JP2007035432A - 有機el素子およびその製造方法 - Google Patents
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Abstract
【解決手段】 基板上に、AgもしくはAlまたはそれらの合金からなる反射膜と、透明陽極と、少なくとも有機発光層を含んでなる有機EL層と、透明陰極とを順次形成してなる、前記透明陰極側から光を取り出す有機EL素子であって、前記有機発光層の最短発光波長をλとしたとき、前記透明陽極の膜厚がλ/4以下であり、前記透明陽極の前記有機EL層に対する最大突起高さをh、前記有機EL層の膜厚をdとするとき、h/d<0.5を満たす有機EL素子。
【選択図】 図1
Description
ここで、AgもしくはAlまたはそれらの合金からなる反射膜とは、実質的にAgのみからなる反射膜、実質的にAlのみからなる反射膜、AgとAlとの合金からなる反射膜、Agと、Al、Ni、Cr、Ti、Mn、Fe、Co等から選択される金属との合金からなる反射膜、Alと、Ag、Ni、Cr、Ti、Mn、Fe、Co等から選択される金属との合金からなる反射膜をいう。なお、合金には不可避の不純物が含まれる場合もある。
図1は、本発明の一実施形態にかかるトップエミッション型有機EL素子を示す模式的な断面図である。トップエミッション型有機EL素子100は、基板109と、反射膜108と、透明陽極107と、有機EL層110と、透明陰極101とを順次形成して構成されている。本明細書中で、反射膜108と透明陽極107とを積層した構造体を、反射電極と指称することもある。有機EL層110は、正孔注入層106と、正孔輸送層105と、有機発光層104と、電子輸送層103と、電子注入層102とから構成されている。
有機発光層104の材料は、所望する色調に応じて選択することが可能であり、例えば青色から青緑色の発光を得るためには、ベンゾチアゾール系、ベンゾイミダゾール系、ペンゾオキサゾール系などの蛍光増白剤、金属キレート化オキソニウム化合物、スチリルベンゼン系化合物、芳香族ジメチリディン系化合物などを使用することが可能である。
(1)有機発光層
(2)正孔注入層/有機発光層
(3)有機発光層/電子輸送層
(4)正孔注入層/有機発光層/電子輸送層
(5)正孔注入層/正孔輸送層/有機発光層/電子輸送層
(6)正孔注入層/正孔輸送層/有機発光層/電子輸送層/電子注入層
本発明にもとづいて2mm×2mmの発光領域(主発光波長510nm、最短波長λ450nm)を持つ有機EL素子を以下の手順により作製した。先ず、ガラス基板に真空蒸着装置により厚さ50nmのAg反射膜を形成した。その反射膜の上に、DCスパッタリング法(ターゲット:IZO(In2O3−10%ZnO)、スパッタガス:Ar、パワー250W)によって、厚さ100nmのIZOを形成し、電極を形成した。
反射電極としてガラス基板にDCスパッタリング法(ターゲット:Pt)、スパッタガス:Ar、パワー250W)によって、厚さ100nmのPtからなる反射膜を形成した。その後、反射膜の鏡面研磨を行った。その結果、反射膜表面の最大突起高さは6.5nmであった。実施例1と同様にして、有機EL層、IZOからなる透明陰極を形成し、有機EL素子を作製した。得られた有機EL素子について、実施例1と同様にして、電流効率および発光開始電圧を測定した。その結果を表1に示す。
ガラス基板に真空蒸着装置により膜厚が100nmとなるようにAgを蒸着して反射膜を形成した後、その上に、透明陽極としてIZOを100nmとなるように成膜して、反射電極を製造した。成膜したIZOの表面をAFMで測定した写真を図2に示す。このとき、2μm四方の領域についてAFM像を観測した。その結果、IZOの表面の最大突起高さRmaxは、72nmであった。この成膜したIZOの表面を、ポリシング加工機を用い、コロイダルシリカをスラリーとして荷重50gf/cm2にて2分研磨した表面をAFMで測定した写真を図3に示す。研磨後のIZOの表面の最大突起高さRmaxは、4.2nmであった。このことから透明陽極の表面を鏡面研磨する工程により、表面の突起高さが約17分の1になったことがわかった。
101 透明陰極
102 電子注入層
103 電子輸送層
104 有機発光層
105 正孔輸送層
106 正孔注入層
107 透明陽極
108 反射膜
109 基板
110 有機EL層
Claims (3)
- 基板上に、AgもしくはAlまたはそれらの合金からなる反射膜と、透明陽極と、少なくとも有機発光層を含んでなる有機EL層と、透明陰極とを順次形成してなる、透明陰極側から光を取り出す有機EL素子であって、
前記有機発光層の最短発光波長をλとしたとき、前記透明陽極の膜厚がλ/4以下であり、
前記透明陽極の前記有機EL層に対する最大突起高さをh、前記有機EL層の膜厚をdとするとき、h/d<0.5を満たす有機EL素子。 - 基板上に、AgもしくはAlまたはそれらの合金からなる反射膜を形成する工程と、
該反射膜上に透明陽極を形成する工程と、
該透明陽極の、反射膜と反対側の表面を鏡面研磨する工程と、
鏡面研磨された該透明陽極面に、有機EL層と、透明陰極とを順次形成する工程と
を含む請求項1に記載の有機EL素子の製造方法。 - 前記鏡面研磨する工程において、前記透明陽極の前記有機EL層に対する最大突起高さをh、前記有機EL層の膜厚をdとするとき、h/d<0.5を満たすように鏡面研磨する請求項2に記載の方法。
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