JP2007090786A - Laminating method and optical member made by the same - Google Patents

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俊彦 倉田
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Abstract

<P>PROBLEM TO BE SOLVED: To provide a laminating method able to improve an adhesion of an olefinic plastic substrate and a resin layer and an optical member made by using the laminating method. <P>SOLUTION: A TiO<SB>2</SB>layer 20 and SiO<SB>2</SB>layer 30 ovelie the surface of the olefinic plastic substrate 10 in order by an ion beam assisted deposition method. Next, the surface of the SiO<SB>2</SB>layer 30 is treated with a silane coupling. Then a UV-curable resin layer 50 is formed on the surface of the SiO<SB>2</SB>layer 30. <P>COPYRIGHT: (C)2007,JPO&INPIT

Description

この発明は積層方法及びその積層方法を用いて作製された光学部品に関する。   The present invention relates to a laminating method and an optical component manufactured using the laminating method.

従来、オレフィン系プラスチック基板の表面に樹脂層を形成して所定の光学特性を有する光学レンズ（例えば回折パターンを有する光学レンズ）を作製する方法が知られている。通常、オレフィン系プラスチック基板の表面にプライマを介して樹脂層を形成する。
特開平５−１８１００５号公報 Conventionally, a method for forming an optical lens having a predetermined optical characteristic (for example, an optical lens having a diffraction pattern) by forming a resin layer on the surface of an olefin plastic substrate is known. Usually, a resin layer is formed on the surface of an olefin plastic substrate via a primer.
JP-A-5-181005

しかし、プライマで処理したオレフィン系プラスチック基板と樹脂層との間には化学結合（分子レベルでの結合）がほとんど生じないため、オレフィン系プラスチック基板と樹脂層との密着性が低く、樹脂層がオレフィン系プラスチック基板から剥がれ易いという問題があった。   However, since there is almost no chemical bond (bonding at the molecular level) between the olefin plastic substrate treated with the primer and the resin layer, the adhesion between the olefin plastic substrate and the resin layer is low, and the resin layer There was a problem that it was easily peeled off from the olefin plastic substrate.

この発明はこのような事情に鑑みてなされたもので、その課題はオレフィン系プラスチック基板と樹脂層との密着性を向上させることができる積層方法及びその積層方法を用いて作製された光学部品を提供することである。   The present invention has been made in view of such circumstances, and the problem is a lamination method capable of improving the adhesion between the olefin plastic substrate and the resin layer, and an optical component produced using the lamination method. Is to provide.

上記課題を解決するため請求項１記載の発明は、オレフィン系プラスチック基板の表面に無機膜を形成する無機膜形成工程と、この無機膜形成工程の後、前記無機膜の表面にシランカップリング処理を行なうシランカップリング処理工程と、このシランカップリング処理工程の後、前記無機膜の表面に樹脂層を形成する樹脂層形成工程とを含むことを特徴とする。
請求項２に記載の発明は、請求項１記載の積層方法において、前記無機膜形成工程は、前記オレフィン系プラスチック基板の表面にＴｉＯ2 膜を形成する工程を含むことを特徴とする。 In order to solve the above-mentioned problems, an invention according to claim 1 is directed to an inorganic film forming step of forming an inorganic film on the surface of an olefin plastic substrate, and a silane coupling treatment on the surface of the inorganic film after the inorganic film forming step. And a resin layer forming step of forming a resin layer on the surface of the inorganic film after the silane coupling treatment step.
According to a second aspect of the present invention, in the laminating method according to the first aspect, the inorganic film forming step includes a step of forming a TiO 2 film on the surface of the olefin plastic substrate.

請求項３に記載の発明は、請求項２記載の積層方法において、前記ＴｉＯ2 膜はイオンビームアシスト法を用いて形成されることを特徴とする。 According to a third aspect of the present invention, in the lamination method according to the second aspect , the TiO 2 film is formed using an ion beam assist method.

請求項４に記載の発明は、請求項１〜３のいずれか１項記載の積層方法において、前記無機膜形成工程は、前記オレフィン系プラスチック基板の表面にＴｉＯ2 膜を形成する工程の後、前記ＴｉＯ2 膜の表面にＳｉＯ2 膜を形成する工程を含むことを特徴とする。 Invention according to claim 4, in the lamination method according to any one of claims 1 to 3, wherein the inorganic film forming step, after the step of forming the TiO 2 film on the surface of the olefin-based plastic substrate, The method includes a step of forming a SiO 2 film on the surface of the TiO 2 film.

請求項５に記載の発明は、請求項４記載の積層方法において、前記ＳｉＯ2 膜はイオンビームアシスト法を用いて形成されることを特徴とする。 According to a fifth aspect of the present invention, in the lamination method according to the fourth aspect, the SiO 2 film is formed using an ion beam assist method.

請求項６に記載の発明は、請求項２又は３記載の積層方法において、前記ＴｉＯ2 膜の厚さは１０〜１００ｎｍであることを特徴とする。 A sixth aspect of the present invention is the lamination method according to the second or third aspect, wherein the TiO 2 film has a thickness of 10 to 100 nm.

請求項７に記載の発明は、請求項２又は３記載の積層方法において、前記ＴｉＯ2 膜の厚さは１０〜５０ｎｍであることを特徴とする。 A seventh aspect of the invention is characterized in that, in the laminating method according to the second or third aspect, the thickness of the TiO 2 film is 10 to 50 nm.

請求項８に記載の発明は、請求項４又は５記載の積層方法において、前記ＳｉＯ2 膜の厚さは１０〜１００ｎｍであることを特徴とする。 According to an eighth aspect of the present invention, in the lamination method according to the fourth or fifth aspect, the thickness of the SiO 2 film is 10 to 100 nm.

請求項９に記載の発明は、請求項４又は５記載の積層方法において、前記ＳｉＯ2 膜の厚さは１０〜５０ｎｍであることを特徴とする。 A ninth aspect of the present invention is the lamination method according to the fourth or fifth aspect, wherein the thickness of the SiO 2 film is 10 to 50 nm.

請求項１０に記載の発明は、請求項４又は５記載の積層方法において、前記ＴｉＯ2 膜と前記ＳｉＯ2 膜とを重ねたときの厚さは２０〜１００ｎｍであることを特徴とする。 According to a tenth aspect of the present invention, in the lamination method according to the fourth or fifth aspect, the thickness when the TiO 2 film and the SiO 2 film are stacked is 20 to 100 nm.

請求項１１に記載の発明は、前記請求項１〜１０のいずれか１項記載の積層方法を用いて作製されたことを特徴とする。   Invention of Claim 11 was produced using the lamination | stacking method of any one of the said Claims 1-10.

この発明によれば、オレフィン系プラスチック基板と樹脂層との密着性を向上させることができる。   According to this invention, the adhesion between the olefin plastic substrate and the resin layer can be improved.

以下、この発明の実施の形態を図面に基づいて説明する。   Hereinafter, embodiments of the present invention will be described with reference to the drawings.

図１はこの発明の一実施形態に係るプラスチックレンズの断面構造を示す模式図である。   FIG. 1 is a schematic diagram showing a cross-sectional structure of a plastic lens according to an embodiment of the present invention.

このプラスチックレンズ（光学部品）１は、オレフィン系プラスチック基板１０とＴｉＯ2 層（無機膜）２０とＳｉＯ2 層（無機膜）３０とシランカップリング剤４０と紫外線硬化型樹脂層５０とを積層することによって構成されている。 The plastic lens (optical component) 1 includes an olefin plastic substrate 10, a TiO 2 layer (inorganic film) 20, a SiO 2 layer (inorganic film) 30, a silane coupling agent 40, and an ultraviolet curable resin layer 50. Is made up of.

オレフィン系プラスチック基板１０はシクロオレフィン系ポリマ（例えば日本ゼオンの光学用樹脂「ゼオネックス（登録商標）」）を材料として、射出成形によって成形された基板である。   The olefin-based plastic substrate 10 is a substrate formed by injection molding using a cycloolefin-based polymer (for example, an optical resin “ZEONEX (registered trademark)” of Nippon Zeon) as a material.

ＴｉＯ2 層２０の膜厚は１０〜１００（好ましくは１０〜５０）ｎｍである。膜厚を１０ｎｍ以下にすると一様な膜に成膜するのは困難であり、膜厚を１００ｎｍ以上にすると耐熱性が悪化し、クラックが生じ易い。 The film thickness of the TiO 2 layer 20 is 10 to 100 (preferably 10 to 50) nm. When the film thickness is 10 nm or less, it is difficult to form a uniform film, and when the film thickness is 100 nm or more, the heat resistance deteriorates and cracks are likely to occur.

ＳｉＯ2 層３０の膜厚は１０〜１００（好ましくは１０〜５０）ｎｍである。ＴｉＯ2 層２０と同様に膜厚を１０ｎｍ以下にすると一様な膜に成膜するのは困難であり、膜厚を１００ｎｍ以上にすると耐熱性が悪化し、クラックが生じ易い。 The film thickness of the SiO 2 layer 30 is 10 to 100 (preferably 10 to 50) nm. As with the TiO 2 layer 20, when the film thickness is 10 nm or less, it is difficult to form a uniform film. When the film thickness is 100 nm or more, the heat resistance deteriorates and cracks are likely to occur.

なお、ＴｉＯ2 層２０とＳｉＯ2 層３０とを積層したときの好ましい膜厚は２０〜１００ｎｍである。 A preferable film thickness when the TiO 2 layer 20 and the SiO 2 layer 30 are stacked is 20 to 100 nm.

紫外線硬化型樹脂層５０の材料としてシランカップリング剤４０との密着性がよいアクリル系紫外線硬化型樹脂が用いられる。   As a material for the ultraviolet curable resin layer 50, an acrylic ultraviolet curable resin having good adhesion to the silane coupling agent 40 is used.

ＴｉＯ2 層２０とＳｉＯ2 層３０との形成にはイオンビームアシスト蒸着法が用いられる。イオンビームアシスト蒸着法によれば、ＴｉＯ2 層２０、ＳｉＯ2 層３０の緻密さの向上を図ることができる。 An ion beam assisted deposition method is used to form the TiO 2 layer 20 and the SiO 2 layer 30. According to the ion beam assisted deposition method, the denseness of the TiO 2 layer 20 and the SiO 2 layer 30 can be improved.

次に、イオンビームアシスト蒸着法に使用されるイオンビームアシスト蒸着装置を説明する。   Next, an ion beam assisted vapor deposition apparatus used for the ion beam assisted vapor deposition method will be described.

図２はイオンビームアシスト蒸着装置を説明する概念図である。   FIG. 2 is a conceptual diagram illustrating an ion beam assisted vapor deposition apparatus.

イオンビームアシスト蒸着装置はベルジャと呼ばれる真空容器１１０と、真空容器１１０の底部に設けられたイオンビーム発生器１２０とを備えている。   The ion beam assisted deposition apparatus includes a vacuum vessel 110 called a bell jar and an ion beam generator 120 provided at the bottom of the vacuum vessel 110.

真空容器１１０内の上部には基板１１１が配置されている。真空容器１１０内の下部にはＴｉＯ2 やＳｉＯ2 等の薄膜材料１１２が収容されたルツボ型蒸発源１１３が配置されている。ルツボ型蒸発源１１３の上部には薄膜材料１１２の蒸発量を制御するシャッタ（図示せず）が設けられている。また、真空容器１１０内の下部には基板１１１が帯電するのを防止するために電子を放出するニュートライザ１１４が配置されている。 A substrate 111 is disposed in the upper part of the vacuum vessel 110. A crucible type evaporation source 113 in which a thin film material 112 such as TiO 2 or SiO 2 is accommodated is disposed in the lower part of the vacuum vessel 110. A shutter (not shown) for controlling the evaporation amount of the thin film material 112 is provided above the crucible type evaporation source 113. In addition, a neutralizer 114 that emits electrons is disposed in the lower part of the vacuum vessel 110 to prevent the substrate 111 from being charged.

イオンビーム発生器１２０内にはフィラメント１２１と電極１２２とが配置されている。フィラメント１２１及び電極１２２には高周波電力を供給する高周波電源１３０が接続されている。   A filament 121 and an electrode 122 are arranged in the ion beam generator 120. A high frequency power supply 130 for supplying high frequency power is connected to the filament 121 and the electrode 122.

イオンビーム発生器１２０の底部にはＯ2 等の反応ガスをイオンビーム発生器１２０内に導入するガス吸気管１２３が設けられている。 A gas intake pipe 123 for introducing a reactive gas such as O 2 into the ion beam generator 120 is provided at the bottom of the ion beam generator 120.

また、イオンビーム発生器１２０の周囲にはプラズマに磁界を印加する磁石１２４が配置されている。磁石１２４は永久磁石である。磁石１２４の働きによってプラズマが高密度化する。   A magnet 124 for applying a magnetic field to the plasma is disposed around the ion beam generator 120. The magnet 124 is a permanent magnet. The plasma is densified by the action of the magnet 124.

イオンビーム発生器１２０の上部には電子を引き出すための電子引出電極１２５とイオン化した反応ガスを加速させるための加速電極１２６とが配置されている。加速電極１２６には高周波電力を供給する高周波電源１３１が接続されている。   Above the ion beam generator 120, an electron extraction electrode 125 for extracting electrons and an acceleration electrode 126 for accelerating the ionized reaction gas are arranged. A high frequency power supply 131 that supplies high frequency power is connected to the acceleration electrode 126.

イオンビーム発生器１２０内に導入した反応ガス分子と、電極１２２に印加した高周波電力によって加速された電子との衝突電離によって反応ガスをプラズマ状態にする。薄膜材料１１２を蒸発させると同時に、加速電極１２６に電力を印加してイオン化した反応ガスを基板１１１に向けて照射し、その運動エネルギーによって薄膜材料１１２の蒸着粒子を基板１１１や成長中の薄膜に蒸着させる。   The reactive gas is brought into a plasma state by impact ionization of the reactive gas molecules introduced into the ion beam generator 120 and electrons accelerated by the high frequency power applied to the electrode 122. At the same time as the thin film material 112 is evaporated, an ionized reactive gas is applied to the accelerating electrode 126 to irradiate the substrate 111, and the kinetic energy causes vapor deposition particles of the thin film material 112 to be applied to the substrate 111 or the growing thin film. Evaporate.

次に、プラスチックレンズ１の作製方法を説明する。プラスチックレンズ１は以下に説明する積層方法を用いて作製される。   Next, a method for producing the plastic lens 1 will be described. The plastic lens 1 is manufactured using a lamination method described below.

（１）無機膜形成工程
図３は無機膜形成工程を説明するフローチャート、図４（ａ）〜（ｃ）は無機膜形成工程を説明する概念図である。図中、Ｓ１〜Ｓ７はその手順を示している。 (1) Inorganic Film Forming Step FIG. 3 is a flowchart for explaining the inorganic film forming step, and FIGS. 4A to 4C are conceptual diagrams for explaining the inorganic film forming step. In the figure, S1 to S7 indicate the procedure.

まず、オレフィン系プラスチック基板１０の表面を洗浄する（Ｓ１）（図４（ａ）参照）。   First, the surface of the olefin plastic substrate 10 is cleaned (S1) (see FIG. 4A).

次に、オレフィン系プラスチック基板１０をイオンビームアシスト蒸着装置の所定位置（図２の基板１１１が配置されている位置）にセットする（Ｓ２）。   Next, the olefin plastic substrate 10 is set at a predetermined position (position where the substrate 111 of FIG. 2 is disposed) of the ion beam assisted vapor deposition apparatus (S2).

その後、容器１１０,１２０内の真空度を６×１０-4 Ｐａにする（Ｓ３）。 Thereafter, the degree of vacuum in the containers 110 and 120 is set to 6 × 10 −4 Pa (S3).

次に、イオンビーム発生器１２０内に反応ガス（Ｏ2 ）を導入する（Ｓ４）。 Next, a reactive gas (O 2 ) is introduced into the ion beam generator 120 (S4).

その後、フィラメント１２１、電極１２２に高周波電力（電圧：１０００Ｖ、電流：１２０ｍＡ）を印加し、電子と反応ガス分子との衝突電離によって反応ガスをプラズマ状態にしてラジカルイオンを生成する。次に、ＴｉＯ2 （薄膜材料１１２）の入ったルツボ型蒸発源１１３のシャッタを開けると同時に、加速電極１２６に電力を印加してイオン化した反応ガスを基板１０に向けて照射させる。その結果、反応ガスの運動エネルギーによって気化したＴｉＯ2 が基板１０に蒸着し、基板１０上に膜厚１３ｎｍ（≪λ／４の膜厚）のＴｉＯ2 層２０が形成された（Ｓ５）（図４（ｂ）参照）。 Thereafter, high frequency power (voltage: 1000 V, current: 120 mA) is applied to the filament 121 and the electrode 122, and the reaction gas is brought into a plasma state by impact ionization of electrons and reaction gas molecules to generate radical ions. Next, the crucible-type evaporation source 113 containing TiO 2 (thin film material 112) is opened, and at the same time, power is applied to the acceleration electrode 126 to irradiate the substrate 10 with ionized reaction gas. As a result, TiO 2 vaporized by the kinetic energy of the reaction gas was deposited on the substrate 10, and a TiO 2 layer 20 having a film thickness of 13 nm (<< λ / 4 film thickness) was formed on the substrate 10 (S5) (FIG. 5). 4 (b)).

次に、ＳｉＯ2 （薄膜材料１１２）が収容されたルツボ型蒸発源１１３のシャッタを開けると同時に、加速電極１２６に電力を印加してイオン化した反応ガスをＴｉＯ2 層２０に向けて照射させる。その結果、反応ガスの運動エネルギーによって気化したＳｉＯ2 がＴｉＯ2 層２０に蒸着し、ＴｉＯ2 層２０上に膜厚３１ｎｍ（≪λ／４の膜厚）のＳｉＯ2 層３０が形成された（Ｓ６）（図４（ｃ）参照）。ＳｉＯ2 層３０の膜厚はＴｉＯ2 層２０の膜厚の約２．４倍である。イオンビームアシスト蒸着法により、ＴｉＯ2 層２０、ＳｉＯ2 層３０の薄膜化、緻密化を図ることができた。 Next, the crucible-type evaporation source 113 containing SiO 2 (thin film material 112) is opened, and at the same time, an electric power is applied to the acceleration electrode 126 to irradiate the TiO 2 layer 20 with ionized reaction gas. As a result, SiO 2 was vaporized by the kinetic energy of the reaction gas is deposited on the TiO 2 layer 20, SiO 2 layer 30 having a thickness of 31nm («λ / 4 film thickness) was formed on the TiO 2 layer 20 ( S6) (see FIG. 4C). The film thickness of the SiO 2 layer 30 is about 2.4 times the film thickness of the TiO 2 layer 20. Thinning and densification of the TiO 2 layer 20 and the SiO 2 layer 30 could be achieved by ion beam assisted deposition.

その後、ＴｉＯ2 層２０、ＳｉＯ2 層３０が積層された基板１０をイオンビームアシスト蒸着装置から取り出す（Ｓ７）。 Thereafter, the substrate 10 on which the TiO 2 layer 20 and the SiO 2 layer 30 are laminated is taken out from the ion beam assisted deposition apparatus (S7).

（２）シランカップリング処理工程
シランカップリング剤は、一般に式ＹＲＳｉＸ3 で表される。 (2) Silane coupling treatment step The silane coupling agent is generally represented by the formula YRSiX3.

ここで、
Ｘはケイ素原子に結合している加水分解性基で、ガラス、金属、珪石等の無機質材料と化学結合する反応基であり、例えば、メトキシ基、エトキシ基等である。 here,
X is a hydrolyzable group bonded to a silicon atom, which is a reactive group chemically bonded to an inorganic material such as glass, metal, or silica, such as a methoxy group or an ethoxy group.

Ｙは有機マトリックスと化学結合する有機官能基で、例えばビニル基、エポキシ基、アミノ基等である。   Y is an organic functional group chemically bonded to the organic matrix, such as a vinyl group, an epoxy group, or an amino group.

このシランカップリング剤の構成は上述のとおりであるため、無機物と有機樹脂とを結び付けることができ、物理強度、耐水性、接着性等を向上させることができる。   Since the structure of the silane coupling agent is as described above, the inorganic substance and the organic resin can be combined, and physical strength, water resistance, adhesiveness, and the like can be improved.

シランカップリング剤による接着性の向上は以下の理由によるものと考えられる。   It is considered that the improvement in adhesion by the silane coupling agent is due to the following reason.

（ａ）有機樹脂への“濡れ”が改良される。 (A) “Wet” to the organic resin is improved.

（ｂ）有機樹脂への相溶性が改良される。 (B) Compatibility with organic resins is improved.

（ｃ）無機物と有機樹脂との間で化学結合が生じる。 (C) A chemical bond occurs between the inorganic substance and the organic resin.

（ｄ）無機物と有機樹脂との間で水素結合的に結合される。 (D) Hydrogen bonds are formed between the inorganic substance and the organic resin.

次に、シランカップリング剤の使用方法について説明する。   Next, the usage method of a silane coupling agent is demonstrated.

シランカップリング剤は通常希薄水溶液で使用される。シランカップリング剤の水溶液濃度は通常０．１〜２．０％程度である。水に対して相溶性の乏しいシランカップリング剤の場合、０．０１〜２．０％程度の酢酸水や水−アルコール（酢酸水−アルコール）混合液で希釈する。酢酸はシランカップリング剤の加水分解を促進する性質とシラノールの安定性を高めてＰＨ領域にする性質とを有する。   Silane coupling agents are usually used in dilute aqueous solutions. The aqueous solution concentration of the silane coupling agent is usually about 0.1 to 2.0%. In the case of a silane coupling agent having poor compatibility with water, it is diluted with about 0.01 to 2.0% acetic acid water or a water-alcohol (acetic acid water-alcohol) mixture. Acetic acid has the property of promoting hydrolysis of the silane coupling agent and the property of enhancing the stability of silanol to make it into the PH region.

次に、シランカップリング剤の調整方法を具体的に説明する。   Next, the adjustment method of a silane coupling agent is demonstrated concretely.

（ａ）酢酸濃度０．０１〜２．０％の水溶液を準備する。シランカップリング剤の溶解性が良好な場合、酢酸濃度を低下させることができる。アミノシランカップリング剤の場合は酢酸の添加は不要である。 (A) An aqueous solution having an acetic acid concentration of 0.01 to 2.0% is prepared. When the solubility of the silane coupling agent is good, the acetic acid concentration can be lowered. In the case of an aminosilane coupling agent, addition of acetic acid is unnecessary.

（ｂ）酢酸水溶液を攪拌しながらシランカップリング剤を所定時間に亘って滴下して、シランカップリング剤の濃度を０．１〜２．０％にする。攪拌作業は水溶液をはね上げない状態でできるだけ速い速度で行われる。滴下時間が短いとシランカップリング剤の分散が不良となり、ゲル状物の生成が多くなる。 (B) While stirring the acetic acid aqueous solution, the silane coupling agent is dropped over a predetermined time to make the concentration of the silane coupling agent 0.1 to 2.0%. The stirring operation is performed at a speed as high as possible without splashing the aqueous solution. When the dropping time is short, the dispersion of the silane coupling agent becomes poor, and the generation of gel-like substances increases.

（ｃ）滴下終了後、更に３０〜６０分間に亘って上記水溶液を攪拌する。水溶液がほぼ透明になった時点でシランカップリング剤の加水分解が終了する。水溶液には、ＫＢＭ５０３（３−メタクリロキシプロピルトリメトキシシラン（信越化学工業株式会社の製品名）とエタノールと酢酸水とが重量比２：４８：５０で含まれる。 (C) After completion of the dropping, the aqueous solution is further stirred for 30 to 60 minutes. When the aqueous solution becomes almost transparent, hydrolysis of the silane coupling agent is completed. The aqueous solution contains KBM503 (3-methacryloxypropyltrimethoxysilane (product name of Shin-Etsu Chemical Co., Ltd.), ethanol and acetic acid water in a weight ratio of 2:48:50.

（ｄ）必要に応じてシラン水溶液（シランカップリング剤の希薄溶液）を濾過する。 (D) Filter the aqueous silane solution (dilute solution of silane coupling agent) as necessary.

シラン水溶液中に不溶物や浮遊物が目立つ場合、必要に応じて濾過を行う。連続してシラン水溶液を使用する場合、孔径０．５μｍ以下のカートリッジを使用した循環濾過処理を行なうのが好ましい。   If insoluble or suspended matter is noticeable in the silane aqueous solution, filtration is performed as necessary. When the silane aqueous solution is continuously used, it is preferable to perform a circulation filtration process using a cartridge having a pore size of 0.5 μm or less.

次に、上述のように加水分解されたシランカップリング剤を前記無機膜形成工程で無機膜が形成されたオレフィン系プラスチック基板１０の表面に塗布する。   Next, the silane coupling agent hydrolyzed as described above is applied to the surface of the olefin plastic substrate 10 on which the inorganic film has been formed in the inorganic film forming step.

まず、スピナを所定条件で回転させ、ＳｉＯ2 層３０の表面にシランカップリング剤の加水分解物を均一な厚さに塗布する。加水分解物の塗布後、オレフィン系プラスチック基板１０を１１０℃に設定されたオーブンに５分間入れてシランカップリング剤が塗布されたＳｉＯ2 層３０の表面とシランカップリング剤の加水分解物とを反応させる。 First, the spinner is rotated under predetermined conditions, and the hydrolyzate of the silane coupling agent is applied to the surface of the SiO 2 layer 30 to a uniform thickness. After the application of the hydrolyzate, the surface of the SiO 2 layer 30 on which the silane coupling agent is applied and the hydrolyzate of the silane coupling agent are placed in an oven set at 110 ° C. for 5 minutes after the hydrolyzate is applied. React.

（３）樹脂層形成工程
必要とされる膜厚に相当する重量の紫外線硬化型樹脂をシランカップリング処理されたＳｉＯ2 層３０の表面に供給し、１２０００ｍＪ／ｃｍ2 の紫外光を照射して紫外線硬化型樹脂を硬化させ、紫外線硬化型樹脂層５０を形成する。その結果、プラスチックレンズ１が完成する。 (3) Resin layer forming step An ultraviolet curable resin having a weight corresponding to the required film thickness is supplied to the surface of the SiO 2 layer 30 subjected to the silane coupling treatment and irradiated with ultraviolet light of 12000 mJ / cm 2. The ultraviolet curable resin is cured to form the ultraviolet curable resin layer 50. As a result, the plastic lens 1 is completed.

この実施形態によれば、ＳｉＯ2 層３０の表面にシランカップリング処理した後紫外線硬化型樹脂層５０を形成したので、ＳｉＯ2 層３０と紫外線硬化型樹脂層５０との間で化学結合が生じて両者の密着性が向上する。その結果、オレフィン系プラスチック基板１０と紫外線硬化型樹脂層５０との密着性が向上し、紫外線硬化型樹脂層５０がオレフィン系プラスチック基板１０から剥がれ難くなる。また、ＴｉＯ2 層２０、ＳｉＯ2 層３０の緻密さを向上させることができるので、ＴｉＯ2 層２０、ＳｉＯ2 層３０のクラックが防止される。 According to this embodiment, since the ultraviolet curable resin layer 50 is formed on the surface of the SiO 2 layer 30 after the silane coupling treatment, a chemical bond is generated between the SiO 2 layer 30 and the ultraviolet curable resin layer 50. This improves the adhesion between the two. As a result, the adhesion between the olefin plastic substrate 10 and the ultraviolet curable resin layer 50 is improved, and the ultraviolet curable resin layer 50 is less likely to be peeled from the olefin plastic substrate 10. Further, since the density of the TiO 2 layer 20 and the SiO 2 layer 30 can be improved, cracks in the TiO 2 layer 20 and the SiO 2 layer 30 are prevented.

なお、上記実施形態では樹脂層の樹脂として紫外線硬化型樹脂を用いたが、この代わりに熱硬化型樹脂を用いてもよい。   In the above embodiment, an ultraviolet curable resin is used as the resin of the resin layer, but a thermosetting resin may be used instead.

また、上記実施形態では無機膜形成工程でＴｉＯ2 層２０とＳｉＯ2 層３０との２つの層を形成したが、ＳｉＯ2 層３０を省略してＴｉＯ2 層２０だけを形成するようにしてもよい。 In the above embodiment, two layers of the TiO 2 layer 20 and the SiO 2 layer 30 are formed in the inorganic film forming step. However, the SiO 2 layer 30 may be omitted and only the TiO 2 layer 20 may be formed. Good.

図１はこの発明の一実施形態に係るプラスチックレンズの断面構造を示す模式図である。FIG. 1 is a schematic diagram showing a cross-sectional structure of a plastic lens according to an embodiment of the present invention. 図２はイオンビームアシスト蒸着装置を説明する概念図である。FIG. 2 is a conceptual diagram illustrating an ion beam assisted vapor deposition apparatus. 図３は無機膜形成工程を説明するフローチャートである。FIG. 3 is a flowchart for explaining the inorganic film forming step. 図４（ａ）〜（ｃ）は無機膜形成工程を説明する概念図である。4A to 4C are conceptual diagrams for explaining the inorganic film forming step.

符号の説明Explanation of symbols

１：プラスチックレンズ（光学部品）、１０：オレフィン系プラスチック基板、２０：ＴｉＯ2 層（無機膜）、３０：ＳｉＯ2 層３０（無機膜）、５０：紫外線硬化型樹脂層。 1: plastic lens (optical component), 10: olefin plastic substrate, 20: TiO 2 layer (inorganic film), 30: SiO 2 layer 30 (inorganic film), 50: UV curable resin layer.

Claims (11)

オレフィン系プラスチック基板の表面に無機膜を形成する無機膜形成工程と、
この無機膜形成工程の後、前記無機膜の表面にシランカップリング処理を行なうシランカップリング処理工程と、
このシランカップリング処理工程の後、前記無機膜の表面に樹脂層を形成する樹脂層形成工程と
を含むことを特徴とする積層方法。 An inorganic film forming step of forming an inorganic film on the surface of the olefin plastic substrate;
After this inorganic film forming step, a silane coupling treatment step of performing a silane coupling treatment on the surface of the inorganic film,
A resin layer forming step of forming a resin layer on the surface of the inorganic film after the silane coupling treatment step. 前記無機膜形成工程は、
前記オレフィン系プラスチック基板の表面にＴｉＯ2 膜を形成する工程を含むことを特徴とする請求項１記載の積層方法。 The inorganic film forming step includes
The lamination method according to claim 1, further comprising a step of forming a TiO 2 film on the surface of the olefin-based plastic substrate. 前記ＴｉＯ2 膜はイオンビームアシスト法を用いて形成されることを特徴とする請求項２記載の積層方法。 The lamination method according to claim 2, wherein the TiO 2 film is formed using an ion beam assist method. 前記無機膜形成工程は、
前記オレフィン系プラスチック基板の表面にＴｉＯ2 膜を形成する工程の後、前記ＴｉＯ2 膜の表面にＳｉＯ2 膜を形成する工程
を含むことを特徴とする請求項１〜３のいずれか１項記載の積層方法。 The inorganic film forming step includes
After the step of forming the TiO 2 film on the surface of the olefin-based plastic substrate, any one of claims 1 to 3, characterized in that it comprises a step of forming a SiO 2 film on the surface of the TiO 2 film Lamination method. 前記ＳｉＯ2 膜はイオンビームアシスト法を用いて形成されることを特徴とする請求項４記載の積層方法。 The lamination method according to claim 4, wherein the SiO 2 film is formed using an ion beam assist method. 前記ＴｉＯ2 膜の厚さは１０〜１００ｎｍであることを特徴とする請求項２又は３記載の積層方法。 The lamination method according to claim 2 or 3, wherein the TiO 2 film has a thickness of 10 to 100 nm. 前記ＴｉＯ2 膜の厚さは１０〜５０ｎｍであることを特徴とする請求項２又は３記載の積層方法。 The lamination method according to claim 2 or 3, wherein the TiO 2 film has a thickness of 10 to 50 nm. 前記ＳｉＯ2 膜の厚さは１０〜１００ｎｍであることを特徴とする請求項４又は５記載の積層方法。 Claim 4 or 5 method of a multilayer, wherein the thickness of the SiO 2 film is 10 to 100 nm. 前記ＳｉＯ2 膜の厚さは１０〜５０ｎｍであることを特徴とする請求項４又は５記載の積層方法。 Claim 4 or 5 method of a multilayer, wherein the thickness of the SiO 2 film is 10 to 50 nm. 前記ＴｉＯ2 膜と前記ＳｉＯ2 膜とを重ねたときの厚さは２０〜１００ｎｍであることを特徴とする請求項４又は５記載の積層方法。 6. The lamination method according to claim 4, wherein a thickness when the TiO 2 film and the SiO 2 film are stacked is 20 to 100 nm. 前記請求項１〜１０のいずれか１項記載の積層方法を用いて作製されたことを特徴とする光学部品。   An optical component produced by using the laminating method according to claim 1.
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