JP2007148398A - 光学フィルム、反射防止フィルム、偏光板、および画像表示装置 - Google Patents

Abstract

【課題】光学性能に優れ、表面硬度の高い光学フィルム、該光学フィルムを用いた反射防止フィルム、偏光板、及び画像表示装置を提供する。
【解決手段】透明支持体上に少なくとも一種の粒径が５μm〜２０μmの樹脂粒子とバインダーマトリックスを含有する光拡散層を有し、該樹脂粒子の圧縮強度が２〜１０kgf/mm²
である光学フィルム、反射防止フィルム、偏光板、及び画像表示装置。
【選択図】なし

Description

本発明は、光学フィルム、光学フィルム用いた反射防止フィルム、偏光板および画像表示装置に関する。

近年、液晶表示装置（ＬＣＤ）は大画面化が進み、光学フィルム、例えば反射防止フィルムを配置した液晶表示装置が増大している。
反射防止フィルムは、液晶表示装置（ＬＣＤ）、プラズマディスプレイパネル（ＰＤＰ）、エレクトロルミネッセンスディスプレイ（ＥＬＤ）や陰極管表示装置（ＣＲＴ）のような様々な画像表示装置において、外光の反射や像の映り込みによるコントラスト低下を防止するために、ディスプレイの表面に配置される。反射防止フィルムに反射防止能を付与するための一手段として光拡散層が設置される。この層は通常粒子を含有し、粒子は表面に凹凸を付与すること、または粒子表面で反射光を散乱することなどによって、画像の映り込みを減らす。

反射防止フィルムには他の機能として、高いフィルム硬度が求められている。フィルム高硬度性は、ディスプレイの最表面に適用される反射防止フィルムが、こすり傷、押し傷によって視認性を損なうことがないように要求される。
高硬度性膜として、高架橋コア部に反応性の外層を有する高屈折率層膜（特許文献１）、架橋剤含有によって体積膨潤率をある値以下に規定した樹脂粒子を含有する膜（特許文献２）、無機微粒子を含有してハードコート層の厚みをある範囲に規定した膜（特許文献３）等が知られているが、膜の高硬度性を向上させるためには、さらに適切な素材が求められていた。
特開平７−９２３０６号公報 特開２００４−２２６８３２号公報 特開２０００−１１２３７９号公報

本発明の目的は、光学性能に優れ、表面硬度の高い光学フィルムの安定な提供にある。また、本発明の別の目的は、光学フィルムを用いた反射防止フィルム、偏光板、及び画像表示装置の提供にある。

上記課題は、下記構成の光学フィルム、反射防止フィルム、偏光板、及び画像表示装置により達成された。

（１）透明支持体上に少なくとも一種の粒径が５μm〜２０μmの樹脂粒子とバインダーマトリックスを含有する光拡散層を有し、該樹脂粒子の圧縮強度が２〜１０kgf/mm²である
ことを特徴とする光学フィルム。
（２）樹脂粒子を、分散溶媒に浸漬させた後の膨潤率が２０体積％以下であることを特徴とする前記１に記載の光学フィルム。
（３）該光拡散層の厚みが１０μm〜２０μmであることを特徴とする前記１または
２に記載の光学フィルム。
（４）樹脂粒子が２官能以上のモノマーで架橋されており、架橋性モノマーの含有率が樹脂粒子を形成するための全モノマーに対して１５質量％以上であることを特徴とする前記１〜３のいずれかに記載の光学フィルム。
（５）樹脂粒子と該バインダーマトリックスの屈折率の差が０〜０．１０であることを特徴とする前記１〜４のいずれかに記載の光学フィルム。
（６）樹脂粒子が（メタ）アクリル酸エステル系モノマーを重合してなる樹脂粒子であることを特徴とする前記１〜５のいずれかに記載の光学フィルム。
（７）該光拡散層がバインダーとして１分子中に２基以上のエポキシ基を有するエポキシ系樹脂を全バインダーに対して２０〜１００質量％含有してなることを特徴とする前記１〜６のいずれかに記載の光学フィルム。
（８）前記１〜７のいずれかに記載の光学フィルムが反射防止フィルムであることを特徴とする反射防止フィルム。
（９）前記８に記載の反射防止フィルムが偏光膜の２枚の保護フィルムの少なくとも一方に用いられていることを特徴とする偏光板。
（１０）前記１〜７のいずれかに記載の光学フィルム、前記８に記載の反射防止フィルム、または前記９に記載の偏光板が画像表示面に配置されていることを特徴とする画像表示装置。

本発明によれば、特定の圧縮強度を有する樹脂粒子を光拡散層に有することで、反射防止性能等の諸光学性能に優れ、表面硬度の高いフィルムを提供できる。また該光学フィルムを反射防止フィルム、偏光板、及び画像表示装置に用いるために、視認性に優れた高品質の画像が得られる。

本明細書において、数値が物性値、特性値等を表す場合に、「（数値Ｉ）〜（数値ＩＩ」という記載は「（数値Ｉ）以上（数値ＩＩ）以下」の意味を表す。また、「（メタ）アクリロイル」との記載は、「アクリロイル及びメタクリロイルの少なくともいずれか」の意味を表す。「（メタ）アクリレート」、「（メタ）アクリル酸」等も同様である。

以下に、本発明について更に詳細に説明する。
本発明の光学フィルムは、透明支持体上に少なくとも一種の粒径が５μm〜２０μmの樹脂粒子とバインダーマトリックスを含有する光拡散層を有し、該樹脂粒子の圧縮強度が２〜１０kgf/mm²であることを特徴とする。

（光拡散層）
本発明に係る光拡散層は光学性能に影響を与える層に樹脂粒子を含む場合を凡て含む。例えば、高屈折率層、中屈折率層、低屈折率層、防眩層、防眩性反射防止層、中間層、ハードコート層等に樹脂粒子を含む場合に該当する。
光拡散層は、例えば主バインダー（モノマー類及び／又はポリマー類が熱及び／又は電離放射線等で硬化して形成される透光性ポリマー）、透光性粒子、膜強度を強くするための添加剤、および必要によっては屈折率調節等のための無機微粒子フィラー、防眩性や塗布液物性を制御するための高分子化合物等から形成される。
光拡散層の厚さは、通常３μｍ〜３０μｍ程度で、好ましくは１０μｍ〜２０μｍ、さらに１２μｍ〜１７μｍがより好ましい。厚さが上記範囲であると、カール、ヘイズ値、高コスト等の欠点が小さく、しかも防眩性や光拡散効果等の調整も容易である。

（主バインダー）
光拡散層を形成する主たるマトリックス形成用バインダー（以下、単にバインダーともいう）は、特に限定されないが、熱及び／又は電離放射線等でモノマー類及び／又はポリマー類が硬化して形成される透光性ポリマーであり、熱及び／又は電離放射線等による硬化後に飽和炭化水素鎖、又はポリエーテル鎖を主鎖として有する透光性ポリマーであることが好ましい。また、硬化後の主バインダーポリマーは架橋構造を有することが好ましい。

硬化後に飽和炭化水素鎖を主鎖として有するバインダーポリマーとしては、エチレン性不飽和モノマー及びこれらの重合体（第一群の化合物）、また、ポリエーテル鎖を主鎖として有するポリマーとしてはエポキシ系モノマー及びこれらの開環による重合体（第二群の化合物）が好ましい。さらにこれらのモノマー類の混合物の重合体も好ましい。以下これらの化合物に付き詳述する。

（第一群の化合物）
飽和炭化水素鎖を主鎖として有し、且つ架橋構造を有するバインダーポリマーとしては、２個以上のエチレン性不飽和基を有するモノマーの（共）重合体が好ましい。
高屈折率にするには、このモノマーの構造中に芳香族環や、フッ素以外のハロゲン原子、硫黄原子、リン原子、及び窒素原子から選ばれた少なくとも１種を含むことが好ましい。

光拡散層を形成するためのバインダーポリマーに用いられる、２個以上のエチレン性不飽和基を有するモノマーとしては、多価アルコールと（メタ）アクリル酸とのエステル｛例えば、エチレングリコールジ（メタ）アクリレート、１，４−シクロヘキサンジアクリレート、ペンタエリスリトールテトラ（メタ）アクリレート、ペンタエリスリトールトリ（メタ）アクリレート、トリメチロールプロパントリ（メタ）アクリレート、トリメチロールエタントリ（メタ）アクリレート、ジペンタエリスリトールテトラ（メタ）アクリレート、ジペンタエリスリトールペンタ（メタ）アクリレート、ジペンタエリスリトールヘキサ（メタ）アクリレート、ペンタエリスリトールヘキサ（メタ）アクリレート、１，２，３−クロヘキサンテトラメタクリレート、ポリウレタンポリアクリレート、ポリエステルポリアクリレート｝、ビニルベンゼン及びその誘導体（例えば、１，４−ジビニルベンゼン、４−ビニル安息香酸−２−アクリロイルエチルエステル、１，４−ジビニルシクロヘキサノン）、ビニルスルホン（例えば、ジビニルスルホン）、（メタ）アクリルアミド（例えば、メチレンビスアクリルアミド）等が挙げられる。

さらに、２個以上のエチレン性不飽和基を有する樹脂、例えば比較的低分子量のポリエステル樹脂、ポリエーテル樹脂、アクリル樹脂、エポキシ樹脂、ウレタン樹脂、アルキッド樹脂、スピロアセタール樹脂、ポリブタジエン樹脂、ポリチオールポリエン樹脂、多価アルコール等の多官能化合物などのオリゴマー又はプレポリマー等もあげられる。これらのモノマーは２種以上併用してもよく、また、２個以上のエチレン性不飽和基を有する樹脂はバインダー全量に対して１０〜７０％含有することが好ましい。

これらのエチレン性不飽和基を有するモノマーの重合は、光ラジカル重合開始剤又は熱ラジカル重合開始剤の存在下、電離放射線の照射又は加熱により行うことができる。従って、エチレン性不飽和基を有するモノマー、光ラジカル重合開始剤又は熱ラジカル重合開始剤、および樹脂粒子、必要に応じて無機フィラー、塗布助剤、その他の添加剤、少なくとも２種の有機溶媒を含有する塗布液を調製し、該塗布液を透明支持体上に塗布後、電離放射線又は熱による重合反応により硬化して光拡散層を形成する。電離放射線硬化と熱硬化を合わせて行うことも好ましい。光及び熱重合開始剤としては市販の化合物を利用することができ、それらは、「最新ＵＶ硬化技術」（ｐ．１５９，発行人；高薄一弘，発行所；（株）技術情報協会，１９９１年発行）や、チバ・スペシャルティ・ケミカルズ（株）のカタログに記載されている。

（第二群の化合物）
硬化膜の硬化収縮低減のためには、以下で述べるエポキシ系化合物を用いることが好ましい。これらのエポキシ基を有するモノマー類としては、１分子中にエポキシ基を２基以
上有するモノマーが好ましく、これらの例としては特開２００４−２６４５６３号、同２００４−２６４５６４号、同２００５−３７７３７号、同２００５−３７７３８号、同２００５−１４０８６２号、同２００５−１４０８６２号、同２００５−１４０８６３号、同２００２−３２２４３０号等に記載されているエポキシ系モノマー類が挙げられる。
エポキシ基を有するモノマー類は層を構成する全バインダーに対して２０〜１００質量％含有することが硬化収縮低減のために好ましく、３５〜１００質量％含有することがより好ましく、５０〜１００質量％含有することがさらに好ましい。

エポキシ系モノマー、化合物類を重合させるための、光の作用によってカチオンを発生させる光酸発生剤としては、トリアリールスルホニウム塩やジアリールヨードニウム塩などのイオン性の化合物やスルホン酸のニトロベンジルエステルなどの非イオン性の化合物等が挙げられ、有機エレクトロニクス材料研究会編、「イメージング用有機材料」ぶんしん出版社刊（１９９７）などに記載されている化合物等種々の公知の光酸発生剤が使用できる。この中で特に好ましくはスルホニウム塩もしくはヨードニウム塩であり、対イオンとしてはＰＦ_６ ⁻、ＳｂＦ_６ ⁻、ＡｓＦ_６ ⁻、Ｂ（Ｃ_６Ｆ_５）_４ ⁻などが好ましい。

これら重合開始剤は、多官能モノマー類１００質量部に対して、重合開始剤総量で０．１〜１５質量部の範囲で使用することが好ましく、より好ましくは１〜１０質量部の範囲である。
上記の第一群の化合物及び第二群の化合物と以下で述べる高分子化合物を併用することも好ましい。

（高分子化合物）
本発明に係る光学機能層（高屈折率層、中屈折率層、低屈折率層、防眩層、防眩性反射防止層、中間層、ハードコート層等）は、高分子化合物を含有してもよい。高分子化合物は塗布組成物に添加する時点で既に重合体を形成しており、主として樹脂粒子の分散安定性（凝集性）に関わる塗布組成物の粘度調整や、乾燥過程での固化物の極性を制御して樹脂粒子の凝集挙動を変えたり、乾燥過程での乾燥ムラを減じたりする目的で含有される。

高分子化合物は、例えばセルロースエステル類（例えば、セルローストリアセテート、セルロースジアセテート、セルロースプロピオネート、セルロースアセテートプロピオネート、セルロースアセテートブチレート、セルロースナイトレート等）、ウレタンアクリレート類、ポリエステルアクリレート類、（メタ）アクリル酸エステル類（例えば、メタクリル酸メチル／（メタ）アクリル酸メチル共重合体、メタクリル酸メチル／（メタ）アクリル酸エチル共重合体、メタクリル酸メチル／（メタ）アクリル酸ブチル共重合体、メタクリル酸メチル／スチレン共重合体、メタクリル酸メチル／（メタ）アクリル酸共重合体、ポリメタクリル酸メチル等）、ポリスチレン等の樹脂が好ましく用いられる。

高分子化合物は、塗布組成物の粘度増加効果の発現及び含有層の膜強度維持観点から、高分子化合物を含有する層に含む全バインダーに対して、好ましくは３質量％〜４０質量％、より好ましくは５質量％〜３０質量％、さらに好ましくは８質量％〜２５質量％の範囲で含有することが好ましい。含有率がこれより低いと塗布組成物の粘度増加効果が少なく、逆に多すぎると含有層の膜強度が劣る。
また、高分子化合物の分子量は質量平均で０．３万〜４０万が好ましく、０．５万〜３０万がより好ましく、０．５万〜２０万がさらに好ましい。分子量がこの範囲であると、塗布組成物の粘度増加効果が十分発現し、溶解時間が短時間であり、しかも不溶解物も少ない。

光学機能層は、該塗布液を支持体に塗布後、光照射、電子線ビーム照射、加熱処理などを実施して、架橋又は重合反応させて形成することが好ましい。紫外線照射の場合、超高
圧水銀灯、高圧水銀灯、低圧水銀灯、カーボンアーク、キセノンアーク、メタルハライドランプ等の光線から発する紫外線等が利用できる。
紫外線による硬化は、窒素パージ等で酸素濃度が４体積％以下、更に好ましくは２体積％以下、最も好ましくは０．５体積％以下で硬化することが好ましい。

（樹脂粒子）
光拡散層には、平均粒径が５μm〜２０μｍ、好ましくは６μm〜１５μｍ、さらに好ましくは７μm〜１２μmの樹脂粒子が含有される。これは、膜硬度を高めることやディスプレイ表面で反射する外光を散らして弱めたり、液晶表示装置の視野角（特に下方向視野角）を拡大し、観察方向の視角が変化してもコントラスト低下、黒白反転または色相変化を起こりにくくする目的等で用いられる。平均粒径が上記範囲であれば、防眩効果が発現し、しかもザラツキ感が起こらない。

本発明に係る樹脂粒子の圧縮強度は２kgf/mm²〜１０kgf/mm²（１９．６N/mm²〜９８．１N/mm²）であり、４kgf/mm²〜９kgf/mm²（３９．２N/mm²〜８８．３N/mm²）が好ましく、５kgf/mm²〜８kgf/mm²（４９．０N/mm²〜７８．５N/mm²）がより好ましい。この範囲であると膜硬度増加への寄与もあり、かつ脆性悪化による粒子破壊も起こりにくい。

本発明において、圧縮強度とは粒子径が１０％変形するときの圧縮強度をいう。粒径が１０％変形するときの圧縮強度とは、粒子圧縮強度（Ｓ１０強度）であり、粒子径が１０％変形したときの荷重と圧縮前の粒子径とを次式に導入して得られる値である。
Ｓ１０強度（kgf/mm²）＝２．８×荷重(kgf)／｛（π×粒子径（mm）×粒子径（mm））
圧縮強度の測定は、上記のパラメーターが求められる測定方法であれば特に限定されない。例えば、島津製作所製微小圧縮試験機ＭＣＴ―Ｗ２０１等を用いて樹脂粒子単体の一定の負荷速度で圧縮試験を行うことで圧縮強度は求められる。

本発明において、膨潤率は樹脂粒子を３０質量％の濃度でトルエンに分散し、分散終了後３時間以内に測定した粒子径（ｒ1）と、その分散液を室温（２５℃）下、静置状態で経時して粒子径の増加が停止し平衡状態になったときの粒径（ｒ2）から次式にて求めた。
膨潤率（体積％）＝｛（ｒ2／ｒ1）^３−1｝×１００
膨潤率は２０体積％以下が好ましく、１５体積％以下がより好ましく、１０体積％以下がさらに好ましい。

樹脂粒子とバインダーである透光性樹脂との屈折率差はフィルムの白濁が生じないこと、または品種によっては光拡散効果を得る観点から、０〜０．１が好ましく、０〜０．０８であることが特に好ましい。

樹脂粒子の透光性樹脂に対する添加量も同様な観点から、好ましい範囲が決められる。樹脂粒子の好ましい層内含有率は、光学機能層全固形分中３質量％〜４０質量％が好ましく、５質量％〜２５質量％であることがより好ましい。
樹脂粒子の塗布量は、形成された光学機能中の粒子量において好ましくは１０ｍｇ／ｍ^２〜１００００ｍｇ／ｍ^２、より好ましくは５０ｍｇ／ｍ^２〜４０００ｍｇ／ｍ^２、最も好ましくは１００ｍｇ／ｍ^２〜１５００ｍｇ／ｍ^２となるように含有層に含有される。
樹脂粒子の粒径と含有する層の膜厚との関係は、樹脂粒子の平均粒径が含有する層の膜厚の２０％〜１１０％であることが好ましく、３０％〜１００％がより好ましく、３５％〜８０％が最も好ましい。平均粒径がこの範囲であると画面の黒しまりに優れ、かつ防眩性にも優れる。
粒子の粒度分布はコールターカウンター法により測定し、測定された分布を粒子数分布に換算する。平均粒径は得られた粒子分布から算出する。

樹脂粒子は、異なる２種以上の樹脂粒子を併用して用いてもよい。２種類以上の樹脂粒子を用いる場合には、複数種類の粒子の混合による屈折率制御を効果的に発揮するために、最も屈折率の高い樹脂粒子と最も屈折率の低い樹脂粒子との間の屈折率の差が０．０１〜０．１０以下であることが好ましく、０．０２以上、０．０７以下であることが特に好ましい。また大きな粒子径の樹脂粒子で防眩性を付与し、小さな粒子径の樹脂粒子で別の光学特性を付与してもよい。例えば１３３ｐｐｉ以上の高精細ディスプレイ用の反射防止フィルムで特に問題とされるギラツキ性と呼ばれるフィルム表面の凹凸（防眩性に寄与）による輝度のムラを改良することが可能である。

樹脂粒子の架橋率は、粒子が耐溶解性を保持できる範囲でなるべく低いことが好ましい。本発明に係る樹脂粒子の架橋率は粒子形成に与る全モノマーに対する架橋性モノマーの含有率を指標にすることができる。架橋性モノマーの含有率が、１５質量％以上であり、好ましくは１７質量％〜５０質量％、より好ましくは２０質量％〜４０質量％であることが、膜硬度向上のために好ましい。
また本発明に係る樹脂粒子のゲル分率は膜硬度向上のために８０質量％〜９９質量％が好ましい。ゲル分率は、以下の方法で求められる。
粒子粉体の一定量をメチルエチルケトン中で一定時間加温・攪拌した後、ろ過法で粒子を分離し、ろ過後液を、乾涸して残渣質量を求め、この値から元の質量に対してメチルエチルケトン中へ溶出せずに残った分の固形分の比率を算出する。

本発明に係る樹脂粒子を構成する架橋性モノマーとしては、具体的には、ジビニルベンゼン、トリビニルベンゼン、ジビニルトルエン、ジビニルキシレン、エチルジビニルベンゼン、ジビニルナフタレン、ジビニルアルキルベンゼン類、ジビニルフェナンスレン、ジビニルビフェニル、ジビニルジフェニルメタン、ジビニルベンジル、ジビニルフェニルエーテル、ジビニルジフェニルスルフィド等の芳香族系モノマー、
ジビニルフラン等の酸素含有モノマー、
ジビニルスルフィド、ジビニルスルフォン等の硫黄含有モノマー、
ブタジエン、イソプレン、ペンタジエン等の脂肪族モノマー、
エチレングリコールジ（メタ）アクリレート、ジエチレングリコールジ（メタ）アクリレート、トリエチレングリコールジ（メタ）アクリレート、ポリエチレングリコールジ（メタ）アクリレート、１，３−ブタンジオールジ（メタ）アクリレート、１，４−ブタンジオールジ（メタ）アクリレート、１，６−ヘキサンジオールジ（メタ）アクリレート、オクタンジオールジ（メタ）アクリレート、デカンジオールジ（メタ）アクリレート、トリメチロールプロパンジ（メタ）アクリレート、トリメチロールプロパントリ（メタ）アクリレート、ペンタエリスリトールジ（メタ）アクリレート、ペンタエリスリトールトリ（メタ）アクリレート、ペンタエリスリトールテトラ（メタ）アクリレート、ジペンタエリスリトールジ（メタ）アクリレート、ジペンタエリスリトールトリ（メタ）アクリレート、ジペンタエリスリトールテトラ（メタ）アクリレート、Ｎ，Ｎ’−メチレンビス（メタ）アクリルアミド、イソシアヌル酸トリアリル、トリアリルアミン、テトラアリロキシエタン、並びにヒドロキノン、カテコール、レゾルシノール、ソルビトールなどの多価アルコールとアクリル酸又はメタクリル酸とのエステル化合物などが例示できる。これらは、１種を単独で使用する他、２種以上を併用してもよい。
これらの中で、エチレングリコールジ（メタ）アクリレート、トリメチロールプロパントリ（メタ）アクリレート、ペンタエリスリトールトリ（メタ）アクリレート、ペンタエリスリトールテトラ（メタ）アクリレート、ジビニルベンゼン、トリビニルベンゼン、ジビニルナフタレン等が好ましい。

本発明に係る樹脂粒子の具体例としては、例えば架橋ポリメチルメタアクリレート粒子、架橋メチルメタアクリレート−スチレン共重合体粒子、架橋ポリスチレン粒子、架橋メチルメタアクリレート−メチルアクリレート共重合粒子、架橋アクリレート−スチレン共重合粒子粒子等の樹脂粒子が好ましく挙げられる。なかでも架橋スチレン粒子、架橋ポリメチルメタアクリレート粒子、架橋メチルメタアクリレート−スチレン共重合体粒子等が好ましい。

本発明に係る樹脂粒子の製造法は、懸濁重合、乳化重合、ソープフリー乳化重合、分散重合、シード重合等のいずれの方法で製造されてもよい。これらの製造法は、例えば「高分子合成の実験法」（大津隆行、木下雅悦共著、化学同人社）１３０頁および１４６頁から１４７頁の記載、「合成高分子」１ ２４６〜２９０、同３ １〜１０８等に記載の方法、および特許番号第２５４３５０３号、同第３５０８３０４号、同第２７４６２７５号、同第３５２１５６０号、同第３５８０３２０号、特開平１０−１５６１号、特開平７−２９０８号、特開平５−２９７５０６号、特開２００２−１４５９１９号等に記載の方法を参考にすることができる。
例えば、乳化重合、懸濁重合では水媒体中でモノマーを微細化して重合する方法が一例として挙げられる。分散安定の界面活性剤として、ドデシルベンゼンスルホン酸塩、ドデシル硫酸塩、ラウリル硫酸塩、ジアルキルスルホコハク酸塩等のアニオン系界面活性剤、ポリオキシエチレンノニルフェニルエーテル、ポリエチレングリコールモノステアレート等のノニオン系界面活性剤等を挙げることができる。さらに分散安定剤として、ポリビニルアルコール、ポリアクリル酸ナトリウム、スチレン−無水マレイン酸共重合体の加水分解物、アルギン酸ナトリウム、水溶性セルロース誘導体等のポリマーやオリゴマー類を挙げることもできる。また、無機塩類および／または分散安定剤の存在下で、水を分散媒体として油溶性重合開始剤により開始された付加重合反応で行う方法では、水溶性塩類として例えば塩化ナトリウム、塩化カリウム、塩化カルシウム、硫酸マグネシウム等を用いこともできる。重合開始剤としてはアゾビス化合物（アゾビスイソブチロニトリル、アゾビス［シクロヘキサン-１-カルボニトリル］等）、過酸化物類（過酸化ベンゾイル、過酸化-ｔ-ブチル等）などが挙げられる。
さらに、あらかじめ微小重合体を作っておき、これにモノマーを含浸させて粒子を太らせるような、所謂多段重合法も好ましい。

樹脂粒子の形状は、真球あるいは不定形のいずれも使用できる。粒度分布はヘイズ値と拡散性の制御性、塗布面状の均質性から単分散性粒子が好ましい。例えば平均粒子径よりも２０％以上粒子径が大きな粒子を粗大粒子と規定した場合、この粗大粒子の割合は全粒子数の１％以下であることが好ましく、より好ましくは０．１%以下であり、さらに好ま
しくは０．０１％以下である。このような粒子径分布を持つ粒子は通常の合成反応後に、分級によって得られ、分級の回数を上げることやその程度を強くすることにより、より好ましい分布の粒子を得ることができる。

光学機能層には、層の屈折率を高めるため、上記の粒子に加えて、チタン、ジルコニウム、アルミニウム、インジウム、亜鉛、錫、アンチモンのうちより選ばれる少なくとも１種の金属の酸化物からなり、一次粒子の平均粒径が０．２μｍ以下、好ましくは０．１μｍ以下、より好ましくは０．０６μｍ以下である微細な無機フィラーを含有することも好ましい。
また逆に、高屈折率の樹脂粒子を用いた光学機能層では、粒子との屈折率差を大きくするためにバインダーの屈折率を低くすることも好ましい。このためにシリカ微粒子、中空シリカ微粒子等を用いることができる。好ましい粒径は前記の高屈折率化微細無機フィラーと同じである。
光学機能層に用いられる微細無機フィラーの具体例としては、ＴｉＯ_２、ＺｒＯ_２、Ａｌ_２Ｏ_３、Ｉｎ_２Ｏ_３、ＺｎＯ、ＳｎＯ_２、Ｓｂ_２Ｏ_３、ＩＴＯとＳｉＯ_２等が挙げられる。ＴｉＯ_２およびＺｒＯ_２が高屈折率化の点で特に好ましい。該無機フィラーは表面をシランカップリング処理又はチタンカップリング処理されることも好ましく、フィラー表
面にバインダー種と反応できる官能基を有する表面処理剤が好ましく用いられる。
これらの微細無機フィラーの添加量は、含有する層の全質量の１０〜９０％であることが好ましく、より好ましくは２０〜８０％であり、特に好ましくは３０〜７５％である。
なお、微細無機フィラーは、粒径が光の波長よりも十分短いために散乱が生じず、バインダーポリマーに該フィラーが分散した分散体は光学的に均一な物質の性質を有する。

（低屈折率層）
低屈折率層は、含フッ素化合物を含有する。特に、含フッ素化合物を主体とする低屈折率層を構築することが好ましい。含フッ素化合物を主体とする低屈折率層は、通常反射防止フィルムの最外層として位置し、防汚層としての機能も有する。ここで、「含フッ素化合物を主体とする」とは、低屈折率層の中に含まれる構成成分のうち、含フッ素化合物の質量比が最も大きいことを意味し、含フッ素化合物の含有率が低屈折率層の全質量に対し５０質量％以上であることが好ましく、６０質量％以上含まれることがより好ましい。

低屈折率層の含フッ素化合物は、架橋又は重合性の官能基を有する含フッ素化合物の加熱、または電離放射線硬化による架橋又は重合反応により形成することが好ましい。含フッ素化合物は市販のものでもよく、特に限定されないが、以下に好ましい組成について記載する。

（含フッ素化合物）
低屈折率層に含まれる含フッ素化合物の屈折率は１．３５〜１．５０であることが好ましい。より好ましくは１．３６〜１．４７、さらに好ましくは１．３８〜１．４５である。
含フッ素化合物には、含フッ素ポリマー、含フッ素シラン化合物、含フッ素界面活性剤、含フッ素エーテルなどが挙げられる。
含フッ素ポリマーとしては、フッ素原子を含むエチレン性不飽和モノマーの架橋又は重合反応により合成されたものが挙げられる。フッ素原子を含むエチレン性不飽和モノマーの例には、フルオロオレフィン（例、フルオロエチレン、ビニリデンフルオライド、テトラフルオロエチレン、ヘキサフルオロプロピレン、パーフルオロ−２，２−ジメチル−１，３−ジオキソール）、フッ素化ビニルエーテルおよびフッ素置換アルコールとアクリル酸またはメタクリル酸とのエステルが含まれる。

含フッ素ポリマーとしてフッ素原子を含む繰り返し構造単位とフッ素原子を含まない繰り返し構造単位からなる共重合体も用いることができる。
上記共重合体は、フッ素原子を含むエチレン性不飽和モノマーとフッ素原子を含まないエチレン性不飽和モノマーの重合反応により得ることができる。
フッ素原子を含まないエチレン性不飽和モノマーとしては、オレフィン、アクリル酸エステル、メタクリル酸エステル、スチレンおよびその誘導体、ビニルエーテル、ビニルエステル、アクリルアミド、Ｎ−シクロヘキシルアクリルアミド等）、メタクリルアミドおよびアクリロニトリルが挙げられる。

含フッ素シラン化合物としては、パーフルオロアルキル基を含むシラン化合物などが挙げられる。

含フッ素界面活性剤は、疎水性部分を構成する炭化水素の水素原子の一部または全部が、フッ素原子により置換されているもので、その親水性部分はアニオン性、カチオン性、ノニオン性および両性のいずれであってもよい。

含フッ素エーテルは、一般に潤滑剤として使用されている化合物である。含フッ素エーテルとしては、パーフルオロポリエーテル等が挙げられる。

低屈折率層の含フッ素化合物としては、架橋又は重合構造が導入された含フッ素ポリマーが特に好ましい。架橋又は重合構造が導入された含フッ素ポリマーは、架橋又は重合性の官能基を有する含フッ素化合物を架橋又は重合させることにより得られる。

架橋又は重合性の官能基を有する含フッ素化合物は、架橋又は重合性の官能基を有さない含フッ素化合物に、架橋又は重合性の官能基を側鎖として導入することにより得ることができる。架橋又は重合性の官能基としては、（メタ）アクリロイル、イソシアナート、エポキシ、アジリジン、オキサゾリン、アルデヒド、カルボニル、ヒドラジン、カルボキシル、メチロールおよび活性メチレン等の基が挙げられる。さらには、ヒドロキシ、アミノ、スルホ等の基を有してもよい。これらの化合物は、市販品を用いてもよい。

低屈折率層の含フッ素化合物は、含フッ素ビニルモノマーから導かれる繰返し単位および側鎖に（メタ）アクリロイル基を有する繰返し単位をからなる共重合体を主成分として含有することが好ましい。該共重合体由来の成分は最外層の全質量に対し５０質量％以上であることが好ましく、７０質量％以上であることがより好ましく、９０質量％以上であることが特に好ましい。以下に、低屈折率層に用いられるのに好ましい上記共重合体について説明する。

含フッ素ビニルモノマーとしてはフルオロオレフィン類（例えばフルオロエチレン、ビニリデンフルオライド、テトラフルオロエチレン、ヘキサフルオロエチレン、ヘキサフルオロプロピレン等）、（メタ）アクリル酸の部分または完全フッ素化アルキルエステル誘導体類（例えばビスコート６ＦＭ（商品名、大阪有機化学工業（株）製）やＭ−２０２０（商品名、ダイキン工業（株）製）等）、完全または部分フッ素化ビニルエーテル類等が挙げられるが、好ましくはパーフルオロオレフィン類であり、屈折率、溶解性、透明性、入手性等の観点から特に好ましくはヘキサフルオロプロピレンである。
共重合体のフッ素含率が２０〜６０質量％となるように含フッ素ビニルモノマーを導入することが好ましく、より好ましくは２５〜５５質量％であり、特に好ましくは３０〜５０質量％である。

上記共重合体は（メタ）アクリロイル基を有する繰返し単位を有してもよい。
側鎖に（メタ）アクリロイル基を有する繰返し単位は、上記共重合体中に５〜９０質量％を占めることが好ましく、３０〜７０質量％を占めることがより好ましく、４０〜６０質量％を占めることが特に好ましい。

上記共重合体には、上記含フッ素ビニルモノマーから導かれる繰返し単位および側鎖に（メタ）アクリロイル基を有する繰返し単位以外に、適宜他のビニルモノマーを共重合させることもできる。これらのビニルモノマーは目的に応じて複数を組み合わせてもよく、共重合体中の０〜６５モル％の範囲で導入されていることが好ましく、より好ましくは０〜４０モル％、特に好ましくは０〜３０モル％である。
併用可能なビニルモノマー単位には特に限定はなく、例えばオレフィン類、アクリル酸エステル類、メタクリル酸エステル類、スチレン誘導体、ビニルエーテル類、ビニルエステル類、不飽和カルボン酸類、アクリルアミド類、メタクリルアミド類、アクリロニトリル誘導体等を挙げることができる。

本発明に用いられる含フッ素ビニルモノマーから導かれる繰返し単位および側鎖に（メタ）アクリロイル基を有する繰返し単位からなる共重合体の好ましい形態として、下記一般式（１）で表されるものが挙げられる。
一般式（１）

一般式（１）中、Ｌは炭素数１〜１０の連結基を表し、より好ましくは炭素数１〜６の連結基であり、特に好ましくは２〜４の連結基であり、直鎖、分岐、環構造を有していてもよく、Ｏ、Ｎ、Ｓから選ばれるヘテロ原子を有していてもよい。
好ましい例としては、*−(CH₂)₂−O−**、*−(CH₂)₂−NH−**、*−(CH₂)₄−O−**、*−(CH₂)₆−O−**、*−(CH₂)₂−O−(CH₂)₂−O−**、−CONH−(CH₂)₃−O−**、*−CH₂CH(OH)CH₂−O−**、*−CH₂CH₂OCONH(CH₂)₃−O−**（*はポリマー主鎖側の連結部位を表し、**は
（メタ）アクリロイル基側の連結部位を表す。）等が挙げられる。ｍは０または１を表わす。

一般式（１）中、Ｘは水素原子またはメチル基を表す。硬化反応性の観点から、より好ましくは水素原子である。

一般式（１）中、Ａは任意のビニルモノマーから導かれる繰返し単位を表わし、ヘキサフルオロプロピレンと共重合可能な単量体の構成成分であれば特に制限はなく、透明支持体など下層への密着性、ポリマーのＴｇ（皮膜硬度に寄与する）、溶剤への溶解性、透明性、滑り性、防塵・防汚性等種々の観点から適宜選択することができ、目的に応じて単一あるいは複数のビニルモノマーによって構成されていてもよい。

好ましい例としては、メチルビニルエーテル、エチルビニルエーテル、ｔ−ブチルビニルエーテル、シクロへキシルビニルエーテル、イソプロピルビニルエーテル、ヒドロキシエチルビニルエーテル、ヒドロキシブチルビニルエーテル、グリシジルビニルエーテル、アリルビニルエーテル等のビニルエーテル類、酢酸ビニル、プロピオン酸ビニル、酪酸ビニル等のビニルエステル類、メチル（メタ）アクリレート、エチル（メタ）アクリレート、ヒドロキシエチル（メタ）アクリレート、グリシジルメタアクリレート、アリル（メタ）アクリレート、（メタ）アクリロイルオキシプロピルトリメトキシシラン等の（メタ）アクリレート類、スチレン、ｐ−ヒドロキシメチルスチレン等のスチレン誘導体、クロトン酸、マレイン酸、イタコン酸等の不飽和カルボン酸およびその誘導体等を挙げることができるが、より好ましくはビニルエーテル誘導体、ビニルエステル誘導体であり、特に好ましくはビニルエーテル誘導体である。

ｘ、ｙ、ｚはそれぞれの構成成分のモル％を表わし、３０≦ｘ≦６０、５≦ｙ≦７０、０≦ｚ≦６５を満たす値を表す。好ましくは、３５≦ｘ≦５５、３０≦ｙ≦６０、０≦ｚ≦２０であり、特に好ましくは４０≦ｘ≦５５、４０≦ｙ≦５５、０≦ｚ≦１０である。

さらに上記共重合体の特に好ましい形態として一般式（２）で表されるものが挙げられる。
一般式（２）

一般式（２）中、Ｘ、ｘ、ｙはそれぞれ一般式（１）と同義であり、好ましい範囲も同じである。
ｎは２≦ｎ≦１０の整数を表わし、２≦ｎ≦６であることが好ましく、２≦ｎ≦４であることが特に好ましい。
Ｂは任意のビニルモノマーから導かれる繰返し単位を表わし、単一組成であっても複数組成によって構成されていてもよい。例としては、前記一般式（１）におけるＡの例として説明したものが当てはまる。
ｚ１およびｚ２はそれぞれの繰返し単位のモル％を表わし、０≦ｚ１≦６５、０≦ｚ２≦６５を満たす値を表わす。それぞれ０≦ｚ１≦３０、０≦ｚ２≦１０であることが好ましく、０≦ｚ１≦１０、０≦ｚ２≦５であることが特に好ましい。一般式（２）で表される共重合体としては、４０≦ｘ≦６０、３０≦ｙ≦６０、ｚ２＝０を満たすものが特に好ましい。

一般式（１）又は一般式（２）で表わされる共重合体の好ましい具体例、合成法として、特開２００４−４５４６２号公報の段落［００４３］〜［００４７］に記載されたものが挙げられる。

また、含フッ素化合物には防汚性を付与する目的で、ポリシロキサン構造が導入されていてもよい。導入はブロック共重合、グラフト共重合が好ましい。ポリシロキサン成分は、化合物中の０．５質量％〜１０質量％、好ましくは１質量％〜５質量％である。

本発明において、塗布液中の含フッ素化合物の濃度は、用途に応じて適宜選択されるが０．０１質量％〜６０質量％が好ましく、より好ましくは０．５〜５０質量％、特に好ましくは１％〜２０質量％程度である。

低屈折率層は、目的に応じて充填剤（例えば、無機微粒子や有機微粒子等）、滑り剤（ジメチルシリコーンなどのポリシロキサン化合物等）、オルガノシラン化合物及びその誘導体、バインダー、界面活性剤等の添加剤を含有することができる。特に、充填剤（例えば、無機微粒子や有機微粒子等）、滑り剤（ジメチルシリコーンなどのポリシロキサン化合物等）を添加することは好ましい。
以下に、低屈折率層に用いる好ましい充填剤、滑り剤等について記載する。

（低屈折率層の好ましい充填剤）
充填剤（例えば、無機微粒子や有機微粒子等）は、低屈折率層の物理強度（耐擦傷性など）を改良する点で、添加することが好ましい。低屈折率層に添加する充填剤としては無機微粒子が好ましく、中でも屈折率が低い二酸化珪素（シリカ）、中空のシリカ、細孔を有するシリカ、含フッ素粒子（フッ化マグネシウム、フッ化カルシウム、フッ化バリウム）などが好ましい。特に好ましいのは二酸化珪素（シリカ）、中空シリカである。これらは化学的表面処理がなされていてもよい。
充填剤の添加量は、物理強度、白濁の回避等の観点から、低屈折率層の全質量に対し５質量％〜７０質量％であることが好ましく、より好ましくは１０質量％〜５０質量％、特
に好ましくは２０質量％〜４０質量％である。
充填剤の平均粒径は、低屈折率層の膜厚に対し２０％〜１００％が好ましく、より好ましくは３０％〜８０％、特に好ましくは３０％〜５０％である。
充填剤は、２種類以上を併用してもよい。

低屈折率層に添加する充填剤が二酸化珪素微粒子の場合、中空の二酸化珪素微粒子を用いることが特に好ましい。中空の二酸化珪素微粒子は、屈折率が１．１７〜１．４５であることが好ましく、より好ましくは１．１７〜１．４０、さらに好ましくは１．１７〜１．３７である。ここで、中空の二酸化珪素微粒子の屈折率は粒子全体としての屈折率を表し、これによって低屈折率層の屈折率を下げることができる。
中空の二酸化珪素微粒子は粒子内の空洞の半径をａ、粒子外殻の半径をｂとすると、空隙率ｘが下記数式（１）で表される。

数式（１） ｘ＝(４πａ³／３)／（４πｂ³／３）×１００

空隙率ｘは１０〜６０%が好ましく、２０〜６０%がさらに好ましく、３０〜６０%であ
ることが最も好ましい。

（低屈折率層の好ましい滑り剤）
滑り剤は、低屈折率層の物理強度（耐擦傷性など）、防汚性を改良する点で添加することが好ましい。
滑り剤としては、含フッ素エーテル化合物（パーフルオロポリエーテル、及び、その誘導体など）、ポリシロキサン化合物（ジメチルポリシロキサン、及び、その誘導体など）などが挙げられる。ポリシロキサン化合物が好ましい。

ポリシロキサン化合物の好ましい例としてはジメチルシリルオキシ単位を繰り返し単位として複数個含む化合物の末端及び側鎖の少なくともいずれかに置換基を有するものが挙げられる。
ジメチルシリルオキシ単位を繰り返し単位として含む化合物中にはジメチルシリルオキシ単位以外の構造単位（置換基）を含んでもよい。置換基は同一であっても異なっていても良く、複数個あることが好ましい。

好ましい置換基の例としては（メタ）アクリロイル基、ビニル基、アリール基、シンナモイル基、エポキシ基、オキセタニル基、水酸基、フルオロアルキル基、ポリオキシアルキレン基、カルボキシル基、アミノ基などを含む基が挙げられる。

滑り剤の分子量に特に制限はないが、１０万以下であることが好ましく、５万以下であることが特に好ましく、３０００〜３００００であることが最も好ましい。シロキサン化合物のＳｉ原子含有量には特に制限はないが５質量％以上であることが好ましく、１０〜６０質量％であることが特に好ましく、１５〜５０質量％であることが最も好ましい。

ポリシロキサンの具体的化合物は市販されているもの、例えば、KF-100T、X-22-169AS、KF-102、X-22-3701IE、X-22-164B、X-22-164C、X-22-5002、X-22-173B、X-22-174D、X-22-167B、X-22-161AS、X-22-174DX、X-22-2426、X-22-170DX、X-22-176D、X-22-1821(信
越化学工業（株）製)、AK-5、AK-30、AK-32（東亜合成化学（株）製）、サイラプレーンFM-0275、FM-0721、FM-0725、FM-7725、DMS-U22、RMS-033、RMS-083、UMS-182(チッソ（株）製)等が挙げられる。また、市販のポリシロキサン化合物が含有する水酸基、アミノ基、メルカプト基等に架橋、又は重合性官能基を導入することで作製することもできる。

好ましいポリシロキサン化合物の好ましい具体例として特開２００３−３２９８０４号
公報の［００４１］〜［００４５］に記載されたものを挙げることができるが、これらに限定されるものではない。

ポリシロキサン化合物及びその誘導体の少なくともいずれかの添加量は、最外層の全固形分に対し、０．０５〜３０質量％であることが好ましく、より好ましくは０．１〜２０質量％である。

（低屈折率層及びその形成法）
低屈折率層は、上記含フッ素化合物、さらに必要に応じて、上記充填剤、上記ポリシロキサン化合物及びその誘導体の少なくともいずれかを溶媒に溶解、又は、分散した塗料を塗布することにより作製することが好ましい。
好ましい溶媒としては、ケトン類（アセトン、メチルエチルケトン、メチルイソブチルケトン、シクロヘキサノン等）、エステル類（酢酸エチル、酢酸ブチル等）、エーテル類（テトラヒドロフラン、１，４−ジオキサン等）、アルコール類（メタノール、エタノール、イソプロピルアルコール、ブタノール、エチレングリコール、等）、芳香族炭化水素類（トルエン、キシレン等）、水などを挙げることができる。
特に好ましい溶媒としては、ケトン類、芳香族炭化水素類、エステル類であり、最も好ましい溶媒としては、ケトン類である。ケトン類の中でも、メチルエチルケトン、メチルイソブチルケトン、シクロヘキサノンが特に好ましい。溶媒には、ケトン系溶媒の含有量が塗料に含まれる全溶媒の１０質量％以上であることが好ましい。好ましくは３０質量％以上、さらに好ましくは６０質量％以上である。
２種類以上の溶剤を併用することもできる。

架橋又は重合性の官能基を有する含フッ素化合物であれば、低屈折率層の塗布と同時または塗布後に、含フッ素化合物を架橋又は重合反応させ、低屈折率層を作製することが好ましい。
ラジカル重合開始剤としては熱の作用によりラジカルを発生するもの、あるいは光の作用によりラジカルを発生するものが好ましい。これらの重合開始剤は前記光学機能層の項で述べたものを用いることができ、前記光学機能層と同様に塗布後に熱硬化または光ラジカル硬化することが好ましい。また、カチオンで架橋又は重合する官能基を有していれば、カチオン重合開始剤、特に光カチオン重合開始剤を用いて架橋又は重合反応させることが好ましい。

バインダーは、前記含フッ素化合物以外のもの、たとえばフッ素を含まない高分子化合物、重合性基を有するモノマー類等を用いてもよい。

低屈折率層の膜厚は３０〜２００ｎｍが好ましく、より好ましくは５０〜１５０ｎｍ、特に好ましくは６０〜１２０ｎｍである。低屈折率層を防汚層として用いる場合、膜厚は３〜５０ｎｍが好ましく、より好ましくは５〜３５ｎｍ、特に好ましくは７〜２５ｎｍである。

低屈折率層は光学フィルムの物理強度を改良するために、表面の動摩擦係数が０．２５以下であることが好ましい。ここで記載した動摩擦係数は、直径５ｍｍのステンレス剛球に０．９８Ｎの荷重をかけ、速度６０ｃｍ／分で表面を移動させたときの、表面と直径５ｍｍのステンレス剛球の間の動摩擦係数をいう。好ましくは０．１７以下であり、特に好ましくは０．１５以下である。

また、光学フィルムの防汚性能を改良するために、表面の水に対する接触角が９０゜以上であることが好ましい。更に好ましくは９５゜以上であり、特に好ましくは１００゜以上である。
また、低屈折率層の表面の水に対する接触角は後述する鹸化処理の前後で変わらないことが望ましく、鹸化処理の前後で変化量が１０°以内であることが好ましく、特に好ましくは５°以内である。

低屈折率層のヘイズは、低いほど好ましい。３％以下であることが好ましく、さらに好ましくは２％以下、特に好ましくは１％以下である。

低屈折率層の強度は、ＪＩＳ Ｋ５４００に従う鉛筆硬度試験で、Ｈ以上であることが好ましく、２Ｈ以上であることがさらに好ましく、３Ｈ以上であることが最も好ましい。また、ＪＩＳ Ｋ５４００に従うテーバー試験で、試験前後の試験片の摩耗量が少ないほど好ましい。

低屈折率層には、前記の成分（含フッ素化合物、重合開始剤、光増感剤、充填剤、滑り剤、バインダーなど）以外に、界面活性剤、帯電防止剤、カップリング剤、増粘剤、着色防止剤、着色剤（顔料、染料）、消泡剤、レベリング剤、難燃剤、紫外線吸収剤、赤外線吸収剤、接着付与剤、重合禁止剤、酸化防止剤、表面改質剤、などを添加することもできる。

低屈折率層の屈折率は１．２０〜１．５５であることが好ましい。より好ましくは１．３０〜１．５０、更に好ましくは１．３５〜１．４８、特に好ましくは１．３７〜１．４５である。
低屈折率層には、後述の一般式（ａ）で表されるオルガノシラン化合物、及び、その誘導体（加水分解物、および該加水分解物が縮合して生成した架橋ケイ素化合物など）からなる群から選ばれた化合物を含有することも好ましい。

（帯電防止層）
本発明の光学フィルムは表面に塵埃（埃など）が付着するのを防止するために、導電材として酸化錫、アンチモンをドープした酸化錫（ＡＴＯ）、酸化インジウム、スズをドープした酸化インジウム（ＩＴＯ）、酸化亜鉛、アルミニウムをドープした酸化亜鉛等を用いた帯電防止層を用いることも好ましい。防塵性は、表面の表面抵抗値を下げることで発現される。表面抵抗値は、１×１０¹³Ω／□以下であることが好ましく、１×１０¹²Ω／□以下であることがより好ましく、１×１０¹⁰Ω／□以下であることが更に好ましい。
帯電防止層は、防眩層と低屈折率層の間、または透明支持体と防眩層の間に設けることが好ましい。

（その他の塗布層について）
本発明の光学フィルムには、物理強度を付与するために透明支持体と最外層の間にハードコート層を設けることも好ましい。
ハードコート層は、電離放射線硬化性化合物の架橋又は重合反応により形成されることが好ましい。例えば、（メタ）アクリロイル基、ビニル基、スチリル基、アリル基等の電離放射線硬化性の多官能モノマーや多官能オリゴマーを含む塗料を透明支持体上に塗布し、架橋又は重合反応させることにより形成することができる。

(透明支持体)
透明支持体としては、プラスチックフィルムであることが好ましい。プラスチックフィルムとしてはセルロースエステル（例、トリアセチルセルロース、ジアセチルセルロース、プロピオニルセルロース、ブチリルセルロース、アセチルプロピオニルセルロース、ニトロセルロース）、ポリアミド、ポリカーボネート、ポリエステル（例、ポリエチレンテレフタレート、ポリエチレンナフタレート、ポリ−１，４−シクロヘキサンジメチレンテレフタレート、ポリエチレン−１，２−ジフェノキシエタン−４，４’−ジカルボキシレート、ポリブチレンテレフタレート）、ポリスチレン（例、シンジオタクチックポリスチレン）、ポリオレフィン（例、ポリプロピレン、ポリエチレン、ポリメチルペンテン）、ポリスルホン、ポリエーテルスルホン、ポリアリレート、ポリエーテルイミド、ポリメチルメタクリレートおよびポリエーテルケトンが含まれる。トリアセチルセルロース、ポリカーボネート、ポリエチレンテレフタレートおよびポリエチレンナフタレートが好ましく、またレターデーション低下化合物を含有することによって、下記式（Ｉ）および（II）で定義されるＲｅ₍λ₎およびＲｔｈ₍λ₎が、下記式（III）かつ（IV）をみたすことを特徴とするようなセルロースアシレートフィルムを用いてもよい。
（Ｉ）Ｒｅ₍λ₎＝（ｎｘ−ｎｙ）×ｄ
（II）Ｒｔｈ₍λ₎＝｛（ｎｘ＋ｎｙ）／２−ｎｚ｝×ｄ
（III）０≦Ｒｅ₍₆₃₀₎≦１０かつ｜Ｒｔｈ₍₆₃₀₎｜≦２５
（IV）｜Ｒｅ₍₄₀₀₎−Ｒｅ₍₇₀₀₎｜≦１０かつ｜Ｒｔｈ₍₄₀₀₎−Ｒｔｈ₍₇₀₀₎｜≦３５
［式中、Ｒｅ₍λ₎は波長λｎｍにおける正面レターデーション値（単位：ｎｍ）、Ｒｔｈ₍λ₎は波長λｎｍにおける膜厚方向のレターデーション値（単位：ｎｍ）である。またｎｘはフィルム面内の遅相軸方向の屈折率であり、ｎｙはフィルム面内の進相軸方向の屈折率であり、ｎｚはフィルムの厚み方向の屈折率であり、ｄはフィルムの厚さである。］これらの中で、液晶表示装置に用いる場合、トリアセチルセルロースが好ましい。

透明支持体がトリアセチルセルロースフィルムの場合、トリアセチルセルロースを溶剤に溶解することで調整したトリアセチルセルロースドープを単層流延、複数層共流延の何れかの流延方法により作製したトリアセチルセルロースフィルムが好ましい。

特に、環境保全の観点から、トリアセチルセルロースを低温溶解法あるいは高温溶解法によってジクロロメタンを実質的に含まない溶剤に溶解することで調整したトリアセチルセルロースドープを用いて作製したトリアセチルセルロースフィルムが好ましい。
本発明に好ましく用いられるトリアセチルセルロースフィルムについては、発明協会公開技報（公技番号２００１−１７４５）に例示されている。

上記の透明支持体の膜厚は特に限定されるものではないが、膜厚は１〜３００μｍがよく、好ましくは３０〜１５０μｍ、特に好ましくは４０〜１２０μｍ、最も好ましくは４０〜１００μｍである。
透明支持体の光透過率は、８０％以上であることが好ましく、８６％以上であることがさらに好ましい。
透明支持体のヘイズは低い方が好ましい。２．０％以下であることが好ましく、１．０％以下であることがさらに好ましい。
透明支持体の屈折率は、１．４０〜１．７０であることが好ましい。

透明支持体には、赤外線吸収剤あるいは紫外線吸収剤を添加してもよい。赤外線吸収剤の添加量は、透明支持体の０．０１〜２０質量％であることが好ましく、０．０５〜１０質量％であることがさらに好ましい。
また、透明支持体には、滑り剤として、不活性無機化合物の粒子を透明支持体に添加してもよい。無機化合物の例には、ＳｉＯ₂、ＴｉＯ₂、ＢａＳＯ₄、ＣａＣＯ₃、タルクおよびカオリンが含まれる。

透明支持体に、表面処理を実施してもよい。表面処理の例には、薬品処理、機械的処理、コロナ放電処理、火焔処理、紫外線照射処理、高周波処理、グロー放電処理、活性プラズマ処理、レーザー処理、混酸処理およびオゾン酸化処理が含まれる。グロー放電処理、紫外線照射処理、コロナ放電処理および火焔処理が好ましく、グロー放電処理とコロナ放電処理が特に好ましい。

（オルガノシラン化合物）
皮膜の物理強度（耐擦傷性など）、皮膜と皮膜に隣接する層の密着性を改良する点でオルガノシラン化合物及びその誘導体から選ばれる少なくとも１種の化合物を透明支持体上のいずれかの層に添加することが好ましい。

オルガノシラン化合物及びその誘導体としては、下記一般式（ａ）で表される化合物及びその誘導体を用いることができる。好ましいのは、水酸基、メルカプト基、カルボキシル基、エポキシ基、アルキル基、アルコキシシリル基、アシルオキシ基、アシルアミノ基を含有するオルガノシラン化合物であり、特に好ましいのはエポキシ基、重合性のアシルオキシ基（（メタ）アクリロイルなど）、重合性のアシルアミノ基（アクリルアミノ、メタクリルアミノなど）、アルキル基、を含有するオルガノシラン化合物である。

一般式（ａ）：（Ｒ¹⁰）_S−Ｓｉ（Ｚ）_4-S

上記一般式（ａ）において、
Ｒ¹⁰は置換もしくは無置換のアルキル基、または置換もしくは無置換のアリール基を表す。アルキル基としては、炭素数１〜３０のアルキル基か好ましく、より好ましくは炭素数１〜１６である。
Ｚは、水酸基または加水分解可能な基を表す。Ｚとしては、アルコキシ基（炭素数１〜５のアルコキシ基が好ましい。例えばメトキシ基、エトキシ基等が挙げられる。）、ハロゲン原子（例えばＣｌ、Ｂｒ、Ｉ等が挙げられる。）、またはＲ^２ＣＯＯ（Ｒ^２は水素原子または炭素数１〜６のアルキル基が好ましい。例えばＣＨ_３ＣＯＯ、Ｃ_２Ｈ_５ＣＯＯ等が挙げられる。）等が挙げられ、好ましくはアルコキシ基であり、特に好ましくはメトキシ基またはエトキシ基である。
ｓは１〜３の整数を表し、好ましくは１または２である。

Ｒ¹⁰およびＺは複数存在するときは、複数のＲ¹⁰およびＺはそれぞれ同じであっても異なっていても良い。
Ｒ¹⁰に含まれる置換基としては特に制限はないが、ハロゲン原子、水酸基、メルカプト基、カルボキシル基、エポキシ基、アルキル基（メチル、エチル、ｉ−プロピル、プロピル、ｔ−ブチル等）、アリール基、芳香族ヘテロ環基、アルコキシ基、アリールオキシ、アルキルチオ基、アリールチオ基、アルケニル基、アシルオキシ基、アルコキシカルボニル基、アリールオキシカルボニル基、カルバモイル基、アシルアミノ基、シクロアルキル基等が挙げられ、これら置換基は更に置換されていても良い。

一般式（ａ）は、下記一般式（ｂ）で表されるビニル重合性の置換基を有するオルガノシラン化合物であることも好ましい。

一般式（ｂ）

上記一般式（ｂ）において、
Ｒ_２は水素原子、メチル基、メトキシ基、アルコキシカルボニル基、シアノ基、フッ素原子、または塩素原子を表す。水素原子、メチル基、メトキシ基、メトキシカルボニル基、シアノ基、フッ素原子、および塩素原子が好ましく、水素原子、メチル基、メトキシカルボニル基、フッ素原子、および塩素原子が更に好ましく、水素原子およびメチル基が特に好ましい。
Ｙは単結合もしくは＊−ＣＯＯ−＊＊、＊−ＣＯＮＨ−＊＊、または＊−Ｏ−＊＊を表し、単結合、＊−ＣＯＯ−＊＊、または＊−ＣＯＮＨ−＊＊が好ましく、単結合または＊−ＣＯＯ−＊＊が更に好ましく、＊−ＣＯＯ−＊＊が特に好ましい。＊は＝Ｃ（Ｒ_２）−に結合する位置を、＊＊はＬに結合する位置を表す。

Ｌは２価の連結鎖を表す。具体的には、置換もしくは無置換のアルキレン基、置換もしくは無置換のアリーレン基が好ましい。置換基としては、ハロゲン原子、水酸基、メルカプト基、カルボキシル基、エポキシ基、アルキル基、アリール基等が挙げられ、これら置換基は更に置換されていても良い。

ｌはｌ＝１００−ｍを満たす数（モル分率）を表し、ｍは０〜５０の数（モル分率）を表す。ｍは０〜４０の数がより好ましく、０〜３０の数が特に好ましい。
Ｒ_３〜Ｒ_５は一価の基を表し、ハロゲン原子、水酸基、無置換のアルコキシ基、または無置換のアルキル基が好ましい。Ｒ_３〜Ｒ_５は、塩素原子、水酸基、無置換の炭素数１〜６のアルコキシ基であることがより好ましく、水酸基、炭素数１〜３のアルコキシ基であることが更に好ましく、水酸基またはメトキシ基であることが特に好ましい。
Ｒ_６は水素原子またはアルキル基を表す。アルキル基としてはメチル基、エチル基が好ましい。Ｒ_６は、水素原子またはメチル基であることが特に好ましい。
Ｒ_７は置換もしくは無置換のアルキル基、または置換もしくは無置換のアリール基を表す。アルキル基としては、炭素数１〜３０のアルキル基か好ましく、より好ましくは炭素数１〜１６である。
Ｒ_４、Ｒ_５、およびＲ_７は複数存在するときは、複数のＲ_４、Ｒ_５、およびＲ_７はそれぞれ同じであっても、異なっていてもよい。

一般式（ａ）の化合物は２種類以上を併用しても良い。特に一般式（ｂ）の化合物は一般式（ａ）の化合物２種類を出発原料として合成される。以下に一般式（ａ）および一般式（ｂ）で表される化合物の出発原料の具体例を示すが、本発明はこれらに限定されるものではない。

Ｍ−４８： ＣＨ₃−Ｓｉ(ＯＣＨ₃)₃
Ｍ−４９： Ｃ₂Ｈ₅−Ｓｉ(ＯＣＨ₃)₃
Ｍ−５０： ｔ−Ｃ₄Ｈ₉-Ｓｉ(ＯＣＨ₃)₃

これらのうち、（Ｍ−１）、（Ｍ−２）、（Ｍ−２５）、（Ｍ−４８）、（Ｍ−４９）が特に好ましい。

本発明の効果を得るためには、オルガノシランの加水分解物および／またはその部分縮合物における前記ビニル重合性基を含有するオルガノシランの含有量は、３０質量％〜１００質量％が好ましく、５０質量％〜１００質量％がより好ましく、７０質量％〜１００質量％が更に好ましく、９０質量％〜１００質量％が特に好ましい。固形分の生成、液の濁り、ポットライフの悪化、分子量の制御、などの観点から、また重合性基の含有量が少ないために重合処理を行った場合の性能（例えば反射防止膜の耐傷性）の向上が得られやすいため、前記ビニル重合性基を含有するオルガノシランの含有量が３０質量％以上にすることが好ましい。

本発明に用いられるゾル成分は上記オルガノシランを加水分解および／または部分縮合することにより調製される。
加水分解縮合反応は加水分解性基（Ｘ）１モルに対して０．０５〜２．０モル、好ましくは０．１〜１．０モルの水を添加し、本発明に用いられる触媒の存在下、２５〜１００℃で、撹拌することにより行われる。

本発明のオルガノシランの加水分解物およびその部分縮合物の少なくともいずれかにおいて、ビニル重合性基を含有するオルガノシランの加水分解物およびその部分縮合物いずれかの質量平均分子量は、分子量が３００未満の成分を除いた場合に、４５０〜２００００が好ましく、５００〜１００００がより好ましい。
オルガノシランの加水分解物および／またはその部分縮合物における分子量が３００以
上の成分のうち、分子量が２００００より大きい成分は１０質量％以下であることが好ましい。

本発明で用いるオルガノシラン化合物の加水分解物および部分縮合物について詳細に説明する。
オルガノシランの加水分解反応、それに引き続く縮合反応は、一般に触媒の存在下で行われる。触媒としては、塩酸、硫酸、硝酸等の無機酸類；シュウ酸、酢酸、酪酸、マレイン酸、クエン酸、ギ酸、メタンスルホン酸、トルエンスルホン酸等の有機酸類；水酸化ナトリウム、水酸化カリウム、アンモニア等の無機塩基類；トリエチルアミン、ピリジン等の有機塩基類；トリイソプロポキシアルミニウム、テトラブトキシジルコニウム、テトラブチルチタネート、ジブチル錫ジラウレート等の金属アルコキシド類；Ｚｒ、ＴｉまたはＡｌなどの金属を中心金属とする金属キレート化合物等；ＫＦ、ＮＨ_４Ｆなどの含Ｆ化合物等が挙げられる。
上記触媒は単独で使用しても良く、或いは複数種を併用しても良い。

オルガノシランの加水分解・縮合反応は、無溶媒でも、溶媒中でも行うことができるが成分を均一に混合するために有機溶媒を用いることが好ましく、例えばアルコール類、芳香族炭化水素類、エーテル類、ケトン類、エステル類などが好適である。

加水分解・縮合反応は、オルガノシランの加水分解性基１モルに対して０．０５〜２モル、好ましくは０．１〜１モルの水を添加し、上記溶媒の存在下あるいは非存在下に、そして触媒の存在下に、２５〜１００℃で、撹拌することにより行われる。
本発明においては、アルキル基または炭素数１〜１０のアルコキシ基を示す)で表され
る化合物とを配位子とした、Ｚｒ、ＴｉまたはＡｌから選ばれる金属を中心金属とする少なくとも１種の金属キレート化合物の存在下で加水分解を行うことが好ましい。
金属キレート化合物は、一般式Ｚｒ（ＯＲ^３）_ｐ１（Ｒ^４ＣＯＣＨＣＯＲ^５）_ｐ２、Ｔｉ（ＯＲ^３）_ｑ１（Ｒ^４ＣＯＣＨＣＯＲ^５）_ｑ２、およびＡｌ（ＯＲ^３）_ｒ１（Ｒ^４ＣＯＣＨＣＯＲ^５）_ｒ２で表される化合物群から選ばれるものが好ましい。
金属キレート化合物中のＲ^３およびＲ^４は、複数存在するときは、同一または異なってもよく炭素数１〜１０のアルキル基、具体的にはエチル基、ｎ−プロピル基、ｉ−プロピル基、ｎ−ブチル基、ｓｅｃ−ブチル基、ｔ−ブチル基、ｎ−ペンチル基、フェニル基などである。
Ｒ^５は、複数存在するときは、同一または異なってもよく、前記と同様の炭素数１〜１０のアルキル基のほか、炭素数１〜１０のアルコキシ基、例えばメトキシ基、エトキシ基、ｎ−プロポキシ基、ｉ−プロポキシ基、ｎ−ブトキシ基、ｓｅｃ−ブトキシ基、ｔ−ブトキシ基などである。
また、金属キレート化合物中のｐ１、ｐ２、ｑ１、ｑ２、ｒ１、およびｒ２は、それぞれｐ１＋ｐ２＝４、ｑ１＋ｑ２＝４、ｒ１＋ｒ２＝３となる様に決定される整数を表す。

これらの金属キレート化合物の好ましい具体例としては、トリ−ｎ−ブトキシエチルアセトアセテートジルコニウム、ジイソプロポキシビス（アセチルアセトナート）チタニウム、ジイソプロポキシエチルアセトアセテートアルミニウム、トリス（エチルアセトアセテート）アルミニウムである。これらの金属キレート化合物は、１種単独であるいは２種以上混合して使用することができる。また、これらの金属キレート化合物の部分加水分解物を使用することもできる。

本発明に用いられる機能層および低屈折率層の塗布液には、上記ゾル成分および金属キレート化合物を含む組成物に加えて、β−ジケトン化合物およびβ−ケトエステル化合物の少なくともいずれかが添加されることが好ましい。以下にさらに説明する。

本発明で使用されるのは、一般式Ｒ^４ ＣＯＣＨ₂ ＣＯＲ^５で表されるβ−ジケトン化
合物およびβ−ケトエステル化合物の少なくともいずれかであり、本発明に用いられる組成物の安定性向上剤として作用するものである。β−ジケトン化合物およびβ−ケトエステル化合物の好ましい具体例としては、アセト酢酸エチルおよびアセチルアセトン、アセチルアセトンが挙げられる。

上記オルガノシラン化合物の加水分解物および部分縮合物の含有量は、比較的薄膜である低屈折率層の場合は少なく、厚膜である機能層の場合は多いことが好ましい。含有量は効果の発現、屈折率、膜の形状・面状等を考慮すると、含有層（添加層）の全固形分の０．１〜５０質量％が好ましく、０．５〜３０質量％がより好ましく、１〜１５質量％が最も好ましい。

オルガノシラン化合物及びその誘導体から選ばれる少なくとも１種の化合物は、これらを含有する層の他の成分と架橋又は重合反応することが、皮膜の物理強度（耐擦傷性など）を向上させるために好ましい。このため、オルガノシラン化合物が架橋又は重合する官能基を有したり、無機微粒子やバインダーなどにオルガノシラン化合物と架橋又は重合する官能基を有する化合物を用いることが好ましい。

オルガノシラン化合物を添加するのに好ましい層は、帯電防止層、ハードコート層、防眩層、光拡散層、高屈折率層、低屈折率層、及び最外層であり、より好ましくはハードコート層、防眩層、光拡散層、低屈折率層、及び最外層であり、特に好ましくは最外層及び該最外層の隣接層である。

（光学フィルムの形成法等）
本発明において光学フィルムを構成する各層は、塗布法により作製したものが好ましい。塗布で形成する場合、各層はディップコート法、エアーナイフコート法、カーテンコート法、ローラーコート法、ワイヤーバーコート法、グラビアコート法、マイクログラビアコート法やエクストルージョンコート法（米国特許２，６８１，２９４号明細書記載）またはダイコート法（特開２００３−２００９７号、同２００３−２１１０５２号、２００３−２３６４３４号、同２００３−２６０４００号、同２００３−２６０４０２号公報等に記載）により作製することができる。２層以上を同時に塗布してもよい。同時塗布の方法については、米国特許２，７６１，７９１号、同２，９４１，８９８号、同３，５０８，９４７号、同３，５２６，５２８号の各明細書および原崎勇次著、「コーティング工学」、２５３頁、朝倉書店（１９７３年）に記載がある。ワイヤーバーコート法、グラビアコート法、マイクログラビアコート法、ダイコートが好ましい。特に、マイクログラビアコート法、ダイコート法が好ましく、ダイコート法が最もこのましい。

マイクログラビアコート法とは、直径が約１０〜１００ｍｍ、好ましくは約２０〜５０ｍｍで全周にグラビアパターンが刻印されたグラビアロールを支持体の下方に、かつ支持体の搬送方向に対してグラビアロールを逆回転させると共に、該グラビアロールの表面からドクターブレードによって余剰の塗布液を掻き落として、定量の塗布液を支持体に転写させて塗工することを特徴とする塗布法である。
マイクログラビアコート法では、グラビアロールに刻印されたグラビアパターンの線数は５０〜８００本／インチが好ましく、より好ましくは１００〜３００本／インチである。グラビアパターンの深度は１〜６００μｍが好ましく、より好ましくは５〜２００μｍである。グラビアロールの回転数は３〜８００ｒｐｍであることが好ましく、より好ましくは５〜２００ｒｐｍである。支持体の搬送速度は０．５〜１００ｍ／分であることが好ましく、より好ましくは１〜５０ｍ／分である。

また、ダイコート法はバックアップローラに支持されて連続走行するウェブに対して、
内部にポケットが形成されているスロットダイから塗布液をビードにして塗布することにより、ウェブ上に塗膜を形成する。スロットダイの先端とウェブとの距離を、ウェブ進行方向に対するスロット部材の上流側と下流側で適度に調節することによって湿潤膜厚が数十μｍ以下の塗布を精度よく行うことができる。

光学フィルムの各層を塗布法で作製する上で、層を作製するのに用いる塗料には、面状改良剤を添加することが好ましい。以下に、面状改良剤について説明する。

（面状改良剤）
本発明の透明支持体上のいずれかの層を作製するのに用いる塗料には、面状故障（塗布ムラ、乾燥ムラ、点欠陥など）を改良するために、フッ素系及びシリコーン系の少なくともいずれかの面状改良剤を添加することが好ましい。

面状改良剤は、塗料の表面張力を１ｍＮ／ｍ以上変化させることが好ましい。ここで、塗料の表面張力が１ｍＮ／ｍ以上変化するとは、面状改良剤を添加後の塗料の表面張力が、塗布／乾燥時での濃縮過程を含めて、面状改良剤を添加してない塗料の表面張力と比較して、１ｍＮ／ｍ以上変化することを意味する。
好ましくは、塗料の表面張力を１ｍＮ／ｍ以上下げる効果がある面状改良剤であり、更に好ましく２ｍＮ／ｍ以上下げる面状改良剤、特に好ましくは３ｍＮ／ｍ以上下げる面状改良剤である。

フッ素系の面状改良剤の好ましい例としては、フルオロ脂肪族基を含有する化合物（「フッ素系面状改良剤」と略記する）が挙げられる。特に、下記一般式（ｉ）のモノマーに相当する繰り返し単位、及び、下記一般式（ii）のモノマーに相当する繰り返し単位を含むアクリル樹脂、メタアクリル樹脂、及びこれらに共重合可能なビニル系モノマーとの共重合体が好ましい。
このような単量体としては、Ｐｏｌｙｍｅｒ Ｈａｎｄｂｏｏｋ ２ｎｄ ｅｄ．，Ｊ．Ｂｒａｎｄｒｕｐ，Ｗｉｌｅｙ ｌｎｔｅｒｓｃｉｅｎｃｅ（１９７５）Ｃｈａｐｔｅｒ ２，Ｐａｇｅ１〜４８３記載のものを用いることが好ましい。
例えばアクリル酸、メタクリル酸、アクリル酸エステル類、メタクリル酸エステル類、アクリルアミド類、メタクリルアミド類、アリル化合物、ビニルエーテル類、ビニルエステル類等から選ばれる付加重合性不飽和結合を１個有する化合物等をあげることができる。

一般式（ｉ）

一般式（ｉ）においてＲ²¹は水素原子、ハロゲン原子又はメチル基を表し、水素原子、メチル基がより好ましい。Ｘ²は酸素原子、イオウ原子又は−Ｎ（Ｒ²²）−を表し、酸素
原子又は−Ｎ（Ｒ²²）−がより好ましく、特に酸素原子が好ましい。Ｒ²²は水素原子又は、炭素数１〜８のアルキル基を表し、好ましくは水素原子又は炭素数１〜４のアルキル基、特に好ましくは水素原子又はメチル基である。ａは１〜６の整数を表し、１〜３がより好ましく、１であることが特に好ましい。ｂは１〜１８の整数を表し、４〜１２がより好ましく、６〜８が特に好ましい。
フッ素系面状改良剤中に一般式（ｉ）で表されるフルオロ脂肪族基含有モノマーが２種類以上構成成分として含まれていてもよい。
一般式（ii）

一般式（ii）において、Ｒ²³は水素原子、ハロゲン原子又はメチル基を表し、水素原子、メチル基がより好ましい。Ｙ²は酸素原子、イオウ原子又は−Ｎ（Ｒ²⁵）−を表し、酸素原子又は−Ｎ（Ｒ²⁵）−がより好ましく、特に酸素原子が好ましい。Ｒ²⁵は水素原子又は炭素数１〜８のアルキル基を表し、好ましくは水素原子又は炭素数１〜４のアルキル基、特に好ましくは水素原子又はメチル基である。
Ｒ²⁴は水素原子、置換もしくは無置換の炭素数１〜２０の直鎖、分岐もしくは環状のアルキル基、ポリ（アルキレンオキシ）基を含むアルキル基、又は置換もしくは無置換の芳香族基（例えば、フェニル基またはナフチル基）を表す。炭素数１〜１２の直鎖、分岐もしくは環状のアルキル基、又は総炭素数６〜１８の芳香族がより好ましく、炭素数１〜８の直鎖、分岐もしくは環状のアルキル基が更に好ましい。以下でポリ（アルキレンオキシ）基について説明する。

ポリ（アルキレンオキシ）基は、−（ＯＲ）−を繰り返し単位とした基であり、Ｒは２〜４個の炭素原子を有するアルキレン基、例えば−ＣＨ₂ＣＨ₂−、−ＣＨ₂ＣＨ₂ＣＨ₂−、−ＣＨ(ＣＨ₃)ＣＨ₂−、−ＣＨ(ＣＨ₃)ＣＨ(ＣＨ₃)−が挙げられる。
前記のポリ（オキシアルキレン）基中のオキシアルキレン単位（前記−ＯＲ−）はポリ（オキシプロピレン）におけるように同一であってもよく、また互いに異なる２種以上のオキシアルキレンが不規則に分布されたものであってもよく、直鎖もしくは分岐状のオキシプロピレンもしくはオキシエチレン単位であったり、または直鎖もしくは分岐状のオキシプロピレン単位のブロックもしくはオキシエチレン単位のブロックのように存在するものであってもよい。

このポリ（オキシアルキレン）鎖は１つまたはそれ以上の連鎖結合（例えば−ＣＯＮＨ−Ｐｈ−ＮＨＣＯ−、−Ｓ−など：Ｐｈはフェニレン基を表す）で連結されたものも含むことができる。連鎖の結合が３つまたはそれ以上の原子価を有する場合には、これは分岐鎖のオキシアルキレン単位を得るための手段を供する。またこの共重合体を本発明に用いる場合には、ポリ（オキシアルキレン）基の分子量は２５０〜３０００が適当である。
ポリ（オキシアルキレン）アクリレート及びメタクリレートは、市販のヒドロキシポリ（オキシアルキレン）材料、例えば商品名“プルロニック”［Pluronic（旭電化工業（株）製）、アデカポリエーテル（旭電化工業（株）製）“カルボワックス”［Carbowax（グリコ・プロダクス）］、“トリトン”［Toriton（ローム・アンド・ハース（Rohm and Haas製））およびP.E.G（第一工業製薬（株）製）として販売されているものを公知の方法でアクリル酸、メタクリル酸、アクリルクロリド、メタクリルクロリドまたは無水アクリル酸等と反応させることによって製造できる。別に、公知の方法で製造したポリ（オキシアルキレン）ジアクリレート等を用いることもできる。

本発明で用いられるフッ素系面状改良剤において、フッ素系面状改良剤の形成に用いられる全モノマー量に対する一般式（i）で示されるフルオロ脂肪族基含有モノマーの量が
５０モル％以上であることが好ましく、より好ましくは７０〜１００モル％であり、特に好ましくは８０〜１００モル％の範囲である。

本発明で用いられるフッ素系面状改良剤の好ましい質量平均分子量は、３０００〜１００，０００が好ましく、６，０００〜８０，０００がより好ましく、８，０００〜６０，０００が更に好ましい。
ここで、質量平均分子量は、ＴＳＫgel ＧＭＨxL、ＴＳＫgel Ｇ4000ＨxL、ＴＳＫgel Ｇ2000ＨxL（何れも東ソー(株)製の商品名）のカラムを使用したＧＰＣ分析装置により、溶媒ＴＨＦ、示差屈折計検出によるポリスチレン換算で表した分子量であり、含有量は、分子量が３００以上の成分のピーク面積を１００％とした場合の、前記分子量範囲のピークの面積％である。

更に、本発明で用いられるフッ素系面状改良剤の好ましい添加量は、添加する層の塗料に対して０．００１〜５質量％の範囲であり、好ましくは０．００５〜３質量％の範囲であり、更に好ましくは０．０１〜１質量％の範囲である。

以下、本発明によるフッ素系面状改良剤の具体的な構造の例を示すが、本発明はこれらに限定されるものではない。なお式中の数字は各モノマー成分のモル比率を示す。Ｍｗは質量平均分子量を表す。

本発明の面状改良剤は、ケトン系溶媒（アセトン、メチルエチルケトン、メチルイソブチルケトン、シクロヘキサノンなど）、エステル系溶媒（酢酸エチル、酢酸ブチル等）、
エーテル類（テトラヒドロフラン、１，４−ジオキサン等）、芳香族炭化水素系溶媒（トルエン、キシレン等）を含有する塗料に用いることが好ましい。特に、ケトン系溶媒が好ましい。ケトン系溶媒の中でも、メチルエチルケトン、メチルイソブチルケトン、シクロヘキサノンが好ましい。
塗料の溶媒は、ケトン系溶媒以外の溶媒を含んでいてもよい。
また、特にケトン系溶媒を全溶媒の１０質量％以上含有する塗料であることが好ましい。好ましくは３０質量％以上、さらに好ましくは６０質量％以上である。

透明支持体上に形成する層の塗料において、面状改良剤を添加するのが特に好ましいのは、ハードコート層、防眩層、帯電防止層、高屈折率層、低屈折率層を形成するための塗料であり、特に好ましいのはハードコート層、防眩層、を形成するための塗料である。

（光学フィルムの物理性能）
本発明に係る光学フィルムは、物理強度（耐擦傷性など）を改良するために、塗布した最外層を有する側の表面の動摩擦係数は０．２５以下であることが好ましい。動摩擦係数は、直径５ｍｍのステンレス剛球に０．９８Ｎの荷重をかけ、速度６０ｃｍ／分で最外層を有する側の表面を移動させたときの、最外層を有する側の表面と直径５ｍｍのステンレス剛球の間の動摩擦係数をいう。好ましくは０．１７以下であり、特に好ましくは０．１５以下である。
さらに光学フィルムは、防汚性能を改良するために、最外層を有する側の表面の水に対する接触角が８０゜以上であることが好ましい。更に好ましくは９０゜以上であり、特に好ましくは１００゜以上である。
さらに本発明に係る反射防止フィルムのヘイズは、０．５〜６０％であることが好ましく、１〜５０％であることがさらに好ましく、１〜４０％であることが最も好ましい。
さらに本発明に係る光学機能フィルムの反射率は、低いほど好ましく、好ましくは３．０％以下、より好ましくは２．５％以下、更に好ましくは２．０％以下、特に好ましくは１．５％以下である。

（偏光板用保護フィルム）
本発明の光学フィルムを偏光膜の保護フィルム（偏光板用保護フィルム）として用いることができる。この場合、最外層を有する側とは反対側の透明支持体の表面、すなわち偏光膜と貼り合わせる側の表面の水に対する接触角が４０°以下であることが好ましい。さらに好ましくは３０°以下であり、特に好ましくは２５°以下である。接触角を４０°以下にすることは、ポリビニルアルコールを主成分とする偏光膜との接着性を改良するのに有効である。この接触角は下記の鹸化処理の処理条件により調整することができる。

偏光板用保護フィルムとして用いる反射防止フィルムの透明支持体としては、トリアセチルセルロースフィルムを用いることが特に好ましい。

本発明における偏光板用保護フィルムを作製する手法としては、下記２つの手法が挙げられる。
（１）鹸化処理した透明支持体の一方の面に上記の各層（例、帯電防止層、ハードコート層、および光学機能層である防眩層、同低屈折率層、同高屈折率層、同最外層など）を塗設する手法。
（２）透明支持体の一方の面に上記の各層（例、帯電防止層、ハードコート層、防眩層、低屈折率層、最外層など）を塗設した後、偏光膜と貼り合わせる側を鹸化処理する手法。

上記（１）の手法において、透明支持体の一方の面のみが鹸化処理されている場合、各層は鹸化処理されていない側に塗設する。透明支持体の両方の面が鹸化処理されている場
合、各層を塗設する側の鹸化処理した透明支持体の表面をコロナ放電処理、グロー放電処理、火焔処理などの手法により表面処理し、その後、各層を塗設することが好ましい。
上記（２）において、光学フィルム全体を鹸化液に浸漬することが好ましい。この場合、光学フィルムは各層を有する側の表面を保護フィルムで保護して鹸化液に浸漬し、偏光膜と貼り合わせる側の透明支持体の表面を鹸化処理することもできる。
さらにまた、光学フィルムの偏光膜と貼り合わせる側の透明支持体の表面に鹸化処理液を塗布して、偏光膜と貼り合わせる側を鹸化処理することもできる。
鹸化処理は、保護フィルムの上に反射防止性能を付与した後に実施することで、よりコストを削減でき、特に（２）の手法が、偏光板用保護フィルムを安価に製造できる点で好ましい。

偏光板用保護フィルムは、光学性能（低反射性能、防眩性能など）、物理性能（耐擦傷性など）、耐薬品性、防汚性能（耐汚染性など）、耐候性（耐湿熱性、耐光性）、防塵性能において、本発明の光学フィルムで記載した性能を満足することが好ましい。
従って、最外層を有する側の表面の表面抵抗値が１×１０^１３Ω／□以下であることが好ましく、１×１０^１２Ω／□以下であることがより好ましく、１×１０^１０Ω／□以下であることが更に好ましい。
最外層を有する側の表面の動摩擦係数は０．２５以下であることが好ましい。好ましくは０．１７以下であり、特に好ましくは０．１５以下である。
また、最外層を有する側の表面の水に対する接触角は９０゜以上であることが好ましい。更に好ましくは９５゜以上であり、特に好ましくは１００゜以上である。

（鹸化処理）
上記の鹸化処理は、公知の手法、例えば、アルカリ液の中に透明支持体、又は、光学フィルムを適切な時間浸漬して実施するのが好ましい。
アルカリ液は、水酸化カリウム水溶液、及び／又は、水酸化ナトリウム水溶液であることが好ましい。好ましい濃度は０．５〜３ｍｏｌ／ｌであり、特に好ましくは１〜２ｍｏｌ／ｌである。好ましいアルカリ液の液温は３０〜７０℃、特に好ましくは４０〜６０℃である。
アルカリ液に浸漬した後は、フィルムの中にアルカリ成分が残留しないように、水で十分に水洗したり、希薄な酸に浸漬してアルカリ成分を中和することが好ましい。

鹸化処理することにより、透明支持体の表面が親水化される。偏光板用保護フィルムは、透明支持体の親水化された表面を偏光膜と接着させて使用する。
親水化された表面は、ポリビニルアルコールを主成分とする偏光膜との接着性を改良するのに有効である。
鹸化処理は、防眩層や低屈折率層を有する側とは反対側の透明支持体の表面の水に対する接触角が４０゜以下になるように実施することが好ましい。更に好ましくは３０゜以下、特に好ましくは２５゜以下である。

（偏光板）
本発明の偏光板は、偏向膜の保護フィルム（偏光板用保護フィルム）の少なくとも一方に、本発明の光学フィルムを有する。偏光板用保護フィルムは、上記のように、最外層を有する側とは反対側の透明支持体の表面、すなわち偏光膜と貼り合わせる側の表面の水に対する接触角が４０°以下であることが好ましい。

本発明の光学フィルムを偏光板用保護フィルムとして用いることにより、反射防止機能を有する偏光板が作製でき、大幅なコスト削減、表示装置の薄手化が可能となる。
また、本発明の光学フィルムを２枚の保護フィルムの一方に用い、後述する光学異方性のある光学補償フィルムをもう一方に用いた偏光板は、さらに、液晶表示装置の明室での
コントラストを改良し、上下左右の視野角を非常に広げることができるので、好ましい。

（光学補償フィルム）
上記光学補償フィルム（位相差フィルム）は、液晶表示画面の視野角特性を改良することができる。
光学補償フィルムとしては、公知のものを用いることができるが、視野角を広げるという点では、特開２００１−１０００４２号公報に記載されているディスコティック構造単位を有する化合物からなる光学異方性層を有し、該ディスコティック化合物とフィルム面とのなす角度が、光学異方性層の深さ方向で変化していることを特徴とする光学補償フィルムが好ましい。すなわち、ディスコティック構造単位を有する化合物の配向状態としては、例えば、ハイブリッド配向、ベント配向、ツイスト配向、ホモジニアス配向、ホメオトロピック配向等であることが好ましく、ハイブリッド配向であることが特に好ましい。該角度は、層全体で見ると光学異方性層中で光学補償フィルムの支持体面側からの距離の増加とともに総じて増加していることが好ましい。
光学補償フィルムを偏光膜の保護フィルムとして用いる場合、偏光膜と貼り合わせる側の表面が鹸化処理されていることが好ましく、前記の鹸化処理に従って実施することが好ましい。

また、光学異方性層が更にセルロースエステルを含んでいる態様、光学異方性層と光学補償フィルムの透明支持体との間に配向層が形成されている態様、該光学異方性層を有する光学補償フィルムの透明支持体が、光学的に負の一軸性を有し、且つ該透明支持体面の法線方向に光軸を有する態様、更に下記の条件を満足する態様も好ましい。

２０≦｛（ｎｘ＋ｎｙ）／２−ｎｚ｝×ｄ≦４００

式中、ｎｘは面内の遅相軸方向の屈折率（面内の最大屈折率）であり、ｎｙは面内の遅相軸に垂直な方向の屈折率、ｎzは面に垂直方向の屈折率である。また、ｄは光学異方性
層の厚さ（ｎｍ）である。

（画像表示装置）
光学機能フィルムは、液晶表示装置（ＬＣＤ）、プラズマディスプレイパネル（ＰＤＰ）、エレクトロルミネッセンスディスプレイ（ＥＬＤ）や陰極管表示装置（ＣＲＴ）のような画像表示装置に適用することができる。反射防止フィルムは、反射防止フィルムの透明支持体側を画像表示装置の画像表示面に接着する。
本発明に用いる光学フィルム及び偏光板は、ツイステットネマチック（ＴＮ）、スーパーツイステットネマチック（ＳＴＮ）、バーティカルアライメント（ＶＡ）、インプレインスイッチング（ＩＰＳ）、オプティカリーコンペンセイテットベンドセル（ＯＣＢ）等のモードの透過型、反射型、または半透過型の液晶表示装置に好ましく用いることができる。特にＴＮモードやＩＰＳモードの液晶表示装置に対しては、特開２００１−１０００４３号公報等に記載されているように、上記の光学補償フィルムと光学フィルムを保護フィルムとして有する偏光板を用いることで、視野角特性と反射防止特性を大幅に改良できる。
また、さらに市販の輝度向上フィルム（偏光選択層を有する偏光分離フィルム、例えば住友３Ｍ（株）製のＤ−ＢＥＦなど）と併せて用いることにより、透過型または半透過型の液晶表示装置において、さらに視認性の高い表示装置を得ることができる。
また、λ／４板と組み合わせることで、反射型液晶用の偏光板や、有機ＥＬディスプレイ用表面保護板として表面および内部からの反射光を低減するのに用いることができる。

本発明を詳細に説明するために、以下に実施例を挙げて説明するが、本発明はこれらに
限定されるものではない。
（高分子化合物Ｋ−１の合成）
水３００ｍｌにポリビニルアルコール０．６ｇを溶解し、これにアゾビスイソブチロニトリル２ｇを溶解したメタクリル酸メチル８１．６ｇとアクリル酸メチル１５．９ｇの混合液を加えた。この混合液をディスパーで５分間攪拌したあと、窒素の雰囲気下で７５℃で４時間、弱い攪拌を行いながら反応させた。
反応後遠心分離器で弱く脱水し、生成物を水で洗浄したあと乾燥させて高分子化合物Ｋ−１を得た。

（パーフルオロオレフィン共重合体ＰＦ−１の合成）

ステンレス製撹拌機付オートクレーブに酢酸エチル４０質量部、ヒドロキシエチルビニルエーテル１４．７質量部、及び過酸化ジラウロイル０．５５質量部を仕込み、系内を脱気して窒素ガスで置換した。さらにヘキサフルオロプロピレン（ＨＦＰ）２５質量部をオートクレーブ中に導入して６５℃まで昇温した。オートクレーブ内の温度が６５℃に達した時点の圧力は５．４ｋｇ／ｃｍ²（５２９ｋＰａ）であった。該温度を保持し８時間反応を続け、圧力が３．２ｋｇ／ｃｍ²（３１４ｋＰａ）に達した時点で加熱をやめ放冷した。室温まで内温が下がった時点で未反応のモノマーを追い出し、オートクレーブを開放して反応液を取り出した。
得られた反応液を大過剰のヘキサンに投入し、デカンテーションにより溶剤を除去することにより沈殿したポリマーを取り出した。さらにこのポリマーを少量の酢酸エチルに溶解してヘキサンから２回再沈殿を行うことによって残存モノマーを完全に除去した。乾燥後ポリマー生成物２８質量部を得た。
次に該ポリマー生成物の２０質量部をＮ，Ｎ−ジメチルアセトアミド１００質量部に溶解、氷冷下で、アクリル酸クロライド１１．４質量部を滴下した後、室温で１０時間攪拌した。反応液に酢酸エチルを加えて水洗し、有機層を抽出後、濃縮し、得られたポリマーをヘキサンで再沈殿させることにより上記パーフルオロオレフィン共重合体ＰＦ−１を１９質量部得た。得られたパーフルオロオレフィン共重合体の屈折率は１．４２であった。
上記パーフルオロオレフィン共重合体ＰＦ−１をメチルエチルケトンに溶解し、固形分濃度３０％の溶液を得た。

（オルガノシラン化合物Ａ溶液の調製）
温度計、窒素導入管、滴下ロートを備えた1,000mlの反応容器に、アクリロキシオキシ
プロピルトリメトキシシラン１８７ｇ（０．８０ｍｏｌ）、メチルトリメトキシシラン２９．０ｇ（０．２１ｍｏｌ）、メタノール３２０ｇ（１０ｍｏｌ）とＫＦ０．０６ｇ（０．００１ｍｏｌ）を仕込み、攪拌下室温で水１７．０ｇ（０．９４ｍｏｌ）をゆっくり滴下した。滴下終了後室温で３時間攪拌した後、メタノール還溜下２時間加熱攪拌した。この後、低沸分を減圧留去し、更にろ過することによりオルガノシラン化合物Ａ溶液を１２０ｇ得た。このようにして得た物質をＧＰＣ測定した結果、質量平均分子量は１５００であり、オリゴマー成分以上の成分のうち、分子量が１０００〜２００００の成分は３０％であった。

また１Ｈ−ＮＭＲの測定結果から、得られた物質の構造は、以下の一般式で表される構造であった。

平均組成式：（ＣＨ₂＝ＣＯＯ−Ｃ₃Ｈ₆）_0.8（ＣＨ₃）_0.2ＳｉＯ_0.86（ＯＣＨ₃）_1.28 更に、^２９Ｓｉ−ＮＭＲ測定による縮合率αは０．５９であった。この分析結果から、本シランカップリング剤ゾルは直鎖状構造部分が大部分であることが分かった。
また、ガスクロマトグラフィー分析から、原料のアクリロキシプロピルトリメトキシシランは５％以下の残存率であった。

攪拌機、還流冷却器を備えた反応器、メチルエチルケトン１２０質量部、３−アクリロキシプロピルトリメトキシシラン（ＫＢＭ−５１０３、信越化学工業（株）製）１００質量部、ジイソプロポキシアルミニウムエチルアセトアセテート３質量部を加えて混合したのち、イオン交換水３０質量部を加え、６０℃で４時間反応させた。室温まで冷却し、オルガノシラン化合物Ａの溶液を得た。質量平均分子量は１６００であり、オリゴマー成分以上の成分のうち、分子量が１０００〜２００００の成分は１００％であった。また、ガスクロマトグラフィーによって分析したところ、原料の３−アクリロキシプロピルトリメトキシシランは殆ど残存していなかった。

（樹脂粒子（Ｊ−１）の調製）
攪拌機、還流冷却器を備えた反応器に、水６００質量部を充填し、これにポリビニルアルコール ０．７質量部とドデシルベンゼンスルホン酸ナトリウム ２．７質量部を加えて溶解した。次に、これにメタクリル酸メチル ９６．０質量部とエチレングリコールジメタクリレート８．０質量部、過酸化ベンゾイル ２．０質量部の混合液を加え撹拌した。この混合液をホモジナイザーを用いて４０００ｒｐｍで１５分間分散して均一にした。次いで窒素ガスを吹き込みながら７５℃で４時間撹拌を続けた。その後遠心分離法で軽く脱水し、生成物を水で洗浄したあと乾燥した。得られた架橋メタクリル酸メチル系樹脂粒子（Ｊ−１）の平均粒径は８μｍ、屈折率は１．５０であった。

樹脂粒子Ｊ−１に対して、バインダー主モノマーの種類や量（単位：質量部）、架橋性モノマーの種類や量を変えて本発明の架橋性樹脂粒子、および比較例の樹脂粒子を調製した。粒子の粒径はホモジナイザーの回転数を変えて調節した。
モノマー類の種類と量、調製した粒子の特性値を表１及び２に示す。
表１及び２中、膨潤率はトルエン３０質量％分散液を調製し、経時で粒径変化がなくなった時点での膨潤率を示す。計算式は前記本文記載のとおりである。

圧縮硬度は島津製作所製微小圧縮試験機ＭＣＴ―Ｗ２０１を用いて、２５℃、６５％ＲＨ、試験用圧子：ＦＬＡＴ２０、試験荷重：１９．６（mN）、負荷速度：０．７１０９８２（mN／sec）、変位フルスケール：５（μm）の条件で、粒子単体について行ったときの変位１０％の試験から上述した式にて求めた。

（光拡散層用塗布液Ｈ−１の調製）
ペンタエリスリトールトリアクリレート、ペンタエリスリトールテトラアクリレートの混合物（KAYARAD ＰＥＴ−３０、日本化薬（株）製）４５．０質量部に、重合開始剤（イルガキュア１８４、チバ・スペシャルティ・ケミカルズ（株）製）２．０質量部、フッ素系面状改良剤（Ｆ−１２）０．７５質量部、オルガノシラン化合物（ＫＢＭ−５１０３、信越化学工業（株）製）１０．０質量部、ポリメタクリル酸メチル２０質量％トルエン溶液（質量平均分子量１２万、シグマアルドリッチジャパン（株）製）８．５質量部、トルエン２８．５質量部を添加して撹拌した。この溶液を塗布したのち、紫外線硬化して得られた塗膜の屈折率は１．５１であった。
さらにこの溶液にポリトロン分散機にて１００００ｒｐｍで分散した樹脂粒子Ｊ−１の３０％トルエン分散液２５．５質量部を添加して撹拌した。孔径３０μｍのポリプロピレン製フィルターでろ過して光拡散層用塗布液Ｈ−１を調製した。

（光拡散層用塗布液Ｈ−２〜Ｈ−２０、ＲＨ−１（比較）〜ＲＨ−５（比較）の調製）
前記光拡散層用塗布液Ｈ−１に対して樹脂粒子Ｊ−１を、Ｊ−２〜Ｊ−２３に変えた以外は塗布液Ｈ−１と同じにして、光拡散層塗布液Ｈ−２〜Ｈ−１８、ＲＨ−１（比較）〜ＲＨ−５（比較）を調製した。さらにバインダー成分、光重合開始剤をＨ−１と等質量部置き換えてして光拡散層用塗布液Ｈ−１９〜Ｈ−２０を調製した。
各塗布液の組成の組み合わせは表３に記載のとおりである。

ＨＰ−７２００：ジシクロペンタジエン型エポキシ樹脂（大日本インキ化学工業（株）製）
ＧＴ−４０１：エポリードＧＴ−４０１、４官能エポキシ化合物（ダイセル化学工業（株）製）
ＵＶＩ−６９９０：カチオン系重合開始剤（チバスペシャリティケミカルズ社製）

（低屈折率層用塗布液Ｌ−１の調製）
屈折率１．４２の熱架橋性含フッ素ポリマー（ＪＮ７２２８Ａ、固形分濃度６％、ＪＳＲ（株）製）１５．０質量部に、シリカ微粒子のＭＥＫ分散液（ＭＥＫ−ＳＴ、平均粒径
１５ｎｍ、固形分濃度３０％、日産化学工業（株）製）０．６質量部、シリカ微粒子のＭＥＫ分散液（ＭＥＫ−ＳＴ−Ｌ、平均粒径４５ｎｍ、固形分濃度３０％、日産化学工業（株）製）０．８質量部、上記オルガノシラン化合物Ａ溶液０．４質量部、およびメチルエチルケトン３．０質量部、シクロヘキサノン０．６質量部を添加して攪拌した。孔径１μｍのポリプロピレン製フィルターでろ過して、低屈折率層用塗布液Ｌ−２を調製した。この塗布液による塗膜の屈折率は１．４２であった。

（中空のシリカ微粒子のＭＥＫ分散液の調製）
中空シリカ微粒子ゾル（イソプロピルアルコールシリカゾル、触媒化成工業（株）製、平均粒子径６０ｎｍ、シェル厚み１０ｎｍ、シリカ濃度２０質量％、シリカ粒子の屈折率１．３１、特開２００２−７９６１６の調製例４に準じサイズを変更して作成）５００部に、アクリロイルオキシプロピルトリメトキシシラン（信越化学工業（株）製）３０部、およびジイソプロポキシアルミニウムエチルアセテート（商品名：ケロープＥＰ−１２、ホープ製薬（株）製）１．５部加え混合した後に、イオン交換水を９部を加えた。６０℃で８時間反応させた後に室温まで冷却し、アセチルアセトン１．８部を添加した。この分散液５００ｇにほぼシリカの含量一定となるようにメチルエチルケトンを添加しながら、圧力２０ｋＰａで減圧蒸留による溶媒置換を行った。分散液に異物の発生はなく、固形分濃度をメチルエチルケトンで調整し２０質量％にしたときの粘度は２５℃で５ｍＰａ・ｓであった。得られた分散液Ａ−１のイソプロピルアルコールの残存量をガスクロマトグラフィーで分析したところ、１．５％であった。

（低屈折率層用塗布液Ｌ−２の調製）
屈折率１．４２の熱架橋性含フッ素ポリマー（ＪＮ７２２８Ａ、固形分濃度６％、ＪＳＲ（株）製）１３．０質量部に、上記中空のシリカ微粒子のＭＥＫ分散液（屈折率１．３１、平均粒径６０ｎｍ、固形分濃度２０％）１．９５質量部、上記オルガノシラン化合物Ａ溶液０．６質量部、およびメチルエチルケトン４．３５質量部、シクロヘキサノン０．６質量部を添加して攪拌した。孔径１μｍのポリプロピレン製フィルターでろ過して、低屈折率層用塗布液Ｌ−３を調製した。この塗布液による塗膜の屈折率は１．４０であった。

（低屈折率層用塗布液Ｌ−３の調製）
上記パーフルオロオレフィン共重合体ＰＦ−１の溶液（固形分濃度３０％）１０．５質量部に、シリカ微粒子のメチルエチルケトン分散液（ＭＥＫ−ＳＴ−Ｌ、平均粒径４５ｎｍ、固形分濃度３０％、日産化学工業（株）製）４．５質量部、アクリロイル基を有するポリシロキサン化合物（Ｘ−２２−１６４Ｃ，信越化学工業（株）製）０．１５質量部、光重合開始剤（イルガキュア９０７、チバ・スペシャルティ・ケミカルズ（株）製）０．２３質量部、上記オルガノシラン化合物Ａ溶液２．０質量部、メチルエチルケトン８１．２質量部及び、シクロヘキサノン２．８質量部を添加して撹拌した。孔径１μｍのポリプロピレン製フィルターでろ過して、低屈折率層用塗布液Ｌ−５を調製した。この塗布液による塗膜の屈折率は１．４４であった。

［実施例１］
膜厚８０μｍ、幅１３４０ｍｍのトリアセチルセルロースフィルム（ＴＡＣ−ＴＤ８０Ｕ、富士写真フイルム（株）製、屈折率１．４８）上に、光拡散層用塗布液（Ｈ−１〜Ｈ−２０）、比較用塗布液（ＲＨ−１〜ＲＨ−５）をスロットダイ塗布方式で、搬送速度２５ｍ／分の条件で膜厚を塗布量で調節して塗布した。
６０℃で１５０秒乾燥の後、窒素パージ（酸素濃度０．５％以下）しながら、１６０Ｗ／ｃｍの空冷メタルハライドランプ（アイグラフィックス（株）製）を用いて、照度４００ｍＷ／ｃｍ²、照射量２５０ｍＪ／ｃｍ²の紫外線を照射して塗布層を硬化させて、光拡散層を有するフィルム試料を作製した。

上記光拡散層の上に、低屈折率層用塗布液（Ｌ−１〜Ｌ−３）をスロットダイ塗布方式で、搬送速度２５ｍ／分の条件で、膜厚が１００nmになるように調節して塗布した。
その後、Ｌ−１〜Ｌ−２についての乾燥、硬化条件は、以下で行った。
１２０℃で１５０秒乾燥の後、更に１４０℃で８分乾燥させてから窒素パージ（酸素濃度０．５％以下）しながら２４０Ｗ／ｃｍの空冷メタルハライドランプ（アイグラフィックス（株）製）を用いて、照度４００ｍＷ／ｃｍ²、照射量９００ｍＪ／ｃｍ²の紫外線を照射して塗布層を硬化させ、低屈折率層（最外層）を形成した。
また、Ｌ−３についての乾燥、硬化条件は、以下のように行った。
９０℃で３０秒乾燥の後、窒素パージ（酸素濃度０．５％以下）しながら２４０Ｗ／ｃｍの空冷メタルハライドランプ（アイグラフィックス（株）製）を用いて、照度６００ｍＷ／ｃｍ²、照射量６００ｍＪ／ｃｍ²の紫外線を照射して塗布層を硬化させ低屈折率層（最外層）を形成した。

本発明に掛かる光学フィルム試料の前記光拡散層および前記低屈折率層の塗設組み合わせ、膜厚を、表４に記載したとおりに行った。

（光学フィルムの評価）
得られた光学フィルム試料について、以下の項目の評価を行った。結果を表５に示す。

（１）防眩性
作製した光学フィルム試料の光拡散層塗設側の反対側全面を黒の油性インクで塗りつぶした。光拡散層塗設側をルーバーなしのむき出し蛍光灯（８０００ｃｄ／cm²）を映し、
その反射像のボケの程度と全面の白味を以下の基準で評価した。
◎ ：蛍光灯の輪郭がほとんどわからない。
○ ：蛍光灯の輪郭がわずかにわかる。
△ ：蛍光灯の周囲が白っぽく見えるが、輪郭は識別できる（許容範囲内）
×(1) ：蛍光灯がクッキリ見え、反射光が眩しい。
×(2) ：蛍光灯の輪郭が全くわからないが、全面が白っぽい。
（２）平均反射率の評価
分光光度計（日本分光（株）製；Ｖ−５５０）を用いて、３８０〜７８０ｎｍの波長領域において、積分球を用いて、入射角５°における分光反射率を測定した。分光反射率の評価において、４５０〜６５０ｎｍの平均反射率を用いた。

（３）鉛筆硬度
光拡散層塗設側について、ＪＩＳ Ｋ ５４００に記載に則って鉛筆硬度評価を行なった。反射防止フィルムを温度２５℃、湿度６０％ＲＨで２時間調湿したあとＪＩＳ Ｓ ６００６に規定する３Ｈ〜８Ｈの試験用鉛筆を用いて５００ｇ荷重で、硬度試験を行なった。柔らかい硬度の鉛筆から試験を行なって、同条件で繰り返し５回行なったうち、引っかき痕跡の見えない回数が３回以上である鉛筆硬度のうち最も硬度の高い鉛筆硬度をそのサンプルの硬度とした。

（４）スチールウール耐性
光拡散層塗設側について、ラビングテスターを用いてスチールウールによる擦り試験を行なった。こすり材としてスチールウール（日本スチールウール（株）製、グレードＮｏ．００００）を用い、制動距離（片道）１３cm、こすり速度１３cm/秒、荷重４．９N/cm²、接触面積１cm×１cm、こすり回数１０往復の条件で実施した。最外層の表面についた傷を目視観察して、下記４段階で評価した。
◎ ： 注意深く見ても、全く傷が見えない。
○ ： 注意深く見ると、僅かに傷が見える。
△ ： 弱い傷が見える。
× ： 一目見ただけで目立つ傷が見える。

（５）カール度
光学フィルム試料を２０ｃｍ×２０ｃｍのサイズに切り取り、４隅が浮き上がっている面を上向きにして、２５℃、６０％ＲＨの環境下で水平な机上に置いた。２４時間経過後に各４隅の机面からの浮き上がり距離を定規で測定し、４隅の平均をとった。平均値を以下の基準でクラス分けして評価した。
◎ ： ５ｍｍ未満
○ ： ５〜１０ｍｍ未満
○△ ： １０〜２０ｍｍ未満
△ ： ２０〜４０ｍｍ未満
× ： ４０ｍｍ以上

表５の結果より、樹脂粒子の粒径が５μm〜２０μmの範囲にあると防眩性と鉛筆硬度の両方が優れることがわかる。（試料１３０、１３１に対して試料１０１〜１２６、１３２〜１３６）また、圧縮強度が２kgf/mm²以上あると鉛筆硬度に優れることがわかる。（試料１２７〜１２９に対して試料１０１〜１２６、１３２〜１３６）さらに圧縮強度の大きい粒子を使って膜厚を厚くすると膜強度が向上する傾向があることもわかる（試料１０８）。
圧縮強度の高い大粒子を用いることと、さらに圧縮強度の高い大粒子を用いて膜厚も厚くして膜硬度を高めることは本発明によって初めて明らかになった。

［実施例２］
（画像表示装置の評価）
実施例１の試料１０１〜１２６、１３２〜１３６の光学フィルムを、画像表示装置（ＴＮ、ＳＴＮ、ＩＰＳ、ＶＡ、又はＯＣＢのモードの、透過型、反射型又は半透過型の液晶表示装置、及び、プラズマディスプレイパネル（ＰＤＰ）、エレクトロルミネッセンスディスプレイ（ＥＬＤ）、陰極管表示装置（ＣＲＴ））のディスプレイ面に装着した。本発明の光学フィルムを用いた画像表示装置は、反射防止性、表面硬度、耐擦傷性、防汚性に優れていた。
さらにまた、切断面の面積が１００μｍ²以上の凹は存在せず、画素サイズが１００ｐｐｉ（１００ピクセル／インチ：長さ１インチ当たりに１００画素がある）における画像表示装置におけるギラツキ故障の発生が無かった。

［実施例３］
（偏光板用保護フィルムの作製）
１．５Ｎの水酸化ナトリウム水溶液を５０℃に保温した鹸化液を調整した。さらに、０．０１Ｎの希硫酸水溶液を調製した。
実施例１の試料１０１〜１２６、１３２〜１３６の反射防止フィルムにおいて、低屈折率層（最外層）を有する側とは反対側の透明支持体の表面を、上記鹸化液を用いて鹸化処理した。
鹸化処理した透明支持体表面の水酸化ナトリウム水溶液を、水で十分に洗浄した後、上記の希硫酸水溶液で洗浄し、さらに希硫酸水溶液を水で十分に洗浄して、１００℃で十分に乾燥させた。
光学フィルムの低屈折率層（最外層）を有する側とは反対側の、鹸化処理した透明支持体の表面の水に対する接触角を評価したところ、４０°以下であった。このようにして、偏光板用保護フィルムを作製した。

（偏光板の作製）
特開２００２−８６５５４号公報に記載の偏向膜の一方の面に、ＰＶＡ（（株）クラレ製ＰＶＡ−１１７Ｈ）３％水溶液を接着剤として用いて、本発明の反射防止フィルム（偏光板用保護フィルム）の鹸化処理したトリアセチルセルロース面を貼り合わせた。さらに、偏光膜のもう片方の面には上記と同様にして鹸化処理したトリアセチルセルロースフィルム（富士写真フィルム（株）製フジタック、レターデーション値３．０ｎｍ）を同じ接着剤を用いて貼り合わせた。このようにして、本発明の偏光板を作製した。

（画像表示装置の評価）
このようにして作製した本発明の偏光板を装着したＴＮ、ＳＴＮ、ＩＰＳ、ＶＡ、ＯＣＢのモードの透過型、反射型、又は、半透過型の液晶表示装置は、反射防止性、防塵性、耐擦傷性、防汚性に優れていた。
なお、種々公知化されている偏向膜を用い、上記と同様に作製した偏光板においても同様の結果が得られた。

［実施例４］
（偏光板の作製）
光学補償フィルム（ワイドビューフィルムＳＡ １２Ｂ、富士写真フイルム（株）製）の、光学異方性層を有する側とは反対側の表面を実施例３と同様の条件で鹸化処理した。実施例３と同様にして、偏光膜の一方の面に、実施例３で作製した光学フィルム（偏光板用保護フィルム）の鹸化処理したトリアセチルセルロース面を貼り合わせた。さらに、偏光膜のもう一方の面に、鹸化処理した上記光学補償フィルムのトリアセチルセルロース面を同様にして貼り合わせた。

（画像表示装置の評価）
このようにして作製した本発明の偏光板を装着したＴＮ、ＳＴＮ、ＩＰＳ、ＶＡ、ＯＣＢのモードの透過型、反射型、又は、半透過型の液晶表示装置は、光学補償フィルムを用いていない偏光板を装着した液晶表示装置よりも明室でのコントラストに優れ、上下左右の視野角が広く、さらに、反射防止性、表面硬度、耐擦傷性、防汚性に優れていた。
特に、樹脂粒子の光散乱効果により、下方向の視野角が顕著に広がり、左右方向の黄色味が改善されていた。
なお、種々公知化されている偏向膜を用い、上記と同様に作製した偏光板においても同様の結果が得られた。

［実施例５］
（画像表示装置の評価）
実施例１の試料１０１〜１２６、１３２〜１３６の反射防止フィルムを、有機ＥＬ表示装置に装着したところ、反射防止性、防塵性、耐擦傷性、防汚性に優れていた。
また、偏光膜の一方の面に実施例４で作製した偏光板用保護フィルム、もう一方の面にλ／４板を有する偏光板を実施例５と同様にして作製した。上記の偏光板を有機ＥＬ表示装置に装着したところ、偏光板を貼ったガラス表面からの光の反射もカットされ、極めて視認性の高い表示装置が得られた。

Claims (10)

1. 透明支持体上に少なくとも一種の粒径が５μm〜２０μmの樹脂粒子とバインダーマトリックスを含有する光拡散層を有し、該樹脂粒子の圧縮強度が２〜１０kgf/mm²であることを特徴とする光学フィルム。
2. 樹脂粒子を、分散溶媒に浸漬させた後の膨潤率が２０体積％以下であることを特徴とする請求項１に記載の光学フィルム。
3. 該光拡散層の厚みが１０μm〜２０μmであることを特徴とする請求項１又は２に記載の光学フィルム。
4. 樹脂粒子が２官能以上の架橋性モノマーで架橋されており、架橋性モノマーの含有率が樹脂粒子を形成するための全モノマーに対して１５質量％以上であることを特徴とする請求項１〜３のいずれかに記載の光学フィルム。
5. 樹脂粒子と該バインダーマトリックスの屈折率の差が０〜０．１０であることを特徴とする請求項１〜４のいずれかに記載の光学フィルム。
6. 樹脂粒子が（メタ）アクリル酸エステル系モノマーを重合してなる樹脂粒子であることを特徴とする請求項１〜５のいずれかに記載の光学フィルム。
7. 該光拡散層がバインダーとして１分子中に２基以上のエポキシ基を有するエポキシ系樹脂を全バインダーに対して２０〜１００質量％含有してなることを特徴とする請求項１〜６のいずれかに記載の光学フィルム。
8. 請求項１〜７のいずれかに記載の光学フィルムが反射防止フィルムであることを特徴とする反射防止フィルム。
9. 請求項８に記載の反射防止フィルムが偏光膜の２枚の保護フィルムの少なくとも一方に用いられていることを特徴とする偏光板。
10. 請求項１〜７のいずれかに記載の光学フィルム、請求項８に記載の反射防止フィルム、または請求項９に記載の偏光板が画像表示面に配置されていることを特徴とする画像表示装置。