JP2007109575A - エレクトロルミネッセンス素子用基板 - Google Patents
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Abstract
【解決手段】本発明は、透明基板と、上記透明基板上に形成され、透明樹脂中に微粒子を分散させてなり、赤色光用散乱部、緑色光用散乱部、および青色光用散乱部から構成される光散乱層とを有し、上記赤色光用散乱部、緑色光用散乱部、および青色光用散乱部にそれぞれ含まれる上記微粒子の存在量が、互いに異なることを特徴とするEL素子用基板を提供することにより、上記目的を達成するものである。
【選択図】図1
Description
しかしながら、この金属電極は外部から素子に入射した光も反射するため、非表示(非発光)であるべき画素から外光による反射が生じ、表示のコントラストが低下するという問題がある。特に、屋外等明るい環境下で使用する携帯用の表示装置においては、このような外光の反射が問題になる。
しかしながら、EL素子における発光層からの発光は一般に非偏光であるため、外光反射を防止するために円偏光板を使用した場合は、発光の約半分が円偏光板により吸収されてしまう。このため、外部への発光の取り出し効率が低下し、輝度が半分以下まで低下するという問題がある。
本発明のEL素子用基板は、透明基板と、上記透明基板上に形成され、透明樹脂中に微粒子を分散させてなり、赤色光用散乱部、緑色光用散乱部、および青色光用散乱部から構成される光散乱層とを有し、上記赤色光用散乱部、緑色光用散乱部、および青色光用散乱部にそれぞれ含まれる上記微粒子の存在量が、互いに異なることを特徴とするものである。
図1は、本発明のEL素子用基板の一例を示す概略断面図である。図1に例示するように、本発明のEL素子用基板10は、透明基板1と、その上に形成された光散乱層2とを有するものである。この光散乱層2は、透明樹脂中に微粒子を分散させてなる。
以下、本発明のEL素子用基板の各構成について説明する。
本発明に用いられる光散乱層は、本発明のEL素子用基板を例えばEL表示装置に用いた場合、EL表示装置における発光層から発せられた光に適度の散乱を生じさせて十分な視認性を確保するために設けられるものであり、透明樹脂中に光散乱作用を有する微粒子を分散させたものである。
なお、各散乱部に含まれる微粒子の存在量が互いに異なるとは、三種類の散乱部のうち、すべての微粒子の存在量が異なる場合だけでなく、少なくとも二種類の散乱部に含まれる微粒子の存在量が異なる場合をも含むものである。例えば緑色光用散乱部および青色光用散乱部に含まれる微粒子の存在量が同一であり、この緑色光用散乱部および青色光用散乱部に含まれる微粒子の存在量と、赤色光用散乱部に含まれる微粒子の存在量とが異なっていてもよい。
本発明に用いられる微粒子としては、光散乱作用を有するものであれば特に限定されるものではなく、例えば酸化珪素、酸化アルミニウム、硫酸バリウム等の無機物、アクリル系樹脂、ジビニルベンゼン系樹脂、ベンゾグアナミン系樹脂、スチレン系樹脂、メラミン系樹脂、アクリル−スチレン系樹脂、ポリカーボネート系樹脂、ポリエチレン系樹脂、ポリ塩化ビニル系樹脂等の有機物、あるいは、これらの2種以上の混合系等の微粒子を挙げることができる。
(1)粒径dが光波長λに比べて大きい場合(d>λ)は、幾何光学領域となり、幾何光学的な屈折、反射による散乱が発生し、波長依存性はない。
(2)粒径dが光波長λに近い場合(λ/3<d<λ)は、回折散乱領域(ミー散乱)となり、幾何光学的な散乱と回折効果(光干渉)とによる散乱が発生し、複雑な波長依存性を有する。このため、散乱による色付きが生じる。
(3)粒径dが光波長λより小さい場合(d<λ/3)は、レイリー散乱領域となり、原子・分子との相互作用による散乱が発生し、ほぼ均一に全方向に散乱する。このため、前方散乱のみならず後方散乱も発生する。
さらに、平均粒径が上記範囲であれば、通常のスピンナーによる塗布で均一な膜厚分布を達成することができ、またパターニング特性に優れる比較的厚みの薄い光散乱層が形成可能である。
本発明に用いられる透明樹脂は、上記微粒子との屈折率差、光散乱層の透明性、透明基板や着色層との密着性等を考慮して適宜選択される。透明樹脂としては、例えばアクリル系樹脂、エポキシ系樹脂、ポリビニルアルコール系樹脂、ポリイミド系樹脂、ビニルエーテル系樹脂等を挙げることができる。これらの透明樹脂は、単独で、または2種以上の混合物として使用することができる。
本発明に用いられる光散乱層の全光線透過率は、85%以上であることが好ましく、より好ましくは90%以上、最も好ましくは95%以上である。全光線透過率が小さすぎると、本発明のEL素子用基板をEL表示装置に用いた場合に輝度が低下するおそれがあるからである。
本発明に用いられる透明基板としては、一般にEL表示装置に用いることができるものであれば特に限定されるものではない。例えば石英ガラス、パイレックス(登録商標)ガラス、合成石英板等の可撓性のない透明なリジット材、あるいは透明樹脂フィルム、光学用樹脂板等の可撓性を有する透明なフレキシブル材を用いることができる。この中でも、コーニング社製イーグル2000または1737材ガラスは、熱膨脹率の小さい素材であり寸法安定性および高温加熱処理における作業性に優れ、また、ガラス中にアルカリ成分を含まない無アルカリガラスであるため、好ましく用いられる。特に、本発明のEL素子用基板をアクティブ駆動方式のEL表示装置に適用する場合に好適である。
本発明においては、光散乱層上に着色層が形成されていてもよい。着色層3は、例えば図3(a)に示すように透明基板1と光散乱層2との間に形成されていてもよく、例えば図3(b)に示すように光散乱層2の透明基板1が形成された面とは反対側の面に形成されていてもよい。
透明基板と光散乱層との間に着色層が形成されている場合は、光散乱層に比べて透明基板表面の方が平坦であることから、着色層の成膜およびパターニングが容易であるという利点がある。また、光散乱層よりも色特性補正のための着色層の方が光の出射面側に設けられることになるので、光散乱層に色付きがあっても高いコントラストが得られる。さらに、着色層形成時の熱工程(ポストベーク)に曝されることなく光散乱層を形成できるので、光散乱層中の透明樹脂が熱により黄変するのを回避することができる。
本発明においては、例えば図4に示すように、透明基板1上の非表示領域に遮光部5が形成されていてもよい。遮光部は、EL表示装置における発光層のパターン間を遮光するため、または各散乱部のアライメントをとるため、あるいは、上記着色層が形成されている場合は各色着色パターン間を遮光するため、または各色着色パターンのアライメントをとるため、等に設けられるものである。遮光部を設けることにより、コントラストを向上させることができる。
本発明においては、光散乱層表面の微細な凹凸をなくして平坦な面を形成するために、また各散乱部の厚みが異なる場合には各散乱部による段差をなくして平坦な面を形成するために、あるいは、上記着色層が形成されている場合には、着色層表面の微細な凹凸をなくして平坦な面を形成するために、また各色着色パターンによる凹凸をなくして平坦な面を形成するために、光散乱層や着色層の上に平坦化層が形成されていてもよい。
本発明においては、光散乱層上にガスバリア層が形成されていてもよい。EL表示装置における発光層やその他の有機層は、酸素、水蒸気、およびその他のガス等に弱い部材であるため、ガスバリア層を設けることにより、ダークスポットやダークエリアの発生を抑制することができるからである。特に、上記着色層が形成されている場合には、EL表示装置の製造時や駆動時に、この着色層等からガスが発生する場合があるが、ガスバリア層によって、この発生したガスにより発光層等が劣化するのを抑えることができる。
本発明においては、光散乱層上に透明電極層が形成されていてもよい。透明電極層は、透明基板上に光散乱層のみが形成されている場合は、光散乱層上に形成されるものであるが、上記着色層が形成されている場合は、光散乱層および着色層が積層された上に形成される。
本発明のEL素子用基板のヘイズ値としては、30〜95程度であることが好ましく、より好ましくは40〜80の範囲内、最も好ましくは50〜70の範囲内である。ヘイズ値が上記範囲より小さいと、十分な光散乱効果が得られない場合があるからである。また、正面輝度の観点からは、ヘイズ値の上限は95であることが好ましい。
次に、本発明のEL表示装置について説明する。本発明のEL表示装置は、上述したEL素子用基板を用いたことを特徴とするものである。本発明のEL表示装置は、上記EL素子用基板を用いるので、色シフトを抑制することができ、視認性が良好である。
EL表示装置としては、有機EL表示装置であっても無機EL表示装置であってもよい。
例えば図5(a)に示すEL表示装置30においては、EL素子用基板10の光散乱層2(2R、2Gおよび2B)上に透明電極層12、発光層11、および背面電極層13が形成され、その上に基板15が形成されている。発光層12の間には隔壁16が形成され、透明電極層12は薄膜トランジスタ(TFT)17とともに形成されている。
また例えば図5(b)に示すEL表示装置30においては、EL素子用基板10と、基板15上に背面電極層13、発光層11、透明電極層12および屈折率マッチング層14が形成された対向基板20とが積層されている。そして、発光層12の間には隔壁16が形成され、背面電極層13は薄膜トランジスタ(TFT)17とともに形成されている。
上記EL素子用基板が透明基板と光散乱層とを有するものである場合には、三原色をそれぞれ発光する発光層を用いたEL表示装置とすることが好ましい。一方、上記EL素子用基板が透明基板と光散乱層と着色層とを有するものである場合には、白色を発光する発光層を用いたEL表示装置とすることが好ましい。
(遮光部の形成)
透明基板として、370mm×470mm、厚み0.7mmのソーダガラス(セントラル硝子社製)を用いた。この透明基板上に、スパッタリングにより酸化窒化複合クロムの薄膜(厚み0.2μm)を形成した。この複合クロム薄膜上に感光性レジストを塗布し、マスク露光、現像、および複合クロム薄膜のエッチングを順次行って、80μm×280μmの長方形状の開口部が、短辺方向に100μmのピッチ、長辺方向に300μmのピッチでマトリックス状に配列した遮光部を形成した。
赤色、緑色、および青色の各着色層形成用塗工液を調製した。赤色着色剤としては縮合アゾ系顔料(チバ・スペシャルティ・ケミカルズ社製、クロモフタルレッドBRN)、緑色着色剤としてはフタロシアニン系緑色顔料(東洋インキ製造社製、リオノールグリーン2Y−301)、および青色着色剤としてはアンスラキノン系顔料(チバ・スペシャルティ・ケミカルズ社製、クロモフタルブルーA3R)をそれぞれ用い、バインダー樹脂としてはポリビニルアルコールを用いた。ポリビニルアルコール10%水溶液10部に対し、各着色剤を1部(部数はいずれも質量基準。)の割合で配合した。得られた溶液100部に対し、1部の重クロム酸アンモニウムを架橋剤として添加し、各着色層形成用塗工液を得た。
まず、光散乱層形成用塗工液を調製した。
<硬化性樹脂組成物の調製>
重合槽中に、メタクリル酸メチル(MMA)63重量部と、アクリル酸(AA)12重量部と、メタクリル酸−2−ヒドロキシエチル(HEMA)6重量部と、ジエチレングリコールジメチルエーテル(DMDG)88重量部とを仕込み、攪拌し溶解させた後、2,2´−アゾビス(2−メチルブチロニトリル)を7重量部添加し、均一に溶解させた。その後、窒素気流下、85℃で2時間攪拌し、さらに100℃で1時間反応させた。得られた溶液に、さらにメタクリル酸グリシジル(GMA)7重量部と、トリエチルアミン0.4重量部と、ハイドロキノン0.2重量部とを添加し、100℃で5時間攪拌し、硬化性樹脂組成物(固形分50%)を得た。
次に、下記の組成で材料を混合し、室温で攪拌して、各光散乱層形成用塗工液を得た。
<赤色用光散乱層形成用塗工液の組成>
・上記硬化性樹脂組成物(固形分50%):16重量部
・ジペンタエリスリトールペンタアクリレート(サートマー社 SR399):24重量部
・オルソクレゾールノボラック型エポキシ樹脂(油化シェルエポキシ社 エピコート180S70):4重量部
・2−メチル−1−(4−メチルチオフェニル)−2−モルフォリノプロパン−1−オン:4重量部
・ジエチレングリコールジメチルエーテル:52重量部
・メラミン系樹脂ビーズ(平均粒径1.2μm):10重量部
<緑色用光散乱層形成用塗工液の組成>
・上記硬化性樹脂組成物(固形分50%):16重量部
・ジペンタエリスリトールペンタアクリレート(サートマー社 SR399):24重量部
・オルソクレゾールノボラック型エポキシ樹脂(油化シェルエポキシ社 エピコート180S70):4重量部
・2−メチル−1−(4−メチルチオフェニル)−2−モルフォリノプロパン−1−オン:4重量部
・ジエチレングリコールジメチルエーテル:52重量部
・メラミン系樹脂ビーズ(平均粒径1.2μm):10重量部
<青色用光散乱層形成用塗工液の組成>
・上記硬化性樹脂組成物(固形分50%):16重量部
・ジペンタエリスリトールペンタアクリレート(サートマー社 SR399):24重量部
・オルソクレゾールノボラック型エポキシ樹脂(油化シェルエポキシ社 エピコート180S70):4重量部
・2−メチル−1−(4−メチルチオフェニル)−2−モルフォリノプロパン−1−オン:4重量部
・ジエチレングリコールジメチルエーテル:52重量部
・メラミン系樹脂ビーズ(平均粒径1.2μm):10重量部
アクリレート系光硬化性樹脂(新日鐵化学社製、品名:「V−259PA/PH5」)をプロピレングリコールモノメチルエーテルアセテートで希釈した平坦化層形成用塗工液を調製した。この平坦化層形成用塗工液を、光散乱層上にスピンコート法により塗布し、温度120℃で5分間のプリベイクを行った。次いで、フォトリソグラフィ法によりパターニングを行った後、温度200℃で60分間のポストベイクを行って、厚み5μmの平坦化層を形成した。
次に、上記平坦化層上に、Si3N4ターゲット(3N)を用い、アルゴンガス導入量:40sccm、RFパワー:430kW、基板温度:100℃でスパッタリング法により厚み150nmの酸化窒化ケイ素膜を成膜し、透明なガスバリア層を形成した。
上記ガスバリア層上に、イオンプレーティング法により膜厚150nmの酸化インジウムスズ(ITO)膜を形成し、このITO膜上に感光性レジストを塗布し、マスク露光、現像、ITO膜のエッチングを行って、透明電極層を形成した。
次に、上記透明電極層を覆うようにガスバリア層上の全面にスパッタリング法によりクロム薄膜(厚み0.2μm)を形成し、このクロム薄膜上に感光性レジストを塗布し、マスク露光、現像、クロム薄膜のエッチングを行って、補助電極を形成した。
平均分子量が約100,000であるノルボルネン系樹脂(JSR社製:ARTON)をトルエンで希釈した絶縁層形成用塗工液を使用し、スピンコート法により透明電極層を覆うようにガスバリア層上に塗布した後、ベーク(100℃、30分)を行って、絶縁膜(厚み1μm)を形成した。次に、この絶縁膜上に感光性レジストを塗布し、マスク露光、現像、絶縁膜のエッチングを行って絶縁層を形成した。この絶縁層は、透明電極層と直角に交差する帯状(幅20μm)のパターンであり、遮光部上に位置するものとした。
次いで、真空蒸着法により正孔注入層、白色発光層、および電子注入層からなる有機EL層を形成した。すなわち、まずN,N´−ジフェニル−N,N´−ビス(3−メチルフェニル)−〔1,1´−ビフェニル〕−4,4´−ジアミンを、画像表示領域に対応する所定の開口部を備えたフォトマスクを介して600nmまで蒸着して成膜することによって、透明電極層上に正孔注入層を形成した。同様にして、4,4´−ビス(2,2−ジフェニルビニル)ビフェニルを50nmまで蒸着して成膜した。このとき同時にルブレン(アルドリッチ(株)製、蛍光ピーク波長585nm)を少量含有させた。これにより白色発光層を形成した。その後、トリス(8−キノリノール)アルミニウムを20nm厚まで蒸着して成膜することにより電子注入層を形成した。このようにして形成された有機EL層は、幅280μmの帯状のパターンとして各隔壁間に存在するものであった。
次に、画像表示領域よりも広い所定の開口部を備えたフォトマスクを介して、上記隔壁が形成されている領域に、真空蒸着法によりマグネシウムと銀を同時に蒸着(マグネシウムの蒸着速度=1.3〜1.4nm/秒、銀の蒸着速度=0.1nm/秒)して成膜した。これにより、隔壁がマスクとなって、マグネシウム/銀化合物からなる厚み200nmの背面電極層を有機EL層上に形成した。この背面電極層は、幅280μmの帯状のパターンとして有機EL層上に存在するものであった。
上記の有機EL素子を封止し、有機EL表示装置を得た。この有機EL表示装置の透明電極層と背面電極層に直流8.5Vの電圧を10mA/cm2の一定電流密度で印加して連続駆動させることにより、透明電極層と背面電極層とが交差する所望の部位の白色発光層を発光させた。
実施例1において、下記のようにして光散乱層を形成した以外は、実施例1と同様にして、有機EL表示装置を作製した。
(光散乱層の形成)
下記の組成で材料を混合し、室温で攪拌して、各光散乱層形成用塗工液を調製した。なお、硬化性樹脂組成物は実施例1と同様のものを用いた。
<赤色用光散乱層形成用塗工液の組成>
・硬化性樹脂組成物(固形分50%):16重量部
・ジペンタエリスリトールペンタアクリレート(サートマー社 SR399):24重量部
・オルソクレゾールノボラック型エポキシ樹脂(油化シェルエポキシ社 エピコート180S70):4重量部
・2−メチル−1−(4−メチルチオフェニル)−2−モルフォリノプロパン−1−オン:4重量部
・ジエチレングリコールジメチルエーテル:52重量部
・メラミン系樹脂ビーズ(平均粒径1.2μm):12重量部
<緑色用光散乱層形成用塗工液の組成>
・硬化性樹脂組成物(固形分50%):16重量部
・ジペンタエリスリトールペンタアクリレート(サートマー社 SR399):24重量部
・オルソクレゾールノボラック型エポキシ樹脂(油化シェルエポキシ社 エピコート180S70):4重量部
・2−メチル−1−(4−メチルチオフェニル)−2−モルフォリノプロパン−1−オン:4重量部
・ジエチレングリコールジメチルエーテル:52重量部
・メラミン系樹脂ビーズ(平均粒径1.2μm):10重量部
<青色用光散乱層形成用塗工液の組成>
・硬化性樹脂組成物(固形分50%):16重量部
・ジペンタエリスリトールペンタアクリレート(サートマー社 SR399):24重量部
・オルソクレゾールノボラック型エポキシ樹脂(油化シェルエポキシ社 エピコート180S70):4重量部
・2−メチル−1−(4−メチルチオフェニル)−2−モルフォリノプロパン−1−オン:4重量部
・ジエチレングリコールジメチルエーテル:52重量部
・メラミン系樹脂ビーズ(平均粒径1.2μm):8重量部
実施例1において、下記のようにして光散乱層を形成した以外は、実施例1と同様にして、有機EL表示装置を作製した。
(光散乱層の形成)
下記の組成で材料を混合し、室温で攪拌して、各光散乱層形成用塗工液を調製した。なお、硬化性樹脂組成物は実施例1と同様のものを用いた。
<赤色用光散乱層形成用塗工液の組成>
・硬化性樹脂組成物(固形分50%):16重量部
・ジペンタエリスリトールペンタアクリレート(サートマー社 SR399):24重量部
・オルソクレゾールノボラック型エポキシ樹脂(油化シェルエポキシ社 エピコート180S70):4重量部
・2−メチル−1−(4−メチルチオフェニル)−2−モルフォリノプロパン−1−オン:4重量部
・ジエチレングリコールジメチルエーテル:52重量部
・メラミン系樹脂ビーズ(平均粒径1.6μm):10重量部
<緑色用光散乱層形成用塗工液の組成>
・硬化性樹脂組成物(固形分50%):16重量部
・ジペンタエリスリトールペンタアクリレート(サートマー社 SR399):24重量部
・オルソクレゾールノボラック型エポキシ樹脂(油化シェルエポキシ社 エピコート180S70):4重量部
・2−メチル−1−(4−メチルチオフェニル)−2−モルフォリノプロパン−1−オン:4重量部
・ジエチレングリコールジメチルエーテル:52重量部
・メラミン系樹脂ビーズ(平均粒径1.6μm):10重量部
<青色用光散乱層形成用塗工液の組成>
・硬化性樹脂組成物(固形分50%):16重量部
・ジペンタエリスリトールペンタアクリレート(サートマー社 SR399):24重量部
・オルソクレゾールノボラック型エポキシ樹脂(油化シェルエポキシ社 エピコート180S70):4重量部
・2−メチル−1−(4−メチルチオフェニル)−2−モルフォリノプロパン−1−オン:4重量部
・ジエチレングリコールジメチルエーテル:52重量部
・メラミン系樹脂ビーズ(平均粒径1.6μm):10重量部
実施例1において、下記のようにして光散乱層を形成した以外は、実施例1と同様にして、有機EL表示装置を作製した。
(光散乱層の形成)
下記の組成で材料を混合し、室温で攪拌して、各光散乱層形成用塗工液を調製した。なお、硬化性樹脂組成物は実施例1と同様のものを用いた。
<赤色用光散乱層形成用塗工液の組成>
・硬化性樹脂組成物(固形分50%):16重量部
・ジペンタエリスリトールペンタアクリレート(サートマー社 SR399):24重量部
・オルソクレゾールノボラック型エポキシ樹脂(油化シェルエポキシ社 エピコート180S70):4重量部
・2−メチル−1−(4−メチルチオフェニル)−2−モルフォリノプロパン−1−オン:4重量部
・ジエチレングリコールジメチルエーテル:52重量部
・メラミン系樹脂ビーズ(平均粒径1.2μm):10重量部
<緑色用光散乱層形成用塗工液の組成>
・硬化性樹脂組成物(固形分50%):16重量部
・ジペンタエリスリトールペンタアクリレート(サートマー社 SR399):24重量部
・オルソクレゾールノボラック型エポキシ樹脂(油化シェルエポキシ社 エピコート180S70):4重量部
・2−メチル−1−(4−メチルチオフェニル)−2−モルフォリノプロパン−1−オン:4重量部
・ジエチレングリコールジメチルエーテル:52重量部
・メラミン系樹脂ビーズ(平均粒径1.2μm):10重量部
<青色用光散乱層形成用塗工液の組成>
・硬化性樹脂組成物(固形分50%):16重量部
・ジペンタエリスリトールペンタアクリレート(サートマー社 SR399):24重量部
・オルソクレゾールノボラック型エポキシ樹脂(油化シェルエポキシ社 エピコート180S70):4重量部
・2−メチル−1−(4−メチルチオフェニル)−2−モルフォリノプロパン−1−オン:4重量部
・ジエチレングリコールジメチルエーテル:52重量部
・メラミン系樹脂ビーズ(平均粒径1.2μm):10重量部
有機EL表示装置の任意の領域に関して分光放射輝度計(株式会社トプコン製 SR-2)にて基板正面に対して45°傾斜させた場合の色ずれ(CIE色度座標でのΔxy)、および明室下での視認性(外光反射低減効果)について評価を行った。
Δxy=((x1−x2)2+(y1−y2)2)1/2
結果を表1に示す。なお、表1における微粒子の濃度とは、各光拡散層形成用塗工液中の固形分の総重量に対する微粒子重量の比率(%)である。
2 … 光散乱層
2R … 赤色光用散乱部
2G … 緑色光用散乱部
2B … 青色光用散乱部
3 … 着色層
5 … 遮光部
10 … EL素子用基板
Claims (8)
- 透明基板と、前記透明基板上に形成され、透明樹脂中に微粒子を分散させてなり、赤色光用散乱部、緑色光用散乱部、および青色光用散乱部から構成される光散乱層とを有し、前記赤色光用散乱部、緑色光用散乱部、および青色光用散乱部にそれぞれ含まれる前記微粒子の存在量が、互いに異なることを特徴とするエレクトロルミネッセンス素子用基板。
- 前記赤色光用散乱部、緑色光用散乱部、および青色光用散乱部の厚みが、互いに異なることを特徴とする請求項1に記載のエレクトロルミネッセンス素子用基板。
- 前記赤色光用散乱部、緑色光用散乱部、および青色光用散乱部中の前記微粒子の濃度が、互いに異なることを特徴とする請求項1または請求項2に記載のエレクトロルミネッセンス素子用基板。
- 前記透明基板と前記光散乱層との間、または、前記光散乱層の前記透明基板が形成されている面とは反対側の面に、着色層が形成されていることを特徴とする請求項1から請求項3までのいずれかの請求項に記載のエレクトロルミネッセンス素子用基板。
- 前記透明基板上の非表示領域に遮光部が形成されていることを特徴とする請求項1から請求項4までのいずれかの請求項に記載のエレクトロルミネッセンス素子用基板。
- 前記微粒子の平均粒径が、1.0μm〜1.6μmの範囲内であることを特徴とする請求項1から請求項5までのいずれかの請求項に記載のエレクトロルミネッセンス素子用基板。
- ヘイズ値が30〜95の範囲内であることを特徴とする請求項1から請求項6までのいずれかの請求項に記載のエレクトロルミネッセンス素子用基板。
- 請求項1から請求項7までのいずれかの請求項に記載のエレクトロルミネッセンス素子用基板を用いたことを特徴とするエレクトロルミネッセンス表示装置。
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