JP2007036134A - 半導体ウェーハ及び半導体装置の製造方法 - Google Patents
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Abstract
【課題】 ひずみSi層の欠陥密度が十分に低く、しかもゲート酸化膜形成前にひずみSi層が残っているような、相反する命題を解決したひずみ半導体ウェーハおよび半導体装置の製造方法を提供する。
【解決手段】 Si基板11の上にグレーデッド SiGe Buffer層12とSiGe Buffer層13を形成し、その上にひずみSi層14を臨界膜厚以下に形成して、ひずみSi層14とSiGe Buffer層13の界面にかかる応力を低減して、結晶欠陥密度の少ないひずみSi層14を実現し、更に、ひずみSi層14表面をSiよりも格子定数の大きいSiGe Gap層21でキャップすることにより、後工程における犠牲酸化によるひずみSi層14の消失を防ぎ、その上にゲート酸化膜を形成可能な高品質なひずみSiウェーハを実現する。
【選択図】 図2
【解決手段】 Si基板11の上にグレーデッド SiGe Buffer層12とSiGe Buffer層13を形成し、その上にひずみSi層14を臨界膜厚以下に形成して、ひずみSi層14とSiGe Buffer層13の界面にかかる応力を低減して、結晶欠陥密度の少ないひずみSi層14を実現し、更に、ひずみSi層14表面をSiよりも格子定数の大きいSiGe Gap層21でキャップすることにより、後工程における犠牲酸化によるひずみSi層14の消失を防ぎ、その上にゲート酸化膜を形成可能な高品質なひずみSiウェーハを実現する。
【選択図】 図2
Description
本発明は、半導体ウェーハ及び半導体装置の製造方法に関する。
ひずみSi層をトランジスタのチャネル部に用いると、ひずみSi層中の応力により電子の移動度が向上し、従来と同じデザインルールのままでも素子の動作速度を上げることができる。
このようなひずみを有するウェーハ(半導体基板)は、例えば、Si基板上にGe濃度を徐々に高濃度化させたグレーデッド SiGe Buffer層(グレーデッドSiGeバッファ層)を形成し、その上にGe濃度が一定のSiGe Buffer層(SiGeバッファ層)を形成し、最後にひずみSi層を形成する、という方法で製造される。
しかしながら、このような方法で厚いひずみSi層を形成すると、ひずみSi層に欠陥が生じ、また、それを避けるためにひずみSi層を薄くすると、ゲート酸化膜形成前にひずみSi層がなくなってしまう(例えば、特許文献1参照。)。
特公平−19888号公報
以上述べたように、従来の半導体ウェーハ及び半導体装置(半導体素子)の製造方法では、ひずみSi層の欠陥密度が十分に低く、しかもゲート酸化膜形成前にひずみSi層が残っているような、相反する命題を解決したひずみ半導体基板の構造および半導体装置の製造方法は確立されていなかった。
本発明は、上記のような従来技術の問題点に着目し、結晶欠陥密度の少ない半導体ウェーハ及び半導体装置の製造方法を提供しようとすることを目的とする。
本発明の半導体ウェーハは、
半導体基板と、
前記半導体基板上に形成された、前記半導体基板と格子定数の異なる、バッファ層としての第1の半導体層と、
前記第1の半導体層上に形成された、ひずみ半導体層としての第2の半導体層と、
前記第2の半導体層上に形成されたキャップ層としての第3の半導体層と、
を備えるものとして構成される。
半導体基板と、
前記半導体基板上に形成された、前記半導体基板と格子定数の異なる、バッファ層としての第1の半導体層と、
前記第1の半導体層上に形成された、ひずみ半導体層としての第2の半導体層と、
前記第2の半導体層上に形成されたキャップ層としての第3の半導体層と、
を備えるものとして構成される。
本発明の半導体基板の製造方法は、
半導体基板上の、ひずみを有する半導体層上に酸化膜を介して半導体素子を製造する方法であって、ある製造工程によって膜厚が薄くされた前記半導体層の厚みを補うための再成長工程を備える
を備えるものとして構成される。
半導体基板上の、ひずみを有する半導体層上に酸化膜を介して半導体素子を製造する方法であって、ある製造工程によって膜厚が薄くされた前記半導体層の厚みを補うための再成長工程を備える
を備えるものとして構成される。
本発明の実施形態を説明する前に、本発明者の知得する、半導体ウェーハの製造方法について説明する。
前にも述べたように、ひずみSi層をトランジスタのチャネル部に用いると、ひずみSi層中の応力により電子の移動度が向上し、従来と同じデザインルールのままでも素子の動作速度を上げることができる。
このようなひずみを有するウェーハは、一例として、図8(a)の断面図に示すように、Si基板11上にGe濃度を徐々に高濃度化させたグレーデッド SiGe Buffer層(グレーデッドSiGeバッファ層)12を形成し、その上にGe濃度が一定のSiGe Buffer層(SiGeバッファ層)13を形成し、最後にひずみSi層14を形成する、という方法で製造される。
図8(b)は、15nmのひずみSi層を形成した場合の、図8(a)のAの拡大図である。図8(b)において示すように、上記のような方法で製造したひずみSi層14中には、貫通転位102が10E5個/cm2も存在しており、更に、それ以外にもミスフィット転位101が存在する。従って、量産に値するほどの品質を有する半導体素子を製造することができない。
図9は、ひずみSi膜厚と、貫通転位の欠陥数の関係を示した特性図である。この図9からも明らかなように、貫通転位102の密度は、ひずみSi層14の膜厚に依存して増えることが分かる。特に、ひずみSi層14の膜厚が臨界膜厚Tを超えると、貫通転位密度が急激に増加することが分かる。
したがって、貫通転位102の密度をへらすためには、ひずみSi層14の膜厚を臨界膜厚T以下にする必要がある。
しかし、一方でSiウェーハ上のひずみSi層14中に半導体素子を製造する工程において、イオンインプランテーションや熱処理などを行うと、犠牲酸化等によりひずみSi層14が薄膜化してしまい、更にSiGe Buffer層13からのGeの拡散によってひずみSi層がなくなってしまう場合がある。
つまり、図10に示すように、半導体素子を形成する工程への投入前にひずみSi層14の膜厚を臨界膜厚T以下に設定した場合、工程中の犠牲酸化等により、工程を経るに従って、ひずみSi層14が徐々に薄膜化してしまい、ゲート酸化膜を作製する時点では、図11に示すように、ひずみSi層14が全く残っていないこともありうる。これでは、上記12に示すように、SiGe Buffer層13上に直接ゲート酸化膜16が形成されることになる。
つまり、ゲート酸化膜を製造する時点でひずみSi層14を残しておくようにするためには、半導体製造工程を踏まえたうえで、ゲート酸化膜形成前までのひずみSi層減少分以上の膜厚のひずみSiを半導体製造工程に投入する前に形成しておく必要がある。このひずみSiの初期膜厚を臨界膜厚Tよりも厚くする必要のある場合、結晶欠陥の少ない良質のひずみSi層を形成することができないため、良質な半導体素子を形成することもできなくなるという問題がある。
以下、本発明の実施例を図面を参照しながら説明する。
(実施例1)
図1(a)は、本発明の、実施例1の半導体ウェーハの構造を示す断面図である。図1からわかるように、Si基板11上にGe濃度を徐々に濃くしたグレーデッド SiGe Buffer層(グレーデッドSiGeバッファ層)12を形成し、Ge濃度30%のSiGe Buffer層(SiGeバッファ層)13を形成し、5nmのひずみSi層14を形成する。つまり、ひずみSi層14の膜厚は、臨界膜厚Tより薄く設定する。
図1(a)は、本発明の、実施例1の半導体ウェーハの構造を示す断面図である。図1からわかるように、Si基板11上にGe濃度を徐々に濃くしたグレーデッド SiGe Buffer層(グレーデッドSiGeバッファ層)12を形成し、Ge濃度30%のSiGe Buffer層(SiGeバッファ層)13を形成し、5nmのひずみSi層14を形成する。つまり、ひずみSi層14の膜厚は、臨界膜厚Tより薄く設定する。
したがって、図1(a)のAを拡大して示した図1(b)の断面図にも示すように、ひずみSi層14とSiGe Buffer層13の界面にミスフィット転位が入ることは無く、またSi層14中に貫通転位が入ることもない。
続いて、図2に示すように、ひずみSi層14の上にSiGe Cap層(SiGeキャップ層)21を形成する。SiGe Cap層21の膜厚は半導体素子作製工程において、ゲート酸化膜形成前まで犠牲酸化等により無くなってしまう表面層の厚さとほぼ等しく設定する。
その結果、図3に示すように、工程中の犠牲酸化によってSiGe Cap層21が失われることになり、結局、ゲート酸化膜形成前でも、所望の膜厚を有するひずみSi層14を残存させておくことが可能となる。
この後、図4に示すように、ひずみSi層14上にゲート酸化膜16が形成される。
次に、実施例1の製造方法を更に詳述する。
先ず、図1(a)に示すような、ひずみSi層14を有する半導体ウェーハを製造する。ここでひずみSi層14の膜厚は、臨界膜厚Tよりも薄く設定する。
その後、図2に示すように、ひずみSi層14上に、基板温度600〜650℃、圧力5〜10TorrでSiH4を0.1から0.2slm、GeH4を0.02〜0.05slm、H2を10〜15slm供給し、SiGe Cap層21を形成する。
なお、SiGe Gap層21のGe濃度は0より多く5%以下であることが望ましい。Ge濃度を5%よりも上げてしまうと、その上に均一な熱酸化膜が形成されないなどの不具合が生じる。また、SiGe Cap層の膜厚は5〜30nmである。
SiH4の代わりにSiH2Cl2を用いたりGeH4の代わりにGeCl4を用いたりしてもよいが、SiGe Cap層21のGe濃度と膜厚は、先に述べた値の範囲であることが望ましい。
以上述べたような工程を経て得られた半導体ウェーハのひずみSi層14中の欠陥密度を、ひずみSi層14が臨界膜厚Tを超えている場合と比較すると、3桁程度減少している。加えて、SiGe Cap層21の働きにより、図3に示すように、ゲート酸化膜形成時にもひずみSi層14が十分に残っているため、ゲート酸化膜をひずみSi層14上に作製することが可能である。
つまり、ひずみSi層14を臨界膜厚T以下にすることで、貫通転位やミスフィット転位の問題を改善することが可能となる。更に、ひずみSi層14の上にSiGe Cap層21を形成することで、犠牲酸化等に起因するひずみSi層14の消失を防止することが可能となる。このため、高品質なひずみSi層14を得ることができ、その上に、高品質な半導体素子を形成することが可能となる。
なお、本実施例では、ひずみSi層14上にSiGe Cap層21を形成する場合を例示したが、ひずみSiよりも格子定数の大きい半導体層を形成することで同様の効果を得ることができる。また、ひずみSi層14の上に、例えばアンチモンなどを高濃度にドーピングすることでも同様の効果を得ることができる。
(実施例2)
図5は、本発明の、実施例2の半導体ウェーハを示す断面図である。
図5は、本発明の、実施例2の半導体ウェーハを示す断面図である。
図5から分かるように、Si基板11上にGe濃度を徐々に濃くしたグレーデッド SiGe Buffer層(グレーデッドSiGeバッファ)12を形成し、続いて、Ge濃度が30%のSiGe Buffer層(SiGeバッファ層)13を形成し、更に、その上に、ひずみSi層14を5nm形成する。この場合、ひずみSi層14の膜厚は臨界膜厚Tより薄く設定される。
したがって、Si層14とSiGe Buffer層13の界面にはミスフット転位は入らず、またひずみSi層14中に貫通転位が入ることもない。
このままの状態で、ひずみSi層14中に半導体素子を製造するためにイオンインプランテーションや熱処理などを行うと、犠牲酸化あるいはSiGe Buffer層13からのGeの拡散によって、ひずみSi層がなくなってしまうのは先にも述べた通りである。
そこで、工程を経る間に、犠牲酸化等によりひずみSi層14が無くなる前に、ひずみSi層14上にSi層を臨界膜厚Tを超えない範囲で再成長し、再び半導体素子作製工程に戻すことにより、ゲート酸化膜形成前に所望の膜厚を有するひずみSi層を残存させておくことが可能となる。
つまり、先ず、図4に示すように、周知の方法で、膜厚6nmのひずみSi層14を有するひずみ半導体ウェーハを製造する。
その後、ひずみ半導体ウェーハ上に、トランジスタ等の半導体素子を製造するためにイオンインプランテーションを行う。具体的には、ひずみSi半導体ウェーハを酸素雰囲気下で800℃に加熱し、熱酸化膜を4nm形成する。次にPあるいはBを加速電圧1MeVで入射させる。イオンインプランテーションの後、ひずみSi半導体ウェーハを弗酸を含む溶液に浸し、熱酸化膜を除去する。
その結果、図6(a)およびそのA部分を拡大した断面図である図6(b)に示すように、ひずみSi層14は犠牲酸化等により、薄くなっており、実測の結果、ひずみSi層14の膜厚は2nmであった。
次に、ひずみSiウェーハを減圧CVD装置に導入し、基板温度を600〜650℃、SiH4=0.1〜0.2slm、水素=10〜15リットル(l)をひずみSi層表面に供給することにより、図7(a)およびそのA部分を拡大した断面図である図7(b)に示すように、Si層再成長界面Rの上に、約4nmのSi再成長層22を形成する。
その結果、Si再成長層22とひずみSi層14との合計膜厚は6nmとなる。この膜厚は臨界膜厚Tを超えていないため、ひずみSi層14とSiGe Buffer層13の層界面にはミスフィット転位や貫通転位は入らない。
次に、ひずみSiウェーハを熱酸化炉に挿入し、トランジスタのゲート酸化膜を形成する工程に入る。
その結果、ひずみSi層14中の欠陥密度を、ひずみSi層14が臨界膜厚Tを超えている場合と比較すると、3桁程度減少しており、なおかつゲート酸化膜をひずみSi層14上に製造することが可能であることから、ひずみ半導体ウェーハにおいて高品質なひずみSi層を実現することができる。
以上に述べたように、本発明の実施例によれば、Si(シリコン)基板上にSiGe Buffer層を形成し、その上にひずみSi層を臨界膜厚以下に形成して、ひずみSi層とSiGe Buffer層界面にかかる応力を低減して、結晶欠陥密度の少ないひずみSi層を実現できる。
更に、ひずみSi層表面をSiよりも格子定数の広い半導体層、例えばSiGe層でCapすることにより、後工程における犠牲酸化によるひずみSi層の消失を防ぎ、欠陥密度の小さい高品質の、ひずみ半導体層を利用した半導体素子を作製することが可能になる。
加えて、半導体ウェーハ上に半導体装置を作製する工程中に、ひずみSi層が犠牲酸化等によって薄くなってしまった場合にも、半導体装置作製工程中にSi層をエピタキシャル成長させて高品質のひずみSi層を臨界膜厚以下の範囲で再成長させることで、後工程におけるゲート酸化膜形成に適した高品質の半導体装置を作製することが可能である。
本願発明の実施例では、基板上にGradedSiGeバッファ層を形しその上にGe濃度が一定のSiGeバッファ層を形成する例を記載したがこれに限定されず、基板上に形成されたBOX酸化層上にGe濃度が一定のSiGeバッファ層を形成し、その上にひずみSi層を形成してもよい。
11 Si基板
12 グレーデッド SiGe Buffer層
13 SiGe Buffer層
14 ひずみSi層
21 SiGe Gap層
22 Si再成長層
101 ミスフィット転位
102 貫通転位
T 臨界膜厚
R Si層再成長界面
12 グレーデッド SiGe Buffer層
13 SiGe Buffer層
14 ひずみSi層
21 SiGe Gap層
22 Si再成長層
101 ミスフィット転位
102 貫通転位
T 臨界膜厚
R Si層再成長界面
Claims (5)
- 半導体基板と、
前記半導体基板上に形成された、前記半導体基板と格子定数の異なる、バッファ層としての第1の半導体層と、
前記第1の半導体層上に形成された、ひずみ半導体層としての第2の半導体層と、
前記第2の半導体層上に形成されたキャップ層としての第3の半導体層と、
を備えることを特徴とする半導体ウェーハ。 - 前記第1の半導体層の格子定数は、前記半導体基板のそれよりも、大きいことを特徴とする請求項1に記載の半導体ウェーハ。
- 前記第2の半導体層と前記半導体基板は同一の物質から構成されている請求項1に記載の半導体ウェーハ。
- 前記第3の半導体層の格子定数と前記第2の半導体層のそれとは互いに異なることを特徴とする請求項1に記載の半導体ウェーハ。
- 半導体ウェーハ上の、ひずみを有する半導体層上に絶縁膜を介して半導体素子を製造する方法であって、ある製造工程によって膜厚が薄くされた前記半導体層の厚みを補うための再成長工程を備えることを特徴とする半導体装置の製造方法。
Priority Applications (5)
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