である。It is a fragmentary sectional view which shows another example of the cross-sectional shape at the time of cut | disconnecting the cylindrical electroconductive base | substrate which the chamfered in the chamfer part formation process was performed in the length direction. 面取り部形成工程において面取りが施された円筒状導電性基体をその長さ方向に切断した場合の断面形状の他の一例を示す部分断面図である。It is a fragmentary sectional view which shows another example of the cross-sectional shape at the time of cut | disconnecting the cylindrical electroconductive base | substrate which the chamfered in the chamfer part formation process was performed in the length direction. 本発明の電子写真感光体の製造方法に使用される浸漬塗布装置の一例を示す概略構成図である。It is a schematic block diagram which shows an example of the dip coating apparatus used for the manufacturing method of the electrophotographic photoreceptor of this invention. 本発明の製造方法により感光層が形成された円筒状導電性基体の一例を示す斜視図である。It is a perspective view which shows an example of the cylindrical conductive base | substrate with which the photosensitive layer was formed by the manufacturing method of this invention. 図５のＩ−Ｉ方向断面図である。FIG. 6 is a cross-sectional view in the II direction of FIG. 5. 本発明の電子写真感光体の好適な一実施形態を示す模式断面図である。1 is a schematic cross-sectional view showing a preferred embodiment of an electrophotographic photoreceptor of the present invention. 本発明の電子写真感光体の他の好適な一実施形態を示す模式断面図である。FIG. 6 is a schematic cross-sectional view showing another preferred embodiment of the electrophotographic photosensitive member of the present invention. 本発明の電子写真感光体の他の好適な一実施形態を示す模式断面図である。FIG. 6 is a schematic cross-sectional view showing another preferred embodiment of the electrophotographic photosensitive member of the present invention. 本発明の電子写真感光体の他の好適な一実施形態を示す模式断面図である。FIG. 6 is a schematic cross-sectional view showing another preferred embodiment of the electrophotographic photosensitive member of the present invention. 本発明の電子写真感光体の他の好適な一実施形態を示す模式断面図である。FIG. 6 is a schematic cross-sectional view showing another preferred embodiment of the electrophotographic photosensitive member of the present invention. 本発明の画像形成装置の好適な一実施形態の基本構成を概略的に示す断面図である。1 is a cross-sectional view schematically showing a basic configuration of a preferred embodiment of an image forming apparatus of the present invention. 本発明の画像形成装置の他の好適な一実施形態の基本構成を概略的に示す断面図である。It is sectional drawing which shows schematically the basic composition of other suitable one Embodiment of the image forming apparatus of this invention. 本発明の画像形成装置の他の好適な一実施形態の基本構成を概略的に示す断面図である。It is sectional drawing which shows schematically the basic composition of other suitable one Embodiment of the image forming apparatus of this invention. 本発明のプロセスカートリッジの好適な一実施形態の基本構成を概略的に示す断面図である。1 is a cross-sectional view schematically showing a basic configuration of a preferred embodiment of a process cartridge of the present invention.

符号の説明Explanation of symbols

１…電荷発生層、２…電荷輸送層、３…円筒状導電性基体、４…下引層、５…保護層、６…感光層、７…電荷発生／電荷輸送層、８…帯電手段、９…電源、１０…露光手段、１１…現像手段、１２…転写手段、１３…クリーニング手段、１４…除電器、１５…定着手段、１６…取り付けレール、１８…露光のための開口部、２０…被転写体、１００…浸漬塗布装置、１０１…面取り部、１０２…機能層形成用塗布液、１０３…円筒状導電性基体、１０５…感光層、１１０…塗布槽、１１４…中空状遮風器、１２０…貯溜槽、１３０…導電性基体昇降機、２００，２００ａ〜２００ｄ，２１０，２２０，２３０，２４０，２５０…電子写真感光体、３００，３１０，３２０…画像形成装置、５００…被転写媒体、６００…プロセスカートリッジ。   DESCRIPTION OF SYMBOLS 1 ... Charge generation layer, 2 ... Charge transport layer, 3 ... Cylindrical conductive base | substrate, 4 ... Undercoat layer, 5 ... Protective layer, 6 ... Photosensitive layer, 7 ... Charge generation / charge transport layer, 8 ... Charging means, DESCRIPTION OF SYMBOLS 9 ... Power supply, 10 ... Exposure means, 11 ... Developing means, 12 ... Transfer means, 13 ... Cleaning means, 14 ... Static eliminator, 15 ... Fixing means, 16 ... Mounting rail, 18 ... Opening for exposure, 20 ... Transfer object 100 ... Dip coater 101 ... Chamfering part 102 ... Functional layer forming coating solution 103 ... Cylindrical conductive substrate 105 ... Photosensitive layer 110 ... Coating tank 114 ... Hollow air shield DESCRIPTION OF SYMBOLS 120 ... Reservoir, 130 ... Conductive substrate lift, 200, 200a to 200d, 210, 220, 230, 240, 250 ... Electrophotographic photosensitive member, 300, 310, 320 ... Image forming apparatus, 500 ... Transfer medium, 600 ... Process cartridge

Claims (8)

円筒状導電性基体と、該円筒状導電性基体上に形成された１層以上の機能層からなる感光層と、を備える電子写真感光体の製造方法であって、
前記円筒状導電性基体の少なくとも一端の表面側に面取り部を形成する面取り部形成工程と、
前記面取り部が形成された前記円筒状導電性基体を前記一端側から前記機能層を形成するための塗布液に浸漬した後、引き上げることにより前記円筒状導電性基体上に塗膜を形成せしめ、次いで、該塗膜を乾燥することにより前記機能層を形成する工程を経て、前記感光層を形成する感光層形成工程と、
を含み、
前記円筒状導電性基体をその長さ方向に切断した場合の断面形状における前記面取り部の面取り面積をＷ［ｍｍ２］、前記感光層の膜厚をＤ［ｍｍ］として、（Ｄ／Ｗ）［ｍｍ−１］の値が０．２以下となるように前記面取り部形成工程及び前記感光層形成工程を行うことを特徴とする電子写真感光体の製造方法。 A method for producing an electrophotographic photoreceptor comprising: a cylindrical conductive substrate; and a photosensitive layer comprising one or more functional layers formed on the cylindrical conductive substrate,
A chamfered portion forming step of forming a chamfered portion on the surface side of at least one end of the cylindrical conductive substrate;
After immersing the cylindrical conductive substrate in which the chamfered portion is formed in a coating solution for forming the functional layer from the one end side, a coating film is formed on the cylindrical conductive substrate by pulling up, Then, through the step of forming the functional layer by drying the coating film, a photosensitive layer forming step of forming the photosensitive layer,
Including
Assuming that the chamfered area of the chamfered portion is W [mm 2 ] and the film thickness of the photosensitive layer is D [mm] in a cross-sectional shape when the cylindrical conductive substrate is cut in the length direction thereof, (D / W) The method for producing an electrophotographic photosensitive member, wherein the chamfered portion forming step and the photosensitive layer forming step are performed so that a value of [mm −1 ] is 0.2 or less. 前記面取り部形成工程において、前記面取り部の前記円筒状導電性基体の長さ方向の面取り幅をａ［ｍｍ］、前記円筒状導電性基体の厚さ方向の面取り幅をｂ［ｍｍ］として、（ａ／ｂ）の値が１．２以上となるように前記面取り部を形成することを特徴とする請求項１記載の電子写真感光体の製造方法。   In the chamfered portion forming step, a chamfer width in the length direction of the cylindrical conductive substrate of the chamfered portion is a [mm], and a chamfer width in the thickness direction of the cylindrical conductive substrate is b [mm], 2. The method for producing an electrophotographic photosensitive member according to claim 1, wherein the chamfered portion is formed so that a value of (a / b) is 1.2 or more. 前記面取り部形成工程において、前記面取り部における前記円筒状導電性基体の最小の厚さが０．３ｍｍ以上となるように前記面取り部を形成することを特徴とする請求項１又は２記載の電子写真感光体の製造方法。   3. The electron according to claim 1, wherein, in the chamfered portion forming step, the chamfered portion is formed so that a minimum thickness of the cylindrical conductive substrate in the chamfered portion is 0.3 mm or more. A method for producing a photographic photoreceptor. 円筒状導電性基体と、該円筒状導電性基体上に形成された１層以上の機能層からなる感光層と、を備える電子写真感光体であって、
前記円筒状導電性基体は、少なくともその一端の表面側に面取り部を有しており、
前記感光層は、前記面取り部を有する前記円筒状導電性基体を前記一端側から前記機能層を形成するための塗布液に浸漬した後、引き上げることにより前記円筒状導電性基体上に塗膜を形成せしめ、次いで、該塗膜を乾燥することにより前記機能層を形成する工程を経て形成されたものであり、
前記円筒状導電性基体をその長さ方向に切断した場合の断面形状における前記面取り部の面取り面積をＷ［ｍｍ２］、前記感光層の膜厚をＤ［ｍｍ］として、（Ｄ／Ｗ）［ｍｍ−１］の値が０．２以下であることを特徴とする電子写真感光体。 An electrophotographic photosensitive member comprising a cylindrical conductive substrate and a photosensitive layer comprising one or more functional layers formed on the cylindrical conductive substrate,
The cylindrical conductive substrate has a chamfered portion at least on the surface side of one end thereof,
The photosensitive layer is formed by immersing the cylindrical conductive substrate having the chamfered portion in a coating solution for forming the functional layer from the one end side, and then pulling the coated layer on the cylindrical conductive substrate. Formed, and then formed through the step of forming the functional layer by drying the coating film,
Assuming that the chamfered area of the chamfered portion is W [mm 2 ] and the film thickness of the photosensitive layer is D [mm] in a cross-sectional shape when the cylindrical conductive substrate is cut in the length direction thereof, (D / W) An electrophotographic photosensitive member having a value of [mm −1 ] of 0.2 or less. 前記面取り部の前記円筒状導電性基体の長さ方向の面取り幅をａ［ｍｍ］、前記円筒状導電性基体の厚さ方向の面取り幅をｂ［ｍｍ］として、（ａ／ｂ）の値が１．２以上であることを特徴とする請求項４記載の電子写真感光体。   The value of (a / b) where the chamfer width in the length direction of the cylindrical conductive substrate of the chamfered portion is a [mm], and the chamfer width in the thickness direction of the cylindrical conductive substrate is b [mm]. The electrophotographic photosensitive member according to claim 4, wherein is 1.2 or more. 前記面取り部における前記円筒状導電性基体の最小の厚さが０．３ｍｍ以上であることを特徴とする請求項４又は５記載の電子写真感光体。   6. The electrophotographic photosensitive member according to claim 4, wherein a minimum thickness of the cylindrical conductive substrate in the chamfered portion is 0.3 mm or more. 請求項４〜６のうちのいずれか一項に記載の電子写真感光体と、
前記電子写真感光体を帯電させるための帯電手段、前記電子写真感光体に形成された静電潜像をトナーにより現像してトナー像を形成するための現像手段、及び、前記電子写真感光体の表面に残存したトナーを除去するためのクリーニング手段からなる群より選ばれる少なくとも一種と、
を備えることを特徴とするプロセスカートリッジ。 The electrophotographic photosensitive member according to any one of claims 4 to 6,
A charging means for charging the electrophotographic photosensitive member; a developing means for developing a latent electrostatic image formed on the electrophotographic photosensitive member with toner to form a toner image; and At least one selected from the group consisting of cleaning means for removing toner remaining on the surface;
A process cartridge comprising: 請求項４〜６のうちのいずれか一項に記載の電子写真感光体と、
前記電子写真感光体を帯電させるための帯電手段と、
帯電した前記電子写真感光体に静電潜像を形成するための露光手段と、
前記静電潜像をトナーにより現像してトナー像を形成するための現像手段と、
前記トナー像を前記電子写真感光体から被転写体に転写するための転写手段と、
を備えることを特徴とする画像形成装置。 The electrophotographic photosensitive member according to any one of claims 4 to 6,
Charging means for charging the electrophotographic photosensitive member;
Exposure means for forming an electrostatic latent image on the charged electrophotographic photosensitive member;
Developing means for developing the electrostatic latent image with toner to form a toner image;
Transfer means for transferring the toner image from the electrophotographic photosensitive member to a transfer target;
An image forming apparatus comprising:
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