JP2007027159A - 基板処理装置 - Google Patents
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Abstract
【解決手段】処理保持するボート211は、複数本の支柱214と、支柱214の長手方向に複数設けられる基板支持ピン213と、支柱214の長手方向において、基板支持ピン213と交互に配置される複数のリング状プレート212であって、外周側に支柱214の本数と対応する切り欠き部217を有したリング状プレート212とを含み、リング状プレート212を支柱214に固定する際は、支柱214を切り欠き部217に係合させて、リング状プレート212の外周側にてリング状プレート212と支柱214とを溶接固定する。
【選択図】図4
Description
このようなボートを使用してウエハ処理、例えばウエハ上に成膜を行えば、石英製ホルダプレートがウエハ面上の処理ガスの流れを均一化することにより、ウエハ端の膜厚だけが厚くなるのを抑制することができる。また、略半円周に配設された4本の支柱よりも内側のホルダプレート上に設けた支持つめ部の上に、ウエハを保持するので、支柱とウエハとの距離が遠ざかることから支柱の影響が少なくなり、膜厚均一性を向上させることが可能となる。
本発明の第2の目的は、基板保持手段における支柱とリング形状のプレートとの溶接の強度を保持することができる基板処理装置を提供することにある。
図1及び図2において本発明が適用される基板処理装置1の一例である半導体製造装置についての概略を説明する。
図4(a)はボート211の平面図、図4(b)はボート211の縦断面図である。また、図5(c)は、図4(a)の支柱とリング状部材との係合部を示す拡大図であり、図5(d)は図4(b)の支柱とリング状部材との係合部を示す拡大図である。
204 処理室
211 ボート
212 リング状プレート
213 基板支持ピン
214 支柱
217 切り欠き部
231 ガス排気管
232 ガス供給管
Claims (1)
- 処理室と、
前記処理室内で複数の基板を保持する基板保持手段と、
前記処理室内へ所望の処理ガスを供給するガス供給手段と、
前記処理室内の雰囲気を排出する排出手段と、
を備えた基板処理装置であって、
前記基板保持手段は、
複数本の支柱と、
前記支柱の長手方向に複数設けられる基板支持部と、
前記支柱の長手方向において、前記基板支持部と交互に配置される複数のリング形状のプレートであって、外周側に前記支柱の本数と対応する切り欠き部を有した前記プレートと、
を含み、
前記プレートを前記支柱に固定する際は、前記支柱を前記切り欠き部に係合させて、前記プレートの外周側にて前記プレートと前記支柱とを溶接固定することを特徴とする基板処理装置。
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