JP2007133386A - Antireflection film and optical filter provided therewith - Google Patents
Antireflection film and optical filter provided therewith Download PDFInfo
- Publication number
- JP2007133386A JP2007133386A JP2006278433A JP2006278433A JP2007133386A JP 2007133386 A JP2007133386 A JP 2007133386A JP 2006278433 A JP2006278433 A JP 2006278433A JP 2006278433 A JP2006278433 A JP 2006278433A JP 2007133386 A JP2007133386 A JP 2007133386A
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- group
- refractive index
- layer
- film
- index layer
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Pending
Links
Images
Abstract
Description
本発明は、反射防止性能と耐擦傷性に優れ、さらに好ましくは近赤外線および／または特定波長の可視光を選択吸収する機能を併せ持った反射防止フィルム、およびこの反射防止フィルムを表層に設けた光学フィルター、およびその光学フィルターを備えた画像表示装置に関する。 The present invention is excellent in antireflection performance and scratch resistance, more preferably an antireflection film having a function of selectively absorbing near infrared rays and / or visible light of a specific wavelength, and an optical film provided with this antireflection film on the surface layer The present invention relates to a filter and an image display device including the optical filter.
反射防止フィルムは、ブラウン管テレビや液晶、プラズマディスプレイなどの大画面薄型テレビおよびコンピューター等のモニターなどの画像表示装置において、太陽光や蛍光灯など外部光源の写り込みを低減し、視認性を向上させるために用いられ、可視光の反射の少ないことが求められている。 Anti-reflection films improve visibility by reducing the reflection of external light sources such as sunlight and fluorescent lamps in image display devices such as cathode-ray tube TVs, large-screen flat-screen TVs such as liquid crystal displays and plasma displays, and computer monitors. Therefore, there is a demand for less visible light reflection.
反射防止の技術としては、基材の表面を屈折率の小さい透明被膜で被覆することにより反射率が小さくなることが知られている（特許文献１参照）。さらに、基材に高屈折率層を形成し、その上に低屈折率層を形成することで、より効果的に反射を防止することができる。また、離型性を有するベースフィルム面上に、高屈折率層としての金属酸化物含有層と、その上に、低屈折率層としてのシロキサン系樹脂層を有する反射防止制電板用転写材が知られている（特許文献２参照）。 As an antireflection technique, it is known that the reflectance is reduced by coating the surface of a base material with a transparent film having a small refractive index (see Patent Document 1). Furthermore, reflection can be more effectively prevented by forming a high refractive index layer on the substrate and forming a low refractive index layer thereon. Also, a transfer material for an antireflection antistatic plate having a metal oxide-containing layer as a high refractive index layer on the surface of the base film having releasability and a siloxane resin layer as a low refractive index layer thereon. Is known (see Patent Document 2).
これら低屈折率層を形成するための低屈折率材料としては、無機材料の場合、ＭｇＦ２（屈折率１．３８）、ＳｉＯ２（屈折率１．４７）等がある。また、有機材料の場合、パーフルオロ樹脂（屈折率１．３４〜１．４０）、シロキサン樹脂（屈折率１．４０〜１．４５）等がある。 Examples of the low refractive index material for forming these low refractive index layers include MgF 2 (refractive index 1.38) and SiO 2 (refractive index 1.47) in the case of inorganic materials. In the case of organic materials, there are perfluoro resins (refractive index 1.34 to 1.40), siloxane resins (refractive index 1.40 to 1.45), and the like.
他方、さらに低屈折率化する試みも検討されている。例えば、内部に空洞を有するシリカ微粒子をマトリックス材料である有機材料中に分散させて得られるコーティング膜形成用塗料を塗布して乾燥、硬化することによって低屈折率の透明被膜を形成する技術が知られている（特許文献３、４参照）。すなわち、微粒子に外殻に包囲された空洞を形成することで微粒子自体の屈折率を小さくし、それを有機材料に分散させたものである。
On the other hand, attempts to further lower the refractive index are also being studied. For example, a technology for forming a transparent film having a low refractive index by applying a coating film forming paint obtained by dispersing silica fine particles having cavities in an organic material, which is a matrix material, and then drying and curing. (See
しかしながら、該シリカ微粒子の導入量を多くしすぎると、得られる透明被膜の屈折率はより低下するが、シリカ微粒子とマトリックス材料が十分結合できずに表面硬度が低下し、該表面を清掃する際に傷が入りやすくなり、視認性が低下する問題があり、低屈折率化による反射率の低減と高硬度化による耐擦傷性の両立が課題であった。 However, when the amount of the silica fine particles introduced is excessively large, the refractive index of the transparent film obtained is further lowered, but the surface hardness is lowered because the silica fine particles and the matrix material cannot be sufficiently bonded, and the surface is cleaned. As a result, there is a problem that visibility is lowered due to the possibility of scratches on the surface, and it has been a problem to achieve both reduction in reflectivity by lowering the refractive index and scratch resistance by increasing hardness.
また一般に、基材フィルムにハードコート層を形成し、さらにその上に高屈折率層と低屈折率層の２層からなる反射防止層を形成する場合、空気の屈折率をｎ０、ハードコート層の屈折率をｎＧ、高屈折率層の屈折率をｎＨ、厚みをｄＨ、低屈折率層の屈折率をｎＬ、厚みをｄＬ、反射を防止しようとする光の波長をλとするとき、以下の無反射条件を満足させなければならない。 In general, when a hard coat layer is formed on a base film and an antireflection layer comprising two layers of a high refractive index layer and a low refractive index layer is further formed thereon, the refractive index of air is n 0 , and the hard coat layer is formed. The refractive index of the layer is n G , the refractive index of the high refractive index layer is n H , the thickness is d H , the refractive index of the low refractive index layer is n L , the thickness is d L , and the wavelength of light to be prevented from being reflected When λ, the following non-reflection condition must be satisfied.
ｎＨｄＨ＝λ／４ （６）
ｎＬｄＬ＝λ／４ （７）
ｎＧ／ｎ０＝（ｎＨ／ｎＬ）２ （８）。
n H d H = λ / 4 (6)
n L d L = λ / 4 (7)
n G / n 0 = (n H / n L) 2 (8).
ここで、ｎ０＝1.00、ｎＧ＝1.50とすると、ｎＨ／ｎＬが1.22となり、厚みの比ｄＨ／ｄＬを0.82としたとき、波長λにて最低の反射率が得られる。しかし、２層では一般に得られる反射スペクトルは波長λで最小反射率となり、それより短波長側および長波長側では反射率が増加してＶ字型のスペクトルとなり、比較的狭い領域でしか反射防止効果は得られず、そのため反射色が青や赤の色目となり、ギラツキの原因とされている。反射防止層をさらに多層にすれば反射スペクトルはよりフラットとなって可視光域全般に渡って反射防止効果が得られるようになるが、製造工程数の増加によるコストアップにつながる。 Here, when n 0 = 1.00 and n G = 1.50, n H / n L is 1.22, and when the thickness ratio d H / d L is 0.82, the lowest reflectance is obtained at the wavelength λ. However, the reflection spectrum generally obtained with two layers is the minimum reflectance at the wavelength λ, and the reflectance increases to a V-shaped spectrum on the shorter wavelength side and the longer wavelength side, thereby preventing reflection only in a relatively narrow region. The effect is not obtained, so the reflection color becomes blue or red, causing glare. If the antireflection layer is further multilayered, the reflection spectrum becomes flatter and an antireflection effect can be obtained over the entire visible light range, but this leads to an increase in cost due to an increase in the number of manufacturing steps.
一方、ブラウン管（ＣＲＴ）やプラズマディスプレイ（ＰＤＰ）、表面電解ディスプレイ（ＳＥＤ）などの画像表示装置においては、人体や機器に影響を与える恐れのある電磁波の遮蔽、リモコンの誤動作が生じる恐れのある近赤外線の遮蔽、色純度低下を防止するための発光スペクトルの中の非有効波長の可視光の遮蔽、帯電防止、反射防止などの複数の機能を併せ持った光学フィルターを画像表示面の前面に形成または設置されるのが一般的である。ここで、近赤外線の遮蔽、色純度向上のための非有効波長の可視光の遮蔽には、それらを効率良く吸収する有機色素を含有した樹脂層を設けたフィルムが用いられている（特許文献５、６、７、８、９参照）。また、１枚のフィルムに反射防止と近赤外線遮蔽の機能の統合化を図ることにより、材料点数および貼り合わせ工程の削減が提案されている（特許文献１０参照）。
本発明は、基材フィルムの片面に、ハードコート層、高屈折率層、低屈折率層がこの順に形成された反射防止フィルムにおいて、最低反射率が低く、かつ表面反射スペクトルがよりフラットに近く、反射色の色目がニュートラルでギラツキ感のない反射防止フィルムを提供することを目的とする。さらには、内部に空洞を有するシリカ微粒子をマトリックス材料に分散させた低屈折率層において、シリカ微粒子とマトリックス材料とを強固に結合させることにより該被膜を高硬度化し、表面反射率が低く、かつ耐擦傷性に優れた反射防止層を得ること、さらに本発明により得られる反射防止層と反対側の面に、近赤外線吸収層および／または５５０〜６１０ｎｍの範囲にある特定波長の可視光をシャープに吸収することのできる波長選択吸収層を備えた多機能な反射防止フィルムを提供すること、さらにその反射防止フィルムを表層に設けた光学フィルター、およびその光学フィルターを備えた画像表示装置を提供することを目的とするものである。 The present invention is an antireflection film in which a hard coat layer, a high refractive index layer, and a low refractive index layer are formed in this order on one side of a base film. The minimum reflectance is low and the surface reflection spectrum is more flat. An object of the present invention is to provide an antireflection film having a neutral reflection color and no glare. Further, in a low refractive index layer in which silica fine particles having cavities therein are dispersed in a matrix material, the coating is made hard by strongly bonding the silica fine particles and the matrix material, the surface reflectance is low, and Obtaining an antireflection layer excellent in scratch resistance, and sharpening visible light with a specific wavelength in the range of 550 to 610 nm on the surface opposite to the antireflection layer obtained by the present invention. Provided is a multifunctional antireflection film provided with a wavelength selective absorption layer capable of absorbing light, an optical filter provided with the antireflection film on the surface layer, and an image display device provided with the optical filter. It is for the purpose.
かかる目的を達成するために本発明者らは鋭意研究を重ねた結果、低屈折率層の厚みｄＬと高屈折率層の厚みｄＨ、及びその厚みの比ｄＨ／ｄＬをある特定の範囲にすることで、本発明の反射防止フィルムを見出すに至った。すなわち、
本発明の第１の発明は、基材フィルムの片面に、ハードコート層、高屈折率層、低屈折率層がこの順に形成された反射防止フィルムであって、該反射防止層の高屈折率層の厚みｄＨが１０５〜１６０ｎｍの範囲、低屈折率層の厚さｄＬが７５〜１１０ｎｍの範囲にあり、かつ、高屈折率層の厚みｄＨと低屈折率層の厚みｄＬの比ｄＨ／ｄＬが１．０〜１．９の範囲にある反射防止フィルムである。
In order to achieve this object, the present inventors have conducted intensive research, and as a result, determined the thickness d L of the low refractive index layer, the thickness d H of the high refractive index layer, and the ratio d H / d L of the thickness. By making it into this range, the antireflection film of the present invention was found. That is,
A first invention of the present invention is an antireflection film in which a hard coat layer, a high refractive index layer, and a low refractive index layer are formed in this order on one surface of a base film, and the high refractive index of the antireflection layer The thickness d H of the layer is in the range of 105 to 160 nm, the thickness d L of the low refractive index layer is in the range of 75 to 110 nm, and the thickness d H of the high refractive index layer and the thickness d L of the low refractive index layer are It is an antireflection film having a ratio d H / d L in the range of 1.0 to 1.9.
本発明の好ましい態様である第２の発明は、高屈折率層の厚みｄＨと屈折率ｎＨの積ｄＨ・ｎＨが１６５〜２７６ｎｍ、かつ、低屈折率層の厚みｄＬと屈折率ｎＬの積ｄＬ・ｎＬが９６〜１６３ｎｍの範囲である第１の発明に記載の反射防止フィルムである。 The second invention is a preferred embodiment of the present invention is the product d H · n H a thickness d H and a refractive index n H of the high refractive index layer is 165~276nm and a refractive the thickness d L of the low refractive index layer product d L · n L rate n L is antireflection film according to the first invention is in the range of 96～163Nm.
本発明の好ましい態様である第３の発明は、低屈折率層が、内部に空洞を有するシリカ微粒子を含有する塗料を硬化して得られる被膜からなる第１または第２の発明に記載の反射防止フィルムである。 According to a third aspect of the present invention, which is a preferred embodiment of the present invention, the low refractive index layer is a reflection according to the first or second aspect, wherein the low refractive index layer is formed of a coating obtained by curing a paint containing silica fine particles having cavities therein. It is a prevention film.
本発明の好ましい態様である第４の発明は、前記低屈折率層を形成する塗料が、さらにシロキサン化合物および硬化剤を含有する塗料である第３の発明に記載の反射防止フィルムである。 4th invention which is a preferable aspect of this invention is an antireflection film as described in 3rd invention whose coating material which forms the said low-refractive-index layer is a coating material containing a siloxane compound and a hardening | curing agent further.
本発明の好ましい態様である第５の発明は、シロキサン化合物が、下記一般式（１）〜（５）から選ばれる１種以上のシラン化合物の加水分解物、および／または、縮合物である第４の発明に記載の反射防止フィルムである。
According to a fifth aspect of the present invention, a siloxane compound is a hydrolyzate and / or condensate of one or more silane compounds selected from the following general formulas (1) to (5). 4 is an antireflection film according to the invention of
Ｒ１Ｓｉ（ＯＲ６）３ （１）
（Ｒ１はフッ素が３から１７のフルオロアルキル基を表わす。Ｒ６はメチル基、エチル基、プロピル基、イソプロピル基またはアセチル基を表わし、それぞれ、同一でも、異なっていても良い。）
Ｒ２Ｓｉ（ＯＲ７）３ （２）
（Ｒ２はビニル基、アリル基、アルケニル基、アクリル基、メタクリル基、メタクリルオキシ基、シアノ基、エポキシ基、グリシドキシ基、アミノ基、およびそれらの置換体から選ばれた基を表す。Ｒ７はメチル基、エチル基、プロピル基、イソプロピル基、メトキシエチル基、またはアセチル基を表わし、それぞれ、同一でも、異なっていても良い。）
Ｒ３Ｓｉ（ＯＲ８）３ （３）
（Ｒ３は水素、アルキル基、アリール基、およびそれらの置換体から選ばれた基を表す。Ｒ８はメチル基、エチル基、プロピル基またはブチル基を表わし、それぞれ、同一でも、異なっていても良い。）
Ｒ４Ｒ５Ｓｉ（ＯＲ９）２ （４）
（Ｒ４およびＲ５は、それぞれ水素、アルキル基、フルオロアルキル基、アリール基、アルケニル基、メタクリルオキシ基、エポキシ基、グリシドキシ基、アミノ基、およびそれらの置換体から選ばれた基を表わし、それぞれ、同一でも、異なっていても良い。Ｒ９はメチル基、エチル基、プロピル基、イソプロピル基またはアセチル基を表わし、それぞれ、同一でも、異なっていても良い。）
Ｓｉ（ＯＲ１０）４ （５）
（Ｒ１０はメチル基またはエチル基を表わし、それぞれ、同一でも、異なっていても良い。）
本発明の好ましい態様である第６の発明は、硬化剤が、アルミニウムキレート化合物および／またはマグネシウムキレート化合物である第４または第５の発明に記載の反射防止フィルムである。
R 1 Si (OR 6 ) 3 (1)
(R 1 represents a fluoroalkyl group having 3 to 17 fluorine atoms. R 6 represents a methyl group, an ethyl group, a propyl group, an isopropyl group, or an acetyl group, which may be the same or different.)
R 2 Si (OR 7 ) 3 (2)
(R 2 represents a group selected from vinyl group, allyl group, alkenyl group, acrylic group, methacryl group, methacryloxy group, cyano group, epoxy group, glycidoxy group, amino group, and substituted products thereof. R 7 Represents a methyl group, an ethyl group, a propyl group, an isopropyl group, a methoxyethyl group, or an acetyl group, which may be the same or different.
R 3 Si (OR 8 ) 3 (3)
(R 3 represents a group selected from hydrogen, an alkyl group, an aryl group, and a substituent thereof. R 8 represents a methyl group, an ethyl group, a propyl group, or a butyl group, and each is the same or different. Is also good.)
R 4 R 5 Si (OR 9 ) 2 (4)
(R 4 and R 5 each represents a group selected from hydrogen, an alkyl group, a fluoroalkyl group, an aryl group, an alkenyl group, a methacryloxy group, an epoxy group, a glycidoxy group, an amino group, and a substituent thereof. Each may be the same or different, and R 9 represents a methyl group, an ethyl group, a propyl group, an isopropyl group, or an acetyl group, and each may be the same or different.)
Si (OR 10 ) 4 (5)
(R 10 represents a methyl group or an ethyl group, and may be the same or different.)
A sixth invention that is a preferred embodiment of the present invention is the antireflection film according to the fourth or fifth invention, wherein the curing agent is an aluminum chelate compound and / or a magnesium chelate compound.
本発明の好ましい態様である第７の発明は、基材フィルムのハードコート層、高屈折率層、低屈折率層が積層された面とは反対側の面に、少なくとも１種以上の有機色素を含有する樹脂層が積層された第１〜第６のいずれかの発明に記載の反射防止フィルムである。 According to a seventh aspect of the present invention, which is a preferred embodiment of the present invention, at least one organic dye is provided on the surface of the base film opposite to the surface on which the hard coat layer, high refractive index layer, and low refractive index layer are laminated. It is an antireflection film as described in any one of the 1st-6th invention by which the resin layer containing this was laminated | stacked.
本発明の好ましい態様である第８の発明は、波長８５０ｎｍにおける透過率が１５％以下、波長９５０ｎｍから１１５０ｎｍにおける透過率が１０％以下である第７の発明に記載の反射防止フィルムである。 An eighth aspect of the present invention, which is a preferred embodiment of the present invention, is the antireflection film according to the seventh aspect, wherein the transmittance at a wavelength of 850 nm is 15% or less and the transmittance at a wavelength from 950 nm to 1150 nm is 10% or less.
本発明の好ましい態様である第９の発明は、波長５５０〜６１０ｎｍの範囲に主吸収ピークを有する第７または第８の発明に記載の反射防止フィルムである。 A ninth aspect of the invention, which is a preferred embodiment of the present invention, is the antireflection film according to the seventh or eighth aspect having a main absorption peak in the wavelength range of 550 to 610 nm.
本発明の好ましい態様である第１０の発明は、前記主吸収ピークの半値幅が５０ｎｍ以下である第９の発明に記載の反射防止フィルムである。 A tenth aspect of the present invention, which is a preferred embodiment of the present invention, is the antireflection film according to the ninth aspect, wherein the half width of the main absorption peak is 50 nm or less.
本発明の第１１の発明は、第１〜第１０のいずれかの発明に記載の反射防止フィルムを表層に設けた光学フィルターである。 An eleventh aspect of the present invention is an optical filter in which the antireflection film according to any one of the first to tenth aspects is provided on a surface layer.
本発明の好ましい態様である第１２の発明は、波長５６５〜５８５ｎｍの範囲に主吸収ピークを有する有機色素を含有する樹脂層、および表面抵抗率が１０５Ω／□以上１０９Ω／□以下である帯電防止層を有する第１１の発明に記載の光学フィルターである。 According to a twelfth aspect of the present invention, which is a preferred embodiment of the present invention, a resin layer containing an organic dye having a main absorption peak in the wavelength range of 565 to 585 nm, and a surface resistivity of 10 5 Ω / □ or more and 10 9 Ω / □ or less. The optical filter according to the eleventh aspect, having an antistatic layer.
本発明の第１３の発明は、第１１または第１２の発明に記載の光学フィルターを備えた画像表示装置である。 A thirteenth aspect of the present invention is an image display device including the optical filter according to the eleventh or twelfth aspect.
本発明によれば、最低反射率が低く、かつ表面反射スペクトルがよりフラットに近く、反射色の色目がニュートラルでギラツキ感のない反射防止フィルムとすることができる。さらに本発明のより好ましい態様によれば、耐擦傷性に優れ、さらには、反射防止層と反対側の面に、近赤外線吸収層および／または５５０〜６１０ｎｍの範囲にある特定波長の可視光をシャープに吸収することのできる波長選択吸収層を備えた多機能な反射防止フィルムとすることができる。この反射防止フィルムを表層に設けた光学フィルターを画像表示面またはその前面に備えることにより、外光の写り込みが抑えられることで視認性が向上し、かつ清掃時の傷付きを防止でき、さらに色純度が向上して色再現範囲を拡大した画像が得られ、さらにはリモコンの誤動作を防止できる画像表示装置を提供することができる。 According to the present invention, it is possible to obtain an antireflection film having a low minimum reflectance, a surface reflection spectrum that is closer to flat, a neutral color, and no glare. Furthermore, according to a more preferred embodiment of the present invention, the scratch resistance is excellent, and further, visible light having a specific wavelength in the range of 550 to 610 nm is applied to the near-infrared absorbing layer and / or the surface opposite to the antireflection layer. It can be set as the multifunctional antireflection film provided with the wavelength selection absorption layer which can absorb sharply. By providing an optical filter with this antireflection film on the surface layer on the image display surface or its front surface, the reflection of external light can be suppressed, visibility can be improved, and scratching during cleaning can be prevented. An image display device can be provided in which an image with improved color purity and an expanded color reproduction range can be obtained, and further, malfunction of the remote controller can be prevented.
図１は、本発明の反射防止フィルムの好ましい態様の一例を示す模式断面図である。本発明の好ましい態様の一例として、基材フィルム（ａ）の一方の面にハードコート層（ｂ）が積層され、さらにその上に高屈折率層（ｄ）と低屈折率層（ｅ）からなる反射防止層（ｃ）が積層されている。さらに、その上に製造工程での反射防止層の傷付きや汚れを防止するための保護フィルム（ｆ）が積層されていてもよい。 FIG. 1 is a schematic cross-sectional view showing an example of a preferred embodiment of the antireflection film of the present invention. As an example of a preferred embodiment of the present invention, a hard coat layer (b) is laminated on one surface of the base film (a), and further, a high refractive index layer (d) and a low refractive index layer (e) are further formed thereon. The antireflection layer (c) is laminated. Furthermore, a protective film (f) for preventing the antireflection layer from being scratched or soiled in the production process may be laminated thereon.
一方、基材フィルムの反対面には、近赤外線を吸収する有機色素および／または５５０〜６１０ｎｍの範囲にある特定波長の可視光を吸収する有機色素を含有する樹脂層（ｇ）が積層されてなる。さらに、その上に半強化ガラスや、あるいは電磁波遮蔽フィルム、近赤外線遮蔽フィルム、帯電防止フィルムなどの他のフィルター部材と貼り合わせるための粘着層（ｈ）と離型フィルム（ｉ）が積層されて使用される。また、５５０〜６１０ｎｍの範囲にある特定波長の可視光を吸収する有機色素は粘着層（ｈ）に含有させてもかまわない。 On the other hand, a resin layer (g) containing an organic dye that absorbs near infrared rays and / or an organic dye that absorbs visible light having a specific wavelength in the range of 550 to 610 nm is laminated on the opposite surface of the base film. Become. Furthermore, an adhesive layer (h) and a release film (i) for laminating with other filter members such as semi-tempered glass, or an electromagnetic wave shielding film, a near-infrared shielding film, and an antistatic film are laminated thereon. used. Moreover, you may contain the organic pigment | dye which absorbs the visible light of the specific wavelength which exists in the range of 550-610 nm in the adhesion layer (h).
本発明の反射防止フィルムは、波長４００〜７００ｎｍにおける５°の絶対反射スペクトルにおいて、（１）最低反射率が０．６％以下、（２）最高反射率が２．５％以下、および（３）最高反射率と最低反射率の差が２．５％未満、の３条件を全て満たすことが好ましい。最低反射率が０．６％を超えると反射防止機能が不十分となり好ましくない。また、最高反射率が２．５％を越えると、４５０ｎｍ近辺または７００ｎｍ近辺の反射率が高くなり、反射光の色調が青みまたは赤みを帯びるため好ましくない。より好ましくは最低反射率としては、０．５％以下、さらに好ましくは０．３％以下であること、最高反射率としては２．０％以下であること、さらに、最高反射率と最低反射率との差が２．０％未満、さらには１．５％未満であることが、よりフラットな反射スペクトルとなり、色目もニュートラルになることから好ましい。 The antireflection film of the present invention has an absolute reflection spectrum of 5 ° at a wavelength of 400 to 700 nm, (1) a minimum reflectance of 0.6% or less, (2) a maximum reflectance of 2.5% or less, and (3 It is preferable to satisfy all three conditions that the difference between the maximum reflectance and the minimum reflectance is less than 2.5%. If the minimum reflectance exceeds 0.6%, the antireflection function becomes insufficient, which is not preferable. On the other hand, if the maximum reflectance exceeds 2.5%, the reflectance around 450 nm or around 700 nm increases, and the color tone of the reflected light becomes blue or red, which is not preferable. More preferably, the minimum reflectivity is 0.5% or less, more preferably 0.3% or less, the maximum reflectivity is 2.0% or less, and the maximum reflectivity and the minimum reflectivity. Is less than 2.0%, more preferably less than 1.5%, because a flatter reflection spectrum is obtained and the color is also neutral.
本発明における反射防止フィルムにおいて、波長４００〜７００ｎｍにおける絶対反射スペクトルの最低反射率および最高反射率およびその反射率差を前記の範囲とするためには、低屈折率層および高屈折率層の屈折率を、以下のように調整することが好ましい。低屈折率層の屈折率（ｎＬ）が１．４２以下、かつ、低屈折率層と高屈折率層の屈折率差が０．１５以上であることが好ましい。さらには、高屈折率層の屈折率（ｎＨ）は１．５５〜１．８０であることが好ましく、さらに好ましくは１．６０〜１．７５である。また、低屈折率層の屈折率（ｎＬ）は、１．２３〜１．４２が好ましく、さらに好ましくは１．３４〜１．３８である。 In the antireflection film of the present invention, the refractive index of the low refractive index layer and the high refractive index layer is used in order to set the minimum reflectance and the maximum reflectance of the absolute reflection spectrum at a wavelength of 400 to 700 nm and the reflectance difference within the above ranges. The rate is preferably adjusted as follows. The refractive index (n L ) of the low refractive index layer is preferably 1.42 or less, and the refractive index difference between the low refractive index layer and the high refractive index layer is preferably 0.15 or more. Furthermore, the refractive index of the high refractive index layer (n H) is preferably from 1.55 to 1.80, more preferably from 1.60 to 1.75. The refractive index of the low refractive index layer (n L) is preferably from 1.23 to 1.42, more preferably from 1.34 to 1.38.
さらに、ハードコート層の屈折率も調整することが好ましい。ハードコート層の屈折率（ｎＧ）は、１．４５〜１．５５が好ましい。ここで、低屈折率層の屈折率（ｎＬ）、および高屈折率層の屈折率（ｎＨ）は、下記式（９）および式（１０）を満足することが最低反射率をより低くできるので好ましい。 Furthermore, it is preferable to adjust the refractive index of the hard coat layer. The refractive index (n G ) of the hard coat layer is preferably 1.45 to 1.55. Here, the refractive index (n L ) of the low refractive index layer and the refractive index (n H ) of the high refractive index layer satisfy the following formulas (9) and (10) to lower the minimum reflectance. It is preferable because it is possible.
（ｎＨ）＝（ｎＬ）×（ｎＧ）１／２±０．０２ （９）
（ｎＬ）＝（ｎＨ）／（ｎＧ）１／２±０．０２ （１０）。
(N H ) = (n L ) × (n G ) 1/2 ± 0.02 (9)
(N L ) = (n H ) / (n G ) 1/2 ± 0.02 (10).
本発明の反射防止フィルムがよりフラットな反射スペクトルを得ることためには、前記した範囲にある高屈折率層の屈折率（ｎＨ）と高屈折率層の厚さ（ｄＨ）との積（光学厚みに相当する）が、反射を防止したい可視光の波長（λ）の１／４の１．２〜１．７倍となるような厚さ（ｄＨ）にすることが好ましく、さらには１．３〜１．６倍が好ましい。１．２倍を下回ると最高反射率と最低反射率との差も２．５％を越えるので好ましくない。一方、１．７倍を越えると最低反射率が０．６％よりも高くなり、反射防止性能が不十分となるので好ましくない。ここで、反射を防止したい可視光の波長（λ）は、可視光域にあれば任意に選ばれるが、通常は５５０〜６５０ｎｍの範囲にあることが好ましく、さらには５８０〜６２０ｎｍとするのが好ましい。
In order for the antireflection film of the present invention to obtain a flatter reflection spectrum, the product of the refractive index (n H ) of the high refractive index layer and the thickness (d H ) of the high refractive index layer in the above-described range. (Corresponding to the optical thickness) is preferably set to a thickness (d H ) that is 1.2 to 1.7
上述した好ましい反射を防止したい波長（λ）の範囲を考慮すると、高屈折率層の光学厚み（ｎＨｄＨ）は好ましくは１６５〜２７６ｎｍの範囲であり、さらに好ましくは１７８〜２６０ｎｍ、特に好ましくは１８８〜２４８ｎｍの範囲である。 Considering the range of the wavelength (λ) for which the above-described preferable reflection is to be prevented, the optical thickness (n H d H ) of the high refractive index layer is preferably in the range of 165 to 276 nm, more preferably 178 to 260 nm, particularly preferably. Is in the range of 188-248 nm.
上述した好ましい高屈折率層の屈折率（ｎＨ）の範囲や、反射を防止したい波長（λ）を考慮すると、本発明において、反射防止フィルムがよりフラットな反射スペクトルを得ることためには、高屈折率層の厚さ（ｄＨ）は１０５〜１６０ｎｍの範囲である。高屈折率層の厚さ（ｄＨ）は好ましくは１１０〜１５５ｎｍ、さらに好ましくは１１５〜１５０ｎｍの範囲である。 In consideration of the range of the refractive index (n H ) of the preferable high refractive index layer and the wavelength (λ) to be prevented from being reflected in the present invention, in order to obtain a flatter reflection spectrum in the present invention, The thickness (d H ) of the high refractive index layer is in the range of 105 to 160 nm. The thickness (d H ) of the high refractive index layer is preferably in the range of 110 to 155 nm, more preferably 115 to 150 nm.
一方、本発明の低屈折率層の厚さ（ｄＬ）の好ましい範囲は、前記した範囲にある低屈折率層の屈折率（ｎＬ）と低屈折率層の厚さ（ｄＬ）との積が、反射を防止したい可視光の波長（λ）の１／４の０．７〜１．００倍となるような厚さ（ｄＬ）にすることが好ましく、さらには０．７５〜０．９５倍が好ましい。本発明では、上記したように、高屈折率層の厚さ（ｄＨ）を前記した式（６）〜式（８）に示す無反射条件から導き出される厚さよりも厚くするために、低屈折率層の屈折率（ｎＬ）と低屈折率層の厚さ（ｄＬ）との積を反射を防止したい可視光の波長（λ）の１／４となるような厚さとすると、最低反射率となる波長が長波長側にシフトするため、反射を防止したい可視光の波長（λ）の１／４となるような厚さよりも低くするのが好ましい。
On the other hand, the preferred range of the thickness (d L ) of the low refractive index layer of the present invention includes the refractive index (n L ) of the low refractive index layer and the thickness (d L ) of the low refractive index layer in the above-mentioned range. Is preferably a thickness (d L ) such that it is 0.7 to 1.00
上述した好ましい反射を防止したい波長（λ）の範囲を考慮すると、低屈折率層の光学厚み（ｎＬｄＬ）は好ましくは９６〜１６３ｎｍの範囲であり、さらに好ましくは１０３〜１５４ｎｍ、特に好ましくは１０９〜１４７ｎｍの範囲とである。 Considering the range of the wavelength (λ) where the above-described preferable reflection is to be prevented, the optical thickness (n L d L ) of the low refractive index layer is preferably in the range of 96 to 163 nm, more preferably 103 to 154 nm, particularly preferably. Is in the range of 109 to 147 nm.
上述した好ましい高屈折率層の屈折率（ｎＬ）や、反射を防止したい波長（λ）を考慮すると、本発明において、反射防止フィルムがよりフラットな反射スペクトルを得ることためには、低屈折率層の厚さ（ｄＬ）は７５〜１１０ｎｍの範囲である。低屈折率層の厚さ（ｄＬ）は好ましくは８５〜１１０ｎｍ、さらには好ましくは８５〜１０５ｎｍの範囲である。 Considering the refractive index (n L ) of the preferable high refractive index layer and the wavelength (λ) to prevent reflection in the present invention, in order to obtain a flatter reflection spectrum in the present invention, the low refractive index The rate layer thickness (d L ) is in the range of 75-110 nm. The thickness (d L ) of the low refractive index layer is preferably 85 to 110 nm, more preferably 85 to 105 nm.
さらに、フラットな反射スペクトルを得ることためには、高屈折率層の厚さ（ｄＨ）と低屈折率層の厚さ（ｄＬ）の比（ｄＨ／ｄＬ）を、１．０〜１．９とする。１．０を下回る場合は、最高反射率が２．５％よりも高くなり、最高反射率と最低反射率との差も２．５％を越え、反射スペクトルがＶ型となって、赤や青の干渉色が現れる。一方、１．９を越える場合は、フラットな反射スペクトルが得られるものの、最低反射率が０．６％よりも高くなり、反射防止性能が不十分となる。（ｄＨ／ｄＬ）は、好ましくは１．１〜１．８、さらに好ましくは１．２〜１．７であるとフラットな反射スペクトルで、かつ最低反射率も低くできる。 Furthermore, in order to obtain a flat reflection spectrum, the ratio (d H / d L ) between the thickness (d H ) of the high refractive index layer and the thickness (d L ) of the low refractive index layer is set to 1.0. ˜1.9. If it is less than 1.0, the maximum reflectance is higher than 2.5%, the difference between the maximum reflectance and the minimum reflectance is also over 2.5%, the reflection spectrum becomes V-shaped, Blue interference color appears. On the other hand, if it exceeds 1.9, a flat reflection spectrum can be obtained, but the minimum reflectance becomes higher than 0.6%, and the antireflection performance becomes insufficient. When (d H / d L ) is preferably 1.1 to 1.8, more preferably 1.2 to 1.7, a flat reflection spectrum can be obtained and the minimum reflectance can be lowered.
本発明における反射防止フィルムは、通常、ディスプレイの最表面に設置使用されることが多い。その場合、フィルムの表面に付着した粉塵などを布で拭き取ったりした際に傷がつくと困るため、耐擦傷性が３級以上であることが好ましい。さらに好ましくは４級以上である。耐擦傷性は、反射防止フィルムの反射防止層側表面を＃００００のスチールウールに２５０ｇの荷重をかけて、ストローク幅１０ｃｍ、速度３０ｍｍ／ｓｅｃで１０往復摩擦した後、表面を目視で観察し、傷の付き方を次の５段階で評価したものである。５級：傷が全く付かない。４級：傷が１本以上５本以下。３級：傷が６本以上１０本以下。２級：傷が１１本以上。１級：全面に無数の傷。 The antireflection film in the present invention is usually often installed and used on the outermost surface of a display. In that case, the scratch resistance is preferably 3 or more because it is difficult to damage the film when dust or the like adhering to the surface of the film is wiped off with a cloth. More preferably, it is quaternary or higher. Scratch resistance was measured by visually observing the surface of the antireflective film after subjecting the antireflective layer side surface to # 0000 steel wool by applying a load of 250 g and 10 strokes at a stroke width of 10 cm and a speed of 30 mm / sec. The method of scratching is evaluated in the following five stages. 5th grade: No scratches. Fourth grade: 1 to 5 scratches. 3rd grade: 6 to 10 scratches. Second grade: 11 or more scratches. First grade: Countless scratches on the entire surface.
本発明の低屈折率層の表面は、微粒子に由来する凹凸を有する。低屈折率層の表面粗さは、中心線平均粗さＲａが０．５〜１５．０ｎｍが好ましく、さらに最大高さＲｍａｘが５〜１５０ｎｍが好ましい。ＲａおよびＲｍａｘがこの範囲より低いと反射防止効果が少なくなる場合がある。逆にこの範囲を超えると、ヘイズや耐擦傷性が悪くなる場合や、また指紋が拭き取りにくくなる場合があるので好ましくない。 The surface of the low refractive index layer of the present invention has irregularities derived from fine particles. As for the surface roughness of the low refractive index layer, the center line average roughness Ra is preferably 0.5 to 15.0 nm, and the maximum height Rmax is preferably 5 to 150 nm. If Ra and Rmax are lower than this range, the antireflection effect may be reduced. Conversely, exceeding this range is not preferable because haze and scratch resistance may be deteriorated and fingerprints may be difficult to wipe off.
本発明に用いられる基材フィルムとしては、溶融製膜もしくは溶液製膜可能なフィルムが好適に用いられる。その具体例としては、ポリエステル、ポリオレフィン、ポリアミド、ポリフェニレンスルフィド、アセテート、ポリカーボネート、アクリル系樹脂などからなるフィルムを挙げることができる。これらのうち、特に透明性、機械的強度、寸法安定性などに優れた熱可塑性樹脂からなるフィルムが好ましい。画像表示装置用途に用いるためには、光線透過率が高く、ヘイズ値が低いことが好ましいため、ポリエステル、アセテートおよびアクリル系樹脂より選ばれた少なくとも１種からなるフィルムが好ましい。透明性、ヘイズ値、機械特性の点から、特にポリエステルからなるフィルムが好ましく用いられる。 As the substrate film used in the present invention, a film that can be formed into a melt or a solution is preferably used. Specific examples thereof include films made of polyester, polyolefin, polyamide, polyphenylene sulfide, acetate, polycarbonate, acrylic resin, and the like. Among these, a film made of a thermoplastic resin excellent in transparency, mechanical strength, dimensional stability and the like is particularly preferable. In order to use it for image display device applications, it is preferable that the film has at least one selected from polyester, acetate and acrylic resin because it has high light transmittance and low haze value. In view of transparency, haze value, and mechanical properties, a film made of polyester is particularly preferably used.
例えば、基材フィルムの４００〜８００ｎｍでの光線透過率は好ましくは４０％以上、より好ましくは６０％以上である。また、基材フィルムのヘイズ値は、好ましくは５％以下、より好ましくは３％以下である。これら条件の両方を満たすと、画像表示装置用部材として用いたときに、鮮明性の点でさらに好ましい。また、光線透過率の上限値は９９．５％程度まで、またヘイズ値の下限値は０．１％程度までが実用的な範囲である。 For example, the light transmittance at 400 to 800 nm of the substrate film is preferably 40% or more, more preferably 60% or more. The haze value of the substrate film is preferably 5% or less, more preferably 3% or less. Satisfying both of these conditions is more preferable in terms of sharpness when used as a member for an image display device. Further, the upper limit of the light transmittance is about 99.5%, and the lower limit of the haze value is about 0.1%.
本発明で好ましく用いられるポリエステルとしては、ポリエチレンテレフタレート、ポリエチレンナフタレート、ポリプロピレンテレフタレート、ポリブチレンテレフタレート、ポリプロピレンナフタレートなどが挙げられる。これらの２種以上が混合されたものであってもよい。また、これらと他のジカルボン酸成分やジオール成分が共重合されたポリエステルであってもよいが、その共重合割合は、結晶配向が完了したフィルムにおいて、その結晶化度が好ましくは２５％以上、より好ましくは３０％以上、さらに好ましくは３５％以上となる範囲が好ましい。結晶化度が２５％未満の場合には、寸法安定性や機械的強度が不十分となりやすい。結晶化度は、ラマンスペクトル分析法により測定することができる。 Examples of the polyester preferably used in the present invention include polyethylene terephthalate, polyethylene naphthalate, polypropylene terephthalate, polybutylene terephthalate, and polypropylene naphthalate. Two or more of these may be mixed. In addition, these may be a polyester copolymerized with other dicarboxylic acid components and diol components, but the copolymerization ratio is preferably 25% or more in the degree of crystallinity in a film in which crystal orientation is completed. More preferably, the range is 30% or more, and more preferably 35% or more. When the crystallinity is less than 25%, dimensional stability and mechanical strength tend to be insufficient. The degree of crystallinity can be measured by a Raman spectrum analysis method.
また、本発明で用いられる基材フィルムは、２層以上の積層構造の複合体フィルムであっても良い。複合体フィルムとしては、例えば、内層部に実質的に粒子を含有せず、表層部に粒子を含有させた層を設けた複合体フィルム、内層部に粗大粒子を有し、表層部に微細粒子を含有させた複合体フィルム、および内層部が微細な気泡を含有した層を有する複合体フィルムなどが挙げられる。また、上記複合体フィルムは、内層部と表層部を構成するポリマーが、化学的に異種のポリマーであっても同種のポリマーであっても良い。 The base film used in the present invention may be a composite film having a laminated structure of two or more layers. As the composite film, for example, a composite film that is substantially free of particles in the inner layer portion and provided with a layer containing particles in the surface layer portion, has coarse particles in the inner layer portion, and fine particles in the surface layer portion. And a composite film having a layer in which the inner layer portion contains fine bubbles. In the composite film, the polymer constituting the inner layer portion and the surface layer portion may be a chemically different polymer or the same kind of polymer.
本発明における基材フィルムは、フィルムの熱安定性、特に寸法安定性や機械的強度を十分なものとし、平面性を良好にする観点から、二軸延伸により結晶配向されたフィルムであることが好ましい。二軸延伸により結晶配向しているとは、未延伸すなわち結晶配向が完了する前の熱可塑性樹脂フィルムを長手方向および幅方向にそれぞれ好適には２．５〜５倍程度延伸し、その後、熱処理により結晶配向を完了させたものであり、広角Ｘ線回折で二軸配向のパターンを示すものをいう。 The base film in the present invention is a film that is crystallized by biaxial stretching from the viewpoint of ensuring sufficient thermal stability, particularly dimensional stability and mechanical strength of the film, and improving flatness. preferable. The crystal orientation by biaxial stretching means that the thermoplastic film before unstretched, that is, before the crystal orientation is completed, is preferably stretched about 2.5 to 5 times in the longitudinal direction and the width direction, respectively, and then heat-treated. The crystal orientation is completed by the above, and it indicates a biaxial orientation pattern by wide-angle X-ray diffraction.
本発明で用いられる基材フィルムの厚みは、機械的強度やハンドリング性などの点から、好ましくは１０〜５００μｍ、より好ましくは２０〜３００μｍである。 The thickness of the base film used in the present invention is preferably 10 to 500 μm, more preferably 20 to 300 μm, from the viewpoint of mechanical strength and handling properties.
本発明の基材フィルム中には、本発明の効果を阻害しない範囲内で各種の添加剤や樹脂組成物、架橋剤などを含有しても良い。例えば酸化防止剤、耐熱安定剤、紫外線吸収剤、有機、無機の粒子、顔料、染料、帯電防止剤、核剤、アクリル樹脂、ポリエステル樹脂、ウレタン樹脂、ポリオレフィン樹脂、ポリカーボネート樹脂、アルキッド樹脂、エポキシ樹脂、尿素樹脂、フェノール樹脂、シリコーン樹脂、ゴム系樹脂、ワックス組成物、メラミン系架橋剤、オキサゾリン系架橋剤、メチロール化、アルキロール化された尿素系架橋剤、アクリルアミド、ポリアミド、エポキシ樹脂、イソシアネート化合物、アジリジン化合物、各種シランカップリング剤、各種チタネート系カップリング剤などを挙げることができる。 The base film of the present invention may contain various additives, resin compositions, cross-linking agents and the like within a range that does not impair the effects of the present invention. For example, antioxidants, heat stabilizers, UV absorbers, organic and inorganic particles, pigments, dyes, antistatic agents, nucleating agents, acrylic resins, polyester resins, urethane resins, polyolefin resins, polycarbonate resins, alkyd resins, epoxy resins , Urea resin, phenol resin, silicone resin, rubber resin, wax composition, melamine crosslinking agent, oxazoline crosslinking agent, methylolated, alkylolized urea crosslinking agent, acrylamide, polyamide, epoxy resin, isocyanate compound , Aziridine compounds, various silane coupling agents, various titanate coupling agents, and the like.
これらの中でも無機の粒子、例えばシリカ、コロイダルシリカ、アルミナ、アルミナゾル、カオリン、タルク、マイカ、炭酸カルシウム、硫酸バリウム、カーボンブラック、ゼオライト、酸化チタン、金属微粉末などを添加した場合には、易滑性、耐傷性などが向上するので特に好ましい。無機粒子の平均粒子径は、０．００５〜５μｍが好ましく、より好ましくは０．０５〜１μｍ程度である。ここで言う粒子径とは、レーザー回折式粒度分布測定装置を用いて得られた値である。また、平均粒子径は、５０％分布粒子径とする。なお、５０％分布粒子径とは粒度分布が５０％のところの粒子径を指し、今後特に断りがない限り平均粒子径とはこの粒子径を指す。また、無機粒子の添加量は、基材フィルム１００質量部中に０．０５〜２０質量部、好ましくは０．１〜１０質量部であるのが望ましい。 Among these, when inorganic particles such as silica, colloidal silica, alumina, alumina sol, kaolin, talc, mica, calcium carbonate, barium sulfate, carbon black, zeolite, titanium oxide, metal fine powder, etc. are added, it is easy to slip. This is particularly preferable since the property and scratch resistance are improved. The average particle size of the inorganic particles is preferably 0.005 to 5 μm, more preferably about 0.05 to 1 μm. The particle diameter here is a value obtained using a laser diffraction particle size distribution measuring apparatus. The average particle size is 50% distributed particle size. The 50% distribution particle size refers to the particle size where the particle size distribution is 50%, and the average particle size refers to this particle size unless otherwise specified. Moreover, the addition amount of inorganic particles is 0.05 to 20 parts by mass, preferably 0.1 to 10 parts by mass in 100 parts by mass of the base film.
本発明で用いる基材フィルムは、ハードコート層や有機色素を含有する樹脂層との接着性を向上させる目的で、基材フィルムの少なくとも一方の面に易接着層が形成されていることが好ましく、基材フィルムの両面に形成されているとなお好ましい。本発明でいう易接着層とは、基材フィルムの両面に積層構造的に形成されて存在する膜状のものをいう。 The base film used in the present invention preferably has an easy-adhesion layer formed on at least one surface of the base film for the purpose of improving the adhesion with the hard coat layer and the resin layer containing an organic dye. It is still more preferable that it is formed on both surfaces of the base film. The easy-adhesion layer as used in the field of this invention means the film-form thing which exists in the laminated structure formed on both surfaces of a base film.
易接着層を構成する成分としては、ハードコート層あるいは有機色素を含有する樹脂層と十分な接着性を有するものであれば特に限定されないが、ポリエステル樹脂、ポリカーボネート樹脂、エポキシ樹脂、アルキッド樹脂、アクリル樹脂、尿素樹脂、ウレタン樹脂などを好適に用いることができる。特にポリエステルからなるフィルム基材を用いる場合は、接着性の点から、ポリエステル樹脂、アクリル樹脂、ウレタン樹脂から選ばれる樹脂を用いることがより好ましく、また、異なる２種の樹脂、例えばポリエステル樹脂とウレタン樹脂、ポリエステル樹脂とアクリル樹脂、アクリル樹脂とウレタン樹脂を組み合わせて用いてもよい。
The component constituting the easy-adhesion layer is not particularly limited as long as it has sufficient adhesion with the hard coat layer or the resin layer containing an organic dye, but is not limited to polyester resin, polycarbonate resin, epoxy resin, alkyd resin, acrylic resin. Resins, urea resins, urethane resins and the like can be suitably used. In particular, when a film substrate made of polyester is used, it is more preferable to use a resin selected from a polyester resin, an acrylic resin, and a urethane resin from the viewpoint of adhesion, and two different resins, for example, a polyester resin and a urethane are used. A combination of resin, polyester resin and acrylic resin, or acrylic resin and urethane resin may be used.
また、基材フィルムのそれぞれの面に形成する易接着層は接着性の点から異種の樹脂を用いる方が好ましい。例えば、ハードコート層側にはポリエステル系樹脂を、有機色素を含有する樹脂層側にはアクリル樹脂を用いるのが好ましい。 Moreover, it is more preferable to use a different resin from the point of adhesiveness for the easy-adhesion layer formed on each surface of the base film. For example, it is preferable to use a polyester resin on the hard coat layer side and an acrylic resin on the resin layer side containing the organic dye.
易接着層は干渉縞を発生させるので、それを低減させる工夫が必要である。そのためには易接着層の屈折率は下記（１１）式
（易接着層の屈折率）＝｛（基材フィルムの屈折率）×（ハードコート層若しくは有機色素を含有する樹脂層の屈折率）｝１／２±０．０２ （１１）
を満たすことが干渉縞を低減させることから好ましい。基材フィルムがポリエステルの場合には、易接着層の屈折率は１．５３〜１．６３であることが好ましく、より好ましくは１．５７〜１．６１である。
Since the easy-adhesion layer generates interference fringes, it is necessary to devise measures to reduce them. For this purpose, the refractive index of the easy-adhesion layer is expressed by the following formula (11) (refractive index of the easy-adhesion layer) = {(refractive index of the base film) × (refractive index of the hard coat layer or the resin layer containing the organic dye). } 1/2 ± 0.02 (11)
It is preferable from the viewpoint of reducing interference fringes. When the base film is polyester, the refractive index of the easy adhesion layer is preferably 1.53 to 1.63, and more preferably 1.57 to 1.61.
基材フィルムを溶融押出後、二軸延伸して製膜する場合には、易接着層は製膜工程の横延伸工程の前段階で両面に塗工し、製膜と同時に形成する方法が好ましく用いられる。その場合、前記した樹脂は水性エマルジョン塗料として塗工するのが好ましく、易接着層の厚みは０．０３〜０．２０μｍが好適である。 When a base film is melt-extruded and then biaxially stretched to form a film, an easy-adhesion layer is preferably applied on both sides in the previous stage of the transverse stretching process of the film-forming process and formed simultaneously with the film formation. Used. In that case, the above-described resin is preferably applied as an aqueous emulsion paint, and the thickness of the easy-adhesion layer is preferably 0.03 to 0.20 μm.
本発明の反射防止フィルムは、基材フィルムの一方の面に、ハードコート層、反射防止層を積層して、まず反射防止フィルムを作製した後、基材フィルムの反対面に、有機色素を含有する樹脂層を積層するのが好ましい。そうすることでハードコート層や反射防止層の形成時に用いられる紫外線に有機色素を暴露させることなくできる。 The antireflection film of the present invention is prepared by laminating a hard coat layer and an antireflection layer on one side of a base film to produce an antireflection film first, and then contains an organic dye on the opposite side of the base film It is preferable to laminate a resin layer. By doing so, it is possible to expose the organic dye to ultraviolet rays used when forming the hard coat layer and the antireflection layer.
本発明において、ハードコート層とは、基材フィルムより硬度が高いことを意味する。本発明のハードコート層は、実用上、好ましくは鉛筆硬度が２Ｈ以上であることが望ましい。 In this invention, a hard-coat layer means that hardness is higher than a base film. In practice, the hard coat layer of the present invention preferably has a pencil hardness of 2H or more.
ハードコート層は、特に限定されるものではないが、（メタ）アクリレート化合物を含む組成物が挙げられ、具体的には、メチル（メタ）アクリレート、ｎ‐ブチル（メタ）アクリレート、ポリエステル（メタ）アクリレート、ラウリル（メタ）アクリレート、ヒドロキシエチル（メタ）アクリレート、ヒドロキシプロピル（メタ）アクリレート、などの単官能アクリレート化合物、さらに、（メタ）アクリロイル基が分子内に２個以上の多官能（メタ）アクリレート化合物は、耐溶剤性等が向上するので本発明においては特に好ましい。多官能（メタ）アクリレートの具体例には、ペンタエリスリトールトリ（メタ）アクリレート、ペンタエリスリトールテトラ（メタ）アクリレート、ジペンタエリスリトールトリ（メタ）アクリレート、ジペンタエリスリトールテトラ（メタ）アクリレート、ジペンタエリスリトールペンタ（メタ）アクリレート、ジペンタエリスリトールヘキサ（メタ）アクリレート、トリメチロールプロパントリ（メタ）アクリレートなどが挙げられる。これらの単量体は、１種または２種以上を混合して使用してもよい。さらに、シリカなどの微粒子、テトラエトキシシランなどの反応性珪素化合物を含んでいてもよい。これらのうち、生産性および硬度の点から紫外線硬化型の多官能（メタ）アクリレートを含む組成物が好ましく用いられる。 The hard coat layer is not particularly limited, and examples thereof include a composition containing a (meth) acrylate compound. Specifically, methyl (meth) acrylate, n-butyl (meth) acrylate, polyester (meth) Monofunctional acrylate compounds such as acrylates, lauryl (meth) acrylates, hydroxyethyl (meth) acrylates, hydroxypropyl (meth) acrylates, and polyfunctional (meth) acrylates having two or more (meth) acryloyl groups in the molecule A compound is particularly preferred in the present invention since the solvent resistance and the like are improved. Specific examples of polyfunctional (meth) acrylates include pentaerythritol tri (meth) acrylate, pentaerythritol tetra (meth) acrylate, dipentaerythritol tri (meth) acrylate, dipentaerythritol tetra (meth) acrylate, dipentaerythritol penta (Meth) acrylate, dipentaerythritol hexa (meth) acrylate, trimethylolpropane tri (meth) acrylate and the like. These monomers may be used alone or in combination of two or more. Furthermore, fine particles such as silica and reactive silicon compounds such as tetraethoxysilane may be included. Among these, from the viewpoint of productivity and hardness, a composition containing an ultraviolet curable polyfunctional (meth) acrylate is preferably used.
本発明のハードコート層中には、各種の添加剤を必要に応じて配合することができる。例えば、酸化防止剤、光安定剤、紫外線吸収剤などの安定剤、界面活性剤、レベリング剤および帯電防止剤などを用いることができる。 In the hard coat layer of the present invention, various additives can be blended as necessary. For example, stabilizers such as antioxidants, light stabilizers, ultraviolet absorbers, surfactants, leveling agents, antistatic agents, and the like can be used.
レベリング剤を用いることは、形成されるハードコート層をより平滑化するので好ましい。例えばシリコーン系レベリング剤、アクリル系レベリング剤、フッ素系レベリング剤などであり、特にシリコーン系レベリング剤が少量の添加で有効である。シリコーン系レベリング剤としては、ハードコート層上の反射防止層との接着性を阻害しないアクリル系レベリング剤を適用するのが好ましい。このようなレベリング剤としては「ＡＲＵＦＯＮ−ＵＰ１０００シリーズ、ＵＨ２０００シリーズ、ＵＣ３０００シリーズ（商品名）：東亜合成化学（株）製」などを好ましく用いることができる。レベリング剤の添加量はハードコート組成物１００質量部に対し、０．０１〜５質量部の範囲とするのが望ましい。 The use of a leveling agent is preferable because it smoothes the hard coat layer to be formed. For example, there are silicone leveling agents, acrylic leveling agents, fluorine leveling agents and the like, and silicone leveling agents are particularly effective when added in a small amount. As the silicone leveling agent, it is preferable to apply an acrylic leveling agent that does not inhibit the adhesion with the antireflection layer on the hard coat layer. As such a leveling agent, “ARUFON-UP1000 series, UH2000 series, UC3000 series (trade name): manufactured by Toagosei Co., Ltd.” and the like can be preferably used. The leveling agent is preferably added in an amount of 0.01 to 5 parts by mass with respect to 100 parts by mass of the hard coat composition.
ハードコート層の厚さは、通常０．１μｍ〜３０μｍが好ましく、より好ましくは１μｍ〜１５μｍである。ハードコート層の厚さが０．１μｍ未満の場合には十分硬化していても薄すぎるために、表面硬度が十分でなく、傷が付きやすくなる傾向にある。一方、ハードコート層の厚さが３０μｍを超える場合には、折り曲げなどの応力により、硬化膜にクラックが入りやすくなる傾向にある。 The thickness of the hard coat layer is usually preferably 0.1 μm to 30 μm, more preferably 1 μm to 15 μm. When the thickness of the hard coat layer is less than 0.1 μm, it is too thin even if it is sufficiently cured, so that the surface hardness is not sufficient and the surface tends to be damaged. On the other hand, when the thickness of the hard coat layer exceeds 30 μm, the cured film tends to be cracked due to stress such as bending.
本発明の反射防止フィルムはハードコート層の上に高屈折率層と低屈折率層の２層からなる反射防止層が積層されたものである。 The antireflection film of the present invention is obtained by laminating an antireflection layer composed of two layers of a high refractive index layer and a low refractive index layer on a hard coat layer.
本発明の高屈折率層の構成成分としては、反射防止フィルム表面に帯電防止性を付与するために、樹脂組成物に金属化合物粒子を分散させたものであることが好ましい。樹脂成分には、（メタ）アクリレート化合物が用いられる。（メタ）アクリレート化合物は、活性光線照射によりラジカル重合し、形成される膜の耐溶剤性や硬度を向上させるため好ましく、さらに、（メタ）アクリロイル基が分子内に２個以上の多官能（メタ）アクリレート化合物は、耐溶剤性等が向上するので本発明においては特に好ましい。例えば、ペンタエリスリトールトリ（メタ）アクリレートや、トリメチロールプロパントリ（メタ）アクリレート、グリセロールトリ（メタ）アクリレート、エチレン変性トリメチロールプロパントリ（メタ）アクリレート、トリス−（２−ヒドロキシエチル）−イソシアヌル酸エステルトリ（メタ）アクリレート等の３官能（メタ）アクリレート、ペンタエリスリトールテトラ（メタ）アクリレート、ジペンタエリスリトールペンタ（メタ）アクリレート、ジペンタエリスリトールヘキサ（メタ）アクリレート等の４官能以上の（メタ）アクリレート等が挙げられる。 As a constituent component of the high refractive index layer of the present invention, it is preferable that metal compound particles are dispersed in a resin composition in order to impart antistatic properties to the antireflection film surface. A (meth) acrylate compound is used for the resin component. The (meth) acrylate compound is preferably radically polymerized by irradiation with actinic rays to improve the solvent resistance and hardness of the formed film. Furthermore, the (meth) acryloyl group has two or more polyfunctional (meth) The acrylate compound is particularly preferred in the present invention because of its improved solvent resistance. For example, pentaerythritol tri (meth) acrylate, trimethylolpropane tri (meth) acrylate, glycerol tri (meth) acrylate, ethylene-modified trimethylolpropane tri (meth) acrylate, tris- (2-hydroxyethyl) -isocyanuric acid ester Trifunctional (meth) acrylates such as tri (meth) acrylate, pentafunctional (meth) acrylates such as pentaerythritol tetra (meth) acrylate, dipentaerythritol penta (meth) acrylate, dipentaerythritol hexa (meth) acrylate, etc. Is mentioned.
樹脂成分は、金属化合物粒子の分散性を向上させるため、カルボキシル基や、リン酸基、スルホン酸基等の酸性官能基を有する（メタ）アクリレート化合物が使用できる。具体的には、酸性官能基含有モノマーとしては、アクリル酸、メタクリル酸、クロトン酸、２−メタクリロイルオキシエチルコハク酸、２−メタクリロイルオキシエチルフタル酸などの不飽和カルボン酸、モノ（２−（メタ）アクリロイルオキシエチル）アシッドホスフェート、ジフェニル−２−（メタ）アクリロイルオキシエチルホスフェート等のリン酸（メタ）アクリル酸エステル、２−スルホエステル（メタ）アクリレート等が挙げられる。その他、アミド結合、ウレタン結合、エーテル結合などの極性を持った結合を有する（メタ）アクリレート化合物が使用できる。 As the resin component, in order to improve the dispersibility of the metal compound particles, a (meth) acrylate compound having an acidic functional group such as a carboxyl group, a phosphate group, or a sulfonate group can be used. Specifically, examples of the acidic functional group-containing monomer include unsaturated carboxylic acids such as acrylic acid, methacrylic acid, crotonic acid, 2-methacryloyloxyethyl succinic acid, 2-methacryloyloxyethyl phthalic acid, and mono (2- (meta ) (Acryloyloxyethyl) acid phosphate, diphenyl-2- (meth) acryloyloxyethyl phosphate, and other phosphoric acid (meth) acrylic acid esters, 2-sulfoester (meth) acrylates, and the like. In addition, (meth) acrylate compounds having a bond with polarity such as an amide bond, a urethane bond, and an ether bond can be used.
ここで用いられる金属化合物粒子としては、導電性の各種金属酸化物粒子が好ましく用いられる。特に好ましくは錫含有酸化アンチモン粒子（ＡＴＯ）、亜鉛含有酸化アンチモン粒子、錫含有酸化インジウム粒子（ＩＴＯ）、酸化亜鉛／酸化アルミニウム粒子、酸化アンチモン粒子等である。さらに好ましくは錫含有酸化インジウム粒子（ＩＴＯ）が用いられる。 As the metal compound particles used here, various conductive metal oxide particles are preferably used. Particularly preferred are tin-containing antimony oxide particles (ATO), zinc-containing antimony oxide particles, tin-containing indium oxide particles (ITO), zinc oxide / aluminum oxide particles, and antimony oxide particles. More preferably, tin-containing indium oxide particles (ITO) are used.
導電性を構成する導電性金属化合物粒子について、平均１次粒子径（ＢＥＴ法により測定される球相当径）が０．５μｍ以下の粒子が好適に使用される。より好ましくは、０．００１〜０．３μｍ、さらに好ましくは０．００５〜０．２μｍの粒子径のものが用いられる。該平均粒子径が、この範囲を超えると生成される被膜（高屈折率層）の透明性を低下させ、この範囲未満では、該金属化合物粒子が凝集し易く生成被膜（高屈折率層）のヘイズ値が増大する。いずれの場合も、所望のヘイズ値を得ることが困難になる。 As the conductive metal compound particles constituting the conductivity, particles having an average primary particle diameter (sphere equivalent diameter measured by the BET method) of 0.5 μm or less are preferably used. More preferably, those having a particle size of 0.001 to 0.3 μm, and more preferably 0.005 to 0.2 μm are used. When the average particle diameter exceeds this range, the transparency of the coating film (high refractive index layer) produced is lowered. When the average particle diameter is less than this range, the metal compound particles tend to aggregate and the resulting coating film (high refractive index layer) The haze value increases. In either case, it becomes difficult to obtain a desired haze value.
本発明では、高屈折率層の構成成分に、導電性の効果をさらに向上させることを目的としてポリピロール、ポリチオフェン、およびポリアニリン等の導電性ポリマー、金属アルコレートおよびキレート化合物などの有機金属化合物を、さらに含有させることもできる。 In the present invention, a conductive polymer such as polypyrrole, polythiophene, and polyaniline, an organometallic compound such as a metal alcoholate and a chelate compound, for the purpose of further improving the conductivity effect, as a component of the high refractive index layer, Further, it can be contained.
本発明で高屈折率層を形成する際に、塗布した樹脂成分の硬化を進めるために開始剤を使用してもよい。該開始剤としては、塗布したバインダー成分を、ラジカル反応、アニオン反応、カチオン反応等による重合および／または架橋反応を開始あるいは促進せしめるものであり、従来から公知のチオキサントン誘導体、アゾ化合物、ジアゾ化合物、芳香族カルボニル化合物、ジアルキルアミノ安息香酸エステル、過酸化物、アクリジン誘導体、フェナジン誘導体、キノキサリン誘導体等の各種光重合開始剤が使用可能である。この光重合開始剤の量は、樹脂成分１００質量部に対して、通常、０．１〜２０質量部、さらには１〜１５質量部の範囲で好ましく添加される。かかる好ましい範囲であると、光重合が十分に早く、硬度および耐擦過性を満足させるために短時間の光照射でよく、一方、塗膜の導電性、耐摩耗性、耐候性等の機能が低下することもない。 In forming the high refractive index layer in the present invention, an initiator may be used to advance the curing of the applied resin component. As the initiator, the applied binder component initiates or accelerates polymerization and / or crosslinking reaction by radical reaction, anion reaction, cation reaction, etc., and conventionally known thioxanthone derivatives, azo compounds, diazo compounds, Various photopolymerization initiators such as aromatic carbonyl compounds, dialkylaminobenzoic acid esters, peroxides, acridine derivatives, phenazine derivatives and quinoxaline derivatives can be used. The amount of the photopolymerization initiator is usually preferably added in the range of 0.1 to 20 parts by mass, and more preferably 1 to 15 parts by mass with respect to 100 parts by mass of the resin component. In such a preferred range, photopolymerization is sufficiently fast and light irradiation for a short time may be sufficient to satisfy hardness and scratch resistance, while the coating film has functions such as conductivity, abrasion resistance, and weather resistance. There is no decline.
また、本発明で高屈折率層を形成する際に、上記開始剤の、酸素阻害による感度の低下を防止するために、光重合開始剤にアミン化合物を共存させてもよい。さらに必要に応じて、例えば、重合禁止剤や、硬化触媒、酸化防止剤、分散剤、レベリング剤、シランカップリング剤等の各種添加剤を含有してもよい。また、表面硬度の向上を目的として、アルキルシリケート類およびその加水分解物、コロイダルシリカ、乾式シリカ、湿式シリカ、酸化チタン等の無機粒子、コロイド状に分散したシリカ微粒子等を、さらに含有させることもできる。 Further, when the high refractive index layer is formed in the present invention, an amine compound may be coexisted with the photopolymerization initiator in order to prevent the sensitivity of the initiator from being lowered due to oxygen inhibition. Furthermore, you may contain various additives, such as a polymerization inhibitor, a curing catalyst, antioxidant, a dispersing agent, a leveling agent, a silane coupling agent, as needed. In addition, for the purpose of improving the surface hardness, alkyl silicates and hydrolysates thereof, colloidal silica, dry silica, wet silica, titanium oxide and other inorganic particles, colloidally dispersed silica fine particles, and the like may be further included. it can.
本発明において、高屈折率層の構成成分の配合割合は、樹脂成分と金属化合物粒子との質量割合〔(Ａ) ／(Ｂ) 〕が１０／９０〜３０／７０であることが好ましく、さらに好ましくは１５／８５〜２５／７５である。金属化合物粒子がかかる好ましい範囲であると、得られる膜は透明性十分で、導電性も良好であり、一方、得られる膜の各種物理的、化学的強度が悪くなることもない。 In the present invention, the mixing ratio of the constituent components of the high refractive index layer is preferably such that the mass ratio [(A) / (B)] of the resin component and the metal compound particles is 10/90 to 30/70, Preferably it is 15 / 85-25 / 75. When the metal compound particles are within such a preferable range, the obtained film has sufficient transparency and good electrical conductivity, and on the other hand, various physical and chemical strengths of the obtained film do not deteriorate.
本発明の高屈折率層によって所望水準の帯電防止性が付与されるためには、該層の表面抵抗値が１×１０１１Ω／□以下になるよう添加量を制御することが好ましく、さらには１×１０１０Ω／□以下になるよう添加量を制御するのが好ましい。 In order to provide a desired level of antistatic properties by the high refractive index layer of the present invention, it is preferable to control the addition amount so that the surface resistance value of the layer is 1 × 10 11 Ω / □ or less. Is preferably controlled to be 1 × 10 10 Ω / □ or less.
本発明における高屈折率層は、鮮明性、透明性の点から、全光線透過率が好ましくは４０％以上、さらに好ましくは５０％以上の層である。 The high refractive index layer in the present invention is a layer having a total light transmittance of preferably 40% or more, more preferably 50% or more, from the viewpoint of sharpness and transparency.
本発明において高屈折率層は、好ましくは溶媒で分散させた塗布液を調整し、その塗布液をハードコート層上に塗布した後、乾燥・硬化させることによって形成することができる。 In the present invention, the high refractive index layer can be formed by adjusting a coating liquid preferably dispersed with a solvent, applying the coating liquid on the hard coat layer, and then drying and curing.
本発明の高屈折率層形成において使用される溶剤は、塗布または印刷作業性を改善し、また金属化合物粒子の分散性を改善するために配合するものであり、樹脂成分を溶解するものであれば、従来から公知の各種有機溶媒を使用することができる。特に、本発明においては、組成物の粘度の安定性、乾燥性の観点から沸点が６０〜１８０℃の有機溶媒が好ましく、さらに、そのうち酸素原子を有する有機溶媒が金属化合物粒子との親和性がよいので好適である。かかる有機溶媒としては、具体的には、例えば、メタノールや、エタノール、イソプロピルアルコール、ｎ−ブタノール、ｔｅｒｔ―ブタノール、エチレングリコールモノメチルエーテル、１−メトキシ−２−プロパノール、プロピレングリコールモノメチルエーテル、シクロヘキサノン、酢酸ブチル、イソプロピルアセトン、メチルエチルケトン、メチルイソブチルケトン、ジアセチルアセトン、アセチルアセトン等が好適に挙げられる。これらは単一で使用してもよく、２種類以上を混合して用いてもよい。 The solvent used in the formation of the high refractive index layer of the present invention is formulated to improve the coating or printing workability and to improve the dispersibility of the metal compound particles and to dissolve the resin component. For example, conventionally known various organic solvents can be used. In particular, in the present invention, an organic solvent having a boiling point of 60 to 180 ° C. is preferred from the viewpoint of viscosity stability and drying property of the composition, and among them, the organic solvent having an oxygen atom has an affinity for metal compound particles. It is preferable because it is good. Specific examples of the organic solvent include methanol, ethanol, isopropyl alcohol, n-butanol, tert-butanol, ethylene glycol monomethyl ether, 1-methoxy-2-propanol, propylene glycol monomethyl ether, cyclohexanone, and acetic acid. Preferable examples include butyl, isopropylacetone, methyl ethyl ketone, methyl isobutyl ketone, diacetylacetone, acetylacetone and the like. These may be used alone or in combination of two or more.
また、有機溶媒の量は、塗布手段や、印刷手段に応じ作業性のよい状態の粘度に組成物がなるように任意の量配合すればよいが、通常組成物の固形分濃度が６０質量％以下、好ましくは、５０質量％以下になる程度が適当である。本発明の光硬化性導電膜形成用組成物の調製としては、任意の方法が採用可能であるが、通常樹脂成分を有機溶媒で溶解させた溶液中に、金属化合物粒子を添加し、ペイントシェーカーや、ボールミル、サンドミル、三本ロール、アトライター、ホモミキサー等の分散機により分散させ、しかる後、光重合開始剤を添加し、均一に溶解させる方法が適当である。 The amount of the organic solvent may be blended in an arbitrary amount so that the composition has a viscosity with good workability according to the application means and the printing means, but the solid content concentration of the composition is usually 60% by mass. Hereinafter, it is preferable that the amount is 50% by mass or less. As the preparation of the composition for forming a photocurable conductive film of the present invention, any method can be adopted. Usually, a metal compound particle is added to a solution in which a resin component is dissolved in an organic solvent, and a paint shaker is added. Alternatively, a method of dispersing by a dispersing machine such as a ball mill, a sand mill, a three roll, an attritor, a homomixer, etc., and then adding a photopolymerization initiator and dissolving uniformly is suitable.
本発明の反射防止フィルムにおいて、低屈折率層は、前述したような屈折率を有することが最低反射率を低減するために好ましく、そのためには後述する内部に空洞を有するシリカ微粒子をマトリクス材料に分散させた塗料を硬化させたものであることが好ましい。マトリクス材料としては低屈折率層の屈折率を低く抑え、さらに防汚性、指紋拭き取り性などを付与するためにフッ素を有する樹脂組成物を好ましい例として挙げられる。 In the antireflection film of the present invention, the low refractive index layer preferably has a refractive index as described above in order to reduce the minimum reflectance, and for this purpose, silica fine particles having cavities in the interior described later are used as a matrix material. It is preferable that the dispersed paint is cured. A preferred example of the matrix material is a resin composition having fluorine in order to suppress the refractive index of the low refractive index layer to be low and to impart antifouling properties, fingerprint wiping properties, and the like.
本発明の反射防止フィルムにおいて、低屈折率層をより好ましいものとするためには、内部に空洞を有するシリカ微粒子、およびシロキサン化合物、および硬化剤、および溶媒からなる塗料組成物をコーティングして得られるものとすることが、屈折率をより低くでき、表面反射率を低くすることができるので好ましい。 In the antireflection film of the present invention, in order to make the low refractive index layer more preferable, it is obtained by coating a coating composition comprising silica fine particles having cavities therein, a siloxane compound, a curing agent, and a solvent. It is preferable that the refractive index be reduced because the refractive index can be lowered and the surface reflectance can be lowered.
さらに、本発明の低屈折率層は、表面硬度を向上させ、耐擦傷性を優れたものとするためにマトリックス材料であるシロキサン化合物とシリカ微粒子が強固に結合していることが好ましく、そのためにはコーティング前の塗料組成物の段階で予めシロキサン化合物をシリカ微粒子表面と反応させて結合させることが好ましい。
そのための塗料組成物は、シリカ微粒子の存在下、シラン化合物を溶媒中、酸触媒により、加水分解することによって、シラノール化合物を形成した後、該シラノール化合物を縮合反応させることによって得ることができる。シラノール化合物としては、下記一般式（１）〜（５）で表されるシラン化合物から選ばれた１種以上のシラン化合物が好ましい。
Further, in the low refractive index layer of the present invention, the siloxane compound as the matrix material and the silica fine particles are preferably bonded tightly in order to improve the surface hardness and to have excellent scratch resistance. It is preferable that the siloxane compound is reacted with the surface of the silica fine particles and bonded in advance at the stage of the coating composition before coating.
The coating composition for that purpose can be obtained by hydrolyzing the silane compound in a solvent with an acid catalyst in the presence of silica fine particles to form a silanol compound and then subjecting the silanol compound to a condensation reaction. As the silanol compound, one or more silane compounds selected from silane compounds represented by the following general formulas (1) to (5) are preferable.
得られた塗料は、これらのシラン化合物の縮合物であるシロキサン化合物を含有する。また、これらのシラン化合物が加水分解されたが、縮合していないシラノール化合物を含有しても良い。 The obtained paint contains a siloxane compound that is a condensate of these silane compounds. Moreover, although these silane compounds were hydrolyzed, you may contain the silanol compound which is not condensed.
Ｒ１Ｓｉ（ＯＲ６）３ （１）
Ｒ１はフッ素が３から１７のフルオロアルキル基を表わす。Ｒ１のフッ素数としては６〜８が好ましい。１分子当りのフッ素原子が多いと、得られた被膜の硬度が低下する傾向にある。Ｒ１の炭素数としては３〜１０が、得られた被膜の耐擦傷性を高くすることができるので好ましい。特に炭素数３が好ましい。
R 1 Si (OR 6 ) 3 (1)
R 1 represents a fluoroalkyl group having 3 to 17 fluorine atoms. The number of fluorine in R 1 is preferably 6-8. When the number of fluorine atoms per molecule is large, the hardness of the obtained film tends to decrease. The number of carbon atoms of R 1 is preferably 3 to 10 because the scratch resistance of the obtained film can be increased. A carbon number of 3 is particularly preferred.
Ｒ６はメチル基、エチル基、プロピル基、イソプロピル基またはアセチル基を表わし、それぞれ、同一でも、異なっていても良い。Ｒ６はメチル基またはエチル基がより好ましい。 R 6 represents a methyl group, an ethyl group, a propyl group, an isopropyl group, or an acetyl group, and may be the same or different. R 6 is more preferably a methyl group or an ethyl group.
一般式（１）で表される３官能性シラン化合物を用いると、得られる被膜の屈折率を低くすることができるので好ましい。 Use of the trifunctional silane compound represented by the general formula (1) is preferable because the refractive index of the resulting film can be lowered.
Ｒ２Ｓｉ（ＯＲ７）３ （２）
Ｒ２はビニル基、アリル基、アルケニル基、アクリル基、メタクリル基、メタクリルオキシ基、シアノ基、エポキシ基、グリシドキシ基、アミノ基、およびそれらの置換体から選ばれた基を表す。Ｒ２の炭素数としては２〜１０が、得られた被膜の耐擦傷性を高くすることができるので好ましい。
R 2 Si (OR 7 ) 3 (2)
R 2 represents a group selected from a vinyl group, an allyl group, an alkenyl group, an acrylic group, a methacryl group, a methacryloxy group, a cyano group, an epoxy group, a glycidoxy group, an amino group, and a substituted product thereof. R 2 having 2 to 10 carbon atoms is preferred because it can increase the scratch resistance of the resulting coating.
Ｒ７はメチル基、エチル基、プロピル基、イソプロピル基、メトキシエチル基、またはアセチル基を表わし、それぞれ、同一でも、異なっていても良い。Ｒ７はメチル基またはエチル基がより好ましい。 R 7 represents a methyl group, an ethyl group, a propyl group, an isopropyl group, a methoxyethyl group, or an acetyl group, and may be the same or different. R 7 is more preferably a methyl group or an ethyl group.
一般式（２）で表される３官能性シラン化合物を用いると、得られる被膜の硬度を向上させることができるので、好ましい。 Use of the trifunctional silane compound represented by the general formula (2) is preferable because the hardness of the resulting coating can be improved.
Ｒ３Ｓｉ（ＯＲ８）３ （３）
Ｒ３は水素、アルキル基、アリール基、およびそれらの置換体から選ばれた基を表す。Ｒ３の炭素数としては１〜６が、得られた被膜の耐擦傷性を高くすることができるので好ましい。Ｒ３が炭素数６を超えると得られた被膜の硬度が低下する傾向にある。
R 3 Si (OR 8 ) 3 (3)
R 3 represents a group selected from hydrogen, an alkyl group, an aryl group, and substituents thereof. The number of carbon atoms of R 3 is preferably 1 to 6 because the scratch resistance of the resulting film can be increased. If R 3 exceeds 6 carbon atoms, the hardness of the resulting coating tends to decrease.
Ｒ８はメチル基、エチル基、プロピル基またはブチル基を表わし、それぞれ、同一でも、異なっていても良い。Ｒ８はメチル基またはエチル基がより好ましい。 R 8 represents a methyl group, an ethyl group, a propyl group, or a butyl group, and may be the same or different. R 8 is more preferably a methyl group or an ethyl group.
一般式（３）で表される３官能性シラン化合物を用いると、得られる被膜の硬度を向上させることができるので、好ましい。 Use of the trifunctional silane compound represented by the general formula (3) is preferable because the hardness of the resulting coating can be improved.
Ｒ４Ｒ５Ｓｉ（ＯＲ９）２ （４）
Ｒ４およびＲ５は、それぞれ水素、アルキル基、フルオロアルキル基、アリール基、アルケニル基、メタクリルオキシ基、エポキシ基、グリシドキシ基、アミノ基、およびそれらの置換体から選ばれた基を表わし、それぞれ、同一でも、異なっていても良い。Ｒ４、Ｒ５の炭素数としては１〜６が、得られた被膜の耐擦傷性を高くすることができるので好ましい。
R 4 R 5 Si (OR 9 ) 2 (4)
R 4 and R 5 each represent a group selected from hydrogen, an alkyl group, a fluoroalkyl group, an aryl group, an alkenyl group, a methacryloxy group, an epoxy group, a glycidoxy group, an amino group, and a substituent thereof. May be the same or different. As C4 of R < 4 >, R < 5 >, since 1-6 can improve the abrasion resistance of the obtained film, it is preferable.
Ｒ９はメチル基、エチル基、プロピル基、イソプロピル基またはアセチル基を表わし、それぞれ、同一でも、異なっていても良い。Ｒ９はメチル基またはエチル基がより好ましい。 R 9 represents a methyl group, an ethyl group, a propyl group, an isopropyl group or an acetyl group, and may be the same or different. R 9 is more preferably a methyl group or an ethyl group.
一般式（４）で表される２官能性シラン化合物を用いると、得られる被膜の可とう性を向上させることができるので、好ましい。 The use of a bifunctional silane compound represented by the general formula (4) is preferable because the flexibility of the resulting film can be improved.
Ｓｉ（ＯＲ１０）４ （５）
Ｒ１０はメチル基またはエチル基を表わし、それぞれ、同一でも、異なっていても良い。
Si (OR 10 ) 4 (5)
R 10 represents a methyl group or an ethyl group, and may be the same or different.
一般式（５）で表される４官能性シラン化合物を用いると、得られる被膜の硬度を向上させることができるので、好ましい。 It is preferable to use a tetrafunctional silane compound represented by the general formula (5) because the hardness of the resulting film can be improved.
これら一般式（１）〜（５）で表されるシラン化合物は、単独で用いても、２種以上を組み合わせて用いても良い。 These silane compounds represented by the general formulas (1) to (5) may be used alone or in combination of two or more.
シロキサン化合物の含有量は、被膜を形成した際、被膜の全量に対して、好ましくは、２０質量％〜７０質量％、特に好ましくは３０質量％〜６０質量％である。この範囲でシロキサン化合物を含有することが、被膜の屈折率を低く、かつ被膜の硬度を高めることができるため好ましい。したがって、塗料中におけるシロキサン化合物の含有量は、溶媒を除く全成分に対して前記の範囲であることが好ましい。 The content of the siloxane compound is preferably 20% by mass to 70% by mass, and particularly preferably 30% by mass to 60% by mass with respect to the total amount of the film when the film is formed. It is preferable to contain a siloxane compound within this range because the refractive index of the coating can be lowered and the hardness of the coating can be increased. Therefore, the content of the siloxane compound in the coating is preferably in the above range with respect to all components except the solvent.
これらの中でも、低屈折率化のためには、一般式（１）で表されるフッ素含有シラン化合物を必須成分として用い、一般式（２）〜（５）で表されるシラン化合物から選ばれた１種以上のシラン化合物を組み合わせて用いることが好ましい。一般式（１）で表されるシラン化合物の量は、全シラン化合物量に対して、好ましくは、２０質量％〜８０質量％、特に好ましくは、３０質量％〜６０質量％である。シラン化合物の量が２０質量％を下回ると、低屈折率化が不十分になることがある。一方、シラン化合物の量が８０質量％を越えると、被膜の硬度が低下する場合がある。 Among these, in order to reduce the refractive index, the fluorine-containing silane compound represented by the general formula (1) is used as an essential component, and the silane compound represented by the general formulas (2) to (5) is selected. It is preferable to use a combination of one or more silane compounds. The amount of the silane compound represented by the general formula (1) is preferably 20% by mass to 80% by mass, and particularly preferably 30% by mass to 60% by mass with respect to the total amount of the silane compound. When the amount of the silane compound is less than 20% by mass, the reduction in the refractive index may be insufficient. On the other hand, when the amount of the silane compound exceeds 80% by mass, the hardness of the film may be lowered.
一般式（１）〜（５）で表されるシラン化合物の具体例を、以下に示す。 Specific examples of the silane compounds represented by the general formulas (1) to (5) are shown below.
一般式（１）で表される３官能性シラン化合物としては、例えば、トリフルオロメチルトリメトキシシラン、トリフルオロメチルトリエトキシシラン、トリフルオロメチルトリアセトキシシラン、トリフルオロプロピルトリメトキシシラン、トリフルオロプロピルトリエトキシシラン、トリフルオロプロピルトリアセトキシシラン、トリフルオロアセトキシエチルトリメトキシシラン、トリフルオロアセトキシエチルトリエトキシシラン、トリフルオロアセトキシエチルトリアセトキシシラン、パーフルオロプロピルエチルトリメトキシシラン、パーフルオロプロピルエチルトリエトキシシラン、パーフルオロプロピルエチルトリアセトキシシラン、パーフルオロペンチルエチルトリメトキシシラン、パーフルオロペンチルエチルトリエトキシシラン、パーフルオロペンチルエチルトリアセトキシシラン、トリデカフルオロオクチルトリメトキシシラン、トリデカフルオロオクチルトリエトキシシラン、トリデカフルオロオクチルトリプロポキシシラン、トリデカフルオロオクチルトリイソプロポキシシラン、ヘプタデカフルオロデシルトリメトキシシラン、ヘプタデカフルオロデシルトリエトキシシラン、などが挙げられる。これらのうち、得られた被膜の硬度の観点から、トリフルオロメチルトリメトキシシラン、トリフルオロメチルトリエトキシシラン、トリフルオロプロピルトリメトキシシラン、およびトリフルオロプロピルトリエトキシシランが好ましい。 Examples of the trifunctional silane compound represented by the general formula (1) include trifluoromethyltrimethoxysilane, trifluoromethyltriethoxysilane, trifluoromethyltriacetoxysilane, trifluoropropyltrimethoxysilane, and trifluoropropyl. Triethoxysilane, trifluoropropyltriacetoxysilane, trifluoroacetoxyethyltrimethoxysilane, trifluoroacetoxyethyltriethoxysilane, trifluoroacetoxyethyltriacetoxysilane, perfluoropropylethyltrimethoxysilane, perfluoropropylethyltriethoxysilane , Perfluoropropylethyltriacetoxysilane, perfluoropentylethyltrimethoxysilane, perfluoropentylethyltriethoxy Silane, perfluoropentylethyltriacetoxysilane, tridecafluorooctyltrimethoxysilane, tridecafluorooctyltriethoxysilane, tridecafluorooctyltripropoxysilane, tridecafluorooctyltriisopropoxysilane, heptadecafluorodecyltrimethoxysilane , Heptadecafluorodecyltriethoxysilane, and the like. Of these, trifluoromethyltrimethoxysilane, trifluoromethyltriethoxysilane, trifluoropropyltrimethoxysilane, and trifluoropropyltriethoxysilane are preferred from the viewpoint of the hardness of the resulting coating.
一般式（２）で表される３官能性シラン化合物としては、例えば、ビニルトリメトキシシラン、ビニルトリエトキシシラン、ビニルトリアセトキシシラン、γ−メタクリルオキシプロピルトリメトキシシラン、γ−メタクリロキシプロピルトリエトキシシラン、γ−アミノプロピルトリメトキシシラン、γ−アミノプロピルトリエトキシシラン、Ｎ−β−（アミノエチル）−γ−アミノプロピルトリメトキシシラン、β−シアノエチルトリエトキシシラン、グリシドキシメチルトリメトキシシラン、グリシドキシメチルトリエトキシシラン、α−グリシドキシエチルトリメトキシシラン、α−グリシドキシエチルトリエトキシシラン、β−グリシドキシエチルトリメトキシシラン、β−グリシドキシエチルトリエトキシシラン、α−グリシドキシプロピルトリメトキシシラン、α−グリシドキシプロピルトリエトキシシラン、β−グリシドキシプロピルトリメトキシシラン、β−グリシドキシプロピルトリエトキシシラン、γ−グリシドキシプロピルトリメトキシシラン、γ−グリシドキシプロピルトリエトキシシラン、γ−グリシドキシプロピルトリプロポキシシシラン、γ−グリシドキシプロピルトリブトキシシラン、γ−グリシドキシプロピルトリメトキシエトキシシラン、α−グリシドキシブチルトリメトキシシラン、α−グリシドキシブチルトリエトキシシラン、β−グリシドキシブチルトリメトキシシラン、β−グリシドキシブチルトリエトキシシラン、γ−グリシドキシブチルトリメトキシシラン、γ−グリシドキシブチルトリエトキシシラン、δ−グリシドキシブチルトリメトキシシラン、δ−グリシドキシブチルトリエトキシシラン、（３，４−エポキシシクロヘキシル）メチルトリメトキシシラン、（３，４−エポキシシクロヘキシル）メチルトリエトキシシラン、β−（３，４−エポキシシクロヘキシル）メチルトリメトキシシラン、β−（３，４−エポキシシクロヘキシル）メチルトリエトキシシラン、β−（３，４−エポキシシクロヘキシル）エチルトリプロポキシシラン、β−（３，４−エポキシシクロヘキシル）エチルトリブトキシシラン、β−（３，４−エポキシシクロヘキシル）エチルトリメトキシエトキシシラン、β−（３，４−エポキシシクロヘキシル）エチルトリフェノキシシシラン、β−（３，４−エポキシシクロヘキシル）プロピルトリメトキシシラン、β−（３，４−エポキシシクロヘキシル）プロピルトリエトキシシラン、δ−（３，４−エポキシシクロヘキシル）ブチルトリメトキシシラン、δ−（３，４−エポキシシクロヘキシル）ブチルトリエトキシシランなどが挙げられる。これらのうち、得られた被膜の硬度の観点から、ビニルトリアルコキシシラン、および３−メタクリロキシプロピルトリアルコキシシランが好ましい。 Examples of the trifunctional silane compound represented by the general formula (2) include vinyltrimethoxysilane, vinyltriethoxysilane, vinyltriacetoxysilane, γ-methacryloxypropyltrimethoxysilane, and γ-methacryloxypropyltriethoxy. Silane, γ-aminopropyltrimethoxysilane, γ-aminopropyltriethoxysilane, N-β- (aminoethyl) -γ-aminopropyltrimethoxysilane, β-cyanoethyltriethoxysilane, glycidoxymethyltrimethoxysilane, Glycidoxymethyltriethoxysilane, α-glycidoxyethyltrimethoxysilane, α-glycidoxyethyltriethoxysilane, β-glycidoxyethyltrimethoxysilane, β-glycidoxyethyltriethoxysilane, α- Glycidoxypro Rutrimethoxysilane, α-glycidoxypropyltriethoxysilane, β-glycidoxypropyltrimethoxysilane, β-glycidoxypropyltriethoxysilane, γ-glycidoxypropyltrimethoxysilane, γ-glycidoxypropyl Triethoxysilane, γ-glycidoxypropyltripropoxy silane, γ-glycidoxypropyl tributoxysilane, γ-glycidoxypropyltrimethoxyethoxysilane, α-glycidoxybutyltrimethoxysilane, α-glycid Xylbutyltriethoxysilane, β-glycidoxybutyltrimethoxysilane, β-glycidoxybutyltriethoxysilane, γ-glycidoxybutyltrimethoxysilane, γ-glycidoxybutyltriethoxysilane, δ-glycid Xibutyltrimethoxy , Δ-glycidoxybutyltriethoxysilane, (3,4-epoxycyclohexyl) methyltrimethoxysilane, (3,4-epoxycyclohexyl) methyltriethoxysilane, β- (3,4-epoxycyclohexyl) methyltri Methoxysilane, β- (3,4-epoxycyclohexyl) methyltriethoxysilane, β- (3,4-epoxycyclohexyl) ethyltripropoxysilane, β- (3,4-epoxycyclohexyl) ethyltributoxysilane, β- (3,4-epoxycyclohexyl) ethyltrimethoxyethoxysilane, β- (3,4-epoxycyclohexyl) ethyltriphenoxysilane, β- (3,4-epoxycyclohexyl) propyltrimethoxysilane, β- (3, 4-epoxycyclohexyl) pro Examples include pyrtriethoxysilane, δ- (3,4-epoxycyclohexyl) butyltrimethoxysilane, and δ- (3,4-epoxycyclohexyl) butyltriethoxysilane. Of these, vinyltrialkoxysilane and 3-methacryloxypropyltrialkoxysilane are preferred from the viewpoint of the hardness of the resulting coating.
一般式（３）で表される３官能性シラン化合物としては、例えば、メチルトリメトキシシラン、メチルトリエトキシシラン、メチルトリメトキシエトキシシラン、メチルトリアセトキシシラン、メチルトリプロポキシシラン、メチルトリブトキシシラン、エチルトリメトキシシラン、エチルトリエトキシシラン、ヘキシルトリメトキシシラン、オクタデシルトリメトキシシラン、オクタデシルトリエトキシシラン、フェニルトリメトキシシラン、フェニルトリエトキシシラン、３−アミノプロピルトリエトキシシラン、Ｎ−（２−アミノエチル）−３−アミノプロピルトリメトキシシラン、３−クロロプロピルトリメトキシシラン、３−（Ｎ，Ｎ−ジグリシジル）アミノプロピルトリメトキシシラン、３−グリシドキシシプロピルトリメトキシシラン、などが挙げられる。これらのうち、得られた被膜の硬度の観点から、メチルトリメトキシシラン、メチルトリエトキシシラン、フェニルトリメトキシシランおよびフェニルトリエトキシシランが好ましい。 Examples of the trifunctional silane compound represented by the general formula (3) include methyltrimethoxysilane, methyltriethoxysilane, methyltrimethoxyethoxysilane, methyltriacetoxysilane, methyltripropoxysilane, methyltributoxysilane, Ethyltrimethoxysilane, ethyltriethoxysilane, hexyltrimethoxysilane, octadecyltrimethoxysilane, octadecyltriethoxysilane, phenyltrimethoxysilane, phenyltriethoxysilane, 3-aminopropyltriethoxysilane, N- (2-aminoethyl) ) -3-Aminopropyltrimethoxysilane, 3-chloropropyltrimethoxysilane, 3- (N, N-diglycidyl) aminopropyltrimethoxysilane, 3-glycidoxysipropyltrimethoxy Silane, and the like. Of these, methyltrimethoxysilane, methyltriethoxysilane, phenyltrimethoxysilane, and phenyltriethoxysilane are preferable from the viewpoint of the hardness of the obtained film.
一般式（４）で表される２官能性シラン化合物としては、例えば、ジメチルジメトキシシラン、ジメチルジエトキシシラン、ジメチルジアセトキシシラン、ジフェニルジメトキシシラン、ジフェニルジエトキシシラン、メチルフェニルジメトキシシラン、メチルビニルジメトキシシラン、メチルビニルジエトキシシラン、γ−グリシドキシプロピルメチルジメトキシシラン、γ−アミノプロピルメチルジメトキシシラン、γ−アミノプロピルメチルジエトキシシラン、Ｎ−（２−アミノエチル）−３−アミノプロピルメチルジメトキシシラン、γ−メタクリルオキシプロピルメチルジメトキシシラン、γ−メタクリルオキシプロピルメチルジエトキシシラン、グリシドキシメチルジメトキシシラン、グリシドキシメチルメチルジエトキシシラン、α−グリシドキシエチルメチルジメトキシシラン、α−グリシドキシエチルメチルジエトキシシラン、β−グリシドキシエチルメチルジメトキシシラン、β−グリシドキシエチルメチルジエトキシシラン、α−グリシドキシプロピルメチルジメトキシシラン、α−グリシドキシプロピルメチルジエトキシシラン、β−グリシドキシプロピルメチルジメトキシシラン、β−グリシドキシプロピルメチルジエトキシシラン、γ−グリシドキシプロピルメチルジメトキシシラン、γ−グリシドキシプロピルメチルジエトキシシラン、γ−グリシドキシプロピルメチルジプロポキシシラン、β−グリシドキシプロピルメチルジブトキシシラン、γ−グリシドキシプロピルメチルジメトキシエトキシシラン、γ−グリシドキシプロピルメチルジフェノキシシラン、γ−グリシドキシプロピルメチルジアセトキシシラン、γ−グリシドキシプロピルエチルジメトキシシラン、γ−グリシドキシプロピルエチルジエトキシシラン、γ−グリシドキシプロピルビニルジメトキシシラン、γ−グリシドキシプロピルビニルジエトキシシラン、トリフルオロプロピルメチルジメトキシシラン、トリフルオロプロピルメチルジエトキシシラン、トリフルオロプロピルメチルジアセトキシシラン、トリフルオロプロピルエチルジメトキシシラン、トリフルオロプロピルエチルジエトキシシラン、トリフルオロプロピルエチルジアセトキシシラン、トリフルオロプロピルビニルジメトキシシラン、トリフルオロプロピルビニルジエトキシシラン、トリフルオロプロピルビニルジアセトキシシラン、ヘプタデカフルオロデシルメチルジメトキシシラン、３−クロロプロピルメチルジメトキシシラン、３−クロロプロピルメチルジエトキシシラン、シクロヘキシルメチルジメトキシシラン、３−メタクリロキシプロピルジメトキシシラン、オクタデシルメチルジメトキシシランなどが挙げられる。これらのうち、得られる被膜に可とう性を付与させる目的には、ジメチルジアルコキシシランが好ましく用いられる。 Examples of the bifunctional silane compound represented by the general formula (4) include dimethyldimethoxysilane, dimethyldiethoxysilane, dimethyldiacetoxysilane, diphenyldimethoxysilane, diphenyldiethoxysilane, methylphenyldimethoxysilane, and methylvinyldimethoxy. Silane, methylvinyldiethoxysilane, γ-glycidoxypropylmethyldimethoxysilane, γ-aminopropylmethyldimethoxysilane, γ-aminopropylmethyldiethoxysilane, N- (2-aminoethyl) -3-aminopropylmethyldimethoxy Silane, γ-methacryloxypropylmethyldimethoxysilane, γ-methacryloxypropylmethyldiethoxysilane, glycidoxymethyldimethoxysilane, glycidoxymethylmethyldiethoxysilane, α-glycidoxyethylmethyldimethoxysilane, α-glycidoxyethylmethyldiethoxysilane, β-glycidoxyethylmethyldimethoxysilane, β-glycidoxyethylmethyldiethoxysilane, α-glycidoxypropylmethyldimethoxy Silane, α-glycidoxypropylmethyldiethoxysilane, β-glycidoxypropylmethyldimethoxysilane, β-glycidoxypropylmethyldiethoxysilane, γ-glycidoxypropylmethyldimethoxysilane, γ-glycidoxypropyl Methyldiethoxysilane, γ-glycidoxypropylmethyldipropoxysilane, β-glycidoxypropylmethyldibutoxysilane, γ-glycidoxypropylmethyldimethoxyethoxysilane, γ-glycidoxypropylmethyldiphenoxysilane, γ-glycidoxypropylmethyldiacetoxysilane, γ-glycidoxypropylethyldimethoxysilane, γ-glycidoxypropylethyldiethoxysilane, γ-glycidoxypropylvinyldimethoxysilane, γ-glycidoxypropylvinyldi Ethoxysilane, trifluoropropylmethyldimethoxysilane, trifluoropropylmethyldiethoxysilane, trifluoropropylmethyldiacetoxysilane, trifluoropropylethyldimethoxysilane, trifluoropropylethyldiethoxysilane, trifluoropropylethyldiacetoxysilane, tri Fluoropropylvinyldimethoxysilane, trifluoropropylvinyldiethoxysilane, trifluoropropylvinyldiacetoxysilane, heptadecafluorodecylme Examples include tildimethoxysilane, 3-chloropropylmethyldimethoxysilane, 3-chloropropylmethyldiethoxysilane, cyclohexylmethyldimethoxysilane, 3-methacryloxypropyldimethoxysilane, and octadecylmethyldimethoxysilane. Of these, dimethyl dialkoxysilane is preferably used for the purpose of imparting flexibility to the resulting coating.
一般式（５）で表される４官能性シラン化合物としては、例えば、テトラメトキシシラン、テトラエトキシシラン、などが挙げられる。 Examples of the tetrafunctional silane compound represented by the general formula (5) include tetramethoxysilane and tetraethoxysilane.
本発明で用いられるシリカ微粒子の数平均粒子径は、１ｎｍ〜２００ｎｍが好ましく、特に好ましくは、数平均粒子径１ｎｍ〜７０ｎｍである。数平均粒子径が１ｎｍを下回ると、マトリックス材料との結合が不十分となり、被膜の硬度が低下することがある。一方、数平均粒子径が２００ｎｍを越えると、粒子を多く導入して生じる粒子間の空隙の発生が少なくなり、低屈折率化の効果が十分発現しないことがある。 The number average particle diameter of the silica fine particles used in the present invention is preferably 1 nm to 200 nm, and particularly preferably the number average particle diameter is 1 nm to 70 nm. When the number average particle diameter is less than 1 nm, the bonding with the matrix material becomes insufficient, and the hardness of the coating film may be lowered. On the other hand, if the number average particle diameter exceeds 200 nm, the generation of voids between particles caused by introducing a large amount of particles is reduced, and the effect of lowering the refractive index may not be sufficiently exhibited.
ここで、シリカ微粒子の平均粒子径は、種々のパーティクルカウンターを用いて、数平均の粒子径を測定することができる。塗料に添加する前のシリカ微粒子の粒子径を測定することが好ましい。また、被膜形成後は、電子走査型顕微鏡や透過型電子顕微鏡を用いて、被膜中のシリカ微粒子の粒子径を測定する方法が好ましい。 Here, the average particle diameter of the silica fine particles can be measured by a number average particle diameter using various particle counters. It is preferable to measure the particle diameter of the silica fine particles before being added to the paint. Moreover, after the coating is formed, a method of measuring the particle diameter of the silica fine particles in the coating using an electron scanning microscope or a transmission electron microscope is preferable.
シリカ微粒子の数平均粒子径は、形成される被膜の膜厚よりも小さいことが好ましい。被膜の膜厚を上回ると、被膜表面にシリカ微粒子が露出し、反射防止性を損なうばかりでなく、被膜の表面硬度および耐汚染性が低下する。 The number average particle diameter of the silica fine particles is preferably smaller than the film thickness of the coating film to be formed. When the film thickness is exceeded, silica fine particles are exposed on the surface of the film, and not only the antireflection property is impaired, but also the surface hardness and stain resistance of the film are lowered.
本発明に用いる、シリカ微粒子としては、マトリックスのシロキサン化合物と反応しやすくするため、表面にシラノール基を有するシリカ微粒子が好ましい。 The silica fine particles used in the present invention are preferably silica fine particles having a silanol group on the surface in order to easily react with the matrix siloxane compound.
本発明で用いるシリカ微粒子としては、被膜の低屈折率化のために内部に空洞を有するシリカ微粒子が好ましい。内部に空洞を有しないシリカ微粒子は、一般に粒子自体の屈折率は、１．４５〜１．５０であるため、屈折率低下効果が少ない。一方、内部に空洞を有するシリカ微粒子は、粒子自体の屈折率は、１．２０〜１．４０であるため、導入による屈折率低下効果が大きい。 As the silica fine particles used in the present invention, silica fine particles having cavities inside are preferable in order to reduce the refractive index of the coating. Silica fine particles having no cavity inside generally have a refractive index lowering effect because the refractive index of the particles themselves is 1.45 to 1.50. On the other hand, since the silica fine particles having cavities inside have a refractive index of 1.20 to 1.40, the effect of lowering the refractive index by introduction is large.
内部に空洞を有するシリカ微粒子としては、外殻によって包囲された空洞部を有するシリカ微粒子、多数の空洞部を有する多孔質のシリカ微粒子等が挙げられる。これらのうち、被膜の硬度を考慮した場合、粒子自体の強度が高い多孔質のシリカ微粒子が好ましい。該微粒子の屈折率は、１．２０〜１．４０であり、１．２０〜１．３５であるのがより好ましい。また、内部に空洞を有するシリカ微粒子の数平均粒子径は、５ｎｍ〜１００ｎｍが好ましい。シリカ微粒子の屈折率は、特開２００１−２３３６１１公報［００３４］段落に開示されている方法によって測定できる。内部に空洞を有するシリカ微粒子は、例えば特開２００１−２３３６１１号公報の［００３３］〜［００４６］段落に記載された方法や、特許第３２７２１１１号公報の［００４３］段落に記載された方法で製造することができる。一般に市販されているものも使用することができる。 Examples of the silica fine particles having cavities therein include silica fine particles having cavities surrounded by an outer shell, and porous silica fine particles having a large number of cavities. Among these, when the hardness of the coating is taken into consideration, porous silica fine particles having high strength of the particles themselves are preferable. The refractive index of the fine particles is 1.20 to 1.40, more preferably 1.20 to 1.35. Further, the number average particle diameter of the silica fine particles having cavities therein is preferably 5 nm to 100 nm. The refractive index of the silica fine particles can be measured by the method disclosed in paragraph [0034] of JP-A-2001-233611. Silica fine particles having cavities therein are produced, for example, by the method described in paragraphs [0033] to [0046] of JP-A-2001-233611 and the method described in paragraph [0043] of Japanese Patent No. 3272111. can do. A commercially available product can also be used.
シリカ微粒子の含有量は、被膜を形成した際、被膜の全量に対して、好ましくは、３０質量％〜８０質量％、特に好ましくは４０質量％〜７０質量％である。したがって、塗料中におけるシリカ微粒子の含有量は、溶媒を除く全成分に対して前記の範囲であることが好ましい。この範囲でシリカ微粒子を被膜中に含有させると、屈折率を低くすることができるだけでなく、被膜の硬度を高めることができる。シリカ微粒子の含有量が３０質量％を下回ると、粒子間の空隙による屈折率低下効果が少なくる。また、シリカ微粒子の含有量が８０質量％を越えると、コーティング膜中にアイランド現象が多数発生し、被膜の硬度が低下し、また、場所によって、屈折率が不均一になるので好ましくない。 The content of the silica fine particles is preferably 30% by mass to 80% by mass, and particularly preferably 40% by mass to 70% by mass with respect to the total amount of the film when the film is formed. Therefore, it is preferable that the content of the silica fine particles in the coating is in the above-mentioned range with respect to all components except the solvent. When silica fine particles are contained in the coating within this range, not only the refractive index can be lowered, but also the hardness of the coating can be increased. When the content of the silica fine particles is less than 30% by mass, the refractive index lowering effect due to the voids between the particles is reduced. On the other hand, when the content of the silica fine particles exceeds 80% by mass, many island phenomena occur in the coating film, the hardness of the coating film decreases, and the refractive index becomes uneven depending on the location, which is not preferable.
加水分解反応においては、溶媒中、酸触媒および水を１〜１８０分かけて添加した後、室温〜８０℃で１〜１８０分反応させることが好ましい。このような条件で加水分解反応を行うことにより、急激な反応を抑制することができる。反応温度は、より好ましくは４０〜７０℃である。また、加水分解反応によりシラノール化合物を得た後、そのまま、反応液を、５０℃以上、溶媒の沸点以下で１〜１００時間加熱し、縮合反応を行なうのが好ましい。また、シロキサン化合物の重合度を上げるために、再加熱もしくは塩基触媒の添加を行なうことも可能である。 In the hydrolysis reaction, the acid catalyst and water are preferably added in a solvent over 1 to 180 minutes, and then reacted at room temperature to 80 ° C. for 1 to 180 minutes. By performing the hydrolysis reaction under such conditions, a rapid reaction can be suppressed. The reaction temperature is more preferably 40 to 70 ° C. Moreover, after obtaining a silanol compound by a hydrolysis reaction, it is preferable that the reaction solution is heated as it is at 50 ° C. or higher and below the boiling point of the solvent for 1 to 100 hours to perform a condensation reaction. In order to increase the degree of polymerization of the siloxane compound, it is possible to reheat or add a base catalyst.
加水分解反応に用いる酸触媒としては、塩酸、酢酸、蟻酸、硝酸、蓚酸、塩酸、硫酸、リン酸、ポリリン酸、多価カルボン酸あるいはその無水物、イオン交換樹脂などの酸触媒が挙げられる。特に蟻酸、酢酸またはリン酸を用いた酸性水溶液が好ましい。これら酸触媒の好ましい添加量としては、加水分解反応時に使用される全シラン化合物量に対して、好ましくは、０．０５質量％〜１０質量％、特に好ましくは、０．１質量％〜５質量％である。酸触媒の量が、０．０５質量％を下回ると、加水分解反応が十分進行しないことがあり。また、酸触媒の量が１０質量％を越えると、加水分解反応が暴走する恐れがある。 Examples of the acid catalyst used in the hydrolysis reaction include acid catalysts such as hydrochloric acid, acetic acid, formic acid, nitric acid, oxalic acid, hydrochloric acid, sulfuric acid, phosphoric acid, polyphosphoric acid, polyvalent carboxylic acid or anhydrides thereof, and ion exchange resins. In particular, an acidic aqueous solution using formic acid, acetic acid or phosphoric acid is preferred. A preferable addition amount of these acid catalysts is preferably 0.05% by mass to 10% by mass, particularly preferably 0.1% by mass to 5% by mass, based on the total amount of silane compounds used in the hydrolysis reaction. %. If the amount of the acid catalyst is less than 0.05% by mass, the hydrolysis reaction may not proceed sufficiently. On the other hand, if the amount of the acid catalyst exceeds 10% by mass, the hydrolysis reaction may run away.
溶媒は特に限定されないが、塗料組成物の安定性、濡れ性、揮発性などを考慮して決定される。溶媒は一種類のみならず２種類以上の混合物として用いることも可能である。溶媒の具体例としては、例えば、メタノール、エタノール、プロパノール、イソプロパノール、ブタノール、イソブタノール、ｔ−ブタノール、ペンタノール、４−メチル−２−ペンタノール、３−メチル−２−ブタノール、３−メチル−３−メトキシ−１−ブタノール、ジアセトンアルコールなどのアルコール類；エチレングリコール、プロピレングリコールなどのグリコール類；エチレングリコールモノメチルエーテル、エチレングリコールモノエチルエーテル、プロピレングリコールモノメチルエーテル、プロピレングリコールモノエチルエーテル、プロピレングリコールモノプロピルエーテル、プロピレングリコールモノブチルエーテル、プロピレングリコールモノ−ｔ−ブチルエーテル、エチレングリコールジメチルエーテル、エチレングリコールジエチルエーテル、エチレングリコールジブチルエーテル、ジエチルエーテルなどのエーテル類；メチルエチルケトン、アセチルアセトン、メチルプロピルケトン、メチルブチルケトン、メチルイソブチルケトン、ジイソブチルケトン、シクロペンタノン、２−ヘプタノンなどのケトン類；ジメチルホルムアミド、ジメチルアセトアミドなどのアミド類；エチルアセテート、プロピルアセテート、ブチルアセテート、イソブチルアセテート、エチレングリコールモノエチルエーテルアセテート、プロピレングリコールモノメチルエーテルアセテート、３−メトキシブチルアセテート、３−メチル−３−メトキシブチルアセテート、乳酸メチル、乳酸エチル、乳酸ブチルなどのアセテート類；トルエン、キシレン、ヘキサン、シクロヘキサンなどの芳香族あるいは脂肪族炭化水素のほか、γ−ブチロラクトン、Ｎ−メチル−２−ピロリドン、ジメチルスルホキシドなどを挙げることができる。 The solvent is not particularly limited, but is determined in consideration of the stability, wettability, volatility, etc. of the coating composition. The solvent can be used not only as one type but also as a mixture of two or more types. Specific examples of the solvent include, for example, methanol, ethanol, propanol, isopropanol, butanol, isobutanol, t-butanol, pentanol, 4-methyl-2-pentanol, 3-methyl-2-butanol, 3-methyl- Alcohols such as 3-methoxy-1-butanol and diacetone alcohol; glycols such as ethylene glycol and propylene glycol; ethylene glycol monomethyl ether, ethylene glycol monoethyl ether, propylene glycol monomethyl ether, propylene glycol monoethyl ether, propylene glycol Monopropyl ether, propylene glycol monobutyl ether, propylene glycol mono-t-butyl ether, ethylene glycol dimethyl ether, Ethers such as lenglycol diethyl ether, ethylene glycol dibutyl ether and diethyl ether; ketones such as methyl ethyl ketone, acetylacetone, methyl propyl ketone, methyl butyl ketone, methyl isobutyl ketone, diisobutyl ketone, cyclopentanone and 2-heptanone; dimethylformamide Amides such as dimethylacetamide; ethyl acetate, propyl acetate, butyl acetate, isobutyl acetate, ethylene glycol monoethyl ether acetate, propylene glycol monomethyl ether acetate, 3-methoxybutyl acetate, 3-methyl-3-methoxybutyl acetate, lactic acid Acetates such as methyl, ethyl lactate and butyl lactate; toluene, xylene, hexane, In addition to the aromatic or aliphatic hydrocarbons such as cyclohexane, .gamma.-butyrolactone, N- methyl-2-pyrrolidone, dimethyl sulfoxide and the like.
加水分解反応時に使用される溶媒の量は、全シラン化合物量に対して、５０質量％〜５００質量％の範囲が好ましく、特に好ましくは、８０質量％〜２００質量％の範囲である。溶媒の量が５０質量％を下回ると、反応が暴走し、ゲル化する場合がある。一方、溶媒の量が５００質量％を越えると、加水分解が進行しない場合がある。 The amount of the solvent used during the hydrolysis reaction is preferably in the range of 50% by mass to 500% by mass, particularly preferably in the range of 80% by mass to 200% by mass, based on the total amount of silane compounds. When the amount of the solvent is less than 50% by mass, the reaction may run away and gel may occur. On the other hand, if the amount of the solvent exceeds 500% by mass, hydrolysis may not proceed.
また、加水分解反応に用いる水としては、イオン交換水が好ましい。水の量は任意に選択可能であるが、シラン化合物１モルに対して、１．０〜４．０モルの範囲で用いるのが好ましい。 Moreover, as water used for a hydrolysis reaction, ion-exchange water is preferable. The amount of water can be arbitrarily selected, but it is preferably used in the range of 1.0 to 4.0 mol with respect to 1 mol of the silane compound.
本発明で用いられる硬化剤としては、塗料組成物の硬化を促進させる、あるいは硬化を容易ならしめる各種の硬化剤あるいは三次元架橋剤が挙げられる。硬化剤の具体例としては、窒素含有有機物、シリコーン樹脂硬化剤、各種金属アルコレート、各種金属キレート化合物、イソシアネート化合物およびその重合体、メラミン樹脂、多官能アクリル樹脂、尿素樹脂などがあり、これらを一種類、ないし２種類以上添加しても良い。なかでも、硬化剤の安定性、得られた被膜の加工性などから金属キレート化合物が好ましく用いられる。用いられる金属キレート化合物としてはチタニウムキレート化合物、ジルコニウムキレート化合物、アルミニウムキレート化合物および、マグネシウムキレート化合物が挙げられる。これらの中から、低屈折率化の目的には、屈折率の低いアルミニウムキレート化合物および／またはマグネシウムキレート化合物が好ましい。これらの金属キレート化合物は、金属アルコキシドにキレート化剤を反応させることにより容易に得ることができる。キレート化剤の例としては、アセチルアセトン、ベンゾイルアセトン、ジベンゾイルメタンなどのβ−ジケトン；アセト酢酸エチル、ベンゾイル酢酸エチルなどのβ−ケト酸エステルなどを用いることができる。金属キレート化合物の好ましい具体的な例としては、エチルアセトアセテートアルミニウムジイソプロピレート、アルミニウムトリス（エチルアセトアセテート）、アルキルアセトアセテートアルミニウムジイソプロピレート、アルミニウムモノアセチルアセテートビス（エチルアセトアセテート）、アルミニウムトリス（アセチルアセトネート）等のアルミニウムキレート化合物、エチルアセトアセテートマグネシウムモノイソプロピレート、マグネシウムビス（エチルアセトアセテート）、アルキルアセトアセテートマグネシウムモノソプロピレート、マグネシウムビス（アセチルアセトネート）等のマグネシウムキレート化合物が挙げられる。これらのうち、好ましくは、アルミニウムトリス（アセチルアセトネート）、アルミニウムトリス（エチルアセトアセテート）、マグネシウムビス（アセチルアセトネート）、およびマグネシウムビス（エチルアセトアセテート）である。保存安定性および入手容易さを考慮すると、アルミニウムトリス（アセチルアセトネート）およびアルミニウムトリス（エチルアセトアセテート）が、特に好ましい。添加される硬化剤の量は、塗料組成物中の全シラン化合物量に対して、好ましくは０．１質量％〜１０質量％であり、特に好ましくは、１質量％〜６質量％である。ここで、全シラン化合物量とは、シラン化合物、その加水分解物およびその縮合物の全てを含んだ量のことを言う。含有量が、０．１質量％を下回ると、得られる被膜の硬度が低下する。一方、含有量が１０質量％を越えると、硬化が十分となり、得られる被膜の硬度は向上するが、屈折率も高くなり、好ましくない。 Examples of the curing agent used in the present invention include various curing agents or three-dimensional crosslinking agents that accelerate the curing of the coating composition or facilitate the curing. Specific examples of the curing agent include nitrogen-containing organic substances, silicone resin curing agents, various metal alcoholates, various metal chelate compounds, isocyanate compounds and polymers thereof, melamine resins, polyfunctional acrylic resins, urea resins, and the like. One kind or two or more kinds may be added. Of these, metal chelate compounds are preferably used in view of the stability of the curing agent and the processability of the obtained film. Examples of the metal chelate compound used include a titanium chelate compound, a zirconium chelate compound, an aluminum chelate compound, and a magnesium chelate compound. Among these, for the purpose of lowering the refractive index, an aluminum chelate compound and / or a magnesium chelate compound having a low refractive index is preferable. These metal chelate compounds can be easily obtained by reacting a metal alkoxide with a chelating agent. Examples of chelating agents include β-diketones such as acetylacetone, benzoylacetone, and dibenzoylmethane; β-keto acid esters such as ethyl acetoacetate and ethyl benzoylacetate. Preferable specific examples of the metal chelate compound include ethyl acetoacetate aluminum diisopropylate, aluminum tris (ethyl acetoacetate), alkyl acetoacetate aluminum diisopropylate, aluminum monoacetyl acetate bis (ethyl acetoacetate), aluminum tris ( Examples include aluminum chelate compounds such as acetylacetonate), and magnesium chelate compounds such as ethyl acetoacetate magnesium monoisopropylate, magnesium bis (ethylacetoacetate), alkyl acetoacetate magnesium monosopropylate, and magnesium bis (acetylacetonate). . Of these, aluminum tris (acetylacetonate), aluminum tris (ethylacetoacetate), magnesium bis (acetylacetonate), and magnesium bis (ethylacetoacetate) are preferable. In view of storage stability and availability, aluminum tris (acetylacetonate) and aluminum tris (ethylacetoacetate) are particularly preferred. The amount of the curing agent added is preferably 0.1% by mass to 10% by mass, and particularly preferably 1% by mass to 6% by mass with respect to the total amount of silane compounds in the coating composition. Here, the total amount of the silane compound means an amount including all of the silane compound, its hydrolyzate and its condensate. When the content is less than 0.1% by mass, the hardness of the resulting coating is lowered. On the other hand, if the content exceeds 10% by mass, curing is sufficient and the hardness of the resulting coating is improved, but the refractive index is also increased, which is not preferable.
さらに塗料組成物には、大気圧下沸点１００〜１８０℃の溶媒と大気圧下沸点１００未満の溶媒を混合して用いることが好ましい。大気圧下沸点１００〜１８０℃の溶媒を含むことにより、塗液の塗布性が良くなり、表面が平坦な被膜を得ることができる。また、大気圧下沸点１００未満の溶媒を含むことによって、被膜形成時に、溶媒が有効に揮発し、硬度の高い被膜を得ることができる。すなわち、表面が平坦で、かつ、硬度の高い被膜を得ることができる。 In the coating composition, it is preferable to use a mixture of a solvent having a boiling point of 100 to 180 ° C. under atmospheric pressure and a solvent having a boiling point of less than 100 under atmospheric pressure. By including a solvent having a boiling point of 100 to 180 ° C. under atmospheric pressure, the coating property of the coating liquid is improved, and a film having a flat surface can be obtained. In addition, by including a solvent having a boiling point of less than 100 under atmospheric pressure, the solvent is effectively volatilized at the time of film formation, and a film having high hardness can be obtained. That is, a film having a flat surface and high hardness can be obtained.
大気圧下沸点１００〜１８０℃の溶媒としては、具体的には、エチレングリコールモノメチルエーテル、エチレングリコールモノエチルエーテル、プロピレングリコールモノメチルエーテル、プロピレングリコールモノエチルエーテル、プロピレングリコールモノプロピルエーテル、プロピレングリコールモノブチルエーテル、プロピレングリコールモノ−ｔ−ブチルエーテル、エチレングリコールジメチルエーテル、エチレングリコールジエチルエーテル、エチレングリコールジブチルエーテル等のエーテル類、エチレングリコールモノエチルエーテルアセテート、プロピレングリコールモノメチルエーテルアセテート、プロピルアセテート、ブチルアセテート、イソブチルアセテート、３−メトキシブチルアセテート、３−メチル−３−メトキシブチルアセテート、乳酸メチル、乳酸エチル、乳酸ブチル等のアセテート類、アセチルアセトン、メチルプロピルケトン、メチルブチルケトン、メチルイソブチルケトン、シクロペンタノン、２−ヘプタノン等のケトン類、ブタノール、イソブチルアルコール、ペンタノ−ル、４−メチル−２−ペンタノール、３−メチル−２−ブタノール、３−メチル−３−メトキシ−１−ブタノール、ジアセトンアルコール等のアルコール類、トルエン、キシレン等の芳香族炭化水素類が挙げられる。これらは単独あるいは混合して用いてもかまわない。これらのうち、特に好ましい溶媒の例は、プロピレングリコールモノメチルエーテル、プロピレングリコールモノエチルエーテル、プロピレングリコールモノプロピルエーテル、ジアセトンアルコール等である。 Specific examples of the solvent having a boiling point of 100 to 180 ° C. under atmospheric pressure include ethylene glycol monomethyl ether, ethylene glycol monoethyl ether, propylene glycol monomethyl ether, propylene glycol monoethyl ether, propylene glycol monopropyl ether, propylene glycol monobutyl ether. , Ethers such as propylene glycol mono-t-butyl ether, ethylene glycol dimethyl ether, ethylene glycol diethyl ether, ethylene glycol dibutyl ether, ethylene glycol monoethyl ether acetate, propylene glycol monomethyl ether acetate, propyl acetate, butyl acetate, isobutyl acetate, 3 -Methoxybutyl acetate, 3-methyl-3- Toxibutyl acetate, acetates such as methyl lactate, ethyl lactate and butyl lactate, ketones such as acetylacetone, methylpropylketone, methylbutylketone, methylisobutylketone, cyclopentanone and 2-heptanone, butanol, isobutylalcohol, pentano- , 4-methyl-2-pentanol, 3-methyl-2-butanol, 3-methyl-3-methoxy-1-butanol, alcohols such as diacetone alcohol, and aromatic hydrocarbons such as toluene and xylene Can be mentioned. These may be used alone or in combination. Among these, examples of particularly preferable solvents are propylene glycol monomethyl ether, propylene glycol monoethyl ether, propylene glycol monopropyl ether, diacetone alcohol and the like.
大気圧下沸点１００℃未満の溶媒としては、メタノール、エタノール、イソプロパノール、ｔ−ブタノール、メチルエチルケトン等があげられる。これらは単独あるいは混合して用いてもかまわない。 Examples of the solvent having a boiling point of less than 100 ° C. under atmospheric pressure include methanol, ethanol, isopropanol, t-butanol, methyl ethyl ketone, and the like. These may be used alone or in combination.
本発明の塗料組成物における全溶媒の含有量は、全シラン化合物含有量に対して、１３００質量％〜９９００質量％の範囲が好ましく、特に好ましくは、１５００質量％〜６０００質量％の範囲である。全溶媒の含有量が１３００質量％を下回るか、もしくは、９９００質量％を越えると、所定の膜厚の被膜を形成することが困難となる。 The total solvent content in the coating composition of the present invention is preferably in the range of 1300% by mass to 9900% by mass, particularly preferably in the range of 1500% by mass to 6000% by mass with respect to the total silane compound content. . If the total solvent content is less than 1300% by mass or more than 9900% by mass, it becomes difficult to form a film having a predetermined film thickness.
ここで、全シラン化合物量とは、シラン化合物、その加水分解物およびその縮合物の全てを含んだ量のことを言う。 Here, the total amount of the silane compound means an amount including all of the silane compound, its hydrolyzate and its condensate.
本発明の反射防止フィルムは、まず基材フィルムの一方の面にハードコート層を形成し、次にその層上に高屈折率層を形成し、次に低屈折率層をその層上に形成する。各々の塗料の塗布方法としては、マイクログラビアコーティング、スピンコーティング、ディップコーティング、カーテンフローコーティング、ロールコーティング、スプレーコーティング、流し塗り法などを好ましく用いることができるが、塗布厚みの均一性の点からマイクログラビアコーティングが好適に用いられる。次いで塗布後に加熱、乾燥および熱または紫外線等の活性線で硬化させることにより各々の被膜を形成する。 In the antireflection film of the present invention, a hard coat layer is first formed on one surface of a base film, then a high refractive index layer is formed on the layer, and then a low refractive index layer is formed on the layer. To do. As the coating method of each paint, micro gravure coating, spin coating, dip coating, curtain flow coating, roll coating, spray coating, flow coating method, etc. can be preferably used. Gravure coating is preferably used. Next, after coating, each film is formed by heating, drying and curing with active rays such as heat or ultraviolet rays.
本発明の反射防止フィルムのさらに好ましい態様は、基材フィルムの、上記したハードコート層と反射防止層を積層した面の反対面に有機色素を含有する樹脂層を積層したものであり、反射防止機能と近赤外線遮蔽および／または発光スペクトルの中の非有効波長の可視光を遮蔽する機能を複合化したものであることがより好ましい。 In a more preferred embodiment of the antireflection film of the present invention, an antireflective film is obtained by laminating a resin layer containing an organic dye on the opposite side of the surface of the base film on which the hard coat layer and antireflection layer are laminated. It is more preferable to combine the function and the function of shielding near infrared rays and / or shielding visible light having an ineffective wavelength in the emission spectrum.
かかる有機色素を含有する樹脂層としては、透明高分子樹脂バインダーに近赤外線吸収能を有する有機色素を分散した組成物からなる積層膜とすることが好ましい。この場合、本発明の反射防止フィルムは、波長８５０ｎｍにおける透過率が１５％以下で、波長９５０ｎｍから１１５０ｎｍにおける透過率が１０％以下の条件を満たしていることが好ましい。さらに、波長８５０ｎｍにおける透過率は１１％以下がより好ましく、波長９５０ｎｍから１１５０ｎｍにおける透過率は７％以下がより好ましい。 The resin layer containing such an organic dye is preferably a laminated film made of a composition in which an organic dye having near infrared absorption ability is dispersed in a transparent polymer resin binder. In this case, the antireflection film of the present invention preferably satisfies the conditions that the transmittance at a wavelength of 850 nm is 15% or less and the transmittance from a wavelength of 950 nm to 1150 nm is 10% or less. Further, the transmittance at a wavelength of 850 nm is more preferably 11% or less, and the transmittance at a wavelength from 950 nm to 1150 nm is more preferably 7% or less.
かかる近赤外線吸収色素としては、特公昭４３−２５３３５号公報に開示されているようなジイモニウム系化合物が好適であり、具体的には、日本化薬（株）製“ＫＡＹＡＳＯＲＢ”を冠称とする“ＩＲＧ−０２２”、“ＩＲＧ−０２３”、“ＩＲＧ−０５０”、“ＩＲＧ−０６８”、日本カーリット製“ＣＩＲ−１０８１”、“ＣＩＲ−１０８５”、“ＦＤ−ＲＨ”などが挙げられる。 As such a near-infrared absorbing dye, a diimonium compound as disclosed in Japanese Patent Publication No. 43-25335 is preferable, and specifically, “KAYASORB” manufactured by Nippon Kayaku Co., Ltd. is used as the title. “IRG-022”, “IRG-023”, “IRG-050”, “IRG-068”, “CIR-1081”, “CIR-1085”, “FD-RH” manufactured by Nippon Carlit.
かかるジイモニウム系化合物は、波長８５０〜１２５０ｎｍの近赤外線領域に幅広く有効吸収波長域を有し、波長９５０ｎｍから１１５０ｎｍにおける透過率を１０％以下とするためには単位面積当たりの樹脂層中の有機色素の含有量を０．１〜０．５ｇ／ｍ２とするのが好ましく、さらには０．２〜０．４ｇ／ｍ２とするのがより好ましい。含有量がこの範囲を下回ると近赤外線遮蔽能が劣る場合があり、また含有量がこの範囲を越えると全光線透過率が不足し、画像が暗くなる場合があるので好ましくない。 Such a diimonium-based compound has a wide effective absorption wavelength region in the near infrared region with a wavelength of 850 to 1250 nm, and an organic dye in the resin layer per unit area in order to reduce the transmittance at a wavelength of 950 to 1150 nm to 10% or less. Is preferably 0.1 to 0.5 g / m 2, and more preferably 0.2 to 0.4 g / m 2 . If the content is below this range, the near-infrared shielding ability may be inferior, and if the content exceeds this range, the total light transmittance may be insufficient and the image may become dark.
本発明における近赤外線吸収色素としては、前記ジイモニウム系化合物だけを用いてもかまわないが、単独で波長８５０ｎｍにおける透過率を１５％以下とするためには、含有量を多くする必要があり、全光線透過率が不足する場合もある。そのため本発明では、前記ジイモニウム系化合物とともに波長８００ｎｍから９００ｎｍの範囲に吸収極大波長を有する近赤外線吸収色素を１種類以上併用することが好ましい。具体的には、１級および／または２級アミノ基、アルコキシ基、フッ素等のハロゲン基の１種以上の置換基を有するフタロシアニン系化合物もしくはナフタロシアニン系化合物、シアニン系化合物、ジチオールニッケル錯体系化合物などが挙げられる。この中でも耐光性、耐湿熱性の点から含フッ素フタロシアニン系化合物が好適に用いられる。具体的には、日本触媒（株）製“イーエクスカラー”を冠称とする“ＩＲ−１”、“ＩＲ−１０”、“ＩＲ−１２”、“ＩＲ−１４”等が挙げられる。 As the near-infrared absorbing dye in the present invention, only the diimonium compound may be used. However, in order to make the transmittance at a wavelength of 850 nm alone 15% or less, it is necessary to increase the content, The light transmittance may be insufficient. Therefore, in the present invention, it is preferable to use one or more near infrared absorbing dyes having an absorption maximum wavelength in the wavelength range of 800 nm to 900 nm together with the diimonium compound. Specifically, phthalocyanine compounds or naphthalocyanine compounds, cyanine compounds, dithiol nickel complex compounds having one or more substituents of halogen groups such as primary and / or secondary amino groups, alkoxy groups and fluorine Etc. Of these, fluorine-containing phthalocyanine compounds are preferably used from the viewpoint of light resistance and heat and humidity resistance. Specific examples include “IR-1”, “IR-10”, “IR-12”, “IR-14” and the like, which are named “EEX Color” manufactured by Nippon Shokubai Co., Ltd.
また、シアニン系化合物は耐光性に難点があるが、それを改良した色素として、予めシアニン系化合物とクエンチャー剤をカップリングして一体化した色素が本発明においては好適に用いられる。一体化することでシアニン系化合物の耐光性を改良するとともにシアニン系色素の特徴である高い吸光係数が得られることから色素の使用量を減量することができる。ここでクエンチャー剤としてはビス（１，２−ジチオフェノレート）銅テトラ−ｎ−ブチルアンモニウム塩がジイモニウム系化合物の耐光性を損なうことがないので好ましい。かかるシアニン系化合物とクエンチャー剤との一体化色素の具体例としては、住友精化（株）製“ＳＤ５０−Ｅ０４Ｎ”、“ＳＤ５０−Ｅ０５Ｎ”や旭電化工業（株）製“ＴＺ−１１１”、“ＴＺ−１１４”、“ＴＺ−１１８”などが挙げられる。 Further, although cyanine compounds have difficulty in light resistance, as an improved dye, a dye obtained by coupling a cyanine compound and a quencher in advance to be integrated is preferably used in the present invention. By integrating, the light resistance of the cyanine compound can be improved and a high extinction coefficient characteristic of the cyanine dye can be obtained, so that the amount of the dye used can be reduced. As the quencher, bis (1,2-dithiophenolate) copper tetra-n-butylammonium salt is preferable because it does not impair the light resistance of the diimonium compound. Specific examples of the integrated dye of the cyanine compound and the quencher include “SD50-E04N” and “SD50-E05N” manufactured by Sumitomo Seika Co., Ltd. and “TZ-111” manufactured by Asahi Denka Kogyo Co., Ltd. , “TZ-114”, “TZ-118” and the like.
波長８００ｎｍから９００ｎｍの範囲に吸収極大波長を有する近赤外線吸収色素化合物の単位面積当たりの樹脂層中の含有量は、用いる色素の吸光係数やジイモニウム系化合物の含有量に応じて決められるが、波長８５０ｎｍにおける透過率を１５％以下とするためには、含有量は０．０１〜０．３ｇ／ｍ２とするのが好ましく、特に、シアニン系化合物とクエンチャー剤との一体化色素を用いる場合は０．０１〜０．１ｇ／ｍ２とするのが好ましい。含有量がこの範囲を下回ると近赤外線遮蔽能が劣る場合があり、また含有量がこの範囲を越えると全光線透過率が不足し、画像が暗くなる場合があるので好ましくない。 The content in the resin layer per unit area of the near-infrared absorbing dye compound having an absorption maximum wavelength in the wavelength range of 800 nm to 900 nm is determined according to the extinction coefficient of the dye used and the content of the diimonium compound. In order to set the transmittance at 850 nm to 15% or less, the content is preferably 0.01 to 0.3 g / m 2 , particularly when an integrated dye of a cyanine compound and a quencher is used. Is preferably 0.01 to 0.1 g / m 2 . If the content is below this range, the near-infrared shielding ability may be inferior, and if the content exceeds this range, the total light transmittance may be insufficient and the image may become dark.
かかる有機色素を含有する樹脂層の別の好ましい態様としては、５５０〜６１０ｎｍの範囲のある特定波長の可視光を選択的に吸収する有機色素を透明高分子樹脂バインダーに分散した組成物からなる積層膜とすることが好ましく、この場合、本発明の反射防止フィルムは、５５０〜６１０ｎｍの範囲内に主吸収ピークを有することが好ましい。さらに好ましくは主吸収ピークの半値幅が５０ｎｍ以下であるものが好ましく、その主吸収波長は、適応する画像表示装置の発光スペクトルの中の非有効波長とするのが好ましい。 Another preferred embodiment of the resin layer containing such an organic dye is a laminate comprising a composition in which an organic dye that selectively absorbs visible light having a specific wavelength in the range of 550 to 610 nm is dispersed in a transparent polymer resin binder. In this case, the antireflection film of the present invention preferably has a main absorption peak in the range of 550 to 610 nm. More preferably, the half width of the main absorption peak is 50 nm or less, and the main absorption wavelength is preferably an ineffective wavelength in the emission spectrum of the image display apparatus to which it is applied.
例えば、プラズマディスプレイの場合にはパネルに封入されているネオンガスの発光に伴う５９０ｎｍ付近のオレンジ光を選択的に吸収する色素が好適に用いられる。この場合、波長５８５〜５９５ｎｍの範囲に主吸収ピークを有する色素が好ましく、波長５９０ｎｍにおける透過率が５０％以下、より好ましくは３５％以下で、かつ全光線透過率が５５％以上、より好ましくは６０％以上であることが好ましい。波長５９０ｎｍの透過率は低い方が好ましいが、低くなりすぎると全光線透過率も低くなるため、好ましくは１５％以上である。 For example, in the case of a plasma display, a dye that selectively absorbs orange light around 590 nm accompanying emission of neon gas sealed in a panel is preferably used. In this case, a dye having a main absorption peak in the wavelength range of 585 to 595 nm is preferable, the transmittance at a wavelength of 590 nm is 50% or less, more preferably 35% or less, and the total light transmittance is 55% or more, more preferably It is preferable that it is 60% or more. The transmittance at a wavelength of 590 nm is preferably low, but if it is too low, the total light transmittance is also low, so it is preferably 15% or more.
また、ブラウン管（ＣＲＴ）や表面電界ディスプレイ（ＳＥＤ）などの場合には、５７５ｎｍ近辺のイエロー光を選択的に吸収する色素が好ましく用いられる。この場合、波長５６５〜５８５ｎｍの範囲に主吸収ピークを有する色素が好ましく、波長５７５ｎｍにおける透過率は４０％以上８０％以下で、より好ましくは５０％以上７０％以下にすることが好ましく、かつ全光線透過率が７０％以上、より好ましくは７５％以上であることが好ましい。波長５７５ｎｍの透過率は低い方が好ましいが、低くなりすぎると全光線透過率も低くなるので好ましくない。 In the case of a cathode ray tube (CRT), a surface electric field display (SED), or the like, a dye that selectively absorbs yellow light around 575 nm is preferably used. In this case, a dye having a main absorption peak in the wavelength range of 565 to 585 nm is preferable, and the transmittance at a wavelength of 575 nm is preferably 40% or more and 80% or less, more preferably 50% or more and 70% or less. The light transmittance is preferably 70% or more, more preferably 75% or more. The transmittance at a wavelength of 575 nm is preferably low, but if it is too low, the total light transmittance is also low, which is not preferable.
本発明に用いる特定波長を選択吸収する有機色素は、例えば特開２００２−１２９０５２号公報に開示されているようなポルフィラジン系化合物（別名テトラアザポルフィリン化合物）、またはシアニン系化合物が、耐光性、有機溶剤への溶解性、吸光係数の点から好適に用いられる。具体例としては、山田化学工業（株）製“ＴＡＰ−２”、 “ＴＡＰ−５”、 “ＴＡＰ−１２”、 “ＴＡＰ−４５”、などのＴＡＰシリーズや、旭電化工業（株）製“ＴＹ−１００”、 “ＴＹ−１０２”、 “ＴＹ−１７１”などが挙げられる。 The organic dye that selectively absorbs a specific wavelength used in the present invention is, for example, a porphyrazine compound (also known as a tetraazaporphyrin compound) or a cyanine compound as disclosed in JP-A-2002-129052, It is preferably used from the viewpoint of solubility in organic solvents and extinction coefficient. Specific examples include TAP series such as “TAP-2”, “TAP-5”, “TAP-12”, and “TAP-45” manufactured by Yamada Chemical Co., Ltd., “Asahi Denka Kogyo Co., Ltd.” TY-100 "," TY-102 "," TY-171 "and the like.
単位面積当たりの樹脂層中の有機色素の含有量は、遮蔽対象となる特定波長における透過率（あるいは吸光度）の要求値、および用いる有機色素の吸光係数から求められるが、通常０．００１〜０．１５ｇ／ｍ２であり、さらには０．０１〜０．１０ｇ／ｍ２とするのがより好ましい。 The content of the organic dye in the resin layer per unit area is determined from the required value of transmittance (or absorbance) at a specific wavelength to be shielded and the extinction coefficient of the organic dye to be used. a .15g / m 2, more and more preferably, 0.01~0.10g / m 2.
さらに、かかる有機色素を含有する樹脂層のもう一つの好ましい態様としては、５５０〜６１０ｎｍの範囲のある特定波長の可視光を吸収する有機色素と前記の近赤外線吸収色素の両方を併用し、近赤外線吸収と可視光選択波長吸収の機能を複合してもよい。 Furthermore, as another preferred embodiment of the resin layer containing such an organic dye, both an organic dye that absorbs visible light having a specific wavelength in the range of 550 to 610 nm and the near-infrared absorbing dye are used in combination. The functions of infrared absorption and visible light selective wavelength absorption may be combined.
本発明にかかる有機色素を含有する樹脂層で用いる樹脂は、透明な高分子樹脂バインダーが好ましく、実質的に可視光の吸収がなく無色透明であり、ポリエステル系樹脂、（メタ）アクリル系樹脂、（メタ）アクリルウレタン系樹脂、ポリカーボネート系樹脂等が好ましく用いられ、中でも（メタ）アクリル系樹脂が好適である。 The resin used in the resin layer containing the organic pigment according to the present invention is preferably a transparent polymer resin binder, is substantially colorless and transparent with no visible light absorption, polyester-based resin, (meth) acrylic resin, (Meth) acrylic urethane resins, polycarbonate resins and the like are preferably used, and (meth) acrylic resins are particularly preferable.
本発明で用いる（メタ）アクリル系樹脂は、メチル（メタ）アクリレート、エチル（メタ）アクリレート、ｎ−またはｉｓｏプロピル（メタ）アクリレート、ｎ−またはｓｅｃ−またはｔｅｒｔ−ブチル（メタ）アクリレート、ペンチル（メタ）アクリレート、ヘキシル（メタ）アクリレート、シクロヘキシル（メタ）アクリレート、メチルシクロヘキシル（メタ）アクリレート、シクロドデシル（メタ）アクリレート、２−エチルヘキシル（メタ）アクリレート、オクチル（メタ）アクリレート、ノニル（メタ）アクリレート、デシル（メタ）アクリレート、ヒドロキシエチル（メタ）アクリレート、（メタ）アクリル酸、イタコン酸、無水マレイン酸、グリシジル（メタ）アクリレート、含フッ素（メタ）アクリレート、スチレンから選ばれる数種類の不飽和単量体を共重合して得られるものが好適である。さらには有機色素の耐光性を向上させるため、紫外線安定性基であるヒンダードアミンを有する不飽和単量体（例えば旭電化工業（株）製 アデカスタブ ＬＡ−８２、ＬＡ−８７等）や、ベンゾトリアゾール系、ベンゾフェノン系、トリアジン系等の紫外線吸収基を有する不飽和単量体を共重合したものを用いるか、またはヒンダードアミン系添加剤（例えば三共ライフテック（株）製 サノール ＬＳ−７６５、ＬＳ−２６２６など）や紫外線吸収剤を重合後の樹脂に添加することが好ましい。 The (meth) acrylic resin used in the present invention includes methyl (meth) acrylate, ethyl (meth) acrylate, n- or isopropyl (meth) acrylate, n- or sec- or tert-butyl (meth) acrylate, pentyl ( (Meth) acrylate, hexyl (meth) acrylate, cyclohexyl (meth) acrylate, methylcyclohexyl (meth) acrylate, cyclododecyl (meth) acrylate, 2-ethylhexyl (meth) acrylate, octyl (meth) acrylate, nonyl (meth) acrylate, Selected from decyl (meth) acrylate, hydroxyethyl (meth) acrylate, (meth) acrylic acid, itaconic acid, maleic anhydride, glycidyl (meth) acrylate, fluorine-containing (meth) acrylate, and styrene Those obtained by copolymerizing several unsaturated monomer is preferred. Furthermore, in order to improve the light resistance of organic dyes, unsaturated monomers having a hindered amine which is an ultraviolet light-stable group (for example, Adeka Stub LA-82, LA-87, etc. manufactured by Asahi Denka Kogyo Co., Ltd.), benzotriazole series , Benzophenone-based, triazine-based unsaturated monomers having a copolymerized unsaturated monomer, or hindered amine additives (for example, Sanol LS-765, LS-2626 manufactured by Sankyo Lifetech Co., Ltd.) ) Or an ultraviolet absorber is preferably added to the polymerized resin.
本発明にかかる有機色素を含有する樹脂層で用いる（メタ）アクリル系樹脂は、耐熱性の点からガラス転移点が８０℃以上が好ましく、さらには１００℃以上であるものが好ましいが、これに限定されるものではない。また、有機色素への水分の影響を小さくするため、樹脂の吸湿性は２％以下であることが好ましい。 The (meth) acrylic resin used in the resin layer containing the organic pigment according to the present invention preferably has a glass transition point of 80 ° C. or higher, more preferably 100 ° C. or higher from the viewpoint of heat resistance. It is not limited. In order to reduce the influence of moisture on the organic dye, the hygroscopicity of the resin is preferably 2% or less.
さらに、本発明で用いる（メタ）アクリル系樹脂は耐溶剤性を向上させるために架橋しても良く、この場合、脂肪族ジイソシアネートや脂環式ジイソシアネート、芳香族ジイソシアネート、メラミン等の架橋剤が好適に用いられる。また、易接着層との接着性を向上させるためにシランカップリング剤を添加してもよい。シランカップリング剤としては不飽和基やエポキシ基を有するアルコキシシラン化合物が挙げられる。 Furthermore, the (meth) acrylic resin used in the present invention may be crosslinked to improve the solvent resistance. In this case, a crosslinking agent such as aliphatic diisocyanate, alicyclic diisocyanate, aromatic diisocyanate, or melamine is suitable. Used for. Further, a silane coupling agent may be added in order to improve the adhesion with the easy adhesion layer. Examples of the silane coupling agent include an alkoxysilane compound having an unsaturated group or an epoxy group.
本発明にかかる有機色素を含有する樹脂層で用いる（メタ）アクリル系樹脂は有機溶剤に可溶であることが好ましく、特にメチルエチルケトン、メチルブチルケトン、シクロヘキサノン、アセトン、アセトニトリル、酢酸エチル、酢酸ブチル、トルエン、キシレン等に可溶であるものが好ましく、これらの単体もしくは２種以上の混合溶媒として用いられる。（メタ）アクリル系樹脂の粘度は、有機色素化合物を調合して塗料化する際の作業性を考慮して、５０〜５０００ｍＰａ．ｓであることが好ましく、（メタ）アクリル系樹脂の固形分濃度は１０〜５０質量％であることが好ましい。 The (meth) acrylic resin used in the resin layer containing the organic dye according to the present invention is preferably soluble in an organic solvent, particularly methyl ethyl ketone, methyl butyl ketone, cyclohexanone, acetone, acetonitrile, ethyl acetate, butyl acetate, Those which are soluble in toluene, xylene and the like are preferable, and these are used alone or as a mixed solvent of two or more. The viscosity of the (meth) acrylic resin is 50 to 5000 mPa.s in consideration of workability when preparing a paint by preparing an organic dye compound. It is preferable that it is s, and it is preferable that the solid content density | concentration of (meth) acrylic-type resin is 10-50 mass%.
かかる（メタ）アクリル系樹脂バインダーの市販品としては、三菱レイヨン（株）製 “ダイヤナール ＢＲ−８０”や日本触媒（株）製“ハルスハイブリッド ＩＲ−Ｇ２０５”、綜研化学（株）製“フォレット ＧＳ−１０００”などが好適な例として挙げられる。 Commercially available products of such (meth) acrylic resin binders include “Dianar BR-80” manufactured by Mitsubishi Rayon Co., Ltd., “Hals Hybrid IR-G205” manufactured by Nippon Shokubai Co., Ltd., “Foret” manufactured by Soken Chemical Co., Ltd. GS-1000 "etc. are mentioned as a suitable example.
前記した有機色素は染料または顔料のどちらでも使用できるが、透明性や可視線の透過率を考慮すると染料を用いるのが好ましい。染料を用いる場合は、高分子樹脂バインダーが可溶である有機溶媒に溶解するものが好ましい。かかる有機溶媒としては、メチルエチルケトン、メチルブチルケトン、シクロヘキサノン、アセトン、アセトニトリル、酢酸エチル、酢酸ブチル、トルエン、キシレン等が挙げられる。前記した有機色素は、かかる有機溶媒に溶解後、高分子樹脂バインダー溶液や有機溶媒と混合され塗料化されて用いられる。さらに、塗料には、紫外線吸収剤、紫外線安定剤、酸化防止剤、レベリング剤、消泡剤などを配合することも好ましい。 The above-mentioned organic coloring matter can be either a dye or a pigment, but it is preferable to use a dye in consideration of transparency and visible light transmittance. In the case of using a dye, one that dissolves in an organic solvent in which the polymer resin binder is soluble is preferable. Examples of the organic solvent include methyl ethyl ketone, methyl butyl ketone, cyclohexanone, acetone, acetonitrile, ethyl acetate, butyl acetate, toluene, xylene and the like. The aforementioned organic dye is used after being dissolved in such an organic solvent and then mixed with a polymer resin binder solution or an organic solvent to form a paint. Furthermore, it is also preferable to mix | blend a ultraviolet absorber, a ultraviolet stabilizer, antioxidant, a leveling agent, an antifoamer, etc. with a coating material.
かかる塗料は、３本リバースコーターや正転またはリバースグラビアコーター、コンマコーター、ダイコーターなどのコーティング方式により、基材フィルムの易接着層上に塗工され、加熱して乾燥し、樹脂層を形成する。 Such paint is applied on the easy-adhesion layer of the base film by a coating method such as three reverse coaters, forward rotation or reverse gravure coater, comma coater, die coater, etc., and heated to dry to form a resin layer To do.
本発明の有機色素を含有する樹脂層の厚みは特に限定されるものではないが、１〜３０μｍが好ましく、さらには３〜１５μｍが前記（メタ）アクリル系樹脂バインダーのフィルムへの塗工性の点からより好適である。 The thickness of the resin layer containing the organic dye of the present invention is not particularly limited, but is preferably 1 to 30 μm, and more preferably 3 to 15 μm is applicable to the film of the (meth) acrylic resin binder. From the point of view, it is more preferable.
本発明の光学フィルムと半強化ガラスや電磁波遮蔽フィルム、あるいは帯電防止フィルムなどの他の光学フィルター要素と貼り合わせるために、樹脂層の上に粘着層が積層され、さらに貼り合わせ工程までの間に他の面との粘着を防ぐために離型フィルムが積層されているのが好ましい。 In order to bond the optical film of the present invention with other optical filter elements such as semi-tempered glass, electromagnetic wave shielding film, or antistatic film, an adhesive layer is laminated on the resin layer, and further until the bonding process. In order to prevent adhesion with other surfaces, it is preferable that a release film is laminated.
本発明における粘着層としては、２つの物体をその粘着作用により接着させるものであれば特に限定されない。粘着層を形成する粘着剤としては、ゴム系、ビニル重合系、縮合重合系、熱硬化性樹脂系、シリコーン系などを用いることができる。この中で、ゴム系の粘着剤としては、ブタジエン−スチレン共重合体系（ＳＢＲ）、ブタジエン−アクリロニトリル共重合体系（ＮＢＲ）、クロロプレン重合体系、イソブチレン−イソプレン共重合体系（ブチルゴム）などを挙げることができる。ビニル重合系の粘着剤としては、アクリル樹脂系、スチレン樹脂系、酢酸ビニル−エチレン共重合体系、塩化ビニル−酢酸ビニル共重合体系などを挙げることができる。縮合重合系の粘着剤としては、ポリエステル樹脂系を挙げることができる。熱硬化樹脂系の粘着剤としては、エポキシ樹脂系、ウレタン樹脂系、ホルマリン樹脂系などを挙げることができる。これらの樹脂は単独で使用してもよく、また２種以上混合して使用しても良い。 The pressure-sensitive adhesive layer in the present invention is not particularly limited as long as two objects are bonded by the pressure-sensitive adhesive action. As the pressure-sensitive adhesive forming the pressure-sensitive adhesive layer, rubber-based, vinyl polymerization-based, condensation polymerization-based, thermosetting resin-based, silicone-based, and the like can be used. Among these, examples of the rubber-based adhesive include butadiene-styrene copolymer system (SBR), butadiene-acrylonitrile copolymer system (NBR), chloroprene polymer system, and isobutylene-isoprene copolymer system (butyl rubber). it can. Examples of the vinyl polymerization-based pressure-sensitive adhesive include acrylic resin-based, styrene resin-based, vinyl acetate-ethylene copolymer system, and vinyl chloride-vinyl acetate copolymer system. Examples of the condensation polymerization pressure-sensitive adhesive include a polyester resin system. Examples of the thermosetting resin adhesive include epoxy resin, urethane resin, formalin resin, and the like. These resins may be used alone or in combination of two or more.
さらに、粘着層に上記した有機色素を含有させてもよく、それにより樹脂層を省略することも可能である。 Furthermore, the above-mentioned organic dye may be contained in the adhesive layer, whereby the resin layer can be omitted.
本発明における粘着層は、アルコール等で予め脱脂した青板ガラス板に光学フィルムを貼り合わせた場合の９０度におけるフィルム剥離強度が５〜２５Ｎ／２５ｍｍの範囲であるものが好ましく、さらには１０〜２０Ｎ／２５ｍｍの範囲が好ましい。これより低いと粘着力が弱く剥がれやすくなり、逆に強いと樹脂が堅くなる傾向にあり好ましくない。 The pressure-sensitive adhesive layer in the present invention preferably has a film peel strength at 90 degrees in the range of 5 to 25 N / 25 mm when an optical film is bonded to a blue plate glass plate previously degreased with alcohol or the like, and more preferably 10 to 20 N. A range of / 25 mm is preferred. If it is lower than this, the adhesive strength is weak and it is easy to peel off. On the contrary, if it is strong, the resin tends to be hard, which is not preferable.
粘着層の厚みは１０〜５０μｍが好ましく、さらには２０〜３０μｍが好適である。 The thickness of the adhesive layer is preferably 10 to 50 μm, and more preferably 20 to 30 μm.
さらに、粘着層は実際に半強化ガラスや電磁波遮蔽フィルムなどと貼り合わされるまでの間、作業性を考慮して離型フィルムと貼り合わされる。離型フィルムとしてはポリエステルなどのフィルム基材にシリコーン等の離型剤がコーティングされたフィルムが好適に用いられる。 Further, the adhesive layer is bonded to the release film in consideration of workability until it is actually bonded to the semi-tempered glass or the electromagnetic wave shielding film. As the release film, a film in which a release agent such as silicone is coated on a film substrate such as polyester is suitably used.
離型フィルムの粘着層との９０度における剥離強度は１０〜１００ｍＮ／２５ｍｍの範囲であることが好ましく、さらには３０〜７０ｍＮ／２５ｍｍの範囲であることが良好な剥離感が得られる。離型フィルムの具体例としては、東レフィルム加工（株）製“セラピール”などが挙げられる。 The peel strength at 90 degrees with the adhesive layer of the release film is preferably in the range of 10 to 100 mN / 25 mm, and more preferably in the range of 30 to 70 mN / 25 mm. Specific examples of the release film include “Therapel” manufactured by Toray Film Processing Co., Ltd.
粘着層は、例えば３本リバースコーターや正転またはリバースグラビアコーター、コンマコーター、ダイコーターなどのコーティング方式により、前記離型フィルムの離型面に塗工され、オーブンで乾燥して成膜した後、有機色素を含有する樹脂層とラミネートすることにより積層する方法が好ましいが、本方法に限定されるものではない。 The adhesive layer is applied to the release surface of the release film by a coating method such as a three reverse coater, a normal rotation or reverse gravure coater, a comma coater, or a die coater, and is dried in an oven to form a film. A method of laminating by laminating with a resin layer containing an organic dye is preferred, but it is not limited to this method.
本発明の反射防止フィルムは、表面反射率が低く、かつよりフラットな反射スペクトルが得られる。また、本発明のより好ましい態様の反射防止フィルムは表面の耐擦傷性に優れると同時に、近赤外線吸収能、および５５０〜６１０ｎｍの範囲にある画像表示装置にとって非有効波長の光を吸収して色調補正能を有する。本発明の反射防止フィルムと電磁波遮蔽フィルム、帯電防止フィルム、防眩性フィルム、ガスバリア性フィルムなどの機能性フィルムと貼り合わさすことで、ブラウン管（ＣＲＴ）やプラズマディスプレイパネル（ＰＤＰ）、表面電解ディスプレイ（ＳＥＤ）などの画像表示装置の光学フィルターに好適に用いられ、粘着層または接着剤層を介して、画像表示面および／またはその前面板の表面に貼着して画像表示装置とすることができる。 The antireflection film of the present invention has a low surface reflectance and a flatter reflection spectrum. Further, the antireflection film of a more preferred embodiment of the present invention is excellent in surface scratch resistance, and at the same time, absorbs light having an ineffective wavelength for an image display device in the range of 550 to 610 nm. Has correction ability. The antireflection film of the present invention is bonded to a functional film such as an electromagnetic wave shielding film, an antistatic film, an antiglare film, a gas barrier film, etc., so that a cathode ray tube (CRT), plasma display panel (PDP), surface electrolytic display It is suitably used for an optical filter of an image display device such as (SED), and is attached to the image display surface and / or the surface of its front plate via an adhesive layer or an adhesive layer to form an image display device. it can.
次に、本発明の反射防止フィルムを用いた一例として、表面電界ディスプレイ（ＳＥＤ）用光学フィルター（以下、単に光学フィルターという）について述べる。図２は、光学フィルターの一例を示す模式断面図であるが、これらに限定されるものではない。 Next, as an example using the antireflection film of the present invention, an optical filter for surface electric field display (SED) (hereinafter simply referred to as an optical filter) will be described. FIG. 2 is a schematic cross-sectional view showing an example of the optical filter, but is not limited thereto.
ＣＲＴやＳＥＤのように、蛍光物質を塗布したガラス面に電子を衝突させて発光させるディスプレイの場合、画像表示面の静電気帯電を防止するため、画像表示面には静電気拡散性（Static Dissipative）を付与することが要求される。ここで、静電気拡散性とは、静電場を遮蔽できるほどの導電性は持たないものの、帯電した物体が接触した場合に激しいＥＳＤ（Electro-Static Discharge；静電気放電）を起こすことなく、かつその帯電を比較的速やかに消散させられる程度の導電性を持つことであり、表面抵抗率で１０５〜１０９Ω／□の導電性が要求される。そのため、光学フィルターにはパネル１３と貼り合わせるための粘着剤１２（パネルと貼り合わせる前には離型フィルムが含まれる）、そして帯電防止層１１、基材フィルム１０の順で配置し、帯電防止層１１をパネル１３に近い位置に配置する。パネル１３から離れた位置（例えば基材フィルム１０を介した位置）に配置すると、十分な静電気拡散性が得られなくなるので好ましくない。かかる表面抵抗率はＪＩＳ Ｋ６９１１（１９９５年版）に基づいて測定するか、あるいは、高抵抗率計ハイレスターUP（型番： MCP-HT450、ダイアインスツルメンツ製、測定レンジ：１０ 4 〜１０13Ω）を用いて、三菱化学法（ＭＣＣ法）で測定し求めることができる。
In the case of a display that emits light by colliding electrons with a glass surface coated with a fluorescent material, such as CRT or SED, the image display surface has a static dissipative property in order to prevent electrostatic charge on the image display surface. It is required to be granted. Here, the electrostatic diffusibility is not conductive enough to shield the electrostatic field, but does not cause severe ESD (Electro-Static Discharge) when a charged object comes into contact with it, and it is charged. Is required to have a surface resistivity of 10 5 to 10 9 Ω / □. Therefore, the optical filter is provided with an adhesive 12 for bonding to the panel 13 (including a release film before being bonded to the panel), an antistatic layer 11 and a
帯電防止層１１は高透明性であることが好ましく、全光線透過率で８５％以上が好ましく、より好ましくは９２％以上、特に好ましくは９５％以上である。かかる全光線透過率は、ＪＩＳ Ｋ７３６１−１：（１９９７年版）に基づいて測定され、例えば、ＪＩＳ準拠の測定器として濁度計ＮＤＨ２０００（日本電色工業（株）製）を用いて帯電防止層１１を形成した基材フィルム１０の全光線透過率を測定し、予め測定しておいた基材フィルム１０の全光線透過率で除することで帯電防止層１１の全光線透過率を求める。
The antistatic layer 11 is preferably highly transparent, and the total light transmittance is preferably 85% or more, more preferably 92% or more, and particularly preferably 95% or more. The total light transmittance is measured based on JIS K7361-1: (1997 edition), and for example, an antistatic layer using a turbidimeter NDH2000 (manufactured by Nippon Denshoku Industries Co., Ltd.) as a JIS-compliant measuring instrument. 11 is measured, and the total light transmittance of the antistatic layer 11 is determined by dividing the total light transmittance of the
さらに、帯電防止層１１のヘイズは１％以下が好ましく、より好ましくは０．７％以下、特に好ましくは０．４％以下である。かかるヘイズはＪＩＳ Ｋ７１３６（２０００年版）に基づいて測定され、例えば、全光線透過率の測定と同様、濁度計ＮＤＨ２０００（日本電色工業（株）製）を用いて帯電防止層１１を形成した基材フィルム１０のヘイズを測定し、予め測定しておいた基材フィルム１０のヘイズを差し引いて帯電防止層８のヘイズを求める。
Further, the haze of the antistatic layer 11 is preferably 1% or less, more preferably 0.7% or less, and particularly preferably 0.4% or less. The haze is measured based on JIS K7136 (2000 version). For example, the antistatic layer 11 is formed using a turbidimeter NDH2000 (manufactured by Nippon Denshoku Industries Co., Ltd.) as in the case of measuring the total light transmittance. The haze of the
帯電防止層１１は上述した表面抵抗率、全光線透過率、ヘイズを有するものであれば特に限定されるものではないが、好ましくは、導電性粒子が分散した層とするのが好ましい。かかる導電性粒子としては、銀や銅などの金属微粒子、アンチモンドープ酸化錫（ＡＴＯ）や錫含有酸化インジウム（ＩＴＯ）、酸化亜鉛などの金属酸化物粒子、カーボンブラックやカーボンナノチューブ、カーボンナノファイバーなどの炭素粒子が挙げられる。この中でもカーボンナノチューブが導電性に優れ、より少量で帯電防止性を発現できるので好ましく用いられる。 The antistatic layer 11 is not particularly limited as long as it has the above-described surface resistivity, total light transmittance, and haze, but is preferably a layer in which conductive particles are dispersed. Examples of the conductive particles include metal fine particles such as silver and copper, metal oxide particles such as antimony-doped tin oxide (ATO), tin-containing indium oxide (ITO), and zinc oxide, carbon black, carbon nanotube, and carbon nanofiber. Of carbon particles. Among these, carbon nanotubes are preferably used because they are excellent in conductivity and can exhibit antistatic properties in a smaller amount.
光学フィルターの基材フィルム５の表面側にはハードコート層４、その上に本発明の反射防止層９が形成されている。さらに反射防止層９の表層に防汚層や保護フィルムを付設してもかまわない。
The
また、画像のコントラスト向上、色純度向上のため、前述した波長５６５〜５８５ｎｍの範囲に主吸収ピークを有する有機色素を含有する樹脂層６が、基材フィルム５の反射防止層９と反対側の面に形成されるが、この樹脂層６は、基材フィルム１０の帯電防止層１１の反対側の面に形成させてもかまわない。有機色素を含有する樹脂層６は光学フィルターのどこに配置するかは特に限定されるものでないが、外光（例えば日光など）に含まれる紫外線等による色素の劣化を防ぐため、有機色素を含有する樹脂層６よりも表面側には紫外線吸収層が配置されていることが好ましい。かかる紫外線吸収機能は、通常、基材フィルム５に付与するか、または粘着剤７に付与するのが好ましい。
Further, in order to improve the contrast of the image and the color purity, the
本発明の反射防止フィルムは表面反射率が低く、かつよりフラットな反射スペクトルが得られることから、光学フィルターに適用することで、視感反射率が低く、反射色の色目をニュートラルに近く、画像コントラストが良好な光学フィルターを提供することが可能となる。 Since the antireflection film of the present invention has a low surface reflectance and a flatter reflection spectrum, it can be applied to an optical filter so that the luminous reflectance is low and the color of the reflected color is close to neutral. An optical filter with good contrast can be provided.
次に、実施例に基づいて本発明を説明するが、本発明は必ずしもこれらに限定されるものではない。 Next, although this invention is demonstrated based on an Example, this invention is not necessarily limited to these.
１．特性の評価方法
（１）低屈折率層の屈折率の測定
シリコンウエハー上に膜厚が０．１μｍとなるように、後述する塗料Ａ〜Ｄのいずれかの低屈折率塗料を、スピンコーターを用いて塗布した。ついでイナートオーブンＩＮＨ−２１ＣＤ（光洋サーモシステム（株）社製）を用いて、１３０℃で１分間、加熱硬化することにより、被膜を得た。形成した被膜について、位相差測定装置（ニコン（株）製：ＮＰＤＭ−１０００）で６３３ｎｍにおける屈折率を測定した。
1. Characteristic Evaluation Method (1) Measurement of Refractive Index of Low Refractive Index Layer A low refractive index paint of any of paints A to D described later is applied to a silicon wafer with a spin coater so that the film thickness becomes 0.1 μm. Applied. Then, using an inert oven INH-21CD (manufactured by Koyo Thermo System Co., Ltd.), the film was obtained by heat curing at 130 ° C. for 1 minute. About the formed film, the refractive index in 633 nm was measured with the phase difference measuring apparatus (Nikon Co., Ltd. product: NPDM-1000).
（２）高屈折率層および低屈折率層の厚み測定
作製した反射防止フィルムの反射防止層の断面を透過型電子顕微鏡（日立製Ｈ−７１００ＦＡ型）を用いて加速電圧１００ｋＶにて観察した。試料調整は超薄切片法を用いた。１０万倍または２０万倍の倍率で観察し、各々の層の厚みを測定し、それより高屈折率層の厚さｄＨと低屈折率層の厚さｄＬの比ｄＨ／ｄＬを求めた。
(2) Thickness measurement of high refractive index layer and low refractive index layer The cross section of the antireflection layer of the prepared antireflection film was observed at an acceleration voltage of 100 kV using a transmission electron microscope (H-7100FA type manufactured by Hitachi). Sample preparation used the ultrathin section method. Observation at a magnification of 100,000 times or 200,000 times, the thickness of each layer is measured, and then the ratio d H / d L between the thickness d H of the high refractive index layer and the thickness d L of the low refractive index layer Asked.
（３）５°絶対反射率測定
測定面（反射防止層を設けた側の面）の反対側表面を６０℃光沢度（ＪＩＳ Ｚ ８７４１）が１０以下になるように３２０〜４００番の耐水サンドペーパーで均一に粗面化した後、可視光線透過率が５％以下となるように黒色塗料を塗布して着色した。測定面を島津製作所製の分光光度計（ＵＶ−３１５０）にて、測定面から５度の入射角で、波長領域３８０ｎｍ〜７８０ｎｍにおける絶対反射スペクトルを測定し、波長４００ｎｍ〜７００ｎｍの領域での最低反射率とその波長、および最高反射率とその波長、および最高反射率と最低反射率の差を求めた。なお、測定した反射スペクトルにうねりのある場合は、うねりの山（極大点）と谷（極小点）の中間地点を結んでいった曲線からそれぞれの反射率を求めた。
(3) 5 ° absolute reflectance measurement No. 320-400 water resistant sand on the surface opposite to the measurement surface (surface on which the antireflection layer is provided) so that the 60 ° C. gloss (JIS Z 8741) is 10 or less. After uniformly roughening with paper, a black paint was applied and colored so that the visible light transmittance was 5% or less. Using a spectrophotometer (UV-3150) manufactured by Shimadzu Corporation, the absolute reflection spectrum in the wavelength region of 380 nm to 780 nm is measured at an incident angle of 5 degrees from the measurement surface, and the lowest in the wavelength region of 400 nm to 700 nm. The reflectance and its wavelength, the highest reflectance and its wavelength, and the difference between the highest reflectance and the lowest reflectance were determined. When the measured reflection spectrum has undulations, the respective reflectances were obtained from curves connecting intermediate points between undulation peaks (maximum points) and valleys (minimum points).
（４）耐擦傷性；スチールウール硬度評価
耐擦傷性は、反射防止面を、＃００００のスチールウールに２５０ｇの荷重をかけて、ストローク幅１０ｃｍ、速度３０ｍｍ／ｓｅｃで１０往復摩擦した後、表面を目視で観察し、傷の付き方を次の５段階で評価した。５級：傷が全く付かない。４級：傷が１本以上５本以下。３級：傷が６本以上１０本以下。２級：傷が１１本以上。１級：全面に無数の傷。
(4) Scratch resistance; steel wool hardness evaluation Scratch resistance was determined by applying a load of 250 g to # 0000 steel wool and rubbing 10 times at a stroke width of 10 cm and a speed of 30 mm / sec. Was visually observed, and the scratching was evaluated in the following five stages. 5th grade: No scratches. Fourth grade: 1 to 5 scratches. 3rd grade: 6 to 10 scratches. Second grade: 11 or more scratches. First grade: Countless scratches on the entire surface.
（５）透過率測定
島津製作所製の分光光度計（ＵＶ−３１５０）にて、波長３８０〜１２００ｎｍの範囲で反射防止フィルムの透過スペクトルを測定した。近赤外線遮蔽性として８５０ｎｍの透過率および９５０〜１１５０ｎｍの範囲における最高透過率を求めた。さらに、透過スペクトルが可視光域に主吸収ピークを有する場合については、主吸収ピーク波長とその波長における透過率、およびその主吸収ピークの半値幅を求めた。
(5) Transmittance measurement The transmission spectrum of the antireflection film was measured in the wavelength range of 380 to 1200 nm with a spectrophotometer (UV-3150) manufactured by Shimadzu Corporation. As the near infrared shielding property, a transmittance of 850 nm and a maximum transmittance in a range of 950 to 1150 nm were determined. Furthermore, when the transmission spectrum has a main absorption peak in the visible light region, the main absorption peak wavelength, the transmittance at that wavelength, and the half width of the main absorption peak were determined.
（６）全光線透過率
日本電色工業製の直読みヘイズコンピューター（ＮＤＨ ２０００）を用いて測定を行った。
(6) Total light transmittance Measurement was performed using a direct reading haze computer (NDH 2000) manufactured by Nippon Denshoku Industries Co., Ltd.
（７）鉛筆硬度
ＨＥＩＤＯＮ（新東科学株式会社製）を用いてＪＩＳ Ｋ−５４００に従って測定した。
(7) Pencil hardness Measured according to JIS K-5400 using HEIDON (manufactured by Shinto Kagaku Co., Ltd.).
２．低屈折率塗料の調整
（塗料Ａ）
メチルトリメトキシシラン ９５．２質量部、トリフルオロプロピルトリメトキシシラン ６５．４質量部をプロピレングリコールモノメチルエーテル３００質量部、イソプロパノール１００質量部に溶解した。この溶液に、数平均粒子径５０ｎｍの外殻の内部に空洞を有するシリカ微粒子分散液（イソプロパノール分散型、固形分濃度２０．５％、触媒化成工業社製）２９７．９質量部、水５４質量部およびギ酸１．８質量部を、撹拌しながら、反応温度が３０℃を越えないように滴下した。滴下後、得られた溶液をバス温４０℃で２時間加熱し、その後、溶液をバス温８５℃で２時間加熱し、内温を８０℃まで上げて、１．５時間加熱した後、室温まで冷却し、ポリマー溶液Ａを得た。
得られたポリマー溶液Ａに、アルミニウム系硬化剤として、アルミニウムトリス（アセチルアセテート）（商品名 アルミキレートＡ（Ｗ）、川研ファインケミカル（株）社製）４．８質量部をメタノール１２５質量部に溶解したものを添加し、さらにイソプロパノール １５００質量部およびプロピレングリコールモノメチルエーテル２５０質量部を添加して、室温にて２時間撹拌し、塗料Ａを作製した。
塗料Ａの被膜をシリコンウエハー上に形成し、上記した方法で求めた屈折率は１．３６であった。
2. Adjustment of low refractive index paint (Paint A)
95.2 parts by mass of methyltrimethoxysilane and 65.4 parts by mass of trifluoropropyltrimethoxysilane were dissolved in 300 parts by mass of propylene glycol monomethyl ether and 100 parts by mass of isopropanol. In this solution, a silica fine particle dispersion having a cavity inside the outer shell having a number average particle diameter of 50 nm (isopropanol dispersion type, solid content concentration 20.5%, manufactured by Catalyst Kasei Kogyo Co., Ltd.) 297.9 parts by mass, water 54 masses And 1.8 parts by mass of formic acid were added dropwise with stirring so that the reaction temperature did not exceed 30 ° C. After the dropwise addition, the obtained solution was heated at a bath temperature of 40 ° C. for 2 hours, and then the solution was heated at a bath temperature of 85 ° C. for 2 hours, the internal temperature was raised to 80 ° C. and heated for 1.5 hours, The polymer solution A was obtained.
In the obtained polymer solution A, 4.8 parts by mass of aluminum tris (acetyl acetate) (trade name: Aluminum Chelate A (W), manufactured by Kawaken Fine Chemical Co., Ltd.) as an aluminum-based curing agent is added to 125 parts by mass of methanol. The dissolved material was added, 1500 parts by mass of isopropanol and 250 parts by mass of propylene glycol monomethyl ether were added, and the mixture was stirred at room temperature for 2 hours to prepare paint A.
A coating film of the paint A was formed on a silicon wafer, and the refractive index determined by the above method was 1.36.
（塗料Ｂ）
メチルトリメトキシシラン １０９．０質量部、ヘプタデカフルオロデシルトリメトキシシラン ５６．８質量部、テトラメトキシシラン１５．２質量部をプロピレングリコールモノエチルエーテル３００質量部に溶解した。この溶液に、イソプロパノールに分散された数平均粒子径２０ｎｍの内部に空洞を有するシリカ微粒子のゾル（固形分８．５％）（商品名 ＳＯＣ−ＮＰＡ−４ＭＡ、住友大阪セメント（株）社製）を、８９０質量部、水６０質量部および酢酸２質量部を、撹拌しながら、反応温度が３０℃を越えないように滴下した。滴下後、得られた溶液をバス温３０℃で３時間加熱し、その後、溶液をバス温８５℃で２時間加熱し、内温を８０℃まで上げて、２時間加熱した後、室温まで冷却し、ポリマー溶液Ｂを得た。得られたポリマー溶液Ｂに、アルミニウム系硬化剤として、アルミニウムトリス（アセチルアセテート）（商品名 アルミキレートＡ（Ｗ）、川研ファインケミカル（株）社製）４．８質量部をメタノール１２５質量部に溶解したものを添加し、さらにイソプロパノール １５００質量部およびプロピレングリコールモノメチルエーテル２５０質量部を添加して、室温にて２時間撹拌し、塗料Ｂを作製した。
塗料Ｂの被膜をシリコンウエハー上に形成し、上記した方法で求めた屈折率は１．３６であった。
(Paint B)
109.0 parts by mass of methyltrimethoxysilane, 56.8 parts by mass of heptadecafluorodecyltrimethoxysilane, and 15.2 parts by mass of tetramethoxysilane were dissolved in 300 parts by mass of propylene glycol monoethyl ether. In this solution, a sol of silica fine particles dispersed in isopropanol having a number average particle diameter of 20 nm and having cavities (solid content: 8.5%) (trade name: SOC-NPA-4MA, manufactured by Sumitomo Osaka Cement Co., Ltd.) 890 parts by mass, 60 parts by mass of water and 2 parts by mass of acetic acid were added dropwise with stirring so that the reaction temperature did not exceed 30 ° C. After the dropwise addition, the resulting solution is heated at a bath temperature of 30 ° C. for 3 hours, then the solution is heated at a bath temperature of 85 ° C. for 2 hours, the internal temperature is raised to 80 ° C., heated for 2 hours, and then cooled to room temperature. As a result, a polymer solution B was obtained. In the obtained polymer solution B, 4.8 parts by mass of aluminum tris (acetyl acetate) (trade name: Aluminum Chelate A (W), manufactured by Kawaken Fine Chemical Co., Ltd.) as an aluminum-based curing agent is added to 125 parts by mass of methanol. The dissolved material was added, 1500 parts by mass of isopropanol and 250 parts by mass of propylene glycol monomethyl ether were added, and the mixture was stirred at room temperature for 2 hours to prepare paint B.
A coating film of the paint B was formed on a silicon wafer, and the refractive index determined by the above-described method was 1.36.
（塗料Ｃ）
メチルトリメトキシシラン ９５．２質量部、トリフルオロプロピルトリメトキシシラン ６５．４質量部を反応容器に入れ、撹拌しながら、水５４質量部およびギ酸１．８質量部を反応温度が３０℃を越えないように滴下した。滴下後、得られた溶液をバス温３０℃で５時間加熱した後、室温まで冷却し、シラノール溶液を得た。得られたシラノール溶液に、外殻の内部に空洞を有するシリカ微粒子分散液（イソプロパノール分散型、固形分濃度２０．５％、触媒化成工業社製）２９７．９質量部およびアルミニウム系硬化剤として、アルミニウムトリス（アセチルアセテート）（商品名 アルミキレートＡ（Ｗ）、川研ファインケミカル（株）社製）４．８質量部をメタノール１２５質量部に溶解したものを添加し、さらにイソプロパノール１６００質量部およびプロピレングリコールモノメチルエーテル５５０質量部を添加して、室温にて２時間撹拌し、塗料Ｃを作製した。
塗料Ｃの被膜をシリコンウエハー上に形成し、上記した方法で求めた屈折率は１．３６であった。
(Paint C)
95.2 parts by mass of methyltrimethoxysilane and 65.4 parts by mass of trifluoropropyltrimethoxysilane were placed in a reaction vessel, and while stirring, 54 parts by mass of water and 1.8 parts by mass of formic acid exceeded 30 ° C. It was dripped so that there was no. After dripping, the obtained solution was heated at a bath temperature of 30 ° C. for 5 hours and then cooled to room temperature to obtain a silanol solution. In the obtained silanol solution, 297.9 parts by mass of a silica fine particle dispersion (isopropanol dispersion type, solid content concentration 20.5%, manufactured by Catalyst Kasei Kogyo Co., Ltd.) having cavities inside the outer shell and an aluminum curing agent, Aluminum tris (acetyl acetate) (trade name: Aluminum Chelate A (W), manufactured by Kawaken Fine Chemical Co., Ltd.), 4.8 parts by mass dissolved in 125 parts by mass of methanol, and 1600 parts by mass of isopropanol and propylene were added. 550 parts by mass of glycol monomethyl ether was added and stirred at room temperature for 2 hours to prepare paint C.
A coating film of the paint C was formed on a silicon wafer, and the refractive index determined by the above method was 1.36.
（塗料Ｄ）
メチルトリメトキシシラン ９５．２質量部、トリフルオロプロピルトリメトキシシラン ６５．４質量部をプロピレングリコールモノメチルエーテル３００質量部、イソプロパノール１００質量部に溶解した。この溶液に、水５４質量部およびギ酸１．８質量部を、撹拌しながら、反応温度が３０℃を越えないように滴下した。滴下後、得られた溶液をバス温４０℃で２時間加熱し、その後、溶液をバス温８５℃で２時間加熱し、内温を８０℃まで上げて、１．５時間加熱した後、室温まで冷却し、ポリマー溶液を得た。
得られたポリマー溶液に、アルミニウム系硬化剤として、アルミニウムトリス（アセチルアセテート）（商品名 アルミキレートＡ（Ｗ）、川研ファインケミカル（株）社製）４．８質量部をメタノール１２５質量部に溶解したものを添加し、さらにイソプロパノール １５００質量部およびプロピレングリコールモノメチルエーテル２５０質量部を添加して、室温にて２時間撹拌し、塗料Ｄを得た。
塗料Ｄの被膜をシリコンウエハー上に形成し、上記した方法で求めた屈折率は１．４１であった。
(Paint D)
95.2 parts by mass of methyltrimethoxysilane and 65.4 parts by mass of trifluoropropyltrimethoxysilane were dissolved in 300 parts by mass of propylene glycol monomethyl ether and 100 parts by mass of isopropanol. To this solution, 54 parts by mass of water and 1.8 parts by mass of formic acid were added dropwise with stirring so that the reaction temperature did not exceed 30 ° C. After the dropwise addition, the obtained solution was heated at a bath temperature of 40 ° C. for 2 hours, and then the solution was heated at a bath temperature of 85 ° C. for 2 hours, the internal temperature was raised to 80 ° C. and heated for 1.5 hours, Until the polymer solution was obtained.
In the obtained polymer solution, 4.8 parts by mass of aluminum tris (acetyl acetate) (trade name: Aluminum Chelate A (W), manufactured by Kawaken Fine Chemical Co., Ltd.) as an aluminum-based curing agent is dissolved in 125 parts by mass of methanol. Then, 1500 parts by mass of isopropanol and 250 parts by mass of propylene glycol monomethyl ether were added and stirred at room temperature for 2 hours to obtain paint D.
A coating film of the paint D was formed on a silicon wafer, and the refractive index determined by the above method was 1.41.
（塗料Ｅ）
ジアクリル酸−２，２，３，３，４，４，５，５，６，６，７，７，８，８，９，９，９−ヘプタデカフルオロノニルエチレングリコール４０質量部、ジペンタエリスリトールヘキサアクリレート１０質量部、ポリ（アクリル酸−３，３，４，４，５，５，６，６，７，７，８，８，９，９，９−ヘプタデカフルオロノニル）１０質量部、外殻の内部に空洞を有するシリカ微粒子分散液（イソプロパノール分散型、固形分濃度２０％、触媒化成工業社製）３００質量部、光重合開始剤（チバスペシャリティーケミカルズ社製“イルガキュア１８４”）２質量部、トリフルオロエタノール８４０質量部を混合し、塗料Ｅを得た。
塗料Ｅをシリコンウエハー上に塗布後紫外線を照射して被膜を形成し、上記した方法で求めた屈折率は１．３８であった。
(Paint E)
Diacrylic acid-2,2,3,3,4,4,5,5,6,6,7,7,8,8,9,9,9-heptadecafluorononylethylene glycol 40 parts by mass, dipentaerythritol 10 parts by mass of hexaacrylate, 10 parts by mass of poly (acrylic acid-3,3,4,4,5,5,6,6,7,7,8,8,9,9,9-heptadecafluorononyl), 300 parts by mass of silica fine particle dispersion having a cavity inside the outer shell (isopropanol dispersion type, solid content concentration 20%, manufactured by Catalyst Kasei Kogyo Co., Ltd.), photopolymerization initiator (“Irgacure 184” manufactured by Ciba Specialty Chemicals) 2 Part by mass and 840 parts by mass of trifluoroethanol were mixed to obtain paint E.
A coating film was formed by applying the coating material E on a silicon wafer and then irradiating with ultraviolet rays, and the refractive index determined by the above-described method was 1.38.
３．有機色素を含有する塗料の調整
（塗料−１）
近赤外線吸収色素として、日本化薬（株）製“ＫＡＹＡＳＯＲＢ ＩＲＧ−０５０”を１４．５質量部、日本触媒（株）製“イーエクスカラー ＩＲ−１０Ａ”を８質量部をメチルエチルケトン１０００質量部に攪拌混合して溶解させた。この溶液を透明高分子樹脂バインダー溶液として、日本触媒（株）製“ハルスハイブリッド ＩＲ−Ｇ２０５”（固形分濃度２９％溶液）２０００質量部と攪拌混合して塗料−１を作製した。
3. Preparation of paint containing organic pigment (Paint-1)
As a near infrared absorbing dye, 14.5 parts by mass of “KAYASORB IRG-050” manufactured by Nippon Kayaku Co., Ltd. and 8 parts by mass of “EEX Color IR-10A” manufactured by Nippon Shokubai Co., Ltd. are added to 1000 parts by mass of methyl ethyl ketone. Stir and mix to dissolve. This solution was used as a transparent polymer resin binder solution, and stirred and mixed with 2000 parts by mass of “Hals Hybrid IR-G205” (solid content concentration 29% solution) manufactured by Nippon Shokubai Co., Ltd. to prepare Paint-1.
（塗料−２）
近赤外線吸収色素として、日本化薬（株）製“ＫＡＹＡＳＯＲＢ ＩＲＧ−０５０”を１４．５質量部、日本触媒（株）製“イーエクスカラー ＩＲ−１０Ａ”を８質量部、さらに５９３ｎｍに主吸収ピークを有する有機色素として、山田化学工業（株）製“ＴＡＰ−２”を２．９質量部をメチルエチルケトン２０００質量部に攪拌混合して溶解させた。この溶液を透明高分子樹脂バインダー溶液として、日本触媒（株）製“ハルスハイブリッド ＩＲ−Ｇ２０５”（固形分濃度２９％溶液）２０００質量部と攪拌混合して塗料−２を作製した。
(Paint-2)
As a near-infrared absorbing dye, 14.5 parts by mass of “KAYASORB IRG-050” manufactured by Nippon Kayaku Co., Ltd., 8 parts by mass of “EEX Color IR-10A” manufactured by Nippon Shokubai Co., Ltd., and main absorption at 593 nm As an organic pigment having a peak, “TAP-2” manufactured by Yamada Chemical Co., Ltd. was dissolved by stirring and mixing 2,000 parts by mass with 2000 parts by mass of methyl ethyl ketone. This solution was used as a transparent polymer resin binder solution, and was stirred and mixed with 2000 parts by mass of “Hals Hybrid IR-G205” (solid content concentration 29% solution) manufactured by Nippon Shokubai Co., Ltd. to prepare Paint-2.
（塗料−３）
５９３ｎｍに主吸収ピークを有する有機色素として、山田化学工業（株）製“ＴＡＰ−２”を３．６質量部をメチルエチルケトン１０００質量部に攪拌混合して溶解させた。この溶液を透明高分子樹脂バインダー溶液として、日本触媒（株）製“ハルスハイブリッド ＩＲ−Ｇ２０５”（固形分濃度２９％溶液）２０００質量部と攪拌混合して塗料−３を作製した。
(Paint-3)
As an organic dye having a main absorption peak at 593 nm, 3.6 parts by mass of “TAP-2” manufactured by Yamada Chemical Co., Ltd. was stirred and mixed in 1000 parts by mass of methyl ethyl ketone and dissolved. This solution was used as a transparent polymer resin binder solution, and was stirred and mixed with 2000 parts by mass of “Hals Hybrid IR-G205” (solid content concentration 29% solution) manufactured by Nippon Shokubai Co., Ltd. to prepare Paint-3.
（塗料−４）
５７５ｎｍに主吸収ピークを有する有機色素として、山田化学工業（株）製“ＴＡＰ−５”を１．９質量部をメチルエチルケトン１０００質量部に攪拌混合して溶解させた。この溶液を透明高分子樹脂バインダー溶液として、日本触媒（株）製“ハルスハイブリッド ＩＲ−Ｇ２０５”（固形分濃度２９％溶液）２０００質量部と攪拌混合して塗料−４を作製した。
(Paint-4)
As an organic dye having a main absorption peak at 575 nm, “TAP-5” manufactured by Yamada Chemical Industry Co., Ltd. was dissolved by stirring and mixing 1.9 parts by mass with 1000 parts by mass of methyl ethyl ketone. This solution was used as a transparent polymer resin binder solution, and was stirred and mixed with 2000 parts by mass of “Harus Hybrid IR-G205” (solid content concentration 29% solution) manufactured by Nippon Shokubai Co., Ltd. to prepare Paint-4.
（塗料−５）
５８３ｎｍに主吸収ピークを有する有機色素として、山田化学工業（株）製“ＴＡＰ−４５”を１．２質量部をメチルエチルケトン１０００質量部に攪拌混合して溶解させた。この溶液を透明高分子樹脂バインダー溶液として、日本触媒（株）製“ハルスハイブリッド ＩＲ−Ｇ２０５”（固形分濃度２９％溶液）２０００質量部と攪拌混合して塗料−５を作製した。
(Paint-5)
As an organic dye having a main absorption peak at 583 nm, 1.2 parts by weight of “TAP-45” manufactured by Yamada Chemical Co., Ltd. was stirred and mixed in 1000 parts by weight of methyl ethyl ketone and dissolved. This solution was used as a transparent polymer resin binder solution, and was stirred and mixed with 2000 parts by mass of “Hals Hybrid IR-G205” (solid content concentration 29% solution) manufactured by Nippon Shokubai Co., Ltd. to prepare Paint-5.
［実施例１］
光学用ポリエステルフィルム（東レ製“ルミラー”Ｕ４６、厚み１００μｍ）を用い、易接着面に市販のハードコート剤（ＪＳＲ製“デソライト”Ｚ７５２８）をイソプロピルアルコールで固形分濃度３０％に希釈した塗料を、マイクログラビアコーターで塗工し、８０℃で１分間乾燥後、紫外線１．０Ｊ／ｃｍ２を照射して硬化させ、厚み５μｍのハードコート層を設けた。基材フィルムの屈折率が１．６５、易接着層の屈折率が１．５８、ハードコート層の屈折率が１．５２であり、（易接着層の屈折率）＝｛（基材フィルムの屈折率）×（ハードコート層の屈折率）｝１／２±０．０２を満たし、干渉縞の少ないものであった。またハードコート層の鉛筆硬度は２Ｈであった。
[Example 1]
Using a polyester film for optics ("Lumirror" U46 manufactured by Toray, thickness of 100 μm), a commercially available hard coat agent ("Desolite" Z7528 manufactured by JSR) diluted with isopropyl alcohol to a solid content concentration of 30% on an easily adhesive surface, After coating with a micro gravure coater and drying at 80 ° C. for 1 minute, it was cured by irradiation with ultraviolet light 1.0 J / cm 2 to provide a hard coat layer having a thickness of 5 μm. The refractive index of the base film is 1.65, the refractive index of the easy adhesion layer is 1.58, the refractive index of the hard coat layer is 1.52, and (refractive index of the easy adhesion layer) = {(of the base film Refractive index) × (refractive index of hard coat layer)} 1/2 ± 0.02 was satisfied, and there were few interference fringes. The pencil hardness of the hard coat layer was 2H.
次に、上記ハードコート層形成面に、市販の高屈折率・帯電防止塗料（ＪＳＲ製“オプスター”ＴＵ４００５）をイソプロピルアルコールで固形分濃度８％に希釈後、マイクログラビアコーターで塗布し、１２０℃で１分間乾燥後、紫外線１．０Ｊ／ｃｍ２を照射して硬化させ、ハードコート層上に屈折率が１．６５、厚みが１３５ｎｍの高屈折率層を形成した。 Next, a commercially available high refractive index / antistatic coating (JSR “OPSTAR” TU4005) is diluted with isopropyl alcohol to a solid content concentration of 8% on the hard coat layer forming surface, and coated with a micro gravure coater at 120 ° C. And dried for 1 minute, and then cured by irradiating with 1.0 J / cm 2 of ultraviolet rays to form a high refractive index layer having a refractive index of 1.65 and a thickness of 135 nm on the hard coat layer.
次に、上記高屈折率層形成面に、低屈折率層として、上記した低屈折率塗料Ａをマイクログラビアコーターで塗布した。次いで１３０℃で１分間、乾燥および硬化させ、高屈折率層上に屈折率１．３６、厚み９０ｎｍの低屈折率層を形成した。 Next, the above-described low refractive index paint A was applied to the high refractive index layer forming surface as a low refractive index layer with a micro gravure coater. Subsequently, it was dried and cured at 130 ° C. for 1 minute to form a low refractive index layer having a refractive index of 1.36 and a thickness of 90 nm on the high refractive index layer.
作製した反射防止フィルムの特性を表１，２および図３に示す。最低反射率は０．２％と低く、かつ、最高反射率も１．５％であって最高反射率と最低反射率との差も１．３％であり、最低反射率が低く、フラットな反射スペクトルで色目がニュートラルな反射特性が得られた。また、耐擦傷性も４級と実用レベルにある。 The properties of the produced antireflection film are shown in Tables 1 and 2 and FIG. The minimum reflectance is as low as 0.2%, the maximum reflectance is also 1.5%, and the difference between the maximum reflectance and the minimum reflectance is also 1.3%. Reflection characteristics with neutral color in the reflection spectrum were obtained. In addition, the scratch resistance is at a practical level of 4th grade.
［実施例２〜８］
高屈折率層の厚さおよび低屈折率層の厚さを表１に示す厚さに変更する以外は、実施例１と同様にして、反射防止フィルムを作製した。
[Examples 2 to 8]
An antireflection film was produced in the same manner as in Example 1 except that the thickness of the high refractive index layer and the thickness of the low refractive index layer were changed to those shown in Table 1.
作製した反射防止フィルムの特性を表１，２に示す。高屈折率層の厚みと低屈折率層の厚みの比ｄＨ／ｄＬは低くなるほど、また、高屈折率層の厚みおよび低屈折率層の厚みが薄くなるに従い、最低反射率がより低くなるものの、最高反射率が高くなり、最高反射率と最低反射率との差が大きくなるが、この範囲では最低反射率が０．６％以下と良好であり、また、最高反射率および反射率差も２．５％以下とフラットな反射スペクトルで色目がニュートラルな反射特性が得られた。また、耐擦傷性も４級と実用レベルにある。 The characteristics of the produced antireflection film are shown in Tables 1 and 2. As the ratio d H / d L between the thickness of the high refractive index layer and the thickness of the low refractive index layer is decreased, and the thickness of the high refractive index layer and the thickness of the low refractive index layer is decreased, the minimum reflectance becomes lower. However, the maximum reflectivity increases, and the difference between the maximum reflectivity and the minimum reflectivity increases, but in this range the minimum reflectivity is 0.6% or less, and the maximum reflectivity and reflectivity are also high. The difference was 2.5% or less, and a flat reflection spectrum and neutral reflection characteristics were obtained. In addition, the scratch resistance is at a practical level of 4th grade.
［実施例９］
低屈折率塗料を塗料Ａから塗料Ｂに変更する以外は、実施例２と同様にして、反射防止フィルムを作製した。作製した反射防止フィルムの特性を表１，２に示す。最低反射率は０．１％と低く、かつ、最高反射率も１．６％であって、フラットな反射スペクトルで色目がニュートラルな反射特性が得られた。ただし、耐擦傷性は３級と実施例２に比べやや劣るものであった。
[Example 9]
An antireflection film was produced in the same manner as in Example 2 except that the low refractive index paint was changed from the paint A to the paint B. The characteristics of the produced antireflection film are shown in Tables 1 and 2. The lowest reflectance was as low as 0.1%, and the highest reflectance was 1.6%. A reflection characteristic with a neutral color in a flat reflection spectrum was obtained. However, the scratch resistance was slightly inferior to that of Example 3 and Example 2.
［実施例１０］
低屈折率塗料を塗料Ａから塗料Ｃに変更する以外は、実施例２と同様にして、反射防止フィルムを作製した。作製した反射防止フィルムの特性を表１，２に示す。実施例２と同じく、最低反射率が低く、フラットな反射スペクトルで、色目がニュートラルな反射特性が得られた。ただし、耐擦傷性は１〜２級と低く不十分であった。低屈折率層に用いた内部に空洞を有するシリカ微粒子とマトリクスであるシロキサン化合物との結合が弱いためと考えられる。
[Example 10]
An antireflection film was produced in the same manner as in Example 2 except that the low refractive index paint was changed from the paint A to the paint C. The characteristics of the produced antireflection film are shown in Tables 1 and 2. As in Example 2, a reflection characteristic having a low minimum reflectance, a flat reflection spectrum, and neutral color was obtained. However, the scratch resistance was as low as 1 to 2 and was insufficient. This is presumably because the bond between the silica fine particles having cavities inside the low refractive index layer and the siloxane compound as the matrix is weak.
［実施例１１］
低屈折率塗料を塗料Ａから塗料Ｄに変更する以外は、実施例１と同様にして、反射防止フィルムを作製した。作製した反射防止フィルムの特性を表１，２に示す。フラットな反射スペクトルで、色目がニュートラルな反射特性が得られたものの、最低反射率が０．６％を越え、反射防止性能が不十分であった。また、耐擦傷性も１級と低く不十分であった。
[Example 11]
An antireflection film was produced in the same manner as in Example 1 except that the low refractive index paint was changed from the paint A to the paint D. The characteristics of the produced antireflection film are shown in Tables 1 and 2. Although a flat reflection spectrum and neutral reflection characteristics were obtained, the minimum reflectance exceeded 0.6%, and the antireflection performance was insufficient. Further, the scratch resistance was as low as first grade and was insufficient.
［実施例１２］
基材フィルムに両面に異種の易接着層を有する光学用ポリエステルフィルム（東レ製“ルミラー”ＱＴ７７、厚み１００μｍ）を用いる以外は実施例１と同様にして反射防止フィルムを作製した。作製した反射防止フィルムの特性を表１，２に示す。基材フィルムの反射防止層形成面と反対面の易接着層が異なるため、その影響により最低反射率が実施例１より僅かに高くなったが、実施例１と同じく、最低反射率が低く、フラットな反射スペクトルで色目がニュートラルな反射特性が得られた。また、耐擦傷性も４級と実用レベルにある。
[Example 12]
An antireflection film was produced in the same manner as in Example 1 except that an optical polyester film (Toray “Lumirror” QT77, thickness 100 μm) having different easily adhesive layers on both sides was used as the base film. The characteristics of the produced antireflection film are shown in Tables 1 and 2. Since the easy-adhesion layer on the opposite side of the antireflection layer-forming surface of the base film is different, the minimum reflectance is slightly higher than in Example 1 due to its influence, but as in Example 1, the minimum reflectance is low, Reflective properties with a flat reflection spectrum and neutral color are obtained. In addition, the scratch resistance is at a practical level of 4th grade.
［実施例１３］
実施例１において、高屈折率層形成面に、低屈折率層として上記した低屈折率塗料Ｅをマイクログラビアコーターで塗布し、１２０℃で１分間乾燥後、紫外線１．０Ｊ／ｃｍ２を照射して硬化させ、屈折率１．３８、厚み９０ｎｍの低屈折率層を形成した。作製した反射防止フィルムの特性を表１，２に示す。最低反射率は０．３％と低く、かつ、最高反射率も１．７％であって最高反射率と最低反射率との差も１．４％であり、最低反射率が低く、フラットな反射スペクトルで色目がニュートラルな反射特性が得られた。ただし、耐擦傷性は３級と実施例１に比べやや劣るものであった。
[Example 13]
In Example 1, the low refractive index coating E described above as a low refractive index layer was applied to the high refractive index layer forming surface with a micro gravure coater, dried at 120 ° C. for 1 minute, and then irradiated with ultraviolet rays 1.0 J / cm 2 . And cured to form a low refractive index layer having a refractive index of 1.38 and a thickness of 90 nm. The characteristics of the produced antireflection film are shown in Tables 1 and 2. The minimum reflectivity is as low as 0.3%, and the maximum reflectivity is 1.7%, and the difference between the maximum reflectivity and the minimum reflectivity is 1.4%, and the minimum reflectivity is low and flat. Reflection characteristics with neutral color in the reflection spectrum were obtained. However, the scratch resistance was
［比較例１］
高屈折率層の厚みを９１ｎｍに、低屈折率層の厚みを１１０ｎｍに変更する以外は実施例１と同様にして反射防止フィルムを作製した。作製した反射防止フィルムの特性を表１，２および図３に示す。最低反射率は０．２％と低いものの、最高反射率が３．８％と高く、いわゆるＶ型の反射スペクトルとなり、特に青みのギラツキ感のある色目のフィルムであった。
[Comparative Example 1]
An antireflection film was produced in the same manner as in Example 1 except that the thickness of the high refractive index layer was changed to 91 nm and the thickness of the low refractive index layer was changed to 110 nm. The properties of the produced antireflection film are shown in Tables 1 and 2 and FIG. Although the minimum reflectivity was as low as 0.2%, the maximum reflectivity was as high as 3.8%, resulting in a so-called V-shaped reflection spectrum, which was a film with a particularly blue-ish glare.
［比較例２］
高屈折率層の厚みを１６０ｎｍに、低屈折率層の厚みを８０ｎｍに変更する以外は実施例１と同様にして反射防止フィルムを作製した。作製した反射防止フィルムの特性を表１，２に示す。最高反射率と最低反射率との差が０．６％と非常にフラットな反射スペクトルとなったが、最低反射率が０．８％と高く、反射防止性能が不十分であった。
[Comparative Example 2]
An antireflection film was produced in the same manner as in Example 1 except that the thickness of the high refractive index layer was changed to 160 nm and the thickness of the low refractive index layer was changed to 80 nm. The characteristics of the produced antireflection film are shown in Tables 1 and 2. The difference between the maximum reflectance and the minimum reflectance was 0.6%, which was a very flat reflection spectrum, but the minimum reflectance was as high as 0.8%, and the antireflection performance was insufficient.
［実施例１４］
実施例１２にて作製した反射防止フィルムの反射防止面に、保護フィルムとしてサンエー科研製“サニテクト”（厚み５０μｍ）を貼り合わせた後、反射防止層と反対側の基材フィルム面に、ダイコーターを用いて有機色素を含有する塗料−１を塗工し、１２０℃で乾燥して、厚み１０μｍの樹脂層を形成し、反射防止フィルムを作製した。作製した反射防止フィルムの透過率を表３に示す。近赤外線吸収色素により十分な近赤外線遮蔽性能を有し、全光線透過率も７６．１％と十分高いものであった。
[Example 14]
After attaching “Sanitekt” (thickness 50 μm) manufactured by Sanei Kaken as a protective film to the antireflection surface of the antireflection film produced in Example 12, the die coater was applied to the base film surface opposite to the antireflection layer. The coating material-1 containing an organic pigment | dye was applied using, and it dried at 120 degreeC, the 10-micrometer-thick resin layer was formed, and the antireflection film was produced. Table 3 shows the transmittance of the produced antireflection film. The near-infrared absorbing dye had sufficient near-infrared shielding performance, and the total light transmittance was sufficiently high at 76.1%.
［実施例１５］
有機色素を含有する塗料を塗料−２に変更する以外は、実施例１４と同様にして反射防止フィルムを作製した。作製した反射防止フィルムの透過率を表３に示す。近赤外線吸収色素により十分な近赤外線遮蔽性能を有し、また、５９３ｎｍに主吸収ピークを有する波長選択吸収色素により非有効波長であるオレンジ光の十分な遮蔽能を有し、さらに全光線透過率も６０．２％と十分高いものであった。
[Example 15]
An antireflection film was produced in the same manner as in Example 14 except that the paint containing the organic dye was changed to Paint-2. Table 3 shows the transmittance of the produced antireflection film. The near-infrared absorbing dye has sufficient near-infrared shielding performance, and the wavelength-selective absorbing dye having a main absorption peak at 593 nm has sufficient shielding ability for orange light which is an ineffective wavelength, and further has a total light transmittance. Was also sufficiently high at 60.2%.
［実施例１６］
有機色素を含有する塗料を塗料−３に変更する以外は、実施例１４と同様にして反射防止フィルムを作製した。作製した反射防止フィルムの透過率を表３に示す。５９３ｎｍに主吸収ピークを有する波長選択吸収色素により非有効波長であるオレンジ光の十分な遮蔽能を有し、さらに全光線透過率も７０．２％と十分高いものであった。
[Example 16]
An antireflection film was produced in the same manner as in Example 14 except that the paint containing the organic dye was changed to Paint-3. Table 3 shows the transmittance of the produced antireflection film. The wavelength selective absorption dye having a main absorption peak at 593 nm has a sufficient shielding ability for orange light which is an ineffective wavelength, and the total light transmittance is also sufficiently high at 70.2%.
［実施例１７］
有機色素を含有する塗料を塗料−４に変更する以外は、実施例１４と同様にして反射防止フィルムを作製した。作製した反射防止フィルムの透過率を表３に示す。５７５ｎｍに主吸収ピークを有する波長選択吸収色素により非有効波長であるイエロー光の十分な遮蔽能を有し、さらに全光線透過率も８１．１％と十分高いものであった。
[Example 17]
An antireflection film was produced in the same manner as in Example 14 except that the paint containing the organic dye was changed to Paint-4. Table 3 shows the transmittance of the produced antireflection film. The wavelength selective absorption dye having a main absorption peak at 575 nm has a sufficient shielding ability for yellow light, which is an ineffective wavelength, and the total light transmittance is sufficiently high at 81.1%.
［実施例１８〜１９］
実施例１７において、有機色素を含有する樹脂層の厚みを表３のとおり変更して反射防止フィルムを作製した。作製した反射防止フィルムの透過率を表３に示す。５７５ｎｍに主吸収ピークを有する波長選択吸収色素により非有効波長であるイエロー光の十分な遮蔽能を有し、さらに全光線透過率も十分高いものであった。
[Examples 18 to 19]
In Example 17, the thickness of the resin layer containing an organic dye was changed as shown in Table 3 to prepare an antireflection film. Table 3 shows the transmittance of the produced antireflection film. The wavelength selective absorption dye having a main absorption peak at 575 nm has a sufficient shielding ability for yellow light which is an ineffective wavelength, and the total light transmittance is sufficiently high.
［実施例２０］
有機色素を含有する塗料を塗料−５に変更する以外は、実施例１４と同様にして反射防止フィルムを作製した。作製した反射防止フィルムの透過率を表３に示す。５８３ｎｍに半値幅の狭いシャープな主吸収ピークを有する波長選択吸収色素により非有効波長であるイエロー光の十分な遮蔽能を有し、さらに全光線透過率も８３．８％と十分高いものであった。
[Example 20]
An antireflection film was produced in the same manner as in Example 14 except that the paint containing the organic dye was changed to Paint-5. Table 3 shows the transmittance of the produced antireflection film. The wavelength selective absorption dye having a sharp main absorption peak with a narrow half-value width at 583 nm has a sufficient shielding ability for yellow light which is an ineffective wavelength, and the total light transmittance is sufficiently high at 83.8%. It was.
［実施例２１］
屈曲２層タイプのカーボンナノチューブ（東レ製“ＴＯＣＡＮＡ Ｓ１”）１質量部とポリビニルピロリドン１質量部、イソプロピルアルコール１６００質量部からなる帯電防止塗料を光学用ポリエステルフィルム（東レ製“ルミラー”Ｕ３４、厚み１８８μｍ）の一方の面にマイクログラビアコーターにより塗布し、その後１００℃で１分間乾燥し、帯電防止層の平均厚みが５ｎｍで、カーボンナノチューブの含有量が３ｍｇ／ｍ２の帯電防止層を形成した。このフィルムの表面抵抗率は２×１０７Ω／□であり、帯電防止層の全光線透過率は９６％、ヘイズは０．３％であった。さらに、帯電防止層上に、アクリル系粘着剤（綜研化学社製“ＳＫダイン１８１１Ｌ”）を２５μｍの厚みで形成した離型フィルムと貼り合わせた。
[Example 21]
Antistatic paint consisting of 1 part by mass of bent-walled carbon nanotube (Toray “TOCANA S1”), 1 part by mass of polyvinylpyrrolidone and 1600 parts by mass of isopropyl alcohol is applied to an optical polyester film (“Lumirror” U34, Toray, thickness 188 μm). ) Was applied with a microgravure coater and then dried at 100 ° C. for 1 minute to form an antistatic layer having an average antistatic layer thickness of 5 nm and a carbon nanotube content of 3 mg / m 2 . The surface resistivity of this film was 2 × 10 7 Ω / □, the total light transmittance of the antistatic layer was 96%, and the haze was 0.3%. Furthermore, on the antistatic layer, an acrylic adhesive (“SK Dyne 1811L” manufactured by Soken Chemical Co., Ltd.) was bonded to a release film formed with a thickness of 25 μm.
次に、実施例２０で作製したフィルムの有機色素を含有する樹脂層の上にもアクリル系粘着剤（綜研化学社製“ＳＫダイン１８１１Ｌ”）を２５μｍの厚みで形成し、その後、前記帯電防止フィルムの基材フィルム側とラミネートした。 Next, an acrylic pressure-sensitive adhesive (“SK Dyne 1811L” manufactured by Soken Chemical Co., Ltd.) is formed to a thickness of 25 μm on the resin layer containing the organic pigment of the film produced in Example 20, and then the antistatic Laminated with the base film side of the film.
この積層フィルムをガラス板に積層し、上記した方法で５゜絶対反射スペクトルを測定し、それより求めた視感正反射率は０．７９％であり、反射防止性能に優れた光学フィルターが得られた。 This laminated film is laminated on a glass plate, and the 5 ° absolute reflection spectrum is measured by the method described above. The luminous regular reflectance obtained from the measurement is 0.79%, and an optical filter excellent in antireflection performance is obtained. It was.
本発明の反射防止フィルムは、表面反射率が低く、かつよりフラットな反射スペクトルであることから色目がニュートラルである。また本発明のより好ましい態様の反射防止フィルムは表面の耐擦傷性に優れたものであるので、画像表示装置の表示面に好適に用いられる。さらに、近赤外線遮蔽機能、および／または５５０〜６１０ｎｍの範囲にある画像表示装置にとって非有効波長の光を遮蔽して色調補正機能を複合化することにより、本発明の反射防止フィルムと電磁波遮蔽フィルム、帯電防止フィルム、防眩性フィルム、ガスバリア性フィルムなどの他の機能性フィルムと貼り合わさすことで、ブラウン管（ＣＲＴ）やプラズマディスプレイパネル（ＰＤＰ）、表面電解ディスプレイ（ＳＥＤ）などの画像表示装置の光学フィルターを安価に提供することができ、粘着層または接着剤層を介して、画像表示面および／またはその前面板の表面に貼着して画像表示装置に好適に用いられる。 Since the antireflection film of the present invention has a low surface reflectance and a flatter reflection spectrum, the color is neutral. Moreover, since the antireflection film of a more preferred embodiment of the present invention has excellent surface scratch resistance, it is suitably used for the display surface of an image display device. Further, the anti-reflection film and the electromagnetic wave shielding film of the present invention are combined with a near-infrared shielding function and / or a color tone correction function by shielding light having an ineffective wavelength for an image display device in the range of 550 to 610 nm. , Image display devices such as cathode ray tube (CRT), plasma display panel (PDP), surface electrolysis display (SED), etc. by bonding with other functional films such as antistatic film, antiglare film, and gas barrier film The optical filter can be provided at low cost, and is suitably used for an image display device by being attached to the surface of the image display surface and / or its front plate via an adhesive layer or an adhesive layer.
１ 保護フィルム（ｆ）
２ 低屈折率層（ｅ）
３ 高屈折率層（ｄ）
４ ハードコート層（ｂ）
５ 基材フィルム（ａ）
６ 有機色素を含有する樹脂層（ｇ）
７ 粘着層（ｈ）
８ 離型フィルム（ｉ）
９ 反射防止層（ｃ）
１０ 基材フィルム
１１ 帯電防止層
１２ 粘着層
１３ パネル
1 Protective film (f)
2 Low refractive index layer (e)
3 High refractive index layer (d)
4 Hard coat layer (b)
5 Base film (a)
6 Resin layer containing organic dye (g)
7 Adhesive layer (h)
8 Release film (i)
9 Antireflection layer (c)
DESCRIPTION OF
Claims (13)
Ｒ１Ｓｉ（ＯＲ６）３ （１）
（Ｒ１はフッ素が３から１７のフルオロアルキル基を表わす。Ｒ６はメチル基、エチル基、プロピル基、イソプロピル基またはアセチル基を表わし、それぞれ、同一でも、異なっていても良い。）
Ｒ２Ｓｉ（ＯＲ７）３ （２）
（Ｒ２はビニル基、アリル基、アルケニル基、アクリル基、メタクリル基、メタクリルオキシ基、シアノ基、エポキシ基、グリシドキシ基、アミノ基、およびそれらの置換体から選ばれた基を表す。Ｒ７はメチル基、エチル基、プロピル基、イソプロピル基、メトキシエチル基、またはアセチル基を表わし、それぞれ、同一でも、異なっていても良い。）
Ｒ３Ｓｉ（ＯＲ８）３ （３）
（Ｒ３は水素、アルキル基、アリール基、およびそれらの置換体から選ばれた基を表す。Ｒ８はメチル基、エチル基、プロピル基またはブチル基を表わし、それぞれ、同一でも、異なっていても良い。）
Ｒ４Ｒ５Ｓｉ（ＯＲ９）２ （４）
（Ｒ４およびＲ５は、それぞれ水素、アルキル基、フルオロアルキル基、アリール基、アルケニル基、メタクリルオキシ基、エポキシ基、グリシドキシ基、アミノ基、およびそれらの置換体から選ばれた基を表わし、それぞれ、同一でも、異なっていても良い。Ｒ９はメチル基、エチル基、プロピル基、イソプロピル基またはアセチル基を表わし、それぞれ、同一でも、異なっていても良い。）
Ｓｉ（ＯＲ１０）４ （５）
（Ｒ１０はメチル基またはエチル基を表わし、それぞれ、同一でも、異なっていても良い。） The antireflection film according to claim 4, wherein the siloxane compound is a hydrolyzate and / or condensate of one or more silane compounds selected from the following general formulas (1) to (5).
R 1 Si (OR 6 ) 3 (1)
(R 1 represents a fluoroalkyl group having 3 to 17 fluorine atoms. R 6 represents a methyl group, an ethyl group, a propyl group, an isopropyl group, or an acetyl group, which may be the same or different.)
R 2 Si (OR 7 ) 3 (2)
(R 2 represents a group selected from vinyl group, allyl group, alkenyl group, acrylic group, methacryl group, methacryloxy group, cyano group, epoxy group, glycidoxy group, amino group, and substituted products thereof. R 7 Represents a methyl group, an ethyl group, a propyl group, an isopropyl group, a methoxyethyl group, or an acetyl group, which may be the same or different.
R 3 Si (OR 8 ) 3 (3)
(R 3 represents a group selected from hydrogen, an alkyl group, an aryl group, and a substituent thereof. R 8 represents a methyl group, an ethyl group, a propyl group, or a butyl group, and each is the same or different. Is also good.)
R 4 R 5 Si (OR 9 ) 2 (4)
(R 4 and R 5 each represents a group selected from hydrogen, an alkyl group, a fluoroalkyl group, an aryl group, an alkenyl group, a methacryloxy group, an epoxy group, a glycidoxy group, an amino group, and a substituent thereof. Each may be the same or different, and R 9 represents a methyl group, an ethyl group, a propyl group, an isopropyl group, or an acetyl group, and each may be the same or different.)
Si (OR 10 ) 4 (5)
(R 10 represents a methyl group or an ethyl group, and may be the same or different.)
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP2006278433A JP2007133386A (en) | 2005-10-13 | 2006-10-12 | Antireflection film and optical filter provided therewith |
Applications Claiming Priority (2)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP2005298482 | 2005-10-13 | ||
| JP2006278433A JP2007133386A (en) | 2005-10-13 | 2006-10-12 | Antireflection film and optical filter provided therewith |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JP2007133386A true JP2007133386A (en) | 2007-05-31 |
Family
ID=38155050
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP2006278433A Pending JP2007133386A (en) | 2005-10-13 | 2006-10-12 | Antireflection film and optical filter provided therewith |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JP2007133386A (en) |
Cited By (13)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP2008304672A (en) * | 2007-06-07 | 2008-12-18 | Toray Advanced Film Co Ltd | Surface protective film |
| JP2009244623A (en) * | 2008-03-31 | 2009-10-22 | Nof Corp | Reflection reducing material and electronic image display device equipped with the same |
| JP2010054635A (en) * | 2008-08-26 | 2010-03-11 | Panasonic Electric Works Co Ltd | Antireflection film |
| JP2011084067A (en) * | 2009-10-19 | 2011-04-28 | Lg Innotek Co Ltd | Optical film and method for manufacturing the same |
| JP2011102977A (en) * | 2009-10-16 | 2011-05-26 | Dainippon Printing Co Ltd | Optical film and display panel |
| JP2012088652A (en) * | 2010-10-22 | 2012-05-10 | Nof Corp | Film for 3d display |
| WO2014042129A1 (en) * | 2012-09-14 | 2014-03-20 | 旭硝子株式会社 | Product having low-reflection film |
| JP2014134573A (en) * | 2013-01-08 | 2014-07-24 | Nof Corp | Antireflection film |
| WO2014115793A1 (en) * | 2013-01-26 | 2014-07-31 | 株式会社 ジャパンナノコート | Dispersion liquid for formation of high-refractive-index thin film |
| JP2014232279A (en) * | 2013-05-30 | 2014-12-11 | 凸版印刷株式会社 | Antireflection film |
| JP2015537249A (en) * | 2012-11-21 | 2015-12-24 | エルジー・ハウシス・リミテッドＬｇ Ｈａｕｓｙｓ，Ｌｔｄ． | Anti-reflective film with excellent optical properties including hard coating layer |
| JP2020008860A (en) * | 2018-07-09 | 2020-01-16 | エスケイシー・カンパニー・リミテッドＳｋｃ Ｃｏ．， Ｌｔｄ． | Optical multilayer film, optical component having the same, and display device |
| JP2021009244A (en) * | 2019-07-02 | 2021-01-28 | 株式会社トッパンＴｏｍｏｅｇａｗａオプティカルフィルム | Display device |
-
2006
- 2006-10-12 JP JP2006278433A patent/JP2007133386A/en active Pending
Cited By (14)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP2008304672A (en) * | 2007-06-07 | 2008-12-18 | Toray Advanced Film Co Ltd | Surface protective film |
| JP2009244623A (en) * | 2008-03-31 | 2009-10-22 | Nof Corp | Reflection reducing material and electronic image display device equipped with the same |
| JP2010054635A (en) * | 2008-08-26 | 2010-03-11 | Panasonic Electric Works Co Ltd | Antireflection film |
| JP2011102977A (en) * | 2009-10-16 | 2011-05-26 | Dainippon Printing Co Ltd | Optical film and display panel |
| US8727577B2 (en) | 2009-10-19 | 2014-05-20 | Lg Innotek Co., Ltd. | Optical film and lighting device |
| JP2011084067A (en) * | 2009-10-19 | 2011-04-28 | Lg Innotek Co Ltd | Optical film and method for manufacturing the same |
| JP2012088652A (en) * | 2010-10-22 | 2012-05-10 | Nof Corp | Film for 3d display |
| WO2014042129A1 (en) * | 2012-09-14 | 2014-03-20 | 旭硝子株式会社 | Product having low-reflection film |
| JP2015537249A (en) * | 2012-11-21 | 2015-12-24 | エルジー・ハウシス・リミテッドＬｇ Ｈａｕｓｙｓ，Ｌｔｄ． | Anti-reflective film with excellent optical properties including hard coating layer |
| JP2014134573A (en) * | 2013-01-08 | 2014-07-24 | Nof Corp | Antireflection film |
| WO2014115793A1 (en) * | 2013-01-26 | 2014-07-31 | 株式会社 ジャパンナノコート | Dispersion liquid for formation of high-refractive-index thin film |
| JP2014232279A (en) * | 2013-05-30 | 2014-12-11 | 凸版印刷株式会社 | Antireflection film |
| JP2020008860A (en) * | 2018-07-09 | 2020-01-16 | エスケイシー・カンパニー・リミテッドＳｋｃ Ｃｏ．， Ｌｔｄ． | Optical multilayer film, optical component having the same, and display device |
| JP2021009244A (en) * | 2019-07-02 | 2021-01-28 | 株式会社トッパンＴｏｍｏｅｇａｗａオプティカルフィルム | Display device |
Similar Documents
| Publication | Publication Date | Title |
|---|---|---|
| JP2007133386A (en) | Antireflection film and optical filter provided therewith | |
| JP5064649B2 (en) | Anti-reflection laminate | |
| JP5558414B2 (en) | Method for manufacturing antireflection laminate | |
| TWI465532B (en) | Coating material for forming transparent coating film and a substrate with a transparent coating film | |
| US20070266896A1 (en) | Siloxane-Based Coating Material, Optical Article, and Production Method of Siloxane-Based Coating Material | |
| JP4187454B2 (en) | Antireflection film | |
| JP2008083682A (en) | Optical filter for flat panel display | |
| JP4404336B2 (en) | Anti-reflection laminate | |
| JP2008012834A (en) | Optical film | |
| JP2007182511A (en) | Coating material, method for producing the same and optical article | |
| JP2009198863A (en) | Antireflection film and image display apparatus | |
| JP2000117902A (en) | Sheet or film | |
| JP2008158023A (en) | Filter for plasma display | |
| JP2010134002A (en) | Filter for display | |
| JP2008019358A (en) | Coating material for forming transparent film, and base material with transparent film | |
| WO2016152691A1 (en) | Antireflection film, display device in which said antireflection film is used, and method for selecting antireflection film | |
| JP2006272588A (en) | Reflection preventing film and image display | |
| JP4857496B2 (en) | Composite, coating composition, coating film thereof, antireflection film, antireflection film, and image display device | |
| JP2010109231A (en) | Display filter | |
| JP2009115882A (en) | Filter for plasma display panel | |
| JP2008116597A (en) | Antireflection film | |
| JPWO2003005069A1 (en) | Antireflection film and method for producing the same | |
| JP2006201650A (en) | Reflection preventive film and image display device | |
| JP2007086521A (en) | Antireflection laminate | |
| KR20070022311A (en) | Siloxane coating material, optical articles and process for the production of siloxane coating materials |