JP2007116033A - 洗浄装置及びこれを備えた基板処理装置 - Google Patents

Abstract

【課題】装置の清浄化を容易に、かつ短時間で行うことができる。
【解決手段】処理液配管による処理液の供給を遮断し、供給部５を注入部に連通接続した状態で、開閉弁３９を開放すると、洗浄液タンク３内の洗浄液が供給部５から処理液配管に供給されるので、注入部よりも下流にある接液部材を洗浄液で洗浄できる。したがって、基板処理装置を分解することなく洗浄装置１により接液部材の汚染を解消することができるので、洗浄を容易にかつ短時間で行うことができる。しかも、通常の処理では純水しか流通させられない箇所であっても注入部より下流には洗浄液を流通させることができるので、清浄度高く洗浄が可能となる。
【選択図】図３

Description

本発明は、半導体ウエハや液晶表示装置用のガラス基板（以下、単に基板と称する）等の基板を処理部にて処理する基板処理装置の洗浄を行う洗浄装置及びこれを備えた基板処理装置に関する。

従来、この種の基板処理装置として、複数個の処理槽が直線的に配設され、薬液を含む処理液や、純水を含む処理液または純水だけを含む処理液などの各種処理液を処理液配管を通して各処理槽に供給し、各処理槽に順次に基板を浸漬させて基板に対する処理を行うものがある（例えば、特許文献１参照）。

このような基板処理装置では、装置の組み立て時に配管や処理槽などの接液部材が汚染されると、処理された基板が汚染されて電気的特性などに欠陥が生じ、製品の歩留まりが低下する。そこで、実際に製品を処理する前に、各処理で使用する処理液を基板処理装置に流通させることで各接液部材を清浄化している。
特開２００４−１８６３３１号公報

しかしながら、このような構成を有する従来例の場合には、次のような問題がある。
すなわち、薬液を含む処理液に接液する部材は、薬液によりある程度の洗浄が行われることから悪影響が小さい一方、基板を純水洗浄する際にのみ接液する部材は、純水だけにしか接液しない。したがって、そのような接液部材が汚染されていると、基板を純水洗浄で清浄化するどころか、かえって汚染することになってしまい悪影響が大きい。しかも、通常の処理で純水だけしか流通させない箇所には、簡単には薬液を含む処理液を流通させることができないので、容易に清浄化を図れない問題がある。

そこで、納入した装置のうち純水にしか接液しない部分を清浄化するためには、装置を分解して薬液で洗浄する必要があるが、これは非常に手間がかかることから分解洗浄を行うことは非現実的であり行われていない。

本発明は、このような事情に鑑みてなされたものであって、装置の清浄化を容易に、かつ短時間で行うことができる洗浄装置及びこれを備えた基板処理装置を提供することを目的とする。

本発明は、このような目的を達成するために、次のような構成をとる。
すなわち、請求項1に記載の発明は、処理部にて基板を処理する基板処理装置の洗浄を行う洗浄装置において、洗浄液を貯留する洗浄液タンクと、前記処理部に処理液を供給するための処理液配管の一部位に配設され、前記処理液配管に連通接続された注入部に連通接続される供給部と、前記洗浄液タンク内の洗浄液を前記供給部に供給するための供給手段と、前記洗浄液タンクと前記供給手段とを収納する筐体とを備え、前記処理液配管から前記処理部への処理液の供給を遮断し、前記供給部を前記注入部に連通接続した状態で前記供給手段を作動させ、前記注入部より下流を洗浄液で洗浄することを特徴とするものである。

［作用・効果］請求項1に記載の発明によれば、処理液配管から処理部への処理液の供給を遮断し、供給部を注入部に連通接続した状態で、供給手段を作動させると、洗浄液タンク内の洗浄液が供給部から処理液配管に供給されるので、注入部よりも下流にある接液部材を洗浄液で洗浄することができる。したがって、基板処理装置を分解することなく洗浄装置により接液部材の汚染を解消することができるので、洗浄を容易にかつ短時間で行うことができる。しかも、通常の処理では純水しか流通させられない箇所にも洗浄液を流通させることができるので、清浄度高く洗浄が可能となる。

また、本発明において、純水を前記洗浄液タンク内に供給するための純水取り込み部（請求項２）をさらに備えたり、洗浄液タンクが、洗浄液を構成する薬液を投入するための投入部（請求項３）をさらに備えたりしていることが好ましい。純水取り込み部から純水を洗浄液タンクに供給することで、洗浄液タンク内の洗浄液濃度を調整し、洗浄に好適な洗浄液を効率的に生成できる。また、投入部から薬液を投入する構成とすることにより、簡単に洗浄液を生成することができる。

また、本発明において、筐体は、内部の気体を排出するための排気口をさらに備えていることが好ましい（請求項４）。洗浄液タンク内に投入した洗浄液の雰囲気を、排気口を通して排気することにより、雰囲気が周囲に漏れ出すことを防止することができる。

また、本発明において、供給部を介さずに洗液浄タンク内の洗浄液を循環させる循環手段をさらに備えていることが好ましい（請求項５）。洗浄液タンク内の洗浄液を循環させることにより、洗浄液の濃度ムラをなくすことができる。

また、請求項６に記載の発明は、基板を処理する処理部と、前記処理部に処理液を供給するための処理液配管と、前記処理液配管の一部位に配設されて、内部に連通している注入部と、洗浄液を貯留する洗浄液タンクと、前記処理部に処理液を供給するための処理液配管の一部位に配設され、前記処理液配管に連通接続された注入部に連通接続される供給部と、前記洗浄液タンク内の洗浄液を前記供給部に供給するための供給手段と、前記洗浄液タンクと前記供給手段とを収納する筐体とを備え、前記処理液配管から前記処理部への処理液の供給を遮断し、前記供給部を前記注入部に連通接続した状態で前記供給手段を作動させ、前記注入部より下流を洗浄液で洗浄する洗浄装置と、を備えていることを特徴とするものである。

［作用・効果］請求項６に記載の発明によれば、基板処理装置の処理液配管から処理部への処理液の供給を遮断し、洗浄装置が備える供給部を注入部に連通接続した状態で、供給手段を作動させると、洗浄液タンク内の洗浄液が供給部から処理液配管に供給されるので、注入部よりも下流にある接液部材を洗浄液で洗浄することができる。したがって、基板処理装置を分解することなく洗浄装置により接液部材の汚染を解消することができるので、洗浄を容易にかつ短時間で行うことができる。しかも、通常の処理では純水しか流通させられない箇所にも洗浄液を流通させることができるので、清浄度高く洗浄が可能となり、基板処理の歩留まり向上を図ることができる。

また、本発明において、処理部は複数個の処理槽を備え（請求項７）、連結部は開閉弁を備えていることが好ましい（請求項８）。

また、本発明において、洗浄装置は、純水を前記洗浄液タンク内に供給するための純水取り込み部をさらに備えていることが好ましく（請求項９）、洗浄液タンクは、洗浄液を構成する薬液を投入するための投入部をさらに備えていることが好ましい（請求項１０）。

また、本発明において、筐体は、内部の気体を排出するための排気口をさらに備えていることが好ましく（請求項１１）、洗浄装置は、前記供給部を介さずに前記洗浄液タンク内の洗浄液を循環させる循環手段をさらに備えていることが好ましい（請求項１２）。

本発明に係る洗浄装置によれば、処理液配管から処理部への処理液の供給を遮断し、供給部を注入部に連通接続した状態で、供給手段を作動させると、洗浄液タンク内の洗浄液が供給部から処理液配管に供給されるので、注入部よりも下流にある接液部材を洗浄液で洗浄できる。したがって、基板処理装置を分解することなく洗浄装置により接液部材の汚染を解消できるので、洗浄が容易にかつ短時間で可能となる。しかも、通常の処理では純水しか流通させられない箇所にも洗浄液を流通させることができるので、清浄度高く洗浄が可能となる。

以下の説明においては、洗浄装置を実施例１において説明し、これを備えた基板処理装置を実施例２において説明する。

以下、図面を参照して本発明の実施例1を説明する。
図１は、実施例１に係る洗浄装置の概略構成を示す正面図であり、図２は、図１の平面図である。なお、図２は、図１の筐体の上面部を取り外した状態を示している。また、図３は、洗浄装置の主要部を模式的に示した斜視図である。

洗浄装置１は、処理部にて基板を処理する基板処理装置の洗浄を行うものである。この洗浄装置１は、洗浄液を貯留する洗浄液タンク３と、洗浄液を供給する供給部５と、洗浄液タンク３内の洗浄液を供給部５に圧送供給するポンプ７と、供給される洗浄液中のパーティクル等を除去するフィルタ９と、洗浄液タンク３に純水を供給するための純水取り込み部１１と、洗浄液タンク３内の洗浄液等を排出する排出部１３とを備えている。上記の構成のうち、洗浄液タンク３と、ポンプ７と、フィルタ９とは、筐体１５の内部に収納され、供給部５と、純水取り込み部１１と、排出部１３とは、筐体１５の外側の一部位に配設されている。

なお、上記のポンプ７が本発明における供給手段に相当する。

洗浄液タンク３は、洗浄液を構成する薬液、例えば、塩酸や過酸化水素水などを手作業で投入するための投入部１７を上面に備えている。投入部１７は、図示しない蓋を備えている。この洗浄液タンク３は、例えば、円筒形を呈し、薬液に対する耐性を備えた材料で構成されている。洗浄液タンク３の上部には、一端側が純水取り込み部１１に連通接続された配管１９の他端側が挿入されている。配管１９の他端側の開口は、洗浄液タンク３の底部近くにまで位置している。純水取り込み部１１は、例えば、クリーンルームに備えられているユーティリティの一つである純水供給源に対して、図示しない接続配管により連通接続される。

洗浄液タンク３の正面左側の下部には、送出部２１が配設され、この送出部２１とポンプ７の流入部２３とが配管２５で連通接続されている。ポンプ７の流出部２７は、フィルタ９の流入部２９に対して配管３１で連通接続されている。フィルタ９の流出部３３は、筐体１５の背面下部に設けられた供給部５に配管３５で連通接続されている。配管３５の一部位には、分岐管３７の一端側が連通接続されており、その他端側が、洗浄液タンク３の上部に挿入されている。分岐管３７の他端側にあたる開口は、洗浄液タンク３の底面近くに位置している。配管３５のうち、分岐管３７の一端側が連通されている箇所よりやや下流の位置には、開閉弁３９が配設されている。この開閉弁３９は、筐体１５の正面側から操作が可能となるように取り付けられている。また、分岐管３７及び配管１９の一部位にも、同様に開閉弁４１，４３が取り付けられている。

洗浄液タンク３の背面側下部には、流出口４５が配設され、この流出口４５と、筐体１５の背面下部に配設された排出部１３とが配管４７で連通接続されている。排出部１３は、配管４７を手動で開閉する開閉弁４９を備えている。なお、流出口４５は、送出部２１よりも低い位置であって、洗浄液タンク３の底面に近い位置に形成されている。

また、筐体１５は、右上部の背面側に、筐体１５内に連通した排気口５１を備えている。この排気口５１は、クリーンルームに配備されている排気ユーティリティに接続される。筐体１５の正面左上部には、ポンプ７の作動を制御する制御器５２や、洗浄液や純水等の流量等を表示する表示器５３を備えた電装部５５が配設されている。さらに、筐体１５は、その下面の四隅に車輪５７を備えているともに、両側面の手前側と奥側に、ハンドル５９を備えている。

次に、図４〜６を参照して、上記の洗浄装置１の動作態様について説明する。なお、図４は、循環モードの時の流路を示す模式図であり、図５は、供給モードの時の流路を示す模式図であり、図６は、排液モードの時の流路を示す模式図である。

ここでは、予め供給部５と、図示しない基板処理装置の処理液配管の一部位に設けられた注入部とが図示しない接続配管で連通接続され、純水取り込み部１１と、クリーンルームの純水供給源とが図示しない接続配管で連通接続され、排出部１３がクリーンルームの廃液部に連通接続され、排気口５１がクリーンルームの排気ユーティリティに接続されているものとする。また、開閉弁３９，４１，４３，４９が全て閉止されているものとする。

（１）循環モード（図４）
まず、作業者は、開閉弁４３を開放し、所定量の純水を純水取り込み部１１から配管１９を介して洗浄液タンク３内に供給する。所定量の純水が供給された後、作業者は開閉弁４３を閉止して純水の供給を遮断する。次いで、作業者は、筐体１５の上部を開放し、例えば、塩酸を投入部１７から洗浄液タンク３内に所定量だけ供給する。濃度は、例えば、純水１００に対して塩酸１である。その後、筐体１５の上部を閉止した後、開閉弁４１を開放し、制御器５２を操作して、ポンプ７を作動させる。これにより、洗浄液タンク３内に供給されている純水と塩酸の混合液は、配管２５，３１，３５及び分岐管３７を経て洗浄液タンク３内に戻されて循環されるので（図中の二点鎖線矢印）、撹拌されて濃度が一定した洗浄液（希塩酸）を生成することができる。

このように純水取り込み部１１から純水を洗浄液タンク３に供給することで、洗浄液タンク３内の洗浄液濃度を調整し、洗浄に好適な洗浄液を効率的に生成できる。また、投入部１７から作業者が薬液を投入する構成とすることにより、簡単に洗浄液を生成することができる。さらに、洗浄液タンク３内の洗浄液を循環させることにより、洗浄液の濃度ムラをなくすことができる。薬液を洗浄液タンク３に投入することから、筐体１５内には薬液雰囲気が漏れ出す場合があるが、筐体１５内の雰囲気を排気口５１から排出する構成としているので、雰囲気が周囲に漏れ出すことを防止できる。

なお、上述したポンプ７と、配管２５，３１，３５と、分岐管３７と、開閉弁３９，４１とが本発明における循環手段に相当する。

（２）供給モード（図５）
まず、基板処理装置の処理液配管から処理部への処理液の供給を停止しておく。そして、上述した（１）循環モードで洗浄液を生成した後、開閉弁３９を開放するとともに、開閉弁４１を閉止する。すると、洗浄液の循環が停止されるとともに、洗浄液タンク３内に貯留している洗浄液が配管２５，３１，３５を介して供給部５から供給される。供給部５から供給された洗浄液は、処理液配管の注入部に供給され、注入部から下流側に位置する全ての接液部材を洗浄液で洗浄することができる。

このように、処理液配管による処理液の供給を遮断し、供給部５を注入部に連通接続した状態で、開閉弁３９を開放すると、洗浄液タンク３内の洗浄液が供給部５から処理液配管に供給されるので、注入部よりも下流にある接液部材を洗浄液で洗浄することができる。したがって、基板処理装置を分解することなく洗浄装置１により接液部材の汚染を解消することができるので、洗浄を容易にかつ短時間で行うことができる。しかも、通常の処理では純水しか流通させられない箇所であっても注入部より下流には洗浄液を流通させることができるので、清浄度高く洗浄が可能となる。

なお、処理液配管にミキシングバルブを備えた基板処理装置では、純水を処理液配管に供給しつつ、ミキシングバルブから薬液を注入して洗浄液を生成・供給することが考えられる。しかしながら、ミキシングバルブは、薬液の調整精度が高いものの、薬液の注入可能な量が洗浄装置１に比較して極めて少ないので、洗浄装置１により生成される洗浄液のような高濃度の薬液を含む洗浄液を生成することはできない。

（３）排液モード（図６）
この動作モードは、上記の（２）洗浄モードによる洗浄が完了した後、洗浄液タンク３内に残った洗浄液を廃棄するモードである。この排液モードは、例えば、洗浄液が不要となった場合や、次に洗浄液を使用するまでに日数が長い場合に行う。

まず、開閉弁３９を閉止し、開閉弁４１，４９を開放する。すると、配管４７を通って洗浄液タンク３内の洗浄液が排出部１３から排出される。なお、排出部１３からの排液が一旦完了した後、ポンプ７を短時間だけ作動させるのが好ましい。これによると、配管２５，３１，３５，３７内に残留している洗浄液や、ポンプ７やフィルタ９内に残留している洗浄液を洗浄液タンク３に戻して排出することができる。また、その後、開閉弁４３を開放して、純水を取り込みつつ排液を行うのが清浄度の点でより好ましい。

本発明は、上記実施形態に限られることはなく、下記のように変形実施することができる。

（１）上記の実施例では、純水と塩酸とを含む希硫酸を洗浄液として説明したが、例えば、過酸化水素と純水を５：１００の重量比で混合してなる洗浄液を用いてもよい。また、これらの薬液に限られず、洗浄の対象に応じて適宜の薬液からなる洗浄液を生成すればよい。

（２）手動で操作する開閉弁３９等に代えて、電装部５５で電気的に操作可能な電磁式の制御弁等を設けてもよい。

（３）洗浄液タンク３に薬液の種類に応じた濃度計を設けるとともに、その計測値を電装部５５に表示させるように構成してもよい。これにより、洗浄液の薬液濃度を正確に調整することができる。

（４）薬液タンクを内蔵し、薬液タンク内の薬液を洗浄液タンク３に供給する薬液供給系を備えるようにしてもよい。これにより薬液の供給を容易に行うことができるとともに、上記濃度計と併せて、適切な薬液濃度の洗浄液を自動的に生成することが可能となる。

（５）筐体１５には排気口５１を備えているが、薬液の雰囲気が洗浄液タンク３から漏れ出さない構造である場合には、排気口５１を設ける必要はない。

次に、図面を参照して本発明の実施例２を説明する。
図７は、実施例２に係る基板処理装置の概略構成を示すブロック図である。

基板処理装置６１は、複数個の処理部を備えている。具体的には、図７の左から順に、例えば、チャック洗浄部６３と、乾燥部６５と、薬液処理槽６７と、洗浄槽６９と、薬液処理槽７１と、洗浄槽７３と、薬液生成部７５とを備えている。チャック洗浄部６３は、各処理部に基板Ｗを搬送する図示しない搬送部の一部を洗浄し、乾燥部６５は、基板Ｗを乾燥処理し、薬液処理槽６７，７１は、薬液で基板Ｗを処理し、洗浄槽６９，７３は、純水で基板Ｗを洗浄処理し、薬液生成部７５は、薬液処理槽６７，７１で使用する薬液を生成する。

処理液配管７７は、クリーンルームのユーティリティである純水供給源に連通接続されており、上記各処理部に分岐管７９で連通接続されている。また、各処理部は、排液管８１に連通接続されている。処理液配管７７の一部位には、主開閉弁８３が設けられており、その上流部には三方弁８５が設けられ、その下流部には三方弁８７が設けられている。また、各分岐管７９は、開閉弁８９が設けられている。

なお、上記の三方弁８７が本発明の注入部に相当する。

上記の三方弁８５には、基板処理装置６１に隣接する位置へ移動されて配置されている洗浄装置１の純水取り込み部１１が連通接続され、三方弁８７には、洗浄装置１の供給部５が連通接続されている。また、排出部１３や排気口５１は、それぞれ適切なユーティリティに連通されている。

上記の基板処理装置６１は、まず主開閉弁８３を閉止して各処理部への処理液の供給を遮断する。そして、三方弁８５を洗浄装置１側に切り換えて洗浄装置１を上記（１）循環モードにして洗浄液を生成する。洗浄液の生成後は、三方弁８５を処理液配管７７側に切り換える。

次いで、洗浄したい部位に洗浄液が供給されるように、開閉弁８９のいずれかを開放する。そして、三方弁８７を洗浄装置１側に切り換えるとともに、洗浄装置１のポンプ７を作動させ、上記（２）供給モードとして洗浄液タンク３内の洗浄液を処理液配管７７に供給する。すると、洗浄装置１の洗浄液タンク３内にある洗浄液が供給部５から処理液配管７７に供給されるので、三方弁８７よりも下流にある処理液配管７７や洗浄槽７３などの接液部材を洗浄液で洗浄することができる。したがって、基板処理装置６１を分解することなく洗浄装置１により接液部材の汚染を解消することができるので、洗浄を容易にかつ短時間で行うことができる。しかも、通常の処理では純水しか流通させられない箇所（例えば、洗浄槽６９，７３）であっても三方弁８７より下流には洗浄液を流通させることができるので、清浄度高く洗浄が可能となり、基板処理の歩留まり向上を図ることができる。る。

洗浄が完了した場合には、三方弁８７を処理液配管７７側に切り換えて、基板Ｗに対する処理を行う。また、洗浄装置１の洗浄液タンク３内に洗浄液が残留している場合には、上記（３）排液モードとして洗浄液を廃棄してもよい。

本発明は、上記実施形態に限られることはなく、下記のように変形実施することができる。

（１）上記の説明では、基板処理装置６１の外部に洗浄装置１を配置してあるが、基板処理装置６１内に洗浄装置１を内蔵する形態としてもよい。

（２）処理液配管７７の上流部から純水を純水取り込み部１１に純水を取り込む構成としているが、基板処理装置６１に連通されていない別の純水供給経路から純水を取り込む構成としてもよい。

（３）上述した基板処理装置６１は、複数個の処理部を備えているが、単一の処理部を備えているものであってもよい。

実施例１に係る洗浄装置の概略構成を示す正面図である。 図１の平面図である。 洗浄装置の主要部を模式的に示した斜視図である。 循環モードの時の流路を示す模式図である。 供給モードの時の流路を示す模式図である。 排液モードの時の流路を示す模式図である。 実施例２に係る基板処理装置の概略構成を示すブロック図である。

符号の説明

１ … 洗浄装置
３ … 洗浄液タンク
５ … 供給部
７ … ポンプ（供給手段、循環手段）
９ … フィルタ
１１ … 純水取り込み部
１３ … 排出部
２５，３１ … 配管（循環手段）
３７ … 分岐管（循環手段）
３９ … 開閉弁（循環手段）
４１ … 開閉弁（循環手段）
５１ … 排気口
６１ … 基板処理装置
８７ … 三方弁（注入部）

Claims (12)

1. 処理部にて基板を処理する基板処理装置の洗浄を行う洗浄装置において、
   洗浄液を貯留する洗浄液タンクと、
   前記処理部に処理液を供給するための処理液配管の一部位に配設され、前記処理液配管に連通接続された注入部に連通接続される供給部と、
   前記洗浄液タンク内の洗浄液を前記供給部に供給するための供給手段と、
   前記洗浄液タンクと前記供給手段とを収納する筐体とを備え、
   前記処理液配管から前記処理部への処理液の供給を遮断し、前記供給部を前記注入部に連通接続した状態で前記供給手段を作動させ、前記注入部より下流を洗浄液で洗浄することを特徴とする洗浄装置。
2. 請求項１に記載の洗浄装置において、
   純水を前記洗浄液タンク内に供給するための純水取り込み部をさらに備えていることを特徴とする洗浄装置。
3. 請求項１または２に記載の洗浄装置において、
   前記洗浄液タンクは、洗浄液を構成する薬液を投入するための投入部をさらに備えていることを特徴とする洗浄装置。
4. 請求項１から３のいずれかに記載の洗浄装置において、
   前記筐体は、内部の気体を排出するための排気口をさらに備えていることを特徴とする洗浄装置。
5. 請求項１から４のいずれかに記載の洗浄装置において、
   前記供給部を介さずに前記洗浄液タンク内の洗浄液を循環させる循環手段をさらに備えていることを特徴とする洗浄装置。
6. 基板を処理する処理部と、
   前記処理部に処理液を供給するための処理液配管と、
   前記処理液配管の一部位に配設されて、内部に連通している注入部と、
   洗浄液を貯留する洗浄液タンクと、前記処理部に処理液を供給するための処理液配管の一部位に配設され、前記処理液配管に連通接続された注入部に連通接続される供給部と、前記洗浄液タンク内の洗浄液を前記供給部に供給するための供給手段と、前記洗浄液タンクと前記供給手段とを収納する筐体とを備え、前記処理液配管から前記処理部への処理液の供給を遮断し、前記供給部を前記注入部に連通接続した状態で前記供給手段を作動させ、前記注入部より下流を洗浄液で洗浄する洗浄装置と、
   を備えていることを特徴とする基板処理装置。
7. 請求項６に記載の基板処理装置において、
   前記処理部は、複数個の処理槽を備えていることを特徴とする基板処理装置。
8. 請求項６または７に記載の基板処理装置において、
   前記注入部は、開閉弁を備えていることを特徴とする基板処理装置。
9. 請求項６から８のいずれかに記載の基板処理装置において、
   前記洗浄装置は、純水を前記洗浄液タンク内に供給するための純水取り込み部をさらに備えていることを特徴とする基板処理装置。
10. 請求項６から９のいずれかに記載の基板処理装置において、
    前記洗浄液タンクは、洗浄液を構成する薬液を投入するための投入部をさらに備えていることを特徴とする基板処理装置。
11. 請求項６から１０のいずれかに記載の基板処理装置において、
    前記筐体は、内部の気体を排出するための排気口をさらに備えていることを特徴とする基板処理装置。
12. 請求項６から１１のいずれかに記載の基板処理装置において、
    前記洗浄装置は、前記供給部を介さずに前記洗浄液タンク内の洗浄液を循環させる循環手段をさらに備えていることを特徴とする基板処理装置。

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