JP2007069201A - 半導体廃ガス処理用スクラバ - Google Patents
半導体廃ガス処理用スクラバ Download PDFInfo
- Publication number
- JP2007069201A JP2007069201A JP2006172891A JP2006172891A JP2007069201A JP 2007069201 A JP2007069201 A JP 2007069201A JP 2006172891 A JP2006172891 A JP 2006172891A JP 2006172891 A JP2006172891 A JP 2006172891A JP 2007069201 A JP2007069201 A JP 2007069201A
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- waste gas
- tower
- chamber
- scrubber
- semiconductor waste
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Granted
Links
- 239000004065 semiconductor Substances 0.000 title claims abstract description 173
- 238000012545 processing Methods 0.000 title claims abstract description 65
- 239000002245 particle Substances 0.000 claims abstract description 177
- XLYOFNOQVPJJNP-UHFFFAOYSA-N water Substances O XLYOFNOQVPJJNP-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims abstract description 174
- 238000002485 combustion reaction Methods 0.000 claims abstract description 161
- 239000007789 gas Substances 0.000 claims abstract description 133
- 239000000446 fuel Substances 0.000 claims abstract description 95
- QVGXLLKOCUKJST-UHFFFAOYSA-N atomic oxygen Chemical compound [O] QVGXLLKOCUKJST-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims abstract description 83
- 239000001301 oxygen Substances 0.000 claims abstract description 83
- 229910052760 oxygen Inorganic materials 0.000 claims abstract description 83
- 239000002912 waste gas Substances 0.000 claims description 208
- 239000011261 inert gas Substances 0.000 claims description 58
- 238000002347 injection Methods 0.000 claims description 44
- 239000007924 injection Substances 0.000 claims description 44
- 239000000498 cooling water Substances 0.000 claims description 21
- 239000007788 liquid Substances 0.000 claims description 21
- 230000002093 peripheral effect Effects 0.000 claims description 19
- 238000001816 cooling Methods 0.000 claims description 11
- 238000000034 method Methods 0.000 claims description 10
- 238000007599 discharging Methods 0.000 claims description 9
- 230000000903 blocking effect Effects 0.000 claims description 6
- 238000005192 partition Methods 0.000 claims description 6
- 238000007667 floating Methods 0.000 claims description 5
- 238000001914 filtration Methods 0.000 claims description 3
- 239000013505 freshwater Substances 0.000 claims description 3
- 230000000149 penetrating effect Effects 0.000 claims description 3
- 239000008213 purified water Substances 0.000 claims description 3
- 230000035939 shock Effects 0.000 claims description 3
- 230000003584 silencer Effects 0.000 claims description 3
- 239000000779 smoke Substances 0.000 claims description 3
- 239000002699 waste material Substances 0.000 claims description 3
- 238000004519 manufacturing process Methods 0.000 abstract description 9
- 239000007921 spray Substances 0.000 description 16
- HEMHJVSKTPXQMS-UHFFFAOYSA-M Sodium hydroxide Chemical compound [OH-].[Na+] HEMHJVSKTPXQMS-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 12
- 238000004140 cleaning Methods 0.000 description 10
- IJGRMHOSHXDMSA-UHFFFAOYSA-N Atomic nitrogen Chemical compound N#N IJGRMHOSHXDMSA-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 9
- XUIMIQQOPSSXEZ-UHFFFAOYSA-N Silicon Chemical compound [Si] XUIMIQQOPSSXEZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 9
- 229910052710 silicon Inorganic materials 0.000 description 9
- 239000010703 silicon Substances 0.000 description 9
- 238000002156 mixing Methods 0.000 description 7
- 239000010419 fine particle Substances 0.000 description 6
- 238000007789 sealing Methods 0.000 description 6
- 230000000694 effects Effects 0.000 description 4
- 229910001873 dinitrogen Inorganic materials 0.000 description 3
- 238000012423 maintenance Methods 0.000 description 3
- 229910052757 nitrogen Inorganic materials 0.000 description 3
- 230000002829 reductive effect Effects 0.000 description 3
- VYPSYNLAJGMNEJ-UHFFFAOYSA-N Silicium dioxide Chemical compound O=[Si]=O VYPSYNLAJGMNEJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 238000005452 bending Methods 0.000 description 2
- 230000003247 decreasing effect Effects 0.000 description 2
- 230000008021 deposition Effects 0.000 description 2
- 125000006850 spacer group Chemical group 0.000 description 2
- 231100000331 toxic Toxicity 0.000 description 2
- 230000002588 toxic effect Effects 0.000 description 2
- BLRPTPMANUNPDV-UHFFFAOYSA-N Silane Chemical compound [SiH4] BLRPTPMANUNPDV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 238000009825 accumulation Methods 0.000 description 1
- -1 and eventually Substances 0.000 description 1
- 230000004888 barrier function Effects 0.000 description 1
- 238000006243 chemical reaction Methods 0.000 description 1
- 229910052681 coesite Inorganic materials 0.000 description 1
- 229910052906 cristobalite Inorganic materials 0.000 description 1
- 230000007423 decrease Effects 0.000 description 1
- 238000005516 engineering process Methods 0.000 description 1
- 238000003912 environmental pollution Methods 0.000 description 1
- 238000005530 etching Methods 0.000 description 1
- 239000000706 filtrate Substances 0.000 description 1
- 230000005484 gravity Effects 0.000 description 1
- 238000010438 heat treatment Methods 0.000 description 1
- XLYOFNOQVPJJNP-ZSJDYOACSA-N heavy water Substances [2H]O[2H] XLYOFNOQVPJJNP-ZSJDYOACSA-N 0.000 description 1
- 230000006698 induction Effects 0.000 description 1
- 230000002401 inhibitory effect Effects 0.000 description 1
- 238000009434 installation Methods 0.000 description 1
- 239000000203 mixture Substances 0.000 description 1
- 238000012986 modification Methods 0.000 description 1
- 230000004048 modification Effects 0.000 description 1
- 230000001590 oxidative effect Effects 0.000 description 1
- 238000001139 pH measurement Methods 0.000 description 1
- 230000036961 partial effect Effects 0.000 description 1
- 238000001556 precipitation Methods 0.000 description 1
- 230000000630 rising effect Effects 0.000 description 1
- 239000000377 silicon dioxide Substances 0.000 description 1
- 235000012239 silicon dioxide Nutrition 0.000 description 1
- 229910052682 stishovite Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000000126 substance Substances 0.000 description 1
- 239000010409 thin film Substances 0.000 description 1
- 229910052905 tridymite Inorganic materials 0.000 description 1
Images
Classifications
-
- B—PERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
- B01—PHYSICAL OR CHEMICAL PROCESSES OR APPARATUS IN GENERAL
- B01D—SEPARATION
- B01D47/00—Separating dispersed particles from gases, air or vapours by liquid as separating agent
- B01D47/06—Spray cleaning
-
- B—PERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
- B01—PHYSICAL OR CHEMICAL PROCESSES OR APPARATUS IN GENERAL
- B01D—SEPARATION
- B01D47/00—Separating dispersed particles from gases, air or vapours by liquid as separating agent
- B01D47/14—Packed scrubbers
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C23—COATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; CHEMICAL SURFACE TREATMENT; DIFFUSION TREATMENT OF METALLIC MATERIAL; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL; INHIBITING CORROSION OF METALLIC MATERIAL OR INCRUSTATION IN GENERAL
- C23C—COATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; SURFACE TREATMENT OF METALLIC MATERIAL BY DIFFUSION INTO THE SURFACE, BY CHEMICAL CONVERSION OR SUBSTITUTION; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL
- C23C16/00—Chemical coating by decomposition of gaseous compounds, without leaving reaction products of surface material in the coating, i.e. chemical vapour deposition [CVD] processes
- C23C16/44—Chemical coating by decomposition of gaseous compounds, without leaving reaction products of surface material in the coating, i.e. chemical vapour deposition [CVD] processes characterised by the method of coating
- C23C16/4412—Details relating to the exhausts, e.g. pumps, filters, scrubbers, particle traps
-
- F—MECHANICAL ENGINEERING; LIGHTING; HEATING; WEAPONS; BLASTING
- F23—COMBUSTION APPARATUS; COMBUSTION PROCESSES
- F23G—CREMATION FURNACES; CONSUMING WASTE PRODUCTS BY COMBUSTION
- F23G7/00—Incinerators or other apparatus for consuming industrial waste, e.g. chemicals
- F23G7/06—Incinerators or other apparatus for consuming industrial waste, e.g. chemicals of waste gases or noxious gases, e.g. exhaust gases
- F23G7/061—Incinerators or other apparatus for consuming industrial waste, e.g. chemicals of waste gases or noxious gases, e.g. exhaust gases with supplementary heating
- F23G7/065—Incinerators or other apparatus for consuming industrial waste, e.g. chemicals of waste gases or noxious gases, e.g. exhaust gases with supplementary heating using gaseous or liquid fuel
-
- B—PERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
- B01—PHYSICAL OR CHEMICAL PROCESSES OR APPARATUS IN GENERAL
- B01D—SEPARATION
- B01D2258/00—Sources of waste gases
- B01D2258/02—Other waste gases
- B01D2258/0216—Other waste gases from CVD treatment or semi-conductor manufacturing
-
- F—MECHANICAL ENGINEERING; LIGHTING; HEATING; WEAPONS; BLASTING
- F23—COMBUSTION APPARATUS; COMBUSTION PROCESSES
- F23G—CREMATION FURNACES; CONSUMING WASTE PRODUCTS BY COMBUSTION
- F23G2209/00—Specific waste
- F23G2209/14—Gaseous waste or fumes
- F23G2209/142—Halogen gases, e.g. silane
-
- F—MECHANICAL ENGINEERING; LIGHTING; HEATING; WEAPONS; BLASTING
- F23—COMBUSTION APPARATUS; COMBUSTION PROCESSES
- F23J—REMOVAL OR TREATMENT OF COMBUSTION PRODUCTS OR COMBUSTION RESIDUES; FLUES
- F23J2217/00—Intercepting solids
- F23J2217/50—Intercepting solids by cleaning fluids (washers or scrubbers)
-
- Y—GENERAL TAGGING OF NEW TECHNOLOGICAL DEVELOPMENTS; GENERAL TAGGING OF CROSS-SECTIONAL TECHNOLOGIES SPANNING OVER SEVERAL SECTIONS OF THE IPC; TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER USPC CROSS-REFERENCE ART COLLECTIONS [XRACs] AND DIGESTS
- Y02—TECHNOLOGIES OR APPLICATIONS FOR MITIGATION OR ADAPTATION AGAINST CLIMATE CHANGE
- Y02C—CAPTURE, STORAGE, SEQUESTRATION OR DISPOSAL OF GREENHOUSE GASES [GHG]
- Y02C20/00—Capture or disposal of greenhouse gases
- Y02C20/30—Capture or disposal of greenhouse gases of perfluorocarbons [PFC], hydrofluorocarbons [HFC] or sulfur hexafluoride [SF6]
Landscapes
- Chemical & Material Sciences (AREA)
- Engineering & Computer Science (AREA)
- Chemical Kinetics & Catalysis (AREA)
- Mechanical Engineering (AREA)
- Environmental & Geological Engineering (AREA)
- Metallurgy (AREA)
- Materials Engineering (AREA)
- Organic Chemistry (AREA)
- General Chemical & Material Sciences (AREA)
- General Engineering & Computer Science (AREA)
- Incineration Of Waste (AREA)
- Treating Waste Gases (AREA)
- Separation Of Particles Using Liquids (AREA)
Abstract
【解決手段】本発明は、半導体製造時に発生される廃ガスを高温の炎で燃焼した後、水で濾過及び捕集した後、大気中に排出する半導体廃ガス処理用スクラバが開示される。
一例として、半導体廃ガス、燃料及び酸素を供給する供給部と、供給部に連結されて、半導体廃ガスを炎で燃焼させるバーナと、バーナに結合されて半導体廃ガスの燃焼により生成されるパーティクルを落下させる燃焼チャンバーと、燃焼チャンバーの一方の側に設けられて、燃焼チャンバーから送られたパーティクルを水で吸着して落下させ、濾過されたガスを外部に排出する湿式タワーと、燃焼チャンバーと湿式タワーとに結合されて、燃焼チャンバー及び湿式タワーから落下するパーティクルを水で捕集する水槽タンクとからなる半導体廃ガス処理用スクラバが開示される。
【選択図】 図1
Description
SiH4(ガス)+2O2→SiO2(パーティクル)+2H2O
を含んでなることを特徴とする。
また、本発明に係る半導体廃ガス処理用スクラバのうち、湿式タワーは第1タワーと第2タワーの位置を互いに変えて設置することができ、また第3タワーと第4タワーの位置を互いに変えて設置することができるので、工程及び装備の状態によって多様な形態で任意変更して湿式タワーを運用できることになる。
1100 供給部
1111 廃ガス供給管
1112 バイパス廃ガス供給管
1113 3方向バルブ
1114 センサーユニット
1115 燃料供給管
1116 酸素供給管
1200 バーナ
1210 主胴体
1211 半導体廃ガス供給通路
1212 燃料供給通路
1213 酸素供給通路
1214 傾斜面
1215 遮断壁
1216 拡張部
1216a グルーブ
1216b 燃料ノズル
1216c 燃料空間部
1217 第1フランジ
1217a 段部
1218 第2フランジ
1218a 凹溝
1220 燃料ノズル胴体
1221 中央穴部
1222 拡張部
1222a グルーブ
1222b 酸素ノズル
1222c 酸素空間部
1230 酸素ノズル胴体
1231 中央穴部
1232 拡張部
1233 段部
1240 組立胴体
1241 中央穴部
1242 拡張部
1235 冷却水空間部
1300 燃焼チャンバー
1310 上部カバー
1320 内部チャンバー
1321 内部上チャンバー
1322 内部下チャンバー
1330 外部チャンバー
1331 外部上チャンバー
1332 外部下チャンバー
1341 密閉リング
1342 ゴムリング
1343 冷却チューブ
1344 パイロットバーナ
1345 紫外線センサー
1346 固定部材
1350 下部チャンバー
1351 パーティクルガイド部材
1352 不活性ガスチューブ
1353 中間連結管
1354 下部連結管
1355 ローラ
1360 パーティクル除去用ガス供給部
1361 不活性ガス供給管
1362 ガスチューブ
1363 ガスノズル
1363a 直線部
1363b 折曲部
1400 チャンバー支持部
1410 支持プレート
1420 ガイドレール
1430 ガイドブロック
1440 支持台
1441 水平面
1442 下降面
1450 支持棒
1500 湿式タワー
1510 ベースタワー
1511 ベース噴射ノズル
1512 圧力感知ポート
1520 第1タワー
1521 第1フィルタ
1522 第1噴射ノズル
1523 透明第1ウィンドウ
1530 第2タワー
1531 第2フィルタ
1532 第2噴射ノズル
1533 透明第2ウィンドウ
1540 第3タワー
1541 第3フィルタ
1542 第3噴射ノズル
1550 第4タワー
1551 衝撃板
1552 通孔
1553 不活性ガス供給パイプ
1554 ボルト
1555 スペーサ
1556 ナット
1560 カバー
1561 第1排気管
1562 低温空気供給ポート
1563 圧力感知ポート
1564 温度感知ポート
1565 第2排気管
1566 排気量調節部材
1600 水槽タンク
1610 外壁
1611 底面
1612 上部カバー
1613 第1領域
1614 第2領域
1615 隔壁
1616 開口
1617 フィルタ部
1618 投入口
1619 センサーブラケット
1620 ドレーンポンプ
1621 液体吸入ポート
1622 吸入パイプ
1623 液体排出ポート
1624 空気吸入ポート
1625 空気排出ポート
1630 バブル発生器
1640 循環ポンプ
1641 吸入ポート
1642 排出ポート
1650 熱交換器
Claims (46)
- 半導体廃ガス、燃料及び酸素を供給する供給部と、
前記供給部に連結されて、前記半導体廃ガスを炎で燃焼させるバーナと、
前記バーナに結合されて前記半導体廃ガスの燃焼により生成されるパーティクルを落下させる燃焼チャンバーと、
前記燃焼チャンバーの一側に設けられて、前記燃焼チャンバーから送られたパーティクルを水で吸着して落下させる湿式タワーと、
前記燃焼チャンバーと湿式タワーとに結合されて、前記燃焼チャンバー及び湿式タワーから落下するパーティクルを水で捕集する水槽タンクと、
を含んでなることを特徴とする半導体廃ガス処理用スクラバ。 - 前記燃焼チャンバーの下端には前記燃焼チャンバーを支持するチャンバー支持部が更に設けられたことを特徴とする請求項1に記載の半導体廃ガス処理用スクラバ。
- 前記供給部は、前記バーナに連結されて半導体廃ガスを供給する少なくとも1つの廃ガス供給管と、前記廃ガス供給管に連結されて半導体廃ガスをバイパスさせる少なくとも1つのバイパス廃ガス供給管と、前記バーナに連結されて燃料を供給する少なくとも1つの燃料供給管と、前記バーナに連結されて酸素を供給する少なくとも1つの酸素供給管とを含んでなることを特徴とする請求項1に記載の半導体廃ガス処理用スクラバ。
- 前記バーナは、
少なくとも1つの半導体廃ガス供給通路、少なくとも1つの燃料供給通路、及び少なくとも1つの酸素供給通路が形成された主胴体と、
前記主胴体の外周端に結合されて、燃料供給空間部及び燃料供給ノズルを形成する燃料ノズル胴体と、
前記主胴体及び燃料ノズル胴体の外周端に結合されて、酸素供給空間部及び酸素供給ノズルを形成する酸素ノズル胴体と、
前記主胴体及び酸素ノズル胴体の外周端に結合されて冷却水空間部を形成すると共に、前記燃焼チャンバーに結合される組立胴体と、
を含んでなることを特徴とする請求項1に記載の半導体廃ガス処理用スクラバ。 - 前記主胴体は、
略下端から水平かつ外側方向に所定長さ拡張されると共に、外周面に少なくとも1つのグルーブが形成された拡張部と、
前記拡張部の上に配置され、水平かつ外側方向に前記拡張部の長さより長く延在した第1フランジと、
前記第1フランジの上に配置され、水平かつ外側方向に前記第1フランジの長さより長く延在した第2フランジと、を含み、
前記半導体廃ガス供給通路は、前記主胴体を略上端から下方向に貫通し、前記燃料供給通路は前記主胴体の上端から下方向に延び、その出口が前記拡張部と第1フランジ部との間に形成され、前記酸素供給通路は前記主胴体の上端から下方向に延び、その出口が前記第1フランジと第2フランジとの間に形成されたことを特徴とする請求項4に記載の半導体廃ガス処理用スクラバ。 - 前記主胴体の拡張部に形成されたグルーブは、下端部の延長線が前記主胴体の下端の中心線の延長線と交差するように所定角度傾斜するように形成されると共に、前記グルーブが、前記燃料ノズル胴体に密着して燃料ノズルが形成され、前記拡張部と第1フランジとに前記燃料ノズル胴体が密着することによって前記主胴体と燃料ノズル胴体との間の空間に燃料空間部が形成されることを特徴とする、請求項5に記載の半導体廃ガス処理用スクラバ。
- 前記燃料ノズル胴体は、前記主胴体が結合されるように中央に中央穴部が形成され、下端から水平かつ外側方向に所定長さ延在すると共に、外周面に少なくとも1つのグルーブが形成された拡張部が形成されたことを特徴とする請求項6に記載の半導体廃ガス処理用スクラバ。
- 前記燃料ノズル胴体の拡張部に形成されたグルーブは、前記主胴体の拡張部に形成されたグルーブの角度より大きい角度で傾斜するように形成されると共に、前記燃料ノズル胴体のグルーブが前記酸素ノズル胴体に密着して酸素ノズルが形成され、前記主胴体の第2フランジと前記燃料ノズル胴体のグルーブに前記酸素ノズル胴体が密着することによって、前記主胴体の第1フランジと第2フランジとの間の空間及び燃料ノズル胴体と酸素ノズル胴体との間の空間に酸素空間部が形成されることを特徴とする、請求項7に記載の半導体廃ガス処理用スクラバ。
- 前記酸素ノズル胴体は、前記燃料ノズル胴体が結合されるように中央に中央穴部が形成され、下端から水平かつ外側方向に所定長さ延在した拡張部が形成されたことを特徴とする、請求項5に記載の半導体廃ガス処理用スクラバ。
- 前記組立胴体は、前記酸素ノズル胴体が結合されるように中央に中央穴部が形成され、前記酸素ノズル胴体の外周端と前記組立胴体の内周端との間の所定空間に冷却水空間部が形成されると共に、前記冷却水空間部には冷却水パイプが連結されることを特徴とする、請求項9に記載の半導体廃ガス処理用スクラバ。
- 前記主胴体には底面の中心が下方に突出する漏斗形の傾斜面が形成され、前記傾斜面の周りには下方向に所定長さ突出した遮断壁が更に形成されたことを特徴とする請求項5に記載の半導体廃ガス処理用スクラバ。
- 前記燃焼チャンバーは、
前記バーナが中央に結合される上部カバーと、
前記バーナの外周端であって前記上部カバーの下端に結合された内部チャンバーと、
前記内部チャンバーの外周端であって前記上部カバーの下端に結合された外部チャンバーと、
を含んでなることを特徴とする請求項1に記載の半導体廃ガス処理用スクラバ。 - 前記上部カバーと外部チャンバーとの間の空間には冷却水が供給される冷却チューブが設けられると共に、前記冷却チューブには少なくとも1つの貫通ホールが形成されることによって、前記冷却水が前記内部チャンバーと外部チャンバーとの間の空間に噴射されることを特徴とする請求項12に記載の半導体廃ガス処理用スクラバ。
- 前記内部チャンバーは、内部上チャンバーと内部下チャンバーとからなり、相互に着脱可能であり、前記外部チャンバーも外部上チャンバーと外部下チャンバーとからなり、相互着脱可能であることを特徴とする請求項12に記載の半導体廃ガス処理用スクラバ。
- 前記燃焼チャンバーには、前記外部チャンバーと内部チャンバーとを貫通して前記バーナの下に位置することによって、初期点火を遂行するパイロットバーナが備えられ、前記外部チャンバーと内部チャンバーとを貫通して前記バーナの下に位置することによって、初期点火成功の可否を感知する紫外線センサーが備えられたことを特徴とする請求項12に記載の半導体廃ガス処理用スクラバ。
- 前記燃焼チャンバーには所定の圧力のガスを供給し、前記燃焼チャンバーの内壁にパーティクルが蓄積されないようにするパーティクル除去用ガス供給部が更に設けられたことを特徴とする請求項12に記載の半導体廃ガス処理用スクラバ。
- 前記パーティクル除去用ガス供給部は、
前記燃焼チャンバーのうち、上部カバーの外側に結合されたガス供給管と、
前記ガス供給管に連結されると共に、前記上部カバーと内部チャンバーとの間の空間に沿ってリング形状に形成されたガスチューブと、
前記ガスチューブに結合されると共に、前記内部チャンバーの内部で所定長さ延在した少なくとも1つのガスノズルを含んでなることを特徴とする請求項16に記載の半導体廃ガス処理用スクラバ。 - 前記ガスノズルは、
前記内部チャンバーの内壁に平行となるように形成された直線部と、
前記ガスが前記内部チャンバーの内壁に衝撃を与えられるように、前記直線部の端部から前記内部チャンバーの内壁に向けて折り曲げられた折曲部を含んでなることを特徴とする請求項17に記載の半導体廃ガス処理用スクラバ。 - 前記ガスノズルは、内部チャンバーの中央を中心にして90度間隔で4つが形成されたことを特徴とする請求項17に記載の半導体廃ガス処理用スクラバ。
- 前記ガスノズルは、内部チャンバーの内部から旋風状にガスが供給できるように、前記内部チャンバーの垂直方向に対して所定の角度を傾斜するように形成されたことを特徴とする請求項17に記載の半導体廃ガス処理用スクラバ。
- 前記パーティクル除去用ガス供給部を通じて供給されるガスは不活性ガスであることを特徴とする請求項17に記載の半導体廃ガス処理用スクラバ。
- 前記パーティクル除去用ガス供給部を通じて供給されるガスはパルス状に提供されることを特徴とする請求項17に記載の半導体廃ガス処理用スクラバ。
- 前記燃焼チャンバーのうち、外部チャンバーの下には下に向かって略漏斗状の下部チャンバーが前記外部チャンバーから脱着可能に装着され、前記下部チャンバーの内側には下方に向かって略漏斗形状をなすことにより、燃焼後に生成されたパーティクルを湿式タワー及び水槽タンクに案内するパーティクルガイド部材が装着されたことを特徴とする請求項17に記載の半導体廃ガス処理用スクラバ。
- 前記パーティクルガイド部材には前記水槽タンクからの煙霧が前記燃焼チャンバーの内部に流入しないように不活性ガスを噴射する不活性ガスチューブが更に設けられたことを特徴とする請求項23に記載の半導体廃ガス処理用スクラバ。
- 前記下部チャンバーには前記燃焼チャンバーを支持すると共に、前記燃焼チャンバーが分離できるようにするチャンバー支持部が設けられたことを特徴とする請求項23に記載の半導体廃ガス処理用スクラバ。
- 前記チャンバー支持部は、
下端に直線状に設けられた1対のガイドレールと、
前記ガイドレールに設けられて水平方向に所定距離往復動可能なガイドブロックと、
前記ガイドブロックに設けられると共に、上部方向に所定距離延在し、上部には水平面と、前記水平面に連結されると共に、所定角度を有して下降する下降面が形成された支持台と、
前記支持台を相互に連結する支持棒を含み、
前記下部チャンバーにはローラが設けられると共に、前記ローラは前記支持台の水平面または下降面に沿ってスライディング可能に結合されたことを特徴とする請求項25に記載の半導体廃ガス処理用スクラバ。 - 前記湿式タワーは、
ベース噴射ノズルを有する円筒形状のベースタワーと、
前記ベースタワーの上部に着脱可能であると共に、内部に第1フィルタ及び第1噴射ノズルを有する円筒形状の第1タワーと、
前記第1タワーの上部に着脱可能であると共に、内部に第2フィルタ及び第2噴射ノズルを有する円筒形状の第2タワーと、
前記第2タワーの上部に着脱可能であると共に、内部に第3フィルタ及び第3噴射ノズルを有する円筒形状の第3タワーと、
前記第3タワーの上部に着脱可能であると共に、内部に多数の衝撃板及びガス供給パイプを有する円筒形状の第4タワーと、を含み、
前記第1タワー及び第2タワーと、前記第3タワー及び第4タワーとは、互いに順序を変えて着脱可能であることを特徴とする請求項1に記載の半導体廃ガス処理用スクラバ。 - 前記第1タワー及び第2タワーは、高さ及び直径が互いに同一であり、前記第3タワー及び第4タワーも高さ及び直径が互いに同一であり、前記第1、第2タワー及び第3、第4タワーは、相互の高さが異なるように形成されたことを特徴とする請求項27に記載の半導体廃ガス処理用スクラバ。
- 前記第1タワーに結合された第1フィルタ、前記第2タワーに結合された第2フィルタ、及び第3タワーに結合された第3フィルタの空隙率は、前記第1フィルタ、第2フィルタ、及び第3フィルタの順に小さくなることを特徴とする請求項27に記載の半導体廃ガス処理用スクラバ。
- 前記ベース噴射ノズルを通じて新たな水が供給され、前記第1、第2、第3噴射ノズルを通じて前記水槽タンクから浄化された水が供給されることを特徴とする請求項27に記載の半導体廃ガス処理用スクラバ。
- 前記第4タワーの上端には上部が開放されたカバーが結合され、前記カバーには圧力感知ポート、温度感知ポート、及び低温空気供給ポートが備えられた第1排気管が結合され、前記第1排気管の上端には排気量を調節できるように排気量調節部材を有する第2排気管が結合されたことを特徴とする請求項27に記載の半導体廃ガス処理用スクラバ。
- 前記ベースタワーは、前記燃焼チャンバー及び水槽タンクに各々中間連結管及び下部連結管を通じて結合され、前記ベース噴射ノズルは、上部の第1タワーに結合された第1フィルタに向かって水を上方向に噴射できるように設けられたことを特徴とする請求項27に記載の半導体廃ガス処理用スクラバ。
- 前記ベースタワーには、内部圧力を感知できるように圧力感知ポートが更に形成されたことを特徴とする請求項27に記載の半導体廃ガス処理用スクラバ。
- 前記第1タワーの第1噴射ノズルは、前記第1フィルタの上から下に水を噴射できるように設けられたことを特徴とする請求項27に記載の半導体廃ガス処理用スクラバ。
- 前記第1タワーには、表面に内部の第1フィルタを肉眼で観察できるように透明第1ウィンドウが更に設けられたことを特徴とする請求項27に記載の半導体廃ガス処理用スクラバ。
- 前記第2タワーの第2噴射ノズルは、前記第2フィルタの上から下に水を噴射できるように設けられたことを特徴とする請求項27に記載の半導体廃ガス処理用スクラバ。
- 前記第2タワーには、表面に内部の第2フィルタを肉眼で観察できるように透明第2ウィンドウが更に設けられたことを特徴とする請求項27に記載の半導体廃ガス処理用スクラバ。
- 前記第3タワーの第3噴射ノズルは、前記第3フィルタの上から下に水を噴射できるように設けられたことを特徴とする請求項27に記載の半導体廃ガス処理用スクラバ。
- 前記第4タワーの衝撃板は、多数の貫通孔が形成されると共に、上下方向に多数枚が相互に所定距離離隔して配置され、前記上下方向に配置された衝撃板の貫通孔は、互いに千鳥状に配置され、前記ガス供給パイプは前記衝撃板の上から下方向に不活性ガスを供給するように設けられたことを特徴とする請求項27に記載の半導体廃ガス処理用スクラバ。
- 前記水槽タンクは、
前記燃焼チャンバーと湿式タワーとの下部に結合され、前記燃焼チャンバーと湿式タワーとから落下する水及びパーティクルを捕集する第1領域と、
前記第1領域から隔壁により分割形成され、前記第1領域からパーティクルが濾過されて水が供給される第2領域と、
前記第1領域と第2領域との間に設けられて、前記水からパーティクルを濾過するフィルタ部と、
を含んでなることを特徴とする請求項1に記載の半導体廃ガス処理用スクラバ。 - 前記第1領域には、前記水及びパーティクルを共に外部に排出するドレーンポンプが更に連結されたことを特徴とする請求項40に記載の半導体廃ガス処理用スクラバ。
- 前記ドレーンポンプには、水とパーティクルを吸入し、排出できるように液体吸入ポート及び液体排出ポートが備えられ、また前記ドレーンポンプに空気圧を提供して動作させることができるように空気吸入ポート及び空気排出ポートが備えられ、前記空気排出ポートには少なくとも1つのバブル発生器がパイプで連結されると共に、前記バブル発生器は前記水槽タンクの第1領域に一定深さが浸漬されていることを特徴とする請求項41に記載の半導体廃ガス処理用スクラバ。
- 前記ドレーンポンプは、空圧式ダイヤフラムポンプであることを特徴とする請求項42に記載の半導体廃ガス処理用スクラバ。
- 前記バブル発生器は、ドレーンポンプの騷音の減少のための消音器であることを特徴とする請求項42に記載の半導体廃ガス処理用スクラバ。
- 前記バブル発生器は、ドレーンポンプから空気が排出される度に水槽タンク内の水にバブルを発生させることによって、水に捕集されたパーティクルが底面に堆積されず、持続的に水に浮遊するようにすることを特徴とする請求項42に記載の半導体廃ガス処理用スクラバ。
- 前記水槽タンクは、前記第2領域に循環ポンプの吸入ポートが連結され、前記循環ポンプの排出ポートは熱交換器を通じて前記湿式タワーに連結されたことを特徴とする請求項42に記載の半導体廃ガス処理用スクラバ。
Applications Claiming Priority (5)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
KR1020050081838A KR100623368B1 (ko) | 2005-09-02 | 2005-09-02 | 반도체 제조 장비용 직접 연소식 스크러버 |
KR1020050082274A KR100623369B1 (ko) | 2005-09-05 | 2005-09-05 | 반도체 제조장비용 배기가스 처리장치의 버너 |
KR1020060011012A KR100683805B1 (ko) | 2006-02-06 | 2006-02-06 | 반도체 폐가스 처리용 스크러버의 파우더 배출 장치 |
KR1020060011011A KR100750406B1 (ko) | 2006-02-06 | 2006-02-06 | 반도체 폐가스 처리용 스크러버의 파우더 제거 장치 |
KR1020060011013A KR100669501B1 (ko) | 2006-02-06 | 2006-02-06 | 반도체 폐가스 처리용 스크러버의 습식 타워 |
Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JP2007069201A true JP2007069201A (ja) | 2007-03-22 |
JP4468920B2 JP4468920B2 (ja) | 2010-05-26 |
Family
ID=37735674
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP2006172891A Active JP4468920B2 (ja) | 2005-09-02 | 2006-06-22 | 半導体廃ガス処理用スクラバ |
Country Status (5)
Country | Link |
---|---|
US (1) | US7758818B2 (ja) |
JP (1) | JP4468920B2 (ja) |
DE (1) | DE102006027882B4 (ja) |
SG (1) | SG130180A1 (ja) |
TW (1) | TWI311071B (ja) |
Cited By (12)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
US20080017108A1 (en) * | 2006-06-30 | 2008-01-24 | Czerniak Michael R | Gas combustion apparatus |
KR101019635B1 (ko) | 2008-10-31 | 2011-03-07 | 유니셈(주) | 착탈 가능한 버닝월을 구비한 스크러버 |
JP2014081190A (ja) * | 2012-10-15 | 2014-05-08 | Csk Inc | スクラバー用バーナー |
KR101519507B1 (ko) * | 2014-11-06 | 2015-05-13 | 씨에스케이(주) | 스크러버용 습식 탱크 |
JP2015195344A (ja) * | 2014-03-17 | 2015-11-05 | 株式会社荏原製作所 | 除害機能付真空ポンプ |
KR101576212B1 (ko) * | 2014-03-14 | 2015-12-11 | 주식회사 글로벌스탠다드테크놀로지 | 사전 수처리 기능을 가지는 스크러버 |
KR101963765B1 (ko) * | 2019-02-01 | 2019-06-18 | 주식회사 대승엔지니어링 | 촉매수 발생장치를 이용한 세정장치를 구비한 약액세정탈취장치 |
KR101997186B1 (ko) * | 2019-02-01 | 2019-07-08 | 주식회사 대승엔지니어링 | 촉매수 발생장치를 이용한 약액세정장치 |
KR101997185B1 (ko) * | 2019-01-28 | 2019-07-08 | 주식회사 대승엔지니어링 | 촉매산화수 발생장치를 이용한 약액 세정 탈취장치 |
KR101999165B1 (ko) * | 2019-03-25 | 2019-07-12 | 주식회사 대승엔지니어링 | 고도산화공정을 이용한 탈취장치 |
KR20200020952A (ko) * | 2017-07-07 | 2020-02-26 | 에스아이더블유 엔지니어링 피티이. 엘티디. | 가스 오염물의 분해 및 산화를 위한 장치 및 시스템 |
JP7185738B1 (ja) | 2021-06-16 | 2022-12-07 | ジョンミン パク | スクリューシリンダーを用いたガス処理設備用パウダー除去装置 |
Families Citing this family (31)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
KR20100119805A (ko) * | 2008-02-18 | 2010-11-10 | 어플라이드 머티어리얼스, 인코포레이티드 | 유출물들을 효과적으로 오염저감시키기 위해 오염저감 장치에 의해 이용되는 연료 공급 장치 및 방법 |
KR100978362B1 (ko) * | 2008-04-15 | 2010-08-30 | 크린시스템스코리아(주) | 반도체 폐가스 처리 장치용 수평형 버너 |
US20100119984A1 (en) * | 2008-11-10 | 2010-05-13 | Fox Allen G | Abatement system |
US20100143222A1 (en) * | 2008-11-10 | 2010-06-10 | Phil Chandler | Exhaust condensate removal apparatus for abatement system |
TWI398293B (zh) * | 2010-11-08 | 2013-06-11 | Orient Service Co Ltd | Cyclone Oxygen Combustion Unit for Treatment of Emissions from Semiconductor Processes |
US8383428B2 (en) * | 2011-04-15 | 2013-02-26 | J-Solution Co., Ltd. | Exhaust pressure detector |
WO2012159129A2 (en) * | 2011-05-16 | 2012-11-22 | Shane Gordon Sparg | Methods of and apparatus for extracting 3-methyl-2h-furo[2,3-c]pyran-2-one |
US8728221B2 (en) * | 2011-09-18 | 2014-05-20 | Donald F. Laffler | Modified wet scrubber for removal of airborne toner |
DE102012102251B4 (de) * | 2012-03-16 | 2013-11-07 | Das Environmental Expert Gmbh | Verfahren und Vorrichtung zur Behandlung von Schadgasen |
JP6151980B2 (ja) | 2013-06-17 | 2017-06-21 | 株式会社荏原製作所 | 粉体排出システム |
GB2516267B (en) * | 2013-07-17 | 2016-08-17 | Edwards Ltd | Head assembly |
ITVR20130185A1 (it) * | 2013-08-05 | 2015-02-06 | Petroeximp Energy Ltd | Apparecchiatura per la depurazione e purificazione di gas da sostanze nocive e/o inquinanti, particolarmente da polveri sottili. |
WO2015094652A1 (en) * | 2013-12-17 | 2015-06-25 | 3M Innovative Properties Company | Air quality indicator |
CN105864801A (zh) * | 2015-02-09 | 2016-08-17 | 日本派欧尼株式会社 | 废气的燃烧式净化装置 |
CA2928138A1 (en) | 2015-11-10 | 2017-05-10 | 3M Innovative Properties Company | Air filter use indicators |
TWI633924B (zh) * | 2016-05-13 | 2018-09-01 | 青淨光能科技有限公司 | 一種氣體之處理方法與氣體處理裝置 |
CN105833654A (zh) * | 2016-06-05 | 2016-08-10 | 青岛海奥瑞自动化科技有限公司 | 一种空气过滤*** |
TWI646279B (zh) * | 2017-06-01 | 2019-01-01 | 華邦電子股份有限公司 | 管路系統 |
CN108980617B (zh) | 2017-06-01 | 2020-04-10 | 华邦电子股份有限公司 | 管路*** |
KR102064662B1 (ko) * | 2018-03-17 | 2020-01-09 | 이상준 | 환경 유해 폐가스 처리 시스템 및 이에 사용되는 버너 구조체 |
JP7128078B2 (ja) * | 2018-10-12 | 2022-08-30 | 株式会社荏原製作所 | 除害装置、除害装置の配管部の交換方法及び除害装置の配管の洗浄方法 |
KR102471366B1 (ko) * | 2020-10-16 | 2022-11-29 | 영진아이엔디(주) | 용수 절감을 위한 반도체 폐가스 처리용 플라즈마 스크러버 시스템 및 그 작동 방법 |
CN112388791B (zh) * | 2020-11-13 | 2022-07-01 | 众智机械(临沂)有限公司 | 一种模压门面板热压造型装置及热压工艺 |
CN112388783B (zh) * | 2020-11-13 | 2022-06-24 | 山东唐唐家居有限公司 | 一种模压门面板热压装置及其工艺 |
CN112495115B (zh) * | 2020-12-21 | 2024-07-26 | 重庆第二师范学院 | 一种装修切割粉尘环保移动收集箱 |
KR102365718B1 (ko) * | 2021-05-25 | 2022-02-25 | 주식회사 원익홀딩스 | 습식 타워 |
KR102330326B1 (ko) * | 2021-05-25 | 2021-11-24 | 주식회사 원익홀딩스 | 습식 타워용 냉각 어셈블리 |
USD1033498S1 (en) * | 2022-02-28 | 2024-07-02 | Gnbs Engineering Co., Ltd. | Waste gas scrubber |
USD1033500S1 (en) * | 2022-05-20 | 2024-07-02 | Gnbs Engineering Co., Ltd. | Waste gas scrubber |
USD1032678S1 (en) * | 2022-05-20 | 2024-06-25 | Gnbs Engineering Co., Ltd. | Waste gas scrubber |
CN118173472B (zh) * | 2024-03-14 | 2024-08-16 | 迈睿捷(南京)半导体科技有限公司 | 一种防微小颗粒漂浮的晶圆密封加热装置 |
Family Cites Families (10)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
DE19515145C1 (de) * | 1995-04-25 | 1996-11-07 | Ebara Germany Gmbh | Evakuierungssystem mit Abgasreinigung und Betriebsverfahren hierfür |
KR100325197B1 (ko) | 1999-04-06 | 2002-02-25 | 김동수 | 가스 스크러버 |
US20020081240A1 (en) * | 1999-04-07 | 2002-06-27 | Dong-Soo Kim | Gas scrubber for treating the gas generated during the semiconductor manufacturing process |
US6423284B1 (en) * | 1999-10-18 | 2002-07-23 | Advanced Technology Materials, Inc. | Fluorine abatement using steam injection in oxidation treatment of semiconductor manufacturing effluent gases |
WO2001032297A2 (en) * | 1999-11-01 | 2001-05-10 | Moore Robert E | Modular chemical treatment system |
US20030049182A1 (en) * | 2000-05-01 | 2003-03-13 | Christopher Hertzler | System and method for abatement of dangerous substances from a waste gas stream |
JP4072815B2 (ja) * | 2002-03-01 | 2008-04-09 | 株式会社荏原製作所 | ファンスクラバー |
DE10304489B4 (de) * | 2002-04-11 | 2014-07-31 | Das Environmental Expert Gmbh | Einrichtung zur Reinigung von Abgasen mit fluorhaltigen Verbindungen in einem Verbrennungsreaktor mit niedriger Stickoxidemission |
TWI230094B (en) * | 2003-01-14 | 2005-04-01 | Desiccant Technology Corp | Method for exhaust treatment of perfluoro compounds |
US7682574B2 (en) * | 2004-11-18 | 2010-03-23 | Applied Materials, Inc. | Safety, monitoring and control features for thermal abatement reactor |
-
2006
- 2006-06-12 DE DE102006027882A patent/DE102006027882B4/de active Active
- 2006-06-22 JP JP2006172891A patent/JP4468920B2/ja active Active
- 2006-06-28 TW TW095123423A patent/TWI311071B/zh active
- 2006-08-30 SG SG200605933-1A patent/SG130180A1/en unknown
- 2006-09-01 US US11/514,516 patent/US7758818B2/en active Active
Cited By (18)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
US20080017108A1 (en) * | 2006-06-30 | 2008-01-24 | Czerniak Michael R | Gas combustion apparatus |
KR101019635B1 (ko) | 2008-10-31 | 2011-03-07 | 유니셈(주) | 착탈 가능한 버닝월을 구비한 스크러버 |
JP2014081190A (ja) * | 2012-10-15 | 2014-05-08 | Csk Inc | スクラバー用バーナー |
KR101576212B1 (ko) * | 2014-03-14 | 2015-12-11 | 주식회사 글로벌스탠다드테크놀로지 | 사전 수처리 기능을 가지는 스크러버 |
US10641256B2 (en) | 2014-03-17 | 2020-05-05 | Ebara Corporation | Vacuum pump with abatement function |
JP2015195344A (ja) * | 2014-03-17 | 2015-11-05 | 株式会社荏原製作所 | 除害機能付真空ポンプ |
KR101519507B1 (ko) * | 2014-11-06 | 2015-05-13 | 씨에스케이(주) | 스크러버용 습식 탱크 |
JP2020527220A (ja) * | 2017-07-07 | 2020-09-03 | 鑑鋒國際股▲ふん▼有限公司Siw Engineering Pte.,Ltd. | ガス状汚染物の分解・酸化をコントロールする装置及びシステム |
KR20200020952A (ko) * | 2017-07-07 | 2020-02-26 | 에스아이더블유 엔지니어링 피티이. 엘티디. | 가스 오염물의 분해 및 산화를 위한 장치 및 시스템 |
JP2020142233A (ja) * | 2017-07-07 | 2020-09-10 | 鑑鋒國際股▲ふん▼有限公司Siw Engineering Pte.,Ltd. | ガス状汚染物の分解・酸化をコントロールする装置及びシステム |
KR102308332B1 (ko) * | 2017-07-07 | 2021-10-01 | 에스아이더블유 엔지니어링 피티이. 엘티디. | 가스 오염물의 분해 및 산화를 위한 장치 및 시스템 |
JP7191056B2 (ja) | 2017-07-07 | 2022-12-16 | 鑑鋒國際股▲ふん▼有限公司 | ガス状汚染物の分解・酸化をコントロールする装置及びシステム |
KR101997185B1 (ko) * | 2019-01-28 | 2019-07-08 | 주식회사 대승엔지니어링 | 촉매산화수 발생장치를 이용한 약액 세정 탈취장치 |
KR101997186B1 (ko) * | 2019-02-01 | 2019-07-08 | 주식회사 대승엔지니어링 | 촉매수 발생장치를 이용한 약액세정장치 |
KR101963765B1 (ko) * | 2019-02-01 | 2019-06-18 | 주식회사 대승엔지니어링 | 촉매수 발생장치를 이용한 세정장치를 구비한 약액세정탈취장치 |
KR101999165B1 (ko) * | 2019-03-25 | 2019-07-12 | 주식회사 대승엔지니어링 | 고도산화공정을 이용한 탈취장치 |
JP7185738B1 (ja) | 2021-06-16 | 2022-12-07 | ジョンミン パク | スクリューシリンダーを用いたガス処理設備用パウダー除去装置 |
JP2022191986A (ja) * | 2021-06-16 | 2022-12-28 | ジョンミン パク | スクリューシリンダーを用いたガス処理設備用パウダー除去装置 |
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
DE102006027882A1 (de) | 2007-03-08 |
US7758818B2 (en) | 2010-07-20 |
SG130180A1 (en) | 2007-03-20 |
TWI311071B (en) | 2009-06-21 |
DE102006027882B4 (de) | 2009-04-30 |
JP4468920B2 (ja) | 2010-05-26 |
US20070053803A1 (en) | 2007-03-08 |
TW200709844A (en) | 2007-03-16 |
Similar Documents
Publication | Publication Date | Title |
---|---|---|
JP4468920B2 (ja) | 半導体廃ガス処理用スクラバ | |
CN1923342B (zh) | 用于对半导体废气进行处理的净气器 | |
EP1142621B1 (en) | Exhaust gas treating device | |
US10086413B2 (en) | Powder discharge system | |
KR101414108B1 (ko) | 배기가스 정화기능을 갖는 디젤 엔진형 발전기 | |
KR100669501B1 (ko) | 반도체 폐가스 처리용 스크러버의 습식 타워 | |
KR20160065389A (ko) | 공기 정화기 | |
RU2331458C2 (ru) | Устройство и способ для мокрой очистки | |
KR20100061622A (ko) | 침액식 스크러버 | |
JP2020527220A (ja) | ガス状汚染物の分解・酸化をコントロールする装置及びシステム | |
CN113117429A (zh) | 一种工业锅炉的烟气处理装置及方法 | |
KR20130001561A (ko) | 집진장치 | |
CN208694703U (zh) | 脂类vocs污染气体净化*** | |
CN102240494A (zh) | 一种油烟净化机 | |
CN109282336A (zh) | 一种油烟净化*** | |
CN214891427U (zh) | 多功能空气净化机 | |
KR100683805B1 (ko) | 반도체 폐가스 처리용 스크러버의 파우더 배출 장치 | |
CN104879814A (zh) | 一种用于排放气体的气体处理装置及其气体排放装置 | |
CN103285702A (zh) | 除尘雾净化器 | |
CN112902266A (zh) | 多功能空气净化机 | |
KR102001655B1 (ko) | 고효율 습식 스크러버 | |
CN108554163A (zh) | 脂类vocs污染气体净化*** | |
CN113398702B (zh) | 合金制备电炉烟气净化处理*** | |
CN216448135U (zh) | 余热锅炉高效蒸汽净化装置 | |
CN108261877A (zh) | 油烟粉尘异味分离机 |
Legal Events
Date | Code | Title | Description |
---|---|---|---|
A131 | Notification of reasons for refusal |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A131 Effective date: 20090915 |
|
A521 | Request for written amendment filed |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A523 Effective date: 20091215 |
|
TRDD | Decision of grant or rejection written | ||
A01 | Written decision to grant a patent or to grant a registration (utility model) |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A01 Effective date: 20100126 |
|
A01 | Written decision to grant a patent or to grant a registration (utility model) |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A01 |
|
A61 | First payment of annual fees (during grant procedure) |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A61 Effective date: 20100225 |
|
R150 | Certificate of patent or registration of utility model |
Ref document number: 4468920 Country of ref document: JP Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R150 Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R150 |
|
FPAY | Renewal fee payment (event date is renewal date of database) |
Free format text: PAYMENT UNTIL: 20130305 Year of fee payment: 3 |
|
FPAY | Renewal fee payment (event date is renewal date of database) |
Free format text: PAYMENT UNTIL: 20140305 Year of fee payment: 4 |
|
R250 | Receipt of annual fees |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250 |
|
R250 | Receipt of annual fees |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250 |
|
R250 | Receipt of annual fees |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250 |
|
R250 | Receipt of annual fees |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250 |
|
R250 | Receipt of annual fees |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250 |
|
R250 | Receipt of annual fees |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250 |
|
R250 | Receipt of annual fees |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250 |
|
R250 | Receipt of annual fees |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250 |
|
R250 | Receipt of annual fees |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250 |
|
R250 | Receipt of annual fees |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250 |
|
R250 | Receipt of annual fees |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250 |
|
R250 | Receipt of annual fees |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250 |