JP2007141280A - Stamper, imprint method, and information recording medium manufacturing method - Google Patents

Stamper, imprint method, and information recording medium manufacturing method Download PDF

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Abstract

<P>PROBLEM TO BE SOLVED: To provide a stamper which highly accurately forms a projecting and recessed pattern having a recessed part having a desired aperture length. <P>SOLUTION: In the stamper wherein a projecting and recessed pattern 35 is formed so that an information recording medium in which a data track pattern and a servo pattern are formed by using projecting and recessed patterns are manufactured, a plurality of projecting parts having different heights from a reference surface X regulated between a front surface and a rear surface to a projecting tip part are formed in the projecting and recessed pattern 35. Projecting parts 35a2 and 35a3 having heights higher, in at least a part, than the height of a projecting part 35a1 having the highest height in each projecting part formed in a region corresponding to the data track pattern, are formed in a region corresponding to the servo pattern. <P>COPYRIGHT: (C)2007,JPO&INPIT

Description

本発明は、情報記録媒体の製造時に用いるスタンパー、基材の表面に形成した樹脂層にスタンパーを押し付けてその凹凸形状を転写するインプリント方法、および樹脂層に転写した凹凸パターンを用いて情報記録媒体を製造する情報記録媒体製造方法に関するものである。   The present invention relates to a stamper used at the time of manufacturing an information recording medium, an imprint method in which a stamper is pressed against a resin layer formed on the surface of a substrate to transfer the uneven shape, and information recording using the uneven pattern transferred to the resin layer The present invention relates to an information recording medium manufacturing method for manufacturing a medium.

情報記録媒体等を製造する工程において基材の表面に形成したレジスト層（樹脂層）に微細な凹凸パターン（レジストパターン）を形成する方法として、光リソグラフィ法が従来から知られている。この光リソグラフィ法では、基材上に形成したレジスト層に光を照射して露光パターンを形成した後にレジスト層を現像処理することによって基材の上に凹凸パターンを形成する。また、近年では、一層微細なパターンを形成するための技術として、光に代えて電子ビームを照射することでナノメートルサイズのパターンを描画して凹凸パターンを形成する電子ビームリソグラフィ法が開発されている。しかし、この電子ビームリソグラフィ法では、レジスト層に対するパターンの描画に長時間を要するため、大量生産が困難であるという問題点が存在する。   As a method for forming a fine concavo-convex pattern (resist pattern) on a resist layer (resin layer) formed on the surface of a substrate in a process of manufacturing an information recording medium or the like, a photolithography method has been conventionally known. In this photolithography method, the resist layer formed on the substrate is irradiated with light to form an exposure pattern, and then the resist layer is developed to form an uneven pattern on the substrate. In recent years, as a technique for forming a finer pattern, an electron beam lithography method has been developed in which a nanometer-sized pattern is drawn by irradiating an electron beam instead of light to form a concavo-convex pattern. Yes. However, this electron beam lithography method has a problem that mass production is difficult because it takes a long time to draw a pattern on the resist layer.

この問題点を解決する技術として、ナノメートルサイズの凹凸パターンを形成したスタンパーを基材上の樹脂層に押し付けてスタンパーの凹凸形状を樹脂層に転写することによって基材の上にナノメートルサイズの凹凸パターンを形成するナノインプリントリソグラフィ法（ナノメートルサイズの凹凸パターンを形成するインプリント方法：以下、「インプリント方法」ともいう）が米国特許５７７２９０５号明細書に開示されている。このインプリント方法では、まず、同明細書のＦｉｇ．１Ａに示すように、その転写面にナノメートルサイズ（一例として、最小幅が２５ｎｍ程度）の凹凸パターンが形成されたスタンパー（mold）１０ｚ（以下、米国特許５７７２９０５号明細書に開示されている構成要素については、各符号に「ｚ」を付加して表記する）を製造する。具体的には、シリコン基板（silicon substrate ）１２ｚの表面に形成された酸化シリコン等の薄膜（molding layer ）１４ｚを覆うようにして形成された樹脂層に電子ビームリソグラフィ装置を用いて所望のパターンを描画した後に、反応性イオンエッチング装置によって樹脂層をマスクとして薄膜１４ｚをエッチング処理することにより、複数の凸部（features）１６ｚを有する凹凸パターンを薄膜１４ｚの厚み内に形成する。これにより、スタンパー１０ｚが製造される。   As a technology to solve this problem, a stamper with a nanometer-size uneven pattern is pressed against the resin layer on the substrate to transfer the uneven shape of the stamper to the resin layer. A nanoimprint lithography method for forming a concavo-convex pattern (an imprint method for forming a nanometer-sized concavo-convex pattern: hereinafter, also referred to as “imprint method”) is disclosed in US Pat. No. 5,772,905. In this imprint method, first, FIG. As shown in FIG. 1A, a stamper 10z (hereinafter referred to as US Pat. No. 5,772,905) in which a concavo-convex pattern having a nanometer size (for example, a minimum width of about 25 nm) is formed on the transfer surface The element is expressed by adding “z” to each symbol). More specifically, a desired pattern is formed on the resin layer formed so as to cover the molding layer 14z formed on the surface of the silicon substrate 12z by using an electron beam lithography apparatus. After the drawing, the thin film 14z is etched by a reactive ion etching apparatus using the resin layer as a mask, thereby forming a concavo-convex pattern having a plurality of features 16z within the thickness of the thin film 14z. Thereby, the stamper 10z is manufactured.

次いで、例えば、シリコン製の基材（substrate ）１８ｚの表面にポリメチルメタクリレート（ＰＭＭＡ）をスピンコートして厚み５５ｎｍ程度の樹脂層（薄膜：thin film layer ）２０ｚを形成する。続いて、基材１８ｚおよび樹脂層２０ｚの積層体、並びにスタンパー１０ｚの双方を２００℃程度となるように加熱した後に、同明細書のＦｉｇ．１Ｂに示すように、１３．１ＭＰａ（１３３．６ｋｇｆ／ｃｍ２）の圧力で基材１８ｚ上の樹脂層２０ｚにスタンパー１０ｚの各凸部１６ｚを押し付ける。次いで、スタンパー１０ｚを押し付けた状態の積層体を室温となるまで放置した後に（冷却処理した後に）、樹脂層２０ｚからスタンパー１０ｚを剥離する。これにより、同明細書のＦｉｇ．１Ｃに示すように、スタンパー１０ｚの凹凸パターンにおける各凸部１６ｚが樹脂層２０ｚに転写されて複数の凹部（regions ）２４ｚが形成され、基材１８ｚの上（樹脂層２０ｚ）にナノメートルサイズの凹凸パターンが形成される。
米国特許５７７２９０５号明細書 Next, for example, polymethyl methacrylate (PMMA) is spin-coated on the surface of a silicon substrate 18z to form a resin layer (thin film layer) 20z having a thickness of about 55 nm. Then, after heating both the laminated body of the base material 18z and the resin layer 20z, and the stamper 10z so that it may become about 200 degreeC, FIG. As shown to 1B, each convex part 16z of the stamper 10z is pressed against the resin layer 20z on the base material 18z with a pressure of 13.1 MPa (133.6 kgf / cm 2 ). Next, after the laminate with the stamper 10z pressed is left to reach room temperature (after cooling), the stamper 10z is peeled from the resin layer 20z. As a result, FIG. As shown in FIG. 1C, each convex portion 16z in the concave / convex pattern of the stamper 10z is transferred to the resin layer 20z to form a plurality of concave portions (regions) 24z, and a nanometer size is formed on the substrate 18z (resin layer 20z). An uneven pattern is formed.
US Pat. No. 5,772,905

ところが、従来のインプリント方法には、以下の問題点がある。すなわち、このインプリント方法では、同明細書のＦｉｇ．１Ａ，１Ｂに示すように、凹凸パターンにおける凹部の底面から各凸部１６ｚの突端部までの高さが全域に亘って均一となるように、すなわち、各凸部１６ｚの突端部がほぼ面一となるように形成されたスタンパー１０ｚを樹脂層２０ｚに押し付けて基材１８ｚ上に凹凸パターンを形成している。この場合、スタンパー１０ｚには、形成すべきデータトラックパターンやサーボパターンの形状に応じて、情報記録媒体の周方向（回転方向）に対応する向きに沿った長さ（以下、「周方向の長さ」ともいう）や情報記録媒体の径方向に対応する向きに沿った長さ（以下、「径方向の長さ」ともいう）が相違する各種の凸部１６ｚが形成されている。しかし、従来のインプリント方法では、スタンパー１０ｚの全域に亘ってほぼ均一な押圧力で凹凸パターンを樹脂層２０ｚに押し付けているため、例えば、径方向に長く、かつ周方向の長さも比較的長い凸部１６ｚの形成部位を樹脂層２０ｚに対して十分に押し込むことが困難となっている。   However, the conventional imprint method has the following problems. That is, in this imprinting method, FIG. As shown in 1A and 1B, the height from the bottom surface of the concave portion to the protruding end portion of each convex portion 16z in the concavo-convex pattern is uniform over the entire area, that is, the protruding end portion of each convex portion 16z is substantially flush. The stamper 10z formed so as to become is pressed against the resin layer 20z to form an uneven pattern on the substrate 18z. In this case, the stamper 10z has a length along the direction corresponding to the circumferential direction (rotation direction) of the information recording medium (hereinafter referred to as “circumferential length”) according to the shape of the data track pattern or servo pattern to be formed. And various convex portions 16z having different lengths along the direction corresponding to the radial direction of the information recording medium (hereinafter also referred to as “radial length”). However, in the conventional imprinting method, since the concave / convex pattern is pressed against the resin layer 20z with a substantially uniform pressing force over the entire area of the stamper 10z, for example, it is long in the radial direction and relatively long in the circumferential direction. It is difficult to sufficiently push the portion where the convex portion 16z is formed into the resin layer 20z.

具体的には、図２８に示すように、例えば情報記録媒体におけるデータトラックパターンを形成するための各凸部１６ｚは、その周方向の長さが比較的長いものの、その径方向の長さＬ１１が情報記録媒体の内周側から外周側までの全域において比較的短くなっている。したがって、径方向の長さＬ１１が比較的短い凸部１６ｚが形成されているデータトラックパターンの形成領域では、各凸部１６ｚを押し込んだ際に各凸部１６ｚの周囲の凹部内に向けてＰＭＭＡ（樹脂層２０ｚを形成している樹脂材料）をスムーズに移動させることができる結果、樹脂層２０ｚに各凸部１６ｚを十分に奥深くまで押し込むことができる。この結果、データトラックパターン形成領域では、各凸部１６ｚの突端部と基材１８ｚとの間（凹部２４ｚの底部）の残渣の厚みＴ１１が十分に薄い凹凸パターンを基材１８ｚの上に形成することができる。   Specifically, as shown in FIG. 28, for example, each convex portion 16z for forming a data track pattern in an information recording medium has a relatively long circumferential length, but its radial length L11. However, it is relatively short in the entire area from the inner circumference side to the outer circumference side of the information recording medium. Accordingly, in the data track pattern formation region in which the convex portion 16z having a relatively short radial length L11 is formed, the PMMA is directed toward the concave portion around each convex portion 16z when the convex portion 16z is pushed. As a result of being able to move smoothly (the resin material forming the resin layer 20z), each convex portion 16z can be pushed deeply into the resin layer 20z. As a result, in the data track pattern formation region, a concavo-convex pattern with a sufficiently thin residue T11 between the protruding end of each convex portion 16z and the base material 18z (the bottom portion of the concave portion 24z) is formed on the base material 18z. be able to.

これに対して、図２９に示すように、例えば情報記録媒体におけるサーボパターンのプリアンブルパターンやセクタアドレスパターンを形成するための各凸部１６ｚは、一般的には、その径方向の長さが情報記録媒体における内周部から外周部までの長さに対応して比較的長く、しかも、情報記録媒体の外周部に対応する部位において、その周方向の長さＬ１２も比較的長くなっている。したがって、周方向の長さＬ１２が比較的長い凸部１６ｚが形成されているサーボパターン形成領域（この例では、プリアンブルパターン形成領域やセクタアドレスパターン形成領域における外周部）では、各凸部１６ｚを押し込んだ際に各凸部１６ｚの周囲の凹部内に向けてＰＭＭＡをスムーズに移動させるのが困難なため、樹脂層２０ｚに各凸部１６ｚを十分に奥深くまで押し込むことが困難となる。この結果、サーボパターン（プリアンブルパターン等）を形成すべき領域内の外周部では、各凸部１６ｚの突端部と基材１８ｚとの間の残渣の厚みＴ１２を十分に薄くすることが困難となっている。   On the other hand, as shown in FIG. 29, for example, each convex portion 16z for forming a servo pattern preamble pattern or sector address pattern in an information recording medium generally has a radial length of information. The recording medium is relatively long corresponding to the length from the inner periphery to the outer periphery, and the circumferential length L12 is also relatively longer at the portion corresponding to the outer periphery of the information recording medium. Therefore, in the servo pattern formation region (in this example, the outer peripheral portion of the preamble pattern formation region and the sector address pattern formation region) where the convex portion 16z having a relatively long circumferential length L12 is formed, each convex portion 16z is When it is pushed in, it is difficult to smoothly move the PMMA into the concave portions around each convex portion 16z, so that it becomes difficult to push each convex portion 16z into the resin layer 20z sufficiently deeply. As a result, in the outer peripheral portion in the region where the servo pattern (preamble pattern or the like) is to be formed, it is difficult to sufficiently reduce the thickness T12 of the residue between the protruding end portion of each convex portion 16z and the base material 18z. ing.

また、例えば情報記録媒体におけるサーボパターンのうちの単位バースト領域が凸部で構成されたバーストパターンを形成するための凸部１６ｚ（バーストパターンにおける単位バースト領域間の凹部を形成するための凸部１６ｚ）は、単位バースト領域に対応する凹部の間における周方向の長さが内周部から外周部に向かって徐々に長くなるように規定されている。さらに、情報記録媒体におけるサーボパターンのうちの単位バースト領域が凹部で構成されたバーストパターンを形成するための各凸部１６ｚ（バーストパターンにおける単位バースト領域を形成するための各凸部１６ｚ）は、その周方向の長さが内周部の凸部１６ｚよりも外周部の凸部１６ｚの方が内周部から外周部に向かって徐々に長くなるように規定されている。したがって、周方向の長さが比較的長い凸部１６ｚが形成されているサーボパターン形成領域（この例では、バーストパターン形成領域における外周部）では、各凸部１６ｚを押し込んだ際に各凸部１６ｚの周囲の凹部内に向けてＰＭＭＡをスムーズに移動させるのが困難なため、樹脂層２０ｚに各凸部１６ｚを十分に奥深くまで押し込むことが困難となる。この結果、サーボパターン（バーストパターン）を形成すべき領域内の外周部では、各凸部１６ｚの突端部と基材１８ｚとの間の残渣の厚みを十分に薄くすることが困難となっている。さらに、単位バースト領域が凸部で構成されたバーストパターンを形成するための凸部１６ｚについては、バーストパターン形成領域内における凹部に対する面積比が大きいため、周方向の長さが比較的短い内周部においても樹脂層に対して十分に奥深くまで押し込むことが困難となるおそれがある。   Further, for example, a convex portion 16z for forming a burst pattern in which a unit burst region of a servo pattern in an information recording medium is formed by a convex portion (a convex portion 16z for forming a concave portion between unit burst regions in the burst pattern). ) Is defined so that the circumferential length between the concave portions corresponding to the unit burst region gradually increases from the inner peripheral portion toward the outer peripheral portion. Furthermore, each convex part 16z (each convex part 16z for forming the unit burst area in the burst pattern) for forming a burst pattern in which the unit burst area of the servo pattern in the information recording medium is constituted by a concave part, The circumferential length is defined so that the convex portion 16z on the outer peripheral portion gradually becomes longer from the inner peripheral portion toward the outer peripheral portion than the convex portion 16z on the inner peripheral portion. Therefore, in the servo pattern formation region (in this example, the outer peripheral portion in the burst pattern formation region) where the convex portion 16z having a relatively long circumferential length is formed, each convex portion is formed when the convex portion 16z is pushed. Since it is difficult to smoothly move the PMMA into the recesses around 16z, it is difficult to push each protrusion 16z sufficiently deep into the resin layer 20z. As a result, it is difficult to sufficiently reduce the thickness of the residue between the protruding end of each convex portion 16z and the base material 18z at the outer peripheral portion in the region where the servo pattern (burst pattern) is to be formed. . Further, the convex portion 16z for forming a burst pattern in which the unit burst region is formed of convex portions has a large area ratio with respect to the concave portion in the burst pattern forming region, so that the inner circumferential length is relatively short. There is a risk that it may be difficult to push the resin layer sufficiently deep into the resin layer.

この場合、基材１８ｚ上に形成した凹凸パターンを用いて、情報記録媒体を製造する際には、凹凸パターンにおける各凹部２４ｚの底面の残渣をエッチング処理等によって基材１８ｚ上から取り除く必要がある。したがって、従来のインプリント方法によって基材１８ｚ上に凹凸パターンを形成した場合、例えば周方向の長さＬ１２が長い凸部１６ｚを押し込んだ部位（プリアンブルパターン等の形成領域における外周部）における厚みＴ１２の残渣を取り除くのに長時間を要するという問題点がある。また、前述したように、例えば径方向の長さＬ１１が短い凸部１６ｚを押し込んだ部位（データトラックパターンの形成領域）における残渣の厚みＴ１１は、厚みＴ１２よりも十分に薄くなっている。したがって、厚みＴ１２の残渣を確実に取り除くことができるように十分な時間のエッチング処理を実行したときには、厚みＴ１２の残渣の取り除きが完了するのに先立って、厚みＴ１１の残渣の取り除きが完了する。この結果、厚みＴ１１の残渣が取り除かれた部位（径方向の長さが長さＬ１１の凹部２４ｚ）では、厚みＴ１２の残渣の取り除きが完了するまでエッチングされ続けることによって凹部２４ｚの内側壁が浸食されて凹部２４ｚの径方向の長さ（開口長）が拡がってしまう。このため、従来のインプリント方法には、基材１８ｚ上に凹凸パターンを形成する際に、残渣の取り除き後（エッチング処理後）の各凹部２４ｚの長さ（開口長）を所望の幅に形成するのが困難であるという問題点が存在する。   In this case, when an information recording medium is manufactured using the concavo-convex pattern formed on the base material 18z, it is necessary to remove the residue on the bottom surface of each concave portion 24z in the concavo-convex pattern from the base material 18z by an etching process or the like. . Therefore, when a concavo-convex pattern is formed on the base material 18z by a conventional imprint method, for example, the thickness T12 at a portion where the convex portion 16z having a long circumferential length L12 is pushed (the outer peripheral portion in the formation region of the preamble pattern or the like). There is a problem that it takes a long time to remove the residue. Further, as described above, for example, the thickness T11 of the residue in the portion (data track pattern formation region) where the convex portion 16z having a short radial length L11 is pushed is sufficiently thinner than the thickness T12. Therefore, when the etching process is performed for a sufficient time so that the residue of thickness T12 can be surely removed, the removal of residue of thickness T11 is completed before the removal of residue of thickness T12 is completed. As a result, at the portion where the residue of thickness T11 has been removed (the recess 24z having a length in the radial direction of length L11), the inner wall of the recess 24z is eroded by continuing to be etched until the removal of the residue of thickness T12 is completed. As a result, the length in the radial direction (opening length) of the recess 24z is increased. For this reason, in the conventional imprint method, when forming the concave / convex pattern on the substrate 18z, the length (opening length) of each concave portion 24z after removing the residue (after the etching process) is formed in a desired width. There is a problem that it is difficult to do.

本発明は、かかる問題点に鑑みてなされたものであり、所望の開口長の凹部を有する凹凸パターンを高精度で形成し得るスタンパー、インプリント方法および情報記録媒体製造方法を提供することを主目的とする。   The present invention has been made in view of such problems, and mainly provides a stamper, an imprint method, and an information recording medium manufacturing method capable of forming a concave / convex pattern having a concave portion having a desired opening length with high accuracy. Objective.

上記目的を達成すべく本発明に係るスタンパーは、データトラックパターンおよびサーボパターンが凹凸パターンで形成された情報記録媒体を製造可能にスタンパー側凹凸パターンが形成され、前記スタンパー側凹凸パターンには、表面と裏面との間に規定した基準面から突端部までの高さが相違する複数種類の凸部が形成されると共に、前記データトラックパターンに対応する領域内に形成された前記各凸部のうちで前記高さが最も高い第１の凸部よりも少なくとも一部分における前記高さが高い第２の凸部が前記サーボパターンに対応する領域内に形成されている。なお、本明細書における「スタンパーの表面」とは、「スタンパー側凹凸パターンにおける凹部の底面」、すなわち、「スタンパー側凹凸パターンの形成面」を意味する。この場合、スタンパー側凹凸パターンにおける各凹部の底面が面一ではないときには、いずれかの凹部の底面（一例として、各凹部の底面のうちのスタンパーの裏面に最も近い底面）を本発明における「スタンパーの表面」とする。さらに、本発明における「表面と裏面との間」には、「スタンパーの表面」および「スタンパーの裏面」の双方が含まれるものとする。また、本明細書における「基準面」とは、スタンパーの表面から裏面までの間に規定した任意の面を意味する。   In order to achieve the above object, the stamper according to the present invention has a stamper-side concavo-convex pattern formed on the stamper-side concavo-convex pattern so that an information recording medium in which a data track pattern and a servo pattern are formed as a concavo-convex pattern can be manufactured And a plurality of types of convex portions having different heights from the reference surface to the projecting end portion defined between the back surface and the back surface, and among the convex portions formed in a region corresponding to the data track pattern The second convex portion having a height that is at least partially higher than the first convex portion having the highest height is formed in a region corresponding to the servo pattern. In this specification, “the surface of the stamper” means “the bottom surface of the recess in the stamper-side concavo-convex pattern”, that is, “the formation surface of the stamper-side concavo-convex pattern”. In this case, when the bottom surface of each recess in the stamper-side concavo-convex pattern is not flush, the bottom surface of one of the recesses (as an example, the bottom surface closest to the back surface of the stamper among the bottom surfaces of each recess) The surface. Furthermore, “between the front surface and the back surface” in the present invention includes both “the front surface of the stamper” and “the back surface of the stamper”. Further, the “reference plane” in the present specification means an arbitrary plane defined between the front surface and the back surface of the stamper.

また、本発明に係るスタンパーは、前記第２の凸部として前記情報記録媒体の径方向に対応する向きに沿って連続的に形成された第３の凸部が前記スタンパー側凹凸パターンに形成され、前記情報記録媒体の周方向に対応する向きの長さが前記第１の凸部における前記径方向に対応する向きの長さよりも長い部位において当該第１の凸部よりも前記高さが高くなるように前記第３の凸部が形成されている。なお、本明細書における「周方向に対応する向きの（凸部の）長さ」とは、「１つの凸部における互いに対向する側壁面間の周方向に沿った距離」を意味する。また、本明細書における「径方向に対応する向きの（凸部の）長さ」とは、「１つの凸部における互いに対向する側壁面間の径方向に沿った距離」を意味する。   In the stamper according to the present invention, as the second convex portion, a third convex portion continuously formed along the direction corresponding to the radial direction of the information recording medium is formed in the stamper-side concavo-convex pattern. The height of the direction of the information recording medium corresponding to the circumferential direction is higher than that of the first convex portion at a portion where the length of the first convex portion is longer than the length corresponding to the radial direction. The third convex portion is formed so as to be. In the present specification, the “length in the direction corresponding to the circumferential direction (the convex portion)” means “the distance along the circumferential direction between the side wall surfaces facing each other in one convex portion”. Further, “the length in the direction corresponding to the radial direction (of the convex portion)” in this specification means “the distance along the radial direction between the side wall surfaces facing each other in one convex portion”.

さらに、本発明に係るスタンパーは、前記サーボパターンのうちのバーストパターンにおける単位バースト領域に対応する部位が凹部で構成されると共に、当該凹部の周囲に前記第２の凸部としての第４の凸部が形成されて前記スタンパー側凹凸パターンが構成され、少なくとも一部分における前記高さが前記第１の凸部よりも高くなるように前記第４の凸部が形成されている。なお、本明細書における「単位バースト領域」とは、情報記録媒体における周方向に沿って並ぶ略平行四辺形（平行四辺形状）または略楕円形（円形を含む）の複数の凸部または複数の凹部の領域の各々をいう。   Further, in the stamper according to the present invention, the portion corresponding to the unit burst area in the burst pattern of the servo pattern is configured by a recess, and the fourth protrusion as the second protrusion is formed around the recess. The stamper-side concavo-convex pattern is formed, and the fourth convex portion is formed so that the height of at least a part thereof is higher than that of the first convex portion. In the present specification, the “unit burst area” refers to a plurality of convex portions or a plurality of substantially parallelogram (parallelogram shape) or substantially ellipse (including a circle) aligned along the circumferential direction in the information recording medium. Each of the concave regions is referred to.

また、本発明に係るスタンパーは、その全域における前記高さが前記第１の凸部よりも高くなるように前記第４の凸部が形成されている。   In the stamper according to the present invention, the fourth convex portion is formed so that the height in the entire region is higher than that of the first convex portion.

また、本発明に係るインプリント方法は、基材の表面に樹脂材料を塗布して形成した樹脂層に上記のいずれかのスタンパーにおける前記スタンパー側凹凸パターンを押し付けるスタンパー押付け処理と、前記樹脂層から前記スタンパーを剥離するスタンパー剥離処理とをこの順で実行して、前記スタンパー側凹凸パターンの凹凸形状を前記樹脂層に転写する。   Further, the imprint method according to the present invention includes a stamper pressing process for pressing the stamper-side uneven pattern in any one of the above stampers onto a resin layer formed by applying a resin material to the surface of a substrate, and from the resin layer A stamper peeling process for peeling the stamper is performed in this order, and the uneven shape of the stamper side uneven pattern is transferred to the resin layer.

また、本発明に係る情報記録媒体製造方法は、上記のインプリント方法によって前記樹脂層に転写した凹凸パターンを用いて情報記録媒体を製造する。   In addition, the information recording medium manufacturing method according to the present invention manufactures an information recording medium using the uneven pattern transferred to the resin layer by the imprint method.

本発明に係るスタンパー、およびそのスタンパーを用いたインプリント方法によれば、データトラックパターンに対応する領域内に形成した各凸部のうちで高さが最も高い第１の凸部よりも少なくとも一部分における高さが高い第２の凸部をサーボパターンに対応する領域内に形成してスタンパー側凹凸パターンを構成したことにより、インプリント時にスタンパーの全域（データトラックパターンの形成領域およびサーボパターンの形成領域）に亘って均一な押圧力でスタンパーを樹脂層に押し付けた際に、樹脂層に押し込み難い凸部が数多く存在するサーボパターンの形成領域内における各凸部を樹脂層に十分に奥深く押し込むことができる。このため、データトラックパターン形成の領域内における各凸部およびサーボパターンの形成領域内における各凸部を樹脂層に対して同程度で、しかも十分に押し込むことができる結果、基材上の残渣の厚みを基材の全域に亘って均一化することができる。したがって、残渣の取り除きに要する時間が全域に亘ってほぼ同程度の時間とすることができるため、データトラックパターン領域に対応する領域内において樹脂層に転写されている凹凸パターンにおける各凹部の側壁面が浸食されて各凹部が意図しない広い開口幅に形成される事態を回避することができる。これにより、データトラックパターン領域およびサーボパターン領域の両領域に亘って所望通りの開口幅の凹部を有する凹凸パターンを高精度で形成することができる。また、高精度に形成した凹凸パターンを用いて情報記録媒体を製造することにより、記録再生エラーが生じ難い情報記録媒体を製造することができる。   According to the stamper and the imprint method using the stamper according to the present invention, at least a part of the first convex portion having the highest height among the convex portions formed in the region corresponding to the data track pattern. The stamper side uneven pattern is formed by forming the second convex portion having a high height in the region corresponding to the servo pattern, so that the entire area of the stamper (formation of the data track pattern formation region and the servo pattern is formed during imprinting. When the stamper is pressed against the resin layer with a uniform pressing force over the area), each protrusion in the servo pattern formation area where there are many protrusions that are difficult to be pressed into the resin layer is pressed deeply into the resin layer. Can do. For this reason, each protrusion in the data track pattern formation region and each protrusion in the servo pattern formation region can be pushed into the resin layer at the same level and sufficiently, and as a result, The thickness can be made uniform over the entire area of the substrate. Therefore, since the time required for removing the residue can be substantially the same over the entire area, the side wall surface of each recess in the uneven pattern transferred to the resin layer in the region corresponding to the data track pattern region It is possible to avoid a situation where each recess is formed to have an unintended wide opening width due to erosion. As a result, a concave / convex pattern having a concave portion having a desired opening width can be formed with high accuracy over both the data track pattern region and the servo pattern region. In addition, by manufacturing an information recording medium using a concavo-convex pattern formed with high accuracy, it is possible to manufacture an information recording medium in which recording / reproducing errors are unlikely to occur.

また、本発明に係るスタンパーによれば、情報記録媒体の周方向に対応する向きの長さが第１の凸部における径方向に対応する向きの長さよりも長い部位において第１の凸部よりも高さが高くなるように第３の凸部を形成したことにより、例えば、プリアンブルパターン形成用の凸部や、セクタアドレスパターン形成用の凸部のように、その外周部において周方向の長さがデータトラックパターン形成用の第１の凸部における径方向の長さよりも長い各第３の凸部についてもデータトラックパターン形成用の第１の凸部と同程度で、しかも十分な深さまで樹脂層に押し込むことができる。このため、データトラックパターン領域に対応する領域（データトラックパターンの形成領域）内の残渣の厚みとサーボパターン領域に対応する領域（サーボパターンの形成領域）内の残渣の厚みとをほぼ均一にすることができる。   Further, according to the stamper according to the present invention, the length of the direction corresponding to the circumferential direction of the information recording medium is longer than the length of the first protrusion at a portion longer than the length of the direction corresponding to the radial direction of the first protrusion. Since the third convex portion is formed so that the height is increased, the circumferential length of the outer peripheral portion of the third convex portion, such as a convex portion for forming a preamble pattern or a convex portion for forming a sector address pattern, is increased. The third protrusions whose length is longer than the radial length of the first protrusions for forming the data track pattern are the same as the first protrusions for forming the data track pattern, and to a sufficient depth. It can be pushed into the resin layer. Therefore, the residue thickness in the region corresponding to the data track pattern region (data track pattern formation region) and the residue thickness in the region corresponding to the servo pattern region (servo pattern formation region) are made substantially uniform. be able to.

さらに、本発明に係るスタンパーによれば、少なくとも一部分における高さが第１の凸部よりも高くなるように第４の凸部を形成したことにより、バーストパターン形成用の第４の凸部においてインプリント処理時に樹脂層に対して押し込み難い外周部について、データトラックパターン形成用の第１の凸部と同程度で、しかも十分な深さまで樹脂層に確実に押し込むことができる。このため、データトラックパターン領域に対応する領域（データトラックパターンの形成領域）内の残渣の厚みとバーストパターン領域に対応する領域（バーストパターンの形成領域）内の残渣の厚みとをほぼ均一にすることができる。   Furthermore, according to the stamper according to the present invention, the fourth convex portion for forming the burst pattern is formed by forming the fourth convex portion so that the height of at least a portion is higher than the first convex portion. The outer peripheral portion that is difficult to be pushed into the resin layer during the imprinting process can be reliably pushed into the resin layer to the same extent as the first convex portion for forming the data track pattern and to a sufficient depth. Therefore, the residue thickness in the region corresponding to the data track pattern region (data track pattern formation region) and the residue thickness in the region corresponding to the burst pattern region (burst pattern formation region) are made substantially uniform. be able to.

また、本発明に係るスタンパーによれば、その全域における高さが第１の凸部よりも高くなるように第４の凸部を形成したことにより、凹部に対する面積比が大きいことで樹脂層に対して押し込み難いバーストパターン形成用の第４の凸部について、その内周部から外周部の全域において十分な深さまで樹脂層に押し込むことができる。   Further, according to the stamper according to the present invention, the fourth convex portion is formed so that the height in the entire region is higher than that of the first convex portion, so that the resin layer has a large area ratio to the concave portion. On the other hand, the fourth convex part for forming the burst pattern which is difficult to be pushed in can be pushed into the resin layer to a sufficient depth from the inner peripheral part to the entire outer peripheral part.

また、本発明に係る情報記録媒体製造方法によれば、上記のインプリント方法によって樹脂層に転写した凹凸パターンを用いて情報記録媒体を製造することにより、サーボ信号を確実に取得できるため、所望のトラックに対して磁気ヘッドを正確にトラッキングさせることができると共に、データ記録トラックに対する記録データの正確な記録、およびデータ記録トラックからの記録データの正確な読み取りが可能な情報記録媒体を製造することができる。   Further, according to the information recording medium manufacturing method according to the present invention, the servo signal can be reliably obtained by manufacturing the information recording medium using the uneven pattern transferred to the resin layer by the above imprint method. Manufacturing an information recording medium capable of accurately tracking the magnetic head with respect to the tracks of the recording medium and accurately recording the recording data on the data recording track and reading the recording data from the data recording track. Can do.

以下、添付図面を参照して、本発明に係るスタンパー、インプリント方法および情報記録媒体製造方法の最良の形態について説明する。   The best mode of a stamper, an imprint method, and an information recording medium manufacturing method according to the present invention will be described below with reference to the accompanying drawings.

最初に、本発明に係るスタンパーを用いて情報記録媒体を製造するインプリント装置１００の構成について、図面を参照して説明する。   First, a configuration of an imprint apparatus 100 that manufactures an information recording medium using a stamper according to the present invention will be described with reference to the drawings.

図１に示すインプリント装置１００は、プレス機１１０および制御部１２０を備え、本発明に係るインプリント方法に従い、図２，３に示す情報記録媒体１の製造時において中間体１０（図４参照）にスタンパー２０（図５参照）を押し付けて凹凸パターン３６（図２３参照）を形成可能に構成されている。この場合、情報記録媒体１は、ディスクリートトラック型の磁気記録媒体であって、図２に示すように、各データトラックパターン領域Ａｔの間にサーボパターン領域Ａｓが設けられてデータトラックパターン領域Ａｔおよびサーボパターン領域Ａｓが情報記録媒体１の回転方向（周方向：矢印Ｒの向き）において交互に並ぶように規定されている。また、図３に示すように、データトラックパターン領域Ａｔには、所定の配列ピッチで互いに分割された同心円状の数多くのデータ記録用トラックおよびガードバンド部からなるデータトラックパターンが複数の凸部５ａおよび複数の凹部５ｂを有する凹凸パターン５（凹凸パターン５ｔ）によって形成され、サーボパターン領域Ａｓには、トラッキングサーボ制御用の各種サーボパターンが複数の凸部５ａおよび複数の凹部５ｂを有する凹凸パターン５（凹凸パターン５ｓ）によって形成されている。なお、同図および図５では、本発明についての理解を容易とするために、各凸部や各凹部の長さを実際とは異なる長さで図示している。また、本明細書では、回転方向において並ぶ２つのデータトラックパターン領域Ａｔによって挟まれた領域（１つのデータトラックパターン領域Ａｔにおける回転方向に対して下流側の端部から、他の１つのデータトラックパターン領域Ａｔにおける回転方向に対して上流側の端部までの間の領域）をサーボパターン領域Ａｓとする。   An imprint apparatus 100 shown in FIG. 1 includes a press machine 110 and a control unit 120. When the information recording medium 1 shown in FIGS. 2 and 3 is manufactured according to the imprint method according to the present invention, the intermediate 10 (see FIG. 4). ) Is pressed against the stamper 20 (see FIG. 5) to form an uneven pattern 36 (see FIG. 23). In this case, the information recording medium 1 is a discrete track type magnetic recording medium, and as shown in FIG. 2, a servo pattern area As is provided between each data track pattern area At, and the data track pattern area At and The servo pattern areas As are defined so as to be alternately arranged in the rotation direction of the information recording medium 1 (circumferential direction: direction of arrow R). Further, as shown in FIG. 3, the data track pattern area At includes a plurality of convex portions 5a each having a plurality of convex portions 5a. The data track pattern includes a large number of concentric data recording tracks and guard band portions that are divided from each other at a predetermined arrangement pitch. In addition, the servo pattern region As is formed with a concavo-convex pattern 5 having a plurality of concave portions 5b, and various servo patterns for tracking servo control have a plurality of convex portions 5a and a plurality of concave portions 5b. It is formed by (uneven pattern 5s). In FIG. 5 and FIG. 5, in order to facilitate understanding of the present invention, the length of each convex portion and each concave portion is illustrated with a length different from the actual length. Further, in this specification, an area sandwiched between two data track pattern areas At aligned in the rotation direction (from one end of the data track pattern area At to another data track from the downstream side with respect to the rotation direction). A region between the end of the pattern region At and the upstream side with respect to the rotation direction) is defined as a servo pattern region As.

また、図４に示すように、中間体１０は、一例として、アルミナ、シリコン、ガラスまたはセラミック等で円板状に形成されたディスク状基材１１の上に磁性層１２、金属層１３および樹脂層１４がこの順で積層されて（形成されて）構成されている。この場合、実際には、ディスク状基材１１と磁性層１２との間に軟磁性層や配向層等の各種機能層が存在するが、本発明についての理解を容易とするために、これらについての説明および図示を省略する。なお、この例では、ディスク状基材１１、磁性層１２および金属層１３によって本発明における基材が構成されている。また、樹脂層１４を形成する樹脂材料については、後述するようにスタンパー２０を剥離した際に形成される凹凸パターン３６の凹凸形状が良好となることから、一例として、ポリスチレン系樹脂、メタクリル樹脂（ＰＭＭＡ）、ポリスチレン、フェノール系樹脂およびノボラック系樹脂などを用いるのが好ましい。この場合、この中間体１０では、一例として、ノボラック系樹脂によって厚みが４０ｎｍ以上１００ｎｍ以下の範囲内（一例として、７０ｎｍ）となるように樹脂層１４が形成されているものとする。   As shown in FIG. 4, the intermediate body 10 includes, as an example, a magnetic layer 12, a metal layer 13, and a resin on a disk-shaped substrate 11 formed in a disk shape with alumina, silicon, glass, ceramic, or the like. The layer 14 is configured by being stacked (formed) in this order. In this case, actually, there are various functional layers such as a soft magnetic layer and an orientation layer between the disk-shaped substrate 11 and the magnetic layer 12. The description and illustration are omitted. In this example, the disk-shaped substrate 11, the magnetic layer 12, and the metal layer 13 constitute the substrate in the present invention. Moreover, about the resin material which forms the resin layer 14, since the uneven | corrugated shape of the uneven | corrugated pattern 36 formed when the stamper 20 is peeled becomes favorable so that it may mention later, as an example, polystyrene-type resin, methacrylic resin ( PMMA), polystyrene, phenolic resin and novolac resin are preferably used. In this case, in this intermediate body 10, as an example, the resin layer 14 is formed with a novolac resin so that the thickness is in the range of 40 nm to 100 nm (for example, 70 nm).

一方、図５に示すように、スタンパー（モールド）２０は、電極膜２１およびニッケル層２２が積層されて厚みが３００μｍ程度の円板状に形成され、その裏面（同図における上面）が平坦となるように形成されると共に、中間体１０の樹脂層１４に凹凸パターン３６を形成するための凹凸パターン３５（本発明におけるスタンパー側凹凸パターンの一例）がその表面（凹凸パターン３５における各凹部３５ｂの底面：同図における下面）に形成されている。また、スタンパー２０には、後述するように、樹脂層１４からの剥離に際して樹脂材料の付着を防止するために、電極膜２１の表面（凹凸パターン３５の表面）に例えばフッ素系材料のコーティング処理を施して密着力軽減膜２３が形成されている。なお、密着力軽減膜２３を形成する材料については、フッ素系材料のコーティング材に限定されず、樹脂層１４との密着力を軽減し得る各種材料を採用することができる。この場合、このスタンパー２０の凹凸パターン３５は、情報記録媒体１における凹凸パターン５（凹凸パターン５ｔ，５ｓ）の各凹部５ｂに対応して各凸部３５ａが形成されると共に、凹凸パターン５の各凸部５ａに対応して各凹部３５ｂが形成されている。   On the other hand, as shown in FIG. 5, the stamper (mold) 20 is formed in a disc shape having a thickness of about 300 μm by laminating an electrode film 21 and a nickel layer 22, and its back surface (upper surface in the figure) is flat. The concave / convex pattern 35 (an example of the stamper side concave / convex pattern in the present invention) for forming the concave / convex pattern 36 on the resin layer 14 of the intermediate body 10 is formed on the surface thereof (on each concave portion 35b in the concave / convex pattern 35). Bottom surface: formed on the bottom surface in FIG. In addition, as will be described later, the surface of the electrode film 21 (the surface of the concavo-convex pattern 35) is coated on the stamper 20 with, for example, a fluorine-based material in order to prevent the resin material from adhering to the stamper 20 when it is peeled off from the resin layer 14. Thus, an adhesion reducing film 23 is formed. The material for forming the adhesion reducing film 23 is not limited to the fluorine-based coating material, and various materials that can reduce the adhesion with the resin layer 14 can be employed. In this case, the concavo-convex pattern 35 of the stamper 20 is formed with the respective convex portions 35a corresponding to the respective concave portions 5b of the concavo-convex pattern 5 (the concavo-convex patterns 5t and 5s) in the information recording medium 1, and Recesses 35b are formed corresponding to the protrusions 5a.

具体的には、図６に示すように、スタンパー２０には、情報記録媒体１のデータトラックパターン領域Ａｔに凹凸パターン５ｔ（データトラックパターン）を形成するための凹凸パターン３５ｔが形成されたデータトラックパターン形成領域Ａｔｓと、情報記録媒体１のサーボパターン領域Ａｓに凹凸パターン５ｓ（サーボパターン）を形成するための凹凸パターン３５ｓが形成されたサーボパターン形成領域Ａｓｓとが情報記録媒体１のデータトラックパターン領域Ａｔおよびサーボパターン領域Ａｓに対応して規定されている。なお、同図、および後に参照する図７〜９，２５〜２７では、凸部３５ａの形成部位を斜線で塗り潰して図示している。また、サーボパターン形成領域Ａｓｓ内には、プリアンブルパターンを形成するための凹凸パターン３５ｓが形成されたプリアンブルパターン形成領域Ａｐｓと、アドレスパターンを形成するための凹凸パターン３５ｓが形成されたアドレスパターン形成領域と（図示せず）、バーストパターンを形成するための凹凸パターン３５ｓが形成されたバーストパターン形成領域Ａｂｓとが規定されている。さらに、バーストパターン形成領域Ａｂｓ内には、情報記録媒体１のバーストパターンにおける各信号領域に対応する領域Ａｂ１ｓ〜Ａｂ４ｓの４つの領域が規定されている。   Specifically, as shown in FIG. 6, the data track in which the concave / convex pattern 35 t for forming the concave / convex pattern 5 t (data track pattern) is formed in the data track pattern area At of the information recording medium 1 is formed on the stamper 20. The data track pattern of the information recording medium 1 includes the pattern formation area Ats and the servo pattern formation area Ass in which the uneven pattern 35s for forming the uneven pattern 5s (servo pattern) is formed in the servo pattern area As of the information recording medium 1. It is defined corresponding to the area At and the servo pattern area As. In FIG. 7 and FIGS. 7 to 9 and 25 to 27 to be referred to later, the formation site of the convex portion 35a is shown by being shaded. Also, in the servo pattern formation region Ass, a preamble pattern formation region Aps in which a concavo-convex pattern 35s for forming a preamble pattern is formed, and an address pattern formation region in which a concavo-convex pattern 35s for forming an address pattern is formed. (Not shown) and a burst pattern forming region Abs in which a concave / convex pattern 35s for forming a burst pattern is defined. Further, in the burst pattern formation area Abs, four areas of areas Ab1s to Ab4s corresponding to the signal areas in the burst pattern of the information recording medium 1 are defined.

この場合、データトラックパターン形成領域Ａｔｓに形成された各凸部３５ａや、サーボパターン形成領域Ａｓｓに形成された各凸部３５ａは、情報記録媒体１のデータトラックパターンやサーボパターンの形状に応じて、情報記録媒体１における径方向に対応する向き（以下、スタンパー２０において情報記録媒体１の径方向に対応する向きを「径方向」ともいう）に沿った長さ（以下、「径方向の長さ」ともいう）や、情報記録媒体１における周方向（回転方向）に対応する向き（以下、スタンパー２０において情報記録媒体１の周方向に対応する向きを「周方向」ともいう）に沿った長さ（以下、「周方向の長さ」ともいう）が規定されている。具体的には、図７に示すように、データトラックパターン形成領域Ａｔｓに形成されている各凸部３５ａ１は、情報記録媒体１におけるデータトラックパターンの各ガードバンド部（各トラック間凹部）を形成するための凸部３５ａであって、情報記録媒体１の周方向（回転方向）に対応する向きに沿って連続的に形成されて周方向に長い帯状に形成されている。この凸部３５ａ１は、本発明における第１の凸部の一例であって、その周方向の長さが情報記録媒体１におけるデータトラックパターン領域Ａｔの周方向の長さに対応して規定されている。また、図１２に示すように、凸部３５ａ１（同図における「データトラックパターン用凸部」）は、情報記録媒体１の内周部Ａｉに対応する領域から外周部Ａｏに対応する領域までの全域において、その径方向の長さ（図７に示す長さＬ１）が一例として１００ｎｍとなるように形成されている。なお、図７に示す凹部３５ｂ１は、情報記録媒体１におけるデータ記録トラック用の凸部５ａを形成するための凹部３５ｂであって、一例として、その径方向の長さが凸部３５ａ１の径方向の長さとほぼ等しくなるように規定されて形成されている。   In this case, each protrusion 35a formed in the data track pattern formation area Ats and each protrusion 35a formed in the servo pattern formation area Ass are in accordance with the shape of the data track pattern or servo pattern of the information recording medium 1. The length along the direction corresponding to the radial direction of the information recording medium 1 (hereinafter, the direction corresponding to the radial direction of the information recording medium 1 in the stamper 20 is also referred to as “radial direction”). And the direction corresponding to the circumferential direction (rotation direction) in the information recording medium 1 (hereinafter, the direction corresponding to the circumferential direction of the information recording medium 1 in the stamper 20 is also referred to as “circumferential direction”). The length (hereinafter also referred to as “the length in the circumferential direction”) is defined. Specifically, as shown in FIG. 7, each projection 35 a 1 formed in the data track pattern formation region Ats forms each guard band portion (each recess between tracks) of the data track pattern in the information recording medium 1. The protrusion 35a is formed continuously along the direction corresponding to the circumferential direction (rotation direction) of the information recording medium 1 and is formed in a belt shape that is long in the circumferential direction. The convex portion 35a1 is an example of the first convex portion in the present invention, and the length in the circumferential direction is defined corresponding to the length in the circumferential direction of the data track pattern area At in the information recording medium 1. Yes. Also, as shown in FIG. 12, the convex portion 35a1 (“data track pattern convex portion” in FIG. 12) extends from the region corresponding to the inner peripheral portion Ai of the information recording medium 1 to the region corresponding to the outer peripheral portion Ao. In the entire region, the length in the radial direction (length L1 shown in FIG. 7) is, for example, 100 nm. 7 is a concave portion 35b for forming the convex portion 5a for the data recording track in the information recording medium 1. As an example, the radial length of the concave portion 35b1 is the radial direction of the convex portion 35a1. It is defined and formed so as to be approximately equal to the length of.

また、図８に示すように、サーボパターン形成領域Ａｓｓにおけるプリアンブルパターン形成領域Ａｐｓに形成されている凸部３５ａ２は、情報記録媒体１におけるプリアンブルパターン用の凹部５ｂを形成するための凸部３５ａであって、情報記録媒体１の径方向に対応する向きに沿って連続的に形成されて径方向に長い帯状に形成されている。この凸部３５ａ２は、本発明における第２の凸部としての第３の凸部の一例であって、その径方向の長さが情報記録媒体１の内周部Ａｉから外周部Ａｏまでの長さに対応して規定されている。また、図１２に示すように、凸部３５ａ２（同図における「プリアンブルパターン用凸部（２ｂｉｔ長）」）は、その周方向の長さ（図８に示す長さＬ２）が内周部から外周部に向かって徐々に長くなるように規定され、情報記録媒体１の内周部Ａｉ（一例として、中心からの距離が５．０ｍｍの位置）に対応する領域において、その周方向の長さＬ２が一例として５６ｎｍとなるように形成されると共に、情報記録媒体１の外周部Ａｏ（一例として、中心からの距離が１３．０ｍｍの位置）に対応する領域において、その周方向の長さＬ２が一例として１４７ｎｍとなるように形成されている。なお、図８に示す凹部３５ｂ２は、情報記録媒体１におけるプリアンブルパターン用の凸部５ａを形成するための凹部３５ｂであって、一例として、その周方向の長さが同一半径位置における凸部３５ａ２の周方向の長さとほぼ等しくなるように規定されて形成されている。また、図１２における「２ｂｉｔ長」とは、同一半径位置におけるアドレスパターン等において２ｂｉｔ信号として認識される周方向の長さをいう。同様にして、「８ｂｉｔ長」とは、同一半径位置におけるアドレスパターン等において８ｂｉｔ信号として認識される周方向の長さをいう。   Further, as shown in FIG. 8, the convex portion 35a2 formed in the preamble pattern forming region Aps in the servo pattern forming region Ass is a convex portion 35a for forming the concave portion 5b for the preamble pattern in the information recording medium 1. Thus, it is continuously formed along a direction corresponding to the radial direction of the information recording medium 1 and is formed in a strip shape long in the radial direction. The convex portion 35a2 is an example of a third convex portion as the second convex portion in the present invention, and the length in the radial direction is the length from the inner peripheral portion Ai to the outer peripheral portion Ao of the information recording medium 1. It is stipulated correspondingly. Further, as shown in FIG. 12, the convex portion 35a2 ("preamble pattern convex portion (2 bit length)" in FIG. 12) has a circumferential length (length L2 shown in FIG. 8) from the inner peripheral portion. In the region corresponding to the inner peripheral portion Ai of the information recording medium 1 (as an example, a position at a distance of 5.0 mm from the center), the length in the circumferential direction is defined so as to become gradually longer toward the outer peripheral portion. L2 is formed to be 56 nm as an example, and in the region corresponding to the outer peripheral portion Ao of the information recording medium 1 (for example, a position at a distance of 13.0 mm from the center), the circumferential length L2 Is formed to be 147 nm as an example. Note that the concave portion 35b2 shown in FIG. 8 is a concave portion 35b for forming the convex portion 5a for the preamble pattern in the information recording medium 1, and as an example, the convex portion 35a2 whose circumferential length is the same radial position. Are defined so as to be substantially equal to the circumferential length. Further, “2 bit length” in FIG. 12 refers to a circumferential length recognized as a 2 bit signal in an address pattern or the like at the same radial position. Similarly, “8-bit length” refers to a circumferential length recognized as an 8-bit signal in an address pattern or the like at the same radial position.

さらに、サーボパターン形成領域Ａｓｓにおけるセクタアドレスパターン形成領域に形成されている凸部３５ａ（図示せず）は、情報記録媒体１におけるセクタアドレスパターン用の凹部５ｂを形成するための凸部であって、前述したプリアンブルパターン用の凹部５ｂを形成するための凸部３５ａ２と同様にして、情報記録媒体１の径方向に対応する向きに沿って連続的に形成されて径方向に長い帯状に形成されている。したがって、以下の説明においては、セクタアドレスパターン形成用の凸部３５ａについて、プリアンブルパターン形成用の凸部３５ａ２と同一の符号を付して説明する。この凸部３５ａ２は、本発明における第２の凸部としての第３の凸部の他の一例であって、その径方向の長さが情報記録媒体１の内周部Ａｉから外周部Ａｏまでの長さに対応して規定されている。また、セクタアドレスパターン形成用の凸部３５ａ２は、その周方向の長さ（図８に示す長さＬ２）が内周部から外周部に向かって徐々に長くなるように規定されている。具体的には、図１２に示すように、凸部３５ａ２のうちの２ｂｉｔ長の凸部３５ａ２は、情報記録媒体１の内周部Ａｉに対応する領域において、その周方向の長さＬ２が一例として５６ｎｍとなるように形成されると共に、情報記録媒体１の外周部Ａｏに対応する領域において、その周方向の長さＬ２が一例として１４７ｎｍとなるように形成されている。さらに、セクタアドレスパターン形成用の凸部３５ａ２のうちの８ｂｉｔ長の凸部３５ａ２は、情報記録媒体１の内周部Ａｉに対応する領域において、その周方向の長さＬ２が一例として２２６ｎｍとなるように形成されると共に、情報記録媒体１の外周部Ａｏに対応する領域において、その周方向の長さＬ２が一例として５８７ｎｍとなるように形成されている。なお、セクタアドレスパターン形成領域に形成されている凹部３５ｂ（図示せず）は、情報記録媒体１におけるセクタアドレスパターン用の凸部５ａを形成するための凹部３５ｂであって、一例として、その周方向の長さがセクタアドレスパターン形成用の凸部３５ａ２の周方向の長さと同様にして２ｂｉｔ長や８ｂｉｔ長などとなるように規定されて形成されている。   Further, a convex portion 35a (not shown) formed in the sector address pattern forming region in the servo pattern forming region Ass is a convex portion for forming the concave portion 5b for the sector address pattern in the information recording medium 1. In the same manner as the convex portion 35a2 for forming the concave portion 5b for the preamble pattern described above, it is continuously formed along the direction corresponding to the radial direction of the information recording medium 1 and formed in a strip shape long in the radial direction. ing. Therefore, in the following description, the convex portion 35a for forming the sector address pattern is described with the same reference numeral as the convex portion 35a2 for forming the preamble pattern. The convex portion 35a2 is another example of the third convex portion as the second convex portion in the present invention, and the length in the radial direction is from the inner peripheral portion Ai to the outer peripheral portion Ao of the information recording medium 1. It is specified in correspondence with the length of Further, the convex portion 35a2 for forming the sector address pattern is defined such that its circumferential length (length L2 shown in FIG. 8) gradually increases from the inner peripheral portion toward the outer peripheral portion. Specifically, as shown in FIG. 12, the 2-bit long convex portion 35a2 of the convex portions 35a2 is an example in which the circumferential length L2 is an area corresponding to the inner peripheral portion Ai of the information recording medium 1. In the region corresponding to the outer peripheral portion Ao of the information recording medium 1, the circumferential length L2 is 147 nm as an example. Furthermore, the 8-bit long convex portion 35a2 of the convex portions 35a2 for forming the sector address pattern has a circumferential length L2 of 226 nm as an example in an area corresponding to the inner peripheral portion Ai of the information recording medium 1. In addition, in the region corresponding to the outer peripheral portion Ao of the information recording medium 1, the circumferential length L2 is, for example, 587 nm. The concave portion 35b (not shown) formed in the sector address pattern formation region is a concave portion 35b for forming the convex portion 5a for the sector address pattern in the information recording medium 1. As an example, the peripheral portion 35b Similarly to the circumferential length of the convex portion 35a2 for forming the sector address pattern, the length in the direction is defined to be 2 bits or 8 bits.

また、図９に示すように、サーボパターン形成領域Ａｓｓにおけるバーストパターン形成領域Ａｂｓ（一例として、領域Ａｂ１ｓ）に形成されている凸部３５ａ３は、本発明における第２の凸部としての第４の凸部の一例であって、情報記録媒体１におけるバーストパターンの凹部５ｂを形成可能に構成されている。この場合、このスタンパー２０のバーストパターン形成領域Ａｂｓには、一例として、各単位バースト領域が凸部で構成されたバーストパターンを有する情報記録媒体１を製造可能に平面視が平行四辺形状の複数の凹部３５ｂ３が各単位バースト領域に対応する部位に形成されている。また、凸部３５ａ３は、一例として、各領域Ａｂ１ｓ〜Ａｂ４ｓ内の複数の凹部３５ｂ３を取り囲むようにしてバーストパターン形成領域Ａｂｓに１つの凸部として形成されている。さらに、図１２に示すように、凸部３５ａ３（同図における「バーストパターン用凸部」）は、各領域Ａｂ１ｓ〜Ａｂ４ｓ内において周方向で隣り合う２つの凹部３５ｂ３の間における周方向の長さ（図９に示す長さＬ３）が内周部から外周部に向かって徐々に長くなるように規定され、情報記録媒体１の内周部Ａｉに対応する領域において５６ｎｍとなるように形成されると共に、情報記録媒体１の外周部Ａｏに対応する領域において１４７ｎｍとなるように形成されている。なお、各凹部３５ｂ３の周方向の長さは、一例として、同一半径位置の凸部３５ａ３における両凹部３５ｂ３の間の周方向の長さ（長さＬ３）とほぼ等しくなるように規定されている。   Further, as shown in FIG. 9, the convex portion 35a3 formed in the burst pattern forming region Abs (for example, the region Ab1s) in the servo pattern forming region Ass is the fourth convex portion as the second convex portion in the present invention. It is an example of a convex part, Comprising: It is comprised so that the recessed part 5b of the burst pattern in the information recording medium 1 can be formed. In this case, in the burst pattern forming area Abs of the stamper 20, as an example, the information recording medium 1 having a burst pattern in which each unit burst area is formed of a convex portion can be manufactured. A recess 35b3 is formed in a portion corresponding to each unit burst region. Further, as an example, the convex portion 35a3 is formed as one convex portion in the burst pattern forming region Abs so as to surround the plurality of concave portions 35b3 in the regions Ab1s to Ab4s. Furthermore, as shown in FIG. 12, the convex portion 35a3 (the “burst pattern convex portion” in FIG. 12) is a circumferential length between two concave portions 35b3 adjacent in the circumferential direction in each of the regions Ab1s to Ab4s. (Length L3 shown in FIG. 9) is defined so as to gradually increase from the inner periphery toward the outer periphery, and is formed to be 56 nm in a region corresponding to the inner periphery Ai of the information recording medium 1. At the same time, it is formed to be 147 nm in a region corresponding to the outer peripheral portion Ao of the information recording medium 1. As an example, the circumferential length of each concave portion 35b3 is defined to be substantially equal to the circumferential length (length L3) between the concave portions 35b3 in the convex portion 35a3 at the same radial position. .

さらに、図１０に示すように、このスタンパー２０では、凹凸パターン３５を構成する各凸部３５ａの間の各凹部３５ｂの底面がスタンパー２０の凹凸パターン形成面（本発明における表面）とほぼ面一になるように形成されている。なお、本明細書では、各凹部３５ｂの底面（すなわち、凹凸パターン形成面）を本発明における基準面（基準面Ｘ）として以下に説明する。この場合、本発明における基準面は、凹部３５ｂの底面と一致する位置（底面を含む位置）の基準面Ｘに限定されず、スタンパーの裏面から凹凸パターン形成面までの間（すなわち、スタンパーの厚みの範囲内）の任意の位置に形成することができる。また、図１１に示すように、その製造方法によっては、各凹部３５ｂの底面が面一とはならないこともあり、この場合には、各凹部３５ｂのうちのいずれかの凹部３５ｂ（この例では、凸部３５ａ１の両側に形成されている両凹部３５ｂ）の底面を含む平面を基準面Ｘとすることもできる。さらに、図１０に示すように、この凹凸パターン３５では、各凸部３５ａは、その径方向の長さおよび周方向の長さに応じて、基準面Ｘから突端部までの高さが規定されて形成されている。   Furthermore, as shown in FIG. 10, in this stamper 20, the bottom surface of each recess 35 b between each protrusion 35 a constituting the uneven pattern 35 is substantially flush with the uneven pattern forming surface (surface in the present invention) of the stamper 20. It is formed to become. In the present specification, the bottom surface (that is, the concave / convex pattern forming surface) of each recess 35b will be described below as the reference surface (reference surface X) in the present invention. In this case, the reference surface in the present invention is not limited to the reference surface X at the position (including the bottom surface) that coincides with the bottom surface of the recess 35b, and is between the back surface of the stamper and the uneven pattern forming surface (that is, the thickness of the stamper). Can be formed at any position. Also, as shown in FIG. 11, depending on the manufacturing method, the bottom surface of each recess 35b may not be flush, and in this case, any one of the recesses 35b (in this example) A plane including the bottom surfaces of both concave portions 35b) formed on both sides of the convex portion 35a1 can be used as the reference plane X. Furthermore, as shown in FIG. 10, in this concavo-convex pattern 35, the height from the reference plane X to the protruding end is defined for each convex portion 35a according to the length in the radial direction and the length in the circumferential direction. Is formed.

具体的には、図１２に示すように、径方向の長さＬ１が内周部から外周部の全域において１００ｎｍのデータトラックパターン形成用の凸部３５ａ１は、基準面Ｘから突端部までの高さ（図１０，１１に示す高さＨ１：すなわち、凸部３５ａ１の突出長）が内周部から外周部の全域において８５ｎｍとなるように形成されている。また、内周部における周方向の長さＬ２が５６ｎｍで外周部における周方向の長さＬ２が１４７ｎｍのプリアンブルパターン形成用の凸部３５ａ２は、基準面Ｘから突端部までの高さ（図１０，１１に示す高さＨ２：すなわち、凸部３５ａ２の突出長）が内周部から外周部に向かって徐々に高くなり、内周部において８０ｎｍで外周部において８８ｎｍとなるように形成されている。同様にして、内周部における周方向の長さが５６ｎｍで外周部における周方向の長さが１４７ｎｍのセクタアドレスパターン用（２ｂｉｔ長）の凸部３５ａ２は、基準面Ｘから突端部までの高さ（すなわち、凸部３５ａ２の突出長）が内周部から外周部に向かって徐々に高くなり、内周部において８０ｎｍで外周部において８８ｎｍとなるように形成されている。さらに、内周部における周方向の長さが２２６ｎｍで外周部における周方向の長さが５８７ｎｍのセクタアドレスパターン用（８ｂｉｔ長）の凸部３５ａ２は、基準面Ｘから突端部までの高さ（すなわち、凸部３５ａ２の突出長）が内周部から外周部に向かって徐々に高くなり、内周部において９０ｎｍで外周部において９８ｎｍとなるように形成されている。このように、このスタンパー２０では、径方向に沿って連続的に形成された凸部３５ａ２については、その周方向の長さがデータトラックパターン形成領域Ａｔｓに形成された凸部３５ａ１における径方向の長さよりも長い部位において、基準面Ｘから突端部までの高さが凸部３５ａ１の高さＨ１よりも高くなるように形成されている。   Specifically, as shown in FIG. 12, the convex portion 35a1 for forming the data track pattern having a radial length L1 of 100 nm in the entire region from the inner peripheral portion to the outer peripheral portion is high from the reference plane X to the protruding end portion. The height H1 shown in FIGS. 10 and 11 (that is, the protruding length of the protrusion 35a1) is 85 nm from the inner periphery to the entire outer periphery. Further, the convex portion 35a2 for forming a preamble pattern having a circumferential length L2 at the inner circumferential portion of 56 nm and a circumferential length L2 at the outer circumferential portion of 147 nm is a height from the reference plane X to the protruding end portion (FIG. 10). , 11 (that is, the protrusion length of the convex portion 35a2) gradually increases from the inner peripheral portion toward the outer peripheral portion, and is 80 nm in the inner peripheral portion and 88 nm in the outer peripheral portion. . Similarly, the convex portion 35a2 for the sector address pattern (2 bits long) having a circumferential length of 56 nm at the inner circumferential portion and a circumferential length of 147 nm at the outer circumferential portion is a height from the reference plane X to the protruding end portion. The length (that is, the protruding length of the convex portion 35a2) gradually increases from the inner peripheral portion toward the outer peripheral portion, and is 80 nm at the inner peripheral portion and 88 nm at the outer peripheral portion. Further, the convex portion 35a2 for the sector address pattern (8-bit length) having a circumferential length of 226 nm at the inner circumferential portion and a circumferential length of 587 nm at the outer circumferential portion is a height from the reference plane X to the protruding end ( That is, the projecting length of the convex portion 35a2 is gradually increased from the inner peripheral portion toward the outer peripheral portion, and is 90 nm at the inner peripheral portion and 98 nm at the outer peripheral portion. As described above, in the stamper 20, the convex portion 35a2 continuously formed along the radial direction has a circumferential length in the radial direction of the convex portion 35a1 formed in the data track pattern formation region Ats. In a portion longer than the length, the height from the reference surface X to the protruding end is formed to be higher than the height H1 of the convex portion 35a1.

また、周方向において隣り合う２つの凹部３５ｂ３（単位バースト領域に対応する凹部３５ｂ）の間の長さＬ３が内周部において５６ｎｍで外周部において１４７ｎｍのバーストパターン形成用の凸部３５ａ３では、２つの凹部３５ｂ３の間の基準面Ｘから突端部までの高さ（図１０，１１に示す高さＨ３：すなわち、凸部３５ａ３における両凹部３５ｂ３の間の突出長）が外周部ほど高くなり、内周部において９２ｎｍで外周部において１０１ｎｍとなるように形成されている。このように、このスタンパー２０では、複数の凹部３５ｂ３を取り囲むように径方向および周方向の両方向に沿って連続的に形成された凸部３５ａについては、その全域において基準面Ｘから突端部までの高さが凸部３５ａ１の高さＨ１よりも高くなるように形成されている。なお、各凸部３５ａの高さのうちの最大の高さと最小の高さとの差については、後述する樹脂層１４に対する押し付け時に各凸部３５ａを確実に押し込み可能とするために、最大でも５０ｎｍ以下とするのが好ましい。   Further, in the convex portion 35a3 for forming a burst pattern, the length L3 between two concave portions 35b3 adjacent to each other in the circumferential direction (the concave portion 35b corresponding to the unit burst region) is 56 nm in the inner peripheral portion and 147 nm in the outer peripheral portion. The height from the reference plane X between the two concave portions 35b3 to the protruding end (height H3 shown in FIGS. 10 and 11: that is, the protruding length between the concave portions 35b3 in the convex portion 35a3) increases as the outer peripheral portion increases. It is formed to be 92 nm at the peripheral portion and 101 nm at the outer peripheral portion. As described above, in the stamper 20, the convex portion 35a continuously formed along both the radial direction and the circumferential direction so as to surround the plurality of concave portions 35b3, from the reference surface X to the projecting end portion in the entire region. The height is formed to be higher than the height H1 of the convex portion 35a1. Note that the difference between the maximum height and the minimum height among the heights of the respective convex portions 35a is 50 nm at the maximum in order to ensure that the respective convex portions 35a can be pushed when pressed against the resin layer 14 described later. The following is preferable.

一方、図１に示すように、プレス機１１０は、ホットプレート１１１，１１２および上下動機構１１３を備えている。ホットプレート１１１，１１２は、制御部１２０の制御下で中間体１０およびスタンパー２０を加熱処理する。また、図２０に示すように、ホットプレート１１１は、樹脂層１４の形成面を上向きにした状態の中間体１０を保持可能に構成され、ホットプレート１１２は、凹凸パターン３５の形成面を下向きにした状態のスタンパー２０を保持可能に構成されている。上下動機構１１３は、ホットプレート１１１によって保持された中間体１０に向けてホットプレート１１２を移動（下降）させることにより、ホットプレート１１２によって保持されているスタンパー２０を中間体１０の樹脂層１４に押し付ける（プレスする）。また、上下動機構１１３は、ホットプレート１１１に対してホットプレート１１２を離間（上昇）させることにより、樹脂層１４に押し付けられているスタンパー２０を樹脂層１４から剥離する。制御部１２０は、ホットプレート１１１，１１２を制御して中間体１０およびスタンパー２０の双方を加熱させると共に、上下動機構１１３を制御して、中間体１０に対するスタンパー２０の押し付け（本発明におけるスタンパー押し付け処理）、および中間体１０に押し付けられているスタンパー２０の中間体１０からの剥離（本発明におけるスタンパー剥離処理）を実行する。   On the other hand, as shown in FIG. 1, the press machine 110 includes hot plates 111 and 112 and a vertical movement mechanism 113. The hot plates 111 and 112 heat the intermediate body 10 and the stamper 20 under the control of the control unit 120. Further, as shown in FIG. 20, the hot plate 111 is configured to be able to hold the intermediate body 10 with the resin layer 14 forming surface facing upward, and the hot plate 112 has the concave / convex pattern 35 forming surface facing downward. The stamper 20 in such a state can be held. The vertical movement mechanism 113 moves (lowers) the hot plate 112 toward the intermediate body 10 held by the hot plate 111, so that the stamper 20 held by the hot plate 112 is transferred to the resin layer 14 of the intermediate body 10. Press (press). Further, the vertical movement mechanism 113 separates the stamper 20 pressed against the resin layer 14 from the resin layer 14 by separating (raising) the hot plate 112 from the hot plate 111. The control unit 120 controls the hot plates 111 and 112 to heat both the intermediate body 10 and the stamper 20 and also controls the vertical movement mechanism 113 to press the stamper 20 against the intermediate body 10 (the stamper pressing in the present invention). Treatment) and peeling of the stamper 20 pressed against the intermediate body 10 from the intermediate body 10 (stamper peeling treatment in the present invention).

次に、スタンパー２０の製造方法について、図面を参照して説明する。   Next, a method for manufacturing the stamper 20 will be described with reference to the drawings.

まず、図１３に示すように、表面が平坦となるように研磨したシリコン製のディスク状基材２５上にニッケルを蒸着処理することにより、厚み１０ｎｍ程度のニッケル層２６を形成する。なお、スタンパー２０の製造に際して用いる基材はシリコン製の基材に限定されず、ガラス基材やセラミック基材等の各種基材を用いることができる。次いで、図１４に示すように、形成したニッケル層２６の上レジスト（一例として、日本ゼオン株式会社製：ＺＥＰ５２０Ａ）をスピンコートすることにより、ニッケル層２６の表面に厚み１００ｎｍ程度のレジスト層２７を形成する。なお、レジスト層２７を形成するためのレジストについては、上記のレジストに限定されず、任意のレジスト材を用いることができる。続いて、電子ビームリソグラフィ装置を用いてレジスト層２７に電子線を照射して所望の露光パターン３１（この例では、スタンパー２０における各凸部３５ａに対応するパターン）を描画する。続いて、この状態のレジスト層２７を現像処理することによって潜像２７ａの部位を消失させる。これにより、図１５に示すように、ニッケル層２６の上に凹凸パターン３２が形成される。次いで、凹凸パターン３２（レジスト層２７）をマスクとして用いてニッケル層２６をエッチング処理することにより、図１６に示すように、ディスク状基材２５の上にニッケル層２６からなるマスクパターン３３を形成する。   First, as shown in FIG. 13, a nickel layer 26 having a thickness of about 10 nm is formed by vapor-depositing nickel on a silicon disk-shaped substrate 25 polished so as to have a flat surface. The base material used for manufacturing the stamper 20 is not limited to a silicon base material, and various base materials such as a glass base material and a ceramic base material can be used. Next, as shown in FIG. 14, the resist layer 27 having a thickness of about 100 nm is formed on the surface of the nickel layer 26 by spin-coating the resist on the formed nickel layer 26 (for example, ZEP520A manufactured by Nippon Zeon Co., Ltd.). Form. The resist for forming the resist layer 27 is not limited to the resist described above, and any resist material can be used. Subsequently, the electron beam lithography apparatus is used to irradiate the resist layer 27 with an electron beam to draw a desired exposure pattern 31 (in this example, a pattern corresponding to each convex portion 35a in the stamper 20). Subsequently, the resist layer 27 in this state is developed to erase the portion of the latent image 27a. Thereby, as shown in FIG. 15, the concave / convex pattern 32 is formed on the nickel layer 26. Next, by etching the nickel layer 26 using the concave / convex pattern 32 (resist layer 27) as a mask, a mask pattern 33 made of the nickel layer 26 is formed on the disk-shaped substrate 25 as shown in FIG. To do.

次いで、ディスク状基材２５上のニッケル層２６（マスクパターン３３）をマスクとして用いて、例えばＣＦ４とＯ２との混合ガスによる反応性イオンエッチング処理を実行することにより、図１７に示すように、ディスク状基材２５をエッチングして複数の凹部３４ａを形成して凹凸パターン３４を形成する。この際に、ＣＦ４とＯ２との混合比（流量比）、処理装置内の圧力、付与するエネルギー量、および処理時間等を適宜調節することにより、マスクパターン３３から露出している部位の径方向または周方向の長さが短い部位（開口幅が狭い部位：例えば、後に、スタンパー２０の各凸部３５ａ１等が形成される部位）に形成する凹部３４ａよりも、マスクパターン３３から露出している部位の径方向または周方向の長さが長い部位（開口幅が広い部位：例えば、後に、スタンパー２０の凸部３５ａ３等が形成される部位）に形成する凹部３４ａの方を深くエッチングする。具体的には、一例として、ＣＦ４およびＯ２のエッチングガスの流量比を３５：１５（ＣＦ４：３５ｓｃｃｍ、Ｏ２：１５ｓｃｃｍの流量）で、処理室内の圧力を０．３Ｐａに規定し、かつマイクロ波電力をＲＦ１ｋＷ、ディスク状基材２５に印加するバイアス電力をＲＦ５０Ｗに規定して２５秒のエッチング処理を実行する。この結果、同図に示すように、開口幅が狭い（径方向または周方向の長さが短い）凹部３４ａよりも開口幅が広い（径方向または周方向の長さが長い）凹部３４ａの方が深い凹凸パターン３４が形成される。 Next, using the nickel layer 26 (mask pattern 33) on the disk-shaped substrate 25 as a mask, for example, by performing a reactive ion etching process using a mixed gas of CF 4 and O 2 as shown in FIG. Then, the disk-shaped substrate 25 is etched to form a plurality of recesses 34a to form the uneven pattern 34. At this time, by appropriately adjusting the mixing ratio (flow rate ratio) of CF 4 and O 2 , the pressure in the processing apparatus, the amount of energy to be applied, the processing time, and the like, the portion exposed from the mask pattern 33 is adjusted. It is exposed from the mask pattern 33 rather than the concave portion 34a formed in a portion having a short radial or circumferential length (a portion having a narrow opening width: for example, a portion where each convex portion 35a1 of the stamper 20 is formed later). The concave portion 34a formed in the portion having a long radial or circumferential length (a portion having a wide opening width: for example, a portion where the convex portion 35a3 of the stamper 20 is formed later) is deeply etched. . Specifically, as an example, the flow rate ratio of the etching gas of CF 4 and O 2 is defined as 35:15 (flow rate of CF 4 : 35 sccm, O 2 : 15 sccm), and the pressure in the processing chamber is defined as 0.3 Pa. The microwave power is set to RF 1 kW, the bias power applied to the disk-shaped substrate 25 is set to RF 50 W, and the etching process is performed for 25 seconds. As a result, as shown in the figure, the concave portion 34a having a wider opening width (longer in the radial direction or circumferential direction) than the concave portion 34a having a narrow opening width (short in the radial direction or circumferential direction). A deep concavo-convex pattern 34 is formed.

続いて、この状態のディスク状基材２５を例えば過マンガン酸カリウム溶液に浸すことにより、凹凸パターン３４の表面（ディスク状基材２５上のニッケル層２６の表面）を酸化処理する。これにより、マスター原盤（図示せず）が完成する。次いで、図１８に示すように、マスター原盤における凹凸パターン３４の凹凸形状に沿って、電鋳用の電極膜２１を成膜した後に、この電極膜２１を電極として使用して電鋳処理を実行することにより、図１９に示すように、電極膜２１の上にニッケル層２２を形成する。続いて、電極膜２１およびニッケル層２２の積層体（後にスタンパー２０となる部位）をディスク状基材２５およびニッケル層２６の積層体から剥離する。この際に、凹凸パターン３４の表面が酸化処理されているため、電極膜２１およびニッケル層２２の積層体を容易に剥離することができる。これにより、マスター原盤の凹凸パターン３４が電極膜２１およびニッケル層２２に転写されて凹凸パターン３５（図１０参照）が形成される。この後、ニッケル層２２の裏面側を研磨して平坦となるように整形すると共に、電極膜２１の表面にフッ素系材料のコーティング処理を施して密着力軽減膜２３を成膜することにより、図１０に示すように、その径方向の長さおよび周方向の長さと、基準面Ｘから突端部までの高さとが相違する複数の凸部３５ａを有する凹凸パターン３５が形成されたスタンパー２０が完成する。   Subsequently, the surface of the uneven pattern 34 (the surface of the nickel layer 26 on the disk-shaped substrate 25) is oxidized by immersing the disk-shaped substrate 25 in this state in, for example, a potassium permanganate solution. As a result, a master master (not shown) is completed. Next, as shown in FIG. 18, after the electrode film 21 for electroforming is formed along the uneven shape of the uneven pattern 34 on the master master, an electroforming process is performed using the electrode film 21 as an electrode. As a result, a nickel layer 22 is formed on the electrode film 21 as shown in FIG. Subsequently, the laminate of the electrode film 21 and the nickel layer 22 (the portion that will later become the stamper 20) is peeled from the laminate of the disk-shaped substrate 25 and the nickel layer 26. At this time, since the surface of the concavo-convex pattern 34 is oxidized, the laminate of the electrode film 21 and the nickel layer 22 can be easily peeled off. Thereby, the concave / convex pattern 34 of the master master is transferred to the electrode film 21 and the nickel layer 22 to form the concave / convex pattern 35 (see FIG. 10). Thereafter, the back surface side of the nickel layer 22 is polished and shaped so as to be flat, and the surface of the electrode film 21 is coated with a fluorine-based material to form an adhesion reducing film 23. As shown in FIG. 10, the stamper 20 in which the concave / convex pattern 35 having a plurality of convex portions 35a having different radial lengths and circumferential lengths and heights from the reference plane X to the projecting end portions is completed. To do.

続いて、本発明に係るインプリント方法に従い、上記したスタンパー２０を用いて中間体１０に凹凸パターンを形成する工程について、図面を参照して説明する。   Next, a process of forming a concavo-convex pattern on the intermediate body 10 using the stamper 20 described above according to the imprint method according to the present invention will be described with reference to the drawings.

まず、中間体１０およびスタンパー２０をプレス機１１０にセットする。具体的には、樹脂層１４の形成面を上向きにして中間体１０をホットプレート１１１に取り付けると共に、凹凸パターン３５の形成面を下向きにしてスタンパー２０をホットプレート１１２に取り付ける。続いて、制御部１２０が、ホットプレート１１１，１１２を制御して中間体１０およびスタンパー２０の双方を加熱させる。この際に、ホットプレート１１１，１１２は、中間体１０およびスタンパー２０の双方が、樹脂層１４を形成しているノボラック系樹脂のガラス転移点（この例では、約７０℃）よりも１００℃程度高温の１７０℃程度となるように加熱処理する。これにより、樹脂層１４が軟化して容易に変形可能な状態となる。この場合、樹脂材料のガラス転移点に対して７０℃以上１２０℃以下の範囲内で高温となるように加熱するのが好ましく、１００℃以上高温となるように加熱するのが一層好ましい。これにより、後述するように、樹脂層１４に対するスタンパー２０の押し付けを容易に行うことができる。   First, the intermediate body 10 and the stamper 20 are set on the press machine 110. Specifically, the intermediate body 10 is attached to the hot plate 111 with the formation surface of the resin layer 14 facing upward, and the stamper 20 is attached to the hot plate 112 with the formation surface of the uneven pattern 35 facing downward. Subsequently, the control unit 120 controls the hot plates 111 and 112 to heat both the intermediate body 10 and the stamper 20. At this time, the hot plates 111 and 112 are each about 100 ° C. higher than the glass transition point (in this example, about 70 ° C.) of the novolac resin in which both the intermediate 10 and the stamper 20 form the resin layer 14. Heat treatment is performed so that the temperature becomes about 170 ° C. Thereby, the resin layer 14 becomes soft and can be easily deformed. In this case, it is preferable to heat so that it may become high temperature within the range of 70 degreeC or more and 120 degrees C or less with respect to the glass transition point of a resin material, and it is still more preferable to heat so that it may become 100 degreeC or more high temperature. Thereby, as will be described later, the stamper 20 can be easily pressed against the resin layer 14.

次いで、制御部１２０は、上下動機構１１３を制御してホットプレート１１２をホットプレート１１１に向けて下降させることにより、図２０に示すように、ホットプレート１１１上の中間体１０における樹脂層１４にスタンパー２０の凹凸パターン３５を押し付けさせる（本発明におけるスタンパー押付け処理）。なお、同図および後に参照する図２１，２２では、本発明についての理解を容易とするために、凹凸パターン３５における各凸部３５ａの長さや凹部３５ｂの開口幅を実際とは相違する長さや開口幅で図示している。この際に、上下動機構１１３は、制御部１２０の制御に従い、一例として、スタンパー２０の全域に亘って３４ｋＮの荷重をかけた状態を５分間に亘って維持する。また、ホットプレート１１１，１１２は、制御部１２０の制御に従い、上下動機構１１３によってスタンパー２０が中間体１０に押し付けられている間に、中間体１０およびスタンパー２０の温度が低下しないように加熱処理を継続して実行する。この加熱処理時には、１７０℃±１℃の範囲内の温度に（一例として、温度変化が±０．２℃の範囲内の温度に）維持するのが好ましい。これにより、スタンパー２０の凹凸パターン３５が樹脂層１４に転写されて凹凸パターン３６が形成される。   Next, the control unit 120 controls the vertical movement mechanism 113 to lower the hot plate 112 toward the hot plate 111, thereby forming the resin layer 14 in the intermediate body 10 on the hot plate 111 as shown in FIG. 20. The concave / convex pattern 35 of the stamper 20 is pressed (stamper pressing process in the present invention). 21 and 22 referred to later, in order to facilitate understanding of the present invention, the length of each convex portion 35a and the opening width of the concave portion 35b in the concave / convex pattern 35 are different from actual lengths. It is illustrated by the opening width. At this time, the vertical movement mechanism 113 maintains a state in which a load of 34 kN is applied over the entire region of the stamper 20 for 5 minutes according to the control of the control unit 120. Further, the hot plates 111 and 112 are subjected to heat treatment so that the temperature of the intermediate body 10 and the stamper 20 does not decrease while the stamper 20 is pressed against the intermediate body 10 by the vertical movement mechanism 113 according to the control of the control unit 120. Continue to execute. During this heat treatment, it is preferable to maintain the temperature within the range of 170 ° C. ± 1 ° C. (for example, the temperature change is within the range of ± 0.2 ° C.). Thereby, the concavo-convex pattern 35 of the stamper 20 is transferred to the resin layer 14 to form the concavo-convex pattern 36.

この場合、このインプリント装置１００で用いるスタンパー２０は、前述したように、サーボパターン形成領域Ａｓｓに形成された各凸部３５ａのうち、その周方向の長さがデータトラックパターン形成領域Ａｔｓの凸部３５ａ１における径方向の長さよりも長い凸部３５ａ２（各凸部３５ａ２において周方向の長さが凸部３５ａ１における径方向の長さよりも長い部位）の方が基準面Ｘから突端部までの高さが高くなるように凹凸パターン３５が形成されている。したがって、スタンパー２０の全域に亘って均一な押圧力を加えるようにして押し付けた際に、その周方向の長さが長い凸部３５ａ（この例では、凸部３５ａ２）についても、凸部３５ａ１等と同様にして樹脂層１４に奥深くまで押し込まれる。また、前述したように、バーストパターン形成用の凸部３５ａ３については、周方向において隣り合う２つの凹部３５ｂ３の間の基準面Ｘから突端部までの高さが内周部から外周部に向かうほど徐々に高くなるように形成され、しかも、その全域において凸部３５ａ１の高さＨ１よりも高くなるように形成されている。したがって、スタンパー２０の全域に亘って均一な押圧力を加えるようにして押し付けた際に、凹部３５ｂ３に対する面積比が大きいことで樹脂層１４に対して押し込み難い凸部３５ａ３についても、上記の凸部３５ａ１，３５ａ２等と同様にして樹脂層１４に奥深くまで押し込まれる。この結果、径方向の長さおよび周方向の長さが相違する各凸部３５ａが樹脂層１４にほぼ均一に押し込まれる。   In this case, as described above, the stamper 20 used in the imprint apparatus 100 has a convex length of the data track pattern formation region Ats in the circumferential direction among the convex portions 35a formed in the servo pattern formation region Ass. The convex portion 35a2 that is longer than the radial length of the portion 35a1 (the portion where the circumferential length of each convex portion 35a2 is longer than the radial length of the convex portion 35a1) is higher from the reference plane X to the protruding end. The concave / convex pattern 35 is formed to increase the height. Therefore, when pressing is performed so as to apply a uniform pressing force over the entire area of the stamper 20, the convex portion 35a (in this example, the convex portion 35a2) having a long circumferential direction is also applied to the convex portion 35a1, etc. In the same manner as described above, the resin layer 14 is pushed deeply. Further, as described above, as for the convex portion 35a3 for forming the burst pattern, the height from the reference surface X to the protruding end portion between the two concave portions 35b3 adjacent in the circumferential direction increases from the inner peripheral portion to the outer peripheral portion. It is formed so as to be gradually higher, and is formed so as to be higher than the height H1 of the convex portion 35a1 in the entire region. Therefore, the convex portion 35a3 which is difficult to push into the resin layer 14 due to a large area ratio with respect to the concave portion 35b3 when pressed so as to apply a uniform pressing force over the entire region of the stamper 20 is also described above. It is pushed deeply into the resin layer 14 in the same manner as 35a1, 35a2, etc. As a result, the convex portions 35a having different radial lengths and circumferential lengths are almost uniformly pushed into the resin layer 14.

具体的には、図２１に示すように、例えば、その径方向の長さＬ１が１００ｎｍの複数の凸部３５ａ１が形成されているデータトラックパターン形成領域Ａｔｓでは、各凸部３５ａ１が押し込まれた部位の樹脂層１４がスタンパー２０の凹部３５ｂ１に向けてスムーズに移動する結果、各凸部３５ａ１が中間体１０の樹脂層１４に対して十分に奥深くまで押し込まれる。したがって、凸部３５ａ１を押し込んだ部位の残渣（各凹部３６ｂ１の底面と金属層１３の表面との間の樹脂層１４）の厚みＴ１が２８ｎｍ±３ｎｍ程度となる。一方、図２２に示すように、外周部においてその周方向の長さＬ２が１４７ｎｍ程度の凸部３５ａ２が形成されているサーボパターン形成領域Ａｓｓ（この例では、プリアンブルパターン形成領域Ａｐｓ、および２ｂｉｔ長のセクタアドレスパターンが形成されているセクタアドレスパターン形成領域）では、凸部３５ａ２の外周部側における基準面Ｘから突端部までの高さＨ２が凸部３５ａ１の高さＨ１よりも３ｎｍ程度高い８８ｎｍであるため、凸部３５ａ１よりも樹脂層１４に押し込み難い幅広の凸部３５ａ２が樹脂層１４に対して十分に奥深くまで押し込まれる。したがって、凸部３５ａ２を押し込んだ部位の残渣（各凹部３６ｂ２の底面と金属層１３の表面との間の樹脂層１４）の厚みＴ２が２９ｎｍ±３ｎｍ程度となる。   Specifically, as shown in FIG. 21, for example, in the data track pattern formation region Ats where a plurality of convex portions 35a1 having a radial length L1 of 100 nm are formed, each convex portion 35a1 is pushed. As a result of the resin layer 14 at the site moving smoothly toward the concave portion 35b1 of the stamper 20, each convex portion 35a1 is pushed sufficiently deeply into the resin layer 14 of the intermediate body 10. Therefore, the thickness T1 of the residue (resin layer 14 between the bottom surface of each recess 36b1 and the surface of the metal layer 13) at the portion into which the protrusion 35a1 is pushed is about 28 nm ± 3 nm. On the other hand, as shown in FIG. 22, the servo pattern forming region Ass (in this example, the preamble pattern forming region Aps and the 2-bit length) in which the convex portion 35a2 having a circumferential length L2 of about 147 nm is formed on the outer peripheral portion. In the sector address pattern formation region where the sector address pattern is formed), the height H2 from the reference surface X to the protruding end on the outer peripheral side of the convex portion 35a2 is 88 nm, which is about 3 nm higher than the height H1 of the convex portion 35a1. Therefore, the wide convex portion 35a2 that is harder to be pushed into the resin layer 14 than the convex portion 35a1 is sufficiently deeply pushed into the resin layer 14. Therefore, the thickness T2 of the residue (resin layer 14 between the bottom surface of each concave portion 36b2 and the surface of the metal layer 13) at the portion into which the convex portion 35a2 is pushed is about 29 nm ± 3 nm.

また、このスタンパー２０では、その周方向の長さが内周部において２２６ｎｍで外周部において５８７ｎｍのセクタアドレスパターン用（８ｂｉｔ長）の凸部３５ａ２が形成されているサーボパターン形成領域Ａｓｓ（８ｂｉｔ長のセクタアドレスパターンが形成されているセクタアドレスパターン形成領域）においても、基準面Ｘから突端部までの高さが内周部から外周部にかけて９０ｎｍから９８ｎｍと徐々に高くなるように形成されて凸部３５ａ１よりも突端部が突出させられている。このため、この凸部３５ａ２についても、樹脂層１４に対して十分で、かつ凸部３５ａ１と同程度だけ押し込まれる。さらに、周方向に沿って並ぶ２つの凹部３５ｂ間における周方向の長さが内周部において５６ｎｍで外周部において１４７ｎｍのバーストパターン用の凸部３５ａ３が形成されているサーボパターン形成領域Ａｓｓ（バーストパターン形成領域Ａｂｓ）においても、基準面Ｘから突端部までの高さが内周部から外周部にかけて９２ｎｍから１０１ｎｍと徐々に高くなるように形成されて凸部３５ａ１よりも突端部が突出させられている。このため、この凸部３５ａ３についても樹脂層１４に対して十分で、かつ凸部３５ａ１と同程度だけ押し込まれる。したがって、径方向および周方向の長さが相違する各種の凸部３５ａを押し込んだ部位の残渣の厚みが各データトラックパターン形成領域Ａｔｓおよび各サーボパターン形成領域Ａｓｓの全域においてほぼ同程度となる。続いて、制御部１２０は、ホットプレート１１１，１１２を制御して加熱処理を継続させつつ（１７０℃±１℃の範囲内の温度を維持しつつ）、図２３に示すように、上下動機構１１３を制御して、ホットプレート１１２を上昇させることにより、中間体１０（樹脂層１４）からスタンパー２０を剥離させる（本発明におけるスタンパー剥離処理）。これにより、スタンパー２０における凹凸パターン３５の凹凸形状が中間体１０の樹脂層１４に転写されることで金属層１３の上に凹凸パターン３６が形成される。以上により、インプリント処理が完了する。   Further, in this stamper 20, the servo pattern formation region Ass (8-bit length) in which the convex portion 35a2 for the sector address pattern (8-bit length) having a circumferential length of 226 nm in the inner peripheral portion and 587 nm in the outer peripheral portion is formed. (Sector address pattern forming region where the sector address pattern is formed) is also formed so that the height from the reference plane X to the protruding end portion gradually increases from 90 nm to 98 nm from the inner peripheral portion to the outer peripheral portion. The projecting end portion is projected beyond the portion 35a1. For this reason, this convex portion 35a2 is also pushed into the resin layer 14 only by the same degree as the convex portion 35a1. Further, a servo pattern forming region Ass (burst) in which a burst pattern convex portion 35a3 having a circumferential length of 56 nm in the inner peripheral portion and 147 nm in the outer peripheral portion is formed between the two concave portions 35b arranged in the circumferential direction. Also in the pattern formation region Abs), the height from the reference surface X to the protruding end portion is gradually increased from 92 nm to 101 nm from the inner peripheral portion to the outer peripheral portion, and the protruding end portion is protruded from the convex portion 35a1. ing. For this reason, this convex part 35a3 is also sufficient to the resin layer 14, and is pushed in as much as the convex part 35a1. Accordingly, the thickness of the residue at the portion into which the various convex portions 35a having different lengths in the radial direction and the circumferential direction are pushed is substantially the same in the entire area of each data track pattern formation area Ats and each servo pattern formation area Ass. Subsequently, the control unit 120 controls the hot plates 111 and 112 to continue the heat treatment (maintaining a temperature within the range of 170 ° C. ± 1 ° C.), and as shown in FIG. The stamper 20 is peeled from the intermediate body 10 (resin layer 14) by controlling 113 and raising the hot plate 112 (stamper peeling treatment in the present invention). Thereby, the uneven shape of the uneven pattern 35 in the stamper 20 is transferred to the resin layer 14 of the intermediate body 10, so that the uneven pattern 36 is formed on the metal layer 13. Thus, the imprint process is completed.

次に、本発明に係る情報記録媒体製造方法に従って情報記録媒体１を製造する工程について、図面を参照して説明する。   Next, the process of manufacturing the information recording medium 1 according to the information recording medium manufacturing method according to the present invention will be described with reference to the drawings.

まず、樹脂層１４における凹凸パターン３６の凹部底面に残存する樹脂材料（残渣）を酸素プラズマ処理によって除去する。この際に、金属層１３上の残渣の厚みが２５ｎｍ以上３２ｎｍ以下の範囲内で全域に亘ってほぼ同程度の厚みのため、残渣の取り除き時に凹部が意図しない広い開口幅となる事態（凹部の側壁面が大きく浸食される事態）が回避される。次いで、凹凸パターン３６（凸部）をマスクとして用いて、金属エッチング用のガスを用いたエッチング処理を行う。この際に、図２４に示すように、凹凸パターン３６の凹部における底面部分の金属層１３が除去されて、磁性層１２上に金属材料からなる凹凸パターン３７が形成される。続いて、凹凸パターン３７（残存した金属層１３）をマスクとして用いて、磁性体用のガスを用いたエッチング処理を行う。これにより、凹凸パターン３７から露出していた部位の磁性層１２が除去される。   First, the resin material (residue) remaining on the bottom surface of the concave portion of the concave-convex pattern 36 in the resin layer 14 is removed by oxygen plasma treatment. At this time, since the thickness of the residue on the metal layer 13 is almost the same over the entire region in the range of 25 nm to 32 nm, the concave portion becomes an unintended wide opening width when removing the residue (the concave portion The situation where the side wall surface is greatly eroded) is avoided. Next, an etching process using a metal etching gas is performed using the uneven pattern 36 (convex portion) as a mask. At this time, as shown in FIG. 24, the metal layer 13 at the bottom of the concave portion of the concave / convex pattern 36 is removed, and the concave / convex pattern 37 made of a metal material is formed on the magnetic layer 12. Subsequently, an etching process using a gas for magnetic material is performed using the concave / convex pattern 37 (the remaining metal layer 13) as a mask. Thereby, the magnetic layer 12 in the portion exposed from the uneven pattern 37 is removed.

次いで、金属エッチング用のガスを用いたエッチング処理を行うことにより、磁性層１２の上に残留している金属層１３を除去する。これにより、図３に示すように、スタンパー２０の凹凸形状を転写した凹凸パターン３６における各凹部に対応する溝が磁性層１２に形成された凹凸パターン５（凹凸パターン５ｔ，５ｓ）が形成される。次いで、表面仕上げ処理を行う。この表面仕上げ処理では、まず、例えば二酸化ケイ素を溝に充填した後に（図示せず）、イオンビームエッチングによって表面を平坦化する。次に、平坦化した表面に例えばＤＬＣ（Diamond Like Carbon ）で保護膜を形成し、最後に潤滑剤を塗布する。これにより、情報記録媒体１が完成する。この場合、この情報記録媒体１は、その開口幅が所望の幅となるように形成された凹部を有する凹凸パターン３６を用いて形成した凹凸パターン３７を用いて製造されているため、この凹凸パターン３６，３７を用いて形成した凹凸パターン５（データ記録用トラックやサーボパターン等）の各凹部５ｂも所望の幅となる。この結果、情報記録媒体１において記録エラーおよび再生エラーの発生が回避されている。   Next, the metal layer 13 remaining on the magnetic layer 12 is removed by performing an etching process using a metal etching gas. Thereby, as shown in FIG. 3, the uneven pattern 5 (uneven pattern 5t, 5s) in which the groove | channel corresponding to each recessed part in the uneven pattern 36 which transferred the uneven | corrugated shape of the stamper 20 was formed in the magnetic layer 12 is formed. . Next, a surface finishing process is performed. In this surface finishing treatment, first, for example, after filling a groove with silicon dioxide (not shown), the surface is flattened by ion beam etching. Next, a protective film is formed on the flattened surface by, for example, DLC (Diamond Like Carbon), and finally a lubricant is applied. Thereby, the information recording medium 1 is completed. In this case, since the information recording medium 1 is manufactured using the concave / convex pattern 37 formed using the concave / convex pattern 36 having concave portions formed so that the opening width thereof becomes a desired width, the concave / convex pattern Each concave portion 5b of the concave / convex pattern 5 (data recording track, servo pattern, etc.) formed by using 36 and 37 also has a desired width. As a result, the occurrence of recording errors and reproduction errors in the information recording medium 1 is avoided.

このように、このスタンパー２０、およびスタンパー２０を用いたインプリント方法によれば、データトラックパターン形成領域Ａｔｓ内に形成した各凸部３５ａのうちで高さが最も高い凸部３５ａ（この例では、凸部３５ａ１）よりも少なくとも一部分における高さが高い凸部３５ａ（この例では、凸部３５ａ２，３５ａ３等）をサーボパターン形成領域Ａｓｓ内に形成して凹凸パターン３５を構成したことにより、インプリント時にスタンパー２０の全域（各データトラックパターン形成領域Ａｔｓおよび各サーボパターン形成領域Ａｓｓ）に亘って均一な押圧力でスタンパー２０を樹脂層１４に押し付けた際に、樹脂層１４に押し込み難い凸部３５ａが数多く存在するサーボパターン形成領域Ａｓｓ内の各凸部３５ａを樹脂層１４に十分に奥深く押し込むことができる。このため、データトラックパターン形成領域Ａｔｓ内の各凸部３５ａおよびサーボパターン形成領域Ａｓｓ内の各凸部３５ａを樹脂層１４に対して同程度で、しかも十分に押し込むことができる結果、金属層１３上の残渣の厚みＴを中間体１０の全域に亘って均一化することができる。したがって、残渣の取り除きに要する時間が全域に亘ってほぼ同程度の時間とすることができるため、データトラックパターン領域に対応する領域内において樹脂層１４に転写されている凹凸パターン３６における各凹部３６ｂの側壁面が浸食されて各凹部３６ｂが意図しない広い開口幅に形成される事態を回避することができる。これにより、データトラックパターン領域およびサーボパターン領域の両領域に亘って所望通りの開口幅の凹部を有する凹凸パターン３６を高精度で形成することができる。また、高精度に形成した凹凸パターン３６を用いて情報記録媒体１を製造することにより、記録再生エラーが生じ難い情報記録媒体１を製造することができる。   Thus, according to the stamper 20 and the imprint method using the stamper 20, the convex portion 35a having the highest height among the convex portions 35a formed in the data track pattern formation region Ats (in this example, , The convex portion 35a (in this example, convex portions 35a2, 35a3, etc.) having a height at least partially higher than that of the convex portion 35a1) is formed in the servo pattern forming region Ass, thereby forming the concave / convex pattern 35. Protrusions that are difficult to push into the resin layer 14 when the stamper 20 is pressed against the resin layer 14 with a uniform pressing force over the entire area of the stamper 20 (each data track pattern formation area Ats and each servo pattern formation area Ass) during printing. Each convex portion 35a in the servo pattern forming region Ass having a large number of 35a is sufficiently formed on the resin layer 14. It can be pushed deep into. For this reason, each projection 35a in the data track pattern formation region Ats and each projection 35a in the servo pattern formation region Ass can be pushed into the resin layer 14 to the same extent and sufficiently, and as a result, the metal layer 13 The thickness T of the upper residue can be made uniform over the entire area of the intermediate body 10. Accordingly, since the time required for removing the residue can be substantially the same over the entire area, each recess 36b in the uneven pattern 36 transferred to the resin layer 14 in the region corresponding to the data track pattern region. It is possible to avoid a situation in which the side wall surface of the steel sheet is eroded and each recess 36b is formed with an unintended wide opening width. As a result, the concave / convex pattern 36 having a concave portion having a desired opening width can be formed with high accuracy over both the data track pattern region and the servo pattern region. Further, by manufacturing the information recording medium 1 using the concavo-convex pattern 36 formed with high accuracy, it is possible to manufacture the information recording medium 1 in which a recording / reproducing error hardly occurs.

また、このスタンパー２０によれば、周方向の長さが凸部３５ａ１における径方向の長さＬ１よりも長い部位において凸部３５ａ１よりも高さが高くなるようにサーボパターン形成領域Ａｓｓ内に本発明における第３の凸部（この例では、凸部３５ａ２）を形成したことにより、例えば、プリアンブルパターン形成用の凸部３５ａ２や、セクタアドレスパターン形成用の凸部３５ａ２のように、その外周部において周方向の長さがデータトラックパターン形成用の凸部３５ａ１における径方向の長さＬ１よりも長い各凸部３５ａについてもデータトラックパターン形成用の凸部３５ａ１と同程度で、しかも十分な深さまで樹脂層１４に押し込むことができる。このため、データトラックパターン領域に対応する領域（データトラックパターン形成領域Ａｔｓ）内の残渣の厚みとサーボパターン領域に対応する領域（サーボパターン形成領域Ａｓｓ）内の残渣の厚みとをほぼ均一にすることができる。   Further, according to this stamper 20, the main pattern is formed in the servo pattern forming region Ass so that the height in the circumferential direction is longer than the convex portion 35a1 at the portion longer than the radial length L1 in the convex portion 35a1. By forming the third convex portion (in this example, the convex portion 35a2) in the invention, the outer peripheral portion thereof, such as the convex portion 35a2 for forming the preamble pattern or the convex portion 35a2 for forming the sector address pattern, is used. In each of the projections 35a, the length in the circumferential direction is longer than the radial length L1 of the projection 35a1 for forming the data track pattern, and the depth is the same as that of the projection 35a1 for forming the data track pattern. It can be pushed into the resin layer 14 as much as possible. For this reason, the thickness of the residue in the area corresponding to the data track pattern area (data track pattern formation area Ats) and the thickness of the residue in the area corresponding to the servo pattern area (servo pattern formation area Ass) are made substantially uniform. be able to.

さらに、このスタンパー２０によれば、その全域における高さが凸部３５ａ１よりも高くなるようにサーボパターン形成領域Ａｓｓ内のバーストパターン形成領域Ａｂｓに本発明における第４の凸部（この例では、凸部３５ａ３）を形成したことにより、凹部３５ｂ３に対する面積比が大きいことで樹脂層１４に対して押し込み難いバーストパターン形成用の凸部３５ａ３について、その内周部から外周部の全域において十分な深さまで樹脂層１４に押し込むことができる。   Furthermore, according to this stamper 20, the fourth convex portion in the present invention (in this example, in the burst pattern formation region Abs in the servo pattern formation region Ass so that the height in the entire region is higher than the convex portion 35a1. By forming the convex portion 35a3), the burst pattern forming convex portion 35a3 that has a large area ratio with respect to the concave portion 35b3 and is difficult to be pushed into the resin layer 14 is sufficiently deep in the entire region from the inner peripheral portion to the outer peripheral portion. It can be pushed into the resin layer 14 as much as possible.

また、このスタンパー２０を用いた情報記録媒体１の製造方法によれば、上記のインプリント方法によって樹脂層１４に転写した凹凸パターン３６を用いて情報記録媒体１を製造することにより、サーボ信号を確実に取得できるため、所望のトラックに対して磁気ヘッドを正確にトラッキングさせることができると共に、データ記録トラックに対する記録データの正確な記録、およびデータ記録トラックからの記録データの正確な読み取りが可能な情報記録媒体１を製造することができる。   Further, according to the method for manufacturing the information recording medium 1 using the stamper 20, the servo signal can be generated by manufacturing the information recording medium 1 using the uneven pattern 36 transferred to the resin layer 14 by the imprint method. Since it can be reliably acquired, the magnetic head can be accurately tracked with respect to a desired track, and the recording data can be accurately recorded on the data recording track and the recording data can be accurately read from the data recording track. The information recording medium 1 can be manufactured.

なお、本発明は、上記の構成および方法に限定されない。例えば、バーストパターン形成領域Ａｂｓ内の凸部３５ａ３をその内周部から外周部までの全域においてデータトラックパターン形成領域Ａｔｓ内の凸部３５ａ１よりも高く形成した例について説明したが、例えば、その内周部において周方向で並ぶ両凹部３５ｂ３の間における周方向の長さ（凸部３５ａ３の周方向の長さ）が上記のスタンパー２０よりも短いときには、その部位を凸部３５ａ１よりも低く形成することができる。この例では、凸部３５ａ１の高さＨ１よりも高く形成した部位（凸部３５ａ３における外周部）が本発明における「少なくとも一部分」に相当する。このように、少なくとも一部分における高さが凸部３５ａ１よりも高くなるようにサーボパターン形成領域Ａｓｓ内のバーストパターン形成領域Ａｂｓに本発明における第４の凸部（この例では、凸部３５ａ３等）を形成することにより、バーストパターン形成用の凸部３５ａ３においてインプリント処理時に樹脂層１４に対して押し込み難い外周部について、データトラックパターン形成用の凸部３５ａ１と同程度で、しかも十分な深さまで樹脂層１４に確実に押し込むことができる。このため、データトラックパターン領域に対応する領域（データトラックパターン形成領域Ａｔｓ）内の残渣の厚みとバーストパターン領域に対応する領域（バーストパターン形成領域Ａｂｓ）内の残渣の厚みとをほぼ均一にすることができる。   In addition, this invention is not limited to said structure and method. For example, the example in which the convex portion 35a3 in the burst pattern formation region Abs is formed higher than the convex portion 35a1 in the data track pattern formation region Ats in the entire region from the inner peripheral portion to the outer peripheral portion has been described. When the circumferential length between the concave portions 35b3 arranged in the circumferential direction at the circumferential portion (the circumferential length of the convex portion 35a3) is shorter than the stamper 20, the portion is formed lower than the convex portion 35a1. be able to. In this example, the part (the outer peripheral part of the convex part 35a3) formed higher than the height H1 of the convex part 35a1 corresponds to "at least a part" in the present invention. As described above, the fourth convex portion (in this example, the convex portion 35a3) in the burst pattern forming region Abs in the servo pattern forming region Ass so that the height at least in part is higher than the convex portion 35a1. In the convex portion 35a3 for forming the burst pattern, the outer peripheral portion that is difficult to be pushed into the resin layer 14 at the time of imprinting is approximately the same as the convex portion 35a1 for forming the data track pattern and has a sufficient depth. It can be reliably pushed into the resin layer 14. Therefore, the residue thickness in the region corresponding to the data track pattern region (data track pattern formation region Ats) and the residue thickness in the region corresponding to the burst pattern region (burst pattern formation region Abs) are made substantially uniform. be able to.

また、情報記録媒体１における単位バースト領域に対応する部位が凹部３５ｂ３で構成された凹凸パターン３５を有するスタンパー２０について説明したが、図２５に示すスタンパー２０Ａのように、情報記録媒体１における単位バースト領域に対応する部位を凸部３５ａで構成して凹凸パターン３５を形成することもできる。この場合、スタンパー２０Ａにおけるバーストパターン形成領域Ａｂｓのように、その周方向に沿った長さＬ４および径方向に沿った長さＬ５の少なくとも一方が凸部３５ａ１における径方向の長さよりも非常に長い凸部３５ａについては、基準面Ｘから突端部までの高さを凸部３５ａ１の高さＨ１よりも高くするのが好ましい。これにより、インプリント処理時において樹脂層１４に対して押し込み難い凸部３５ａ（長さＬ４，Ｌ５のいずれかが長さＬ１よりも非常に長い凸部３５ａ）についても、前述した凸部３５ａ２，３５ａ３と同様にして、凸部３５ａ１と同程度で、しかも十分な深さまで樹脂層１４に押し込むことができる。   Further, the stamper 20 having the concave / convex pattern 35 in which the portion corresponding to the unit burst area in the information recording medium 1 is constituted by the concave portion 35b3 has been described. However, as in the stamper 20A shown in FIG. The concave / convex pattern 35 can also be formed by forming a portion corresponding to the region with the convex portion 35a. In this case, like the burst pattern formation region Abs in the stamper 20A, at least one of the length L4 along the circumferential direction and the length L5 along the radial direction is much longer than the radial length of the convex portion 35a1. About the convex part 35a, it is preferable to make the height from the reference plane X to the protruding end part higher than the height H1 of the convex part 35a1. Thereby, the convex portions 35a2, which are difficult to be pushed into the resin layer 14 at the time of imprint processing (the convex portions 35a whose length L4, L5 is much longer than the length L1) are also described above. Similarly to 35a3, it can be pushed into the resin layer 14 to the same extent as the convex portion 35a1 and to a sufficient depth.

また、平行四辺形状の単位バースト領域が周方向に並ぶバーストパターンを有するスタンパー２０，２０Ａについて説明したが、略楕円形または円形の単位バースト領域が周方向に並ぶバーストパターンを形成可能なスタンパーに本発明を適用することができる。さらに、例えば、図２６に示すスタンパー２０Ｂのように、周方向に沿ってジグザグ状となる複数の凸部３５ａ（複数の凹部３５ｂ）を径方向に並べた凹凸パターン３５によってバーストパターンを形成する構成を採用することもできる。このスタンパー２０Ｂにおける凸部３５ａは、本発明における第３の凸部の一例であって、同図に示す矢印Ｂの部位が径方向沿って連続的に形成されている。したがって、この凸部３５ａにおける周方向の長さ（同図に示す長さＬ６）が前述した凸部３５ａ１における径方向の長さＬ１よりも長い部位については、基準面Ｘから突端部までの高さＨを凸部３５ａ１の高さＨ１よりも高くするのが好ましい。これにより、インプリント処理に際して、この凸部３５ａを十分な深さまで樹脂層１４に押し込むことができる。なお、同図に示すように、本発明における「径方向沿って連続的に形成されている」との状態には、周方向（同図に示す矢印Ｒの向き）に対して直交する向きに沿って連続的に形成されている状態のみならず、径方向に対して鋭角に交差する向きに沿って連続的に形成されている状態が含まれる。   Further, the stampers 20 and 20A having the burst pattern in which the parallelogram shaped unit burst areas are arranged in the circumferential direction have been described. However, the present invention is applied to a stamper capable of forming a burst pattern in which substantially elliptical or circular unit burst areas are arranged in the circumferential direction. The invention can be applied. Furthermore, for example, as in the stamper 20B shown in FIG. 26, a burst pattern is formed by an uneven pattern 35 in which a plurality of convex portions 35a (a plurality of concave portions 35b) arranged in a zigzag shape along the circumferential direction are arranged in the radial direction. Can also be adopted. The convex portion 35a in the stamper 20B is an example of a third convex portion in the present invention, and a portion indicated by an arrow B shown in the figure is continuously formed along the radial direction. Therefore, for a portion where the circumferential length (the length L6 shown in the figure) of the convex portion 35a is longer than the radial length L1 of the convex portion 35a1, the height from the reference plane X to the protruding end portion is high. It is preferable to make the height H higher than the height H1 of the convex portion 35a1. Thereby, in the imprint process, the convex portion 35a can be pushed into the resin layer 14 to a sufficient depth. As shown in the figure, the state of “continuously formed along the radial direction” in the present invention is in a direction orthogonal to the circumferential direction (direction of arrow R shown in the figure). This includes not only the state of being continuously formed along but also the state of being continuously formed along the direction intersecting at an acute angle with respect to the radial direction.

さらに、図２７に示すスタンパー２０Ｃのように、平行四辺形状の複数の凸部３５ａ（複数の凹部３５ｂ）をチェックパターン状に配置してバーストパターンを形成する構成を採用することもできる。この場合、スタンパー２０Ｃにおけるバーストパターン形成領域Ａｂｓのように、その周方向に沿った長さＬ７および径方向に沿った長さＬ８の少なくとも一方が凸部３５ａ１における径方向の長さよりも非常に長い凸部３５ａについては、基準面Ｘから突端部までの高さを凸部３５ａ１の高さＨ１よりも高くするのが好ましい。これにより、インプリント処理時において樹脂層１４に対して押し込み難い凸部３５ａ（長さＬ７，Ｌ８のいずれかが長さＬ１よりも非常に長い凸部３５ａ）についても、前述した凸部３５ａ２，３５ａ３と同様にして、凸部３５ａ１と同程度で、しかも十分な深さまで樹脂層１４に押し込むことができる。   Further, as in the stamper 20C shown in FIG. 27, a configuration in which a plurality of parallelogram-shaped convex portions 35a (a plurality of concave portions 35b) are arranged in a check pattern shape to form a burst pattern may be employed. In this case, like the burst pattern formation region Abs in the stamper 20C, at least one of the length L7 along the circumferential direction and the length L8 along the radial direction is much longer than the radial length of the convex portion 35a1. About the convex part 35a, it is preferable to make the height from the reference plane X to the protruding end part higher than the height H1 of the convex part 35a1. Thereby, the convex portions 35a2, which are difficult to be pushed into the resin layer 14 at the time of imprint processing (the convex portions 35a whose length L7, L8 is much longer than the length L1) are also described above. Similarly to 35a3, it can be pushed into the resin layer 14 to the same extent as the convex portion 35a1 and to a sufficient depth.

また、上記のスタンパー２０の製造方法では、ニッケル層２６（マスクパターン３３）をマスクとして用いてディスク状基材２５をエッチングして形成した凹凸パターン３４を覆うようにして電極膜２１およびニッケル層２２を形成してスタンパー２０を製造しているが、本発明に係るスタンパーの製造方法はこれに限定されず、例えば、ディスク状基材２５の上にレジスト層２７を形成すると共に、このレジスト層２７に深さが相違する凹部を形成して凹凸パターンを形成し（図示せず）、この凹凸パターンを覆うようにして電極膜２１およびニッケル層２２を形成することによってスタンパー２０を製造することもできる。さらに、上記のスタンパー２０の凹凸形状をスタンパー形成材料に転写して製造したスタンパーをマスタースタンパーとして用いて、このマスタースタンパーの凹凸形状を他のスタンパー形成材料に転写することによって、すなわち、上記のスタンパー２０の凹凸形状を偶数回だけ転写することによって、本発明に係るスタンパーを製造することもできる。   Further, in the manufacturing method of the stamper 20 described above, the electrode film 21 and the nickel layer 22 are covered so as to cover the concave / convex pattern 34 formed by etching the disk-shaped substrate 25 using the nickel layer 26 (mask pattern 33) as a mask. However, the manufacturing method of the stamper according to the present invention is not limited to this. For example, the resist layer 27 is formed on the disk-shaped substrate 25 and the resist layer 27 is formed. The stamper 20 can also be manufactured by forming recesses having different depths to form a concavo-convex pattern (not shown), and forming the electrode film 21 and the nickel layer 22 so as to cover the concavo-convex pattern. . Furthermore, by using the stamper manufactured by transferring the uneven shape of the stamper 20 to a stamper forming material as a master stamper, transferring the uneven shape of the master stamper to another stamper forming material, that is, the above-mentioned stamper The stamper according to the present invention can also be manufactured by transferring 20 uneven shapes only an even number of times.

また、上記のインプリント装置１００によるインプリント方法（情報記録媒体１の製造の製造方法）では、中間体１０に対するスタンパー２０の押し付け処理開始前からスタンパー２０の剥離処理が完了するまでの間において、中間体１０およびスタンパー２０の双方に対する加熱処理を継続して実行しているが、本発明はこれに限定されず、例えば、中間体１０に対してある程度十分にスタンパー２０を押し付けた後に、中間体１０およびスタンパー２０に対する加熱処理を終了し、その後にスタンパー２０を剥離する工程を採用することもできる。さらに、スタンパー２０の剥離に先立ってスタンパー２０および中間体１０の双方を樹脂層１４のガラス転移点以下の温度まで冷却することもできる。また、そのガラス転移点が常温（一例として、２５℃程度）よりも低い樹脂材料を用いて本発明における樹脂層を形成し、スタンパー押付け処理からスタンパー剥離処理までの間において加熱処理や冷却処理を実行することなく凹凸パターンを樹脂層に形成する方法を採用することもできる。さらに、本発明における樹脂材料として紫外線硬化型樹脂や電子線硬化型樹脂などを使用して樹脂層を形成し、スタンパー押付け処理後に紫外線または電子線を照射して樹脂層硬化（または、半硬化）させてからスタンパー剥離処理を実行することで凹凸パターンを樹脂層に形成する方法を採用することもできる。   Further, in the imprint method (manufacturing method of manufacturing the information recording medium 1) by the imprint apparatus 100, before the stamper 20 is peeled off from before the stamper 20 is pressed against the intermediate body 10, Although the heat treatment for both the intermediate body 10 and the stamper 20 is continuously performed, the present invention is not limited to this. For example, after the stamper 20 is sufficiently pressed against the intermediate body 10, the intermediate body It is also possible to employ a process in which the heat treatment on the stamper 20 and the stamper 20 is finished and then the stamper 20 is peeled off. Furthermore, both the stamper 20 and the intermediate body 10 can be cooled to a temperature below the glass transition point of the resin layer 14 prior to the separation of the stamper 20. Further, the resin layer in the present invention is formed using a resin material whose glass transition point is lower than room temperature (for example, about 25 ° C.), and heat treatment and cooling treatment are performed between the stamper pressing treatment and the stamper peeling treatment. A method of forming a concavo-convex pattern on the resin layer without performing it can also be adopted. Furthermore, a resin layer is formed using an ultraviolet curable resin or an electron beam curable resin as the resin material in the present invention, and the resin layer is cured (or semi-cured) by irradiating ultraviolet rays or an electron beam after the stamper pressing treatment. It is also possible to adopt a method of forming a concavo-convex pattern on the resin layer by performing a stamper peeling process after the removal.

また、本発明に係るインプリント方法によって形成した凹凸パターンの用途は、ディスクリートトラック型の情報記録媒体の製造に限定されず、トラック状のパターン以外のパターンを有するパターンド媒体の製造や、磁気記録媒体以外の各種情報記録媒体（例えば、光記録媒体や光磁気記録媒体）の製造に利用することができる。   Further, the use of the uneven pattern formed by the imprint method according to the present invention is not limited to the manufacture of a discrete track type information recording medium, the manufacture of a patterned medium having a pattern other than the track-like pattern, and the magnetic recording It can be used for manufacturing various information recording media other than the media (for example, optical recording media and magneto-optical recording media).

インプリント装置１００の構成を示すブロック図である。2 is a block diagram showing a configuration of an imprint apparatus 100. FIG. 情報記録媒体１の平面図である。1 is a plan view of an information recording medium 1. FIG. 情報記録媒体１の断面図である。1 is a cross-sectional view of an information recording medium 1. FIG. 中間体１０の断面図である。FIG. 3 is a cross-sectional view of the intermediate body 10. スタンパー２０の断面図である。2 is a cross-sectional view of a stamper 20. FIG. スタンパー２０におけるデータトラックパターン形成領域Ａｔｓおよびサーボパターン形成領域Ａｓｓの平面図である。4 is a plan view of a data track pattern formation region Ats and a servo pattern formation region Ass in the stamper 20. FIG. スタンパー２０におけるデータトラックパターン形成領域Ａｔｓの平面図である。3 is a plan view of a data track pattern formation region Ats in the stamper 20. FIG. スタンパー２０におけるサーボパターン形成領域Ａｓｓ内のプリアンブルパターン形成領域Ａｐｓの平面図である。3 is a plan view of a preamble pattern formation area Aps in a servo pattern formation area Ass in the stamper 20. FIG. スタンパー２０におけるサーボパターン形成領域Ａｓｓ内のバーストパターン形成領域Ａｂｓの平面図である。4 is a plan view of a burst pattern formation region Abs in a servo pattern formation region Ass in the stamper 20. FIG. 各凹部３５ｂの底面が面一となっているスタンパー２０における周方向に沿った断面図である。It is sectional drawing along the circumferential direction in the stamper 20 with which the bottom face of each recessed part 35b is flush | level. 各凹部３５ｂの底面が面一とはなっていないスタンパー２０における周方向に沿った断面図である。It is sectional drawing along the circumferential direction in the stamper 20 in which the bottom face of each recessed part 35b is not flush | level. 各凸部３５ａの長さと基準面Ｘから突端部までの高さとの関係を示す関係図である。It is a relationship figure which shows the relationship between the length of each convex part 35a, and the height from the reference plane X to a protrusion part. スタンパー２０の製造工程において表面にニッケル層２６を形成した状態におけるディスク状基材２５の周方向に沿った断面図である。FIG. 5 is a cross-sectional view along the circumferential direction of the disk-shaped substrate 25 in a state where a nickel layer 26 is formed on the surface in the manufacturing process of the stamper 20. ニッケル層２６の上に形成したレジスト層２７に電子線を照射して露光パターン３１を描画（潜像２７ａを形成）した状態におけるディスク状基材２５の周方向に沿った断面図である。FIG. 3 is a cross-sectional view along the circumferential direction of the disk-shaped substrate 25 in a state where an exposure pattern 31 is drawn (a latent image 27a is formed) by irradiating an electron beam onto a resist layer 27 formed on a nickel layer 26; 図１４に示す状態のレジスト層２７を現像処理してニッケル層２６の上に凹凸パターン３２を形成した状態におけるディスク状基材２５の周方向に沿った断面図である。FIG. 15 is a cross-sectional view along the circumferential direction of the disk-shaped substrate 25 in a state where the resist layer 27 in the state shown in FIG. 14 is developed to form a concavo-convex pattern 32 on the nickel layer 26. 図１５に示す状態のレジスト層２７（凹凸パターン３２）をマスクとして用いてニッケル層２６をエッチング処理することによってマスクパターン３３を形成した状態におけるディスク状基材２５の周方向に沿った断面図である。15 is a cross-sectional view along the circumferential direction of the disk-shaped substrate 25 in a state where a mask pattern 33 is formed by etching the nickel layer 26 using the resist layer 27 (uneven pattern 32) in the state shown in FIG. 15 as a mask. is there. マスクパターン３３を用いてエッチング処理することによって凹凸パターン３４を形成した状態におけるディスク状基材２５の周方向に沿った断面図である。It is sectional drawing along the circumferential direction of the disk-shaped base material 25 in the state which formed the uneven | corrugated pattern 34 by performing the etching process using the mask pattern 33. FIG. 図１７に示す凹凸パターン３４を覆うようにして電極膜２１を成膜した状態におけるディスク状基材２５の周方向に沿った断面図である。It is sectional drawing along the circumferential direction of the disk-shaped base material 25 in the state which formed the electrode film 21 so that the uneven | corrugated pattern 34 shown in FIG. 17 might be covered. 図１８に示す電極膜２１を覆うようにしてニッケル層２２を形成した状態におけるディスク状基材２５の周方向に沿った断面図である。It is sectional drawing along the circumferential direction of the disk-shaped base material 25 in the state which formed the nickel layer 22 so that the electrode film 21 shown in FIG. 18 might be covered. 中間体１０の樹脂層１４にスタンパー２０を押し付けた状態の断面図である。FIG. 4 is a cross-sectional view of a state in which a stamper 20 is pressed against a resin layer 14 of the intermediate body 10. 図２０の状態における各凸部３５ａ１の押し付け部位近傍の断面図である。It is sectional drawing of the pressing part vicinity of each convex part 35a1 in the state of FIG. 図２０の状態における各凸部３５ａ２の押し付け部位近傍の断面図である。It is sectional drawing of the pressing part vicinity of each convex part 35a2 in the state of FIG. 図２０に示す状態の中間体１０からスタンパー２０を剥離して凹凸パターン３６を形成した状態の断面図である。FIG. 21 is a cross-sectional view of a state in which the stamper 20 is peeled from the intermediate body 10 in the state shown in FIG. 図２３に示す凹凸パターン３６を用いて金属層１３をエッチングすることによって凹凸パターン３７を形成した状態の断面図である。It is sectional drawing of the state which formed the uneven | corrugated pattern 37 by etching the metal layer 13 using the uneven | corrugated pattern 36 shown in FIG. スタンパー２０Ａにおけるサーボパターン形成領域Ａｓｓ内のバーストパターン形成領域Ａｂｓの平面図である。It is a top view of burst pattern formation area Abs in servo pattern formation area Ass in stamper 20A. スタンパー２０Ｂにおけるサーボパターン形成領域Ａｓｓ内のバーストパターン形成領域Ａｂｓの平面図である。It is a top view of the burst pattern formation area Abs in the servo pattern formation area Ass in the stamper 20B. スタンパー２０Ｃにおけるサーボパターン形成領域Ａｓｓ内のバーストパターン形成領域Ａｂｓの平面図である。It is a top view of the burst pattern formation area Abs in the servo pattern formation area Ass in the stamper 20C. 従来のスタンパー１０ｚにおける長さＬ１１が短い凸部１６ｚを樹脂層２０ｚに押し込んだ状態の断面図である。It is sectional drawing of the state which pressed the convex part 16z with short length L11 in the conventional stamper 10z into the resin layer 20z. 従来のスタンパー１０ｚにおける長さＬ１２が長い凸部１６ｚを樹脂層２０ｚに押し込んだ状態の断面図である。It is sectional drawing of the state which pushed the convex part 16z with long length L12 in the conventional stamper 10z into the resin layer 20z.

符号の説明Explanation of symbols

１ 情報記録媒体
５，３５〜３７ 凹凸パターン
５ａ，３５ａ，３５ａ１〜３５ａ３ 凸部
５ｂ，３５ｂ，３５ｂ１〜３５ｂ３，３６ｂ 凹部
１０ 中間体
１１ ディスク状基材
１２ 磁性層
１３ 金属層
１４ 樹脂層
２０，２０Ａ〜２０Ｃ スタンパー
１００ インプリント装置
１１０ プレス機
１２０ 制御部
Ａｓ サーボパターン領域
Ａｔ データトラックパターン領域
Ａｂｓ バーストパターン形成領域
Ａｐｓ プリアンブルパターン形成領域
Ａｓｓ サーボパターン形成領域
Ａｔｓ データトラックパターン形成領域
Ｌ１〜Ｌ８ 長さ
Ｈ１〜Ｈ３ 高さ
Ｔ１，Ｔ２ 厚み
Ｘ 基準面 DESCRIPTION OF SYMBOLS 1 Information recording medium 5,35-37 Uneven | corrugated pattern 5a, 35a, 35a1-35a3 Convex part 5b, 35b, 35b1-35b3, 36b Concave part 10 Intermediate body 11 Disc-shaped base material 12 Magnetic layer 13 Metal layer 14 Resin layer 20, 20A -20C Stamper 100 Imprint device 110 Press 120 Control unit As Servo pattern area At Data track pattern area Abs Burst pattern formation area Aps Preamble pattern formation area Ass Servo pattern formation area Ats Data track pattern formation area L1 to L8 Length H1 H3 Height T1, T2 Thickness X Reference plane

Claims (6)

データトラックパターンおよびサーボパターンが凹凸パターンで形成された情報記録媒体を製造可能にスタンパー側凹凸パターンが形成され、
前記スタンパー側凹凸パターンには、表面と裏面との間に規定した基準面から突端部までの高さが相違する複数種類の凸部が形成されると共に、前記データトラックパターンに対応する領域内に形成された前記各凸部のうちで前記高さが最も高い第１の凸部よりも少なくとも一部分における前記高さが高い第２の凸部が前記サーボパターンに対応する領域内に形成されているスタンパー。 The stamper side uneven pattern is formed so that an information recording medium in which the data track pattern and the servo pattern are formed as an uneven pattern can be manufactured,
The stamper-side concavo-convex pattern is formed with a plurality of types of convex portions having different heights from the reference surface defined between the front surface and the back surface to the projecting end portion, and in a region corresponding to the data track pattern. Among the formed convex portions, a second convex portion having a height that is at least partially higher than the first convex portion having the highest height is formed in a region corresponding to the servo pattern. Stamper. 前記スタンパー側凹凸パターンには、前記第２の凸部として前記情報記録媒体の径方向に対応する向きに沿って連続的に形成された第３の凸部が形成され、
前記第３の凸部は、前記情報記録媒体の周方向に対応する向きの長さが前記第１の凸部における前記径方向に対応する向きの長さよりも長い部位において当該第１の凸部よりも前記高さが高くなるように形成されている請求項１記載のスタンパー。 The stamper-side concavo-convex pattern is formed with a third convex portion that is continuously formed along the direction corresponding to the radial direction of the information recording medium as the second convex portion.
The third convex portion has a length in a direction corresponding to the circumferential direction of the information recording medium at a portion longer than a length in a direction corresponding to the radial direction in the first convex portion. The stamper according to claim 1, wherein the stamper is formed to have a height higher than that of the stamper. 前記スタンパー側凹凸パターンは、前記サーボパターンのうちのバーストパターンにおける単位バースト領域に対応する部位が凹部で構成されると共に、当該凹部の周囲に前記第２の凸部としての第４の凸部が形成されて構成され、
前記第４の凸部は、少なくとも一部分における前記高さが前記第１の凸部よりも高くなるように形成されている請求項１または２記載のスタンパー。 In the stamper side uneven pattern, a portion corresponding to a unit burst region in the burst pattern of the servo pattern is formed by a recess, and a fourth protrusion as the second protrusion is formed around the recess. Formed and configured,
3. The stamper according to claim 1, wherein the fourth protrusion is formed so that the height of at least a part of the fourth protrusion is higher than that of the first protrusion. 前記第４の凸部は、その全域における前記高さが前記第１の凸部よりも高くなるように形成されている請求項３記載のスタンパー。   The stamper according to claim 3, wherein the fourth protrusion is formed such that the height of the fourth protrusion is higher than that of the first protrusion. 基材の表面に樹脂材料を塗布して形成した樹脂層に請求項１から４のいずれかに記載のスタンパーにおける前記スタンパー側凹凸パターンを押し付けるスタンパー押付け処理と、前記樹脂層から前記スタンパーを剥離するスタンパー剥離処理とをこの順で実行して、前記スタンパー側凹凸パターンの凹凸形状を前記樹脂層に転写するインプリント方法。   The stamper pressing process which presses the said stamper side uneven | corrugated pattern in the stamper in any one of Claim 1 to the resin layer formed by apply | coating the resin material on the surface of a base material, and peeling the said stamper from the said resin layer An imprint method in which a stamper peeling process is performed in this order to transfer the uneven shape of the stamper-side uneven pattern to the resin layer. 請求項５記載のインプリント方法によって前記樹脂層に転写した凹凸パターンを用いて情報記録媒体を製造する情報記録媒体製造方法。   An information recording medium manufacturing method for manufacturing an information recording medium using the concave / convex pattern transferred to the resin layer by the imprint method according to claim 5.
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