JP2007035181A - 光ディスクカートリッジ収納体 - Google Patents

Abstract

【課題】 耐光性が高い光ディスクカートリッジ収納体を提供する。
【解決手段】 センターホールを有する基板上に記録層を有する光ディスクが、該光ディスクの外周直径以下の直径の開口部が形成されたカートリッジに、前記記録層とは反対側の面が前記開口部から外部に露出するように収納された光ディスクカートリッジ収納体であって、前記光ディスクの基板の記録層とは反対側に遮光層を有し、かつ以下の条件Ａ及び条件Ｂのうちの少なくとも１つを満足する光ディスクカートリッジ収納体である。
条件Ａ：遮光層の内周直径が、記録層の内周直径よりも１３ｍｍ以上小さく、かつ少なくとも一部が光ディスクの内周直径より０．１ｍｍ以上大きい。
条件Ｂ：遮光層の外周直径の少なくとも一部が記録層の外周直径以上であり、かつカートリッジの開口部の直径が少なくとも一部において遮光層の外周直径以下である。
【選択図】 図１

Description

本発明は、光ディスクがカートリッジに収納された光ディスクカートリッジ収納体に関する。

従来から、記録密度のより高い光ディスクとして、追記型デジタル・ヴァーサタイル・ディスク（所謂ＤＶＤ−Ｒ）と称される光ディスクが知られている。
このＤＶＤ−Ｒは、照射されるレーザ光をトラッキングするための案内溝（グルーブ）がＣＤ−Ｒの半分以下（０．７４〜０．８μｍ）という狭い溝幅で形成された透明な円盤状基板上に、通常、有機色素を含有する記録層、光反射層、および保護層をこの順に積層したディスク２枚を、記録層を内側にして貼り合わせた構造、あるいはこのディスクと同じ形状の円盤状保護基板とを記録層を内側にして貼り合わせた構造を有している。そして、このＤＶＤ−Ｒへの情報の記録および再生は、可視レーザ光（通常は、６３０ｎｍ〜６８０ｎｍの波長のレーザ光）を照射することにより行われており、ＣＤ−Ｒより高密度の記録が可能である。

一方、最近、インターネット等のネットワークやハイビジョンＴＶが急速に普及している。また、ＨＤＴＶ（Ｈｉｇｈ Ｄｅｆｉｎｉｔｉｏｎ Ｔｅｌｅｖｉｓｉｏｎ）の放映も開始されるようになった。
このような状況の下で、画像情報を安価簡便に記録することができるより大容量の光ディスクが必要とされている。ＤＶＤ−Ｒは現状では大容量の光ディスクとしての役割を十分に果たしているが、大容量化、高密度化の要求は高まる一方であり、これらの要求に対応できる光ディスクの開発も必要である。このため、ＤＶＤ−Ｒよりもさらに短波長の光で高密度の記録を行なうことができる、より大容量の光ディスクの開発が進められている。

このような光ディスクは、ディスク本体が剥き出しの状態で使用又は保存される場合、傷や光に対して無防備であり保存性が悪かった。そこで、特に傷に対する耐性を向上させるため、カートリッジに収納した状態で使用する形態が知られている（例えば、特許文献１参照。）。そして、このようなカートリッジにおいて、光ディスクの記録層とは反対側の面を外部に露出させる開口部を設ける例が知られている。しかし、カートリッジの開口部から盛れ込んだ迷光が記録層に到達することがあり、これに起因し、光ディスクの耐光性を悪化させることがあった。特に、この耐光性の悪化は記録層に色素を用いた場合において顕著である。
特開２００３−２４２７４０号公報

本発明は、以上の従来の問題点に鑑みなされてものであり、以下の目的を達成することを課題とする。すなわち、
本発明の目的は、耐光性が高い光ディスクカートリッジ収納体を提供することにある。

前記課題を解決するための手段は以下の通りである。即ち、
本発明の光ディスクカートリッジ収納体は、センターホールを有する基板上に記録層を有する光ディスクが、該光ディスクの外周直径以下の直径の開口部が形成されたカートリッジに、前記記録層とは反対側の面が前記開口部から外部に露出するように収納された光ディスクカートリッジ収納体であって、前記光ディスクの基板の記録層とは反対側に遮光層を有し、かつ以下の条件Ａ及び条件Ｂのうちの少なくとも１つを満足することを特徴としている。
条件Ａ：遮光層の内周直径が、記録層の内周直径よりも１３ｍｍ以上小さく、かつ少なくとも一部が光ディスクの内周直径より０．１ｍｍ以上大きい。
条件Ｂ：遮光層の外周直径の少なくとも一部が記録層の外周直径以上であり、かつカートリッジの開口部の直径が少なくとも一部において遮光層の外周直径以下である。

本発明の光ディスクカートリッジ収納体によると、光ディスクに形成された遮光層がカートリッジの開口部から入射する外部からの迷光を遮蔽するため、記録層に到達する迷光を減少させることができる。

前記カートリッジに、前記開口部とは別に、前記光ディスクを出し入れする出入口が設けることができる。

本発明によれば、耐光性が高い光ディスクカートリッジ収納体を提供することができる。

本発明の光ディスクカートリッジ収納体は、センターホールを有する基板上に記録層を有する光ディスクが、該光ディスクの外周直径以下の直径の開口部が形成されたカートリッジに、前記記録層とは反対側の面が前記開口部から外部に露出するように収納された光ディスクカートリッジ収納体であって、前記光ディスクの基板の記録層とは反対側に遮光層を有し、かつ以下の条件Ａ及び条件Ｂのうちの少なくとも１つを満足することを特徴としている。
条件Ａ：遮光層の内周直径が、記録層の内周直径よりも１３ｍｍ以上小さく、かつ少なくとも一部が光ディスクの内周直径より０．１ｍｍ以上大きい。
条件Ｂ：遮光層の外周直径の少なくとも一部が記録層の外周直径以上であり、かつカートリッジの開口部の直径が少なくとも一部において遮光層の外周直径以下である。
以下、本発明の光ディスクカートリッジ収納体の実施の形態について説明する。

図１は、本発明を適用した光ディスクカートリッジ収納体１０の上面図である。光ディスクカートリッジ収納体１０は、概ね、開口部１２ａを有するカートリッジ１２と、このカートリッジ１２に収納された光ディスク１４とから構成されている。図１において、破線で描かれた円は光ディスク１４の外周を示し、一点鎖線で描かれた円（破線で描かれた円の内側）は光ディスク１４の遮光層の外周を示している。図１に示すように、カートリッジ１２の開口部１２ａの直径は、光ディスク１４の外径よりも小さく、光ディスク１４は開口部１２ａからは取り出しできない。

図２は図１に示すカートリッジ収納型ディスク１０のＡ−Ａ線に沿った断面を模式的に示す図である。図２においては、説明を簡単にするために、光ディスク１４は、基板１６上に記録層１８が形成され、基板１６の記録層１８とは反対側に遮光層２０が形成された形態を示している。そして、図２に示すように、光ディスク１４は、基板１６の記録層１８とは反対側の面、すなわち遮光層２０がカートリッジ１２の開口部１２ａから外部に露出している。

本発明の光ディスクカートリッジ収納体においては、以下の条件Ａ及び条件Ｂのうちの少なくとも１つを満足する。即ち、
条件Ａ：遮光層の内周直径が、記録層の内周直径よりも１３ｍｍ以上小さく、かつ少なくとも一部が光ディスクの内周直径より０．１ｍｍ以上大きい。
条件Ｂ：遮光層の外周直径の少なくとも一部が記録層の外周直径以上であり、かつカートリッジの開口部の直径が少なくとも一部において遮光層の外周直径以下である。

すなわち、前記条件Ａは、図２において、遮光層の内周直径ｄ₂が、記録層の内周直径ｄ₃よりも１３ｍｍ以上小さく、かつ少なくとも一部が光ディスクの内周直径ｄ₁よりも０．１ｍｍ以上大きい。なお、光ディスクの内周直径ｄ₁は、通常、１５ｍｍである。

本発明の光ディスクカートリッジ収納体において、条件Ａを満足するように設定することにより、遮光層の内周が記録層の内周よりも内側に位置するため、遮光層の遮光効果が発揮し、外部からの迷光が記録層に悪影響を及ぼすことを防止することができる。

本発明において、以上のように、条件Ａにおいては、遮光層の内周直径は、少なくとも一部が光ディスクの内周直径よりも０．１ｍｍ以上大きいが、その差が０．１ｍｍ未満の場合、遮光層の形成が困難となる。遮光層の内周直径は、光ディスクの内周直径よりも１ｍｍ以上大きいことが好ましく、３ｍｍ以上大きいことがより好ましく、５ｍｍ以上大きいことがさらに好ましい。また、遮光層の内周直径は、記録層の内周直径よりも１３ｍｍ以上小さいが、その差が１３ｍｍ未満では、遮光性が不十分で、耐光性の効果が発揮できない。遮光層の内周直径は、記録層の内周直径よりも１８ｍｍ以上小さいことが好ましく、２３ｍｍ以上小さいことがより好ましい。

また、同様に、条件Ｂを満足するように設定することにより、遮光層の外周が記録層の外周よりも外側に位置するとともに、カートリッジの開口部の周囲が遮光層の外周よりも内側に位置するため、外部からの迷光が記録層に悪影響を及ぼすことを防止することができる。
遮光層の外周直径は、記録層の外周直径よりも０．１ｍｍ以上大きいことが好ましく、１ｍｍ以上大きいことがより好ましく、２ｍｍ以上大きいことがさらに好ましい。

本発明においては、前記条件Ａ及び条件Ｂのいずれか一方を満足すれば、耐光性向上という効果を発揮することができるが、前記条件Ａ及び条件Ｂの双方ともに満足することがより一層本発明の効果を発揮でき好ましい。

カートリッジの開口部の直径は遮光層の外周直径以下であるが、その差は、平均値として１ｍｍ以上が好ましく、２ｍｍ以上がより好ましく、３ｍｍ以上がさらに好ましい。カートリッジと遮光層とが重なる領域が大きいと、視認性が低下するので、カートリッジの開口部の直径と遮光層の外周直径との差は、最大でも平均値は５０ｍｍ以下が好ましく、３０ｍｍ以下がより好ましく、１０ｍｍ以下がさらに好ましい。

また、本発明においては、カートリッジの開口部の直径は光ディスクの外周直径よりも小さいことが必須であるが、具体的には、光ディスクの外周直径よりも１ｍｍ以上小さいことが好ましく、３ｍｍ以上小さいことがより好ましく、５ｍｍ以上小さいことがさらに好ましい。また、さらに具体的には、外周直径が１２０ｍｍの光ディスクを収容するカートリッジの場合、開口部の直径は１１９ｍｍ以下が好ましく、１１８ｍｍ以下がより好ましく、１１７ｍｍ以下がさらに好ましく、１１６ｍｍ以下が特に好ましい。

カートリッジの材質としては、本発明の効果を発揮するには、所定の波長の光の透過率が５０％以下の材質であることが好ましく、３０％以下の材質であることがより好ましく、１０％以下の材質であることがさらに好ましい。所定の波長とは、記録層の色素の吸収ピーク波長を示す。吸収ピーク波長は、波長３５０〜８００ｎｍの範囲で求める。

本発明の光ディスクカートリッジ収納体において、カートリッジの開口部とは反対側に、記録及び／又は再生用のレーザー光を記録層に入射させるための別の開口部を設けることが好ましい。記録及び／又は再生するとき、記録及び／又は再生システム側にて、前記別に設けられた開口部に記録・再生ヘッドを近づけることにより（又は、光ディスクを近づけることにより）、記録・再生することができる。

カートリッジに光ディスクを収納する方法としては、１）開口部を広げて装填する方法、２）別途出入口を設け、該出入口から装填する方法、３）カートリッジ作製の際に収納する方法が挙げられるが、本発明においては、取り出し可能であること、機構を簡略化できること、遮光性などの点から２）が好ましい。なお、１）として、開口部の少なくとも一部が可動又は変形して光ディスクを取り出し可能に構成してもよい。

前記２）におけるカートリッジに設ける出入口について、具体的に例を挙げて説明する。図３は、出入口３０ａが設けられたカートリッジ３０のみを示す斜視図である。出入口３０ａには、光ディスクを把持した状態で出入口３０ａから収容しやすいように切欠部３０ｂが設けられている。図３では、カートリッジの出入口の中央部に１の切欠部を設けたが、本発明の効果を損なわないのであれば、切欠部は数、位置、形状は問わない。切欠部の形状としては、例えば、半円状、半楕円形、矩形状、台形、三角形状、などが挙げられる。切欠部の位置は、中央部、縁部、あるいはそれらの中間などが挙げられる。また、切欠部の形状、個数において左右対称となるように設けてもよい。さらに、出入口の上下両方に切欠部を設け、上下において異なる個数、形状としてもよい。

本発明の光ディスクカートリッジ収納体においては、遮光性を高めるため、保管時はカートリッジと光ディスク表面との隙間が狭いことが好ましい。記録及び／又は再生システム側においては、光ディスク回転時における光ディスクとカートリッジとの摺擦を回避するため、カートリッジと光ディスク表面との隙間を広げる機構を有することが好ましい。

次いで、前記遮光層について説明する。遮光層は、光ディスクの回転中心に対して対称な形状（例えば、円形、楕円形、長方形、正方形、星型など）であることが好ましい。また、偏心は少ないことが好ましい。
遮光層の材料は、遮光性を有する材料であれば特に制限はないが、放射線硬化樹脂と所定の波長の光を吸収する色材（染料や顔料）とを併用することが好ましい。あるいは、該色材を含有する層を放射線硬化樹脂層の表面や内部に形成することが好ましい。放射線硬化樹脂は、紫外線、電子ビーム、Ｘ線、γ線、赤外線等の電磁波によって硬化する樹脂であり、放射線としては、中でも、紫外線、電子ビームが好ましい。遮光層の形成手法は問わないが、シルク印刷、凸版印刷、グラビア印刷などで形成することが好ましい。印刷は１回でも複数回行ってもよく、１〜２０回行うことが好ましい。特に、１０回が好ましく、６回がより好ましい。

遮光層の層厚は、下限は、２μｍであることが好ましく、５μｍであることがより好ましく、７μｍであることがさらに好ましい。また、上限は、９０μｍであることが好ましく、７０μｍであることがより好ましく、５０μｍであることがさらに好ましく、３０μｍであることが特に好ましい。

以下、本発明に係る光ディスクについて詳細に説明する。
本発明に係る光ディスクは、センターホールを有する基板上に、少なくとも記録層を有し、必要に応じて、光反射層、バリア層など、その他の層を有するとともに、基板の記録層とは反対側に遮光層を有する。
以下、基板及び各層について説明する。

〔基板〕
本発明おける基板としては、従来の光ディスクの基板材料として用いられている各種の材料を任意に選択して使用することができる。耐湿性、寸法安定性及び低価格等の点から、アモルファスポリオレフィン、ポリカーボネート等の熱可塑性樹脂が好ましく、ポリカーボネートが特に好ましい。
これらの樹脂を用いた場合、射出成型を用いて基板を作製することができる。
また、基板の厚さは、１．０〜１．３ｍｍとすることがより好ましい。

また、基板には、記録層が設けられる側の面に、トラッキング用の案内溝又はアドレス信号等の情報を表わす凹凸（プリグルーブ）が形成されている。より高い記録密度を達成するためにはＣＤ−ＲやＤＶＤ−Ｒに比べて、より狭いトラックピッチのプリグルーブが必要となる。例えば、本発明に係る光ディスクを、好適な、青紫色レーザに対応する媒体として使用する場合には、形成されるプリグルーブは以下に示す範囲のものであることが好ましい。

プリグルーブのトラックピッチは、２６０〜３３０ｎｍの範囲が好ましい。
プリグルーブの幅（半値幅）は、１００〜１５０ｎｍの範囲が好ましい。

プリグルーブの（溝）深さは、２８〜５０ｎｍの範囲が好ましい。
プリグルーブの角度は、４０〜５０°であることが好ましい。

これらのプリグルーブの値は、ＡＦＭ（原子間力顕微鏡）により測定することができる。なお、上記プリグルーブの角度とは、グルーブの溝深さをＤとした時、溝形成前の基板の表面を基準とし、その表面からＤ／１０の深さの傾斜部と、溝の最も深い個所からＤ／１０の高さの傾斜部と、を結ぶ直線と、基板面（溝部底面）と、が成す角度である。
また、本発明の光ディスクが、再生専用の光ディスクである場合、上記のプリグルーブを形成するのと同時に、所定の情報を示すピットが形成される。

このような溝形状を有するプリグルーブ（及びピット）を有する基板を作製するには、射出成型時に用いるスタンパが、高精度なマスタリングにより形成されることが必要である。このマスタリングには、上述の溝形状を達成するために、ＤＵＶ（波長３３０ｎｍ以下、深紫外線）レーザーや、ＥＢ（電子ビーム）によるカッティングが用いられることが好ましい。

なお、後述する光反射層が設けられる側の基板表面には、平面性の改善、接着力の向上の目的で、高分子物質；シランカップリング剤等の下塗層を形成してもよい。

〔記録層〕
本発明における記録層は、色素を記録物質として含有する色素型とすることが好ましいが、これに限定されず、無機追記型（ライトワンス型）、相変化型、光磁気型、再生専用型等とすることもできる。
従って、記録層に含有される記録物質としては、色素等の有機化合物や相変化金属化合物等が挙げられる。
中でも、レーザー光により一回限りの情報の記録が可能な、色素型の記録層であることが好ましい。かかる色素型の記録層は、記録波長領域に吸収を有する色素を含有していることが好ましい。当該色素としては、シアニン色素、オキソノール色素、金属錯体系色素、アゾ色素、フタロシアニン色素等が挙げられる。

このような記録層は、色素を適当な溶剤に溶解して塗布液を調製し、次いで、この塗布液を、基板上又は後述する光反射層上に塗布して塗膜を形成した後、乾燥することにより形成される。
塗布液中の色素の濃度は、０．５〜３質量％の範囲が好ましい。

このようにして形成された記録層の厚さは、グルーブ（前記基板において凸部）上で、９０〜１８０ｎｍの範囲が好ましい。
また、記録層の厚さは、ランド上（前記基板において凹部）で、１１０〜２５０ｎｍの範囲が好ましい。
更に、グルーブ上の記録層の厚さ／ランド上の記録層の厚さの比は、０．７〜０．８であることが好ましい。

記録層の形成領域は、直径１２０ｍｍの光ディスクの場合、直径で、４０〜１１９ｍｍの領域に形成することが好ましく、４２〜１１８ｍｍの領域に形成することがより好ましく、４４〜１１７ｍｍの領域に形成することがより好ましい。

記録層には、該記録層の耐光性を向上させるために、種々の褪色防止剤を含有させることができる。
褪色防止剤としては、一般的に一重項酸素クエンチャーが用いられる。一重項酸素クエンチャーとしては、既に公知の特許明細書等の刊行物に記載のものを利用することができる。
前記一重項酸素クエンチャー等の褪色防止剤の使用量は、色素の量に対して、好ましくは５〜２５質量％の範囲である。

以上、記録層が色素型記録層である場合の溶剤塗布法について述べたが、記録層は記録物質の物性に合わせ、蒸着、スパッタリング、ＣＶＤ等の成膜法によって形成することもできる。
例えば、記録物質として相変化金属化合物を用いた場合には、このような成膜法を用いて記録層を形成することがで好ましい。ここで、相変化金属化合物としては、ＳｂＴｅ、ＡｇＳｂＴｅ、ＩｎＡｇＳｂＴｅ等のいずれを用いてもよい。

〔カバー層〕
本発明におけるカバー層は、上述した記録層又は後述するバリア層上に、接着剤や粘着剤を介して貼り合わされる。
本発明において用いられるカバー層としては、透明な材質のフィルムであれば、特に限定されないが、中でも、ポリカーボネート又は三酢酸セルロースを使用することが好ましい。
なお、「透明」とは、記録及び再生に用いられる光に対して、透過率８０％以上であることを意味する。

また、カバー層は、本発明の効果を妨げない範囲において、種々の添加剤が含有されていてもよい。例えば、波長４００ｎｍ以下の光をカットするためのＵＶ吸収剤及び／又は５００ｎｍ以上の光をカットするための色素が含有されていてもよい。
更に、カバー層の表面物性としては、表面粗さが２次元粗さパラメータ及び３次元粗さパラメータのいずれも５ｎｍ以下であることが好ましい。
また、記録及び再生に用いられる光の集光度の観点から、カバー層の複屈折は１０ｎｍ以下であることが好ましい。

カバー層の厚さは、記録及び再生のために照射されるレーザ光の波長やＮＡにより、適宜、規定されるが、本発明においては、０．０５〜０．１２ｍｍの範囲であることが好ましい。
また、カバー層と、接着剤又は粘着剤からなる層と、を合わせた総厚は、０．０９５〜０．１０５ｍｍであることが好ましい。
なお、カバー層の光入射面には、光ディスクの製造時に、光入射面が傷つくことを防止するための保護層（ハードコート層）が設けられていてもよい。

カバー層を貼り合せるために用いられる接着剤は、例えば、ＵＶ硬化樹脂、ＥＢ硬化樹脂、熱硬化樹脂等を使用することが好ましく、特に、ＵＶ硬化樹脂を使用することが好ましい。また、カバー層を貼り合せるために粘着剤を使用してもよい。具体的には、アクリル系、ゴム系、シリコン系の粘着剤を使用することができるが、透明性、耐久性の観点から、アクリル系の粘着剤が好ましい。上記粘着剤と併用される架橋剤としては、例えば、イソシアネート系架橋剤が挙げられる。

接着剤としてＵＶ硬化樹脂を使用する場合は、該ＵＶ硬化樹脂をそのまま、若しくはメチルエチルケトン、酢酸エチル等の適当な溶剤に溶解して塗布液を調製し、ディスペンサからバリア層表面に供給してもよい。また、作製される光ディスクの反りを防止するため、接着層を構成するＵＶ硬化樹脂は硬化収縮率の小さいものが好ましい。このようなＵＶ硬化樹脂としては、例えば、大日本インキ化学工業（株）社製の「ＳＤ−６４０」等のＵＶ硬化樹脂を挙げることができる。

接着剤層又は粘着剤層の厚さは、１０〜３０μｍの範囲が好ましい。

また、カバー層を貼り合せるために用いられる粘着剤としては、アクリル系、ゴム系、シリコン系の粘着剤を使用することができるが、透明性、耐久性の観点から、アクリル系の粘着剤が好ましい。かかるアクリル系の粘着剤としては、２−エチルヘキシルアクリレート、ｎ−ブチルアクリレートなどを主成分とし、凝集力を向上させるために、短鎖のアルキルアクリレートやメタクリレート、例えば、メチルアクリレート、エチルアクリレート、メチルメタクリレートと、架橋剤との架橋点となりうるアクリル酸、メタクリル酸、アクリルアミド誘導体、マレイン酸、ヒドロキシルエチルアクリレート、グリシジルアクリレートなどと、を共重合したものを用いることが好ましい。主成分と、短鎖成分と、架橋点を付加するための成分と、の混合比率、種類を、適宜、調節することにより、ガラス転移温度（Ｔｇ）や架橋密度を変えることができる。

上記粘着剤と併用される架橋剤としては、例えば、イソシアネート系架橋剤が挙げられる。

〔その他の層〕
本発明に係る光ディスクは、本発明の効果を損なわない範囲においては、上述の必須の層に加え、他の任意の層を有していてもよい。かかる他の任意の層としては、例えば、基板と記録層との間に設けられる光反射層（後述）、記録層とカバー層との間に設けられるバリア層（後述）、光反射層と記録層との間に設けられる界面層などが挙げられる。
なお、これら必須及び任意の層は、いずれも、単層でもよいし、多層構造を有してもよい。

〔光反射層〕
本発明において、レーザ光に対する反射率を高めたり、記録再生特性を改良する機能を付与するために、基板と記録層との間に、光反射層を形成することが好ましい。
光反射層は、レーザ光に対する反射率が高い光反射性物質を、真空蒸着、スパッタリング又はイオンプレーティングすることにより基板上に形成することができる。
光反射層の層厚は、一般的には１０〜３００ｎｍの範囲とし、５０〜２００ｎｍの範囲とすることが好ましい。
なお、前記反射率は、７０％以上であることが好ましい。

反射率が高い光反射性物質としては、Ａｕ、Ａｇ或いはこれらの合金が特に好ましい。

反射率が高い光反射性物質としては、Ｍｇ、Ｓｅ、Ｙ、Ｔｉ、Ｚｒ、Ｈｆ、Ｖ、Ｎｂ、Ｔａ、Ｃｒ、Ｍｏ、Ｗ、Ｍｎ、Ｒｅ、Ｆｅ、Ｃｏ、Ｎｉ、Ｒｕ、Ｒｈ、Ｐｄ、Ｉｒ、Ｐｔ、Ｃｕ、Ａｇ、Ａｕ、Ｚｎ、Ｃｄ、Ａｌ、Ｇａ、Ｉｎ、Ｓｉ、Ｇｅ、Ｔｅ、Ｐｂ、Ｐｏ、Ｓｎ、Ｂｉ等の金属及び半金属或いはステンレス鋼を挙げることができる。これらの光反射性物質は単独で用いてもよいし、或いは二種以上の組合せで、又は合金として用いてもよい。これらのうちで好ましいものは、Ｃｒ、Ｎｉ、Ｐｔ、Ｃｕ、Ａｇ、Ａｕ、Ａｌ及びステンレス鋼である。特に好ましくは、Ａｕ、Ａｇ、Ａｌ或いはこれらの合金であり、最も好ましくは、Ａｕ、Ａｇ或いはこれらの合金である。

〔バリア層（中間層）の形成〕
本発明においては、記録層とカバー層との間にバリア層を形成することが好ましい。
該バリア層は、記録層の保存性を高める、記録層とカバー層との接着性を向上させる、反射率を調整する、熱伝導率を調整する、等のために設けられる。
バリア層に用いられる材料としては、記録及び再生に用いられる光を透過する材料であり、上記の機能を発現し得るものであれば、特に、制限されるものではないが、例えば、一般的には、ガスや水分の透過性の低い材料であり、誘電体であることが好ましい。
具体的には、ＺｎＳ−ＳｉＯ₂、ＳｎＯ₂、ＺｎＯ−Ｇａ₂Ｏ₃が好ましい。

また、バリア層は、ＲＦスパッタリングを用いて成膜することが好ましい。
本発明におけるバリア層の厚さは、３〜５０ｎｍの範囲であることが好ましい。

以上のように、本発明に係る光ディスクは、基板、記録層、カバー層に加え、光入射面とは反対の面に、所定の厚さ、所定の被覆面積率のインク吸収性樹脂層を有している。上述のように、本発明に係る光ディスクは、このインク吸収性樹脂層の存在により、反りの変化量が抑制され、記録再生特性も良好となる効果を有する。

本発明に係る光ディスクへの情報の記録は、前記本発明に係る光ディスクが記録層を有する態様である場合、カバー層側から波長１００〜６００ｎｍのレーザ光を照射し、記録層を物理的或いは化学的に変化させて記録を行うことができる。このように記録することにより、上記の構成の光ディスクに対し、適した波長のレーザ光を照射して記録を行うことにより、良好で安定な記録再生特性を付与することができる。

記録波長（レーザ光波長）のより好ましくは、下限値が２００ｎｍ以上であり、３００ｎｍ以上であることが更に好ましく、３５０ｎｍ以上であることが特に好ましい。また、上限値としては、５００ｎｍ以下であることがより好ましく、４５０ｎｍ以下であることが更に好ましく、４２０ｎｍ以下であることが特に好ましい。
なお、上記の上限値及び下限値は、それぞれが任意で組み合わせることができる。
また、情報の記録は本発明に係る光ディスクのグルーブに行ってもよいし、ランドに行ってもよいが、グルーブの方が好ましい。
更に、上記の波長領域のレーザー光によって、情報の再生も行われる。

より具体的には、本発明に係る光ディスク（追記型）と、本発明の光情報記録方法と、を用いた情報の記録、再生は、例えば、次のようにして行われる。
まず、光ディスクを所定の線速度（０．５〜１０ｍ／秒）、又は、所定の定角速度にて回転させながら、カバー層側から対物レンズを介して青紫色レーザ（例えば、波長４０５ｎｍ）などの記録用の光を照射する。この照射光により、記録層がその光を吸収して局所的に温度上昇し、例えば、ピットが生成してその光学特性を変えることにより情報が記録される。上記のように記録された情報の再生は、光ディスクを所定の定線速度で回転させながら、青紫色レーザ光をカバー層側から照射して、その反射光を検出することにより行うことができる。

上述のような５００ｎｍ以下の発振波長を有するレーザ光源としては、例えば、３９０〜４１５ｎｍの範囲の発振波長を有する青紫色半導体レーザ、中心発振波長４２５ｎｍの青紫色ＳＨＧレーザ等を挙げることができる。
また、記録密度を高めるために、ピックアップに使用される対物レンズのＮＡは０．７以上が好ましく、０．８５以上がより好ましい。

以下、本発明を実施例によって更に詳述するが、本発明はこれらによって制限されるものではない。

［実施例１］
＜光ディスクの作製＞
（基板）
厚さ１．１ｍｍ、外径１２０ｍｍ、内径１５ｍｍ（センターホール直径）でスパイラル状のプリグルーブ（トラックピッチ３２０ｎｍ、溝幅１０７ｎｍ、溝深さ３７ｎｍ）を有する、ポリカーボネート樹脂からなる射出成形基板を用いた。溝深さは、最も深いところと、最も浅いところの距離を測定した。溝幅は溝深さの半分の深さにおける幅を測定した。溝傾斜部角度は、溝深さの浅い方１割の部分と、深い方１割の部分とを結ぶ直線の角度を測定した。

（光反射層の形成）
基板のプリグルーブ上に、Ｕｎａｘｉｓ社製Ｃｕｂｅを使用し、Ａｒ雰囲気中で、ＤＣスパッタリングにより、膜厚１００ｎｍのＡＰＣ光反射層（Ａｇ：９８．１質量％、Ｐｄ：０．９質量％、Ｃｕ：１．０質量％）を形成した。光反射層の膜厚の調整は、スパッタ時間により行った。

（記録層の形成）
下記化学式で表わされる色素Ａ：２ｇを、２，２，３，３−テトラフロロプロパノール１００ｍｌ中に添加して溶解し、色素含有塗布液を調製した。そして、光反射層上に、調製した色素含有塗布液をスピンコート法により塗布した。その後、２３℃、５０％ＲＨで１時間保存して、記録層（グルーブ上の厚さ１３５ｎｍ、ランド上の厚さ１８０ｎｍ）を形成した。なお、記録層の形成領域は内周部４８ｍｍ（直径）から外周部１１６ｍｍ（直径）とした。

記録層を形成した後、クリーンオーブンにてアニール処理を施した。アニール処理は、基板を垂直のスタックポールにスペーサーで間隔をあけながら支持し、８０℃で１時間保持して行った。

（バリア層の形成）
その後、記録層上に、Ｕｎａｘｉｓ社製Ｃｕｂｅを使用し、Ａｒ雰囲気中で、ＲＦスパッタリングによりＺｎＯ−Ｇａ₂Ｏ₃（ＺｎＯ：Ｇａ₂Ｏ₃＝７：３（質量比））からなる、厚さ５ｎｍのバリア層を形成した。

（カバー層の貼り合わせ）
カバー層としては、内径１５ｍｍ、外径１２０ｍｍで、片面に粘着剤が塗設してあるポリカーボネート製フィルム（帝人ピュアエース、厚さ：８０μｍ）を用い、該粘着剤層とポリカーボネート製フィルムとの厚さの合計が１００μｍとなるように設定した。
そして、バリア層上に、該バリア層と粘着剤層とが当接するようにカバー層を載置した後、そのカバー層を押し当て部材にて圧接して、貼り合わせた。

（遮光層の形成）
基板の裏面（光反射層とは反対側）の内周部２２ｍｍ（直径）から外周部１１７ｍｍ（直径）までの領域に、紫外線硬化インク（Ｗｈｉｔｅ Ｎｏ．３、帝国インキ製造（株）製、極大吸収３５０ｎｍ、透過率１％）をスクリーン印刷で印刷し、印刷後、その上からメタルハライドランプで８０Ｗ／ｃｍの紫外線を照射して硬化させ層厚８μｍの遮光層を形成した。スクリーンは３００本／インチメッシュ、糸径３１μｍ、オープニング３８μｍのテトロン製スクリーンを用いた。
以上の工程により、光ディスクを作製した。

（カートリッジへの光ディスクの収納）
ＢＤ用カートリッジ（以下に詳細を示す。）に、上記の通り作製した光ディスクを記録層が内側となるように挿入し、実施例１の光ディスクカートリッジ収納体を作製した。
ＢＤ用カートリッジ詳細
材質：遮光性樹脂（青色顔料を混入したＡＢＳ）
開口部の直径：１１５ｍｍ
サイズ：１３５×１３５×１３ｍｍ
出入口：あり

なお、実施例１の光ディスクカートリッジ収納体における遮光層の内周直径は記録層の内周直径よりも２６ｍｍ小さく、光ディスクの内周直径（センターホール直径）よりも７ｍｍ大きい。また、遮光層の外周直径は記録層の外周直径よりも１ｍｍ大きく、カートリッジの開口部の直径は遮光層の外周直径よりも２ｍｍ小さい。

［実施例２］
実施例１の「遮光層の形成」において、遮光層の形成領域を、内周部２４ｍｍ（直径）から外周部１１６ｍｍ（直径）としたこと以外は実施例１と同様にして実施例２の光ディスクカートリッジ収納体を作製した。
なお、実施例２の光ディスクカートリッジ収納体における遮光層の内周直径は記録層の内周直径よりも２４ｍｍ小さく、光ディスクの内周直径（センターホール直径）よりも９ｍｍ大きい。また、遮光層の外周直径は記録層の外周直径と同一で、カートリッジの開口部の直径は遮光層の外周直径よりも１ｍｍ小さい。

［実施例３］
実施例１の「遮光層の形成」において、遮光層の形成領域を、内周部１６ｍｍ（直径）から外周部１１８ｍｍ（直径）としたこと以外は実施例１と同様にして実施例３の光ディスクカートリッジ収納体を作製した。
なお、実施例３の光ディスクカートリッジ収納体における遮光層の内周直径は記録層の内周直径よりも３２ｍｍ小さく、光ディスクの内周直径（センターホール直径）よりも１ｍｍ大きい。また、遮光層の外周直径は記録層の外周直径よりも２ｍｍ大きく、カートリッジの開口部の直径は遮光層の外周直径よりも３ｍｍ小さい。

［比較例１］
実施例１の「遮光層の形成」において、遮光層の形成領域を、内周部４０ｍｍ（直径）から外周部１１４ｍｍ（直径）としたこと以外は実施例１と同様にして比較例１の光ディスクカートリッジ収納体を作製した。
なお、比較例１の光ディスクカートリッジ収納体における遮光層の内周直径は記録層の内周直径よりも４ｍｍ小さく、光ディスクの内周直径（センターホール直径）よりも２５ｍｍ大きい。また、遮光層の外周直径は記録層の外周直径よりも２ｍｍ小さく、カートリッジの開口部の直径は遮光層の外周直径よりも１ｍｍ大きい。

［評価］
・耐光性試験
ディスクドライブ装置（ＤＤＵ１０００、ＮＡ：８．５、レーザー波長：４０３ｎｍ、パルステック工業（株））を使用して記録・再生及びジッタの測定を実施した。記録信号はパルステックＭＳＧ２を用い、クロック周波数６６ＭＨｚ、線速度５．２８ｍ／ｓ、記録パワー５．４ｍＷ、再生パワー０．３ｍＷで、記録又は再生を行った。なお、記録はグルーブに行った。
まず、ＢＤカートリッジの出入口から光ディスクを取り出し、内周部（直径４８ｍｍ）部分におけるジッタを測定した。測定後、光ディスクをＢＤカートリッジに収納し、フェード試験器（スガ試験機（株）製）にて、ＢＤカートリッジの開口部から８０ｋｌｕｘの光を３２時間照射した後、内周部（直径４８ｍｍ）と外周部（直径１１５ｍｍ）のジッタを測定した。結果を表１に示す。

表１より、実施例１〜３の光ディスクカートリッジ収納体は、光照射前後におけるジッタの変化が少なく、十分な耐光性を有することが分かる。これに対して、比較例１の光ディスクカートリッジ収納体は光照射前後におけるジッタの変化が大きく耐光性に劣っていた。

本発明の光ディスクカートリッジ収納体の一実施形態を示す上面図である。 図１のＡ−Ａ線に沿った部分断面図である。 本発明に係るカートリッジを示す斜視図である。

符号の説明

１０ 光ディスクカートリッジ収納体
１２ カートリッジ
１２ａ 開口部
１４ 光ディスク
１６ 基板
１８ 記録層
２０ 遮光層
３０ カートリッジ

Claims (2)

1. センターホールを有する基板上に記録層を有する光ディスクが、該光ディスクの外周直径以下の直径の開口部が形成されたカートリッジに、前記記録層とは反対側の面が前記開口部から外部に露出するように収納された光ディスクカートリッジ収納体であって、
   前記光ディスクの基板の記録層とは反対側に遮光層を有し、かつ以下の条件Ａ及び条件Ｂのうちの少なくとも１つを満足することを特徴とする光ディスクカートリッジ収納体。
   条件Ａ：遮光層の内周直径が、記録層の内周直径よりも１３ｍｍ以上小さく、かつ少なくとも一部が光ディスクの内周直径より０．１ｍｍ以上大きい。
   条件Ｂ：遮光層の外周直径の少なくとも一部が記録層の外周直径以上であり、かつカートリッジの開口部の直径が少なくとも一部において遮光層の外周直径以下である。
2. 前記カートリッジに、前記光ディスクを出し入れする出入口が設けられていることを特徴とする請求項１に記載の光ディスクカートリッジ収納体。

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