JP2007085824A - 磁気検出装置 - Google Patents
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Abstract
【課題】 高周波電源を用いることなく、また複雑な設計のMI素子を用いずとも構成可能で、小型で、かつ従来の高周波電源を用いた磁気検出装置と同等の感度を有する高感度な磁気検出装置を提供する。
【解決手段】 磁気検出装置10は、矩形波のパルス電圧を作るパルス発生部1と、外部磁界に対し3軸方向独立して電気的に応答する回路を有する磁気検出部2と、磁気検出部2の出力に対しその差分を出力する差動増幅部3と、差動増幅部3の出力に対しその出力のピークを一定時間維持する機能を有するピークホールド部4とを有する。
【選択図】図1
【解決手段】 磁気検出装置10は、矩形波のパルス電圧を作るパルス発生部1と、外部磁界に対し3軸方向独立して電気的に応答する回路を有する磁気検出部2と、磁気検出部2の出力に対しその差分を出力する差動増幅部3と、差動増幅部3の出力に対しその出力のピークを一定時間維持する機能を有するピークホールド部4とを有する。
【選択図】図1
Description
本発明は、磁気抵抗素子とそのインピーダンスを検出する測定部とで構成される、磁気検出装置に関する。
従来の技術として、MI(Magneto-Impedance)素子を使用した磁気検出装置が知られている。MI素子は、微小な外部磁界の変化に基づいてインピーダンスが変化する特性を有し、外部磁界の変化を電圧の出力信号として検出する磁気抵抗素子として小型の地磁気検出方位センサーや姿勢制御用センサーの用途が見込まれている(例えば、特許文献1)。
この磁気検出装置は、外部磁界に基づいたインピーダンスを示すMI素子と、MI素子に交流磁気バイアスをかけるためのバイアスコイルと、MI素子のインピーダンス変化を測定するための、10〜100MHzの高周波ドライブ電流を発生するコルピッツ発振回路と、検波回路、およびコンパレータを有する。
特開平9−127218号公報
しかし、従来の磁気検出装置によると、磁気検出のために高周波電源が必要であり、検波回路、コンパレータ共に複雑な回路を要し、装置の小型化が困難であるという問題がある。また、MI素子の特性上、高周波を使用する場合には設計や、製造工程が複雑になるという問題がある。
従って、本発明の目的は、高周波電源を用いることなく、また複雑な設計のMI素子を用いずとも構成可能で、小型で、かつ従来の高周波電源を用いた磁気検出装置と同等の感度を有する高感度な磁気検出装置を提供することにある。
本発明は上記目的を達成するため、パルス電圧を発生するパルス発生部と、外部磁界を検出するMI(Magneto-Impedace)素子と、前記外部磁界に不感の抵抗とを有し、前記外部磁界を少なくとも1軸方向で検出し、1軸あたり少なくとも一対の対向配置された前記MI素子と、一対の対向配置された前記抵抗とでブリッジ回路を構成してなる磁気検出部と、前記外部磁界の変化に応じた前記磁気検出部の出力を検出する差動増幅部とを有することを特徴とする磁気検出装置を提供する。
また、本発明は上記目的を達成するため、立ち上がり時間2〜10ns、パルス幅10〜100nsで周波数1kHz〜10MHzのパルス電圧を発生するパルス発生部と、外部磁界を検出するMI素子と、前記外部磁界に不感の抵抗とを有し、前記外部磁界を少なくとも1軸方向で検出し、1軸あたり少なくとも一対の対向配置された前記MI素子と、一対の対向配置された前記抵抗とでブリッジ回路を構成してなる磁気検出部と、前記外部磁界の変化に応じた前記磁気検出部の出力を検出する差動増幅部とを有することを特徴とする磁気検出装置を提供する。
また、本発明は上記目的を達成するため、立ち上がり時間2〜10ns、パルス幅10〜100nsで周波数1kHz〜10MHzのパルス電圧を発生するパルス発生部と、外部磁界を検出するMI素子と、前記外部磁界に不感の抵抗とを有し、前記外部磁界を少なくとも1軸方向で検出し、1軸あたり少なくとも一対の対向配置された前記MI素子と、一対の対向配置された前記抵抗とでブリッジ回路を構成してなる磁気検出部と、前記外部磁界の変化に応じた前記磁気検出部の出力を検出する差動増幅部と、前記差動増幅部の出力をピークホールドするためのピークホールド部とを有することを特徴とする磁気検出装置を提供する。
前記ピークホールド部は、BiCMOS(Bipolar Complementary Metal Oxide Semiconductor)を用いて構成することが好ましい。
本発明によれば、高周波電源を用いることなく、また複雑な設計のMI素子を用いずとも構成可能で、小型で、かつ従来の高周波電源を用いた磁気検出装置と同等の感度を有する高感度な磁気検出装置を構成することができる。
以下に、本発明の磁気検出装置の実施の形態を図面を参考にして詳細に説明する。
(磁気検出装置の構成)
図1は本発明の実施の形態に係る磁気検出装置の概略構成図である。
図1は本発明の実施の形態に係る磁気検出装置の概略構成図である。
この磁気検出装置10は、矩形波のパルス電圧を発生するパルス発生部1と、外部磁界に対し3軸方向独立して電気的に応答する回路を有する磁気検出部2と、各軸方向毎に設けられて磁気検出部2の2つの出力に対してその差分を出力する差動増幅部3と、各差動増幅部3の出力に対しその出力のピークを一定時間維持する機能を有するピークホールド部4とを有する。磁気検出装置10の外部には、ピークホールド部4の出力を、磁気検出装置10を搭載する電子機器に対応した所望の出力に変換する信号処理部5が設置される。
ピークホールド部4は、差動増幅部3からの出力に対し時間的に十分に応答することができるBiCMOS(Bipolar Complementary Metal Oxide Semiconductor)を使用して構成する。
図2は本発明の実施の形態に関する磁気検出装置の磁気検出部の回路図である。図2は3軸方向のうちの1軸に関するものであり、全く同様の回路が残り2軸に対しても適用される。
磁気検出部2は、対向配置された2つのMI素子20と、対向配置された2つの抵抗21を有し、ブリッジ回路にて構成されている。Iinはパルス発生部1に接続され、V1とV2は差動増幅部3に接続される。
図3(a)は本発明に係るMI素子の構成を示す平面図である。(b)は(a)におけるMI素子の等価回路図である。
図3(a)に示すように、MI素子20は、シリコン等の材質からなる平面状の基板200と、基板200の表面に高周波スパッタリングによって形成されるNiFe等の高透磁率材料からなるセンサ素子201と、センサ素子201間を電気的に接続するCuからなる素子接合部202と、センサ素子201を外部と電気的に接続するCuからなる電極203とを有する。
MI素子20は、図3(b)に示すように、インダクタ204と、抵抗205を直列接続し、それらとコンデンサ206を並列接続した等価回路を構成する。
(磁気検出装置の動作)
以下に、本発明の実施の形態における磁気検出装置の動作を図1から図5を参照しつつ説明する。
以下に、本発明の実施の形態における磁気検出装置の動作を図1から図5を参照しつつ説明する。
MI素子20のインピーダンスは、外部磁界の強さに比例して変化する。図3(b)の等価回路において、インダクタ204とコンデンサ206の特性は磁界に基づいて変化せず、抵抗205の特性は磁界に基づいて変化する。その結果、MI素子20全体としてのインピーダンスが変化する。
パルス電圧は、パルス発生部1から入力され、図2に示す磁気検出部2において、パルス電圧に基づく電流がブリッジ回路の右側と左側を流れる。ブリッジ回路の右側を流れる電流は、左側を流れる電流に対し、MI素子20のインピーダンスに基づいて位相差が生じたものになる。その結果、ブリッジ回路の左側における電圧V1は、右側におけるV2のものより立ち上がりがなだらかなものとなる。
図4は本発明の実施の形態に関する磁気検出部の入力、および出力波形と、差動増幅部の出力波形の模式図である。(a)は外部磁界Bが弱い場合、(b)は外部磁界Bが強い場合を示している。
磁気検出部2に矩形波のパルス電圧を入力すると、出力される電圧V1、V2はMI素子20のインピーダンスに比例してそれぞれ立ち上がりがなだらかな矩形波になる。例えば、図4(a)と(b)に示すように、磁気検出部2が異なる強さの磁界中にある場合、(a)に対して(b)の出力電圧V1、V2は、よりなだらかな立ち上がりの矩形波を示す。
上記した磁気検出部2の特徴に基づいて、差動増幅部3より出力されるV1とV2の差は、図4に示すように磁界が強いときに大きく、磁界が弱いときに小さくなる。
差動増幅部3の出力は、ピーク幅が短いためにエネルギーが小さい。そのため、ピークホールド部4は、差動増幅部3の出力のピークを一定時間維持し、十分なエネルギーを有する信号として信号処理部5に対して出力する。信号処理部5は、ピークホールド部4より受け取った信号を所望の命令信号へと変換する。
図5は一般的な矩形波を示す模式図である。
磁気検出部2の特徴に基づき、磁気検出装置10の外部磁界に対する線形性は、図5に示すように、立ち上がり時間がTr、パルス幅がTwの矩形波において、Tr=2〜10ns、Tw=10〜100nsの場合に良好であり、特にTr=5ns、Tw=30nsの場合に最適となる。また、本実施の形態では、パルス信号の周波数を250kHzとしており、特に高周波を用いずとも良好な線形性が得られることを確認している。
なお、以上に説明した動作は3軸空間のx軸、y軸、z軸に対して同様に適用できるものである。
また、MI素子は、良好な感度を得るために、また磁界方向を判断するために図示しないコイル等で直流電流による磁気バイアスを与えている。
また、信号処理部5は磁気検出装置10内に設置しても、搭載する電子機器に設置してもよい。
(磁気検出装置の効果)
上記した実施の形態によると、磁気検出装置10は磁気検出部2からの出力は入力するパルス電圧の立ち上がり時間、およびパルス幅に依存し、その波形には依存しない。また、実施の形態の説明では250kHzのパルス電圧を用いたが、周波数1kHz〜10MHz程度のパルス電圧であれば、その入力に基づいて磁界の微小な変化を検出できるので、高周波を必要とせず、パルス発生部1として高性能なものを使用することなく構成できる。
上記した実施の形態によると、磁気検出装置10は磁気検出部2からの出力は入力するパルス電圧の立ち上がり時間、およびパルス幅に依存し、その波形には依存しない。また、実施の形態の説明では250kHzのパルス電圧を用いたが、周波数1kHz〜10MHz程度のパルス電圧であれば、その入力に基づいて磁界の微小な変化を検出できるので、高周波を必要とせず、パルス発生部1として高性能なものを使用することなく構成できる。
また、高周波電源を使用せずに構成したため、高周波に対応した複雑な設計のMI素子を使用する必要がなく、検波回路や、高周波に対応したコンパレータ等も必要としない。その結果、磁気検出装置10の設計における制約が減少し、小型に設計することが容易になると同時に、コストを抑えることができる
また、MI素子をブリッジ構成したことにより、MI素子の磁界に対する微小な応答を精度良く検出することができ、従来の高周波電源を用いた磁気検出装置と同等の感度を得ることができる。
1…パルス発生部、2…磁気検出部、3…差動増幅部、4…ピークホールド部、
5…信号処理部、10…磁気検出装置、20…MI素子、21…抵抗、200…基板、
201…センサ素子、202…素子接合部、203…電極、204…インダクタ
205…抵抗、206…コンデンサ
5…信号処理部、10…磁気検出装置、20…MI素子、21…抵抗、200…基板、
201…センサ素子、202…素子接合部、203…電極、204…インダクタ
205…抵抗、206…コンデンサ
Claims (4)
- パルス電圧を発生するパルス発生部と、
外部磁界を検出するMI(Magneto-Impedace)素子と、前記外部磁界に不感の抵抗とを有し、前記外部磁界を少なくとも1軸方向で検出し、1軸あたり少なくとも一対の対向配置された前記MI素子と、一対の対向配置された前記抵抗とでブリッジ回路を構成してなる磁気検出部と、
前記外部磁界の変化に応じた前記磁気検出部の出力を検出する差動増幅部とを有することを特徴とする磁気検出装置。 - 立ち上がり時間2〜10ns、パルス幅10〜100nsで周波数1kHz〜10MHzのパルス電圧を発生するパルス発生部と、
外部磁界を検出するMI素子と、前記外部磁界に不感の抵抗とを有し、前記外部磁界を少なくとも1軸方向で検出し、1軸あたり少なくとも一対の対向配置された前記MI素子と、一対の対向配置された前記抵抗とでブリッジ回路を構成してなる磁気検出部と、
前記外部磁界の変化に応じた前記磁気検出部の出力を検出する差動増幅部とを有することを特徴とする磁気検出装置。 - 立ち上がり時間2〜10ns、パルス幅10〜100nsで周波数1kHz〜10MHzのパルス電圧を発生するパルス発生部と、
外部磁界を検出するMI素子と、前記外部磁界に不感の抵抗とを有し、前記外部磁界を少なくとも1軸方向で検出し、1軸あたり少なくとも一対の対向配置された前記MI素子と、一対の対向配置された前記抵抗とでブリッジ回路を構成してなる磁気検出部と、
前記外部磁界の変化に応じた前記磁気検出部の出力を検出する差動増幅部と、
前記差動増幅部の出力をピークホールドするためのピークホールド部とを有することを特徴とする磁気検出装置。 - 前記ピークホールド部は、BiCMOS(Bipolar Complementary Metal Oxide Semiconductor)を用いて構成される請求項3に記載の磁気検出装置。
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-
2005
- 2005-09-21 JP JP2005273486A patent/JP2007085824A/ja active Pending
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