JP2007144894A

JP2007144894A - 熱転写記録システム

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Publication number: JP2007144894A
Application number: JP2005344680A
Authority: JP
Inventors: Tatsuji Shinohara; 竜児篠原; Kazuma Takeno; 数馬武野; Yoshihisa Tsukada; 芳久塚田; Takashi Mikoshiba; 尚御子柴; Yoshihiko Fujie; 賀彦藤江
Original assignee: Fujifilm Corp
Current assignee: Fujifilm Corp
Priority date: 2005-11-29
Filing date: 2005-11-29
Publication date: 2007-06-14

Abstract

【課題】サーマルヘッドのグレーズの温度を正確に推測してこれに基づき温度制御を行って印画品質を向上させるようにするとともに絵柄による温度変動を抑えるようにしたサーマルプリンタを用いた、高速処理しても中周期的な濃度変動を抑制しうる熱転写記録システムを提供する。
【解決手段】ライン状に設けた各発熱素子を画像データに基づき駆動して画像を感熱転写受像シートに記録するサーマルプリンタを用いる熱転写記録システムであって、前記サーマルプリンタにより各ラインを記録する際のサーマルヘッドのライン記録時の温度変動を画像データから求め、この温度変動を抑えるようにサーマルヘッドの発熱量を制御し、かつ、前記感熱転写受像シートの受容層に熱可塑性樹脂を含む熱転写記録システム。
【選択図】なし

Description

本発明は熱転写記録システムに関し、特にサーマルヘッドの温度と環境温度とを検出してサーマルヘッドの温度変動を管理するサーマルプリンタを用いた熱転写記録システムに関するものである。

サーマルプリンタでは、サーマルヘッドの温度を検出して、この検出信号に基づきサーマルヘッドに印加される電圧を制御して、温度変動を抑えるようにしている。例えば、特許文献１に示されるように、サーマルヘッドの温度が高くなるとサーマルヘッドの駆動電圧を低くし、逆に温度が低くなるとサーマルヘッドの駆動電圧を高くする。これによって、サーマルヘッドの温度が変化してもヘッドの印加電圧が変わることで熱エネルギー変動が抑えられ、所定の階調に応じた発熱温度が得られるようになる。

また、サーマルヘッドに印加される熱エネルギーは、インクリボン（インクシート），記録紙（感熱受像シート）及びプラテンドラム等に拡散されるため、サーマルヘッドの温度が同じであっても、環境温度の変化によってインクリボンや記録紙に加えられる熱エネルギーが変動し、印画濃度が変化してしまうという問題がある。このため、例えば特許文献２に示されるように、サーマルヘッドの温度を検出するための第１温度検出手段の他に、環境温度を検出する第２温度検出手段を設けて、環境温度変化分も加味した制御を行うようにしている。

しかしながら、図９に示すように、サーマルヘッド２には、抵抗層３及び電極４，５からなる発熱素子６を駆動して一定の熱量を与えても、グレーズ７の温度によって発熱素子６の温度が変動し、一定の濃度が得られないという性質がある。また、サーマルヘッド２の温度を検出するためのサーミスタからなるヘッド温度検出器８は、サーマルヘッド２の製造上の問題から一般的にグレーズ７と接触するように配置することは困難であり、間にセラミック板９やアルミニウム板１０などからなる基板１１が介在している。このため、ヘッド温度検出器８によってグレーズ７の温度を直接的に検出することができないという問題がある。なお、基板１１には放熱板１３が取り付けられている。

したがって、従来のものは、サーマルヘッド２のヘッド温度検出器８の出力をグレーズ７の温度データであるかのように扱い、その長周期の温度変動を打ち消すように、サーマルヘッド２の駆動電圧を制御して、サーマルヘッド２に印加される熱量を制御し、所定の画像データにより所定の濃度を得るようにしていた。しかしながら、このような制御方法では、グレーズ７の温度によって熱量を制御したことにはならないため、目標とする濃度が得られないという問題がある。
なお、長周期とは、同じ画像を複数枚印画したときの１枚目とＮ枚目との期間や、１枚内での印画開始から印画終了までの期間等を周期とするものをいい、これら長周期の温度変動によって１枚目とＮ枚目との間や、１枚内においても、濃度変動が発生する。また、中周期とは、絵柄による同一画像内の部分的サーマルヘッドの温度変動であって、例えば、高濃度の画像領域のすぐ隣に低濃度の画像領域を記録するような場合に、低濃度域に高濃度域記録時の高いサーマルヘッド温度が影響して発生する温度変動の周期をいう。同一画像内に現れることから、同じ画像を複数枚印画する場合の各プリント間の濃度変動、１枚のプリント内における印画開始端と印画終了端との間の濃度変動（２つをあわせて長周期の濃度変動）よりも周期が必然的に短くなる。

また、印画する絵柄によってサーマルヘッドへの印加熱エネルギーが大きく変化し、これはグレーズの温度変動となって現れる。このため、絵柄に基づく温度変動によって印画濃度が変化してしまうという問題もある。

更に、各ラインを記録する際には、周辺の発熱素子の影響を受けるため、目的とする所定の温度からずれてしまうことがあり、この場合には濃度変動となって印画に現れてしまうという問題がある。
特開昭６０−２４０２７１号公報特開平２−１６２０６０号公報

本発明は上記課題を解決するものであり、周辺の発熱素子の影響を排除するとともに、サーマルヘッドのグレーズの温度を正確に推測してこれに基づき温度制御を行って印画品質を向上させるようにし、しかも絵柄による温度変動を抑えるようにしたサーマルプリンタを用いた、高速処理しても中周期的な濃度変動を抑制しうる熱転写記録システムを提供することを目的とする。

本発明の課題は、下記の手段によって解決された。
［１］ライン状に設けた各発熱素子を画像データに基づき駆動して画像を記録材料に記録するサーマルプリンタを用いる熱転写記録システムであって、前記サーマルプリンタにより各ラインを記録する際に周辺の発熱素子に起因する温度変動を抑えるように各発熱素子の発熱量を制御し、かつ、前記感熱転写受像シートの受容層に熱可塑性樹脂を含むことを特徴とする熱転写記録システム。
［２］前記感熱転写受像シートの受容層に含まれる熱可塑性樹脂の少なくとも１種がポリエステル及び／又はポリカーボネート系ポリマーであることを特徴とする［１］項に記載の熱転写記録システム。

［３］前記感熱転写受像シートと重ね合わせて使用されるインクシートに、下記一般式（１）又は（３）で表される少なくとも１種の色素を含むことを特徴とする［２］項に記載の熱転写記録システム。

（一般式（１）中、Ｒ¹、Ｒ²およびＲ³は各々独立に水素原子または置換基を表す。Ａ¹は結合している両端の炭素原子と共にヘテロ環を形成する原子団を表す。Ｂ¹は結合している両端の炭素原子、窒素原子と共にヘテロ環を形成する原子団を表す。）

（一般式（３）中、Ｒ¹¹、Ｒ¹³およびＲ¹⁴は各々独立に水素原子または置換基を表す。Ｒ¹²は置換基を表す。Ａ²は結合している両端の炭素原子と共にヘテロ環を形成する原子団を表す。ｎ３は０〜４の整数を表す。ここで、ｎ３が２〜４の整数を表すとき複数のＲ¹²は同じでも異なっていてもよい。）

［４］前記感熱転写受像シートと重ね合わせて使用されるインクシートに、下記一般式（４）又は（５）で表される少なくとも１種の色素を含むことを特徴とする［２］又は［３］項に記載の熱転写記録システム。

（一般式（４）中、Ｄはジアゾニウム塩由来の芳香環基または芳香族へテロ環基を表す。Ｒ¹⁵は置換基を表し、Ｒ¹⁶およびＲ¹⁷は各々独立に水素原子または置換基を表す。ｎ４は０〜４の整数を表す。ここで、ｎ４が２〜４の整数を表すとき複数のＲ¹⁵は同じでも異なっていてもよい。）

（一般式（５）中、Ａ³は結合している両端の炭素原子と共にヘテロ環を形成する原子団を表す。ＥＷＧ¹は電子吸引基を表す。Ｒ¹⁸は置換基を表し、Ｒ¹⁹およびＲ²⁰は各々独立に水素原子または置換基を表す。ｎ５は０〜４の整数を表す。ここで、ｎ５が２〜４の整数を表すとき複数のＲ¹⁸は同じでも異なっていてもよい。）

［５］前記感熱転写受像シートと重ね合わせて使用されるインクシートに、下記一般式（６）で表される少なくとも１種の色素を含むことを特徴とする［２］〜［４］のいずれか１項に記載の熱転写記録システム。

（一般式（６）中、ＥＷＧ²は電子吸引基を表す。Ｒ²¹およびＲ²⁴は各々独立に置換基を表し、Ｒ²²、Ｒ²³およびＲ²⁵は各々独立に水素原子または置換基を表す。ｎ６およびｎ７は各々独立に０〜４の整数を表す。ここで、ｎ６が２〜４の整数を表すとき又はｎ７が２〜４の整数を表すとき、複数のＲ²¹又は複数のＲ²⁴は各々同じでも異なっていてもよい。）
［６］前記感熱転写受像シートの受容層に含まれる熱可塑性樹脂の少なくとも１種が塩化ビニル系ポリマーであることを特徴とする［１］項に記載の熱転写記録システム。

［７］前記感熱転写受像シートと重ね合わせて使用されるインクシートに、下記一般式（７）又は（８）で表される少なくとも１種の色素を含むことを特徴とする［６］項に記載の熱転写記録システム。

（一般式（７）中、Ｒ⁵¹およびＲ⁵²は各々独立に置換基を表す。ｎ８は０〜５の整数を表す。ｎ９は０〜４の整数を表す。ここで、ｎ８が２〜５の整数を表すとき又はｎ９が２〜４の整数を表すとき、複数のＲ⁵¹又は複数のＲ⁵²は各々同じでも異なっていてもよい。）

（一般式（８）中、Ｒ⁶¹は置換基を表し、Ｒ⁶²、Ｒ⁶³およびＲ⁶⁴は各々独立に水素原子または置換基を表す。ｎ１０は０〜４の整数を表す。ここで、ｎ１０が２〜４の整数を表すとき複数のＲ⁶¹は同じでも異なっていてもよい。）

［８］前記感熱転写受像シートと重ね合わせて使用されるインクシートに、下記一般式（９）、（１０）又は（１１）のいずれかで表される少なくとも１種の色素を含むことを特徴とする［６］又は［７］項に記載の熱転写記録システム。

（一般式（９）中、Ｒ⁷¹およびＲ⁷³は各々独立に水素原子または置換基を表す。Ｒ⁷²およびＲ⁷⁴は各々独立に置換基を表す。ｎ１１は０〜４の整数を表す。ｎ１２は０〜２の整数を表す。ここで、ｎ１１が２〜４の整数を表すとき又はｎ１２が２を表すとき、複数のＲ⁷⁴又は複数のＲ⁷²は各々同じでも異なっていてもよい。）

（一般式（１０）中、Ｒ⁸¹は水素原子または置換基を表す。Ｒ⁸²およびＲ⁸⁴は各々独立に置換基を表す。ｎ１３は０〜４の整数を表す。ｎ１４は０〜２の整数を表す。ここで、ｎ１３が２〜４の整数を表すとき又はｎ１４が２を表すとき、複数のＲ⁸⁴又は複数のＲ⁸²は各々同じでも異なっていてもよい。）

（一般式（１１）中、Ｒ⁹¹は水素原子または置換基を表す。Ｒ⁹²は置換基を表す。Ｒ⁹³およびＲ⁹⁴は各々独立に水素原子または置換基を表す。ｎ１５は０〜２の整数を表す。ここで、ｎ１５が２を表すとき複数のＲ⁹²は同じでも異なっていてもよい。Ｚ¹およびＺ²は、どちら一方が＝Ｎ−であり、他方が＝Ｃ(Ｒ⁹⁵)−を表す。Ｚ³およびＺ⁴は各々独立に＝Ｎ−または＝Ｃ(Ｒ⁹⁶)−を表す。ここで、Ｒ⁹⁵およびＲ⁹⁶は各々独立に水素原子または置換基を表す。）

［９］前記感熱転写受像シートと重ね合わせて使用されるインクシートに、下記一般式（１２）又は（１３）で表される少なくとも１種の色素を含むことを特徴とする［６］〜［８］のいずれか１項に記載の熱転写記録システム。

（一般式（１２）中、Ｒ¹⁰¹およびＲ¹⁰²は各々独立に置換基を表す。Ｒ¹⁰³およびＲ¹⁰⁴は各々独立に水素原子または置換基を表す。ｎ１６およびｎ１７は各々独立に０〜４の整数を表す。ここで、ｎ１６が２〜４の整数を表すとき又はｎ１７が２〜４の整数を表すとき、複数のＲ¹⁰¹又は複数のＲ¹⁰²は各々同じでも異なっていてもよい。）

（一般式（１３）中、Ｒ¹¹¹およびＲ¹¹³は各々独立に水素原子または置換基を表す。Ｒ¹¹²およびＲ¹¹⁴は各々独立に置換基を表す。ｎ１８は０〜４の整数を表す。ｎ１９は０〜２の整数を表す。ここで、ｎ１８が２〜４の整数を表すとき又はｎ１９が２を表すとき、複数のＲ¹¹⁴又は複数のＲ¹¹²は各々同じでも異なっていてもよい。）

［１０］前記感熱転写受像シートの受容層にフッ素系離型剤化合物またはシリコーン系離型剤化合物を含むことを特徴とする［２］〜［９］のいずれか１項に記載の熱転写記録システム。
［１１］前記サーマルプリンタに設けられたサーマルヘッドの発熱量の制御が、画像データに基づく階調表現駆動パルスの幅又は個数を変更して行われることを特徴とする［１］〜［１０］のいずれか１項に記載の熱転写記録システム。
［１２］前記サーマルプリンタに設けられたサーマルヘッドの発熱量の制御が、バイアスデータに基づくバイアス駆動パルスの幅又は個数を変更して行われることを特徴とする［１］〜［１１］のいずれか１項に記載の熱転写記録システム。
［１３］前記サーマルヘッドに取り付けられサーマルヘッドの温度を検出する第１の温度検出手段と、前記サーマルヘッドが取り付けられる筐体内の温度を検出する第２の温度検出手段とを設け、前記サーマルヘッドを、基板と、基板に形成したグレーズと、グレーズに形成した発熱素子と、基板に取り付けた前記第１の温度検出手段とから構成され、基板から第１温度検出手段までの熱抵抗と大気の熱抵抗との関係から、第１温度検出手段及び第２温度検出手段の温度信号に基づきグレーズ温度を推測し、この推測したグレーズ温度の変動を抑えるようにサーマルヘッドの発熱量を制御するとともに、各ラインを記録する際のサーマルヘッドのライン記録時の温度変動を画像データから求め、この温度変動を抑えるようにサーマルヘッドの発熱量を制御することを特徴とする［１１］又は［１２］項に記載の熱転写記録システム。
［１４］前記の感熱転写受像シートの受容層が水を主たる媒体として塗布されて形成されることを特徴とする［１］〜［１３］のいずれか１項に記載の熱転写記録システム。

本発明によれば、各ラインを記録する際に周辺の発熱素子に起因する短周期の温度変動を抑えるように各発熱素子の発熱量を制御したから、ヘッド温度検出器で検出することのできない隣接発熱素子に起因する短い周期の温度変動を抑えることができ、より一層濃度むらのない印画を行うことができる。特に、特定の感熱受像シートを用いることにより、高速処理を行っても中周期的な濃度変動を抑制することができ、高濃度転写が可能となる。特定の感熱受像シートと特定のインクシートとを併用することで、さらに中周期濃度変動を抑制することができる。

また、各ラインを記録する際のサーマルヘッドのライン記録時の温度変動を前のラインを記録する画像データから求め、この中周期的な温度変動を抑えるようにサーマルヘッドの発熱量を制御したから、絵柄によるサーマルヘッドの中周期的な温度変動を抑えることができる。したがって、各ライン記録時の画像データの影響が次のラインの記録時に現れることのないようにすることができ、尾引き等の発生を抑えることができる。

また、サーマルヘッドを、基板と、基板に形成したグレーズと、グレーズに形成した発熱素子と、基板に取り付けた前記第１の温度検出手段とから構成し、基板から第１温度検出手段までの熱抵抗と大気の熱抵抗との関係から、第１温度検出手段及び第２温度検出手段の温度信号に基づきグレーズ温度を推測したから、サーマルヘッドの周辺の温度に関わりなく、サーマルヘッドの発熱素子の表面温度と近似値であるグレーズ温度をほぼ正確に把握することができる。したがって、画像データに忠実な発熱制御を行うことができ、印画品質を向上することができる。すなわち、サーマルヘッドの構造上、サーミスタ等の温度検出手段をグレーズに直接に取り付けることができないため、従来は、アルミニウム板等の基板の温度をサーマルヘッドの発熱素子の表面温度として用いていた。このため、グレーズの温度によって発熱素子の発熱量を制御したことにならず、目標とする濃度が得られなかったが、これを解消することができる。

また、推測したグレーズ温度の長周期的な変動を抑えるようにサーマルヘッドの発熱量を制御したから、同じ画像を複数枚印画する場合の各プリント間の濃度変動が抑えられるとともに、１枚のプリント内における印画開始端と印画終了端との間の濃度変動（シェーディング）が抑えられ、印画品質を向上することができる。

また、基板から第１温度検出手段までの熱抵抗をｒ_AL、放熱板の熱抵抗をｒ_F、大気の熱抵抗をｒ_a、第１温度検出手段付近の温度をＴ_AL、第２温度検出手段付近の温度（環境温度）をＴ_aとしたときに、数式１により、グレーズ温度Ｔgを求めたから、精度よくグレーズの温度を推測することができる。

また、基板から第１温度検出手段までの熱容量をＣ_ALとしたときに、数式２により絵柄による熱量変動分の補正量を求めたから、精度よく絵柄による濃度変動を抑えることができる。

また、サーマルヘッドの発熱量の制御をヘッド駆動電圧を制御して行うから、簡単にグレーズ温度の変動を抑えることができるようになる。また、サーマルヘッドの発熱量の制御を、バイアスデータに基づくバイアスパルスや、画像データに基づく階調表現駆動パルスの幅又は個数を変更して行うから、発熱素子の温度制御をより一層きめ細かく行うことができる。

以下、本発明について詳細に説明する。
本発明の熱転写記録システムに用いられるサーマルプリンタにおいて、各ラインを記録する際に周辺の発熱素子に起因する短周期的な温度変動を抑えるように各発熱素子の発熱量が制御される。また、各ラインを記録する際のサーマルヘッドのライン記録時の温度変動が画像データから求められる。この中周期的な温度変動を抑えるようにサーマルヘッドの発熱量が制御される。更に、基板から第１温度検出手段までの熱抵抗と大気の熱抵抗との関係から、第１温度検出手段及び第２温度検出手段の温度信号に基づき定常的なグレーズ温度が推測される。この推測したグレーズ温度に基づきその長周期的な温度変動が抑えられるように、サーマルヘッドの発熱量が制御される。そして、受容層に熱可塑性樹脂を含む特定の感熱転写受像シートを用いることで、中周期的な濃度変動を抑制しつつ高速処理することができる。

まず、本発明の熱転写記録システムに用いられるサーマルプリンタの好ましい一実施態様について、添付の図面に基づいて詳細に説明する。なお、各図の説明において同一の要素には同一の符号を付す。
本発明を実施したモノクロの感熱プリンタの概略を示す図３において、プラテンドラム２０は、パルスモータ２１で駆動される回転軸２２に取り付けられており、プリント時に矢線方向に回転する。このプラテンドラム２０の外周には感熱記録材料（感熱受像シート）２３が巻き付けられ、その先端部がクランパ２４で固定されている。クランパ２４はカム機構２５より開閉制御されるようになっている。これらプラテンドラム２０，パルスモータ２１，クランパ２４，カム機構２５，及び図示しない搬送ローラ対により記録材料搬送部２６が構成される。また、プラテンドラム２０の外周にはサーマルヘッド２が配置されている。更に、筐体２９内には、筐体２９内の環境温度を検出するための環境温度検出器３６が配置されている。なお、カラー記録を行う場合には、更にマゼンタ定着用紫外線ランプ，イエロー定着用紫外線ランプが、プラテンドラム２０の外周に順に配置される。

図３に示すように、サーマルヘッド２の下面には発熱素子アレイ２７が設けられている。この発熱素子アレイ２７には、多数の発熱素子６（図９参照）が主走査方向にライン状に形成されている。各発熱素子は抵抗素子から構成されており、この発熱素子は、１画素を熱記録する際に、発色の直前まで加熱するバイアス熱エネルギーと、発色濃度に応じた階調表現熱エネルギーとを感熱記録材料２３に与える。

図１は感熱プリンタの電気回路を示すものである。ビデオカメラ，ビデオデッキ，テレビゲーム機等からの画像信号は画像入力部３０を介して画像処理部３１に入力される。画像処理部３１はＡ／Ｄ変換や階調補正を行った後に、フレームメモリ３２に１フレーム分の画像データを書き込む。

システムコントローラ３３はマイクロコンピュータから構成されており、記録材料搬送部２６やプリント部２８をシーケンス制御して、画像データに基づき感熱記録材料２３にモノクロの中間調画像を記録してハードコピィを作成する。

図２は、図９のサーマルヘッド２の自動制御系における等価回路を示している。図２において、
Ｔ_e：発熱素子６の表面温度〔℃〕
Ｔ_g：グレーズ７の温度〔℃〕
Ｔ_AL：ヘッド温度検出器（第１温度検出手段）８付近の温度（基板１１の温度）〔℃〕
Ｔ_a：環境温度検出器（第２温度検出手段）３６（図１参照）付近の温度（環境温度）〔℃〕
ｒ_g：グレーズ７の熱抵抗〔℃／kcal／min〕
ｒ_AL：セラミック板９からアルミニウム板１０を介しヘッド温度検出器８までの熱抵抗〔℃／kcal／min〕
ｒ_F：放熱板１３の熱抵抗〔℃／kcal／min〕
ｒ_a：大気の熱抵抗〔℃／kcal／min〕
Ｃ_g：グレーズ７の熱容量〔kcal／℃〕
Ｃ_AL：セラミック板９からアルミニウム板１０を介しヘッド温度検出器８までの熱容量〔kcal／℃〕
Ｅ_a：筐体内の大気による熱源であり、温度Ｔａを持っている〔℃〕

ここで、アルミニウム板１０に比べてグレーズ７は微小であり、ｒ_g・Ｃ_g＜＜ｒ_AL・Ｃ_ALとみなせるから、グレーズ７の温度Ｔ_gは次式により求めることができる。
（数式１）Ｔ_g＝｛（ｒ_AL＋ｒ_F＋ｒ_a）・（Ｔ_AL−Ｔ_a）／（ｒ_F＋ｒ_a）｝＋Ｔ_a

グレーズ７の温度Ｔ_gは蓄熱すなわちサーマルヘッド２の駆動状態によって変わり、このグレーズ温度Ｔ_gは数式１によってヘッド温度検出器８，環境温度検出器３６の検出温度から推測することができる。したがって、この推測したグレーズ温度Ｔ_gを一定にするように、グレーズ温度Ｔ_gの変動をサーマルヘッド２の駆動電圧の中心電圧指令値に加えることで、サーマルヘッド２の長周期の温度変動が抑えられる。これにより長周期の温度変動が濃度変化となって印画に現れないようにすることができる。なお、サーマルヘッド２の基板１１の構成が変わることにより、それに対応してグレーズ温度Ｔ_gを求める数式も変形される。

図４は、サーマルヘッド２の駆動電圧を自動制御する系のブロック図である。システムコントローラ３３は各温度検出器８，３６からの温度検出信号Ｔ_AL，Ｔ_aに基づき、前記数式１によりグレーズ温度Ｔ_gの長周期的な変動を検出し、この変動を無くすように、中心電圧指令値に対する補正電圧値を求める。

また、時間当たりの熱量データＱ0を画像データから求め、この時間当たりの熱量データＱ0から数式２により絵柄による温度変動分を補正する補正電圧値を求める。ヘッド温度検出器８の温度変動に現れるような熱量Ｑの変動ΔＱは、アルミニウム板１０に比べてグレーズ７は微小であり、ｒ_g・Ｃ_g＜＜ｒ_AL1・Ｃ_AL1とみなせるから、伝達関数表示すると以下のようになる。この数式２により、温度検出器に現れない中周期の熱エネルギー変動を１ライン分の総熱エネルギー変動から推測することができる。

（数式２） ΔＱ＝｛（Ｓ・ｒ_AL・Ｃ_AL）／（１＋Ｓ・ｒ_AL・Ｃ_AL）｝・Ｑ0
ただし、ｒ_AL：基板からヘッド温度検出器までの熱抵抗〔℃／kcal／min〕、Ｃ_AL：基板からヘッド温度検出器までの熱容量〔kcal／℃〕である。

前記時間当たりの熱量データＱ０は、各ラインの記録に際し、前のラインの画像データに基づく総熱量、総熱量を記録素子の個数で除した平均値、一定以上の濃度となる画像データで駆動された発熱素子の個数のいずれかを用いることが好ましい。また、前記サーマルヘッドが取り付けられる環境温度を環境温度検出器により検出し、前記ヘッド温度検出器と環境温度検出器とによる検出温度に基づきグレーズ温度を下記数式３により推定することが好ましい。
（数式３）Ｔ_g＝｛（ｒ_AL＋ｒ_F＋ｒ_a）・（Ｔ_AL−Ｔ_a）／（ｒ_F＋ｒ_a）｝＋Ｔ_a
ただし、Ｔ_g：グレーズの温度〔℃〕、ｒ_F：放熱板の熱抵抗〔℃／kcal／min〕、ｒ_a：大気の熱抵抗〔℃／kcal／min〕、Ｔ_AL：ヘッド温度検出器付近の温度〔℃〕、Ｔ_a：環境温度検出器付近の温度〔℃〕である。

時間当たりの熱量データＱ0は、各ラインの記録に際し、前のラインの画像データＧ_i（ｉは１〜ｎ（ｎはサーマルヘッドの発熱素子の総数））から数式４により求める。

（数式４）Ｑ0＝ΣＧ_i
なお、熱量データＱ0は数式４のような１ライン分記録時の総熱量の他に、数式４をｎで除して求めた平均値を用いてもよい。更には、ある程度以上の濃度となる画像データで駆動される発熱素子の個数を用いてもよい。

また、周辺発熱素子の熱量データＱ1を画像データＧ_iから求め、この周辺発熱素子の熱量データＱ1から数式５により周辺発熱素子の影響による温度変動分を補正する画像補正データを求める。周辺発熱素子の影響による温度変動分は伝達関数表示すると以下のようになる。
（数式５） ΔＱ1＝｛１／（１＋Ｓ・ｒ_g・Ｃ_g）｝・Ｑ1

周辺発熱素子の熱量データＱ1は、各ラインの記録に際し、ｍ番目の発熱素子の場合に、両隣の発熱素子ｍ−１，ｍ＋１番目の発熱素子の画像データの和を用いる。なお、この周辺発熱素子の熱量データは、両隣１個ずつの画像データの和の他に、両隣複数個ずつの画像データを用いてもよい。この場合には、求める発熱素子から離れる画像データほど重み付けの係数を低くするとよい。更には、熱量データＱ1は隣接する発熱素子の画像データの和を用いる他に、その平均を用いてもよい。

以上のようにして求めたこれら長周期的な温度変動を抑えるための電圧補正値と、絵柄によって現れる中周期的な温度変動を抑えるための電圧補正値とを、中心電圧指令値に加算することにより、サーマルヘッドの駆動電圧指令値を求める。得られた駆動電圧指令値はアンプ４０で増幅されて駆動電圧制御部３７に送られる。なお、駆動電圧指令値の算出や増幅はシステムコントローラ３３によって行われる。具体的には、システムコントローラ３３は、各温度検出器８，３６からの温度検出信号Ｔ_AL，Ｔ_aをＡ／Ｄ変換器４１でデジタル化した後に、ＣＰＵ４２で数式１及び数式２の演算処理を行い駆動電圧指令値を算出する。この後、駆動電圧指令値をＤ／Ａ変換器４３でアナログ化して、駆動電圧制御部３７に送る。補正電圧値は数式１又は２に基づきその都度算出する他に、各温度信号の変化に応じて予め補正電圧値を算出しておき、これをルックアップテーブルデータとして記憶してもよく、この場合にはその都度演算を行う必要がなく迅速に補正電圧値を求めることができる。

また、隣接する発熱素子の駆動データによる影響を抑えるための画像データ補正値は、画像データから引かれて、これが修正画像データとして、プリントコントローラに送られる。これにより、隣接する発熱素子の影響を排除することができる。

駆動電圧指令値信号は駆動電圧制御部３７の電圧可変回路４５に送られる。電圧可変回路４５は駆動電圧指令値信号に基づきヘッド電源回路４６の発熱素子駆動電圧を変える。これにより、サーマルヘッド２の長及び中周期的な温度変動が抑えられ、これに起因する印画上での濃度変動が少なくなる。すなわち、発熱素子６の表面温度とグレーズ７の温度とはほぼ同じであり、このグレーズ温度Ｔ_gに基づき発熱素子６の駆動電圧を制御することにより、各発熱素子６の長及び中周期的な温度変動が抑えられる。

図５に示すように、プリントコントローラ５０はラインメモリ５０ａを備えており、ラインメモリ５０ａに書き込まれた１ライン分の画像データを順に読み出して、これら画像データと比較データとをその都度比較してシリアルな階調駆動データを発生させる。この駆動データは記録する場合に「Ｈ」となり、記録しない場合に「Ｌ」となる。また、この階調駆動データを作成する前に、１ライン分のバイアスデータと比較データとを比較してこの比較データに基づきシリアルなバイアス駆動データを発生させる。このようなシリアルな駆動データはサーマルヘッド駆動部３８に送られる。なお、比較データとの比較によりバイアス及び階調駆動データを発生させる方法及び装置については、特開平７−１３７３２０号，同７−１３７３２１号等に詳しく説明されている。

サーマルヘッド駆動部３８は、シリアルな駆動データをクロック信号に基づきシフトレジスタ５２でシフトしてパラレル信号に変換する。シフトレジスタ５２でパラレルに変換された駆動データはラッチ信号に同期してラッチアレイ５３にラッチされる。ＡＮＤゲートアレイ５４は、プリントコントローラ５０内のストローブ信号発生回路５１からストローブ信号が入力されている期間内に、駆動データが「Ｈ」の場合に「Ｈ」の信号を出力する。ＡＮＤゲートアレイ５４の各出力端子には、トランジスタ５５₁〜５５_nが接続されている。これらのトランジスタ５５₁〜５５_nはＡＮＤゲートアレイ５４の出力が「Ｈ」の場合にＯＮとなる。トランジスタ５５₁〜５５_nには、各発熱素子６₁〜６_nが接続されており、これにより画像データに対応する濃度となるように各発熱素子６₁〜６_nが駆動される。この後、図３に示すように、記録材料搬送部２６により、プラテンドラム２０を所定量だけ間欠回転して感熱記録材料２３を１ライン分送り、以下同様にしてプリント部２８及び記録材料搬送部２６により次々と各ラインが熱記録される。

次に、本実施態様の感熱プリンタの作用を説明する。図３に示すように、給紙時には、プラテンドラム２０はクランパ２４がほぼ垂直となった状態のホームポジションで停止している。また、クランパ２４が開いた状態にされている。この状態で感熱記録材料２３がプラテンドラム２０に送られ、その先端がクランパ２４を通過するとクランパ２４が閉じられ、この後プラテンドラム２０が回転を開始する。これにより、プラテンドラム２０の外周に感熱記録材料２３が巻き付けられる。

システムコントローラ３３は感熱記録材料２３の記録開始位置にサーマルヘッド２の各発熱素子６が位置すると熱記録を開始する。先ず、プリントコントローラ５０はラインメモリ５０ａの画像データに基づき各発熱素子６₁〜６_nの駆動データを発生させ、これをサーマルヘッド駆動部３８に送る。サーマルヘッド駆動部３８は、この駆動データに基づき各発熱素子６₁〜６_nを駆動する。なお、階調表現加熱の前に、発色直前の温度になるようにバイアス加熱が行われる。これにより、画像データに対応する濃度で１ライン分の画像が感熱記録される。以下、同様にして、次々と各ラインの画像が記録される。感熱記録が終了すると、プラテンドラム２０が逆転する。このプラテンドラム２０の逆転により、感熱記録材料２３の後端が図示しない分離爪によって給排紙通路に案内され、感熱記録済みの記録材料は排紙トレイに排出される。

各ラインの画像記録によりサーマルヘッド２のグレーズ温度Ｔgが変動すると、これが各温度検出器８，３６からの出力信号に基づき検出され、これに基づきサーマルヘッド２の駆動電圧指令値が求められ、これによって駆動電圧制御部３７の電圧可変回路４５は発熱素子６への駆動電圧を変更する。これによって、長周期的な温度変動を抑えるように発熱素子６の駆動電圧が制御されるため、複数枚の印画を行う場合の各枚毎の濃度変動や、１枚内のゆるやかな濃度変動を抑えることができる。

また、前のライン記録時に用いた画像データから時間当たりの熱量Ｑ0が求められ、これに基づき数式２により絵柄によるサーマルヘッドの温度変動を抑える駆動電圧指令値が求められ、これによって駆動電圧制御部３７の電圧可変回路４５は発熱素子６への駆動電圧を変更する。これによって、絵柄による中周期的な温度変動を抑えるように発熱素子６の駆動電圧が制御されるため、各ライン毎の濃度変動が抑えられ、尾引き等の発生を無くすことができる。

更に、プリントコントローラ５０のラインメモリ５０ａに書き込まれる画像データは、予め隣接する発熱素子による影響を受けることがないように画像データに基づき数式４により修正されている。したがって、修正画像データによって各発熱素子が駆動されるため、周辺の発熱素子に起因する温度変動を抑えることができる。

図６は、時間当たりの熱量データＱ0に基づき中周期的な温度変動を抑える際に、駆動電圧を変更する代わりに、画像データに基づく階調表現駆動パルスの個数を変更するようにした実施態様のブロック図を示す。この場合には、時間当たりの熱量データＱ0に基づき数式２により、画像データから求められた階調表現駆動パルスの個数に対する補正パルス数を算出する。また、周辺発熱素子の熱量データＱ1に基づき数式４により補正パルス数を算出する。そして、これらを加算し、これを画像データから得られた階調表現駆動パルスの個数から減じて、実際のパルス総数を算出し、これに基づき階調表現記録する。

図７は、長周期，中周期，短周期の各温度変動を階調表現駆動パルスの個数を変更することにより抑えるようにした実施態様を示す。この場合には、画像データや各温度検出器から得られた温度信号に基づき数式１，数式２，数式４により階調表現駆動パルスの補正パルス数を算出する。そして、これを画像データから得られた階調表現駆動パルスの個数から減じて、実際のパルス総数を算出し、これに基づき階調表現記録する。なお、補正パルス数は数式１，数式２，数式４に基づきその都度算出する他に、各温度信号の変化に応じて予め補正パルス数を算出しておき、これをルックアップテーブルデータとして記憶してもよい。

なお、階調表現駆動パルスの個数を変更することにより温度変動を抑える代わりに、階調表現駆動パルスの幅を変えることにより温度変動を抑えるようにしてもよい。この場合には、図５に示すストローブ信号発生回路５１によりストローブ信号の幅を変えて行う。

階調表現駆動パルスの個数や幅を変える他に、図７に示すように、バイアスパルスの個数を変えることで、サーマルヘッドの長周期及び中周期的な温度変動を抑えるようにしてもよい。また、１個のバイアスパルスを用いる場合にはその幅を変更してもよい。更に、多数のバイアスパルスを用いる場合にそのストローブ信号を温度変動に応じて変化させることにより、各バイアスパルスの幅を変更してもよい。

図８は、階調表現駆動パルスの個数を制御する代わりに、バイアスパルスの個数を制御して、長周期，中周期，短周期の各温度変動を階調表現駆動パルスの個数を変更することにより抑えるようにした実施態様を示す。この場合にも、画像データや各温度検出器から得られた温度信号に基づき数式１，数式２，数式４によりバイアスパルスの補正パルス数を算出する。そして、これを基本となるバイアスパルス数から減じて、実際のパルス総数を算出し、これに基づきバイアス加熱する。

上記実施態様では、モノクロタイプの感熱プリンタに本発明を実施したものであるが、この他にカラー感熱プリンタや、他の昇華型や溶融型の熱転写プリンタに実施してもよい。カラー感熱プリンタの場合には、周知のように、例えばイエロー画像を熱記録した後にこれを光定着させ、次にマゼンタ画像を熱記録した後にこれを光定着させ、最後にシアン画像を熱記録する。この場合には、各色の記録時のサーマルヘッドの温度変動が抑えられるため、色むらの発生を抑えることができる。また、ラインプリンタに限定されることなくシリアルプリンタに本発明を実施してもよい。

次に、本発明の熱転写記録システムに用いられる感熱転写受像シート（受像シート）について説明する。
本発明に用いられる感熱転写受像シートは、支持体上に染料受容層（受容層）が形成されている。受容層と支持体との間には下地層が形成されていることが好ましく、例えば白地調整層、帯電調節層、接着層、プライマー層が形成される。また、下地層と支持体との間には断熱層が形成されていることが好ましい。さらに、支持体の裏面側にはカール調整層、筆記層、帯電調整層が形成されていることが好ましい。各層の塗布は、ロールコート、バーコート、グラビアコート、グラビアリバースコート等の一般的な方法で行われる。また、受容層は水を主たる媒体として塗布されて形成されることが好ましい。ここで、水を主たる媒体とするという意味は、水を媒体全体の４０質量％以上、好ましくは６０〜９５質量％含むという意味である。

＜受容層＞
［熱可塑性樹脂］
本発明において、受容層に使用される熱可塑性樹脂としては、例えば、ポリ塩化ビニル・ポリ塩化ビニリデン等のハロゲン化ポリマー・ポリ酢酸ビニル・エチレン酢酸ビニル共重合体・塩化ビニル酢酸ビニル共重合体・ポリアクリルエステル・ポリスチレン・ポリスチレンアクリル等のビニル系樹脂、ポリビニルホルマール・ポリビニルブチラール・ポリビニルアセタール等のアセタール系樹脂、ポリエチレンテレフタレート、ポリプチレンテレフタレート、ポリカプロラクトン（プラクセルＨ−５、商品名、ダイセル化学工業(株)製）等のポリエステル系樹脂、ポリカーボネート系樹脂、特開平４−２９６５９５号公報や特開２００２−２６４５４３号公報に記載セルロース系樹脂やセルロースアセテートブチレート（ＣＡＢ５５１−０．２、ＣＡＢ３２１−０．１、いずれも商品名、イーストマンケミカル社製）等のセルロース系樹脂、ポリプロピレン等のポリオレフィン系樹脂、尿素樹脂・メラミン樹脂・ベンゾグアナミン樹脂等のポリアミド系樹脂等が挙げられる。これらの樹脂は、相溶する範囲内で任意にブレンドし、用いることもできる。特開昭５７−１６９３７０号、同５７−２０７２５０号、同６０−２５７９３号の各公報等にも受容層を形成した樹脂が開示されている。

上記ポリマー中でもポリカーボネート、ポリエステル、ポリウレタン、ポリ塩化ビニルおよびその共重合体、スチレン−アクリロニトリル共重合体、ポリカプロラクトンまたはこれらの混合物を含有することが更に好ましく、ポリカーボネート、ポリエステル、ポリ塩化ビニルおよびその共重合体またはこれらの混合物が特に好ましい。ポリカーボネート、ポリエステル、およびポリ塩化ビニルについて、さらに詳しく説明する。以上のポリマーは、単独又はこれらの混合物として用いることができる。

（ポリエステル系樹脂）
受容層に用いられるポリエステル系樹脂について、さらに詳しく説明する。ポリエステルはジカルボン酸成分（その誘導体含む）とジオール成分（その誘導体を含む）との重縮合により得られるものである。ポリエステル樹脂は、芳香環および／または脂環を含有する。脂環式ポリエステルの技術については、特開平５−２３８１６７号公報に記載の技術が染料取り込み能と像の安定性の点で有効である。

ジカルボン酸成分としては、イソフタル酸、トリメリット酸、テレフタル酸、１，４−シクロヘキサンジカルボン酸、それらの２種以上の混合物から選ばれる。好ましくは、イソフタル酸、トリメリット酸、テレフタル酸、またはそれらの２種以上の混合物から選ばれる。ジカルボン酸成分として脂環族を有するものを含有させることは、耐光性向上の観点からより望ましい。より好ましくは、１，４−シクロヘキサンジカルボン酸およびイソフタル酸を使用する。ジカルボン酸成分は、イソフタル酸５０〜１００ｍｏｌ％、トリメリット酸０〜１ｍｏｌ％、テレフタル酸０〜５０ｍｏｌ％、１，４−シクロヘキサンジカルボン酸０〜１５ｍｏｌ％の割合で、合計１００ｍｏｌ％となるように使用する。

ジオール成分は、エチレングリコール、ポリエチレングリコール、トリシクロデカンジメタノール、１，４−ブタンジオール、ビスフェノール、またはそれらの２種以上の混合物から選ぶことができる。好ましくは、エチレングリコール、ポリエチレングリコール、トリシクロデカンジメタノールから選ばれる。ジオール成分として脂環成分を含ませるようにすると、耐光性向上の観点からより望ましい。トリシクロデカンジメタノール以外にもシクロヘキサンジオール、シクロヘキサンジメタノール、シクロヘキサンジエタノール等の脂環式ジオール成分を使用することができる。好ましい脂環式ジオール成分はトリシクロデカンジメタノールである。ジオール成分は、エチレングリコール０〜５０ｍｏｌ／％、ポリエチレングリコール０〜１０ｍｏｌ／％、トリシクロデカンジメタノール０〜９０ｍｏｌ／％、好ましくは３０〜９０ｍｏｌ／％、より好ましくは４０〜９０ｍｏｌ／％、１，４−ブタンジオール０〜５０ｍｏｌ／％、ビスフェノールＡ０〜５０ｍｏｌ／％の割合で、合計１００ｍｏｌ％となるように使用する。

本発明において使用されるポリエステル樹脂は、上記少なくともジカルボン酸成分およびジオール成分を使用し、分子量（重量平均分子量（Ｍｗ））約１１０００以上、好ましくは約１５０００以上、より好ましくは約１７０００以上有するように重縮合したものを使用する。分子量があまり低いものを使用すると、形成される受容層の弾性率が低くなり、また耐熱性も足りなくなるので、熱転写シートと受像シートとの離型性を確保することが難しくなる。分子量は、弾性率を上げる観点から大きいほど望ましく、受容層形成時に塗布液溶媒に溶かすことができなくなるとか、受容層を塗布乾燥後に基材シートとの接着性に悪影響が出る等の弊害が生じない限り、特に限定されないが、好ましくは約２５０００以下、高くても約３００００程度となる。なお、エステル樹脂の合成法は、従来公知の方法を使用すればよい。

飽和ポリエステルとしては例えばバイロン２００、バイロン２９０、バイロン６００等（いずれも商品名、東洋紡(株)製）、ＫＡ−１０３８Ｃ（商品名、荒川化学工業(株)製）、ＴＰ２２０、ＴＰ２３５（いずれも商品名、日本合成化学(株)製）等が用いられる。

（ポリカーボネート）
受容層に用いられるポリカーボネート樹脂について、さらに詳しく説明する。ポリカーボネートは、炭酸とジオールをユニットとするポリエステルを意味し、ジオールにホスゲンを反応させる方法あるいは炭酸エステルを反応させる方法等により合成できる。

ジオール成分としては、ビスフェノールＡ、エチレングリコール、プロピレングリコール、ジエチレングリコール、ブタンジオール、ペンタンジオール、ヘキサンジオール、１，４−シクロヘキサンジメタノール、ノナンジオール、４，４’−ビシクロ（２，２，２）ヘプト−２−イリデンビスフェノール、４，４’−（オクタヒドロ−４，７−メタノ−５Ｈ−インデン−５−イリデン）ビスフェノール及び２，２’，６，６’−テトラクロロビスフェノールＡが挙げられ、ビスフェノールＡ、エチレングリコール、ジエチレングリコール、ブタンジオール、ペンタンジオールが好ましく、ビスフェノールＡ、エチレングリコール、ブタンジオールがより好ましく、ビスフェノールＡ、エチレングリコールが特に好ましい。本発明において使用されるポリカーボネートは、上記の１種ジオール成分を少なくとも使用するが、複数のジオールを混合して使用してもよい。

本発明に用いられるポリカーボネートの特に好ましい態様であるビスフェノールＡ−ポリカーボネートについて、詳しく説明する。ビスフェノールＡ−ポリカーボネートを中心とする未変性のポリカーボネートの技術は米国特許第４，６９５，２８６号明細書に記載されている。本発明に用いられるポリカーボネートは分子量（重量平均分子量（Ｍｗ））約１０００以上、好ましくは約３０００以上、より好ましくは約５０００以上、特に好ましくは約１００００以上の重縮合したものを使用する。Ｍａｋｒｏｌｏｎ−５７００（商品名、ＢａｙｅｒＡＧ）及びＬＥＸＡＮ−１４１（商品名、ＧｅｎｅｒａｌＥｌｅｃｔｒｉｃ社）等のポリカーボネートを例として挙げることができる。

ビスフェノールＡとエチレングリコールのようなジオールを混合して変性ポリカーボネートの技術が米国特許第４，９２７，８０３号明細書に記載されている。ポリエーテルブロック単位は、炭素原子数２〜約１０個の線状脂肪族ジオールから形成することができるが、エチレングリコールから形成されたものが好ましい。本発明の好ましい実施態様では、ポリエーテルブロック単位は数分子量約４，０００〜約５０，０００を有し、またビスフェノールＡ−ポリカーボネートブロック単位は数分子量約１５，０００〜約２５０，０００を有する。ブロックコポリマー全体の分子量は、約３０，０００〜約３００，０００であることが好ましい。ＭａｋｒｏｌｏｎＫＬ３−１０１３（商品名、ＢａｙｅｒＡＧ）を例として挙げることができる。

これらの未変性および変性ビスフェノールＡ−ポリカーボネートを混合することも好ましく、未変性ビスフェノールＡ−ポリカーボネートとポリエーテル変性ポリカーボネートとを質量比８０：２０〜１０：９０で配合することが好ましく、耐指紋性向上の観点から質量比５０：５０〜４０：６０の質量比が特に好ましい。未変性および変性ビスフェノールＡ−ポリカーボネートのブレンド技術に関しては特開平６−２２７１６０号公報にも記載されている。

受容層に使用される熱可塑性樹脂の好ましい実施態様として、上記ポリカーボネートと上記ポリエステルのブレンド系をあげることができる。このブレンド系では、ポリカーボネートとポリエステルの相溶性が確保できることが好ましい。ポリエステルは、好ましくは、約４０〜約１００℃のガラス転移点（Ｔｇ）を示し、またポリカーボネートは約１００〜約２００℃のＴｇを示す。ポリエステルは、好ましくは、ポリカーボネートよりも低いＴｇを示し、そしてポリカーボネートに対してポリマー可塑剤として作用する。最終のポリエステル／ポリカーボネートブレンドのＴｇは、好ましくは４０℃〜１００℃である。より高いＴｇのポリエステル及びポリカーボネートのポリマーも、可塑剤を添加することで有用となりうる。

さらなる好ましい実施態様では、未変性ビスフェノールＡ−ポリカーボネートとポリエステルポリマーとを、最終ブレンドのＴｇを望ましい値にし、しかもコストを最小限に抑えるような質量比でブレンドする。ポリカーボネートとポリエステルポリマーとは、約７５：２５〜２５：７５の質量比で都合よく配合することができるが、約６０：４０〜約４０：６０の質量比で配合するとより好ましい。特開平６−２２７１６１号公報にはポリカーボネートとポリエステルとのブレンド系の技術が開示されている。

受容層に用いられるポリカーボネートにおいて、ポリマー末端が少なくとも２個のヒドロキシル基を有する平均分子量約１０００〜約１０，０００ポリカーボネートとヒドロキシル基と反応する架橋剤との反応により、受容層に架橋ポリマー網状構造を形成させてもよい。特開平６−１５５９３３号公報のように、多官能性イソシアネートなどの架橋剤を技術も開示され、転写後の色素供与体への粘着性を改良できる。さらに特開平８−３９９４２号公報に開示の技術のように、ポリカーボネートとイソシアネートの架橋反応の際、ジブチル錫ジアセテートを用いた感熱色素転写用色素受容要素を構成とする技術が開示されており、架橋反応の促進のみならず画像安定性や耐指紋性などを改良できる。

（ポリ塩化ビニル共重合体）
受容層に用いられるポリ塩化ビニル共重合体について、さらに詳しく説明する。ポリ塩化ビニル共重合体は塩化ビニル成分含有率８５〜９７質量％で重合度２００〜８００のものが好ましい。塩化ビニルと共重合するモノマーには特に限定はなく、塩化ビニルと共重合できればよく、酢酸ビニルが特に好ましい。したがって、本発明において受容層には塩化ビニル−酢酸ビニル共重合体が優れているが、塩化ビニル−酢酸ビニル共重合体は必ずしも塩化ビニル成分と酢酸ビニル成分のみの共重合体である場合に限らず、本発明の目的を妨げない範囲のビニルアルコール成分、マレイン酸成分等を含むものであってもよい。このような塩化ビニルと酢酸ビニルを主単量体とする共重合体を構成する他の単量体成分としては、ビニルアルコール、プロピオン酸ビニルなどのビニルアルコール誘導体、アクリル酸およびメタクリル酸およびそれらのメチル、エチル、プロピル、ブチル、２−エチルヘキシルエステルなどのアクリル酸およびメタクリル酸誘導体、マレイン酸、マレイン酸ジエチル、マレイン酸ジブチル、マレイン酸ジオクチルなどのマレイン酸誘導体、メチルビニルエーテル、ブチルビニルエーテル、２−エチルヘキシルビニルエーテルなどのビニルエーテル誘導体、アクリロニトリル、メタクリロニトリル、スチレンなどが挙げられる。共重合体中にしめる塩化ビニルおよび酢酸ビニルの成分は任意の比率で良いが、塩化ビニル成分が共重合体中で５０質量％以上であるのが好ましい。また、先にあげた塩化ビニルや酢酸ビニル以外の成分は１０質量％以下であるのが好ましい。

このような塩化ビニル−酢酸ビニル共重合体としては、ＳＯＬＢＩＮＣ、ＳＯＬＢＩＮＣＬ、ＳＯＬＢＩＮＣＨ、ＳＯＬＢＩＮＣＮ、ＳＯＬＢＩＮＣ５、ＳＯＬＢＩＮＭ、ＳＯＬＢＩＮＭＦ、ＳＯＬＢＩＮＡ、ＳＯＬＢＩＮＡＬ、ＳＯＬＢＩＮＴＡ５Ｒ、ＳＯＬＢＩＮＴＡＯ、ＳＯＬＢＩＮＭＫ６、ＳＯＬＢＩＮＴＡ２（いずれも商品名、日信化学工業(株)製）、エスレックＡ、エスレックＣ、エスレックＭ（いずれも商品名、積水化学工業(株)製）、ビニライトＶＡＧＨ、ビニライトＶＹＨＨ、ビニライトＶＭＣＨ、ビニライトＶＹＨＤ、ビニライトＶＹＬＦ、ビニライトＶＹＮＳ、ビニライトＶＭＣＣ、ビニライトＶＭＣＡ、ビニライトＶＡＧＤ、ビニライトＶＥＲＲ、ビニライトＶＲＯＨ（いずれも商品名、ユニオンカーバイド社製）、デンカビニル１０００ＧＫＴ、デンカビニル１０００Ｌ、デンカビニル１０００ＣＫ、デンカビニル１０００Ａ、デンカビニル１０００ＬＫ₂、デンカビニル１０００ＡＳ、デンカビニル１０００ＭＴ₂、デンカビニル１０００ＣＳＫ、デンカビニル１０００ＣＳ、デンカビニル１０００ＧＫ、デンカビニル１０００ＧＳＫ、デンカビニル１０００ＧＳ、デンカビニル１０００ＬＴ₃、デンカビニル１０００Ｄ、デンカビニル１０００Ｗ（いずれも商品名、電気化学工業(株)製）等が挙げられる。

［可塑剤］
受容層の感度を良くするため、可塑剤を添加することもできる。このような可塑剤としては、フタル酸エステル、リン酸エステル、アジピン酸エステル、セバシン酸エステルなどのモノメリック型の可塑剤、アジピン酸、セバシン酸などとプロピレングリコールなどが重合したポリエステル型可塑剤など、一般的に塩化ビニル樹脂用の可塑剤として用いることのできるものがあげられる。先にあげた可塑剤は一般に低分子量であるが、他に塩化ビニルの高分子可塑剤として使用されるオレフィン系特殊共重合樹脂も使用することができる。このような用途に用いられる樹脂として、エルバロイ７４１、エルバロイ７４２、エルバロイＨＰ４４３、エルバロイＨＰ５５３、エルバロイＥＰ４０１５、エルバロイＥＰ４０４３、エルバロイＥＰ４０５１（いずれも商品名、三井・デュポンポリケミカル(株)製）などで市販されているものを使用することができる。このような可塑剤は、樹脂に対し１００質量％程度添加することもできるが、印画物のにじみ等の点でその使用量は３０質量％以下であるのが好ましい

受容層は、溶剤塗布によらずに、上記ポリマー樹脂の溶融物を押し出しコーティングすることによってキャストすることができる。この押し出しコーティングの技術はエンサイクロピィーディア・オブ・ポリマー・サイエンス・アンド・テクニークス（ＥｎｃｙｃｌｏｐｅｄｉａｏｆＰｏｌｙｍｅｒＳｃｉｅｎｃｅａｎｄＥｎｇｉｎｅｅｒｉｎｇ），第３巻（ＪｏｈｎＷｉｌｅｙ，ＮｅｗＹｏｒｋ），１９８５年，５６３頁や、第６巻，１９８６年，６０８頁に記載されている。特開平７−１７９０７５号公報にも感熱色素転写材用に関する技術が開示されており、本技術も好適に使用することができる。ポリマー樹脂としては、シクロヘキサンジカルボキシレートとエチレングリコール／ビスフェノールＡ−ジエタノールの５０／５０モル％混合物（ＣＯＰＯＬ；登録商標）とを縮合して得られたコポリマーが特に好ましい。

［離型剤］
熱転写受像シートの受像面に充分な剥離性能がない場合には、画像形成時にサーマルヘッドによる熱によってインクシート（熱転写シート）と熱転写受像シート（受像シート）が融着し、剥離時に大きな剥離音が発生したり、また、染料層が層ごと転写されたり、受容層が基材から剥離するいわゆる異状転写の問題が発生する。上記の如き剥離性の問題を解決する方法としては、各種離型剤を受容層中に内添する方法若しくは、受容層の上に別途離型層を設ける方法とが知られている。本発明では、画像印画時の熱転写シートと受像シートとの離型性をより確実に確保するために、離型剤を受容層に使用することが好ましい。
離型剤としては、例えば、ポリエチレンワックス、アミドワックス、テフロンパウダー等の固形ワックス類；シリコーンオイル、リン酸エステル系化合物、フッ素系界面活性剤、シリコーン系界面活性剤およびその他当該技術分野で公知の離型剤を使用することができ、フッ素系界面活性剤等に代表されるフッ素系化合物、シリコーン系界面活性剤、シリコーンオイル及び／又はその硬化物等のシリコーン系化合物が好ましく用いられる。

シリコーンオイルとしては、ストレートシリコーンオイル、および変性シリコーンオイルやその硬化物が使用できる。ストレートシリコーンオイルには、ジメチルシリコーンオイル、メチルフェニルシリコーンオイル、メチルハイドロジェンシリコーンオイルがあり、ジメチルシリコーンオイルとしては、ＫＦ９６−１０、ＫＦ９６−１００、ＫＦ９６−１０００、ＫＦ９６Ｈ−１００００、ＫＦ９６Ｈ−１２５００、ＫＦ９６Ｈ−１０００００（いずれも商品名、信越化学工業(株)製）等を挙げられ、ジメチルシリコーンオイルとしては、ＫＦ５０−１００、ＫＦ５４、ＫＦ５６（いずれも商品名、信越化学工業(株)製）等が挙げられる。

変性シリコーンオイルは、反応性シリコーンオイルと非反応性シリコーンオイルに分類できる。反応性シリコーンオイルには、アミノ変性、エポキシ変性、カルボキシル変性、ヒドロキシ変性、メタクリル変性、メルカプト変性、フェノール変性、片末端反応性・異種官能基変性がある。アミノ変性シリコーンオイルとしては、ＫＦ−３９３、ＫＦ−８５７、ＫＦ−８５８、Ｘ−２２−３６８０、Ｘ−２２−３８０１Ｃ、ＫＦ−８０１０、Ｘ−２２−１６１Ａ、ＫＦ−８０１２（いずれも商品名、信越化学工業(株)製）等が挙げられ、エポキシ変性シリコーンオイルとしては、ＫＦ−１００Ｔ、ＫＦ−１０１、ＫＦ−６０−１６４、ＫＦ−１０３、Ｘ−２２−３４３、Ｘ−２２−３０００Ｔ（いずれも商品名、信越化学工業(株)製）等が挙げられる。カルボキシル変性シリコーンオイルとしては、Ｘ−２２−１６２Ｃ（商品名、信越化学工業(株)製）等が挙げられ、ヒドロキシ変性シリコーンオイルとしては、Ｘ−２２−１６０ＡＳ、ＫＦ−６００１、ＫＦ−６００２、ＫＦ−６００３、Ｘ−２２−１７０ＤＸ、Ｘ−２２−１７６ＤＸ、Ｘ−２２−１７６Ｄ、Ｘ−２２−１７６ＤＦ（いずれも商品名、信越化学工業(株)製）等が挙げられ、メタクリル変性シリコーンオイルとしては、Ｘ−２２−１６４Ａ、Ｘ−２２−１６４Ｃ、Ｘ−２４−８２０１、Ｘ−２２−１７４Ｄ、Ｘ−２２−２４２６（いずれも商品名、信越化学工業(株)製）等が挙げられる。

反応性シリコーンオイルとしては、硬化させて使用することもでき、反応硬化型、光硬化型、触媒硬化型等に分類できる。このなかで反応硬化型のシリコーンオイルが特に好ましく、反応硬化型シリコーンオイルとしては、アミノ変性シリコーンオイルとエポキシ変性シリコーンオイルとを反応硬化させたものが好ましい。また、触媒硬化型あるいは光硬化型シリコーンオイルとしては、ＫＳ−７０５Ｆ−ＰＳ、ＫＳ−７０５Ｆ−ＰＳ−１、ＫＳ−７７０−ＰＬ−３〔触媒硬化型シリコーンオイル：いずれも商品名、信越化学工業（株）製〕、ＫＳ−７２０、ＫＳ−７７４−ＰＬ−３〔光硬化型シリコーンオイル：いずれも商品名、信越化学工業（株）製〕等が挙げられる。これら硬化型シリコーンオイルの添加量は受像層を構成する樹脂の０．５〜３０質量％が好ましい。離型剤は、ポリエステル樹脂１００質量部に対して２〜４質量％、好ましくは２〜３質量％程度使用する。その量が少なすぎると、離型性を確実に確保することができず、また多すぎると保護層が受像シートに転写しなくなってしまう。

非反応性シリコーンオイルとしては、ポリエーテル変性、メチルスチリル変性、アルキル変性、高級脂肪酸エステル変性、親水性特殊変性、高級アルコキシ変性、フッ素変性等がある。ポリエーテル変性シリコーン（ＫＦ−６０１２、商品名、信越化学工業(株)製）が挙げられ、メチルスチル変性シリコーンシリコーンオイルとしては、（２４−５１０、商品名、信越化学工業(株)製）等が挙げられる。また、下記一般式１〜３のいずれかで表される変性シリコーンも使用することができる。

一般式１中、Ｒは水素原子、またはアリール基、若しくはシクロアルキル基で置換されても良い直鎖または分岐のアルキル基を表す。ｍ、ｎは２０００以下の整数を表し、ａ、ｂは３０以下の整数を表す。

一般式２中、Ｒは水素原子、またはアリール基、若しくはシクロアルキル基で置換されても良い直鎖または分岐のアルキル基を表す。ｍは２０００以下の整数を表し、ａ、ｂは３０以下の整数を表す。

一般式３中、Ｒは水素原子、またはアリール基、若しくはシクロアルキル基で置換されても良い直鎖または分岐のアルキル基を表す。ｍ、ｎは２０００以下の整数を表し、ａ、ｂは３０以下の整数を表す。

上記のようなシリコーンオイルは「シリコーンハンドブック」（日刊工業新聞社刊）に記載されており、硬化型シリコーンオイルの硬化技術として、特開平８−１０８６３６号公報や特開２００２−２６４５４３号公報に記載の技術が好ましく使用できる。
なお、単色印画のハイライト部で染料バインダーが受容層に取られる異状転写を起こすことがある。また、従来、付加重合型シリコーンは、触媒の存在下で硬化反応を進行させるのが一般的であり、硬化触媒としては、鉄族、白金族の８族遷移金属錯体のほとんど全てが有効であることが知られているが、一般には白金化合物が最も効率がよく、通常はシリコーンオイルに可溶の白金錯体である白金触媒が好ましく使用される。反応に必要な添加量としては、１〜１００ｐｐｍ程度で充分である。

この白金触媒は、Ｎ、Ｐ、Ｓ等を含む有機化合物、Ｓｎ、Ｐｂ、Ｈｇ、Ｂｉ、Ａｓ等の重金属イオン性化合物、アセチレン基等、多重結合を含む有機化合物と強い相互作用を持つ為、上記化合物（触媒毒）と共に使用すると、触媒としてのヒドロシリル化能力を失ってしまい、硬化触媒としての機能を果たさなくなるため、シリコーンの硬化不良を起こすという欠点を持っている（「シリコーンハンドブック」日刊工業新聞社）。よって、このような硬化不良の付加重合型シリコーンでは、受容層において使用しても、全く剥離性能を発揮しない。活性水素と反応する硬化剤として、イソシアネート化合物を使用することが考えられるが、このイソシアネート化合物や、その触媒である有機錫化合物は、白金触媒の触媒毒にあたる。従って、従来においては、付加重合型シリコーンは、イソシネート化合物と併用されることがなく、よって、イソシアネート化合物で硬化することにより剥離性能を発揮する活性水素を有する変性シリコーンと併用されることはなかった。

しかしながら、１）活性水素と反応する硬化剤の反応基当量と、熱可塑性樹脂及び活性水素を有する変性シリコーン両方の反応基当量との比を１：１〜１０：１とし、２）付加重合型シリコーンに対する白金触媒量を、白金触媒の白金原子として１００〜１００００ｐｐｍとすることにより、付加重合型シリコーンの硬化疎外を防止することができる。上記１）の活性水素と反応する硬化剤の反応基当量が１以下の場合には、活性水素を有するシリコーンと、熱可塑性樹脂の活性水素との硬化量が小さく、良好な剥離性能が得られない。逆に、当量比が１０以上の場合には、受容層塗工液のインキの使用可能時間が短く実質上使用できない。また、２）の白金触媒量が、１００ｐｐｍ以下の場合には、触媒毒で活性が失われ、１００００ｐｐｍ以上の場合には、受容層塗工液のインキ使用可能時間が短く使用できないものとなる。

受容層の塗布量は、０．５〜１０ｇ／ｍ²（固形分換算、以下本発明における塗布量は特に断りのない限り、固形分換算の数値である。）が好ましい。

＜離型層＞
硬化変性シリコーンオイルは、受容層に添加しなくとも、離型層として受容層の上に形成しても良い。この場合は、受容層として、上述した様な熱可塑性樹脂を一種類以上使用して形成しても良く、またシリコーンを添加した受容層を使用しても良い。この離型層は、硬化型変性シリコーンを含有してなるが、使用するシリコーンの種類や使用方法は、受容層に使用する場合と同様である。また、触媒や遅延剤を使用する場合も、受容層中に添加するのと同様である。離型層は、シリコーンのみにより形成しても良いし、バインダー樹脂として、相溶性のよい樹脂と混合して使用しても良い。この離型層の厚みは、０．００１〜１ｇ／ｍ²程度である。

フッ素系界面活性剤としては、ＦｌｕｏｒａｄＦＣ−４３０、ＦＣ−４３１（いずれも商品名、３Ｍ社製）が挙げられる。

＜下地層＞
受容層と支持体との間には下地層が形成されていることが好ましく、例えば白地調整層、帯電調節層、接着層、プライマー層が形成される。これらの層については、例えば特許第３５８５５９９号明細書、特許第２９２５２４４号明細書などに記載されたものと同様にして形成することができる。

＜断熱層＞
断熱層（発泡層）は、サーマルヘッドを用いた加熱転写時における熱から支持体を保護する役割を果たす。また、高いクッション性を有するので、基材として紙を用いた場合であっても、印字感度の高い熱転写受像シートを得ることができる。
断熱層は樹脂と発泡剤とから形成される。断熱層の樹脂としては、ウレタン樹脂、アクリル樹脂、メタクリル樹脂、変性オレフィン樹脂等公知の樹脂、あるいはそれらをブレンドしたものが使用できる。これらの樹脂を有機溶剤または水に溶解および／または分散させたものを塗工することにより断熱層を形成するが、断熱層塗工液は、発泡剤に影響を与えない水系塗工液であるのが好ましく、例えば、水溶性、水分散性、もしくはＳＢＲラテックス、ウレタン系エマルジョン、ポリエステルエマルジョン、酢酸ビニルおよびその共重合体のエマルジョン、アクリルおよびアクリルスチレン等のアクリルの共重合体のエマルジョン、塩化ビニルエマルジョン等のエマルジョン、またはこれらのディスパージョン等を用いることができるが、発泡剤として、後述するマイクロスフェアを使用する場合には、上述の樹脂中、酢酸ビニルおよびその共重合体のエマルジョン、アクリルおよびアクリルスチレン等のアクリルの共重合体のエマルジョンを使用するのが好ましい。

これらの樹脂は、共重合させるモノマーの種類およびその配合比を変化させることにより、ガラス転移点や柔軟性、造膜性を容易にコントロールすることができる為、可塑剤や造膜助剤を添加しなくても所望する物性が得られる点、膜形成後の各種環境においての保存時に色の変化が少ない点、物性の経時変化が少ない点で適している。また、上述の樹脂中、ＳＢＲラテックスは、一般にガラス転移点が低くブロッキングを起こしやすく、膜形成後や保存中に黄変が生じやすいために好ましくない。ウレタン系エマルジョンは、ＮＭＰ、ＤＭＦ等の溶剤を含むものが多く、発泡剤に悪影響を与えやすいため好ましくない。ポリエステルエマルジョンまたはディスパージョンや塩化ビニルエマルジョンは、一般にガラス転移点が高く、マイクロスフェアの発泡性が悪くなるため好ましくない。また柔らかいものもあるが、これらは可塑剤の添加によって柔軟性を付与しているため、好ましくは使用されることがない。

発泡剤の発泡性能は、樹脂の硬さに大きく影響される。発泡剤が望ましい発泡倍率まで発泡する為には、ガラス転移点が−３０〜２０℃、又は、最低造膜温度が２０℃以下のものが望ましい。ガラス転移点が２０℃以上のものは、柔軟性が不足し発泡剤の発泡性能が低下してしまう。また、ガラス転移点が−３０℃以下のものは、粘着性に起因するブロッキング（発泡層形成後の基材を巻き取った際に発泡層と基材の裏面にて発生）を起こしたり、熱転写受像シートをカットする際に、不良（受像シートを裁断する際に、カッターの刃に発泡層の樹脂がこびりついて、外観が悪くなる、又、裁断の寸法にくるいが生じる等）が発生したりすることがある。また、最低造膜温度が２０℃以上のものは、塗工・乾燥時に造膜不良を起こし、表面のヒビ割れなどの不具合が生じる。

発泡剤としては、加熱により分解して、酸素、炭酸ガス、窒素等のガスを発生するジニトロペンタメチレンテトラメン、ジアゾアミノベンゼン、アゾビスイソブチロニトリル、アゾジカルボアミド等の分解型発泡剤、ブタン、ペンタン等の低沸点液体をポリ塩化ビニリデン、ポリアクリロニトリル等の樹脂で覆ってマイクロカプセルとしたマイクロスフェア等公知の発泡剤が挙げられる。これらの中でも、ブタン、ペンタン等の低沸点液体をポリ塩化ビニリデン、ポリアクリロニトリル等の樹脂で覆ってマイクロカプセルとしたマイクロスフェアが好ましく使用される。これらの発泡剤は、発泡層形成後加熱により発泡し、発泡後は高いクッション性および断熱性を有する。これら発泡剤の使用量は、発泡層を形成する樹脂１００質量部当たり０．５〜１００質量部の範囲が好ましい。０．５質量部以下では、発泡層のクッション性が低く発泡層形成の効果が得られない。１００質量部以上では、発泡後の中空率が大きくなりすぎ、発泡層の機械的強度が低下して、通常の取扱いに耐えられなくなる。また、発泡層表面が平滑さを失い、外観、印画品質に悪影響を及ぼす。また発泡層全体の厚さは、３０〜１００μｍが好ましい。３０μｍ以下の場合は、クッション性や断熱性が不足し、１００μｍ以上の場合は、発泡層の効果が向上せずに強度が低下してしまう。また、発泡剤の粒径としては、発泡前の体積平均粒径が５〜１５μｍ程度のもの、発泡後の粒径が２０〜５０μｍのものが好ましい。発泡前の体積平均粒径が５μｍ以下、発泡後の粒径が２０μｍ以下のものは、クッション効果が低く、発泡前の体積平均粒径が１５μｍ以上、発泡後の粒径が２０〜５０μｍ以上のものは、発泡層表面を凹凸にし、ひいては形成された画像の画像品質に悪影響を及ぼす為好ましくない。

発泡剤の中でも特に好ましくは、隔壁の軟化温度および発泡開始温度が１００℃以下、最適発泡温度（加熱時間１分間で、最も発泡倍率が高くなる温度）が１４０℃以下の低温発泡型のマイクロスフェアを用いて、発泡時の加熱条件をなるべく低いものとするのが好ましい。発泡温度の低いマイクロスフェアを用いることにより、発泡時の基材の熱シワやカールを防止することができる。この発泡温度の低いマイクロスフェアは、隔壁を形成するポリ塩化ビニリデンやポリアクリロニトリルなどの熱可塑性樹脂の配合量を調節することにより得ることができる。体積平均粒径は５〜１５μｍである。このマイクロスフェアを用いた発泡層は、発泡により得られる気泡が独立気泡であること、加熱のみの簡単な工程で発泡すること、マイクロスフェアの配合量で発泡層の厚さが容易に制御できることなどの利点がある。

しかし、このマイクロスフェアは有機溶剤に弱く、発泡層として有機溶剤を使用した塗工液を使用すると、マイクロスフェアの隔壁が侵食されてしまい、発泡性が低下してしまう。従って、上記の様なマイクロスフェアを使用した場合には、隔壁を侵すような有機溶剤、例えばアセトン、メチルエチルケトンなどのケトン類、酢酸エチルなどのエステル系、メタノール、エタノール等の低級アルコール等の有機溶剤を含まない水系の塗工液を使用するのが良い。従って水系の塗工液、具体的には、水溶性か水分散性の樹脂を使用したもの、もしくは樹脂のエマルジョン、好ましくはアクリルスチレンエマルジョンや変成酢酸ビニルエマルジョンを用いるのが良い。また、水系の塗工液にて発泡層を形成しても、助溶剤や造膜助剤、可塑剤としてＮＭＰ、ＤＭＦ、セロソルブ等の高沸点高極性溶媒を添加したものは、マイクロスフェアに影響を与えるので、使用する水性樹脂の組成、高沸点溶媒添加量を把握し、マイクロカプセルに悪影響がないか確認する等の注意が必要である。

＜支持体＞
支持体には、コート紙やＷＰ紙（両面ラミネート紙）等を用いることができる。

−コート紙−
前記コート紙は、原紙等のシートに、各種の樹脂、ゴムラテックス又は高分子材料を片面又は両面に塗工した紙であり、用途に応じて、塗工量が異なる。このようなコート紙としては、例えば、アート紙、キャストコート紙、ヤンキー紙等が挙げられる。

前記原紙等の表面に塗工する樹脂としては、熱可塑性樹脂を使用することが適当である。このような熱可塑性樹脂としては、例えば、以下の（イ）〜（チ）の熱可塑性樹脂を例示することができる。

（イ）ポリエチレン樹脂、ポリプロピレン樹脂等のポリオレフィン樹脂や、エチレンやプロピレン等のオレフィンと、他のビニルモノマーとの共重合体樹脂や、アクリル樹脂等が挙げられる。
（ロ）エステル結合を有する熱可塑性樹脂である。例えば、ジカルボン酸成分（これらのジカルボン酸成分にはスルホン酸基、カルボキシル基等が置換していてもよい）と、アルコール成分（これらのアルコール成分には水酸基などが置換されていてもよい）との縮合により得られるポリエステル樹脂、ポリメチルメタクリレート、ポリブチルメタクリレート、ポリメチルアクリレート、ポリブチルアクリレート等のポリアクリル酸エステル樹脂又はポリメタクリル酸エステル樹脂、ポリカーボネート樹脂、ポリ酢酸ビニル樹脂、スチレンアクリレート樹脂、スチレン−メタクリル酸エステル共重合体樹脂、ビニルトルエンアクリレート樹脂等が挙げられる。
具体的には、特開昭５９−１０１３９５号公報、同６３−７９７１号公報、同６３−７９７２号公報、同６３−７９７３号公報、同６０−２９４８６２号公報などに記載のものを挙げることができる。
また、市販品としては、東洋紡(株)製のバイロン２９０、バイロン２００、バイロン２８０、バイロン３００、バイロン１０３、バイロンＧＫ−１４０、バイロンＧＫ−１３０；花王(株)製のタフトンＮＥ−３８２、タフトンＵ−５、ＡＴＲ−２００９、ＡＴＲ−２０１０；ユニチカ(株)製のエリーテルＵＥ３５００、ＵＥ３２１０、ＸＡ−８１５３、ＫＺＡ−７０４９、ＫＺＡ−１４４９；日本合成化学工業(株)製のポリエスターＴＰ−２２０、Ｒ−１８８；星光化学工業(株)製のハイロスシリーズの各種熱可塑性樹脂（いずれも商品名）等が挙げられる。

（ハ）ポリウレタン樹脂等が挙げられる。
（ニ）ポリアミド樹脂、尿素樹脂等が挙げられる。
（ホ）ポリスルホン樹脂等が挙げられる。
（ヘ）ポリ塩化ビニル樹脂、ポリ塩化ビニリデン樹脂、塩化ビニル−酢酸ビニル共重合体樹脂、塩化ビニル−プロピオン酸ビニル共重合体樹脂等が挙げられる。
（ト）ポリビニルブチラール等の、ポリオール樹脂、エチルセルロース樹脂、酢酸セルロース樹脂等のセルロース樹脂等が挙げられる。
（チ）ポリカプロラクトン樹脂、スチレン−無水マレイン酸樹脂、ポリアクリロニトリル樹脂、ポリエーテル樹脂、エポキシ樹脂、フェノール樹脂等が挙げられる。
なお、前記熱可塑性樹脂は、１種単独で使用してもよく、２種以上を併用してもよい。

また、前記熱可塑性樹脂には、増白剤、導電剤、填料、酸化チタン、群青、カーボンブラック等の顔料や染料等を必要に応じて含有させておくことができる。

−ラミネート紙−
前記ラミネート紙は、原紙等のシートに、各種の樹脂、ゴム又は高分子シート又はフィルム等をラミネートした紙である。前記ラミネート材料としては、例えば、ポリオレフィン、ポリ塩化ビニル、ポリエチレンテレフタレート、ポリスチレン、ポリメタクリレート、ポリカーボネート、ポリイミド、トリアセチルセルロース等が挙げられる。これらの樹脂は、１種単独で使用してもよく、２種以上を併用してもよい。

前記ポリオレフィンは、一般に低密度ポリエチレンを用いて形成することが多いが、支持体の耐熱性を向上させるために、ポリプロピレン、ポリプロピレンとポリエチレンとのブレンド、高密度ポリエチレン、高密度ポリエチレンと低密度ポリエチレンとのブレンド等を用いるのが好ましい。特に、コストや、ラミネート適性等の点から、高密度ポリエチレンと低密度ポリエチレンとのブレンドを用いるのが最も好ましい。

前記高密度ポリエチレンと、前記低密度ポリエチレンとのブレンドは、例えば、ブレンド比率（質量比）１／９〜９／１で用いられる。該ブレンド比率としては、２／８〜８／２が好ましく、３／７〜７／３がより好ましい。該支持体の両面に熱可塑性樹脂層を形成する場合、支持体の裏面は、例えば、高密度ポリエチレン、或いは高密度ポリエチレンと低密度ポリエチレンとのブレンドを用いて形成されるのが好ましい。ポリエチレンの分子量としては、特に制限はないが、メルトインデックスが、高密度ポリエチレン及び低密度ポリエチレンのいずれについても、１．０〜４０ｇ／１０分の間のものであって、押出し適性を有するものが好ましい。
尚、これらのシート又はフィルムには、白色反射性を与える処理を行ってもよい。このような処理方法としては、例えば、これらのシート又はフィルム中に酸化チタンなどの顔料を配合する方法が挙げられる。

前記支持体の厚みとしては、２５μｍ〜３００μｍが好ましく、５０μｍ〜２６０μｍがより好ましく、７５μｍ〜２２０μｍが更に好ましい。該支持体の剛度としては、種々のものがその目的に応じて使用することが可能であり、写真画質の電子写真用受像シート用の支持体としては、カラー銀塩写真用の支持体に近いものが好ましい。

＜カール調整層＞
支持体がそのまま露出していると環境中の湿度・温度により感熱転写受像シートがカールしてしまうことがあるため、支持体の裏面側にカール調整層を形成することが好ましい。カール調整層は、受像シートのカールを防止するだけでなく防水の役割も果たす。カール調整層には、ポリエチレンラミネートやポリプロピレンラミネート等が用いられる。具体的には、例えば特開昭６１−１１０１３５号公報、特開平６−２０２２９５号公報などに記載されたものと同様にして形成することができる。

＜筆記層・帯電調整層＞
筆記層・帯電調整層には、無機酸化物コロイドやイオン性ポリマー等を用いることができる。帯電防止剤として、例えば第四級アンモニウム塩、ポリアミン誘導体等のカチオン系帯電防止剤、アルキルホスフェート等のアニオン系帯電防止剤、脂肪酸エステル等のノニオン系帯電防止剤など任意のものを用いることができる。具体的には、例えば特許第３５８５５８５号明細書などに記載されたものと同様にして形成することができる。

また、感熱転写受像シートは、支持体を適宜選択することにより、熱転写記録可能な枚葉またはロール状の感熱転写受像シート、カード類、透過型原稿作成用シート等の各種用途に適用することもできる。

次に、本発明に用いられるインクシート（感熱転写シート）について説明する。
熱転写画像形成の際に、上述した感熱転写受像シートと併せて使用されるインクシートは、支持体上に拡散転写染料を含む色素層を設けたものである。色素層の塗布は、ロールコート、バーコート、グラビアコート、グラビアリバースコート等の一般的な方法で行われる。

前記感熱転写受像シートの受容層にポリエステル及び／又はポリカーボネート系ポリマーを含む場合、本発明に用いられるインクシートの色素層には、イエロー色素として前記一般式（１）又は（３）で表される少なくとも１種の色素を含むことが好ましく、マゼンタ色素として前記一般式（４）又は（５）で表される少なくとも１種の色素を含むことが好ましく、シアン色素として前記一般式（６）で表される少なくとも１種の色素を含むことが好ましい。
最初に、一般式（１）で表される色素について、詳細に説明する。

一般式（１）中、Ｒ¹、Ｒ²およびＲ³は各々独立に水素原子または置換基を表す。
ここで該置換基をさらに詳しく説明する。該置換基の例としては、ハロゲン原子、アルキル基（シクロアルキル基（環数は問わない）を含む）、アルケニル基（シクロアルケニル基（環数は問わない）を含む）、アルキニル基、アリール基、ヘテロ環基、シアノ基、アルコキシ基、アリールオキシ基、アシルオキシ基、カルバモイルオキシ基、アルコキシカルボニルオキシ基、アリールオキシカルボニルオキシ、アミノ基（アルキルアミノ基、アニリノ基を含む）、アシルアミノ基、アミノカルボニルアミノ基、アルコキシカルボニルアミノ基、アリールオキシカルボニルアミノ基、スルファモイルアミノ基、アルキルもしくはアリールスルホニルアミノ基、アルキルチオ基、スルファモイル基、アルキルもしくはアリールスルフィニル基、アルキルもしくはアリールスルホニル基、アシル基、アリールオキシカルボニル基、アルコキシカルボニル基、カルバモイル基、アリールもしくはヘテロ環アゾ基、イミド基を挙げることができ、それぞれの基はさらに置換基を有していても良い。

以下に、前記Ｒ¹、Ｒ²、Ｒ³をさらに詳しく説明する。
Ｒ¹、Ｒ²およびＲ³で表されるハロゲン原子としてはフッ素原子、塩素原子、臭素原子、およびヨウ素原子が挙げられる。中でも塩素原子、臭素原子が好ましく、特に塩素原子が好ましい。

Ｒ¹、Ｒ²又はＲ³で表されるアルキル基にはシクロアルキル基およびビシクロアルキル基が含まれる。アルキル基としては直鎖、分岐の置換もしくは無置換のアルキル基が含まれる。直鎖、分岐の置換もしくは無置換のアルキル基は炭素数１〜３０のアルキル基が好ましい。例としてはメチル、エチル、ｎ−プロピル、イソプロピル、ｔ−ブチル、ｎ−オクチル、エイコシル、２−クロロエチル、２−シアノエチル、または２−エチルヘキシルを挙げることができる。シクロアルキル基としては置換もしくは無置換のシクロアルキル基が含まれる。置換もしくは無置換のシクロアルキル基は、炭素数３〜３０のシクロアルキル基が好ましい。例としては、シクロヘキシル、シクロペンチル、４−ｎ−ドデシルシクロヘキシルを挙げることができる。ビシクロアルキル基としては、炭素数５〜３０の置換もしくは無置換のビシクロアルキル基、つまり、炭素数５〜３０のビシクロアルカンから水素原子を一個取り去った一価の基である。例として、ビシクロ［１，２，２］ヘプタン−２−イル、ビシクロ［２，２，２］オクタン−３−イル）を挙げることができる。さらに環構造が多いトリシクロ構造なども包含するものである。以下に説明する置換基の中のアルキル基（例えばアルキルチオ基のアルキル基）もこのような概念のアルキル基を表す。
Ｒ¹、Ｒ²又はＲ³で表されるアルケニル基にはシクロアルケニル基、ビシクロアルケニル基が含まれる。アルケニル基としては直鎖、分岐、環状の置換もしくは無置換のアルケニル基を表す。アルケニル基としては、炭素数２〜３０の置換または無置換のアルケニル基が好ましい。例としてはビニル、アリル、プレニル、ゲラニル、オレイルを挙げることができる。シクロアルケニル基としては、炭素数３〜３０の置換もしくは無置換のシクロアルケニル基、つまり、炭素数３〜３０のシクロアルケンの水素原子を一個取り去った一価の基が好ましい。例としては、２−シクロペンテン−１−イル、２−シクロヘキセン−１−イルが挙げられる。ビシクロアルケニル基としては、置換もしくは無置換のビシクロアルケニル基が含まれる。ビシクロアルケニル基としては炭素数５〜３０の置換もしくは無置換のビシクロアルケニル基、つまり二重結合を一個持つビシクロアルケンの水素原子を一個取り去った一価の基が好ましい。例として、ビシクロ［２，２，１］ヘプト−２−エン−１−イル、ビシクロ［２，２，２］オクト−２−エン−４−イルを挙げることができる。

Ｒ¹、Ｒ²又はＲ³で表されるアルキニル基は、炭素数２〜３０の置換または無置換のアルキニル基が好ましく、例えば、エチニル、またはプロパルギルが挙げられる。

Ｒ¹、Ｒ²又はＲ³で表されるアリール基は、炭素数６〜３０の置換もしくは無置換のアリール基が好ましく、例えば、フェニル、ｐ−トリル、ナフチル、ｍ−クロロフェニル、ｏ−ヘキサデカノイルアミノフェニルが挙げられる。

Ｒ¹、Ｒ²又はＲ³で表されるヘテロ環基は、５又は６員の置換もしくは無置換の芳香族もしくは非芳香族のヘテロ環化合物から一個の水素原子を取り除いた一価の基が好ましく、それらはさらに縮環していてもよい。更に好ましくは、炭素数３〜３０の５もしくは６員の芳香族のヘテロ環基である。ヘテロ環基の例には、置換位置を限定しないで例示（すなわち、環として例示）すると、ピリジン、ピラジン、ピリダジン、ピリミジン、トリアジン、キノリン、イソキノリン、キナゾリン、シンノリン、フタラジン、キノキサリン、ピロール、インドール、フラン、ベンゾフラン、チオフェン、ベンゾチオフェン、ピラゾール、イミダゾール、ベンズイミダゾール、トリアゾール、オキサゾール、ベンズオキサゾール、チアゾール、ベンゾチアゾール、イソチアゾール、ベンズイソチアゾール、チアジアゾール、イソオキサゾール、ベンズイソオキサゾール、ピロリジン、ピペリジン、ピペラジン、イミダゾリジン、チアゾリンなどが挙げられる。

Ｒ¹、Ｒ²又はＲ³で表されるアルコキシ基は、置換もしくは無置換のアルコキシ基が含まれる。置換もしくは無置換のアルコキシ基としては、炭素原子数が１〜３０のアルコキシ基が好ましい。アルコキシ基の例には、メトキシ、エトキシ、イソプロポキシ、ｎ−オクチルオキシ、メトキシエトキシ、ヒドロキシエトキシおよび３−カルボキシプロポキシなどを挙げることができる。

Ｒ¹、Ｒ²又はＲ³で表されるアリールオキシ基は、炭素数６〜３０の置換もしくは無置換のアリールオキシ基が好ましい。アリールオキシ基の例には、フェノキシ、２−メチルフェノキシ、４−ｔ−ブチルフェノキシ、３−ニトロフェノキシ、２−テトラデカノイルアミノフェノキシなどを挙げることができる。

Ｒ¹、Ｒ²又はＲ³で表されるホルミルオキシ基、炭素数２〜３０の置換もしくは無置換のアルキルカルボニルオキシ基、炭素数６〜３０の置換もしくは無置換のアリールカルボニルオキシ基が好ましい。アシルオキシ基の例には、ホルミルオキシ、アセチルオキシ、ピバロイルオキシ、ステアロイルオキシ、ベンゾイルオキシ、ｐ−メトキシフェニルカルボニルオキシなどを挙げることができる。

Ｒ¹、Ｒ²又はＲ³で表されるカルバモイルオキシ基は、炭素数１〜３０の置換もしくは無置換のカルバモイルオキシ基が好ましい。カルバモイルオキシ基の例には、Ｎ，Ｎ−ジメチルカルバモイルオキシ、Ｎ，Ｎ−ジエチルカルバモイルオキシ、モルホリノカルボニルオキシ、Ｎ，Ｎ−ジ−ｎ−オクチルアミノカルボニルオキシ、Ｎ−ｎ−オクチルカルバモイルオキシなどを挙げることができる。

Ｒ¹、Ｒ²又はＲ³で表されるアルコキシカルボニルオキシ基は、炭素数２〜３０の置換もしくは無置換アルコキシカルボニルオキシ基が好ましい。アルコキシカルボニルオキシ基の例には、メトキシカルボニルオキシ、エトキシカルボニルオキシ、ｔ−ブトキシカルボニルオキシ、ｎ−オクチルカルボニルオキシなどを挙げることができる。

Ｒ¹、Ｒ²又はＲ³で表されるアリールオキシカルボニルオキシ基は、炭素数７〜３０の置換もしくは無置換のアリールオキシカルボニルオキシ基が好ましい。アリールオキシカルボニルオキシ基の例には、フェノキシカルボニルオキシ、ｐ−メトキシフェノキシカルボニルオキシ、ｐ−ｎ−ヘキサデシルオキシフェノキシカルボニルオキシなどを挙げることができる。

Ｒ¹、Ｒ²又はＲ³で表されるアミノ基はアルキアミノ基、アリールアミノ基を含む。アミノ基は、炭素数１〜３０の置換もしくは無置換のアルキルアミノ基、炭素数６〜３０の置換もしくは無置換のアリールアミノ基が好ましい。アミノ基の例には、例えば、アミノ、メチルアミノ、ジメチルアミノ、アニリノ、Ｎ-メチル−アニリノ、ジフェニルアミノ、ヒドロキシエチルアミノ、カルボキシエチルアミノ、スルフォエチルアミノ、３，５−ジカルボキシアニリノなどを挙げることができる。

Ｒ¹、Ｒ²又はＲ³で表されるアシルアミノ基は、ホルミルアミノ基、炭素数１〜３０の置換もしくは無置換のアルキルカルボニルアミノ基、炭素数６〜３０の置換もしくは無置換のアリールカルボニルアミノ基が好ましい。アシルアミノ基の例には、ホルミルアミノ、アセチルアミノ、ピバロイルアミノ、ラウロイルアミノ、ベンゾイルアミノ、３，４，５−トリ−ｎ−オクチルオキシフェニルカルボニルアミノなどを挙げることができる。

Ｒ¹、Ｒ²又はＲ³で表されるアミノカルボニルアミノ基は、炭素数１〜３０の置換もしくは無置換のアミノカルボニルアミノ基が好ましい。アミノカルボニルアミノ基の例には、カルバモイルアミノ、Ｎ，Ｎ−ジメチルアミノカルボニルアミノ、Ｎ，Ｎ−ジエチルアミノカルボニルアミノ、モルホリノカルボニルアミノなどを挙げることができる。

Ｒ¹、Ｒ²又はＲ³で表されるアルコキシカルボニルアミノ基は、炭素数２〜３０の置換もしくは無置換アルコキシカルボニルアミノ基が好ましい。アルコキシカルボニルアミノ基の例には、メトキシカルボニルアミノ、エトキシカルボニルアミノ、ｔ−ブトキシカルボニルアミノ、ｎ−オクタデシルオキシカルボニルアミノ、Ｎ−メチルーメトキシカルボニルアミノなどを挙げることができる。

Ｒ¹、Ｒ²又はＲ³で表されるアリールオキシカルボニルアミノ基は、炭素数７〜３０の置換もしくは無置換のアリールオキシカルボニルアミノ基が好ましい。アリールオキシカルボニルアミノ基の例には、フェノキシカルボニルアミノ、ｐ−クロロフェノキシカルボニルアミノ、ｍ−ｎ−オクチルオキシフェノキシカルボニルアミノなどを挙げることができる。

Ｒ¹、Ｒ²又はＲ³で表されるスルファモイルアミノ基は、炭素数０〜３０の置換もしくは無置換のスルファモイルアミノ基が好ましい。スルファモイルアミノ基の例には、スルファモイルアミノ、Ｎ，Ｎ−ジメチルアミノスルホニルアミノ、Ｎ−ｎ−オクチルアミノスルホニルアミノなどを挙げることができる。

Ｒ¹、Ｒ²又はＲ³で表されるアルキルもしくはアリールスルホニルアミノ基は、炭素数１〜３０の置換もしくは無置換のアルキルスルホニルアミノ基、炭素数６〜３０の置換もしくは無置換のアリールスルホニルアミノ基が好ましい。アルキルスルホニルアミノ基およびアリールスルホニルアミノ基の例には、メチルスルホニルアミノ、ブチルスルホニルアミノ、フェニルスルホニルアミノ、２，３，５−トリクロロフェニルスルホニルアミノ、ｐ−メチルフェニルスルホニルアミノなどを挙げることができる。

Ｒ¹、Ｒ²又はＲ³で表されるアルキルチオ基は、炭素数１〜３０の置換もしくは無置換のアルキルチオ基が好ましい。アルキルチオ基の例には、メチルチオ、エチルチオ、ｎ−ヘキサデシルチオなどを挙げることができる。

Ｒ¹、Ｒ²又はＲ³で表されるスルファモイル基は、炭素数０〜３０の置換もしくは無置換のスルファモイル基が好ましい。スルファモイル基の例には、Ｎ−エチルスルファモイル、Ｎ−（３−ドデシルオキシプロピル）スルファモイル、Ｎ，Ｎ−ジメチルスルファモイル、Ｎ−アセチルスルファモイル、Ｎ−ベンゾイルスルファモイル、Ｎ−（Ｎ’−フェニルカルバモイル）スルファモイル）などを挙げることができる。

Ｒ¹、Ｒ²又はＲ³で表されるアルキルもしくはアリールスルフィニル基は、炭素数１〜３０の置換又は無置換のアルキルスルフィニル基、６〜３０の置換又は無置換のアリールスルフィニル基が好ましい。アルキルもしくはアリールスルフィニル基の例には、例えば、メチルスルフィニル、エチルスルフィニル、フェニルスルフィニル、ｐ−メチルフェニルスルフィニルなどを挙げることができる。

Ｒ¹、Ｒ²又はＲ³で表されるアルキルもしくはアリールスルホニル基は、炭素数１〜３０の置換又は無置換のアルキルスルホニル基、６〜３０の置換又は無置換のアリールスルホニル基が好ましい。アルキルもしくはアリールスルホニル基の例には、メチルスルホニル、エチルスルホニル、フェニルスルホニル、ｐ−トルエンスルホニルなどを挙げることができる。

Ｒ¹、Ｒ²又はＲ³で表されるアシル基は、ホルミル基、炭素数２〜３０の置換又は無置換のアルキルカルボニル基、炭素数７〜３０の置換もしくは無置換のアリールカルボニル基、炭素数４〜３０の置換もしくは無置換の炭素原子でカルボニル基と結合しているヘテロ環カルボニル基が好ましい。アシル基の例には、例えば、アセチル、ピバロイル、２−クロロアセチル、ステアロイル、ベンゾイル、ｐ−ｎ−オクチルオキシフェニルカルボニル、２−ピリジルカルボニル、２−フリルカルボニルなどを挙げることができる。

Ｒ¹、Ｒ²又はＲ³で表されるアリールオキシカルボニル基は、炭素数７〜３０の置換もしくは無置換のアリールオキシカルボニル基が好ましい。アリールオキシカルボニル基の例には、フェノキシカルボニル、ｏ−クロロフェノキシカルボニル、ｍ−ニトロフェノキシカルボニル、ｐ−ｔ−ブチルフェノキシカルボニルなどを挙げることができる。

Ｒ¹、Ｒ²又はＲ³で表されるアルコキシカルボニル基は、炭素数２〜３０の置換もしくは無置換アルコキシカルボニル基が好ましい。アルコキシカルボニル基の例には、メトキシカルボニル、エトキシカルボニル、ｔ−ブトキシカルボニル、ｎ−オクタデシルオキシカルボニルなどを挙げることができる。

Ｒ¹、Ｒ²又はＲ³で表されるカルバモイル基は、炭素数１〜３０の置換もしくは無置換のカルバモイル基が好ましい。カルバモイル基の例には、カルバモイル、Ｎ−メチルカルバモイル、Ｎ，Ｎ−ジメチルカルバモイル、Ｎ，Ｎ−ジ−ｎ−オクチルカルバモイル、Ｎ−（メチルスルホニル）カルバモイルなどを挙げることができる。

Ｒ¹、Ｒ²又はＲ³で表されるアリールもしくはヘテロ環アゾ基は、例えば、フェニルアゾ、４−メトキシフェニルアゾ、４−ピバロイルアミノフェニルアゾ、２−ヒドロキシ−４−プロパノイルフェニルアゾなどを挙げることができる。

Ｒ¹、Ｒ²又はＲ³で表されるイミド基は、例えば、Ｎ−スクシンイミド、Ｎ−フタルイミドなどを挙げることができる。

Ｒ¹およびＲ²は、好ましくは各々独立に、水素原子、置換または無置換のアルキル基、置換または無置換のアルケニル基、置換または無置換のアリール基、置換または無置換のヘテロ環基、置換または無置換のアシルアミノ基、置換または無置換のアミノカルボニルアミノ基、置換または無置換のアルコキシカルボニルアミノ基、または置換または無置換のアミノ基であり、より好ましくは水素原子、置換または無置換のアルキル基である。

Ｒ³は、好ましくは水素原子、または置換もしくは無置換のアルキル基、置換または無置換のアルケニル基、置換または無置換のアリール基、置換または無置換のヘテロ環基である。より好ましくは水素原子または置換もしくは無置換のアルキル基である。

Ａ¹は、結合している両端の炭素原子と共にヘテロ環を形成する原子団を表す。Ａ¹は酸性核を形成する原子群である場合が特に好ましい。Ｊａｍｅｓ編，ＴｈｅＴｈｅｏｒｙｏｆｔｈｅＰｈｏｔｏｇｒａｐｈｉｃＰｒｏｃｅｓｓ，第４版，マクミラン社，１９７７年，第１９８頁、およびＦ．Ｍ．Ｈａｒｍｅｒ著，ＨｅｔｅｒｏｃｙｃｌｉｃＣｏｍｐｏｕｎｄｓ−ＣｙａｎｉｎｅＤｙｅｓａｎｄＲｅｌａｔｅｄＣｏｍｐｏｕｎｄｓ，Ｊｏｈｎ＆Ｗｉｌｅｙ＆Ｓｏｎｓ，ＮｅｗＹｏｒｋ，Ｌｏｎｄｏｎ，１９６４年刊により定義され、好ましくは、Ａ¹は５員または６員の含窒素複素環を形成する原子群を表わす。これらはさらにベンゼン環、ベンゾフラン環、ピリジン環、ピロール環、インドール環、チオフェン環などで縮環されていてもよい。Ａ¹により形成される環（核）としては、具体的には、２−ピラゾリン−５−オン、ピラゾリジン−３，５−ジオン、イミダゾリン−５−オン、ヒダントイン、２または４−チオヒダントイン、２−イミノオキサゾリジン−４−オン、２−オキサゾリン−５−オン、２−チオオキサゾリン−２，４−ジオン、イソローダニン、ローダニン、インダン−１，３−ジオン、チオフェン−３−オン、チオフェン−３−オン−１，１−ジオキシド、インドリン−２−オン、インドリン−３−オン、２−オキソインダゾリウム、５，７−ジオキソ−６，７−ジヒドロチアゾロ〔３，２−ａ〕ピリミジン、３，４−ジヒドロイソキノリン−４−オン、１，３−ジオキサン−４，６−ジオン、バルビツール酸、２−チオバルビツール酸、クマリン−２，４−ジオン、インダゾリン−２−オン、ピリド[１,２−ａ]ピリミジン−１，３−ジオン、ピラゾロ〔１，５−ｂ〕キナゾロン、ピラゾロピリドン、３−ジシアノメチリデニル−３−フェニルプロピオニトリル、メルドラム酸などの核が挙げられ、好ましくは、２−ピラゾリン−５−オンである。これらはさらに置換基を有していても良い。

Ｂ¹は、両端の炭素原子、窒素原子と共に、ヘテロ環を形成する原子団を表す。Ｂ¹は各々５員または６員の含窒素複素環を形成する原子群が好ましい。これらはさらにベンゼン環、ベンゾフラン環、ピリジン環、ピロール環、インドール環、チオフェン環などで縮環されていてもよい。Ｂ¹としては炭素数３〜２５のオキサゾール核（例えば、３−メチルオキサゾール−２−イル）、炭素数３〜２５のチアゾール核（例えば、３−メチルチアゾール−２−イル）、炭素数３〜２５のイミダゾール核（例えば、１，３−ジエチルイミダゾール−２−イル）、炭素数１０〜３０のインドレニン核（例えば、３，３−ジメチルインドレニン）、炭素数９〜２５のキノリン核（例えば、１−メチルキノリン−２−イル）、炭素数３〜２５のセレナゾール核（例えば、３−メチルベンゾセレナゾール−２−イル）、炭素数５〜２５のピリジン核（例えば、２−ピリジル）、チアゾリン核、オキサゾリン核、セレナゾリン核、テルラゾリン核、テルラゾール核、ベンゾテルラゾール核、イミダゾリン核、イミダゾ［４，５−キノキザリン］核、オキサジアゾール核、チアジアゾール核、テトラゾール核、ピリミジン核を形成する原子団を挙げることができる。これらはさらに置換基を有していても良い。

上記一般式（１）で表される色素のうち、好ましくは下記一般式（２）で表される色素である。以下、下記一般式（２）で表される色素について詳細に説明する。

一般式（２）中、Ｒ¹、Ｒ²およびＲ³はそれぞれ一般式（１）中のＲ¹、Ｒ²およびＲ³と同義であり、好ましい範囲も同じである。Ｒ⁴、Ｒ⁵、Ｒ⁶、Ｒ⁷およびＲ⁸は各々独立に水素原子または置換基を表す。該置換基としては、前述したＲ¹、Ｒ²およびＲ³で説明したものが挙げられる。ｎ１は０〜４の整数を表し、ｎ２は０〜５の整数を表す。ここで、ｎ１が２〜４の整数を表すとき又はｎ２が２〜５の整数を表すとき、複数のＲ⁴又は複数のＲ⁸は各々同じでも異なっていてもよい。

Ｒ⁴およびＲ⁸は、好ましくは各々独立に、ハロゲン原子、アルキル基、アルケニル基、アルキニル基、アリール基、ヘテロ環基、シアノ基、アルコキシ基、アリールオキシ基、アシルオキシ基、カルバモイルオキシ基、アルコキシカルボニルオキシ基、アリールオキシカルボニルオキシ基、アミノ基、アシルアミノ基、アミノカルボニルアミノ基、アルコキシカルボニルアミノ基、アリールオキシカルボニルアミノ基、スルファモイルアミノ基、アルキルもしくはアリールスルホニルアミノ基、アルキルチオ基、スルファモイル基、アルキルもしくはアリールスルフィニル基、アルキルもしくはアリールスルホニル基、アシル基、アリールオキシカルボニル基、アルコキシカルボニル基、カルバモイル基であり、より好ましくは水素原子、ハロゲン原子、アルキル基、アルケニル基、アリール基、ヘテロ環基、アルコキシ基、アリールオキシ基、アシルオキシ基、カルバモイルオキシ基、アルコキシカルボニルオキシ基、アリールオキシカルボニルオキシ基、アミノ基、アシルアミノ基、アミノカルボニルアミノ基、アルコキシカルボニルアミノ基、アリールオキシカルボニルアミノ基、アルキルチオ基、アシル基、アリールオキシカルボニル基、アルコキシカルボニル基、カルバモイル基であり、さらに好ましくは、ハロゲン原子、置換または無置換のアルキル基、置換または無置換のアルケニル基、置換または無置換のアリール基、置換または無置換のヘテロ環基であり、より好ましくは置換または無置換のアルキル基である。

Ｒ⁵およびＲ⁶は、好ましくは一般式（１）におけるＲ¹、Ｒ²と同様であり、より好ましくは各々独立に、水素原子、置換または無置換のアルキル基、置換または無置換のアルケニル基、置換または無置換のアリール基、置換または無置換のヘテロ環基であり、さらに好ましくは水素原子、置換または無置換のアルキル基である。

Ｒ⁷は、好ましくは、水素原子、置換または無置換のアルキル基、置換または無置換のアルケニル基、置換または無置換のアリール基、置換または無置換のヘテロ環基、置換もしくは無置換のアミノ基、置換もしくは無置換のアシルアミノ基であり、より好ましくは、水素原子、置換もしくは無置換のアルキル基、置換もしくは無置換のアミノ基、置換もしくは無置換のアシルアミノ基である。

一般式（２）で表される色素の好ましい置換基の組み合わせについては種々の置換基の少なくとも１つが前記の好ましい基である化合物が好ましく、より多くの種々の置換基が前記好ましい基である化合物がより好ましく、全ての置換基が前記好ましい基である化合物が最も好ましい。

具体的に好ましい組み合わせの例は、Ｒ¹が水素原子、Ｒ²が水素原子、Ｒ³が置換もしくは無置換の炭素数１〜６のアルキル基、Ｒ⁴が置換もしくは無置換の炭素数１〜６のアルキル基、Ｒ⁵が置換もしくは無置換の炭素数１〜６のアルキル基、Ｒ⁶が置換もしくは無置換の炭素数１〜６のアルキル基、Ｒ⁷が置換もしくは無置換の炭素数１〜１２のジアルキルアミノ基、Ｒ⁸が置換もしくは無置換の炭素数１〜６のアルコキシカルボニル基または塩素原子、ｎ１が０〜３の整数、ｎ２が０〜３の整数である組み合わせである。より好ましい組み合わせの例は、Ｒ¹が水素原子、Ｒ²が水素原子、Ｒ³が置換もしくは無置換の炭素数１〜６のアルキル基、Ｒ⁵が置換もしくは無置換の炭素数１〜６のアルキル基、Ｒ⁶が置換もしくは無置換の炭素数１〜６のアルキル基、Ｒ⁷が置換もしくは無置換の炭素数１〜１２のジアルキルアミノ基、ｎ１およびｎ２がともに０である組み合わせである。

一般式（３）で表される色素について、詳細に説明する。

一般式（３）中、Ｒ¹¹、Ｒ¹³およびＲ¹⁴は各々独立に水素原子または置換基を表し、Ｒ¹²は置換基を表す。Ｒ¹¹〜Ｒ¹⁴における置換基としては、前述したＲ¹、Ｒ²およびＲ³で説明したものが挙げられる。Ａ²は結合している両端の炭素原子と共にヘテロ環を形成する原子団を表す。ｎ３は０〜４の整数を表す。ここで、ｎ３が２〜４の整数を表すとき複数のＲ¹²は同じでも異なっていてもよい。

Ｒ¹¹は、好ましくは、一般式（１）のＲ¹と同様である。より好ましくは、水素原子、炭素数１〜６の置換もしくは無置換のアルキル基である。最も好ましくは水素原子である。

Ｒ¹²は、好ましくは、一般式（２）のＲ⁴、Ｒ⁸と同様である。より好ましくは、炭素数１〜６の置換もしくは無置換のアルキル基、炭素数１〜６のアルコキシ基、ハロゲン原子である。

Ｒ¹³、Ｒ¹⁴は、好ましくは、一般式（１）のＲ³で述べたものを挙げることができ、好ましい範囲もＲ³と同じである。より好ましくは水素原子、置換もしくは無置換の炭素数１〜６のアルキル基である。

Ａ²は具体例には、一般式（１）のＡ¹で述べたものを挙げることができ、好ましい置換基も同じである。

一般式（３）で表される色素の好ましい置換基の組み合わせについては種々の置換基の少なくとも１つが前記の好ましい基である化合物が好ましく、より多くの種々の置換基が前記好ましい基である化合物がより好ましく、全ての置換基が前記好ましい基である化合物が最も好ましい。

具体的に好ましい組み合わせの例は、Ａ²が置換基を有する２−ピラゾリン−５−オン、Ｒ¹¹が水素原子、Ｒ¹²が炭素数１〜６の置換もしくは無置換のアルキル基または置換もしくは無置換の炭素数１〜６のアルコキシ基、Ｒ¹³が置換もしくは無置換の炭素数１〜６のアルキル基、Ｒ¹⁴が置換もしくは無置換の炭素数１〜６のアルキル基、ｎ３が０〜２の整数である組み合わせである。より好ましい組み合わせの例は、Ａ²が置換基を有する２−ピラゾリン−５−オン、Ｒ¹¹が水素原子、Ｒ¹²が置換もしくは無置換の炭素数１〜６のアルキル基または置換もしくは無置換の炭素数１〜６のアルコキシ基、Ｒ¹³が置換もしくは無置換の炭素数１〜６のアルキル基、Ｒ¹⁴が置換もしくは無置換の炭素数１〜６のアルキル基、ｎ３が０または１である組み合わせである。

一般式（４）で表される色素について、詳細に説明する。

一般式（４）中、Ｄは、ジアゾニウム塩由来の芳香環基または芳香族へテロ環基を表す。Ｒ¹⁵は置換基を表し、Ｒ¹⁶およびＲ¹⁷は各々独立に水素原子または置換基を表す。Ｒ¹⁵〜Ｒ¹⁷における置換基としては、前述したＲ¹、Ｒ²、及びＲ³で説明したものが挙げられる。ｎ４は０〜４の整数を表す。ここで、ｎ４が２〜４の整数を表すとき複数のＲ¹⁵は同じでも異なっていてもよい。

ここで、アゾ色素について詳細に説明する。アゾ色素は、アリールもしくは、ヘテロアリールジアゾニウム塩（ジアゾ成分）と、そのジアゾニウム塩とアゾカップリング反応して色素を生成する酸性の水素原子を有した化合物（カプラー成分）を反応させて合成する色素である。

Ｄは、ジアゾニウム塩から誘導可能な、芳香環基または芳香族へテロ環基であり、該芳香環基または芳香族へテロ環基は置換基を有していてもよい。つまり、Ｄはジアゾ成分である。ジアゾ成分とは、アミノ基を置換基として有するヘテロ環化合物または、ベンゼン誘導体をジアゾ化合物（ジアゾニウム塩）に変換し、カプラーとのジアゾカップリング反応により導入できる部分構造のことであり、アゾ色素の分野では頻繁に使用される概念である。言い換えれば、ジアゾ化反応が可能であるアミノ置換された芳香族ヘテロ環化合物または、芳香族化合物のアミノ基を取り去り一価の基とした置換基である。

芳香族ヘテロ環基の例としては、置換位置を限定しないで例示（すなわち、環として例示）すると、ピロール環、ピラゾール環、トリアゾール環、チアゾール環、イソチアゾール環、ベンゾチアゾール環、１,３,４−チアジアゾール環、１,２,４−チアジアゾール環、オキサゾール環、ベンゾオキサゾール環、イミダゾール環、ベンゾイソチアゾール環、チオフェン環、ベンゾチオフェン環、ピリジン環、ピリダジン環、ピリミジン環、ピラジン環、インドール環、キノリン環、プリン環、カルバゾール環、アクリジン環を挙げる事ができる。好ましくはイソチアゾール環、１,３,４−チアジアゾール環、１,２,４−チアジアゾール環である。各複素環はさらに置換基を有していてもよく、さらに縮環していてもよい。
芳香族基としては、例えばフェニル基、ナフチル基が挙げられ、置換基を有していてもよく、さらに縮環していてもよい。

Ｒ¹⁵は、好ましくは、一般式（１）のＲ¹と同様である。より好ましくは、アミノ基、アシルアミノ基、アミノカルボニルアミノ基、アルコキシカルボニルアミノ基、アリールオキシカルボニルアミノ基、スルファモイルアミノ基、アルキルもしくはアリールスルホニルアミノ基である。

Ｒ¹⁶及びＲ¹⁷は、好ましくは、一般式（１）のＲ³で述べたものを挙げることができ、好ましい範囲もＲ³と同じである。より好ましくは水素原子、置換または無置換の炭素数１〜６のアルキル基である。

一般式（４）で表される色素の好ましい置換基の組み合わせについては種々の置換基の少なくとも１つが前記の好ましい基である化合物が好ましく、より多くの種々の置換基が前記好ましい基である化合物がより好ましく、全ての置換基が前記好ましい基である化合物が最も好ましい。

具体的に好ましい組み合わせの例は、Ｄが置換基を有するイソチアゾール環から誘導される一価の基または置換基を有する１，３，４−チアジアゾール環から誘導される一価の基、Ｒ¹⁵がアシルアミノ基、Ｒ¹⁶が置換もしくは無置換の炭素数１〜６のアルキル基、Ｒ¹⁷が置換もしくは無置換の炭素数１〜６のアルキル基、ｎ４が０〜４の整数である組み合わせである。より好ましい組み合わせの例は、Ｄが置換基を有するイソチアゾール環から誘導される一価の基または置換基を有する１，３，４−チアジアゾール環から誘導される一価の基、Ｒ¹⁵がアシルアミノ基、Ｒ¹⁶が置換もしくは無置換の炭素数１〜６のアルキル基、Ｒ¹⁷が置換もしくは無置換の炭素数１〜６のアルキル基、ｎ４が１、Ｒ¹⁵の置換位置がアゾ基に対してｏ−位である組み合わせである。

一般式（５）で表される色素について、詳細に説明する。

一般式（５）中、Ａ³は、結合している両端の炭素原子と共にヘテロ環を形成する原子団を表す。ＥＷＧ¹は電子求引性基を表し、Ｒ¹⁸は置換基を表し、Ｒ¹⁹およびＲ²⁰は各々独立に水素原子または置換基を表し、Ｒ¹⁸〜Ｒ²⁰における置換基としては、前述したＲ¹、Ｒ²およびＲ³で説明したものが挙げられる。ｎ５は０〜４の整数を表す。ここで、ｎ５が２〜４の整数を表すとき複数のＲ¹⁸は同じでも異なっていてもよい。

Ａ³の具体例には、一般式（１）のＡ¹で述べたものを挙げることができ、好ましい置換基も同じである。

ＥＷＧ¹は、Ｈａｍｍｅｔｔの置換基定数σ_p値が０以上の電子求引性基が置換を表す。ＥＷＧ¹はσ_p値が０．３０以上の電子求引性基が好ましく、０．４５以上の電子求引性基が更に好ましく、０．６０以上の電子求引性基が特に好ましい。σ_p値が０．６０以上の電子求引性基の例は、ニトロ基、シアノ基、メタンスルホニル基、トリフルオロメタンスルホニル基、トリフルオロアセチル基、ジメチルアミノスルホニル基、スルファモイル基などが挙げられ、σ_p値が０．４５以上の電子求引性基の例は、アルコキシカルボニル基、アシル基、カルボキシ基が挙げられ、σ_p値が０．３０以上の電子求引性基の例はスルホ基、カルバモイル基が挙げられる。より好ましくは、シアノ基、カルボキシル基、アルコキシカルボニル基、カルバモイル基であり、さらに好ましくはシアノ基、アルコキシカルボニル基、カルバモイル基であり、最も好ましくはシアノ基、カルバモイル基である。

ここで、Ｈａｍｍｅｔｔの置換基定数σ_p値について若干説明する。Ｈａｍｍｅｔｔ則は、ベンゼン誘導体の反応または平衡に及ぼす置換基の影響を定量的に論ずるために１９３５年Ｌ．Ｐ．Ｈａｍｍｅｔｔにより提唱された経験則であるが、これは今日広く妥当性が認められている。Ｈａｍｍｅｔｔ則で求められた置換基定数にはσ_p値とσ_m値があり、これらの値は多くの一般的な成書に見出すことができるが、例えば、Ｊ．Ａ．Ｄｅａｎ編「Ｌａｎｇｅ’ｓＨａｎｄｂｏｏｋｏｆＣｈｅｍｉｓｔｒｙ」第１２版，１９７９年（ＭｃＧｒａｗ−Ｈｉｌｌ）や「化学の領域」増刊１２２号，９６〜１０３頁，１９７９年（南光堂）に詳しい。なお、本明細書において各置換基をＨａｍｍｅｔｔの置換基定数σ_pにより限定したり、説明したりするが、これは上記の成書で見出せる、文献既知の値がある置換基にのみ限定されるという意味ではなく、その値が文献未知であってもＨａｍｍｅｔｔ則に基づいて測定した場合にその範囲内に包まれるであろう置換基をも含むことはいうまでもない。また、前記一般式中には、ベンゼン誘導体ではないものも含まれるが、置換基の電子効果を示す尺度として、置換位置に関係なくσ_p値を使用する。本明細書においてσ_p値をこのような意味で使用する。

Ｒ¹⁸の好ましい例には、一般式（２）のＲ⁴、Ｒ⁸で述べたような置換基が挙げられる。より好ましくは水素原子、炭素数１〜６のアルキル基、炭素数１〜６のアルコキシ基である。

Ｒ¹⁹及びＲ²⁰の好ましい例には一般式（１）のＲ³で述べたような置換基が挙げられ、好ましい範囲も同じである。より好ましくは各々独立に、水素原子、または、置換もしくは無置換のアルキル基、置換もしくは、無置換のアリール基、置換もしくは、無置換のへテロ環基であり、さらに好ましくは水素原子、または置換もしくは無置換のアルキル基である。

一般式（５）で表される色素の好ましい置換基の組み合わせについては種々の置換基の少なくとも１つが前記の好ましい基である化合物が好ましく、より多くの種々の置換基が前記好ましい基である化合物がより好ましく、全ての置換基が前記好ましい基である化合物が最も好ましい。

具体的に好ましい組み合わせの例は、Ａ³が置換基を有する２−ピラゾリン−５−オン環を形成する基、ＥＷＧ¹がシアノ基、Ｒ¹⁸が置換もしくは無置換の炭素数１〜６のアルキル基または置換もしくは無置換の炭素数１〜６のアルコキシ基、Ｒ¹⁹が置換もしくは無置換の炭素数１〜６のアルキル基、Ｒ²⁰が置換もしくは無置換の炭素数１〜６のアルキル基、ｎ５が０〜４の整数である組み合わせである。より好ましい組み合わせの例は、Ａ³が置換基を有する２−ピラゾリン−５−オン環を形成する基、ＥＷＧ^１がシアノ基、Ｒ¹⁹が置換もしくは無置換の炭素数１〜６のアルキル基、Ｒ²⁰が置換もしくは無置換の炭素数１〜６のアルキル基、ｎ５が０である組み合わせである。

一般式（６）で表される色素について、詳細に説明する。

一般式（６）中、ＥＷＧ²は電子求引性基を表し、Ｒ²¹およびＲ²⁴は各々独立に置換基を表し、Ｒ²²、Ｒ²³およびＲ²⁵は各々独立に置換基を表し、Ｒ²¹〜Ｒ²⁵における置換基としては、前述したＲ¹、Ｒ²及びＲ³で説明したものが挙げられる。ｎ６、ｎ７は各々独立に０〜４の整数を表す。ここで、ｎ６が２〜４の整数を表すとき又はｎ７が２〜４の整数を表すとき、複数のＲ²¹又は複数のＲ²⁴は各々同じでも異なっていてもよい。

ＥＷＧ²は具体例には、一般式（５）のＥＷＧ¹で述べたものを挙げることができ、好ましい範囲も同じである。ＥＷＧ²はσ_p値が０．３０以上の電子求引性基が好ましく、０．４５以上の電子求引性基がより好ましい。具体的により好ましくはシアノ基、炭素数１〜６の置換もしくは無置換カルバモイル基であり、さらに好ましくは無置換のカルバモイル基である。

Ｒ²¹、Ｒ²⁴、Ｒ²⁵の例には、一般式（２）のＲ⁴、Ｒ⁸で述べたような置換基が挙げられ、好ましい範囲も同じである。より好ましくは水素原子、炭素数１〜６のアルキル基、炭素数１〜６のアルコキシ基、ハロゲン原子、アシルアミノ基があり、更に好ましくは水素原子、炭素数１〜６のアルキル基、ハロゲン原子、アシルアミノ基である。最も好ましくは水素原子である。

Ｒ²²及びＲ²³の例には、一般式（１）のＲ³で述べたような置換基が挙げられ、好ましい範囲も同じである。より好ましくは水素原子、置換もしくは無置換の炭素数１〜６のアルキル基である。

一般式（６）で表される色素の好ましい置換基の組み合わせについては種々の置換基の少なくとも１つが前記の好ましい基である化合物が好ましく、より多くの種々の置換基が前記好ましい基である化合物がより好ましく、全ての置換基が前記好ましい基である化合物が最も好ましい。

具体的に好ましい組み合わせの例は、ＥＷＧ²が置換カルバモイル基、Ｒ²¹が置換もしくは無置換の炭素数１〜６のアルキル基、Ｒ²²が置換もしくは無置換の炭素数１〜６のアルキル基、Ｒ²³が置換もしくは無置換の炭素数１〜６のアルキル基、Ｒ²⁴が置換もしくは無置換の炭素数１〜６のアルキル基、Ｒ²⁵が水素原子、ｎ６が０〜４の整数、ｎ７が０〜４の整数である組み合わせである。より好ましい組み合わせの例は、ＥＷＧ²が置換カルバモイル基、Ｒ²²が置換もしくは無置換の炭素数１〜６のアルキル基、Ｒ²³が置換もしくは無置換の炭素数１〜６のアルキル基、Ｒ²⁵が水素原子、ｎ６とｎ７がともに０である組み合わせである。

また、前記感熱転写受像シートの受容層に塩化ビニル系ポリマーを含む場合、本発明に用いられるインクシートの色素層には、イエロー色素として前記一般式（７）又は（８）で表される少なくとも１種の色素を含むことが好ましく、マゼンタ色素として前記一般式（９）、（１０）又は（１１）のいずれかで表される少なくとも１種の色素を含むことが好ましく、シアン色素として前記一般式（１２）又は（１３）で表される少なくとも１種の色素を含むことが好ましい。

一般式（７）で表される色素について、詳細に説明する。

一般式（７）中、Ｒ⁵¹およびＲ⁵²は各々独立に置換基を表し、該置換基としては、前述したＲ¹、Ｒ²およびＲ³で説明したものが挙げられる。ｎ８は０〜５の整数を表し、ｎ９は、０〜４の整数を表す。ここで、ｎ８が２〜５の整数を表すとき又はｎ９が２〜４の整数を表すとき、複数のＲ⁵¹又は複数のＲ⁵²は各々同じでも異なっていてもよい。

Ｒ⁵¹の例には、一般式（２）のＲ⁴、Ｒ⁸で述べたような置換基が挙げられ、好ましい範囲も同じである。より好ましくは水素原子、炭素数１〜６のアルキル基である。最も好ましくは炭素数１〜６のアルキル基である。

Ｒ⁵²の例には、一般式（２）のＲ⁴、Ｒ⁸で述べたような置換基が挙げられ、好ましい範囲も同じである。好ましくは炭素数６〜１０のアリールオキシカルボニル基、炭素数１〜６のアルコキシカルボニル基、置換もしくは無置換のカルバモイル基であり、より好ましくは置換カルバモイル基である。

一般式（７）で表される色素の好ましい置換基の組み合わせについては種々の置換基の少なくとも１つが前記の好ましい基である化合物が好ましく、より多くの種々の置換基が前記好ましい基である化合物がより好ましく、全ての置換基が前記好ましい基である化合物が最も好ましい。

具体的に好ましい組み合わせの例は、Ｒ⁵¹が炭素数１〜６のアルキル基、Ｒ⁵²が置換もしくは無置換のカルバモイル基または炭素数６〜１０のアリールオキシカルボニル基または炭素数１〜６のアルコキシカルボニル基、ｎ８が０〜３の整数、ｎ９が０〜３の整数である組み合わせである。より好ましい組み合わせの例は、Ｒ⁵¹が炭素数１〜６のアルキル基、Ｒ⁵²が置換もしくは無置換のカルバモイル基または炭素数６〜１０のアリールオキシカルボニル基または炭素数１〜６のアルコキシカルボニル基、ｎ８が０〜２の整数、ｎ９が０〜２の整数である組み合わせである。さらに好ましい組み合わせの例は、Ｒ⁵¹が炭素数１〜６のアルキル基、Ｒ⁵²が置換もしくは無置換のカルバモイル基または炭素数６〜１０のアリールオキシカルボニル基または炭素数１〜６のアルコキシカルボニル基、ｎ８が０または１、ｎ９が０〜２の整数である組み合わせである。

一般式（８）で表される色素について、詳細に説明する。

一般式（８）中、Ｒ⁶¹は置換基を表す。Ｒ⁶²、Ｒ⁶³およびＲ⁶⁴は各々独立に水素原子または置換基を表す。Ｒ⁶¹〜Ｒ⁶⁴における置換基としては前述したＲ¹、Ｒ²、及びＲ³で説明したものが挙げられる。ｎ１０は０〜４の整数を表す。ここで、ｎ１０が２〜４の整数を表すとき複数のＲ⁶¹は同じでも異なっていてもよい。

Ｒ⁶¹の例には、一般式（２）のＲ⁴、Ｒ⁸で述べたような置換基が挙げられ、好ましい範囲も同じである。より好ましくは水素原子、炭素数１〜６のアルキル基である。最も好ましくは炭素数１〜６のアルキル基である。
Ｒ⁶²、Ｒ⁶³の例には、一般式（１）のＲ³で述べたような置換基が挙げられ、好ましい範囲も同じである。より好ましくは水素原子、置換もしくは無置換の炭素数１〜６のアルキル基である。
Ｒ⁶⁴の例には、一般式（１）のＲ¹、Ｒ²で述べたような置換基が挙げられる。好ましくは水素原子、炭素数１〜６のアルキル基であり、より好ましくは水素原子である。

一般式（８）で表される色素の好ましい置換基の組み合わせについては種々の置換基の少なくとも１つが前記の好ましい基である化合物が好ましく、より多くの種々の置換基が前記好ましい基である化合物がより好ましく、全ての置換基が前記好ましい基である化合物が最も好ましい。

具体的に好ましい組み合わせの例は、Ｒ⁶¹が置換もしくは無置換の炭素数１〜６のアルキル基、Ｒ⁶²が置換もしくは無置換の炭素数１〜６のアルキル基、Ｒ⁶³が置換もしくは無置換の炭素数１〜６のアルキル基、Ｒ⁶⁴が水素原子、ｎ１０が０〜４の整数である組み合わせである。より好ましい組み合わせの例は、Ｒ⁶¹が置換もしくは無置換の炭素数１〜６のアルキル基、Ｒ⁶²が置換もしくは無置換の炭素数１〜６のアルキル基、Ｒ⁶³が置換もしくは無置換の炭素数１〜６のアルキル基、Ｒ⁶⁴が水素原子、ｎ１０が０または１である組み合わせである。

一般式（９）または（１０）で表される色素について、詳細に説明する。

一般式（９）中、Ｒ⁷¹およびＲ⁷³は各々独立に水素原子または置換基を表し、Ｒ⁷²およびＲ⁷⁴は各々独立に置換基を表す。ｎ１１は０〜４の整数を表す。ｎ１２は０〜２の整数を表す。ここで、ｎ１１が２〜４の整数を表すとき又はｎ１２が２を表すとき、複数のＲ⁷⁴又は複数のＲ⁷²は各々同じでも異なっていてもよい。Ｒ⁷¹〜Ｒ⁷⁴における置換基としては、前述したＲ¹、Ｒ²およびＲ³で説明したものが挙げられる。

Ｒ⁷¹、Ｒ⁷³の例としては、一般式（１）のＲ³で述べたような置換基が挙げられ、好ましい範囲も同じである。より好ましくは水素原子、置換もしくは無置換の炭素数１〜６のアルキル基であり、さらに好ましくは、水素原子である。

Ｒ⁷²、Ｒ⁷⁴の例としては、一般式（２）のＲ⁴、Ｒ⁸で述べたような置換基が挙げられる。好ましくはアルコキシ基、アリールオキシ基、アシルオキシ基、カルバモイルオキシ基、アルコキシカルボニルオキシ基、アリールオキシカルボニルオキシ基であり、より好ましくはアルコキシ基、アリールオキシ基である。各基は置換基を有していてもよい。

一般式（１０）中、Ｒ⁸¹は水素原子または置換基を表す。Ｒ⁸²、Ｒ⁸⁴は各々独立に置換基を表す。ｎ１３は０〜４の整数を表し、ｎ１４は０〜２の整数を表す。ここで、ｎ１３が２〜４の整数を表すとき又はｎ１４が２を表すとき、複数のＲ⁸⁴又は複数のＲ⁸²は各々同じでも異なっていてもよい。Ｒ⁸¹、Ｒ⁸²、Ｒ⁸⁴における置換基としては、前述したＲ¹、Ｒ²、及びＲ³で説明したものが挙げられる。

Ｒ⁸¹の例としては、一般式（１）のＲ³で述べたような置換基が挙げられ、好ましい範囲も同じである。より好ましくは水素原子、置換もしくは無置換の炭素数１〜６のアルキル基であり、さらに好ましくは、水素原子である。

Ｒ⁸²、Ｒ⁸⁴の例としては、一般式（２）のＲ⁴、Ｒ⁸で述べたような置換基が挙げられる。好ましくはアルコキシ基、アリールオキシ基、アシルオキシ基、カルバモイルオキシ基、アルコキシカルボニルオキシ基、アリールオキシカルボニルオキシ基であり、より好ましくはアルコキシ基、アリールオキシ基である。各基は置換基を有していてもよい。

一般式（９）または（１０）で表される色素の好ましい置換基の組み合わせについては種々の置換基の少なくとも１つが前記の好ましい基である化合物が好ましく、より多くの種々の置換基が前記好ましい基である化合物がより好ましく、全ての置換基が前記好ましい基である化合物が最も好ましい。

具体的に一般式（９）における置換基の好ましい組み合わせの例は、Ｒ⁷¹が水素原子、Ｒ⁷²がアリールオキシ基、Ｒ⁷³が水素原子、ｎ１１が０、ｎ１２が０〜２の整数である組み合わせである。より好ましい組み合わせは、Ｒ⁷¹が水素原子、Ｒ⁷²がアリールオキシ基、Ｒ⁷³が水素原子、ｎ１１が０、ｎ１２が２である組み合わせである。
具体的に一般式（１０）における置換基の好ましい組み合わせ例は、Ｒ⁸¹が水素原子、かつＲ⁸²がアリールオキシ基、ｎ１３が１または２、ｎ１４が０である組み合わせである。より好ましい組み合わせは、Ｒ⁸¹が水素原子、かつＲ⁸²がアリールオキシ基、ｎ１３が１、ｎ１４が０である組み合わせである。さらに好ましい組み合わせは、Ｒ⁸¹が水素原子、かつＲ⁸²がアリールオキシ基、ｎ１３が１、ｎ１４が０であり、Ｒ⁸²がアミノ基に対してｏ−位に置換された組み合わせである。

一般式（１１）で表される色素について、詳細に説明する。

一般式（１１）中、Ｒ⁹¹は水素原子または置換基を表す。Ｒ⁹³およびＲ⁹⁴は各々独立に水素原子または置換基を表す。Ｒ⁹²は置換基を表す。ｎ１５は０〜２の整数を表す。ここで、ｎ１５が２を表すとき複数のＲ⁹²は同じでも異なっていてもよい。Ｚ¹、Ｚ²は、どちら一方が＝Ｎ−であり、他方が＝Ｃ(Ｒ⁹⁵)−を表す。Ｚ³、Ｚ⁴は各々独立に＝Ｎ−または＝Ｃ(Ｒ⁹⁶)−を表す。Ｒ⁹⁵およびＲ⁹⁶は各々独立に水素原子または置換基を表す。Ｒ⁹¹〜Ｒ⁹⁶における置換基としては、前述したＲ¹、Ｒ²およびＲ³で説明したものが挙げられる。

Ｒ⁹¹は、好ましくは、水素原子、置換または無置換のアルキル基、置換または無置換のアルケニル基、置換または無置換のアリール基、置換または無置換のヘテロ環基、置換もしくは無置換のアミノ基であり、より好ましくは置換もしくは無置換の炭素数１〜６のアルキル基、置換もしくは無置換の炭素数６〜１０のアリール基である。

Ｒ⁹²の例としては、一般式（２）のＲ⁴、Ｒ⁸で述べたような置換基が挙げられ、好ましい範囲も同じである。より好ましくは、水素原子、置換または無置換の炭素数１〜６のアルキル基である。

Ｒ⁹³、Ｒ⁹⁴の例としては、一般式（１）のＲ³で述べたような置換基が挙げられ、好ましい範囲も同じである。より好ましくは水素原子、置換もしくは無置換の炭素数１〜６のアルキル基であり、さらに好ましくは置換もしくは無置換の炭素数１〜６のアルキル基である。

Ｒ⁹⁵の例としては、一般式（２）のＲ⁴、Ｒ⁸で述べたような置換基が挙げられ、好ましい範囲も同じである。より好ましくは、水素原子、置換または無置換のアルキル基である。

一般式（１１）で表される色素の好ましい置換基の組み合わせについては種々の置換基の少なくとも１つが前記の好ましい基である化合物が好ましく、より多くの種々の置換基が前記好ましい基である化合物がより好ましく、全ての置換基が前記好ましい基である化合物が最も好ましい。

具体的な好ましい組み合わせの例は、Ｚ¹が＝Ｃ(Ｒ⁹⁵)−または＝Ｎ−、Ｚ²が＝Ｎ−または＝Ｃ(Ｒ⁹⁵)−、Ｚ³が＝Ｃ(Ｒ⁹⁶)−、Ｚ⁴が＝Ｎ−、Ｒ⁹¹が置換もしくは無置換のアルキル基、Ｒ⁹²が置換もしくは無置換のアルキル基、Ｒ⁹³が置換もしくは無置換のアルキル基、Ｒ⁹⁴が置換もしくは無置換のアルキル基、Ｒ⁹⁵が水素原子または置換もしくは無置換のアルキル基または置換もしくは無置換のアリール基、Ｒ⁹⁶が水素原子または置換もしくは無置換のアルキル基または置換もしくは無置換のアリール基、ｎ１５が０である組み合わせである。より好ましい組み合わせの例は、Ｚ¹が＝Ｃ(Ｒ⁹⁵)−、Ｚ²が＝Ｎ−、Ｚ³が＝Ｃ(Ｒ⁹⁶)−、Ｚ⁴が＝Ｎ−、Ｒ⁹¹が置換もしくは無置換のアルキル基、Ｒ⁹²が置換もしくは無置換のアルキル基、Ｒ⁹³が置換もしくは無置換のアルキル基、Ｒ⁹⁴が置換もしくは無置換のアルキル基、Ｒ⁹⁵が水素原子または置換もしくは無置換のアルキル基または置換もしくは無置換のアリール基、Ｒ⁹⁶が水素原子または置換もしくは無置換のアルキル基または置換もしくは無置換のアリール基、ｎ１５が０である組み合わせである。

一般式（１２）または（１３）で表される色素について、詳細に説明する。

Ｒ¹⁰¹およびＲ¹⁰²は各々独立に置換基を表し、Ｒ¹⁰³およびＲ¹⁰⁴は各々独立に水素原子または置換基を表す。Ｒ¹⁰¹〜Ｒ¹⁰⁴における置換基としては、前述したＲ¹、Ｒ²およびＲ³で説明したものが挙げられる。ｎ１６およびｎ１７は各々独立に０〜４の整数を表す。ここで、ｎ１６が２〜４の整数を表すとき又はｎ１７が２〜４の整数を表すとき、複数のＲ¹⁰¹又は複数のＲ¹⁰²は各々同じでも異なっていてもよい。

Ｒ¹⁰¹の例としては、一般式（２）のＲ⁴、Ｒ⁸で述べたような置換基が挙げられ、好ましい範囲も同じである。より好ましくはアミノ基（アルキルアミノ基、アニリノ基を含む）、アシルアミノ基、アミノカルボニルアミノ基、アルコキシカルボニルアミノ基、アリールオキシカルボニルアミノ基、スルファモイルアミノ基、アルキルもしくはアリールスルホニルアミノ基、置換または無置換のアルキル基、ハロゲン原子またはアシルアミノ基であり、さらに好ましくはアシルアミノ基である。好ましい置換位置としては、＝Ｏに対してｏ−位にアシルアミノ基が置換されているものである。
Ｒ¹⁰²の例としては、一般式（２）のＲ⁴、Ｒ⁸で述べたような置換基が挙げられ、好ましい範囲も同じである。より好ましくは、置換または無置換のアルキル基、置換もしくは無置換のアルコキシ基である。
Ｒ¹⁰³、Ｒ¹⁰⁴の例としては、一般式（１）のＲ³で述べたような置換基が挙げられ、好ましい範囲も同じである。より好ましくは置換もしくは無置換のアルキル基、または置換もしくは無置換のアリール基であり、さらに好ましくは置換もしくは無置換のアルキル基である。

具体的な好ましい組み合わせの例は、Ｒ¹⁰¹が塩素原子または置換もしくは無置換の炭素数１〜６のアルキル基またはアシルアミノ基、Ｒ¹⁰²が置換もしくは無置換の炭素数１〜６のアルキル基または置換もしくは無置換の炭素数１〜６のアルコキシ基、Ｒ¹⁰³が置換もしくは無置換の炭素数１〜６のアルキル基、Ｒ¹⁰⁴が置換もしくは無置換の炭素数１〜６のアルキル基、ｎ１６が０〜４の整数、ｎ１７が０〜２の整数である組み合わせである。より好ましい組み合わせの例は、Ｒ¹⁰¹が塩素原子または置換もしくは無置換の炭素数１〜６のアルキル基またはアシルアミノ基（置換位値がカルボニルに対してｏ−位）、Ｒ¹⁰²が置換もしくは無置換の炭素数１〜６のアルキル基または置換もしくは無置換の炭素数１〜６のアルコキシ基、Ｒ¹⁰³が置換もしくは無置換の炭素数１〜６のアルキル基、Ｒ¹⁰⁴が置換もしくは無置換の炭素数１〜６のアルキル基、ｎ１６が１〜３の整数、ｎ１７が０または１である組み合わせである。

一般式（１３）中、Ｒ¹¹¹およびＲ¹¹³は各々独立に水素原子または置換基を表す。Ｒ¹¹²およびＲ¹¹⁴は各々独立に置換基を表す。ｎ１８は、０〜４の整数を表し、ｎ１９は、０〜２の整数を表す。ここで、ｎ１８が２〜４の整数を表すとき又はｎ１９が２を表すとき、複数のＲ¹¹⁴又は複数のＲ¹¹²は各々同じでも異なっていてもよい。Ｒ¹¹¹〜Ｒ¹¹⁴における置換基としては、前述したＲ¹、Ｒ²およびＲ³で説明したものが挙げられる。

Ｒ¹¹¹、Ｒ¹¹³の例としては、一般式（１）のＲ³で述べたような置換基が挙げられ、好ましい範囲も同じである。より好ましくは水素原子、置換もしくは無置換の炭素数１〜６のアルキル基、置換もしくは無置換のアリール基である。

Ｒ¹¹²、Ｒ¹¹⁴の例としては、水素原子や一般式（２）のＲ⁴、Ｒ⁸で述べたような置換基が挙げられ、好ましい範囲も同じである。より好ましくは水素原子である。

一般式（１２）または（１３）で表される色素の好ましい置換基の組み合わせについては種々の置換基の少なくとも１つが前記の好ましい基である化合物が好ましく、より多くの種々の置換基が前記好ましい基である化合物がより好ましく、全ての置換基が前記好ましい基である化合物が最も好ましい。

具体的な好ましい組み合わせの例は、Ｒ¹¹¹が置換もしくは無置換の炭素数１〜６のアルキル基または置換もしくは無置換の炭素数６〜１０のアリール基、Ｒ¹¹³が置換もしくは無置換の炭素数１〜６のアルキル基または置換もしくは無置換の炭素数６〜１０のアリール基、ｎ１８およびｎ１９がともに０である組み合わせである。より好ましい組み合わせの例は、Ｒ¹¹¹が置換もしくは無置換の炭素数１〜６のアルキル基、Ｒ¹¹³が置換もしくは置換もしくは無置換の炭素数６〜１０のアリール基、ｎ１８およびｎ１９がともに０である組み合わせである。

以下に、一般式（１）〜（１３）で表される色素の具体例を以下に示すが本発明に用いられる色素は、下記の例に限定されるものではない。

前記一般式（１）〜（１３）で表される色素のうち、市販されていないものに関しては、米国特許第４，７５７，０４６号、同第３，７７０，３７０号、独国特許第２３１６７５５号、特開２００４−５１８７３号、特開平７−１３７４５５号、特開昭６１−３１２９２号の各公報もしくは明細書、ならびに、Ｊ．Ｃｈｅｍ．Ｓｏｃ．ＰｅｒｋｉｎｔｒａｎｓｆｅｒＩ，２０４７（１９７７）、Ｃｈａｍｐａｎ著，「ＭｅｒｏｃｙａｎｉｎｅＤｙｅ−ＤｏｎｅｒＥｌｅｍｅｎｔＵｓｅｄｉｎｔｈｅｒｍａｌＤｙｅＴｒａｎｓｆｅｒ」に記載の方法に準じて合成することができる。

前記一般式（１）〜（１３）で表される色素は、インクシートの色素層中にそれぞれ１０〜９０質量％含有されることが好ましく、２０〜８０質量％含有されることがより好ましい。

インクシートの色素層の塗布量は、０．１〜１．０ｇ／ｍ²（固形分換算、以下本発明における塗布量は特に断りのない限り、固形分換算の数値である。）が好ましく、更に好ましくは０．１５〜０．６０ｇ／ｍ²である。色素層の膜厚は０．１〜２．０μｍであることが好ましく、更に好ましくは０．１〜１．０μｍである。

インクシートの支持体には、感熱転写受像シートの支持体と同様のものを用いることができ、ポリエチレンテレフタレート等を用いることができる。
前記支持体の厚みとしては、１〜１０μｍが好ましく、２〜１０μｍがより好ましい。

画像形成方法は例えば特開２００５−８８５４５号公報などに記載された方法と同様にして行うことができる。本発明では、消費者にプリント物を提供するまでの時間を短縮するという観点から、プリント時間は１５秒未満が好ましく、５〜１２秒がより好ましい。

以下、本発明を実施例に基づき更に詳細に説明するが、本発明はこれらに限定されるものではない。なお、実施例中で、部または％とあるのは、特に断りのない限り質量基準である。

［インクシートの作製］
（インクシートＤ１の作製）
厚さ６．０μｍのポリエステルフィルム（ルミラー、商品名、東レ(株)製）を基材フィルムとして用いた。そのフィルム背面側に耐熱スリップ層（厚み１μｍ）を形成し、かつ表面側に下記組成のイエロー、マゼンタ、シアン組成物をそれぞれ単色に塗布（乾膜時の塗布量１ｇ／ｍ²）した。
イエローインキ
色素（１）−１２．２部
色素（３）−１２．３部
ポリビニルブチラール樹脂４．５部
（エスレックＢＸ−１、商品名、積水化学工業(株)製）
メチルエチルケトン／トルエン（質量比１／１）９０部
マゼンタインキ
色素（４）−１２．２部
色素（５）−１２．３部
ポリビニルブチラール樹脂４．５部
（エスレックＢＸ−１、商品名、積水化学工業(株)製）
メチルエチルケトン／トルエン（質量比１／１）９０部
シアンインキ
色素（６）−１２．２部
色素（６）−４２．３部
ポリビニルブチラール樹脂４．５部
（エスレックＢＸ−１、商品名、積水化学工業(株)製）
メチルエチルケトン／トルエン（質量比１／１）９０部

（インクシートＤ２の作製）
各単色のインク層のみ下記組成とし、それ以外は試料Ｄ１と同様に作製した。
イエローインキ
色素（１）−２２．２部
色素（３）−２２．３部
ポリビニルブチラール樹脂４．５部
（エスレックＢＸ−１、商品名、積水化学工業(株)製）
メチルエチルケトン／トルエン（質量比１／１）９０部
マゼンタインキ
色素（４）−２２．２部
色素（５）−２２．３部
ポリビニルブチラール樹脂４．５部
（エスレックＢＸ−１、商品名、積水化学工業(株)製）
メチルエチルケトン／トルエン（質量比１／１）９０部
シアンインキ
色素（６）−２２．２部
色素（６）−５２．３部
ポリビニルブチラール樹脂４．５部
（エスレックＢＸ−１、商品名、積水化学工業(株)製）
メチルエチルケトン／トルエン（質量比１／１）９０部

（インクシートＤ３の作製）
各単色のインク層のみ下記組成とし、それ以外は試料Ｄ１と同様に作製した。
イエローインキ
色素（７）−１２．５部
色素（８）−１２．０部
ポリビニルブチラール樹脂４．５部
（エスレックＢＸ−１、商品名、積水化学工業(株)製）
メチルエチルケトン／トルエン（質量比１／１）９０部
マゼンタインキ
色素（９）−１１．０部
色素（１０）−１１．０部
色素（１１）−１２．５部
ポリビニルブチラール樹脂４．５部
（エスレックＢＸ−１、商品名、積水化学工業(株)製）
メチルエチルケトン／トルエン（質量比１／１）９０部
シアンインキ
色素（１２）−１２．０部
色素（１３）−１２．５部
ポリビニルブチラール樹脂４．５部
（エスレックＢＸ−１、商品名、積水化学工業(株)製）
メチルエチルケトン／トルエン（質量比１／１）９０部

（インクシートＤ４の作製）
各単色のインク層のみ下記組成とし、それ以外は試料Ｄ１と同様に作製した。
イエローインキ
色素（７）−２２．５部
色素（８）−２２．０部
ポリビニルブチラール樹脂４．５部
（エスレックＢＸ−１、商品名、積水化学工業(株)製）
メチルエチルケトン／トルエン（質量比１／１）９０部
マゼンタインキ
色素（９）−２１．０部
色素（１０）−２１．０部
色素（１１）−２２．５部
ポリビニルブチラール樹脂４．５部
（エスレックＢＸ−１、商品名、積水化学工業(株)製）
メチルエチルケトン／トルエン（質量比１／１）９０部
シアンインキ
色素（１２）−２２．０部
色素（１３）−２２．５部
ポリビニルブチラール樹脂４．５部
（エスレックＢＸ−１、商品名、積水化学工業(株)製）
メチルエチルケトン／トルエン（質量比１／１）９０部

［受像シートの作製］
（受像シートＲ１の作製）
支持体として合成紙（ユポＦＰＧ２００、厚さ２００μｍ、商品名、(株)ユポ・コーポレーション製）を用い、この一方の面に下記組成の白色中間層、受容層の順にバーコーターにより塗布を行った。それぞれの乾燥時の塗布量は白色中間層１．０ｇ／ｍ²、受容層４．０ｇ／ｍ²となるように塗布を行い、乾燥は各層１１０℃、３０秒間行った。
白色中間層
ポリエステル樹脂（バイロン２００、商品名、東洋紡(株)製）１０質量部
蛍光増白剤１質量部
（ＵｖｉｔｅｘＯＢ、商品名、チバ・スペシャルティ・ケミカルズ(株)製）
酸化チタン３０質量部
メチルエチルケトン／トルエン（質量比１／１）９０質量部
受容層
塩化ビニル−酢酸ビニル樹脂１００質量部
（ソルバインＡ、商品名、日信化学工業(株)製）
アミノ変性シリコーン５質量部
（信越化学工業(株)製、商品名、Ｘ２２−３０５０Ｃ）
エポキシ変性シリコーン５質量部
（信越化学工業(株)製、商品名、Ｘ２２−３００Ｅ）
メチルエチルケトン／トルエン（質量比１／１）４００質量部

（受像シートＲ２の作製）
受容層のみ下記組成とし、それ以外は受像シートＲ１と同様に作製した。
受容層
ポリエステル樹脂１００質量部
（バイロン２００、商品名、東洋紡(株)製）
アミノ変性シリコーン５質量部
（信越化学工業(株)製、商品名、Ｘ２２−３０５０Ｃ）
エポキシ変性シリコーン５質量部
（信越化学工業(株)製、商品名、Ｘ２２−３００Ｅ）
メチルエチルケトン／トルエン（質量比１／１）４００質量部

（受像シートＲ３の作製）
受容層を下記組成のものと変更して、１００℃、２分間で行った。それ以外は、受像シートＲ１と同様に作製した。
受容層
塩化ビニル系ラテックス１１００量部
（ビニブラン９００、商品名、日信化学工業(株)製）
モンタン酸エステルワックス（Ｊ５３７、商品名、中京油脂(株)製）１００量部
フッ素系界面活性剤１質量部
（ＦｌｕｏｒａｄＦＣ−１７０Ｃ、商品名、３ＭＣｏｒｐｏｒａｔｉｏｎ製）
ポリビニルアルコール（ＰＶＡ−１０５、商品名、クラレ(株)製）２５質量部
蒸留水１０００質量部

（受像シートＲ４の作製）
受容層を下記組成のものと変更して、それ以外は受像シートＲ３と同様に作製した。
受容層
ポリエステルラテックス２１８０質量部
（バイロナールＭＤ−１４８０、商品名、東洋紡(株)製）
モンタン酸エステルワックス（Ｊ５３７、商品名、中京油脂(株)製）１００量部
フッ素系界面活性剤１質量部
（ＦｌｕｏｒａｄＦＣ−１７０Ｃ、商品名、３ＭＣｏｒｐｏｒａｔｉｏｎ製）
ポリビニルアルコール（ＰＶＡ−１０５、商品名、クラレ(株)製）２５質量部
蒸留水５００質量部

（受像シートＲ５の作製）
受容層を下記組成のものと変更して、それ以外は受像シートＲ３と同様に作製した。
受容層
ＳＢＲラテックス９１０質量部
（ＬＸ−４１６、商品名、日本ゼオン(株)製）
モンタン酸エステルワックス（Ｊ５３７、商品名、中京油脂(株)製）１００量部
フッ素系界面活性剤１質量部
（ＦｌｕｏｒａｄＦＣ−１７０Ｃ、商品名、３ＭＣｏｒｐｏｒａｔｉｏｎ製）
ポリビニルアルコール（ＰＶＡ−１０５、商品名、クラレ(株)製）２５質量部
蒸留水１０００質量部

（受像シートＲ６の作製）
受容層を下記組成のものと変更して、それ以外は受像シートＲ１と同様に作製した。
受容層
ポリカーボネート樹脂３０質量部
（ＬＥＸＡＮ−１４１、商品名、ＧｅｎｅｒａｌＥｌｅｃｔｒｉｃ社製）
ポリエステル樹脂７０質量部
（バイロン２００、商品名、東洋紡(株)製）
アミノ変性シリコーン５質量部
（信越化学工業(株)製、商品名、Ｘ２２−３０５０Ｃ）
エポキシ変性シリコーン５質量部
（信越化学工業(株)製、商品名、Ｘ２２−３００Ｅ）
塩化メチレン４００質量部

（受像シートＲ７の作製）
受容層を下記組成のものと変更して、それ以外は受像シートＲ１と同様に作製した。
受容層
ポリブチルアクリレート（Ａｌｄｒｉｃｈ社製）３０質量部
ポリメチルメタクリレート（Ａｌｄｒｉｃｈ社製）７０質量部
アミノ変性シリコーン５質量部
（信越化学工業(株)製、商品名、Ｘ２２−３０５０Ｃ）
エポキシ変性シリコーン５質量部
（信越化学工業(株)製、商品名、Ｘ２２−３００Ｅ）
メチルエチルケトン／トルエン（質量比１／１）４００質量部

（受像シートＲ８の作製）
受容層を下記組成のものと変更して、それ以外は受像シートＲ１と同様に作製した。
受容層
ポリビニルアセテート（Ａｌｄｒｉｃｈ社製）７０質量部
ポリスチレン（Ａｌｄｒｉｃｈ社製）３０質量部
アミノ変性シリコーン５質量部
（信越化学工業(株)製、商品名、Ｘ２２−３０５０Ｃ）
エポキシ変性シリコーン５質量部
（信越化学工業(株)製、商品名、Ｘ２２−３００Ｅ）
メチルエチルケトン／トルエン（質量比１／１）４００質量部

（受像シートＲ９の作製）
受容層を下記組成のものと変更して、それ以外は受像シートＲ３と同様に作製した。鹸化度の高いポリビニルアルコールは、結晶性が高く実質的に熱可塑性を示さない素材の例である。
受容層
フッ素系界面活性剤１質量部
（ＦｌｕｏｒａｄＦＣ−１７０Ｃ、商品名、３ＭＣｏｒｐｏｒａｔｉｏｎ製）
ポリビニルアルコール（ＰＶＡ−１０５、商品名、クラレ(株)製）１５０質量部
蒸留水１０００質量部

［熱転写記録］
前記のインクシートＤ１〜Ｄ４と受像シートＲ１〜Ｒ９とを、前者のインク層と後者の受容層とが接するように重ね合わせ、熱転写型プリンタＡ又はＢを用いて画像出力した。ここで、熱転写型プリンタＡとして本明細書の図３に記載された熱記録装置を用い、熱転写型プリンタＢとして、サーマルプリンタにより各ラインを記録する際に周辺の発熱素子に起因する温度変動を抑えるように各発熱素子の発熱量を制御する手段を搭載していない熱転写型プリンタを用いた。
出力画像は一般的な５シーンの画像を各々３０枚用い、画像評価は各画像の画質及び濃度のバラつきを３人の観察者の観察により行い、以下のように評価した。
◎：ほとんど変化が見られない。
○：僅かに変化が見られるが、実質上変化がない。
△：僅かに変化が見られ、バラつきが認識できる。
×：明らかにバラつきが見られる。
更に熱転写型プリンタＡと熱転写型プリンタＢとの最高濃度出力時の制御電圧を１５％上げ、この制御電圧で出力したときに最高濃度が元の条件での最高濃度と同じ値になるように搬送速度を速め、高速処理試験を行った。
出力画像は、搬送方向に、最高濃度、最低濃度が繰り返しパターンになった画像を用いて、尾引きを評価した。
○：尾引きがほとんど観測されない。
△：尾引きが観測される
×：明らかに尾引きが観測され、許容できない。

それぞれの結果を表１〜４に示す。表１は熱転写型プリンタＡを用いた濃度のバラつきの結果を示し、表２は熱転写型プリンタＢを用いた濃度のバラつきの結果を示す。また、表３は熱転写型プリンタＡを用いた高速処理での尾引きの結果を示し、表４は熱転写型プリンタＢを用いた高速処理での尾引きの結果を示す。

表１および表２の結果から明らかなように、熱転写型プリンタＢを用いて出力した画像はいずれも画質及び濃度のバラつきが大きく（試料１１１〜４１９）、また熱転写型プリンタＡを用いて出力した画像であっても、受容層に熱可塑性樹脂を含まない受像シートＲ９を用いた場合は画質及び濃度のバラつきが大きかった（試料１０９、２０９、３０９、４０９）。
これに対し、熱転写型プリンタＡを用いて受容層に熱可塑性樹脂を含む受像シートに出力する本発明の熱転写記録システムによる画像は画質及び濃度のバラつきが小さかった（試料１０１〜１０８、試料２０１〜２０８、試料３０１〜３０８、試料４０１〜４０８）。さらに、前記熱可塑性樹脂としてポリエステル系ポリマー、ポリカーボネート系ポリマーまたは塩化ビニル系ポリマーを含む受像シートＲ１〜Ｒ４及びＲ６を用いた試料１０１〜１０４、試料１０６、試料２０１〜２０４、試料２０６、試料３０１〜３０４、試料３０６、試料４０１〜４０４、試料４０６はバラつきが更に小さかった。特に、前記熱可塑性樹脂としてポリエステル及び／又はポリカーボネート系ポリマーを含む受像シートＲ２、Ｒ４又はＲ６と前記一般式（１）〜（６）のいずれかで表される色素を少なくとも１種含むインクシートＤ１又はＤ２とを併用した試料１０２、試料１０４、試料１０６、試料２０２、試料２０４及び試料２０６、並びに前記熱可塑性樹脂として塩化ビニル系ポリマーを含む受像シートＲ１又はＲ３と前記一般式（７）〜（１３）のいずれかで表される色素を少なくとも１種含むインクシートＤ３又はＤ４とを併用した試料３０１、試料３０３、試料４０１及び試料４０３は、最も画像のバラつきが小さかった。

また、表３および表４の結果から明らかなように、熱転写型プリンタＢを用いて高速処理を行い出力した画像ではいずれも許容できないレベルの明らかな尾引きが観察され（試料１１１〜４１９）、また熱転写型プリンタＡを用いて出力した画像であっても、受容層に熱可塑性樹脂を含まない受像シートＲ９を用いて高速処理を行い出力した場合では、許容できないレベルの明らかな尾引きが観察された（試料１０９、２０９、３０９、４０９）。
これに対し、熱転写型プリンタＡを用いて受容層に熱可塑性樹脂を含む受像シートに出力する本発明の熱転写記録システムによる画像においては高速処理しても中周期的な濃度変動を抑制することができた（試料１０１〜１０８、試料２０１〜２０８、試料３０１〜３０８、試料４０１〜４０８）。
特に、前記熱可塑性樹脂としてポリエステル系ポリマー、ポリカーボネート系ポリマーまたは塩化ビニル系ポリマーを含む受像シートＲ１〜Ｒ４及びＲ６を用いた試料１０１〜１０４、試料１０６、試料２０１〜２０４、試料２０６、試料３０１〜３０４、試料３０６、試料４０１〜４０４、試料４０６では、尾引きがほとんど観察されなかった。

本発明を実施した感熱プリンタの電気的構成の要部を示すブロック図である。同感熱プリンタのサーマルヘッドの自動制御系における等価回路を示す線図である。同感熱プリンタの機械的構成を示す概略図である。サーマルヘッドの駆動電圧を自動制御する系における特性を示すブロック図である。サーマルヘッド駆動部を示すブロック図である。画像データを修正して中及び短周期の温度変動を無くすようにした他の実施態様における自動制御系の特性を示すブロック図である。階調表現駆動パルスを修正して長，中，短周期の各温度変動を無くすようにした他の実施態様における自動制御系の特性を示すブロック図である。バイアスパルス数データを修正して長，中，短周期の各温度変動を無くすようにした他の実施態様における自動制御系の特性を示すブロック図である。サーマルヘッドの発熱素子を拡大して示す断面図である。

符号の説明

２サーマルヘッド
６発熱素子
７グレーズ
８ヘッド温度検出器
１１基板
２０プラテンドラム
２３感熱記録材料（感熱受像シート）
２７発熱素子アレイ
２９筐体
３６環境温度検出器
３７駆動電圧制御部
３８サーマルヘッド駆動部

Claims

ライン状に設けた各発熱素子を画像データに基づき駆動して画像を記録材料に記録するサーマルプリンタを用いる熱転写記録システムであって、前記サーマルプリンタにより各ラインを記録する際に周辺の発熱素子に起因する温度変動を抑えるように各発熱素子の発熱量を制御し、かつ、前記感熱転写受像シートの受容層に熱可塑性樹脂を含むことを特徴とする熱転写記録システム。
前記感熱転写受像シートの受容層に含まれる熱可塑性樹脂の少なくとも１種がポリエステル及び／又はポリカーボネート系ポリマーであることを特徴とする請求項１記載の熱転写記録システム。
前記感熱転写受像シートと重ね合わせて使用されるインクシートに、下記一般式（１）又は（３）で表される少なくとも１種の色素を含むことを特徴とする請求項２記載の熱転写記録システム。

（一般式（１）中、Ｒ¹、Ｒ²およびＲ³は各々独立に水素原子または置換基を表す。Ａ¹は結合している両端の炭素原子と共にヘテロ環を形成する原子団を表す。Ｂ¹は結合している両端の炭素原子、窒素原子と共にヘテロ環を形成する原子団を表す。）

（一般式（３）中、Ｒ¹¹、Ｒ¹³およびＲ¹⁴は各々独立に水素原子または置換基を表す。Ｒ¹²は置換基を表す。Ａ²は結合している両端の炭素原子と共にヘテロ環を形成する原子団を表す。ｎ３は０〜４の整数を表す。ここで、ｎ３が２〜４の整数を表すとき複数のＲ¹²は同じでも異なっていてもよい。）
前記感熱転写受像シートと重ね合わせて使用されるインクシートに、下記一般式（４）又は（５）で表される少なくとも１種の色素を含むことを特徴とする請求項２又は３に記載の熱転写記録システム。

（一般式（４）中、Ｄはジアゾニウム塩由来の芳香環基または芳香族へテロ環基を表す。Ｒ¹⁵は置換基を表し、Ｒ¹⁶およびＲ¹⁷は各々独立に水素原子または置換基を表す。ｎ４は０〜４の整数を表す。ここで、ｎ４が２〜４の整数を表すとき複数のＲ¹⁵は同じでも異なっていてもよい。）

（一般式（５）中、Ａ³は結合している両端の炭素原子と共にヘテロ環を形成する原子団を表す。ＥＷＧ¹は電子吸引基を表す。Ｒ¹⁸は置換基を表し、Ｒ¹⁹およびＲ²⁰は各々独立に水素原子または置換基を表す。ｎ５は０〜４の整数を表す。ここで、ｎ５が２〜４の整数を表すとき複数のＲ¹⁸は同じでも異なっていてもよい。）
前記感熱転写受像シートと重ね合わせて使用されるインクシートに、下記一般式（６）で表される少なくとも１種の色素を含むことを特徴とする請求項２〜４のいずれか１項に記載の熱転写記録システム。

（一般式（６）中、ＥＷＧ²は電子吸引基を表す。Ｒ²¹およびＲ²⁴は各々独立に置換基を表し、Ｒ²²、Ｒ²³およびＲ²⁵は各々独立に水素原子または置換基を表す。ｎ６およびｎ７は各々独立に０〜４の整数を表す。ここで、ｎ６が２〜４の整数を表すとき又はｎ７が２〜４の整数を表すとき、複数のＲ²¹又は複数のＲ²⁴は各々同じでも異なっていてもよい。）
前記感熱転写受像シートの受容層に含まれる熱可塑性樹脂の少なくとも１種が塩化ビニル系ポリマーであることを特徴とする請求項１記載の熱転写記録システム。
前記感熱転写受像シートと重ね合わせて使用されるインクシートに、下記一般式（７）又は（８）で表される少なくとも１種の色素を含むことを特徴とする請求項６記載の熱転写記録システム。

（一般式（７）中、Ｒ⁵¹およびＲ⁵²は各々独立に置換基を表す。ｎ８は０〜５の整数を表す。ｎ９は０〜４の整数を表す。ここで、ｎ８が２〜５の整数を表すとき又はｎ９が２〜４の整数を表すとき、複数のＲ⁵¹又は複数のＲ⁵²は各々同じでも異なっていてもよい。）

（一般式（８）中、Ｒ⁶¹は置換基を表し、Ｒ⁶²、Ｒ⁶³およびＲ⁶⁴は各々独立に水素原子または置換基を表す。ｎ１０は０〜４の整数を表す。ここで、ｎ１０が２〜４の整数を表すとき複数のＲ⁶¹は同じでも異なっていてもよい。）
前記感熱転写受像シートと重ね合わせて使用されるインクシートに、下記一般式（９）、（１０）又は（１１）のいずれかで表される少なくとも１種の色素を含むことを特徴とする請求項６又は７に記載の熱転写記録システム。

（一般式（９）中、Ｒ⁷¹およびＲ⁷³は各々独立に水素原子または置換基を表す。Ｒ⁷²およびＲ⁷⁴は各々独立に置換基を表す。ｎ１１は０〜４の整数を表す。ｎ１２は０〜２の整数を表す。ここで、ｎ１１が２〜４の整数を表すとき又はｎ１２が２を表すとき、複数のＲ⁷⁴又は複数のＲ⁷²は各々同じでも異なっていてもよい。）

（一般式（１０）中、Ｒ⁸¹は水素原子または置換基を表す。Ｒ⁸²およびＲ⁸⁴は各々独立に置換基を表す。ｎ１３は０〜４の整数を表す。ｎ１４は０〜２の整数を表す。ここで、ｎ１３が２〜４の整数を表すとき又はｎ１４が２を表すとき、複数のＲ⁸⁴又は複数のＲ⁸²は各々同じでも異なっていてもよい。）

（一般式（１１）中、Ｒ⁹¹は水素原子または置換基を表す。Ｒ⁹²は置換基を表す。Ｒ⁹³およびＲ⁹⁴は各々独立に水素原子または置換基を表す。ｎ１５は０〜２の整数を表す。ここで、ｎ１５が２を表すとき複数のＲ⁹²は同じでも異なっていてもよい。Ｚ¹およびＺ²は、どちら一方が＝Ｎ−であり、他方が＝Ｃ(Ｒ⁹⁵)−を表す。Ｚ³およびＺ⁴は各々独立に＝Ｎ−または＝Ｃ(Ｒ⁹⁶)−を表す。ここで、Ｒ⁹⁵およびＲ⁹⁶は各々独立に水素原子または置換基を表す。）
前記感熱転写受像シートと重ね合わせて使用されるインクシートに、下記一般式（１２）又は（１３）で表される少なくとも１種の色素を含むことを特徴とする請求項６〜８のいずれか１項に記載の熱転写記録システム。

（一般式（１２）中、Ｒ¹⁰¹およびＲ¹⁰²は各々独立に置換基を表す。Ｒ¹⁰³およびＲ¹⁰⁴は各々独立に水素原子または置換基を表す。ｎ１６およびｎ１７は各々独立に０〜４の整数を表す。ここで、ｎ１６が２〜４の整数を表すとき又はｎ１７が２〜４の整数を表すとき、複数のＲ¹⁰¹又は複数のＲ¹⁰²は各々同じでも異なっていてもよい。）

（一般式（１３）中、Ｒ¹¹¹およびＲ¹¹³は各々独立に水素原子または置換基を表す。Ｒ¹¹²およびＲ¹¹⁴は各々独立に置換基を表す。ｎ１８は０〜４の整数を表す。ｎ１９は０〜２の整数を表す。ここで、ｎ１８が２〜４の整数を表すとき又はｎ１９が２を表すとき、複数のＲ¹¹⁴又は複数のＲ¹¹²は各々同じでも異なっていてもよい。）
前記感熱転写受像シートの受容層にフッ素系離型剤化合物またはシリコーン系離型剤化合物を含むことを特徴とする請求項２〜９のいずれか１項に記載の熱転写記録システム。
前記サーマルプリンタに設けられたサーマルヘッドの発熱量の制御が、画像データに基づく階調表現駆動パルスの幅又は個数を変更して行われることを特徴とする請求項１〜１０のいずれか１項に記載の熱転写記録システム。
前記サーマルプリンタに設けられたサーマルヘッドの発熱量の制御が、バイアスデータに基づくバイアス駆動パルスの幅又は個数を変更して行われることを特徴とする請求項１〜１１のいずれか１項に記載の熱転写記録システム。
前記サーマルヘッドに取り付けられサーマルヘッドの温度を検出する第１の温度検出手段と、前記サーマルヘッドが取り付けられる筐体内の温度を検出する第２の温度検出手段とを設け、前記サーマルヘッドを、基板と、基板に形成したグレーズと、グレーズに形成した発熱素子と、基板に取り付けた前記第１の温度検出手段とから構成され、基板から第１温度検出手段までの熱抵抗と大気の熱抵抗との関係から、第１温度検出手段及び第２温度検出手段の温度信号に基づきグレーズ温度を推測し、この推測したグレーズ温度の変動を抑えるようにサーマルヘッドの発熱量を制御するとともに、各ラインを記録する際のサーマルヘッドのライン記録時の温度変動を画像データから求め、この温度変動を抑えるようにサーマルヘッドの発熱量を制御することを特徴とする請求項１１又は１２に記載の熱転写記録システム。
前記の感熱転写受像シートの受容層が水を主たる媒体として塗布されて形成されることを特徴とする請求項１〜１３のいずれか１項に記載の熱転写記録システム。